WO2005022267A1 - ポジ型感光性組成物用現像液 - Google Patents

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WO2005022267A1
WO2005022267A1 PCT/JP2004/012528 JP2004012528W WO2005022267A1 WO 2005022267 A1 WO2005022267 A1 WO 2005022267A1 JP 2004012528 W JP2004012528 W JP 2004012528W WO 2005022267 A1 WO2005022267 A1 WO 2005022267A1
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developer
photosensitive composition
hydroxide
positive photosensitive
development
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Tsutomu Sato
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Think Laboratory Co., Ltd.
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor

Definitions

  • the present invention relates to a developer for a positive photosensitive composition, and more particularly, to an infrared wavelength range in which a sensitive portion becomes soluble in a developer in response to exposure to a laser in an infrared wavelength range.
  • the present invention relates to a developer used for developing a positive photosensitive composition having laser sensitivity.
  • a positive photosensitive composition having near-infrared wavelength region laser sensitivity in which the sensitive portion becomes soluble in a developing solution in response to exposure to a laser in the near infrared wavelength region
  • This type of positive photosensitive composition cannot be developed unless it is a strong alkaline developer having a pH of about 13 or more.
  • Patent Documents 7 and 8 and the like disclose a developer for a positive photosensitive composition.
  • these developing solutions are for lithographic printing plates, and when they were diverted for gravure printing and tested, when one roll was developed, it quickly deteriorated. Can not be done at all.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-26826
  • Patent Document 2 JP-A-10-161304
  • Patent Document 3 JP-A-10-90881
  • Patent Document 4 JP-A-11-231515
  • Patent Document 5 JP-A-2003-337409
  • Patent Document 6 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-102062
  • Patent Document 7 JP-A-8-23447
  • Patent Document 8 JP-A-61-167948
  • the present invention has been made in view of the above points, and has a development processing capability capable of withstanding multiple uses, has a small fluctuation in pH value over a long period of time, and has excellent durability.
  • a plate roll for gravure printing at least 100 rolls, preferably about 300 to 400 rolls, have a developing capacity capable of sufficiently developing, and a developing solution with extremely small deterioration in processing capacity with time.
  • An object of the present invention is to provide a developer for a positive-type photosensitive composition that requires less replacement.
  • the developer for a positive photosensitive composition of the present invention comprises (A) quaternary ammonium hydroxide, and (B) potassium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate and hexamethalic acid. It is characterized by comprising an alkaline aqueous solution containing at least one selected from the group consisting of sodium.
  • the developer of the present invention preferably further contains (C) trisodium phosphate. Further, the developer of the present invention preferably further contains (D) a surfactant. Further, the developer of the present invention preferably further contains (E) a development accelerator.
  • the present invention has a developing capacity capable of withstanding many uses, has a small variation in PH value over a long period of time, has excellent durability, and is particularly suitable for developing a gravure printing plate.
  • a developer for a positive photosensitive composition When the developer for a positive photosensitive composition of the present invention is applied to a plate roll for gravure printing, the pH value is stably maintained at about 13 or more even when 300 or more rolls are treated. Since the pattern can be cut well in time and good development can be realized, and the deterioration of the processing ability with time is extremely small, the development ability is lost when the development is performed after a few days from a few days to one week. Has the enormous effect of eliminating the need to drain all the developer in the development tank and replace it with a new solution.
  • the developer for a positive photosensitive composition of the present invention When the developer for a positive photosensitive composition of the present invention is applied to a plate roll for gravure printing, the pH value is stably maintained at about 13 or more even when 300 or more rolls are treated.
  • the developer for a positive photosensitive composition of the present invention comprises at least one selected from the group consisting of (A) quaternary ammonium hydroxide, and (B) potassium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate and sodium hexametaphosphate. It is composed of an alkaline aqueous solution containing at least one kind. More preferably, the developing solution of the present invention has a pH in the range of 9.1 to 13.5.
  • the above-mentioned quaternary ammonium hydroxide (A) is a main material for performing alkaline development while keeping the developer alkaline.
  • the fourth ammonium hydroxide those represented by the following formula (1) are preferred.
  • tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylhydroxide Suitable examples include tetraalkylammonium hydroxide such as ammonium, benzyltrimethylammonium hydroxide, and benzyltriethylammonium hydroxide.
  • R 1 to R 4 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group or a phenylmethyl group.
  • These quaternary ammonium hydroxides can be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the quaternary ammonium hydroxide (A) may be appropriately selected according to the positive photosensitive composition to be applied, the developing conditions, and the like, but is preferably 0.01 to 5% by weight based on the developer. It is more preferable to add 0.01 to 3% by weight.
  • the at least one kind (B) selected from the group consisting of potassium pyrophosphate, sodium tripolyphosphate and sodium hexametaphosphate contains carbonic acid that enters or is generated in the developer. It absorbs gas and has a buffering action to prevent carbon dioxide gas from lowering the pH value of the developer.
  • the blending ratio of the component (B) is not particularly limited, but is preferably 0.01-5 wt% with respect to the developer, and more preferably 0.05-2 wt%.
  • the developer of the present invention further contains (C) trisodium phosphate.
  • the trisodium phosphate (C) also has a buffering action for preventing a decrease in pH value.
  • the mixing ratio of the component (C) is not particularly limited, but in order to enhance the buffering action, the mixing ratio (weight ratio) of the component): component (C) is set to 1: 0.1-11, preferably 1: 0. 2-0. 5 is appropriate
  • the developer of the present invention further contains (D) a surfactant.
  • surfactant (D) functions so that the developing solution becomes active and permeates, and dissolves the photosensitive film in the exposed portion.
  • surfactant (D) known surfactants such as anionic, cationic, nonionic and zwitterionic can be widely used. Specifically, sodium sulfonate fatty acid estenole sodium, sodium linear alkyl benzene sulfonate, sodium sodium alkyl sulfate, sodium alkyl ether sulfate, sodium ⁇ -olefin sulfonate, sodium alkyl sulfonate, sucrose fatty acid ester, Sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, fatty acid alkanol amide, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, sodium alkylamino fatty acid, alkyl betaine, alkyl amine oxide, alkyl trimethyl ammonium
  • Preferable examples include a di
  • the developer of the present invention further contains ( ⁇ ) a development accelerator.
  • the development accelerator has a function of not leaving a development residue.
  • Examples of development accelerators include, for example, normal propanol, isopropanol, butanol, isoamyl alcohol, benzyl alcohol, dimethyl sulfoxide, ⁇ _methylpyrrolidone, ethylene glycol phenyl ether, ethylene glycol benzobenzene, cyclohexane, and the like.
  • These development accelerators can be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of (D) is not particularly limited, but is preferably 0.110% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, based on the developer.
  • the developer of the present invention is applied to the development of a positive photosensitive composition.
  • the positive photosensitive composition is not particularly limited, and a known composition can be widely used.
  • the photosensitive part is exposed to a laser beam having a wavelength of 650-1,300, preferably 700,100 nm, and the sensitive part is alkali-sensitive. It is suitably used for an alkali-soluble positive photosensitive composition having laser sensitivity in an infrared wavelength region that becomes soluble in a developer.
  • a composition comprising, as essential components, an alkali-soluble polymer substance and a photothermal conversion substance that absorbs light from an image exposure light source and converts it into heat. Examples thereof include those described in Patent Literature 1-16 and those described in PCT / JP2004 / 7272 and PCT / JP2004 / 9007, which were previously filed by the present inventors.
  • alkali-soluble polymer substance examples include an alkali-soluble organic polymer substance having a phenolic hydroxyl group, and an alkali-soluble organic polymer substance having a -COOR (R is a hydrogen atom or a monovalent organic group) group. (Hereinafter, referred to as a carboxyl group-containing organic polymer substance).
  • Alkali-soluble organic polymer is the main component of resist formation and is a binder resin that has low adhesion to copper plating surface or copper sulfate plating surface, and the main chain or side chain of the molecule is cut by heat. As a result, it becomes a small molecule with higher alkali solubility, and partly abrasions.
  • Examples of the organic polymer substance having a phenolic hydroxyl group include a novolak resin, a resole resin, a polybutylphenol resin, and an acrylic acid derivative having a phenolic hydroxyl group as described in Patent Document 36. Polymers and the like can be mentioned, and a novolak resin or a polybutylphenol resin is particularly preferable.
  • the novolak resin is a resin obtained by polycondensing at least one kind of phenols with at least one kind of aldehydes or ketones under an acidic catalyst
  • the resol resin is a resin obtained by polycondensation of the novolak resin. Polycondensation is performed in the same manner except that an alkali catalyst is used in place of the acid catalyst. It is a combined resin.
  • Novolak resins and resole resins include, among others, phenol, o-thalesol, m-cresol, p_cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol nore, resorcinol, or phenols mixed with these, and formanol Polycondensates with aldehyde, acetate aldehyde, or propionaldehyde are preferred.
  • the novolak resin and the resole resin preferably have a weight average molecular weight (MW) of 1,500 to 150,000 in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography.
  • polybutylphenol resin examples include a resin obtained by polymerizing hydroxystyrenes alone or in combination of two or more in the presence of a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator. Hydroxystyrene polymers having a C14 alkyl group as a substituent on the benzene ring and hydroxystyrenes having an unsubstituted benzene ring are preferred.
  • Examples of the carboxyl group-containing organic polymer substance include a carboxyl group-containing polymer substance described in PCT / JP2004 / 9007, such as a carboxyl group and / or a carboxyl group.
  • maleic acid polymer, (meth) acrylic acid polymer, styrene / maleic acid copolymer and derivatives thereof are listed as more preferable examples.
  • a styrene / maleic acid-based copolymer obtained by reacting a compound having a hydroxyl group is particularly preferred.
  • alkali-soluble polymer substances can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the alkali-soluble organic polymer in the positive photosensitive composition is preferably 2-98% by weight, more preferably 30-90% by weight.
  • light-to-heat conversion material known light-to-heat conversion materials can be widely used.
  • a part or the whole of an infrared region having a wavelength range of 650 to 1300 nm is used.
  • These light-to-heat conversion materials are involved in alkali-soluble, low-molecular abrasion by thermal cleavage of the molecules of the alkali-soluble organic high-molecular substance.
  • Specific examples thereof include, for example, quinoline (so-called cyanine), indole (so-called indocyanine), benzothiazole (so-called thiocyanine), and iminocyclohexagene (so-called polymethine).
  • quinoline, indole, benzothiazole, iminocyclohexagen, pyrylium, and thiapyrylium are preferable.
  • photothermal conversion materials can be used alone or in combination of two or more.
  • the content ratio of the photothermal conversion substance in the positive photosensitive composition is preferably 2 to 60% by weight, more preferably 350% by weight.
  • the positive photosensitive composition contains various additives such as an adhesion improver, a dissolution inhibitor, a photoacid generator, a dye, a sensitizer, a development accelerator, and a coating improver.
  • the adhesion modifier is a vinylpyrrolidone / Butyl acetate copolymer, a vinylpyrrolidone / dimethylaminoethyl methacrylate copolymer, a vinylpyrrolidone / Bull force prolatatam / dimethylaminoethyl methacrylate copolymer, a polyacetate, a polybierptyler nore, a polyvinyl formal, It is preferably at least one selected from the group consisting of terpene phenol resins, alkyl phenol resins, melamine / formaldehyde resins, and ketone resins.
  • the positive-type photosensitive composition is usually used as a solution in which the above components are dissolved in a solvent such as a cellosolve-based solvent or a propylene glycol-based solvent.
  • a solvent such as a cellosolve-based solvent or a propylene glycol-based solvent.
  • the ratio of the solvent to be used is usually in the range of about 110 to 20 times by weight based on the total solid content of the photosensitive composition.
  • the developer of the present invention is preferably prepared by preparing a stock solution of the developer in which the concentration of each component is increased, and diluting with water before use.
  • the method of using the developing solution of the present invention is not particularly limited.
  • the developing solution is mixed with water to form a bath, and the positive photosensitive composition is coated on the surface of a support (for example, in the case of gravure printing, for gravure printing).
  • the laser in the near-infrared wavelength region is flashed and irradiated to expose a positive latent image. Therefore, it is preferable to perform development.
  • the developing method is not particularly limited, and a known method is employed.
  • the temperature is usually about 15 to 45 ° C, preferably 22 to 45 ° C, by immersion development, spray development, brush development, ultrasonic development and the like. Perform at 32 ° C.
  • the positive photosensitive composition As a method for applying the positive photosensitive composition to the surface of the support, kiss coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, curtain coating, or the like may be used. it can.
  • the coating amount is preferably in the range of 16 ⁇ m.
  • a plate-making roll to a photosensitive film coating device (manufactured by Sink 'Laboratory Co., Ltd.) provided in a coating room maintained at a humidity of 40% or less, apply a positive photosensitive composition, and then apply the temperature of 130 ° C.
  • a photosensitive film coating device manufactured by Sink 'Laboratory Co., Ltd.
  • the residual solvent is 2% or less and a film thickness of 2-3 ⁇
  • irradiate a laser beam with a wavelength of 830 nm using a laser exposure device After exposure, a positive latent image was written to form a test roll.
  • a positive photosensitive composition 100 parts by weight of a photosensitive solution A [PR—NMD_100 (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., novolak resin), 1 part by weight of a cyanine dye, 5 parts by weight of vinylpyrrolidone Z vinyl acetate copolymer, TrisP -PA (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., dissolution inhibitor) 5 parts by weight, propylene glycol monomethyl ether (PM) 800 parts by weight, isopropyl alcohol (IPA) 800 parts by weight, methyl ethyl ketone (MEK) 600 parts by weight] was used.
  • PR—NMD_100 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., novolak resin
  • a cyanine dye 5 parts by weight of vinylpyrrolidone Z vinyl acetate copolymer
  • TrisP -PA manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., dissolution inhibitor
  • PM propylene glycol mono
  • a developer stock solution having the composition shown in Table 1 was prepared, and the developer stock solution was diluted with water in a developing tank (water to stock solution ratio, 3: 1) to obtain a developer solution.
  • the pH of the developer was in the range of 12.9-13.3.
  • the test roll was set on the developing device and development was performed for 50 seconds, in any of Examples 18 to 18, there was no residue in the image area (the area from which the resist was removed) on the resist screen, and the pattern Good development with good cutting performance was realized.
  • the developer of Example 18 had a pH value of 12.9 or more even after processing 600 rolls. And maintain the pattern in a short time Good and good development was realized.
  • the deterioration with time of processing capacity is extremely small
  • the developing ability was good even after 2 days to 1 week.
  • Trisodium phosphate Na PO-12H O
  • Example 2 The development was performed in the same manner as in Example 1 except that a developer stock solution containing the compound shown in Table 2 was used instead of TEA-OH as the quaternary ammonium hydroxide (A).
  • a developer stock solution containing the compound shown in Table 2 was used instead of TEA-OH as the quaternary ammonium hydroxide (A).
  • TEA-OH Tetraethylammonium hydroxide
  • TMA-OH Tetramethylammonium hydroxide
  • BETEA-OH Benzyl triethylammonium hydroxide
  • BTMA-OH Benzyl trimethyl ammonium hydroxide
  • TBA-OH Tetrabutylammonium hydroxide
  • TPA-OH Tetrapropylammonium hydroxide
  • Example 2 Development was carried out in the same manner as in Example 1 by using a photosensitive solution B in which the novolak resin in the photosensitive solution A was changed to a partially esterified product of styrene Z anhydride copolymer with butyl cellulose as a positive photosensitive composition.
  • the pH of the developer was 9.5.
  • the developer of Example 20 had very good developability and stability over time, and was able to develop 600 rolls.

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Abstract

　多数回の使用に耐えうる現像処理能力を有するとともに、長期間にわたりｐＨ値の変動が小さく耐久性に優れ、特に、グラビア印刷用被製版ロールに実用することができるようにロール１００本以上、好ましくは３００～４００本位は十分に現像できる現像能力を有し、且つ、処理能力の経時劣化が極めて小さく、現像液を交換する回数が少ないポジ型感光性組成物用現像液を提供する。（Ａ）水酸化第四アンモニウム、及び（Ｂ）ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム及びヘキサメタリン酸ナトリウムからなる群から選択される少なくとも１種、を含有するアルカリ性水溶液からなる。

Description

明 細 書
ポジ型感光性組成物用現像液
技術分野
[0001] 本発明は、ポジ型感光性組成物用現像液に関し、より詳しくは、赤外波長域のレー ザ一に露光感応して該感応部が現像液に可溶になる赤外波長域レーザー感応性を 有するポジ型感光性組成物の現像に用いられる現像液に関する。
^景技術
[0002] 従来、近赤外波長域のレーザーに露光感応して該感応部が現像液に可溶になる 近赤外波長域レーザー感応性を有するポジ型感光性組成物が知られている（例え ば、特許文献 1一 6等参照。）。この種のポジ型感光性組成物は、 pHが約 13以上の 強アルカリ現像液でないと現像不能である。特許文献 7及び 8等は、ポジ型感光性組 成物のための現像液を開示している。し力しながら、これらの現像液は平版印刷版用 であり、グラビア印刷用に転用してテストしたところ、ロール一本を現像すると、たちま ち劣化してしまレ、、二本目以降の現像が全く出来なかった。
[0003] グラビア印刷用に実用するためには、少なくとも 100本位のロールを現像できる能 力を有し、かつ、処理能力の経時劣化が極めて小さぐ 2、 3日力も一週間の日数を 経て現像したときに現像能力が消失して現像ができず現像タンク内の現像液を全て 排出して建浴をやり直すという惧れがないものが望ましい。
特許文献 1：特開平 10 - 26826号公報
特許文献 2 :特開平 10 - 161304号公報
特許文献 3：特開平 10 - 90881号公報
特許文献 4 :特開平 11一 231515号公報
特許文献 5：特開 2003 - 337409号公報
特許文献 6 :特開 2004— 102062号公報
特許文献 7：特開平 8 - 23447号公報
特許文献 8：特開昭 61 - 167948号公報
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0004] 本発明は、上記の点を鑑みてなされたものであり、多数回の使用に耐えうる現像処 理能力を有するとともに、長期間にわたり pH値の変動が小さく耐久性に優れ、特に、 グラビア印刷用被製版ロールに実用することができるようにロール 100本以上、好ま しくは 300 400本位は十分に現像できる現像能力を有し、且つ、処理能力の経時 劣化が極めて小さぐ現像液を交換する回数が少ないポジ型感光性組成物用現像 液を提供することを目的としている。
課題を解決するための手段
[0005] 上記課題を解決するために、本発明のポジ型感光性組成物用現像液は、（A)水 酸化第四アンモニゥム、及び (B)ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム及びへキ サメタリン酸ナトリウムからなる群から選択される少なくとも 1種、を含有するアルカリ性 水溶液からなることを特徴とする。
[0006] 本発明の現像液は、（C)リン酸三ナトリウムをさらに含有することが好ましい。また、 本発明の現像液は、 （D)界面活性剤をさらに含有することが好ましい。さらに、本発 明の現像液は、 (E)現像促進剤をさらに含有することが好適である。
[0007] 前記水酸化第四アンモニゥム (A) 、水酸化テトラメチルアンモニゥム、水酸化テト ラエチルアンモニゥム、水酸化テトラプロピルアンモニゥム、水酸化テトラプチルアン モニゥム、水酸化べンジルトリメチルアンモニゥム及び水酸化べンジルトリェチルアン モニゥムからなる群から選択される少なくとも 1種であることが好ましい。
発明の効果
[0008] 本発明によれば、多数回の使用に耐えうる現像処理能力を有するとともに、長期間 にわたり PH値の変動が小さく耐久性に優れ、特にグラビア印刷版の現像に好適に用 レ、られるポジ型感光性組成物用現像液を提供することができる。本発明のポジ型感 光性組成物用現像液は、グラビア印刷用被製版ロールに適用した場合、ロールを 30 0本以上処理しても、 pH値が約 13以上を安定して維持し短時間にパターンの切れ が良く良好な現像が実現でき、更に、処理能力の経時劣化が極めて小さいので、 2、 3日から一週間の日数を経て現像したときに現像能力が消失して現像ができず現像 タンク内の現像液を全て排出し新液に交換する必要がないという甚大な効果を奏す る。
発明を実施するための最良の形態
[0009] 以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示される もので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでも ない。
[0010] 本発明のポジ型感光性組成物用現像液は、（A)水酸化第四アンモニゥム、及び（ B)ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム及びへキサメタリン酸ナトリウムからなる 群から選択される少なくとも 1種、を含有するアルカリ性水溶液からなる。本発明の現 像液は、 pHが 9. 1一 13. 5の範囲にあることがより好適である。
[0011] 前記水酸化第四アンモニゥム (A)は、現像液をアルカリ性に保ちアルカリ現像を行 う主たる材料である。水酸化第 4アンモニゥムとしては、下記式（1)で示されるものが 好ましぐ例えば、水酸化テトラメチルアンモニゥム、水酸化テトラエチルアンモニゥム 、水酸化テトラプロピルアンモニゥム、水酸化テトラプチルアンモニゥム、水酸化ベン ジルトリメチルアンモニゥム及び水酸化べンジルトリェチルアンモニゥム等の水酸化テ トラアルキルアンモニゥムが好適な例として挙げられる。
[0012] [化 1]
R1
-IP- ㊀ OH ( 1 )
[0013] (式 1中、 R1— R4はそれぞれ独立して置換又は非置換のアルキル基を示し、メチル基 、ェチル基、プロピル基、ブチル基又はフエニルメチル基が好ましい。 )
[0014] これら水酸化第四アンモニゥムは、 1種又は 2種以上組み合わせて使用することが できる。水酸化第四アンモニゥム (A)の配合割合は、適用されるポジ型感光性組成 物や現像条件等に応じて適宜選択すればよいが、現像液に対して 0. 01— 5重量％ 配合することが好ましぐ 0. 01— 3重量％配合することがより好ましい。
[0015] 前記ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム及びへキサメタリン酸ナトリウムからな る群から選択される少なくとも 1種 (B)は、現像液中に入ってくるか又は発生する炭酸 ガスを吸収して、炭酸ガスによる現像液の pH値低下を防止する緩衝作用を有する。 前記（B)の配合割合は、特に限定されないが、現像液に対して 0. 01— 5重量％配 合することが好ましぐ 0. 05— 2重量％配合することがより好ましい。
[0016] 本発明の現像液に、（C)リン酸三ナトリウムをさらに配合することが好ましい。前記リ ン酸三ナトリウム（C)も pH値低下を防止する緩衝作用を有するものである。前記（C) の配合割合は、特に限定されないが、緩衝作用を強めるために、成分 ）：成分 (C) の配合比（重量比）を、 1 : 0. 1一 1、好ましくは 1 : 0. 2-0. 5にすることが適切である
[0017] 本発明の現像液に、（D)界面活性剤をさらに配合することが好ましい。界面活性剤
(D)は、現像液が活性を示し浸透していき露光部分の感光膜の溶解を進行させるよ うに機能する。界面活性剤 (D)としては、陰イオン系'陽イオン系'非イオン系'両ィォ ン系等の公知の界面活性剤を広く使用可能できる。具体的には、 ひ一スルホ脂肪酸 エステノレナトリウム、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキル硫酸エス テノレナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルナトリウム、 α—ォレフインスルホン酸 ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム、しょ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸 エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールァマイ ド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフエニルエー テル、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウム、アルキルべタイン、アルキルアミンォキシド、ァ ルキルトリメチルアンモニゥム塩、ジアルキルジメチルアンモニゥム塩等が好適な例と して挙げられる。これら界面活性剤は、 1種又は 2種以上組み合わせて使用すること ができる。前記（D)の配合割合は特に限定されないが、現像液に対して 0. 1- 1. 2 重量％が好ましぐ 0. 2-1. 0重量％がより好ましい。
[0018] 本発明の現像液に、（Ε)現像促進剤をさらに配合することが好適である。現像促進 剤 ）は、現像残渣を残さない機能を有する。現像促進剤としては、例えば、ノルマ ルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソアミルアルコール、ベンジルアル コール、ジメチルスルホォキシド、 Ν_メチルピロリドン、エチレングリコールフエニルェ ーテノレ、エチレングリコーノレべンジノレエーテノレ、シクロへキサン、シクロへキサノーノレ 、 Ν—ベンジルエタノールァミン、ァニシルアルコール、ジメチルベンジルアルコール、 N—フエニルエタノールァミン、プロピレングリコールモノフエニルエーテル、トリプロピ レングリコールモノメチルエーテル、及びフェニールグリコール等が挙げられる。これ ら現像促進剤は、 1種又は 2種以上組み合わせて使用することができる。前記（D)の 配合割合は特に限定されないが、現像液に対して 0. 1 10重量％が好ましぐ 0. 1 一 5重量％がより好ましい。
[0019] 本発明の現像剤は、ポジ型感光性組成物の現像に適用されるものである。ポジ型 感光性組成物としては、特に限定されず公知のものを広く使用可能である力 波長 6 50—1 , 300、好ましくは 700 1， lOOnmのレーザー光に露光感応して該感応部 がアルカリ現像液に可溶になる赤外波長域レーザー感応性を有するアルカリ可溶性 のポジ型感光性組成物に好適に用いられる。前記ポジ型感光性組成物としては、具 体的には、アルカリ可溶性高分子物質、及び画像露光光源の光を吸収して熱に変 換する光熱変換物質、を必須成分として含有してなる組成物が挙げられ、例えば、 特許文献 1一 6に記載のものや、本発明者が先に出願した PCT/JP2004/7272 号及び PCT/JP2004/9007号に記載のもの等が挙げられる。
[0020] 前記アルカリ可溶性高分子物質としては、フエノール性水酸基を有するアルカリ可 溶性有機高分子物質や、 -COOR (Rは水素原子又は 1価の有機基)基を有するァ ルカリ可溶性有機高分子物質 (以下、カルボキシル基含有有機高分子物質と称する 。）が好ましい。アルカリ可溶性有機高分子物質は、レジスト形成の主成分であり、銅 メツキ面又は硫酸銅メツキ面に対して低い密着性を有するバインダー樹脂であり、熱 により分子の主鎖又は側鎖の部分が切断されてアルカリ可溶性が一層高まる低分子 になり、一部はアブレーシヨンする。
[0021] 前記フエノール性水酸基を有する有機高分子物質としては、例えば、特許文献 3 6に記載されているようなノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビュルフエノール樹脂、 フエノール性水酸基を有するアクリル酸誘導体の共重合体等が挙げられ、特に、ノボ ラック樹脂、又はポリビュルフエノール樹脂が好ましい。
[0022] ノボラック樹脂は、フエノール類の少なくとも 1種を、酸性触媒下でアルデヒド類、又 は、ケトン類の少なくとも 1種と重縮合させた樹脂であり、レゾール樹脂は、ノボラック 樹脂の重縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外は同様にして重縮 合させた樹脂である。ノボラック樹脂及びレゾール樹脂としては、特に、フエノール、 o —タレゾール、 m—クレゾール、 p_クレゾール、 2, 5_キシレノール、 3, 5—キシレノー ノレ、レゾルシノール、又はこれらの混合フエノール類と、ホルムァノレデヒド、ァセトァノレ デヒド、又はプロピオンアルデヒドとの重縮合体が好ましい。該ノボラック樹脂及びレ ゾール樹脂は、それぞれゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー測定によるポリスチ レン換算の重量平均分子量（MW)が、 1， 500—150, 000であるものが好ましい。
[0023] ポリビュルフエノール樹脂は、例えば、ヒドロキシスチレン類の単独または 2種以上 を、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂が挙 げられる。ベンゼン環に炭素数 1一 4のアルキル基を置換基として有するヒドロキシス チレン類の重合体や無置換のベンゼン環のヒドロキシスチレン類の重合体が好まし レ、。
[0024] 前記カルボキシル基含有有機高分子物質としては、例えば、 PCT/JP2004/90 07号に記載されてレ、るようなカルボキシノレ基含有高分子物質が挙げられ、カルボキ シル基及び/又はカルボン酸無水物基を少なくとも 1つ有する不飽和化合物（al)よ り得られる重合体、並びに前記不飽和化合物（al)及び該不飽和化合物と共重合可 能な化合物（a2)より得られる共重合体等が好ましい。具体的には、マレイン酸重合 体、（メタ）アクリル酸重合体、スチレン/マレイン酸系共重合体及びそれらの誘導体 力 Sより好適な例として挙げられ、スチレン/無水マレイン酸系共重合体に水酸基を有 する化合物を反応させて得られるスチレン/マレイン酸系共重合体が特に好ましい。
[0025] これらアルカリ可溶性高分子物質は 1種又は 2種以上組み合わせて使用することが できる。アルカリ可溶性有機高分子物質のポジ型感光性組成物における含有割合は 、 2— 98重量％であるのが好ましぐ 30 90重量％であるのが更に好ましい。
[0026] 前記光熱変換物質は、公知の光熱変換物質を広く使用可能であり、例えば、特許 文献 1一 6に記載されているような、波長域 650— 1300nmの赤外線領域の一部又 は全部に吸収帯を有し赤外線を吸収して熱に変換する有機又は無機の顔料や染料 、有機色素、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属硼化物等の光熱変換色素が挙 げられる。これら光熱変換物質は、前記アルカリ可溶性有機高分子物質の分子の熱 切断によるアルカリ可溶性の低分子化'アブレーシヨンに関与する。 [0027] 前記光熱変換物質としては、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等を含む複素環 等がポリメチン (一 CH = ) nで結合された、広義の所謂シァニン系色素が代表的なも のとして挙げられ、具体的には、例えば、キノリン系（所謂、シァニン系）、インドール 系（所謂、インドシァニン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシァニン系）、イミノシ クロへキサジェン系（所謂、ポリメチン系）、ピリリウム系、チアピリリウム系、スクァリリウ ム系、クロコニゥム系、ァズレニウム系等が挙げられ、中で、キノリン系、インドール系、 ベンゾチアゾール系、イミノシクロへキサジェン系、ピリリウム系、又はチアピリリウム系 が好ましい。
[0028] これら光熱変換物質は 1種又は 2種以上組み合わせて使用することができる。光熱 変換物質のポジ型感光性組成物における含有割合は、 2— 60重量％であるのが好 ましぐ 3 50重量％であるのが更に好ましい。
[0029] このポジ型感光性組成物は、密着性改良剤、溶解阻止剤、光酸発生剤、染料、増 感剤、現像促進剤、塗布性改良剤等の各種添加剤が含まれていることが好ましい。 前記密着性改質剤が、ビニルピロリドン/酢酸ビュルコポリマー、ビニルピロリドン/ ジメチルアミノエチルメタクリレートコポリマー、ビニルピロリドン/ビュル力プロラタタム /ジメチルアミノエチルメタクリレートコポリマー、ポリ酢酸ビエル、ポリビエルプチラー ノレ、ポリビニルホルマール、テルペンフエノール樹脂、アルキルフエノール樹脂、メラミ ン/ホルムアルデヒド樹脂、及びケトン樹脂からなる群から選択される少なくとも 1種 であることが好適である。
[0030] このポジ型感光性組成物は、通常、前記各成分をセロソルブ系溶媒、プロピレング リコール系溶媒等の溶媒に溶解した溶液として使用される。溶媒の使用割合は、感 光性組成物の固形分総量に対して、通常、重量比で 1一 20倍程度の範囲である。
[0031] 本発明の現像液は、各成分の濃度を高めた現像液の原液を製造し、使用前に水 で希釈して現像液とすることが好ましい。本発明の現像液の使用方法は特に限定さ れないが、現像液原液と水を混ぜて建浴して、ポジ型感光性組成物を支持体表面（ 例えば、グラビア印刷の場合、グラビア印刷用の被製版ロールの銅メツキ面又は硫酸 銅メツキ面）に塗布して感光膜を塗布形成した後、近赤外波長域のレーザを点滅照 射させ感光してポジ型の潜像を描き込んでから、現像を行なうことが好ましレ、。 [0032] 現像方法は特に限定されず、公知の方法が採用されるが、浸漬現像、スプレー現 像、ブラシ現像、超音波現像等により、通常、 15— 45°C程度の温度、好ましくは 22 一 32°Cで行う。
[0033] 支持体表面へのポジ型感光性組成物の塗布方法として、キスコート、ディップ塗布 、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、及 びカーテン塗布等を用いることができる。塗布量は 1一 6 μ mの範囲とすることが好ま しい。
実施例
[0034] 以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明する力 これらの実施例は例 示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
[0035] (実施例 1一 8)
湿度 40%以下に保たれたコーティング室に設備された感光膜塗布装置（ (株)シン ク 'ラボラトリー製）に被製版ロールを取付けてポジ型感光性組成物を塗布し、次いで 、 130°Cで乾燥させて残留溶剤が 2%以下になるように且つ 2— 3 μ ΐηの膜厚になる ようにポジ型感光膜を形成し、次いでレーザー露光装置により 830nmの波長のレー ザ一を点滅照射させ感光してポジ型の潜像を書き込み、被検ロールを作成した。な お、ポジ型感光性組成物として、感光液 A[PR— NMD_100 (住友ベークライト社製 、ノボラック樹脂） 100重量部、シァニン系色素 1重量部、ビュルピロリドン Z酢酸ビニ ルコポリマー 5重量部、 TrisP - PA (本州化学工業 (株)製、溶解阻止剤） 5重量部、 プロピレングリコールモノメチルエーテル（PM) 800重量部、イソプロピルアルコール (IPA) 800重量部、メチルェチルケトン（MEK) 600重量部]を用いた。
[0036] 表 1に示す組成の現像液原液を作製し、現像槽で前記現像液原液を水で希釈し（ 水対原液の比率、 3対 1)現像液とした。なお、現像液の pHは 12. 9— 13. 3の範囲 であった。現像装置に前記被検ロールをセットして、 50秒間現像を行ったところ、実 施例 1一 8のいずれも、レジスト画面の画線部（レジストを除去した部分）に残渣が無く 、パターンの切れが良い良好な現像が実現できた。その後、引き続き現像液を交換 せずにロール 600本の現像処理を行ったところ、実施例 1一 8の現像液は、ロールを 600本処理しても、 pH値が 12. 9以上を安定して維持し短時間にパターンの切れが 良く良好な現像が実現できた。また、処理能力の経時劣化が極めて小さぐ現像後、
2日から一週間の日数を経ても良好な現像能力を有していた。
[0037] [表 1]
Figure imgf000010_0001
[0038] 表 1における配合物質の配合量は重量％で示され、各成分は次の通りである。なお 、現像液の残りの成分は水である。
ΤΕΑ-ΟΗ：水酸化テトラエチルアンモニゥム
リン酸三ナトリウム： Na PO - 12H O
界面活性剤：脂肪酸アル力
現像促進剤：イソプロパノール
[0039] (実験例 1)
現像液原液の組成を表 1のように変更した以外は実施例 1と同様に現像を行ったと ころ、レジスト画面の画線部にやや残渣が見られた。又、処理本数は数本の処理能 力しか無ぐ現像した日の翌日には pH値の低下は見られないが処理能力を全く失つ ていた。
[0040] (実施例 9一 19)
水酸化第四アンモニゥム (A)として TEA-OHの換わりに表 2に示す化合物を配合 した現像液原液を用レ、た以外は実施例 1と同様に現像を行ったところ、実施例 1と同 様、現像性及び経時安定性が非常に良好であり、ロール 600本の現像が可能であつ た。
[0041] [表 2] 実 施 例 番 号
成分 (A)
9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19
TEA OH 2.6 1.7 1.3
TMA-OH 5.3 2.6 1.8 1.3
ΒΕΤΕΑ Η 5.3 1.8 1.3 2.6 1.7 1.3
BTMA OH 5.3 1.3 2.6 1.8 1.3
TBA OH 5.3 1.7 1.3
TPA-OH 5.3 1.3
[0042] 表 2における配合物質の配合量は重量％で示され、各成分は次の通りである。
TEA-OH：水酸化テトラエチルアンモニゥム
TMA-OH：水酸化テトラメチルアンモニゥム
BETEA-OH：水酸化べンジルトリェチルアンモニゥム
BTMA-OH：水酸化べンジルトリメチルアンモニゥム
TBA-OH：水酸化テトラプチルアンモユウム
TPA-OH：水酸化テトラプロピルアンモユウム
[0043] (実施例 20)
ポジ型感光性組成物として、感光液 A中のノボラック樹脂をスチレン Z無 酸共重合体のプチルセ口ソルブによる部分エステル化物に変更した感光液 Bを用い て、実施例 1と同様に現像を行った。なお、現像液の pHは 9. 5であった。実施例 20 の現像液は、実施例 1と同様、現像性及び経時安定性が非常に良好であり、ロール 600本の現像が可能であった。

Claims

請求の範囲
[1] (A)水酸化第四アンモニゥム、及び
(B)ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム及びへキサメタリン酸ナトリウムからな る群から選択される少なくとも 1種、
を含有するアルカリ性水溶液からなることを特徴とするポジ型感光性組成物用現像 液。
[2] (C)リン酸三ナトリウムをさらに含有することを特徴とする請求項 1記載の現像液。
[3] (D)界面活性剤をさらに含有することを特徴とする請求項 1又は 2記載の現像液。
[4] (E)現像促進剤をさらに含有することを特徴とする請求項 1一 3のいずれか 1項記 載の現像液。
[5] 前記水酸化第四アンモニゥム (A)力 水酸化テトラメチルアンモニゥム、水酸化テト ラエチルアンモニゥム、水酸化テトラプロピルアンモニゥム、水酸化テトラプチルアン モニゥム、水酸化べンジルトリメチルアンモニゥム及び水酸化べンジルトリェチルアン モニゥムからなる群から選択される少なくとも 1種であることを特徴とする請求項 1一 4 のレ、ずれか 1項記載の現像液。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011191734A (ja) * 2009-12-25 2011-09-29 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法
JP2014219657A (ja) * 2013-04-10 2014-11-20 信越化学工業株式会社 現像液及びこれを用いたパターン形成方法
TWI514092B (zh) * 2009-12-25 2015-12-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Microscope with concentrated developer

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008088076A1 (ja) * 2007-01-17 2008-07-24 Sony Corporation 現像液、および微細加工体の製造方法
CN101441422B (zh) * 2007-11-22 2011-04-27 乐凯集团第二胶片厂 热敏阳图ctp版用显影液
CN104054535A (zh) * 2014-05-14 2014-09-24 福建省烟草公司三明市公司 一种新型烤烟湿润育苗基质及其制备方法
KR101947517B1 (ko) * 2018-01-23 2019-02-13 영창케미칼 주식회사 Euv 광원용 감광성 포토레지스트 미세패턴 형성용 현상액 조성물

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07225483A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Konica Corp 感光性平版印刷版用現像剤
JPH09189995A (ja) * 1996-01-10 1997-07-22 Okamoto Kagaku Kogyo Kk 感光性組成物
JPH10301298A (ja) * 1997-02-28 1998-11-13 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版の現像液および現像方法
JPH11212274A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版用現像液の処理方法および処理装置
JPH11288102A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Kao Corp レジスト用現像液
JP2003195517A (ja) * 2001-12-14 2003-07-09 Shipley Co Llc フォトレジスト用現像液

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3086354B2 (ja) * 1993-03-30 2000-09-11 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液
US5538832A (en) * 1993-12-16 1996-07-23 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Developing solution for producing printed circuit boards and a process for producing printed circuit boards wherein the developing solution comprises a quaternary ammonium hydroxide and a quaternary ammonium carbonate
JPH09146228A (ja) * 1995-11-20 1997-06-06 Konica Corp 放射線画像形成方法
US6247856B1 (en) * 1998-01-22 2001-06-19 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Developing system of photosensitive resin plates and apparatus used therein
US6716569B2 (en) * 2000-07-07 2004-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Preparation method for lithographic printing plate
JP4123930B2 (ja) * 2002-12-24 2008-07-23 コニカミノルタホールディングス株式会社 現像液の濃縮物、及び現像補充液の濃縮物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07225483A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Konica Corp 感光性平版印刷版用現像剤
JPH09189995A (ja) * 1996-01-10 1997-07-22 Okamoto Kagaku Kogyo Kk 感光性組成物
JPH10301298A (ja) * 1997-02-28 1998-11-13 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版の現像液および現像方法
JPH11212274A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂版用現像液の処理方法および処理装置
JPH11288102A (ja) * 1998-04-01 1999-10-19 Kao Corp レジスト用現像液
JP2003195517A (ja) * 2001-12-14 2003-07-09 Shipley Co Llc フォトレジスト用現像液

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1662326A4 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011191734A (ja) * 2009-12-25 2011-09-29 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法
TWI514092B (zh) * 2009-12-25 2015-12-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Microscope with concentrated developer
US9291905B2 (en) 2009-12-25 2016-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developing solution for photolithography, method for forming resist pattern, and method and apparatus for producing developing solution for photolithography
JP2014219657A (ja) * 2013-04-10 2014-11-20 信越化学工業株式会社 現像液及びこれを用いたパターン形成方法

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