WO2004039137A1 - プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2004039137A1
WO2004039137A1 PCT/JP2003/012659 JP0312659W WO2004039137A1 WO 2004039137 A1 WO2004039137 A1 WO 2004039137A1 JP 0312659 W JP0312659 W JP 0312659W WO 2004039137 A1 WO2004039137 A1 WO 2004039137A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
copper foil
plasma display
display panel
shielding properties
black
Prior art date
Application number
PCT/JP2003/012659
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hideta Arai
Yosuke Kobayashi
Original Assignee
Nikko Materials Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikko Materials Co., Ltd. filed Critical Nikko Materials Co., Ltd.
Publication of WO2004039137A1 publication Critical patent/WO2004039137A1/ja

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0094—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
    • H05K9/0096—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent for television displays, e.g. plasma display panel
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating

Definitions

  • the present invention relates to a copper foil for a plasma display panel and a method for producing the same.
  • the present invention relates to a copper foil for a plasma display panel (PDP) having excellent shielding properties for effectively shielding electromagnetic waves, near infrared rays, stray light, external light, and the like, and a method for producing the same.
  • PDP plasma display panel
  • PDPs plasma display panels
  • This plasma display panel generates plasma by gas discharge, and the line spectrum in the ultraviolet region generated by the gas discharge excites the phosphor placed in the cell to generate light in the visible region. It has a function.
  • a shield layer made of copper foil is generally provided on the front surface of the panel.
  • this copper foil is formed into a fine linear network by etching, and forms a shield layer.
  • the upper surface of the copper shield layer is coated with a resin such as PET via an adhesive.
  • the copper foil which is the basis of the above-mentioned shield layer, has a metallic luster, and reflects light from outside the panel, deteriorating the contrast of the screen, and reflecting light generated from within the screen. There is a problem that the transmittance is reduced and the visibility of the display panel is deteriorated.
  • a copper foil shield layer which is effective for blocking leakage of electromagnetic waves and near-infrared ray spectrum.
  • a copper foil having a black surface coating is known, and is usually called a black-treated copper foil.
  • these copper foils are used to form circuits in electronic equipment, and are only required to have properties such as adhesion to resin and the ability to drill holes by laser light. Strict surface conditions such as smoothness and uniformity of the treated film were not required.
  • the blackened coating of the copper foil for plasma display panels has a uniform surface with no or very little streak unevenness, has good etching properties, and peels off due to powder falling. It is required that there is no blackening.
  • the shielding layer formed of copper foil has the function as a protective film of the plasma display panel, the function of preventing electromagnetic waves, the function of preventing near-infrared rays, the function of correcting color tone, the function of preventing stray light, and the function of blocking external light.
  • the above-mentioned properties of the blackened coating film are particularly required. In the past, it can be said that there was no copper foil for plasma display panels that satisfied these functions.
  • a black frame layer is formed on the periphery of one side of a glass substrate as a transparent substrate, and a PET (polyethylene terephthalate) film as a transparent film is formed on these sides.
  • a copper layer pattern which is a metal layer pattern, is formed on the PET film via an adhesive layer, and the copper layer pattern includes a peripheral portion of the PTE film.
  • a technology that is formed and blackened on both sides and all sides has a common electrode and a scanning electrode formed on the same surface.
  • a surface-discharge type plasma display panel and a plasma display module that generate a surface discharge between both electrodes see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • a filter device for increasing the transparency of a copper foil mesh filter is a method in which a porous copper foil is laminated on a transparent polymer film.
  • the copper foil is etched by a wet method, for example, a lattice-like pattern is formed, and a laminated body having a light-transmitting portion is produced, and the laminated body, a transparent support, and an antireflection film are combined to form an electromagnetic wave shield.
  • Ni or Ni alloy plating solution containing saccharin or a salt thereof as a brightener is used for a copper or copper alloy plate.
  • Ni plating is a technology that can provide Ni plating with high gloss and no swelling due to heating (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-219996).
  • An electroplating solution comprising an acidic aqueous solution containing a sulfonic acid and a stress reducing additive for imparting compressive stress to the electrodeposited layer (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • a plating solution containing nickel salt as a supply source, hydrazine as a reducing agent, and saccharin or a salt thereof or formalin is added (for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-117722 and 2001-214279). See). Disclosure of the invention
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to provide an excellent shield characteristic for effectively blocking electromagnetic waves, near-infrared rays, stray light, external light, etc.
  • PDP plasma display panels
  • An object of the present invention is to provide a copper foil and a method for producing the same. From the above, the present invention
  • a plasma excellent in shielding properties according to the above 1 or 2 characterized by being a black nickel plating layer containing zinc 500 to 20000 / x gZdm 2 and nickel 100 to 500 zg / dm 2.
  • Copper foil for display panel characterized by being a black nickel plating layer containing zinc 500 to 20000 / x gZdm 2 and nickel 100 to 500 zg / dm 2.
  • the copper foil for a plasma display panel having excellent shielding properties as described in any one of 1 to 5 above, further comprising a protection layer on the black nickel plating layer.
  • the present invention further provides:
  • Zinc 5 00 ⁇ 20000 gZdm 2 nickel 1 00-5 00 g Z can also above 8, characterized in dm 2 is a black nickel plating layer containing a plasma display panel having excellent shielding property according 9 Production method for copper foil
  • the black nickel plating layer has a shielding property that effectively blocks electromagnetic waves, near infrared rays, stray light, external light, and the like. Further, there is no uneven stripes observed on the surface of the black nickel plating layer, and powder falls off. It has an excellent feature that it has good etching properties.
  • peel strength 0.3 kg gcm or more, central gland average roughness Ra: 0.05 to 1.0 m, maximum height Rt: 0.5 to 3.0 im, ten-point average roughness Rz A copper foil for a plasma display panel having an excellent shielding property of 0.05 to 2.0 can be obtained.
  • the peel strength is less than 0.3 kg / cm
  • the adhesive strength with the film to be bonded for example, PET
  • the peel strength is preferably 0.3 kg / cm.
  • the black nickel plating layer a zinc 500 ⁇ 20 0 0 0 gZdm 2, containing nickel 1 00 ⁇ 500 gZdm 2.
  • the black nickel plating layer is sufficiently blackened, and a copper foil for a plasma display panel having excellent shielding properties can be obtained.
  • a sufficient blackening film is obtained that has a shield characteristic of effectively blocking electromagnetic waves, near infrared rays, stray light, external light, and the like.
  • a rolled copper foil of 5 to 35 ⁇ or an electrolytic copper foil can be used. Normally, rolled copper foil is used, but there is no particular problem in using electrolytic copper foil.
  • nickel sulfate 50 to 150 g / L, nickel ammonium sulfate 10 to 50 gZL, zinc sulfate 20 to 50 gZL, sodium thiocyanate 10 to 30 A plating bath containing gZL and sodium saccharin 0.05 to 3 gZL can be used.
  • saccharin As a brightener, it is assumed that it is used as a material that improves glossiness.
  • the second brightener when using a brightener, saccharin or the like is used as the first brightener, formalin, 1,4-butynediol, propargyl alcohol, etc. are used as the second brightener. It is intended to have the function of.
  • saccharin in the present invention does not impart such a function as a brightener. That is, in the present invention, it is used as a means for forming a blackened film that absorbs light.
  • the black nickel plating layer is made to function effectively to suppress powder dropping. Therefore, it is clearly different from the known use and function and action of saccharin. As shown in Examples and Comparative Examples described below, it is apparent that the peel strength is increased, and that the effect of effectively preventing powder falling can be obtained. The improvement of the characteristics of preventing the powder falling and increasing the peel strength is one of the great features of the present invention.
  • an anti-reflection treatment layer can be further formed thereon.
  • this heat-resistant treatment layer one containing chromium and / or zinc is used. There are no particular restrictions on the technique or treatment solution for the prevention treatment.
  • this anti-scratch treatment is based on the following: the blackening treatment film of the present invention has a shielding property of blocking electromagnetic waves, near-infrared rays, stray light, external light, etc .; There is almost no effect and the protection effect can be improved.
  • the plating treatment as described below can be applied to the plating treatment of the present invention. The following is a typical example. It should be noted that this protection process is only a preferred example, and the present invention is not limited to these examples.
  • the rolled copper foil with a thickness of 18 is treated with nickel sulfate (NiSO 4 ) 100 g / L and nickel ammonium sulfate ((NH 4 ) 2 Ni (S0 4) 2) 2 0 g / L, using a plated bath containing zinc sulfate (Z n S_ ⁇ 4) 37. 5 g / L, sodium Ji Ossian acid (Na S CN) 1 5 g ZL, pH: 6, temperature:. at room temperature at a current density from 0.5 to 2 of 5 AZ dm 2 conditions to form a black nickel plating layer.
  • the anode was a nickel anode.
  • electrolytic degreasing was performed using a common alkaline degreasing solution. Also, pickling, H 2 S_ ⁇ 4: Using the 1 00 g / L, 1 0 sec, were performed at room temperature.
  • the color tone AL was better than the reference value (18.5.00 or less), no streak unevenness occurred, and a suitable black nickel plating layer was formed. It satisfies the requirements for the equipped copper foil for plasma display panels.
  • the presence or absence of streak irregularities was determined by visual observation.
  • the powder drop is the result of applying a scotch tape to the plating surface and examining the tape for any powder attached when the tape was peeled off. If powder adhered, it was determined that powder had fallen. The same applies hereinafter.
  • Example 1 It was found that some measures should be taken for Example 1 when powder dusting is particularly important and it is required to stabilize the reduction of powder dusting. Although not shown in Table 1, since the current density is less than 1. OA / dm 2, not sufficient plating is formed, exceeding the color AL guard 8 5.00, sufficient blackening could not be obtained.
  • ⁇ Means that there is no unevenness or negligible.
  • the current density is 1.20 AZdm 2 which is a typical condition obtained from the above Example 1 with good color tone and no streak unevenness, and the condition is as follows: sodium saccharin Q.05 3 g / L A black nickel plating layer was similarly formed using a plating bath containing (the other conditions were the same as in Example 1). The results are shown in Tables 2 and 3.
  • the color tone AL showed a value better than the reference value, and no streak unevenness occurred. This also means that the addition of saccharin does not become a hindrance to preventing the occurrence of favorable color tone ⁇ L and uneven streaks.
  • ⁇ Means that there is no streak unevenness or it can be ignored.
  • ⁇ means no powder drop.
  • the same characteristic values as in Example 2 were obtained for the characteristic value of the film of the copper foil for a plasma display panel.
  • the anti-reflection treatment of the present invention can be applied to the blackening treatment film, which is capable of shielding electromagnetic waves, near-infrared rays, stray light, external light, etc .; It was found that the prevention effect could be increased without inhibiting the ′.
  • a black nickel plating layer was formed under the conditions of pH: 6, temperature: room temperature, and current density of 3.0 to 5.
  • OAZdm 2 A stainless steel anode was used as the anode.
  • electrolytic degreasing was performed using GN cleaner 87: 30 g / L under the same conditions as in Example 1, 15 AZdm2, 5 seconds, 40 ° C, and stainless steel anode.
  • pickling, H 2 S 0 4 Using the 1 0 0 gZL, 1 0 seconds, were carried out at room temperature. Table 4 shows the results.
  • the copper foil for a plasma display panel (PDP) of the present invention has excellent shielding properties for effectively blocking electromagnetic waves, near infrared rays, stray light, external light, and the like, and has a blackened coating film with even and uneven stripes. It has excellent effects such as low etching, good etching properties, no peeling due to powder falling off, and sufficient blackening. Also, it has a remarkable effect that copper foil for plasma display panel (PDP) can be manufactured stably.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Description

プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法 技術分野
本発明は、 電磁波、 近赤外線、 迷光、 外光等を効果的に遮新するシールド 特性に優れたプラズマディスプレーパネル （P D P ) 用銅箔及びその製造方 法に関する。
明 背景技術
最近、 大画面化が容易であり、 駆動スピ讕ードが速いという大きな特徴を持 つプラズマディスプレーパネル （P D P ) が各種のディスプレー機器に急速 に使用されるようになってきた。
このプラズマディスプレーパネルは、 気体放電によってプラズマを発生さ せ、 これによつて生ずる紫外線領域の線スペク トルにより、 セル内に設置し た蛍光体を励起させ、 可視領域の光を発生させるという構造と機能を持つも のである。
前記のように、 気体の放電によってプラズマを発生させた場合、 蛍光体に 利用される紫外線領域の線スぺクトルだけでなく、 近赤外線領域に至るまで の広い領域の波長の線スぺクトルを発生する。
プラズマディスプレーパネルから発生する上記の近赤外線領域の波長は、 光通信に用いられる波長に近いので、 互いに近くに位置すると誤作動を起す 問題があり、 またマイクロ波や超低周波などの電磁波の発生も問題となる。 このような電磁波や近赤外線領域の線スぺク トルの漏洩を遮断する目的 のために、 一般に銅箔からなるシールド層をパネルの前面に設けることが行 なわれている。 通常、 この銅箔はエッチングにより細かい線状の網状体に形 成され、 シールド層を構成している。 なお、 この銅のシールド層のさらに上 面には、 接着剤を介して P E T等の樹脂が被覆されている。 しかし、 上記のシールド層の基本となる銅箔は金属光沢を有するため、 パ ネル外部からの光を反射し、 画面のコントラストが悪くなり、 また画面内か ら発生する光を反射し、 光の透過率が低下して、 表示パネルの視認性が悪く なるという問題がある。
上記のような問題をから、 電磁波及び近赤外線領域の線スぺクトルの漏洩 遮断に有効である銅箔シールド層を黒化処理することがおこなわれている。 従来の銅箔には、 黒色の表面被膜を形成した銅箔が知られており、 通常黒 処理銅箔と云われている。 しかし、 これらの銅箔は電子機器内の回路形成に 使用されているもので、 主として樹脂との接着性やレーザー光による孔開け 性などの特性を持たせることが要求されるだけで、 黒化処理被膜の平滑性や 均一性等の厳密な表面状態を要求されることはなかった。
しかし、 プラズマディスプレーパネルの前面に現れる銅箔の特性は、 表示 パネルの視認性に直接影響を与えるものであり、 このような要求に満足でき る銅箔の開発が望まれている。
特に、 プラズマディスプレーパネル用銅箔の黒化処理被膜としては、 黒化 処理被膜の面が均一でスジむらの発生がないか又は極めて少ないこと、 エツ チング性が良好であること、 粉落ちによる剥離がないこと、 黒化が十分であ ることが要求される。
以上から、 銅箔から形成されるシールド層は、 プラズマディスプレーパネ ルの保護膜としての機能、 電磁波防止機能、 近赤外線防止機能、 色調補正機 能、 迷光防止機能、 外光遮断機能を持つと同時に、 黒化処理被膜の上記の性 状 '特性が特に要求されている。 従来は、 これらの機能を満足させるプラズ マディスプレーパネル用銅箔はなかったと言える。
従来の技術として、 透明基材であるガラス基板の、 一方の面上の周辺部に は黒枠層が形成され、 これらの面上には、 透明フィルムである P E T (ポリ エチレンテレフ夕レート） フィルムが第 1の粘着剤層を介して形成され、 P E Tフィルム上に接着剤層を介して金属層のパターンである銅層パターン が形成されており、 この銅層パターンは P T Eフィルムの周辺部を含んで形 成され、 かつ両面及び側面すベて黒化処理されている技術が （例えば、 特開 2 0 0 2 - 9 4 8 4号公報 1参照） 、 共通電極及び走査電極が同一面上に形 成され双方の電極間で面放電を発生させる面放電型プラズマディスプレー パネル、 プラズマディスプレーモジュールが （例えば、 特開 2 000— 89 692号公報参照） 、 PDPの前面に設ける光学フィル夕の漏洩電磁波遮断 のための銅箔メッシュフィル夕の透明度を上げたフィルタ装置が （例えば、 特開 20 0 1— 147 3 12号公報参照） 、 透明高分子フィルム上に、 多孔 性の銅箔をラミネートし、 その銅箔をウエッ ト法でエッチングして、 例えば 格子状のパターンを形成して、 光透過部分を形成した積層体を作製し、 その 積層体と透明支持体、 反射防止膜フィルムを組合せて電磁波シールドを作製 する技術が （例えば、 特開 200 1— 2 17 589号公報参照） 、 銅又は銅 合金板に、 サッカリン又は及びその塩を光沢剤として含む N iめっき液を用 いて N iめっきすると、 光沢度が高く、 加熱による膨れが発生しない N iめ つきを得ることができる技術が （例えば、 特開 2000— 2 1 9996号公 報参照） 、 ニッケル及びニッケル合金をニッケルアルカンスルホン酸及び圧 縮ストレスを電着層に付与するストレス低減用添加剤を含有する酸性水溶 液からなる電気めつき液が（例えば、特開平 1 1一 7 1 6 9 5号公報参照）、 金属供給源としてニッケル塩、 還元剤としてヒドラジンを用い、 サッカリン またはその塩またはホルマリンを添加しためっき液が （例えば、 特開 200 1 - 1 7 72 22号公報及び特開 200 1— 2 1427 9号公報参照） 記載 されている。 発明の開示
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、 その目的とす るところは、 電磁波、 近赤外線、 迷光、 外光等を効果的に遮断するシールド 特性に優れ、 かつ黒化処理被膜の面が均一でスジむらがないこと、 エツチン グ性が良好であること、 粉落ちによる剥離がないこと、 黒化が十分であるこ と等の特徴を持つプラズマディスプレーパネル （PD P) 用銅箔及びその製 造方法を提供することにある。 以上から、 本発明は
1. 色差計における AL=0：白、 AL =— 1 00 ：黒である場合において、 AL≤— 8 5. 0 0である黒色ニッケルめっき層を備えていることを特徴と するシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔
2. 色差計における AL=0：白、 AL =— 1 00：黒である場合において、 AL≤— 8 5. 00である黒色ニッケルめっき層を備えており、 該黒色ニッ ケルめっき層の粉落ちがないことを特徴とするシールド性に優れたプラズ マディスプレーパネル用銅箔
3. 亜鉛 5 0 0〜20000 /x gZdm2、 ニッケル 1 0 0〜 5 00 z g/ dm2を含有する黒色ニッケルめっき層であることを特徴とする上記 1又は 2記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔
4. ピール強度が 0. ·3 k g/cm以上であることを特徴とする上記 1〜3 のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅 箔
5. 銅箔が 5〜 3 5 の圧延銅箔又は電解銅箔であることを特徴とする上 記 1〜4のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパ ネル用銅箔
6. 黒色ニッケルめっき層の上にさらに防鲭処理層を備えていることを特徴 とする上記 1〜 5のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディス プレーパネル用銅箔
7. 防鑌処理層がクロム及び又は亜鉛を含有することを特徴とする上記 6記 載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔
を提供する。 また、 さらに本発明は、
8. 硫酸ニッケル 5 0~ 1 50 g/L、 硫酸ニッケルアンモン 1 0〜50 g ZL、 硫酸亜鉛 20〜 50 g/L、 チォシアン酸ナトリウム 1 0〜30 gZ L及びナトリウムサッカリン 0. 0 5〜3 gZLを含有するめつき浴を用レ 、 pH： 4〜7、 温度：室温 （20〜2 5 ° C) 、 電流密度 0. 5〜2. OA /dm2の条件で、 ステンレスアノード又はニッケルアノードを使用して、 色差計における Δΐ;= 0 : 白、 AL =— 1 00 :黒である場合において、 △ L≤- 8 5. 00である黒色ニッケルめっき層を形成することを特徴とする シールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造方法
9. 黒色ニッケルめっき層の粉落ちがないことを特徴とする上記 8記載のシ 一ルド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造方法
1 0. 亜鉛 5 00〜20000 gZdm2、 ニッケル 1 00〜5 00 g Z dm2を含有する黒色ニッケルめっき層であることを特徴とする上記 8又 は 9記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造 方法
1 1. ピール強度が 0. 3 k gZcm以上であることを特徴とする上記 8〜 1 0のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル 用銅箔の製造方法
1 2. 銅箔が 5〜3 5 tmの圧延銅箔又は電解銅箔であることを特徴とする 上記 8〜 1 1のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディスプレ 一パネル用銅箔の製造方法
1 3. 黒色ニッケルめっき層の上にさらに防鲭処理層を形成することを特徴 とする上記 8〜 1 2のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディ スプレーパネル用銅箔の製造方法
14. 防錡処理層がクロム及び又は亜鉛を含有することを特徴とする上記 1 3記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造方 法
を提供する。 発明の実施の形態
本発明のプラズマディスプレーパネル用銅箔は、 色差計における△ L= 0 : 白、 AL =— 1 00 :黒である場合において、 AL≤— 8 5. 00であ る黒色ニッケルめっき層を備えている。 この黒色化の条件は、 安定な黒色二 ッケルめっき層を銅箔に形成することによって初めて達成される。
すなわち、 この黒色ニッケルめっき層によって、電磁波、近赤外線、迷光、 外光等を効果的に遮断するシールド特性を有し、 さらに黒色ニッケルめっき 層表面に観察されるスジむらがなく、 粉落ちが発生せず、 エッチング性が良 好であるという優れた特徴を備える。
なお、 スジむらが存在すると、 P D Pシールド層に求められる特性にばら つきが生ずるので好ましくない。 また粉落ちが存在する処理では、 容易にこ すれが生じ、 特性にばらつきが生じてしまうので、 スジむら及び粉落ちが共 にないことが望ましい。
また、 ピール強度 0. 3 k gZcm以上、 中心腺平均粗さ R a : 0. 05 〜 1. 0 m、 最大高さ R t ： 0. 5〜 3. 0 im, 十点平均粗さ R z ： 0. 0 5〜2. 0 であるシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用 銅箔を得ることができる。
ピール強度 0. 3 k g/cm未満では、 貼り合わせるフィルム （例えば P ET) との接着性が低下し、 剥離するという理由から、 ピール強度 0. 3 k gZ cmが望ましい。
この黒色ニッケルめっき層は、 亜鉛 500〜 20 0 0 0 gZdm2、 二 ッケル 1 00〜 500 gZdm2を含有する。 これによつて、 黒色ニッケ ルめっき層の黒色化が十分となり、 シールド性に優れたプラズマディスプレ 一パネル用銅箔が得られる。 そして、 電磁波、 近赤外線、 迷光、 外光等を効 果的に遮断するシ一ルド特性を獲得する十分な黒化膜が得られる。
銅箔は、 5〜3 5 μπιの圧延銅箔又は電解銅箔を使用することができる。 通常圧延銅箔を使用するが、 電解銅箔を使用することに特に問題はない。 黒色ニッケルめっき層を形成するに際しては、 硫酸ニッケル 5 0〜 1 5 0 g/L, 硫酸ニッケルアンモン 1 0〜 5 0 gZL、 硫酸亜鉛 2 0〜 5 0 gZ L、 チォシアン酸ナトリウム 1 0〜 3 0 gZL及びナトリウムサッカリン 0. 0 5〜 3 gZLを含有するめつき浴を用いることができる。
このめつき浴を用い、 pH ： 4〜7、 温度：室温 （2 0〜2 5 ° C) 、 電 流密度 0. 5〜2. 0 A//dm2の条件で、 ステンレスアノード又はニッ ケルアノードを使用することにより、 プラズマディスプレーパネル用として 好適な黒色ニッケルめっき層を形成することができる。 ステンレスアノード を使用した場合、 めっき液寿命が短くなるので、 通常ニッケルアノードを使 用するのが望ましい。
一般に、 光沢剤としてサッカリンを用いることは公知である。 しかし、 こ の場合、 あくまでも光沢性を向上させるものとして用いられることを前提と している。
しかも、光沢剤の使用に際しては、第一光沢剤としてサッカリン等を用い、 第二光沢剤としてホルマリン、 1 , 4ブチンジオール、. プロパギルアルコー ル等を使用し、 これらの組合せにおいて、 光沢剤としての機能を持たせよう とするものである。
一般に、 第二光沢剤のみを使用した場合引張応力が作用し、 第一光沢剤の みを使用した場合圧縮応力が作用するが、 両者を同時に適量混合使用して、 応力減少効果を期待するものである。
しかし、 本発明においてサッカリンを用いることは、 このような光沢剤と しての機能を持たせるものではない。 すなわち、 本発明においては光を吸収 する黒化膜を形成する手段としての使用である。
したがって、 光沢性を保有させるため、 すなわち光沢剤としての使用とは 明らかに異なり、 従来技術に逆転する発想と言える。
さらに、 本発明においては、 後述する実施例に示すように、 黒色ニッケル めっき層の粉落ちを抑制するために有効に機能させるものである。 したがつ て、 公知のサッカリンの使用及び機能 ·作用とは明白に異なる。 後述する実施例と比較例に示す通り、 ピール強度が上昇し、 また粉落ちが 効果的に防止できるという効果が得られることが明らかである。 この粉落ち を防止し、 ピール強度を上昇させるという特性の向上は、 本発明の大きな特 徴の一つである。
黒色ニッケルめっき層を形成した後'、 その上にさらに防鲭処理層を形成す ることができる。 この防鲭処理層はクロム及び又は亜鉛を含有するものを使 用する。 防鲭処理の手法または処理液は特に制限されるものではない。
この防鐯処理は、 前記めつき処理の面上に、 プラズマディスプレーパネル 用銅箔に適用される銅箔としての特性を損なわないことが要求されるのは 当然であり、 本発明の防鲭処理はこれらの条件を十分に満たしている。 なお、 この防鲭処理は、本発明の黒化処理被膜の電磁波、近赤外線、迷光、 外光等を遮断するシールド特性、 耐スジむらの発生、 エッチング性、 耐粉落 ちによる剥離性には殆ど影響がなく、 防鲭効果を上げることができる。 本発明の防鑌処理は、 次のようなめっき処理が適用できる。 以下はその代 表例である。 なお、 この防鲭処理は好適な一例を示すのみであり、 本発明は これらの例に制限されない。
(クロム防鐯処理）
K2 C r 207 (N a2C r。07又は C r〇3) : 2〜 1 0 g/L
Figure imgf000009_0001
Z ηθ又は Z 11 S〇4 · 7 H20 ： 0. 1 0 g/L
p H： 3. 0〜 4. 0、 電解液温度 8 0 ° C
電流密度： 0. 0 5〜5A/dm2、 めっき時間： 5〜 3 0秒 実施例
次に、 実施例に基づいて説明する。 なお、 本実施例は好適な一例を示すも ので、 本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 したがって、 本 発明の技術思想に含まれる変形、 他の実施例又は態様は、 全て本発明に含ま れる。
なお、 本発明との対比のために、 後段に比較例を掲載した。 (実施例 1)
厚さ 1 8 の圧延銅箔を、 脱脂 ·水洗 ·酸洗 ·水洗を行なった後、 硫酸 ニッケル （N i S O4) 1 00 g/L、 硫酸ニッケルアンモン （ （NH4) 2 N i (S04) 2) 2 0 g/L、 硫酸亜鉛 （Z n S〇4) 37. 5 g/L、 チ オシアン酸ナトリウム （Na S CN) 1 5 g Z Lを含有するめつき浴を用い て、 pH : 6、 温度： 室温、 電流密度 0. 5〜2. 5 AZ dm2の条件で、 黒色ニッケルめっき層を形成した。 ァノードにはニッケルアノードを使用し た。
脱脂には、 一般的なアルカリ脱脂液を用い、 電解脱脂を行なった。 また、 酸洗は、 H2S〇4 ： 1 00 g/Lを使用し、 1 0 s e c、 室温で実施した。
この結果を表 1に示す。
表 1に示すように、 本発明の実施例では、 いずれも色調 ALが基準値より も良好 （一 8 5. 00以下） であり、 またスジむらは発生せず、 好適な黒色 ニッケルめっき層を備えたプラズマディスプレーパネル用銅箔の条件を満 たしている。
しかし、 これらの条件では、 粉落ちが発生するものがあった。 この粉落ち が発生したものについて、 さらに観察すると、 中には無視できるようなもの もあったが、 その条件は安定していなかった。
なお、スジむらは目視観察によって、その有無を判定した。また粉落ちは、 めっき面にスコッチテープを貼り、 これを剥がしたときに、 テープ側に付着 した粉の有無を調べた結果である。 粉が付着した場合に、 粉落ちがあつたと した。 以下、 同様である。
粉落ちを、 特に重要視し、 かつその粉落ち低減化を安定させることを求め る場合には、 実施例 1に対して何らかの対策が必要であることが分かった。 なお、 表 1には示していないが、 電流密度が 1. OA/ dm2未満では、 十分なめっきが形成されていないために、 色調 A Lがー 8 5. 00を超え、 十分な黒化が得られなかった。
また、 電流密度が 2. 0 A/dm2を超えるものについては、 スジむらの 発生が多くなり、 また色調も基準よりも低下して十分な黒化が得られなかつ た。 表 1
Figure imgf000011_0001
〇： スジむらがないか又は無視できる範囲のものを意味する。
X ：粉落ちが確認されたものを意味する。
(実施例 2)
上記実施例 1から得られた、 良好な色調とスジむらのない代表的な条件で ある、 電流密度 1. 20AZdm2 30秒間というめつきの条件で、 さら にナトリウムサッカリン Q. 0 5 3 g/Lを含有するめつき浴 （他は実施 例 1と同一の条件） を用い、 同様に黒色ニッケルめっき層を形成した。 この 結果を、 表 2及び表 3に示す。
表 2及び表 3に示す通り、 サッカリンの添加により、 色調 A Lがいずれも 基準値よりも良好な値を示し、 スジむらの発生もなかった。 これは、 サッカ リンの添加が良好な色調△ L及びスジむらの発生防止に阻害要因にならな いということでもある。
しかも、 粉落ちが無くなり、 ピール強度は 0. 3 3 k g/cm以上という 結果が得られ、 本発明の目的に最適な黒色ニッケルめっき層を備えたプラズ マディスプレーパネル用銅箔が得られた。 表 2
^料 サッカリン 電流密度 D k めつさ Z n N i a.
畨 (g/L) (A/dm2) 時間 gZdm2 g / dm2
5 0. 1 1. 2 30 7 968 2 1 7
6 0. 5 1. 2 3 0 847 2 2 1 9
7 1. 0 1. 2 30 1 6 1 28 209 表 3
Figure imgf000012_0001
〇： スジむらが無いか又は無視できる範囲のものを意味する。
〇：粉落ちが無いものを意味する。
(実施例 3)
実施例 2と同様の条件で、 黒色ニッケルめっき層を形成した後、 さらに C r 03 ： 2. 5 g/L、 Z n ： 0. 4 g/L、 N a 2 S O 4 ： l O g/Lを使 用し、 pH4. 8、 室温、 めっき時間： 1 0秒の条件で、 防鲭処理を実施し た。
この結果、 プラズマディスプレーパネル用銅箔の膜の特性値は、 実施例 2 と同様の結果が得られた。 これによつて、 本発明の防鐯処理は、 黒化処理被 膜の電磁波、 近赤外線、 迷光、 外光等を遮断するシールド特性、 耐スジむら の発生、 エッチング性、 耐粉落ちによる剥離性を阻害することなく、 防鲭効 ' 果を上げることができることが分かった。
(比較例 1 )
厚さ 1 8 の圧延銅箔を、 脱脂 ·水洗 ·酸洗 ·水洗を行なった後、 実施 例 1と同じ硫酸ニッケル （N i S 04) 1 00 gZL、 硫酸ニッケルアンモ ン （ （NH4) 2N i (SO4) 2) 20 g/L、 硫酸亜鉛 （Z n S〇4) 37. 5 g/L、 チォシアン酸ナトリゥム （N a S CN) 1 5 g/Lを含有するめ つき浴を用いて電気めつきを行なった。
この時の pH： 6、 温度： 室温、 電流密度 3. 0〜5. OAZdm2の条 件で、 黒色ニッケルめっき層を形成した。 アノードにはステンレスアノード を使用した。 脱脂には、 実施例 1と同様の条件である、 GNクリーナー 87 ： 30 g/ Lを使用し、 1 5 AZdm2、 5秒、 40 ° C、 ステンレスアノードを用い て電解脱脂を行なった。 また、 酸洗は、 H2S 04 ： 1 0 0 gZLを使用し、 1 0秒、 室温で実施した。 この結果を表 4に示す。
表 4に示すように、 比較例 1では、 いずれも色調 が基準値 （一 85. 00) よりも悪化しであり、 またスジむらが発生した。 しかも、 これらの条 件では、 粉落ちも多量に発生した。'
色調 が基準値 （— 85. 00 ) よりも悪化しているものは、 シールド 性が劣り、 プラズマディスプレーパネル用銅箔としては不適合である。
表 4
Figure imgf000013_0001
X ： スジむらが多量に発生。 発明の効果
本発明のプラズマディスプレーパネル （PDP) 用銅箔は、 電磁波、 近赤 外線、 迷光、 外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、 かつ黒化処理 被膜の面が均一でスジむらの発生が少なく、 エッチング性が良好であり、 粉 落ちによる剥離がなく、 黒化が十分である等の優れた効果を有する。 また、 プラズマディスプレーパネル （PDP) 用銅箔を安定して製造できるという 著しい効果を有する。

Claims

請 求 の 範 囲 1. 色差計における Δ L= 0 ： 白、 △ L =— 1 0 0 ：黒である場合におい て、 AL≤— 8 5. 00である黒色ニッケルめっき層を備えていることを特 徴とするシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔。
2. 色差計における△ L= 0 ： 白、 △ L =— 1 0 0 ：黒である場合におい て、 AL≤— 8 5. 0 0である黒色ニッケルめっき層を備えており、 該黒色 ニッケルめっき層の粉落ちがないことを特徴とするシールド性に優れたプ ラズマディスプレーパネル用銅箔。
3. 亜鉛 5 0 0〜 20000 g/dm2、 ニッケル 1 00〜 5 00 g /dm2を含有する黒色ニッケルめっき層であることを特徴とする請求の範 囲第 1項又は第 2項記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネ ル用銅箔。
4. ピール強度が 0. 3 k gZ cm以上であることを特徵とする請求の範 囲第 1項〜第 3項のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマディス プレーパネル用銅箔。
5. 銅箔が 5〜3 5 の圧延銅箔又は電解銅箔であることを特徴とする 請求の範囲第 1項〜第 4項のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズ マディスプレーパネル用銅箔。
6. 黒色ニッケルめっき層の上にさらに防鑌処理層を備えていることを特 徵とする請求の範囲第 1項〜第 5項のそれぞれに記載のシールド性に優れ たプラズマディスプレーパネル用銅箔。
7. 防鲭処理層がクロム及び又は亜鉛を含有することを特徴とする請求の 範囲第 6項記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔。
8. 硫酸ニッケル 50〜 150 gZL、 硫酸ニッケルアンモン 10〜 50 g/L、 硫酸亜鉛 20〜50 g/L、 チォシアン酸ナトリウム 10〜30 g ZL及びナトリウムサッカリン 0. 05〜3 g/Lを含有するめつき浴を用 レ 、 p H： 4〜 7、 温度：室温 （ 20〜 25 ° C) 、 電流密度 0. 5〜 2. 0 AZ dm2の条件で、 ステンレスアノード又はニッケルアノードを使用し て、色差計における AL = 0：白、 AL =— 100：黒である場合において、 Δ L≤- 85. 00である黒色ニッケルめっき層を形成することを特徴とす るシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造方法。
9. 黒色ニッケルめっき層の粉落ちがないことを特徴とする請求の範囲第 8項記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造 方法。
10. 亜鉛 500〜 20000 /2 g/dm2、 ニッケル 100〜500 g/ dm2を含有する黒色ニッケルめっき層であることを特徴とする請求の 範囲第 8項又は第 9項記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパ ネル用銅箔の製造方法。
1 1. ピール強度が 0. 3 k gZcm以上であることを特徴とする請求の 範囲第 8項〜第 10項のそれぞれに記載のシールド性に優れたプラズマデ イスプレーパネル用銅箔の製造方法。
12. 銅箔が 5〜 35 の圧延銅箔又は電解銅箔であることを特徴とす る請求の範第 8項〜第 1 1項のそれぞれに記載のシールド性に優れたブラ ズマディスプレーパネル用銅箔の製造方法。
13. 黒色ニッケルめっき層の上にさらに防鲭処理層を形成することを特 徴とする請求の範囲第 8項〜第 12項のそれぞれに記載のシールド性に優 れたプラズマディスプレーパネル用銅箔の製造方法。
14. 防鯖処理層がクロム及び又は亜鉛を含有することを特徴とする請求 の範囲第 1 3項記載のシールド性に優れたプラズマディスプレーパネル用 銅箔の製造方法。
PCT/JP2003/012659 2002-10-25 2003-10-02 プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法 WO2004039137A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002-310805 2002-10-25
JP2002310805A JP4573254B2 (ja) 2002-10-25 2002-10-25 プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004039137A1 true WO2004039137A1 (ja) 2004-05-06

Family

ID=32171061

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2003/012659 WO2004039137A1 (ja) 2002-10-25 2003-10-02 プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4573254B2 (ja)
TW (1) TWI290819B (ja)
WO (1) WO2004039137A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1452627A2 (en) * 2003-02-27 2004-09-01 Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. Electromagnetic shielding copper foil, method of production thereof and electromagnetic shield
US8034542B2 (en) 2006-03-28 2011-10-11 Fujifilm Corporation Conductive film and manufacturing method thereof, and transparent electromagnetic shielding film

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4458519B2 (ja) * 2003-07-28 2010-04-28 三井金属鉱業株式会社 黒色化処理面を備える表面処理銅箔、その表面処理銅箔の製造方法及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュ
JP4458521B2 (ja) * 2004-03-02 2010-04-28 三井金属鉱業株式会社 灰色化処理面を備える表面処理銅箔、その表面処理銅箔の製造方法及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュ
JP4865314B2 (ja) * 2004-12-09 2012-02-01 株式会社ブリヂストン 光透過性電磁波シールド性フィルムの製造方法、光透過性電磁波シールド性フィルム、及びディスプレイ用フィルタ
TW200718347A (en) * 2005-07-14 2007-05-01 Mitsui Mining & Smelting Co Blackening surface treated copper foil and electromagnetic wave shielding conductive mesh for front panel of plasma display using the blackening surface treated copper foil
JP2010242117A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Alps Electric Co Ltd 電気接点およびその製造方法
MY176312A (en) * 2013-08-29 2020-07-28 Jx Nippon Mining & Metals Corp Surface-treated metal material, metal foil with carrier, connector, terminal, laminate, shielding tape, shielding material, printed wiring board, processed metal member, electronic device, and method for manufacturing printed wiring board
JP6447185B2 (ja) * 2015-01-30 2019-01-09 住友金属鉱山株式会社 導電性基板の製造方法、積層導電性基板の製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11298185A (ja) * 1998-04-07 1999-10-29 Nissha Printing Co Ltd 透視性電磁波シールド材料とその製造方法
EP1096845A1 (en) * 1999-10-25 2001-05-02 Nisshinbo Industries, Inc. Transparent electromagnetic radiation shield material and method of producing the same
JP2001156490A (ja) * 1999-11-26 2001-06-08 Nissha Printing Co Ltd 透光性電磁波シールド材料とその製造方法
EP1209698A1 (en) * 2000-05-21 2002-05-29 TDK Corporation Transparent conductive multilayer body and method for producing the same
JP2002196685A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Sumitomo Chem Co Ltd 透明電極付き基板、その製造方法及び用途
JP2002208109A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11298185A (ja) * 1998-04-07 1999-10-29 Nissha Printing Co Ltd 透視性電磁波シールド材料とその製造方法
EP1096845A1 (en) * 1999-10-25 2001-05-02 Nisshinbo Industries, Inc. Transparent electromagnetic radiation shield material and method of producing the same
JP2001156490A (ja) * 1999-11-26 2001-06-08 Nissha Printing Co Ltd 透光性電磁波シールド材料とその製造方法
EP1209698A1 (en) * 2000-05-21 2002-05-29 TDK Corporation Transparent conductive multilayer body and method for producing the same
JP2002196685A (ja) * 2000-12-26 2002-07-12 Sumitomo Chem Co Ltd 透明電極付き基板、その製造方法及び用途
JP2002208109A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1452627A2 (en) * 2003-02-27 2004-09-01 Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. Electromagnetic shielding copper foil, method of production thereof and electromagnetic shield
EP1452627A3 (en) * 2003-02-27 2006-02-08 Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. Electromagnetic shielding copper foil, method of production thereof and electromagnetic shield
US7476449B2 (en) 2003-02-27 2009-01-13 Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. Electromagnetic shielding copper foil, method of production thereof and electromagnetic shield
US7569282B2 (en) 2003-02-27 2009-08-04 The Furukawa Electric Co., Ltd. Electromagnetic shielding copper foil, method of production thereof and electromagnetic shield
US8034542B2 (en) 2006-03-28 2011-10-11 Fujifilm Corporation Conductive film and manufacturing method thereof, and transparent electromagnetic shielding film

Also Published As

Publication number Publication date
TW200409589A (en) 2004-06-01
JP4573254B2 (ja) 2010-11-04
TWI290819B (en) 2007-12-01
JP2004145063A (ja) 2004-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4354955B2 (ja) 黒化処理面又は層を有する銅箔
US7495182B2 (en) Electromagnetic wave shielding sheet and process for producing the same
US8097143B2 (en) Plating method, light-transmitting electrically-conductive film and light-transmitting electromagnetic wave shield film
JP4346607B2 (ja) 電磁波遮蔽用シート、ディスプレイ用前面板及び電磁波遮蔽用シートの製造方法
US7375292B2 (en) Electromagnetic wave shielding filter and process for producing the same
EP1863328A1 (en) Light-transmitting electromagnetic shielding film, optical filter and plasma television
TWI254610B (en) Electromagnetic shielding film and method for manufacturing same
KR20070111528A (ko) 도금 방법, 투광성 도전성막 및 전자기파 차폐막
TWI462662B (zh) 複合式雙面黑色銅箔及其製造方法
WO2004039137A1 (ja) プラズマディスプレーパネル用銅箔及びその製造方法
JP2008227352A (ja) 電磁波遮蔽シート、その製造方法、及びプラズマディスプレイパネル用フィルター
JP2004238647A (ja) 平滑化銅箔とその製造方法
US8034542B2 (en) Conductive film and manufacturing method thereof, and transparent electromagnetic shielding film
JP2008166655A (ja) 電磁波シールド材用銅箔
JP2006336057A (ja) 導電性膜の製造方法及びその製造装置並びに透光性電磁波シールド膜及びプラズマディスプレーパネル
CN205223076U (zh) 一种具有电磁屏蔽性能的镀镍碳纤维板
KR100604964B1 (ko) 전자파 차폐용 흑화표면처리 동박의 제조방법
JPH1187987A (ja) 電磁波シールド用透明部材とその製造方法
JP2010256537A (ja) 金属パターン及び導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材並びにそれを用いた電磁波遮蔽部材
CN116970934B (zh) 一种电解铜箔双面黑化表面处理工艺
JP2009231426A (ja) プラズマディスプレイ前面板用黒色化シールドメッシュの製造方法及びプラズマディスプレイ前面板用黒色化シールドメッシュ及びプラズマディスプレイパネル
KR100590196B1 (ko) 전도성 물질로 동박 매쉬의 전면 및 측면을 처리하는 방법
JP2004253588A (ja) 複合材及びその製造方法
JP2006114679A (ja) 電磁波シールド用フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): CN KR US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PT RO SE SI SK TR

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
122 Ep: pct application non-entry in european phase