WO2005029166A1 - 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 - Google Patents

液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2005029166A1
WO2005029166A1 PCT/JP2004/012727 JP2004012727W WO2005029166A1 WO 2005029166 A1 WO2005029166 A1 WO 2005029166A1 JP 2004012727 W JP2004012727 W JP 2004012727W WO 2005029166 A1 WO2005029166 A1 WO 2005029166A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
liquid crystal
display panel
substrates
crystal display
manufacturing
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/012727
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Kazuya Kaida
Akinori Izumi
Original Assignee
Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2003331419A external-priority patent/JP3683893B2/ja
Priority claimed from JP2003331418A external-priority patent/JP3686414B2/ja
Application filed by Sharp Kabushiki Kaisha filed Critical Sharp Kabushiki Kaisha
Priority to US10/573,301 priority Critical patent/US7889309B2/en
Publication of WO2005029166A1 publication Critical patent/WO2005029166A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1341Filling or closing of cells
    • G02F1/13415Drop filling process

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display panel and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel.
  • the present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel which is manufactured by a liquid crystal dropping method.
  • a liquid crystal display panel has a configuration in which liquid crystal is sealed between two substrates facing each other.
  • FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of an example of a color liquid crystal display panel of the liquid crystal display panel.
  • the liquid crystal 30 is sealed by being sandwiched between a TFT (Thin Film Transistor) substrate 1 and a CF (Color Filter) substrate 5.
  • a scanning line drive circuit 2 is formed on the main surface of the TFT substrate 1 and connected to an external drive IC (not shown).
  • a pixel electrode layer 3 is formed on the main surface of the scanning line drive circuit 2.
  • a TFT is formed on the pixel electrode layer 3.
  • An alignment film 4 is formed on the main surface of the pixel electrode layer 3.
  • a color filter 6 is formed on the main surface of a CF substrate 5 which is a substrate opposite to the TFT substrate 1.
  • the color filter 6 has three hues of red, green and blue.
  • a counter electrode 7 is formed on the main surface of the color filter 6.
  • An alignment film 8 is formed on the main surface of the counter electrode 7.
  • the liquid crystal 30 is filled so as to be sandwiched between the alignment film 4 and the alignment film 8, and the sealing material 31 is disposed on the side of the liquid crystal 30. That is, the liquid crystal 30 is enclosed so as to be surrounded by the alignment films 4 and 8 and the sealing material 31.
  • the gap between the alignment film 4 and the alignment film 8 is kept constant by sandwiching the spacer 9.
  • the liquid crystal 30 is in direct contact with the alignment films 4 and 8 and the sealing material 31.
  • the two substrates are adhesively fixed to each other by a sealing material 31.
  • the single substrate in addition to a single substrate such as a TFT substrate, the single substrate also includes a single substrate on which a pixel electrode layer, an alignment film, and the like are formed, and is simply referred to as a “substrate”.
  • FIG. 8 shows the process of the liquid crystal dropping method.
  • two groups After forming a color filter, a pixel electrode layer, and the like on the plate, an alignment film is formed.
  • a seal material is disposed on the main surface of one or both of the alignment film formed on the TFT substrate and the alignment film formed on the CF substrate.
  • a necessary amount of liquid crystal is dropped onto the main surface of the alignment film of one of the substrates.
  • FIG. 9 shows a schematic cross-sectional view when bonding two substrates together by the liquid crystal dropping method. In FIG. 9, space color filters other than the alignment films 4 and 8 are not shown.
  • the seal material 31 is disposed on the main surface of the alignment film 8 formed on the CF substrate 5 and the necessary amount of the main surface of the alignment film 4 formed on the TFT substrate 1 on the opposite side is provided. Liquid crystal 30 is dropped.
  • the two substrates are adhered and fixed close to each other while keeping the main surfaces of the two substrates parallel to each other. Bonding of the two substrates is performed in a reduced pressure atmosphere.
  • the arrangement of the sealing material after the formation of the alignment film on the substrate and the dropping of the liquid crystal are performed in the open air, and are performed in a reduced pressure atmosphere only when the substrates are bonded to each other.
  • the alignment film is a porous substance, moisture is easily adsorbed on the surface.
  • the voltage holding ratio is lowered, and there is a problem that display unevenness, stains and the like occur on the image.
  • a step of disposing the substrate in a reduced pressure atmosphere called a degassing step is provided for a certain time. It is done.
  • a vacuum chamber and a vacuum pump for reducing the pressure around the entire substrate are required.
  • the substrate after the degassing step is stored in the open air from the placement of the sealing material to the bonding of the substrates. During this time, moisture in the atmosphere may be adsorbed again on the main surface of the alignment film and the like. For this reason, the degassing process is performed immediately before the bonding of the two substrates.
  • the placement of other sealing materials, dropping of liquid crystals, transportation, etc. is generally performed in an open atmosphere.
  • the adsorption water content of the alignment film immediately before the placement of the sealing material is less than 4 wt%, and the humidity is at least 4
  • a method of manufacturing a liquid crystal display panel in which each process is performed under an environment of less than 0%.
  • this manufacturing method for example, after forming an alignment film, storage and assembly are performed in an environment of less than 40% humidity, or storage and assembly are performed while purging dry air on a substrate.
  • the step of disposing the sealing material on the surface of the substrate is performed in an atmosphere such as dry air, and the dropping of the liquid crystal and the bonding of the substrates are performed in a vacuum atmosphere.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-305545 discloses a manufacturing method that prevents adsorption of moisture and adsorptive gas on the surface of the alignment film by deactivating the surface of the alignment film immediately after the rubbing treatment. .
  • the polarity of the surface of the alignment film is inactivated by performing heat treatment on the surface of the alignment film at a temperature of 80 ° C. or more and less than 100 ° C. for a predetermined time immediately after rubbing treatment.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-107481 (pages 3-5, FIG. 2-5)
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-305545 (Page 3-4)
  • the degassing step of placing the substrate in a reduced pressure atmosphere is performed immediately before bonding of the substrates.
  • 10A and 10B show schematic enlarged cross-sectional views when a liquid crystal or a sealing material is disposed on the main surface of the alignment film in open air.
  • FIG. 10A is an enlarged cross-sectional view for explaining a state in which liquid crystal is dropped on the main surface of the alignment film. Since the alignment film is a porous substance, moisture in the air is adsorbed on the surface of the alignment film when it is left in the air. Prior to bonding of the substrates, a degassing step is performed to evaporate most of these moisture.
  • the main surface of the alignment film 4 to which the liquid crystal 30 is dropped the main surface of the alignment film 4 is covered with the liquid crystal 30, and moisture does not evaporate.
  • the broken line 40 in FIG. 10A the water adsorbed to the alignment film 4 has remained.
  • the sealing material of the main surface of the alignment film 8 is Among them, in the region where the sealing material 31 is disposed, the moisture adsorbed to the alignment film 8 remains as shown by the broken line 41.
  • FIG. 11 is an explanatory view of a defect when two substrates are attached to each other and the liquid crystal display panel is manufactured while holding the moisture.
  • FIG. 11 is a schematic plan view of the liquid crystal display panel 35.
  • the sealing material 31 is formed in an annular shape, and liquid crystal is enclosed in the area surrounded by the sealing material 31.
  • the image display unit 44 is an area in which an image is displayed.
  • display defects 45 and 46 occur in the liquid crystal display panel in which water remains in a part of the alignment film covered with the dropped liquid crystal and a part of the alignment film covered with the sealing material.
  • the display defect portion 45 is a region where liquid crystal is dropped and a portion where a defect occurs around it, and the display defect portion 46 is a portion where a defect occurs around the seal material 31.
  • the display defect portion 46 is generated due to the moisture adsorbed to the alignment film being mixed into the liquid crystal through the sealing material 31.
  • problems such as the occurrence of unevenness or the like in the image, and in particular, the place which should be displayed in black becomes whitish.
  • the voltage holding ratio is lowered to cause display failure.
  • the substrate is stored in an atmosphere of low humidity air until the arrangement of the sealing material, and the atmosphere is an atmosphere replaced with inert gas. Or in a vacuum atmosphere. Furthermore, Subsequently, it is necessary to arrange the sealing material in these atmospheres. For this reason, there is a problem that the facility for storing the substrates and the facility for arranging the sealing material become large. In particular, in the case of a large-sized single substrate having a diagonal length of more than 1 meter, very expensive substrate storage facilities and seal material placement facilities are required, and productivity is deteriorated. There was a problem that it became very expensive.
  • the decomposition reaction in the alignment film may proceed because the alignment film is heated.
  • water once removed by heat treatment is adsorbed to the alignment film again by opening to the air.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to prevent water from being mixed in the liquid crystal even on a large-sized mother substrate, and further, to achieve high productivity.
  • An object of the present invention is to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of manufacturing a display panel. Means to solve the problem
  • a seal for disposing a sealing material on the main surface of one or both of two substrates to be bonded to each other comprising: a material disposing step; a liquid crystal dropping step of dropping liquid crystal on one of two substrates; and a bonding step of bonding two substrates to each other.
  • a material disposing step Before the sealing material disposing step, at least the substrate on which the sealing material is to be disposed out of the two substrates is disposed in the depressurizing atmosphere, and before the laminating step, the depressurizing atmosphere is not completed. And an opening step of opening with active gas.
  • the opening step is performed before the sealing material disposing step.
  • the sealing material disposing step is performed within 30 minutes after the opening step.
  • the sealing material can be disposed before most of the inert gas adsorbed to the substrate is desorbed, and a liquid crystal display panel with display defects prevented more reliably can be manufactured. .
  • the degassing step includes the step of disposing the two substrates together in a reduced pressure atmosphere.
  • the releasing step is performed after the sealing material disposing step and the liquid crystal dropping step.
  • the opening step is performed before the liquid crystal dropping step, and the liquid crystal dropping step is performed within 30 minutes after the opening step.
  • a seal for disposing a sealing material on the main surface of one or both of two substrates to be bonded to each other comprising: a material disposing step; a liquid crystal dropping step of dropping liquid crystal on one of two substrates; and a bonding step of bonding two substrates to each other.
  • a degassing step of placing at least the substrate to which the liquid crystal is to be dropped among the two substrates in a reduced pressure atmosphere, and before the bonding step, the reduced pressure atmosphere is opened with an inert gas. And an opening step.
  • the opening step is performed before the liquid crystal dropping step, the liquid crystal dropping The process takes place within 30 minutes after the opening process.
  • the degassing step includes the step of disposing the two substrates together in a reduced pressure atmosphere.
  • the apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel comprises a step of disposing a sealing material on a main surface of one or both of two substrates to be bonded to each other.
  • a manufacturing apparatus for use in a method of manufacturing a liquid crystal display panel including a liquid crystal dropping step of dropping liquid crystal on one of two substrates and a bonding step of bonding two substrates together, It comprises a reduced pressure atmosphere forming means for placing a substrate in a reduced pressure atmosphere, and an opening means for releasing the reduced pressure atmosphere with an inert gas.
  • the reduced pressure atmosphere forming means includes a vacuum chamber, a substrate arranging member for placing a substrate inside the vacuum chamber, and a vacuum pump for evacuating the inside of the vacuum chamber.
  • the opening means includes an inert gas introducing means for introducing an inert gas into the vacuum chamber.
  • the vacuum chamber is formed so as to be able to accommodate two substrates to be bonded to each other.
  • two substrates can be simultaneously accommodated in one vacuum chamber or the like, and the transition time to the bonding process can be shortened.
  • the amount of work when shifting to the shellfish-dividing process is reduced, and productivity is improved.
  • FIG. 1 is a process diagram of a manufacturing method in Embodiment 1.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the manufacturing apparatus in the first embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a vacuum chamber in the manufacturing apparatus in the first embodiment.
  • FIG. 4 is a schematic overall view of a manufacturing apparatus in Embodiment 1.
  • FIG. 5 is a process diagram of a manufacturing method in Embodiment 2.
  • FIG. 6 is a process diagram of a manufacturing method in Embodiment 3.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a color liquid crystal display panel.
  • FIG. 8 is a process diagram of a method of manufacturing a liquid crystal display panel based on the prior art.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining a liquid crystal dropping method.
  • FIG. 10A is a first explanatory diagram of a defect in the manufacturing method in the related art.
  • FIG. 10B is a second explanatory view of the defects in the manufacturing method in the prior art.
  • FIG. 11 It is a schematic plan view for explaining the problems of the liquid crystal display panel in the prior art.
  • a method of manufacturing a liquid crystal display panel and a manufacturing apparatus of a liquid crystal display panel according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4.
  • FIG. 1 is a process diagram of a method of manufacturing a liquid crystal display panel in the present embodiment.
  • the liquid crystal display panel manufactured is the same as the configuration of the liquid crystal display panel based on the prior art. That is, as shown in FIG. 7, a scanning line drive circuit 2 for driving the TFT is formed on the main surface of the TFT substrate 1, and a TFT or the like is formed on the main surface of the scanning line drive circuit 2.
  • the pixel electrode layer 3 is formed.
  • An alignment film 4 is formed on the main surface of the pixel electrode layer 3.
  • the color filter 6 is formed on the main surface of the CF substrate 5, and the counter electrode 7 is formed on the main surface of the color filter 6.
  • An alignment film 8 is formed on the main surface of the counter electrode 7.
  • the liquid crystal display panel has a configuration in which these two substrates are mutually shell-capped with the spacer 9 interposed therebetween.
  • the two substrates are bonded and fixed by a sealing material 31, and a liquid crystal 30 is enclosed in a space surrounded by the two substrates and the sealing material 31.
  • an alignment film is formed on each of two substrates to be bonded to each other, and a seal material is applied to the main surface of one or both of these substrates.
  • a sealing material disposing step to be disposed a liquid crystal dropping step of dropping liquid crystal onto one of the substrates, and a bonding step of bonding two substrates in a reduced pressure atmosphere to each other is a conventional technique. It is the same as the manufacturing method based on.
  • the degassing step of disposing the substrate on which the alignment film is formed in a reduced pressure atmosphere before the sealing material placement step, and the reduced pressure atmosphere And an open step of The sealing material placement process is performed within about 30 minutes after the opening process is completed.
  • these substrates are placed in a reduced pressure atmosphere to remove moisture contained in the surface of the alignment film and the like.
  • an inert gas such as N gas or Ar gas
  • the inert gas is adsorbed to the porous holes on the surface of the alignment film. Therefore, even if the substrate is taken out to the atmosphere, it is possible to prevent moisture from being adsorbed to the alignment film. Therefore, moisture can be prevented from remaining between the sealing material and the alignment film, which can prevent a display defect that occurs around the sealing material S.
  • liquid crystal is dropped on a substrate disposed on the opposite side of the substrate on which the sealing material is disposed.
  • the substrate to which the liquid crystal is dropped is also opened by introducing an inert gas after being placed in a reduced pressure atmosphere. Since the inert gas is adsorbed on the surface of the alignment film, the adsorption of water can be prevented. As a result, the moisture of the alignment film in the region where the liquid crystal is dropped can be removed, and a display defect generated in the region where the liquid crystal is dropped and the region around it can be prevented.
  • the two substrates to be bonded to each other are both placed in a reduced pressure atmosphere, and then the pressure reducing atmosphere is released with an inert gas, whereby the substrate on the side where the sealing material is placed and the side on which the liquid crystal is dropped. Irrespective of which substrate the substrate is, display defects caused by the placement of the sealing material and dropping of the liquid crystal can be prevented.
  • the water adsorbed on the alignment film and the like can be removed also in the region unrelated to the arrangement of the sealing material and the dropping of the liquid crystal, and the time in which the inert gas is released and then placed in the air. If it is short, it is necessary to carry out the degassing step of disposing the substrates for a certain period of time in a reduced pressure atmosphere immediately before bonding the substrates.
  • the substrate is placed in a reduced pressure atmosphere just before the placement of the sealing material or the dropping of the liquid crystal. And the opening step of opening the reduced pressure atmosphere with an inert gas.
  • the atmosphere around the substrate is purged (purged) with air or inert gas with reduced humidity, as disclosed in the prior art, once in a vacuum atmosphere. After the substrate is placed and the water is sufficiently evaporated and removed, an inert gas is adsorbed on the surface of the alignment film or the like.
  • the manufacturing equipment can be miniaturized, productivity can be improved, and the ability to manufacture a liquid crystal display panel at low cost can be achieved.
  • the arrangement of the sealing material and the dropping of the liquid crystal can be performed under the atmospheric pressure, the arrangement of the sealing material and the dropping of the liquid crystal can be easily performed. Therefore, work can be made faster and productivity can be improved.
  • FIGS. 2 to 4 show explanatory views of a manufacturing apparatus of a liquid crystal display panel according to the present invention.
  • FIG. 2 is a partial schematic cross-sectional view of a liquid crystal display panel manufacturing apparatus according to the present invention.
  • the manufacturing apparatus based on this invention is used for the manufacturing method of the liquid crystal display panel including the sealing material arrangement
  • the apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel comprises a reduced pressure atmosphere forming means for placing a substrate in a reduced pressure atmosphere and an opening means for releasing the reduced pressure atmosphere with an inert gas.
  • Two substrates such as the TFT substrate 1 on which the alignment film is formed and the CF substrate 5 on which the alignment film is formed are disposed inside the vacuum chamber 20.
  • the vacuum chamber 20 may be formed of a force formed of aluminum, stainless steel or the like.
  • the vacuum chamber 20 in the present embodiment is formed so as to be able to accommodate two substrates to be bonded to each other.
  • the vacuum chamber 20 is formed so that the inside is hollow and can be kept closed with the outside.
  • two supports 21 are formed facing each other as substrate placement members.
  • the support 21 is formed such that two substrates to be bonded to each other can be arranged one above the other.
  • the support 21 is fixed to the bottom of the vacuum chamber 20.
  • An evacuation means 16 for evacuating the inside of the vacuum chamber 20 is connected to the vacuum chamber 20.
  • the evacuation means 16 includes an exhaust pipe 17, an exhaust valve 18 and a vacuum pump 19.
  • the vacuum evacuation means 16, the vacuum chamber 20, and the support 21 formed inside the vacuum chamber 20 constitute a vacuum atmosphere forming means for placing the substrate in a vacuum atmosphere. .
  • An inert gas introduction means 11 is connected to the vacuum chamber 20 as an opening means.
  • FIG. 3 shows a cross-sectional view of the vacuum chamber taken along line III-III in FIG.
  • the vacuum chamber 20 is formed substantially in a rectangular shape.
  • the TFT substrate 1 and the CF substrate 5, which are two substrates, are arranged on the support 21 so that the main surface is horizontal.
  • An open / close door 22 is formed in front of the vacuum chamber 20 so as to correspond to each stage of the support 21 formed in two stages.
  • the open / close door 22 is formed so as to be openable and closable, and is formed sufficiently large so that each substrate can be taken in and out. In addition, when the open / close door 22 is closed, it is formed so as to maintain the internal seal.
  • FIG. 4 shows a schematic overall view of a manufacturing apparatus in the present embodiment.
  • the manufacturing apparatus including the inert gas introducing means 11, the vacuum evacuation means 16 and the vacuum chamber 20 is formed in a plurality of identical ones and disposed inside the vacuum chamber 25.
  • Each vacuum chamber 20 is connected to the respective inert gas introduction means 11 and the vacuum evacuation means 16 and is formed to be capable of performing the internal exhaust and the introduction of the inert gas independently of each other.
  • a support 21 shown in FIG. 3 is formed inside each vacuum chamber 20 so as to be able to accommodate two substrates to be bonded to each other.
  • the present apparatus is used, for example, in a degassing step of placing the substrate in a reduced pressure atmosphere and a release step of opening the reduced pressure atmosphere with an inert gas after forming the alignment film in the manufacturing method of FIG. Be First, the open / close door 22 is opened, and the TFT substrate 1 and the CF substrate 5 are placed on the respective stages of the support 21 inside the vacuum chamber 20. Each substrate is arranged so as to be completely accommodated inside the vacuum chamber 20.
  • the force S on which the TFT substrate 1 is disposed on the upper side and the CF substrate 5 is disposed on the lower side is not limited to this arrangement, and either substrate may be on the upper side.
  • the side on which the alignment film is formed be directed upward so that the alignment film does not contact the support 21.
  • all the open / close doors 22 are closed to seal the vacuum chamber 20.
  • the vacuum pump 19 is driven to open the exhaust valve 18 to evacuate the inside of the vacuum chamber 20.
  • the inside of the vacuum chamber 20 is evacuated to about 30 Pa. Since the alignment film may be broken if the pressure inside the vacuum chamber 20 is rapidly reduced, it is preferable to gradually reduce the pressure inside the vacuum chamber 20. Therefore, the exhaust valve 1 Preferably, 8 uses a valve capable of gradually changing the opening degree.
  • the exhaust valve 18 in the present embodiment one that can continuously increase the valve opening degree, and can increase the valve opening degree stepwise is used. The pressure is reduced to about 30 Pa, and this low pressure is maintained for about 30 minutes to evaporate the water present on the surface of the alignment film and the like. Thus, the degassing step is performed.
  • the time for maintaining the pressure in the vacuum chamber and the reduced pressure state is not particularly limited thereto.
  • the inside of the vacuum chamber may be decompressed to 1 Pa or less.
  • the exhaust valve 18 is subsequently closed, the air supply valve 13 is opened, and an inert gas is introduced into the interior of the vacuum chamber 20 from the inert gas introduction means 11.
  • an inert gas is introduced into the interior of the vacuum chamber 20 from the inert gas introduction means 11.
  • the air supply valve 13 in the present embodiment a valve whose opening degree can be adjusted so as to be able to gradually increase the pressure inside the vacuum chamber 20 is used.
  • the introduction of the inert gas is continued until the pressure inside the vacuum chamber 20 is atmospheric pressure. Pressure on the inside of the vacuum chamber 20
  • the air supply valve 13 is closed to stop the introduction of the inert gas.
  • each substrate is stored inside the vacuum chamber 20 until the sealing material disposing step.
  • each substrate may be removed from the inside of the vacuum chamber 20 and stored if the time until the sealing material placement process is within about 30 minutes.
  • the substrate is formed on the main surface of each substrate and the main surface of the substrate. It is possible to replace the moisture of the alignment film and the like with the inert gas, and to prevent the moisture from being re-adsorbed even when the substrate is subsequently placed in the air. As a result, display defects of the liquid crystal display panel can be prevented.
  • the alignment film it is necessary to continuously control the humidity, etc. from the formation to the bonding, and after the formation of the alignment film, it can be stored in the air until the placement of the sealing material or just before the dropping of the liquid crystal.
  • the equipment can be made very easy. Processing can be easily performed on large substrates, and productivity is improved.
  • the vacuum chamber so as to accommodate two substrates to be bonded to each other, two substrates can be processed simultaneously, and processing of one substrate is completed.
  • the waiting time that is, the lead time to the next process, can be minimized and productivity is improved.
  • the seal is formed by forming a large number of small vacuum chambers 20 so that each vacuum chamber can perform evacuation and inert gas charging independently.
  • Each substrate can be placed in the atmosphere of the inert gas until just before the material placement process or, if necessary, just before the liquid crystal dropping process, and the ability to prevent moisture adsorption more reliably S it can.
  • the following substrates can be individually inserted into the manufacturing apparatus in which the removal of each substrate is completed, and the degassing step and the opening step can be performed, and the respective substrates can be processed continuously. . Therefore, the waiting time in the manufacturing process can be minimized, productivity can be improved, and an inexpensive liquid crystal display panel can be provided.
  • the force formed so that two substrates can be disposed inside the vacuum chamber is not particularly limited to this form, and one substrate or one substrate may be provided inside one vacuum chamber. It may be formed so that three or more substrates can be arranged.
  • a plurality of exhaust pipes are connected to a large vacuum pump, one vacuum pump being attached to each vacuum chamber, and the inside of each vacuum chamber is connected.
  • the pressure may be regulated by the respective exhaust valve.
  • the inert gas introducing means may have a configuration in which the inert gas is introduced into the vacuum chamber, such as connecting a plurality of air supply pipes to many parallel cylinders.
  • forming the alignment film on the surface of the substrate and sealing the liquid crystal by the liquid crystal dropping method is the same as the manufacturing method in the first embodiment. It is also the same as the embodiment 1 that the substrate on which the alignment film is formed is placed in a reduced pressure atmosphere and then released by an inert gas.
  • the liquid crystal display panel manufacturing apparatus is the same as the manufacturing according to the first embodiment.
  • a dispenser for placing the seal material inside the vacuum chamber is disposed, and is configured to be able to place the seal material inside the vacuum chamber.
  • the sealing material placement process for placing the sealing material on the main surface of one or both of the two substrates to be bonded to each other is performed in a reduced pressure atmosphere. Do. After reducing the pressure in the atmosphere in which each substrate is disposed, the pressure is maintained for a predetermined time to evaporate the water contained on the surface and the inside of the alignment film. Next, the sealing material is placed on one or both substrates under this reduced pressure atmosphere.
  • the inert gas such as N gas or Ar gas is vacuum-checked.
  • the inside of the vacuum chamber is at atmospheric pressure, and the substrate is stored inside the vacuum chamber.
  • the substrate is taken out of the vacuum chamber just before the liquid crystal dropping step of dropping the liquid crystal onto one of the substrates. Alternatively, if the time until the liquid crystal dropping step is short, it may be taken out to the atmosphere for storage.
  • a shellfish-dividing process is performed.
  • the sealing material is disposed in a state where the substrate is disposed in a reduced pressure atmosphere. That is, the sealing material is disposed on the upper surface of the alignment film from which the water has been sufficiently removed.
  • this method it is possible to prevent moisture from being held in the alignment film in the region in which the sheet material is disposed, and to prevent display defects around the region in which the sealing material is disposed. . Further, by releasing the reduced pressure atmosphere in the vacuum chamber with an inert gas, it is possible to prevent the mixing of moisture when dropping liquid crystal.
  • the substrate to which the liquid crystal is to be dropped is different from the substrate to which the sealing material is to be placed, the substrate to which the liquid crystal is to be dropped is also placed in a reduced pressure atmosphere beforehand in the vacuum chamber and then vacuumed with inert gas. An opening process is performed to open the inside of the chamber.
  • the moisture of the alignment film can be removed in advance also to the substrate to which the liquid crystal is dropped, and the display defect in the region to which the liquid crystal is dropped can be prevented.
  • the drop of the liquid crystal after releasing the reduced pressure atmosphere with an inert gas as in the first embodiment, It is preferable to carry out within about 30 minutes.
  • display defects can be reliably prevented even when the liquid crystal dropping step is performed in a normal atmosphere. Therefore, the liquid crystal dropping device can be made simple, and the productivity can be improved because the work becomes easy.
  • the degassing step and the opening step should be performed on the opposite side of the substrate by the shellfishing step. I liked it.
  • forming an alignment film on the surface of a substrate and sealing a liquid crystal by a liquid crystal dropping method is the same as the manufacturing method in the first embodiment. It is also the same as the embodiment 1 that the substrate on which the alignment film is formed is placed in a reduced pressure atmosphere and then released by an inert gas.
  • the sealing material disposing step and the liquid crystal dropping step are performed in a reduced pressure atmosphere. Thereafter, the reduced pressure atmosphere in the vacuum chamber is released with an inert gas, and each substrate is stored inside the vacuum chamber until the substrate bonding step.
  • a dispenser for disposing a sealing material and a dispenser for dropping liquid crystal are provided inside the vacuum chamber in the present embodiment. It is arranged. Placement of sealing material and dripping of liquid crystal And any substrate may be used. Also, the placement of the sealing material should be done for both substrates.
  • the arrangement of the sealing material and the dropping of the liquid crystal can be performed in a state where the water is sufficiently removed from the surface of the alignment film, so that the moisture can be removed. Water contamination can be prevented.
  • the reduced pressure atmosphere in the vacuum chamber can be released by the inert gas and stored immediately before bonding of the substrates, it is possible to prevent moisture from being adsorbed to the substrate and the orientation film during this time, and liquid crystal Prevent display defects on the display panel. If the time for storing the substrate in the atmosphere is short after the opening process, the adsorption of moisture on the substrate can be prevented, the degassing process just before the bonding process can be omitted, and the manufacturing time is shortened. can do.
  • the degassing step is mainly performed before the sealing material disposing step.
  • the seal is performed before the material disposing step.
  • the substrate on which the sealing material is disposed is not subjected to the degassing step, and only to the substrate on which the liquid crystal is to be dropped. You may do the opening process.
  • the present invention is not limited to the color liquid crystal in particular, and can be applied to a black and white liquid crystal display panel.
  • the present invention can be applied to the manufacture of a liquid crystal display panel.
  • the present invention can be advantageously applied to a method and apparatus for manufacturing a liquid crystal display panel manufactured by a liquid crystal dropping method.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

 液晶表示パネルの製造方法は、互いに貼り合せられるべき2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を配置するシール材配置工程と、2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下工程と、2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程とを含む液晶表示パネルの製造方法であって、液晶滴下工程の前に、2枚の基板のうち少なくとも液晶を滴下すべき基板を減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、貼り合せ工程の前に、減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程とを含む。または、シール材配置工程の前に、2枚の基板のうち少なくともシール材を配置すべき基板を、減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、貼り合せ工程の前に、減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程とを含む。

Description

明 細 書
液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 技術分野
[0001] 本発明は、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置に関す る。特に、液晶滴下方式で製造を行なう液晶表示パネルの製造方法および製造装 置に関する。
背景技術
[0002] 液晶表示パネルは、互いに対向する 2枚の基板の間に、液晶が封入された構成を 備える。図 7に、液晶表示パネルのうちカラー液晶表示パネルの一例の概略断面図 を示す。液晶 30は、 TFT(Thin Film Transistor)基板 1と CF (Color Filter)基板 5 とに挟まれて封入されている。 TFT基板 1の主表面には、走査線駆動回路 2が形成 され、外部の駆動 IC (図示せず)と接続されている。走査線駆動回路 2の主表面には 、画素電極層 3が形成されている。画素電極層 3には画素電極の他に TFTが形成さ れている。画素電極層 3の主表面には配向膜 4が形成されている。
[0003] TFT基板 1と反対側の基板となる CF基板 5の主表面には、カラーフィルタ 6が形成 されている。カラーフィルタ 6は、赤、緑および青の 3色の色相を有する。カラーフィル タ 6の主表面には、対向電極 7が形成されている。対向電極 7の主表面には、配向膜 8が形成されている。液晶 30は、配向膜 4と配向膜 8とに挟まれるように充填され、液 晶 30の側方には、シール材 31が配置されている。すなわち、液晶 30は、配向膜 4, 8とシール材 31とに囲まれるように封入されている。配向膜 4と配向膜 8との間隙は、 スぺーサ 9が挟まれることによって一定に保たれている。このように、液晶 30は、配向 膜 4, 8およびシール材 31に直接接している。 2枚の基板は、シール材 31によって互 いに接着固定されている。本明細書および請求の範囲においては、 TFT基板などの 単体の基板のほか、単体の基板に画素電極層や配向膜などが形成されているものも 含めて、単に「基板」という。
[0004] 液晶表示パネルの製造方法の 1つに、液晶注入方法の一つとして液晶滴下方式と いわれる製造方法がある。図 8に、液晶滴下方式の工程図を示す。初めに、 2枚の基 板にカラーフィルタや画素電極層などをそれぞれ形成した後に配向膜を形成する。 次に、 TFT基板に形成された配向膜および CF基板に形成された配向膜のうち、い ずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を配置する。次に、いずれか一 方の基板の配向膜の主表面に必要量の液晶を滴下する。図 9に、液晶滴下方式に よって 2枚の基板を貼り合わせる際の概略断面図を示す。図 9においては、配向膜 4 , 8以外のスぺーサゃカラーフィルタなどは図示省略してある。図 9の基板の貼り合せ では、 CF基板 5に形成された配向膜 8の主表面にシール材 31が配置され、反対側 の TFT基板 1に形成された配向膜 4の主表面に必要量の液晶 30が滴下されている 。基板の貼り合せにおいては、矢印 50に示すように、 2枚の基板の主表面を互いに 平行に保ちながら、 2枚の基板を互いに近づけて接着固定する。 2枚の基板の貼り合 せは、減圧雰囲気中で行なわれる。基板に配向膜を形成した後のシール材の配置 や液晶の滴下は、開放された大気中で行なわれ、基板同士を貼り合せるときのみ、 減圧雰囲気中で行なわれる。
[0005] 配向膜は多孔質の物質であるため、表面に水分が吸着されやすい。一方で液晶の 中に水分が混入すると電圧保持率が低下して、映像に表示ムラゃシミなどが発生す るという問題がある。配向膜の表面などに吸着した水分に起因して、液晶中に水分が 混入することを防止するため、製造工程においては脱気工程といわれる減圧雰囲気 中に一定時間、基板を配置する工程が設けられている。脱気工程を行なうためには 、基板全体の周辺を減圧するための真空チャンバおよび真空ポンプなどが必要であ る。減圧雰囲気中でシール材の配置から基板の貼り合せまで継続して行なうために は、非常に大掛力りな設備が必要になる。また、シール材を配置する前に脱気工程 を行なう場合、脱気工程を終えた基板は、シール材の配置から基板の貼り合せまで、 開放した大気中に保管される。この間に配向膜の主表面などに、大気中の水分が再 び吸着するおそれがある。このため、脱気工程は 2枚の基板の貼り合せの直前に行 なわれる。その他のシール材の配置、液晶の滴下、運搬などは、大気開放の雰囲気 中で行なわれることが一般的である。
[0006] 特開 2003—107481号公報には、シール材の配置直前における配向膜の吸着水 分量を 4wt%未満にして、配向膜の形成後少なくとも貼り合せ完了までの間、湿度 4 0%未満の環境下で、それぞれの工程を行なう液晶表示パネルの製造方法が開示さ れている。この製造方法は、たとえば、配向膜を形成した後に、湿度が 40%未満の 環境下で保管や組立を行なったり、基板上にドライエアをパージしながら保管や組立 を行なったりしている。シール材を基板の表面に配置する工程は、ドライエアなどの 雰囲気中で行なわれ、液晶の滴下および基板の貼り合せは、真空の雰囲気中で行 なっている。この方法により、基板の保管や組立時において、配向膜に対する水分の 吸着を防ぐことができるので、残像のない液晶表示パネルを製造することができると レ、うものである。
[0007] 特開 2001—305545号公報には、ラビング処理直後の配向膜表面を非活性化す ることにより、水分や吸着性ガスの配向膜表面での吸着を防止する製造方法が開示 されている。この方法は、ラビング処理直後に配向膜表面に対して 80°C以上 100°C 未満の温度で所定の時間、加熱処理を行なうことによって、配向膜表面の極性を非 活性化するものである。この方法により、配向膜表面に水分や吸着性ガスなどが吸着 することを未然に防止でき、さまざまな表示ムラの発生を防止できるとレ、うものである。 特許文献 1 :特開 2003-107481号公報(第 3-5頁、第 2_5図)
特許文献 2:特開 2001— 305545号公報 (第 3— 4頁)
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 上記のように、一般的に減圧雰囲気中に基板を配置する脱気工程は、基板の貼り 合せ直前に行なわれている。図 10Aおよび図 10Bに、開放された大気中で配向膜 の主表面に液晶またはシール材を配置したときの概略拡大断面図を示す。図 10A は、配向膜の主表面に液晶が滴下された状態を説明する拡大断面図である。配向 膜は多孔質の物質であるため、大気中に放置しておくと、配向膜の表面に大気中の 水分が吸着する。基板の貼り合せの前には、脱気工程が行なわれて、これらの多くの 水分は蒸発する。しかし、配向膜 4の主表面のうち液晶 30が滴下された領域におい ては、配向膜 4の主表面が液晶 30に覆われているために水分が蒸発しなレ、。この結 果、図 10Aの破線 40に示すように、配向膜 4に吸着していた水分が残ってしまって いた。また、同様にシール材についても、図 10Bに示すように、配向膜 8の主表面の うちシール材 31が配置されている領域においては、配向膜 8に吸着していた水分が 破線 41に示すように残ってレ、た。
[0009] これらの水分が保持されたまま、 2枚の基板が貼り合せられて液晶表示パネルが製 造されたときの不具合の説明図を図 11に示す。図 11は、液晶表示パネル 35の概略 平面図である。シール材 31は環状に形成され、シール材 31が囲む領域の内部には 、液晶が封入されている。液晶が封入されている領域のうち、画像表示部 44は映像 が表示される領域である。滴下された液晶に覆われた配向膜の一部分およびシール 材に覆われた配向膜の一部分に水分が残った液晶表示パネルには、表示不良部 4 5, 46が発生する。表示不良部 45は液晶が滴下された領域とその周りに不具合が発 生する部分であり、表示不良部 46は、シール材 31の周りに不具合が発生する部分 である。表示不良部 46は、配向膜に吸着していた水分がシール材 31を通じて液晶 に混入して生じたものである。これらの領域では、映像にシミゃムラなどが発生して、 特に、本来黒く表示すべきところが白っぽくなつてしまうという問題があった。このよう に、液晶中に水分が混入すると電圧保持率が低下して、表示不良を生じるという問 題があった。
[0010] 価格の低減を狙って生産性を向上させるために、マザ一基板に複数の液晶セルを 形成した後に基板を液晶セルごとに小さく切断する、いわゆる多面取りを行なう製造 方法がある。マザ一基板の表面にシール材の配置を行なうセル数は、マザ一基板 1 枚当り数百程度まで達している。 1枚のマザ一基板に形成されるセル数は、今後も継 続して増大してレ、くものと考えられる。セル数の増大に伴って、マザ一基板は大型化 する傾向にあり、対角が 1メートノレを超えるものも用いられている。このような大型のマ ザ一基板の表面に、数多くのシール材の配置を行なうと、長い時間を要することにな り、この間に開放された大気中の水分が再吸着する。このため、たとえシール材の配 置の直前に脱気工程を行なったとしても、液晶への水分の混入に対して、十分な効 果が得られにくいものになっている。
[0011] 特開 2003—107481号公報における製造方法では、配向膜の形成後シール材の 配置まで、基板を湿度の低い空気の雰囲気中に保管する、不活性ガスで空気を置 換した雰囲気中で保管する、または減圧雰囲気中で保管する必要がある。さらに、引 続いて、これらの雰囲気中でシール材の配置を行なう必要がある。このため、基板の 保管設備やシール材の配置を行なうための設備が大掛力りなものになるという問題 力 sある。特に、対角の長さが 1メートルを超えるような大型のマザ一基板に対しては、 非常に高価な基板保管設備およびシール材配置設備が必要になって、生産性が悪 化するうえに非常に高価なものになるという問題があった。また、基板を保管したのち に熱処理と大気開放とを行なう製造方法においては、配向膜を加熱するため、配向 膜内部の分解反応が進行するおそれがある。また、熱処理によって一度除去した水 分が、大気開放によって、再び配向膜に吸着するという問題があった。
[0012] 特開 2001—305545号公報に開示されている製造方法では、配向膜を加熱してそ の後に大気開放を行なうため、加熱に伴う配向膜の分解反応が進行するおそれがあ るという問題があった。また、後に大気開放するため、再び水分が配向膜に吸着する という問題があった。
[0013] 本発明は、上記の問題点を解決するためになされたものであり、大型のマザ一基板 に対しても液晶中に水分が混入することを防止して、さらに、生産性よく液晶表示パ ネルを製造することができる製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 課題を解決するための手段
[0014] 本発明に基づく液晶表示パネルの製造方法の第 1の局面では、互いに貼り合せら れるべき 2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を 配置するシール材配置工程と、 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下 する液晶滴下工程と、 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程とを含む液晶表 示パネルの製造方法であって、シール材配置工程の前に、 2枚の基板のうち少なくと もシール材を配置すべき基板を、減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、貼り合せ 工程の前に、減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程とを含む。この方法を採 用することにより、大型のマザ一基板に対しても、シール材を配置する基板から予め 水分を除去して、この後に大気中に配置しても水分の吸着を防止できるため、表示 不良を防止した液晶表示パネルを製造することができる。また、生産性が向上する。
[0015] 上記発明において好ましくは、開放工程は、シール材配置工程の前に行なう。この 方法を採用することにより、シール材配置工程を大気中で行なうことができ、生産性 が向上する。
[0016] 上記発明において好ましくは、シール材配置工程は、開放工程の後 30分以内に 行なう。この方法を採用することにより、基板に吸着した不活性ガスの多くが脱離する 前にシール材を配置することができ、より確実に表示不良を防止した液晶表示パネ ルを製造することができる。
[0017] 上記発明において好ましくは、脱気工程は、 2枚の基板を共に減圧雰囲気の中に 配置する工程を含む。この方法を採用することにより、従来行なっていた貼り合せェ 程の直前の脱気工程を省略することができる。
[0018] 上記発明において好ましくは、開放工程は、シール材配置工程および液晶滴下ェ 程の後に行なう。この方法を採用することにより、 2枚の基板に吸着している水分を除 去することができ、より確実に表示不良を防止した液晶表示パネルを製造することが できる。また、シール材が配置される領域のまわりに発生する表示不良の他に、液晶 が滴下された領域に発生する表示不良も防止することができる。
[0019] 上記発明において好ましくは、液晶滴下工程の前に開放工程を行なレ、、液晶滴下 工程は、開放工程の後 30分以内に行なう。この方法を採用することによって、シール 材を配置する領域の周りの表示不良のほかに、液晶を滴下する領域の周りの表示不 良を防止した液晶表示パネルを製造することができる。
[0020] 本発明に基づく液晶表示パネルの製造方法の第 2の局面では、互いに貼り合せら れるべき 2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を 配置するシール材配置工程と、 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下 する液晶滴下工程と、 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程とを含む液晶表 示パネルの製造方法であって、液晶滴下工程の前に、 2枚の基板のうち少なくとも液 晶を滴下すべき基板を減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、貼り合せ工程の前 に、減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程とを含む。この方法を採用するこ とにより、大型のマザ一基板に対しても、液晶を滴下する基板から予め水分を除去し て、この後に大気中に配置しても水分の吸着を防止できるため、表示不良を防止し た液晶表示パネルを製造することができる。また、生産性が向上する。
[0021] 上記発明において好ましくは、液晶滴下工程の前に開放工程を行なレ、、液晶滴下 工程は、開放工程の後 30分以内に行なう。この方法を採用することにより、水分の再 吸着を確実に防止でき、表示不良を防止することができる。
[0022] 上記発明において好ましくは、脱気工程は、 2枚の基板を共に減圧雰囲気の中に 配置する工程を含む。この方法を採用することにより、従来行なっていた貼り合せェ 程の直前の脱気工程を省略することができる。
[0023] 本発明に基づく液晶表示パネルの製造装置は、互いに貼り合せられるべき 2枚の 基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を配置するシー ノレ材配置工程と、 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下 工程と、 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程とを含む液晶表示パネルの製 造方法に用いる製造装置であって、減圧雰囲気の中に基板を配置するための減圧 雰囲気形成手段と、減圧雰囲気を不活性ガスで開放するための開放手段とを備える 。この構成を採用することによって、 2枚の基板を貼り合せる前に水分の除去および 水分の再吸着の防止をすることができる液晶表示パネルの製造装置を提供すること ができる。
[0024] 上記発明において好ましくは、減圧雰囲気形成手段は、真空チャンバと、真空チヤ ンバの内部に基板を配置するための基板配置部材と、真空チャンバの内部を排気す るための真空ポンプとを含む。開放手段は、真空チャンバの内部に不活性ガスを導 入するための不活性ガス導入手段を含む。この構成を採用することにより、容易に液 晶表示パネルの製造装置を形成することができる。
[0025] 上記発明において好ましくは、真空チャンバは、互いに貼り合せられるべき 2枚の 基板を収容できるように形成されている。この構成を採用することにより、 1つの真空 チャンバなどの内部に、 2枚の基板を同時に収容でき、貼り合せ工程への移行時間 を短くすること力できる。また、貝占り合せ工程に移行する際の作業量が少なくなつて生 産性が向上する。
発明の効果
[0026] 大型のマザ一基板に対しても、液晶中に水分が混入することを防止して、さらに、 生産性が向上した液晶表示パネルの製造方法および製造装置を提供できる。 図面の簡単な説明 [0027] [図 1]実施の形態 1における製造方法の工程図である。
[図 2]実施の形態 1における製造装置の概略断面図である。
[図 3]実施の形態 1における製造装置のうち、真空チャンバの概略断面図である。
[図 4]実施の形態 1における製造装置の概略全体図である。
[図 5]実施の形態 2における製造方法の工程図である。
[図 6]実施の形態 3における製造方法の工程図である。
[図 7]カラー液晶表示パネルの概略断面図である。
[図 8]従来の技術に基づく液晶表示パネルの製造方法の工程図である。
[図 9]液晶滴下方式を説明する概略断面図である。
[図 10A]従来の技術における製造方法の不具合の第 1の説明図である。
[図 10B]従来の技術における製造方法の不具合の第 2の説明図である。
[図 11]従来の技術における液晶表示パネルの不具合を説明する概略平面図である 符号の説明
[0028] 1 TFT基板、 2 走査線駆動回路、 3 画素電極層、 4, 8 配向膜、 5 CF基板、 6 カラーフィルタ、 7 対向電極、 9 スぺーサ、 11 不活性ガス導入手段、 12 給気 管、 13 給気バルブ、 14 ボンべ、 16 真空排気手段、 17 排気管、 18 排気バル ブ、 19 真空ポンプ、 20 真空チャンバ、 21 支持台、 22 開閉扉、 25 真空槽、 3 0 液晶、 31 シール材、 35 液晶表示パネル、 40, 41 破線、 44 画像表示部、 4 5, 46 表示不良部、 50 矢印。
発明を実施するための最良の形態
[0029] (実施の形態 1)
図 1から図 4を参照して、本発明に基づく実施の形態 1における液晶表示パネルの 製造方法および液晶表示パネルの製造装置について説明する。
[0030] 図 1は、本実施の形態における液晶表示パネルの製造方法の工程図である。製造 される液晶表示パネルは、従来の技術に基づく液晶表示パネルの構成と同様である 。すなわち、図 7に示すように、 TFT基板 1の主表面には、 TFTを駆動するための走 查線駆動回路 2が形成され、走査線駆動回路 2の主表面には、 TFTなどが形成され た画素電極層 3が形成されている。画素電極層 3の主表面には、配向膜 4が形成さ れている。 CF基板 5の主表面には、カラーフィルタ 6が形成され、カラーフィルタ 6の 主表面には、対向電極 7が形成されている。対向電極 7の主表面には、配向膜 8が形 成されている。液晶表示パネルは、これらの 2枚の基板がスぺーサ 9を挟んで互いに 貝占り合せられている構成を備える。 2枚の基板はシール材 31によって接着固定され、 2枚の基板とシール材 31とに囲まれる空間に液晶 30が封入されている。
[0031] 本発明に基づく製造方法において、互いに貼り合せられるべき 2枚の基板にそれ ぞれ配向膜が形成され、これらの基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主 表面にシール材を配置するシール材配置工程と、いずれか一方の基板に液晶を滴 下する液晶滴下工程と、 2枚の基板を減圧雰囲気中で互いに貼り合せる貼り合せェ 程とを含むことは、従来の技術に基づく製造方法と同様である。
[0032] 本実施の形態における液晶表示パネルの製造方法には、シール材配置工程の前 に、配向膜が形成された基板を減圧雰囲気中に配置する脱気工程と、減圧雰囲気 を不活性ガスで開放する開放工程とを含む。シール材配置工程は、開放工程が完 了してから約 30分以内に行なっている。基板に配向膜を形成した後に、これらの基 板を減圧雰囲気中に配置して、配向膜の表面などに含まれる水分を除去する。この 後に Nガスや Arガスなどの不活性ガスで減圧雰囲気を開放することによって、配向 膜の表面の多孔質の孔などにこれらの不活性ガスが吸着する。このため、大気中に 基板を取出しても水分が配向膜に吸着することを防止できる。したがって、シール材 と配向膜との間に水分が残存することはなぐシール材の周辺に生じる表示不良を防 止すること力 Sできる。
[0033] 本実施の形態においては、シール材を配置した基板と反対側に配置される基板に 液晶を滴下している。本実施の形態においては、この液晶を滴下する基板について も、減圧雰囲気中に配置した後に、不活性ガスを導入して開放を行なっている。配向 膜の表面には、不活性ガスが吸着されているため、水分の吸着を防止できる。この結 果、液晶を滴下した領域における配向膜の水分を除去することができ、液晶を滴下し た領域とその周りの領域に生じる表示不良を防止することができる。
[0034] 水分などに置き換えて、配向膜の多孔質の孔などに配置された不活性ガスは、時 間が経つと大気中に拡散していく。このため、配向膜に吸着した不活性ガスの濃度 は時間と共に小さくなつていく。このため、開放工程の後は、できるだけ速やかにシー ノレ材の配置を行なった方が好ましぐ特に、開放工程が完了してから約 30分以内に 行なうことが好ましい。また、同様に、液晶滴下工程についても、不活性ガスで減圧 雰囲気を開放してから約 30分以内に行なうことが好ましい。
[0035] 互いに貼り合せられるべき 2枚の基板を共に減圧雰囲気中に配置した後に、不活 性ガスで減圧雰囲気を開放することによって、シール材を配置する側の基板および 液晶を滴下する側の基板がいずれの基板かに関わらず、シール材の配置および液 晶の滴下に伴う表示不良を防止することができる。また、同時に、シール材の配置お よび液晶の滴下に無関係な領域についても、配向膜などに吸着している水分を除去 することができ、不活性ガスで開放後大気中に配置している時間が短い場合には、 基板の貼り合せ直前に減圧雰囲気中に一定時間、基板を配置する脱気工程を再び 行なう必要はなぐ減圧後すぐに貼り合せ工程を行なうことができる。
[0036] 本発明に基づく製造方法では、基板に配向膜を形成した後にたとえ大気中で長時 間保管を行なっても、シール材の配置または液晶の滴下の直前に、減圧雰囲気の中 に基板を配置する脱気工程と減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程とを行 なえばよい。本発明においては、先行文献に開示されているような、湿度を下げた空 気または不活性ガスで基板の周りの雰囲気を置換 (パージ)する製造方法とは異なり 、一旦、真空の雰囲気中に基板を配置して、水分を十分に蒸発させて除去した後に 、不活性ガスを配向膜の表面などに吸着させるものである。先行文献に開示されて レ、る製造方法のように、湿度などの管理が必要な環境で基板を保管する必要はなく 、配向膜形成後は、通常の大気中で保管することができる。この結果、製造設備を小 型化することができ、生産性が向上するとともに、安価に液晶表示パネルを製造する こと力 Sできる。
[0037] また、さまざまな基板のうち、多面取りを行なうような大型の基板の貼り合せを行なう 場合、湿度管理などがされている雰囲気中で保管しょうとすると、設備は非常に大掛 りにならざるを得なかった。しかし、本願における製造方法では、シール材の配置直 前に脱気工程および開放工程を行なうので、保管のための大掛りな設備は不要であ る。この結果、大型基板についても、生産性が向上して大量生産が可能になる。
[0038] また、シール材の配置および液晶の滴下を大気圧中で行なうことができるため、容 易にシール材の配置および液晶の滴下を行なうことができる。したがって、作業の進 行を速くすることができ、生産性が向上する。
[0039] 図 2から図 4に、本発明に基づく液晶表示パネルの製造装置の説明図を示す。図 2 は、本発明に基づく液晶表示パネルの製造装置の部分概略断面図である。本発明 に基づく製造装置は、シール材配置工程と液晶滴下工程と 2枚の基板を互いに貼り 合せる貼り合せ工程とを含む液晶表示パネルの製造方法に用いられる。すなわち、 液晶滴下方式に用レ、られる製造装置である。
[0040] 本発明に基づく液晶表示パネルの製造装置は、減圧雰囲気の中に基板を配置す るための減圧雰囲気形成手段と減圧雰囲気を不活性ガスで開放するための開放手 段とを備える。配向膜が形成された TFT基板 1および配向膜が形成された CF基板 5 などの 2枚の基板は、真空チャンバ 20の内部に配置される。真空チャンバ 20はアル ミニゥムによって形成されている力 その他ステンレスなどによって形成されていても よい。本実施の形態における真空チャンバ 20は、互いに貼り合せられるべき 2枚の基 板を収容できるように形成されている。真空チャンバ 20は、内部が空洞で外部との密 閉を保つことができるように形成されている。真空チャンバ 20の内部には、基板配置 部材として、互いに向かい合うように 2つの支持台 21が形成されている。支持台 21は 、互いに貼り合せられるべき 2枚の基板を上下に並べて配置できるように形成されて いる。支持台 21は、真空チャンバ 20の底部に固定されている。
[0041] 真空チャンバ 20には、真空チャンバ 20の内部を排気するための真空排気手段 16 が接続されている。真空排気手段 16は、排気管 17、排気バルブ 18および真空ボン プ 19を含む。本実施の形態においては、真空排気手段 16、真空チャンバ 20および 真空チャンバ 20の内部に形成された支持台 21によって、減圧雰囲気の中に基板を 配置するための減圧雰囲気形成手段が構成されている。
[0042] 真空チャンバ 20には、開放手段として不活性ガス導入手段 11が接続されている。
不活性ガス導入手段 11は、給気管 12、給気バルブ 13およびボンべ 14を含む。ボン ベ 14の内部には、 Nや Arなどの不活性ガスが充填されている。 [0043] 図 3に、図 2における III一 III線に関する真空チャンバの矢視断面図を示す。真空チ ヤンバ 20は、ほぼ直方体状に形成されている。 2枚の基板である TFT基板 1および C F基板 5は、支持台 21に主表面が水平になるように配置される。真空チャンバ 20の 前方には、 2段に形成された支持台 21のそれぞれの段に対応するように開閉扉 22 が形成されている。開閉扉 22は、開閉可能なように形成され、それぞれの基板の出 し入れができるように十分に大きく形成されている。また、開閉扉 22が閉じたときに、 内部の密閉が保てるように形成されてレ、る。
[0044] 図 4に本実施の形態における製造装置の概略全体図を示す。不活性ガス導入手 段 11、真空排気手段 16および真空チャンバ 20を含む製造装置は、同一のものが複 数個形成されて、真空槽 25の内部に配置されている。各真空チャンバ 20は、それぞ れの不活性ガス導入手段 11および真空排気手段 16に接続され、互いに独立して内 部の排気および不活性ガスの導入が行なえるように形成されている。また、それぞれ の真空チャンバ 20の内部には、図 3で示した支持台 21が形成され、互いに貼り合せ られるべき 2枚の基板を収容できるように形成されている。
[0045] 本装置は、たとえば、図 1の製造方法における配向膜の形成後に、基板を減圧雰 囲気中に配置する脱気工程と不活性ガスで減圧雰囲気を開放する開放工程とに用 レ、られる。まず、開閉扉 22を開けて、 TFT基板 1および CF基板 5を真空チャンバ 20 内部の支持台 21のそれぞれの段に配置する。各基板は、真空チャンバ 20の内部に 完全に収められるように配置される。本実施の形態においては、 TFT基板 1が上側 に配置され、 CF基板 5が下側に配置されている力 S、この配置に限られるわけではなく 、どちらの基板が上側であってもよい。また、主に形成された配向膜中の水分を蒸発 させるため、配向膜が支持台 21と接触しないように、配向膜が形成された側を上側 に向けて配置することが好ましい。各基板の配置が完了したら、全ての開閉扉 22 (図 3参照)を閉じて真空チャンバ 20を密閉する。
[0046] 次に、真空ポンプ 19を駆動して、排気バルブ 18を開にして、真空チャンバ 20の内 部を排気する。真空チャンバ 20の内部は、 30Pa程度まで真空にする。急激に真空 チャンバ 20の内部の圧力を下げると配向膜が破損する可能性があるため、真空チヤ ンバ 20の内部の圧力は徐々に下げていくことが好ましい。したがって、排気バルブ 1 8は、開度を徐々に変更することができる弁を用いることが好ましい。本実施の形態に おける排気バルブ 18としては、連続的に弁開度を大きくすることができるほか、段階 的に弁開度を大きくすることができるものを用いている。 30Pa程度まで減圧を行なつ て、この低い圧力を約 30分間維持して、配向膜の表面などに有する水分を蒸発させ る。このように脱気工程を行なう。
[0047] 真空チャンバ内の圧力や減圧状態を維持する時間は、特にこれに限定されず、た とえば、配向膜の種類によっては、真空チャンバ内を lPa以下まで減圧してもよい。 換言すると、減圧状態で行なう脱気工程の条件は、形成された配向膜の種類などに 応じて変更することが好ましレ、。
[0048] 脱気工程が完了したら、続いて排気バルブ 18を閉、給気バルブ 13を開にして、不 活性ガス導入手段 11から、真空チャンバ 20の内部に不活性ガスを導入する。すな わち開放工程を行なう。本実施の形態における給気バルブ 13としては、真空チャン バ 20の内部の圧力を徐々に上げることができるように開度を調整できるものが用いら れている。真空チャンバ 20の内部の圧力が大気圧になるまで、不活性ガスの導入を 継続する。真空チャンバ 20の内部の圧力力 大気圧にまで上昇したら、給気バルブ 13を閉じて不活性ガスの導入を中止する。この状態で、シール材配置工程まで、各 基板を真空チャンバ 20の内部に保管する。または、シール材配置工程までの時間が 約 30分以内の場合には、真空チャンバ 20の内部から各基板を取出して保管してい てもよい。
[0049] 液晶滴下方式に用いる製造装置において、減圧雰囲気形成手段と減圧雰囲気を 不活性ガスで開放するための開放手段とを備えることによって、各基板の主表面およ び基板の主表面に形成されている配向膜などの水分を不活性ガスに置換することが でき、その後に、基板を大気中に配置したときでも、水分が再吸着することを防止で きる。この結果、液晶表示パネルの表示不良を防止できる。また、配向膜の形成後か ら貼り合せまで、継続して湿度の管理などを行なう必要はなぐ配向膜の形成ののち シール材の配置または液晶の滴下直前まで、大気中に保管することができ、設備を 非常に簡単にすることができる。大型の基板に対しても容易に処理を行なうことがで き、生産性が向上する。 [0050] また、真空チャンバが互いに貼り合せられるべき 2枚の基板を収容できるように形成 されることによって、 2枚の基板を同時に処理することができ、片側の基板の処理が完 了するまでの待ち時間、すなわち次工程までのリードタイムを最小限に抑えることが できて、生産性が向上する。
[0051] 図 4に示すように、小型の真空チャンバ 20を多数形成して、それぞれの真空チャン バが、独立して排気および不活性ガスの給気を行なえるように形成することによって、 シール材配置工程の直前まで、または、必要に応じ液晶滴下工程の直前まで、各基 板を不活性ガスの雰囲気中に配置していくことができ、より確実に水分の吸着を防止 すること力 Sできる。また、各基板の取出しが完了した製造装置に対して、個別に次の 各基板を揷入して脱気工程および開放工程を行なうことができ、連続的に各基板の 処理を行なうことができる。したがって、製造工程における待ち時間を最小限にするこ とができ、生産性が向上し、安価な液晶表示パネルを提供することができる。
[0052] 本実施の形態の製造装置においては、真空チャンバの内部に 2枚の基板が配置で きるように形成した力 特にこの形態に限られず、 1つの真空チャンバの内部に 1枚の 基板や 3枚以上の基板が配置できるように形成されていてもよい。また、本実施の形 態においては、それぞれの真空チャンバに 1つずつ真空ポンプが取付けられている 、大型の真空ポンプに対して、複数の排気管が接続され、それぞれの真空チャン バの内部の圧力が、それぞれの排気バルブによって調整されていてもよい。また、不 活性ガス導入手段についても、多くの並列したボンベに、複数の給気管が接続され るなど、真空チャンバの内部に不活性ガスが導入される構成を有していればよい。
[0053] (実施の形態 2)
図 5を参照して、本発明に基づく実施の形態 2における液晶表示パネルの製造方 法および製造装置について説明する。
[0054] 本実施の形態において、基板の表面に配向膜を形成して、液晶滴下方式によって 液晶を封入することは、実施の形態 1における製造方法と同様である。配向膜が形成 された基板を減圧雰囲気中に配置して、後に不活性ガスで開放することも実施の形 態 1と同様である。
[0055] 本実施の形態における液晶表示パネルの製造装置は、実施の形態 1における製造 装置の構成に加えて、真空チャンバの内部にシール材を配置するためのディスペン サが配置され、真空チャンバの内部でシール材の配置を行なうことができるように形 成されている。
[0056] 本実施の形態における製造方法では、互いに貼り合せられるべき 2枚の基板のうち 、いずれか一方または両方の基板の主表面にシール材を配置するシール材配置ェ 程を減圧雰囲気中で行なう。各基板が配置されている雰囲気を減圧した後、所定の 時間この圧力を維持して、配向膜の表面および内部に有する水分を蒸発させる。次 に、この減圧雰囲気下でいずれか一方の基板または両方の基板にシール材の配置 を行なう。
[0057] シール材の配置が完了したら、 Nガスまたは Arガスなどの不活性ガスを真空チヤ
2
ンバの内部に導入して、真空チャンバの内部を大気圧の状態にして、真空チャンバ の内部に基板を保管する。いずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下工程の 直前に、基板を真空チャンバから取出す。または、液晶滴下工程までの時間が短時 間であれば、大気中に取り出して保管してもよい。次に、液晶滴下工程を行なった後 、貝占り合せ工程を行なう。
[0058] 本実施の形態における液晶表示パネルの製造方法では、基板が減圧雰囲気中に 配置されている状態でシール材の配置を行なう。すなわち、水分が十分に除去され た配向膜の上面に、シール材が配置される。この方法を採用することによって、シー ノレ材が配置される領域の配向膜に水分が保持されていることを防止でき、シール材 が配置されている領域の周りの表示不良を防止することができる。また、不活性ガス で真空チャンバ内の減圧雰囲気を開放することによって、液晶を滴下する際の水分 の混入を防止することができる。
[0059] 液晶が滴下される基板とシール材が配置される基板とが異なる場合には、液晶が 滴下される基板についても、予め真空チャンバ内で減圧雰囲気中に配置した後に不 活性ガスで真空チャンバ内を開放する開放工程を行なっておく。この方法を採用す ることによって液晶が滴下される基板に対しても、配向膜の水分を予め除去すること ができ、液晶が滴下される領域における表示不良を防止することができる。液晶の滴 下については、実施の形態 1と同様に、不活性ガスで減圧雰囲気を開放したのち、 約 30分以内に行なうことが好ましい。この方法を採用することにより、液晶滴下工程 を通常の大気中で行なっても、表示不良を確実に防止することができる。したがって 、液晶の滴下装置を簡単な構造にすることができ、また、作業が行ないやすくなるた めに生産性が向上する。
[0060] また、液晶が滴下される基板にシール材が配置される場合であっても、反対側の基 板について、貝占り合せ工程までに、脱気工程および開放工程を行なっておくことが好 ましレ、。この方法を採用することにより、貼り合せ工程直前の脱気工程を行なう必要 がなぐ製造時間が短縮されて生産性が向上する。
[0061] 実施の形態 1における液晶表示パネルの製造装置においては、互いに貼り合せら れるべき 2枚の基板を収容するように形成されていた力 S、本実施の形態においては、 シール材が配置される基板と液晶が滴下される基板とが同一である場合には、この 基板のみを処理できるように、:!枚の基板のみが真空チャンバの内部に配置できるよ うに形成されていてもよい。
[0062] その他の製造方法や製造装置に関しては、実施の形態 1と同様であるのでここでは 、説明を繰返さない。
[0063] (実施の形態 3)
図 6を参照して、本発明に基づく実施の形態 3における液晶表示パネルの製造方 法および製造装置について説明する。
[0064] 本実施の形態において、基板の表面に配向膜を形成して、液晶滴下方式によって 液晶を封入することは、実施の形態 1における製造方法と同様である。配向膜が形成 された基板を減圧雰囲気中に配置して、後に不活性ガスで開放することも実施の形 態 1と同様である。
[0065] 本実施の形態においては、減圧雰囲気の中で、シール材配置工程と液晶滴下ェ 程とを行なう。この後に、不活性ガスで真空チャンバ内の減圧雰囲気を開放して、基 板の貼り合せ工程まで、各基板を真空チャンバ内部で保管する。
[0066] 本実施の形態における真空チャンバの内部には、実施の形態 1における真空チヤ ンバの内部の構成に加えて、シール材を配置するためのディスペンサゃ、液晶を滴 下するためのディスペンザが配置されている。シール材の配置および液晶の滴下は 、いずれの基板に行なってもよい。また、シール材の配置は、両方の基板に対して行 なってもよレ、。
[0067] この製造方法を採用することによって、配向膜の表面から、十分に水分を除去した 状態で、シール材の配置および液晶の滴下を行なうため、水分を除去することができ 、液晶への水分混入を防止できる。この結果、シール材が配置される領域の周り、液 晶が滴下される領域および液晶が滴下される領域の周りに発生する表示不良をより 確実に防止することができる。また、不活性ガスで真空チャンバ内の減圧雰囲気を開 放して、基板の貼り合せ直前まで保管しておくことができるので、この間に基板や配 向膜に水分が吸着することを防止でき、液晶表示パネルの表示不良を防止すること 力 Sできる。開放工程ののち、大気中で基板を保管する時間が短時間であれば、基板 への水分の吸着を防止できて、貼り合せ工程直前の脱気工程を省略することができ 、製造時間を短縮することができる。
[0068] その他の製造方法や製造装置については、実施の形態 1と同様であるのでここで は説明を繰返さない。
[0069] 上記の実施の形態においては、主にシール材配置工程の前に脱気工程を行なう 場合について、説明を行なったが、液晶滴下工程に関する水分の混入のみを防止 する場合には、シール材配置工程の前にシール材を配置する基板に対して脱気ェ 程等を行なわず、液晶を滴下する基板のみに対して液晶滴下工程の前に脱気工程 、貝占り合せ工程の前に開放工程を行なってもよレ、。
[0070] また、上記の実施の形態においては、主にカラー液晶表示パネルを取り挙げて説 明を行なったが、特にカラー液晶に限られず、白黒液晶表示パネルについても適用 すること力 sできる。
[0071] なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なもので はない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求 の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
産業上の利用可能性
[0072] 本発明は、液晶表示パネルの製造に適応されうる。特に、液晶滴下方式で製造を 行なう液晶表示パネルの製造方法および製造装置に有利に適応されうる。

Claims

請求の範囲
[1] 互いに貼り合せられるべき 2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主 表面にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下工程と、 前記 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程と
を含む、液晶表示パネルの製造方法であって、
前記シール材配置工程の前に、前記 2枚の基板のうち少なくとも前記シール材を配 置すべき基板を、減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、
前記貼り合せ工程の前に、前記減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程と を含む、液晶表示パネルの製造方法。
[2] 前記開放工程は、前記シール材配置工程の前に行なう、請求の範囲第 1項に記載 の液晶表示パネルの製造方法。
[3] 前記シール材配置工程は、前記開放工程の後 30分以内に行なう、請求の範囲第
2項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[4] 前記脱気工程は、前記 2枚の基板を共に前記減圧雰囲気の中に配置する工程を 含む、請求の範囲第 1項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[5] 前記開放工程は、前記シール材配置工程および前記液晶滴下工程の後に行なう
、請求の範囲第 4項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[6] 前記液晶滴下工程の前に前記開放工程を行ない、
前記液晶滴下工程は、前記開放工程の後 30分以内に行なう、請求の範囲第 1項 に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[7] 互いに貼り合せられるべき 2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主 表面にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下工程と、 前記 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程と
を含む、液晶表示パネルの製造方法であって、
前記液晶滴下工程の前に、前記 2枚の基板のうち少なくとも前記液晶を滴下すべき 基板を減圧雰囲気の中に配置する脱気工程と、 前記貼り合せ工程の前に、前記減圧雰囲気を不活性ガスで開放する開放工程と を含む、液晶表示パネルの製造方法。
[8] 前記液晶滴下工程の前に前記開放工程を行ない、
前記液晶滴下工程は、前記開放工程の後 30分以内に行なう、請求の範囲第 7項 に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[9] 前記脱気工程は、前記 2枚の基板を共に前記減圧雰囲気の中に配置する工程を 含む、請求の範囲第 7項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[10] 互いに貼り合せられるべき 2枚の基板のうち、いずれか一方または両方の基板の主 表面にシール材を配置するシール材配置工程と、
前記 2枚の基板のうちいずれか一方の基板に液晶を滴下する液晶滴下工程と、 前記 2枚の基板を互いに貼り合せる貼り合せ工程と
を含む液晶表示パネルの製造方法に用レ、る製造装置であって、
減圧雰囲気の中に基板を配置するための減圧雰囲気形成手段と、
前記減圧雰囲気を不活性ガスで開放するための開放手段と
を備える、液晶表示パネルの製造装置。
[11] 前記減圧雰囲気形成手段は、真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部に基板を配置するための基板配置部材と、
前記真空チャンバの内部を排気するための真空ポンプと
を含み、前記開放手段は、
前記真空チャンバの内部に不活性ガスを導入するための不活性ガス導入手段を含 む、請求の範囲第 10項に記載の液晶表示パネルの製造装置。
[12] 前記真空チャンバは、互いに貼り合せられるべき 2枚の基板を収容できるように形 成された、請求の範囲第 11項に記載の液晶表示パネルの製造装置。
PCT/JP2004/012727 2003-09-24 2004-09-02 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置 WO2005029166A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/573,301 US7889309B2 (en) 2003-09-24 2004-09-02 Manufacturing method of liquid crystal display panel and manufacturing apparatus of liquid crystal display panel

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003331419A JP3683893B2 (ja) 2003-09-24 2003-09-24 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置
JP2003331418A JP3686414B2 (ja) 2003-09-24 2003-09-24 液晶表示パネルの製造方法
JP2003-331418 2003-09-24
JP2003-331419 2003-09-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2005029166A1 true WO2005029166A1 (ja) 2005-03-31

Family

ID=34380357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2004/012727 WO2005029166A1 (ja) 2003-09-24 2004-09-02 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7889309B2 (ja)
KR (1) KR20060087577A (ja)
CN (1) CN102621747A (ja)
TW (1) TW200513727A (ja)
WO (1) WO2005029166A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113253495A (zh) * 2021-05-28 2021-08-13 苏州华星光电技术有限公司 液晶面板气泡收集方法和装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008292997A (ja) 2007-04-27 2008-12-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置の作製方法
US20130168006A1 (en) * 2010-10-14 2013-07-04 Sharp Kabushiki Kaisha Method for manufacturing liquid crystal display device
TWI553881B (zh) * 2014-06-06 2016-10-11 群創光電股份有限公司 薄膜電晶體基板
WO2016190234A1 (ja) * 2015-05-27 2016-12-01 シャープ株式会社 表示パネルの製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242471A (ja) * 2000-02-29 2001-09-07 Ran Technical Service Kk 液晶パネルの基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ装置
JP2002323687A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Hitachi Industries Co Ltd 液晶基板の組立方法及びその組立装置
JP2003270609A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Fujitsu Ltd 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
JP2004070274A (ja) * 2002-06-11 2004-03-04 Fujitsu Ltd 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
JP2004151325A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Fujitsu Ltd 基板貼り合せ方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05307160A (ja) 1992-04-30 1993-11-19 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子の製造装置及びその方法
JPH09218416A (ja) * 1996-02-09 1997-08-19 Ayumi Kogyo Kk 液晶の注入方法およびその装置
JP2002107710A (ja) 2000-09-29 2002-04-10 Seiko Epson Corp 液晶表示装置の製造方法
KR100595300B1 (ko) * 2000-10-28 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 광배향성 물질 및 이를 이용한 액정표시소자
JP2001305545A (ja) 2001-04-06 2001-10-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 配向均一化処理方法、及びその処理方法を用いた液晶表示素子
JP4149156B2 (ja) 2001-10-01 2008-09-10 シャープ株式会社 液晶表示パネルの製造方法
KR100510719B1 (ko) * 2002-02-05 2005-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치의 제조 방법
US6892437B2 (en) * 2002-03-13 2005-05-17 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display device
TWI266104B (en) * 2002-03-14 2006-11-11 Sharp Kk Manufacturing method of liquid crystal display apparatus and substrate assembling apparatus
JP3926231B2 (ja) * 2002-07-18 2007-06-06 鹿児島日本電気株式会社 液晶表示装置の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001242471A (ja) * 2000-02-29 2001-09-07 Ran Technical Service Kk 液晶パネルの基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ装置
JP2002323687A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Hitachi Industries Co Ltd 液晶基板の組立方法及びその組立装置
JP2003270609A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Fujitsu Ltd 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
JP2004070274A (ja) * 2002-06-11 2004-03-04 Fujitsu Ltd 貼合せ基板製造装置及び貼合せ基板製造方法
JP2004151325A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Fujitsu Ltd 基板貼り合せ方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113253495A (zh) * 2021-05-28 2021-08-13 苏州华星光电技术有限公司 液晶面板气泡收集方法和装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20070052913A1 (en) 2007-03-08
CN102621747A (zh) 2012-08-01
KR20060087577A (ko) 2006-08-02
US7889309B2 (en) 2011-02-15
TWI311212B (ja) 2009-06-21
TW200513727A (en) 2005-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100456088C (zh) Lcd粘接机和用这种粘接机制造lcd的方法
JP2003107487A (ja) 液晶表示装置の製造方法及び製造装置
JP2003315759A (ja) 貼り合わせ器のステージ構造、及び貼り合わせ器の制御方法
JPH11119234A (ja) 液晶表示素子セルの封孔方法及び装置
WO2005029166A1 (ja) 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置
JP3683893B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示パネルの製造装置
JP3686414B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP4343500B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2006085132A (ja) 液晶表示装置の製造方法とその製造装置
JP2004188407A (ja) 基板の組立て方法及び基板の組立て装置
JP2000155325A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
JP3914140B2 (ja) 液晶脱泡装置及びこれを用いた脱泡方法
JP2006154166A (ja) 電気光学装置の貼り合わせ装置及び方法
JP2009288311A (ja) 液晶表示パネルの製造方法および製造装置
JP2007133145A (ja) 基板貼合せ装置及び基板貼合せ方法
US20060065344A1 (en) Substrate bonding apparatus for liquid crystal display device
JP4087163B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH08160434A (ja) 液晶パネル封止装置
JP2003270647A (ja) 液晶パネルの製造方法
KR100741900B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100510724B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
JPH10115832A (ja) 表示パネルの加圧封止方法及び加圧封止装置
JP2006171063A (ja) 電気光学装置の製造装置及び方法
JPH1164867A (ja) 液晶パネルの製造方法とその装置
JP2002258297A (ja) 液晶注入システム、液晶注入方法および液晶装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200480027170.3

Country of ref document: CN

AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GM HR HU ID IL IN IS KE KG KP KR LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC YU ZA ZM

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG MD RU TJ TM AT BE BG CH CY DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007052913

Country of ref document: US

Ref document number: 10573301

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020067005703

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020067005703

Country of ref document: KR

122 Ep: pct application non-entry in european phase
WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10573301

Country of ref document: US