WO2003071570A1 - Cathode photoelectrique du type a emission et tube electronique - Google Patents

Cathode photoelectrique du type a emission et tube electronique Download PDF

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WO2003071570A1
WO2003071570A1 PCT/JP2003/001991 JP0301991W WO03071570A1 WO 2003071570 A1 WO2003071570 A1 WO 2003071570A1 JP 0301991 W JP0301991 W JP 0301991W WO 03071570 A1 WO03071570 A1 WO 03071570A1
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light
photocathode
absorbing layer
photoelectrons
light absorbing
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PCT/JP2003/001991
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Minoru Niigaki
Shoichi Uchiyama
Hirofumi Kan
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Hamamatsu Photonics K.K.
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    • H01J2201/342Cathodes
    • H01J2201/3421Composition of the emitting surface

Definitions

  • the present invention relates to a photocathode that absorbs light to be detected, excites photoelectrons, and emits the photoelectrons to the outside, and an electron tube including the photocathode.
  • a photocathode used for detecting light to be detected having a predetermined wavelength, and an electron tube including the same have been known.
  • the photocathode has a light-absorbing layer that absorbs light of a predetermined wavelength and emits photoelectrons.
  • the light to be detected is incident on the light-absorbing layer, and the detected light is converted into photoelectrons.
  • Detection light can be detected.
  • Various semiconductor materials are used for the light absorption layer, and polycrystalline diamond is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-149761 as a material having a high quantum efficiency of photoelectric conversion for ultraviolet light.
  • an external photoelectric effect element such as an electron tube using a photocathode generally does not have the above-described pZn junction / Schottky electrode, and thus does not suffer from these deterioration problems.
  • photocathodes There are two types of photocathodes: a reflection type in which an incident surface for receiving light to be detected and an emission surface for emitting photoelectrons are the same surface, and a transmission type in which these surfaces are different.
  • the reflection-type photocathode made of diamond changes its surface state due to the incidence of intense ultraviolet light, so that the efficiency of photoelectrons is reduced due to the change of the work function. It has been observed that
  • a transmission-type photocathode made of diamond photoelectrons generated by the incidence of the light to be detected must be emitted from the opposite emission surface, and a thin diamond film is required for that purpose.
  • An experiment on photoelectron emission from a diamond film by the present inventor has revealed that the diffusion length of photoelectrons in the diamond film is about 0.05 ⁇ .
  • the thickness of the diamond film needs to be approximately equal to the diffusion length.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and has sufficient sensitivity to light having a short wavelength such as ultraviolet light, and emits photoelectrons generated by photoelectric conversion with high efficiency. It is an object of the present invention to provide a transmissive photocathode capable of performing the above-mentioned steps, and an electron tube using the same.
  • a transmission type photocathode is a photocathode which emits photoelectrons excited by incident light to be detected, and is made of a material mainly composed of diamond or diamond.
  • a light-absorbing layer one of which is an incident surface on which the light to be detected is incident, and the other surface is an exit surface for emitting photoelectrons.
  • voltage applying means for applying a predetermined voltage therebetween.
  • the surface condition of the emitting surface is not changed by the incidence of strong ultraviolet light, and the emission efficiency of photoelectrons is improved. Drop can be prevented.
  • the light absorption layer is diamond, Alternatively, by using a material containing diamond as a main component, it is possible to increase the efficiency of converting light to be detected having a short wavelength such as ultraviolet light into photoelectrons. Further, the voltage applying means forms an electric field inside the light absorbing layer, so that photoelectrons can easily reach the emission surface and can be emitted with high efficiency.
  • the transmission type photocathode is provided with support means for supplementing the mechanical strength of the light absorbing layer. Thereby, the mechanical strength of the light absorbing layer formed thin can be compensated.
  • the light absorbing layer is preferably made of polycrystalline diamond or a material containing polycrystalline diamond as a main component.
  • Polycrystalline diamond can emit photoelectrons more efficiently than single-crystal diamond because a grain interface exists inside the thin film.
  • polycrystalline diamond is easier to form than single crystal diamond, and can be manufactured at low cost.
  • the grain interface is preferably terminated with oxygen. In this way, these aspects become stable and the electrical characteristics can be maintained for a long time.
  • the light emitting surface of the light absorbing layer is terminated with oxygen.
  • the emission surface becomes stable, and the electrical characteristics can be maintained for a long time.
  • the exit surface of the light absorbing layer is preferably terminated with hydrogen.
  • the work function of the emission surface can be reduced, and the photoelectrons that have reached the emission surface can be easily emitted to the outside of the transmissive photocathode.
  • an active layer for lowering the work function of the light absorbing layer is formed on the emission surface of the light absorbing layer.
  • the photoelectrons that have reached the emission surface of the light absorption layer can be more easily emitted to the outside of the transmissive photocathode.
  • this active layer is formed using an alkali metal, an oxide of an alkali metal, or a fluoride of an alkali metal, the above effects can be suitably exerted.
  • the electron tube according to the present invention includes the above-mentioned transmission type photocathode and the transmission type photocathode. It is preferable to include an anode for directly or indirectly collecting the photoelectrons emitted from the device, and a container for housing the transmission type photocathode and the anode. According to the electron tube using such a transmission type photocathode, light having a short wavelength, such as ultraviolet light, can be detected with high quantum efficiency.
  • the electron tube may be provided with electron multiplying means for multiplying the photoelectrons emitted from the transmission type photocathode by secondary electrons.
  • electron multiplying means for multiplying the photoelectrons emitted from the transmission type photocathode by secondary electrons.
  • the anode is preferably made of a phosphor that emits light when electrons enter it.
  • an image tube that can accurately reproduce an image based on the detected light can be obtained.
  • the electron tube includes a phosphor that emits light when electrons are incident thereon, and an image can be displayed by causing the phosphor at a position corresponding to the incident position of the light to be detected to the transmission type photocathode to emit light. It is suitable.
  • the electron tube as an image display element in this way, a still image or a moving image can be displayed with higher luminance and lower power consumption than before by injecting an optical signal having positional information.
  • FIG. 1 is a side sectional view showing a configuration of a first embodiment of a transmission type photocathode according to the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view of the transmission photocathode shown in FIG.
  • FIG. 3 is a graph of spectral sensitivity characteristics showing the quantum efficiency of the transmission type photocathode shown in FIG. 1 with respect to the wavelength of incident light.
  • FIG. 4A to 4E are process diagrams showing the steps of manufacturing the transmission type photocathode shown in FIG.
  • FIG. 5 is a side cross-sectional view showing the configuration of the second embodiment of the transmission type photocathode.
  • FIG. 6 is a side sectional view showing the configuration of the third embodiment of the transmission type photocathode.
  • FIG. 7A is a side sectional view showing the configuration of the fourth embodiment of the transmission type photocathode. 7B is a bottom view thereof.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an embodiment of a photomultiplier tube as a first embodiment of an electron tube according to the present invention.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of another embodiment of the photomultiplier tube as the second embodiment of the electron tube.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an image intensifier (image intensifier) as a third embodiment of the electron tube.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of the fourth embodiment of the electron tube.
  • FIG. 1 is a side sectional view showing a configuration of a first embodiment of a transmission type photocathode according to the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view of the transmission type photocathode shown in FIG.
  • the transmission type photocathode shown in FIG. 1 includes a light absorbing layer 1, a support frame 21, a first electrode 31, and a second electrode 32.
  • the transmissive photocathode is a photocathode in which photoelectrons are excited inside the light absorbing layer 1 by the incidence of light to be detected such as ultraviolet light, and the photoelectrons are emitted to the outside.
  • one surface (upper surface in FIG. 1) of the light absorbing layer 1 is an incident surface on which light to be detected is incident, and the other surface (lower surface in FIG. 1) on the opposite side emits photons. It has a transmission-type configuration that serves as an emission surface.
  • the light absorbing layer 1 is made of diamond or a diamond film formed of a material containing diamond as a main component. This light absorbing layer 1 is preferably formed sufficiently thicker than the incident depth at which the light to be detected is incident. Further, it is preferable that the light-absorbing layer 1 has an emission surface terminated with an oxygen terminal or a hydrogen terminal.
  • the support frame 21 is support means for supplementing the mechanical strength of the light absorbing layer 1 formed thin.
  • the support frame 21 is made of a material such as Si, and is provided at an outer edge of the light absorption layer 1 on the emission surface.
  • the first electrode 31 is an incident surface side electrode provided for the incident surface of the light absorption layer 1. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the first electrodes 31 are formed in a grid on the incident surface of the light absorption layer 1.
  • the second electrode 32 is an emission surface side electrode provided for the emission surface of the light absorption layer 1. In the present embodiment, the second electrode 32 is formed on the entire surface of the support frame 21 opposite to the light absorbing layer 1 side.
  • the first electrode 31 and the second electrode 32 are provided as voltage applying means for applying a voltage between the entrance surface and the exit surface of the light absorbing layer 1 to form an electric field inside the light absorbing layer 1. ing.
  • An active layer 11 for lowering the work function of the light exit surface is formed on the light exit surface of the light absorption layer 1.
  • the transmissive photocathode when the light to be detected enters from the incident surface of the light absorption layer 1, a number of photoelectrons corresponding to the amount of the light to be detected are generated inside the light absorption layer 1.
  • a predetermined voltage is applied to the inside of the light absorbing layer 1 by a power source 33 connected between the first electrode 31 and the second electrode 32, so that the light exit surface side is positive and the light incident surface side is positive.
  • a negative electric field is formed. Due to this electric field, photoelectrons generated inside the light absorbing layer 1 are accelerated in the direction of the emission surface, reach the emission surface, pass through the active layer 11 and are emitted to the outside of the transmissive photocathode.
  • the transmission type photocathode of the present embodiment can obtain the following effects.
  • the quantum efficiency is the efficiency at which the photons converted inside the light absorption layer 1 with respect to the incident light to be detected are emitted to the outside from the emission surface of the transmission type photocathode.
  • the transmission type photocathode shown in FIG. 1 has a transmission type configuration in which one surface of the light absorption layer 1 is an incident surface and the other surface is an emission surface.
  • a transmission-type configuration instead of a reflection-type configuration in which the incident surface on which the detection light is incident is an emission surface from which photoelectrons are emitted, it is possible to reduce the incidence of the detection light such as strong ultraviolet light.
  • the change of the surface state of the exit surface is prevented. This suppresses a change in the work function at the exit surface, It is possible to prevent a decrease in photoelectron emission efficiency.
  • the light absorption layer 1 is formed using diamond or a material containing diamond as a main component.
  • Diamond has a higher photoelectron conversion efficiency for ultraviolet light than materials such as CsI which have been conventionally used as a material for a photocathode.
  • CsI materials such as CsI which have been conventionally used as a material for a photocathode.
  • the light absorption layer 1 can efficiently generate photoelectrons with respect to incident light having a short wavelength such as ultraviolet light. Can be converted to
  • a first electrode 31 is provided on the incident surface side of the light absorption layer 1 and a second electrode 32 is provided on the emission surface side, thereby forming an electric field inside the light absorption layer 1.
  • the photoelectrons generated inside the light absorption layer 1 can efficiently reach the emission surface, and the efficiency with which the photoelectrons are emitted to the outside of the transmission type photocathode can be increased.
  • the thickness of the light absorption layer 1 is set to be approximately equal to the diffusion length of the photoelectrons in order to emit the photoelectrons to the outside. Must be formed.
  • the thickness of the light absorbing layer 1 is increased by forming an electric field inside the light absorbing layer 1 and accelerating the photoelectrons generated inside the light absorbing layer 1 toward the emission surface.
  • the photoelectrons can be efficiently emitted even when the diffusion length is larger than the diffusion length, for example, about several ⁇ .
  • polycrystalline diamond As the material of the light absorbing layer 1, it is preferable to use polycrystalline diamond or a material mainly composed of polycrystalline diamond. Since polycrystalline diamond is composed of granular crystals, it has a grain interface inside which is the surface of the granular crystals. Then, photoelectrons are emitted from grain boundaries existing in all directions in which the photoelectrons generated inside the light absorption layer 1 diffuse. For this reason, the moving distance from the excitation of the photoelectrons to the emission is shortened, and the number of emitted photoelectrons is increased. As a result, higher quantum efficiency can be obtained. Also, polycrystalline diamond is more Since it can be mass-produced inexpensively, if polycrystalline silicon is used as the material of the light absorption layer 1, the production cost of the transmissive photocathode can be reduced.
  • a support frame 21 is provided as a support means at an outer edge portion on the emission surface of the light absorption layer 1. Since the light absorption layer 1 is formed thin to emit photoelectrons generated inside, the mechanical strength may not be sufficient. As described above, when it is necessary to supplement the mechanical strength of the light absorption layer 1, a support means such as the support frame 21 may be provided at an appropriate position such as an outer edge on the emission surface. Thereby, the mechanical strength of the light absorbing layer 1 can be compensated.
  • the exit surface of the light absorption layer 1 is preferably terminated by oxygen.
  • the emission surface of the light absorption layer 1 becomes stable, and the electrical characteristics can be maintained for a long time.
  • the surface of the light emitting surface of the light absorbing layer 1 can be terminated with hydrogen. Even when terminated with hydrogen, the work function of the emission surface of the light absorption layer 1 can be reduced, and the photoreceptor that has reached the emission surface can be easily emitted to the outside of the transmissive photocathode.
  • the light absorbing layer 1 is made of polycrystalline diamond or a material containing polycrystalline diamond as a main component, it is preferable that the surface and the grain interface of the polycrystalline diamond of the light absorbing layer 1 are oxygen-terminated. By terminating these surfaces with oxygen, the emission surface of the light absorbing layer 1 is stable, and the electrical characteristics can be maintained for a long time.
  • the transmission type photocathode shown in FIG. 1 has a transmission type configuration, light to be detected such as ultraviolet light does not enter the emission surface, and the surface state does not change due to the above-described termination processing. With this, it is possible to maintain the photoelectron emission efficiency increased by the termination treatment. Further, it is preferable that an active layer 11 having a property of lowering the work function of diamond is formed on the emission surface of the light absorption layer 1. By lowering the work function of the light-exiting surface of the light-absorbing layer 1, the photoelectrons reaching the light-exiting surface of the light-absorbing layer can be more easily emitted from the light-exiting surface of the light-absorbing layer 1.
  • the active layer is made of alkali metal, alkali gold The above effect can be suitably obtained by being formed using a metal oxide, a fluoride of an alkali metal, or the like.
  • FIG. 3 is a graph of spectral sensitivity characteristics showing the quantum efficiency of the transmission type photocathode shown in FIG. 1 with respect to the wavelength of incident light.
  • the vertical axis represents the quantum efficiency (%;), and the horizontal axis represents the wavelength of the detected light (nm).
  • FIG. 1 An example of a method of manufacturing the transmission type photocathode shown in FIG. 1 and an example of a specific configuration will be schematically described.
  • 4A to 4E are process diagrams showing the steps of manufacturing the transmission photocathode shown in FIG.
  • a light absorbing layer made of polycrystalline diamond is formed on one surface of a substrate 20 made of Si.
  • a synthesis method such as a chemical vapor deposition method (CVD method) using a hot filament or microwave plasma, or a laser-ablation method can be used.
  • the material of the substrate 20 is not limited to Si, and may be a refractory metal such as molybdenum tantalum, or a material such as quartz or sapphire.
  • a second electrode 32 is formed on the other surface of the substrate 20 by vapor deposition (FIG. 4B).
  • a part of the second electrode 32 and the substrate 20 is removed by etching using a mask having an appropriate dimension to partially expose the light absorbing layer 1 (FIG. 4).
  • Etching is performed by HF + HN 0 3 solution or KOH solution, the substrate 2 0 etching the light absorbing layer 1 is Etsu quenching is exposed stops automatically.
  • the portion of the substrate 20 that has not been removed by etching has a function as a support frame 21 to supplement the mechanical strength of the light absorbing layer 1.
  • a first lattice having an appropriate size is formed using a photolithography technique and a lift-off technique.
  • the electrode 31 is formed (FIG. 4D). Then, these are held in a vacuum, and after the emission surface of the light absorption layer 1 is cleaned, the emission surface and the like are terminated with oxygen. Terminates with hydrogen.
  • the active layer 11 is formed by applying a material such as an alkali metal, an oxide of an alkali metal, or a fluoride of an alkali metal, which has a property of reducing the work function of the diamond surface, to the light emitting surface of the light absorbing layer 1.
  • a material such as an alkali metal, an oxide of an alkali metal, or a fluoride of an alkali metal, which has a property of reducing the work function of the diamond surface
  • the transmission-type photocathode according to the first embodiment can be manufactured.
  • the manufacturing method and the specific configuration of the transmission type photocathode are not limited to this embodiment, and various methods and configurations can be used.
  • FIG. 5 is a side cross-sectional view showing the configuration of the second embodiment of the transmission type photocathode.
  • the transmissive photocathode shown in FIG. 5 includes a light absorbing layer 1, an active layer 11, a support frame 21, a first electrode film 31a, an auxiliary electrode 34, and a second electrode 32. .
  • the structures of the light absorption layer 1, the active layer 11, the support frame 21, and the second electrode 32 are the same as those of the transmissive photocathode shown in FIG.
  • the first electrode film 3 la is formed as a thin film on the incident surface of the light absorption layer 1.
  • the first electrode film 31a is formed to be extremely thin (about 30 to 150 ports) so that photoelectrons generated by the light to be detected are not absorbed by the first electrode film 31a.
  • an auxiliary electrode 34 is formed on the first electrode film 31a for electrical connection to the first electrode film 31a formed in a thin film shape.
  • the transmission type photocathode according to the present embodiment has a transmission type configuration in which one surface of the light absorption layer 1 is an incident surface and the other surface is an emission surface. With this configuration, a change in the surface state of the emission surface can be prevented, and a decrease in photoelectron emission efficiency can be prevented.
  • the light absorbing layer 1 is formed using a material containing diamond or diamond as a main component, the light absorbing layer 1 has high efficiency with respect to incident light having a short wavelength such as ultraviolet light. Can be converted into photoelectrons.
  • a first electrode film 31 a is provided on the incident surface side of the light absorbing layer 1
  • a second electrode 32 is provided on the light emitting surface side to form an electric field inside the light absorbing layer 1.
  • An electric field is formed inside the light absorption layer 1 to accelerate photoelectrons generated inside the light absorption layer 1 toward the emission surface.
  • photoelectrons can be efficiently emitted to the outside of the transmission type photocathode.
  • the first electrode film 31 a is formed in a thin film shape on the incident surface of the light absorption layer 1.
  • the electrode in contact with the light absorbing layer 1 is formed like the first electrode 31 shown in FIG. 1 so that the transmission type photocathode can be suitably operated.
  • FIG. 6 is a side sectional view showing the configuration of the third embodiment of the transmission type photocathode.
  • the transmission type photocathode shown in FIG. 6 includes a light absorption layer 1, an active layer 11, a support frame 22, a first electrode 35, and a second electrode 36.
  • the structures of the light absorption layer 1 and the active layer 11 are the same as those of the transmission type photocathode shown in FIG.
  • the support frame 22 is a support means for supplementing the mechanical strength of the light absorbing layer 1 formed thin.
  • the support frame 22 is provided at an outer edge of the light absorbing layer 1 on the incident surface.
  • the first electrode 35 is an incident surface side electrode provided for the incident surface of the light absorption layer 1. In the present embodiment, the first electrode 35 is formed on the entire surface of the support frame 22 opposite to the light absorption layer 1 side. Further, the second electrode 36 is an emission surface side electrode provided for the emission surface of the light absorption layer 1. In the present embodiment, the second electrode 36 is formed in a lattice on the light emitting surface of the light absorbing layer 1. The first electrode 35 and the second electrode 36 are provided as voltage applying means for applying a voltage between the entrance surface and the exit surface of the light absorbing layer 1 to form an electric field inside the light absorbing layer 1. I have.
  • the transmission type photocathode according to the present embodiment has a transmission type configuration in which one surface of the light absorption layer 1 is an incident surface and the other surface is an emission surface. With this configuration, a change in the surface state of the emission surface can be prevented, and a decrease in photoelectron emission efficiency can be prevented.
  • the light absorption layer 1 is formed using diamond or a material containing diamond as a main component, the light absorption layer 1 can detect light having a short wavelength such as ultraviolet light. It can be converted into photoelectrons with high efficiency with respect to the incidence of light.
  • a first electrode 35 is provided on the incident surface side of the light absorption layer 1 and a second electrode 36 is provided on the emission surface side, so that an electric field is formed inside the light absorption layer 1.
  • a support frame 22 is provided as a support means at an outer edge of the light absorption layer 1 on the incident surface. If it is necessary to supplement the mechanical strength of the light absorbing layer 1 which is formed thin, support means should be provided on the exit surface as shown in FIG. 1 and also on the incident surface as in this embodiment. Accordingly, the mechanical strength of the light absorbing layer 1 can be suitably compensated.
  • FIGS. 7A and 7B are diagrams showing a configuration of a transmission photocathode according to a fourth embodiment.
  • 7A is a side cross-sectional view of the transmission type photocathode
  • FIG. 7B is a bottom view of the transmission type photocathode viewed from the second electrode 32 side.
  • the transmission type photocathode shown in FIG. 7A includes a light absorbing layer 1, an active layer 11, a support frame 23, a first electrode 31, and a second electrode 32.
  • the support frame 23 is provided on the emission surface of the light absorption layer 1 in a lattice shape as shown in FIG. 7B.
  • the support frame 23 is formed such that the shape and area in each lattice frame are uniform.
  • the second electrode 32 is formed on the entire surface of the support frame 23 provided in a lattice shape on the side opposite to the light absorbing layer 1 side.
  • the transmission type photocathode according to the present embodiment has a transmission type configuration in which one surface of the light absorption layer 1 is an incident surface and the other surface is an emission surface. As a result, a change in the surface state of the emission surface can be prevented, and a decrease in photoelectron emission efficiency can be prevented.
  • the light absorption layer 1 is formed using diamond or a material containing diamond as a main component, the light absorption layer 1 has high efficiency with respect to incident light having a short wavelength, such as ultraviolet light, to be detected. Can be converted into photoelectrons.
  • a first electrode 31 is provided on the incident surface side of the light absorption layer 1 and a second electrode 32 is provided on the emission surface side, thereby forming an electric field inside the light absorption layer 1. By forming an electric field inside the light absorbing layer 1 and accelerating the photoelectrons generated inside the light absorbing layer 1 toward the emission surface, the photoelectrons can be efficiently emitted to the outside of the transmissive photocathode.
  • a support frame 23 for supplementing the mechanical strength of the light absorption layer 1 is provided in a lattice shape.
  • the strength can be sufficiently compensated for by the supporting means having the shape as shown in FIG.
  • the mechanical strength of the light absorbing layer 1 can be improved.
  • Strength can be further supplemented.
  • the support frame 23 is provided so that the shape and area in each lattice frame are uniform, the mechanical strength can be further increased.
  • the shape of the support means is not limited to the lattice shape described above, and various shapes are possible.
  • the second electrode 36 and the first electrode 31 are formed in a lattice shape, but the first electrode film 31 in the second embodiment is formed. It may be formed as a thin film as shown in a.
  • a lattice shape, a thin film shape, or another shape can be appropriately selected.
  • the transmission type photocathode described in detail above can be used for an electron tube such as a photomultiplier tube and an image intensifier tube.
  • an electron tube such as a photomultiplier tube and an image intensifier tube.
  • an embodiment regarding such an electron tube will be described.
  • illustration of voltage applying means and the like provided in the transmission type photocathode is omitted.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an embodiment of a photomultiplier tube as a first embodiment of an electron tube according to the present invention.
  • the photomultiplier tube shown in Fig. 8 is a transmissive photocathode 4 that converts the light to be detected into photoelectrons and emits it, an electron multiplier 5 that multiplies the photoelectrons into secondary electrons, and collects the multiplied secondary electrons. And a vacuum vessel 7 which is a vessel containing these in a vacuum state. These components allow the light to be detected to enter inside the vacuum vessel 7.
  • the transmission type photocathode 4, the electron multiplying means 5, and the anode 6 are arranged at a predetermined interval in this order from the emitting side.
  • the transmission type photocathode 4 As the transmission type photocathode 4, the above-mentioned transmission type photocathode made of diamond or a material containing diamond as a main component is used.
  • An electron multiplying means 5 is provided at a predetermined distance from the emission surface side of the transmission type photocathode 4.
  • a microchannel plate (hereinafter, referred to as MCP) 51 As the electron multiplication means 5, a microchannel plate (hereinafter, referred to as MCP) 51 is used.
  • the MCP 51 has a configuration in which a large number of cylindrical channels whose inner walls are secondary electron emitters are bundled. A predetermined voltage is applied between the input end of this channel where photoelectrons enter and the output end where secondary electrons are emitted, and an electric field is formed. Then, the photoelectrons incident into the channel are multiplied while repeatedly colliding with the secondary electron emitter, and are emitted as secondary electrons.
  • An anode 6 is provided at a predetermined distance from the output terminal of the MCP 51.
  • the anode 6 collects the secondary electrons emitted from the MCP 51 and indirectly collects the photoelectrons emitted from the transmission type photocathode 4.
  • the transmission type photocathode 4, the electron multiplying means 5, and the anode 6 are contained in a vacuum container 7, which is a closed container whose inside is in a vacuum state.
  • An entrance window 71 is provided on the surface of the vacuum vessel 7 facing the transmission type photocathode 4 on which the light to be detected enters.
  • a voltage is gradually applied to the input terminal and the output terminal of the transmission photocathode 4, the MCP 51, and the anode 6 so that the transmission photocathode 4 side has a negative potential and the anode 6 side has a positive potential.
  • An applied electric field is formed.
  • a positive voltage is applied to the output terminal of the MCP 51 at the anode 6 to form an electric field.
  • Secondary electrons emitted from the MCP 51 are collected at the anode and detected by the incident detection light.
  • the output signal is taken out of the photomultiplier tube.
  • the following effects can be obtained by the above configuration and operation. That is, by using the transmissive photocathode 4 having the above configuration, a photomultiplier tube capable of detecting light to be detected such as ultraviolet light with high quantum efficiency can be realized.
  • the electron multiplication means as shown in Fig. 8 can be used to obtain a multiplied large current detection signal.
  • the detected light can be detected well.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of another embodiment of the photomultiplier tube as the second embodiment of the electron tube.
  • the photomultiplier shown in FIG. 9 includes a transmission type photocathode 4, an electron multiplier 5, an anode 6, and a vacuum vessel 7.
  • the configurations of the transmission type photocathode 4, the anode 6, and the vacuum vessel 7 are the same as those of the photomultiplier tube shown in FIG.
  • a plurality of MCPs 51 (three in FIG. 9) are used.
  • Each of the plurality of MCPs 51 has a configuration in which a number of cylindrical channels whose inner walls are secondary electron emitters are bundled, and a predetermined voltage is applied between an input end and an output end of the channel. Thus, an electric field is formed.
  • the plurality of MCPs 51 are arranged at predetermined intervals such that the output terminal and the input terminal of each other face each other.
  • an anode 6 is provided at a predetermined distance from the output end of the MCP 51 which is farthest from the transmissive photocathode 4. The anode 6 collects the secondary electrons emitted from the MCP 51.
  • the light to be detected enters the transmissive photocathode 4 through the entrance window 7 1.
  • photoelectrons are generated in the transmissive photocathode 4 and emitted from the exit surface into the vacuum inside the vacuum vessel 7.
  • the photoelectrons emitted into the vacuum enter the MCP 51 closest to the transmissive photocathode 4 as primary electrons, are multiplied, and are emitted as secondary electrons.
  • the multiplication is repeated by a plurality of MCPs 51 arranged thereafter.
  • the multiplied secondary electrons are collected by the anode 6 and taken out of the photomultiplier tube as a detection signal by the incident light to be detected.
  • the following effects can be obtained by the above configuration and operation. That is, by using the transmissive photocathode 4 having the above-described configuration, a photomultiplier tube capable of detecting light to be detected such as ultraviolet light with high quantum efficiency can be realized.
  • the transmission type photocathode 4 and the MCP 51 and the anode 6 have a so-called proximity type configuration in which the transmission type photocathode 4 and the anode 6 face each other.
  • a so-called electrostatic convergence type configuration in which an electrostatic lens is provided between the doubling means 5 and the convergence of photoelectrons may be employed.
  • an electron tube using a transmissive photocathode does not include an electron multiplier 5 in addition to the above-described photomultiplier tube, that is, the photoelectrons emitted from the transmissive photocathode 4 are directly collected at the anode 6. It is also possible to adopt a configuration in which
  • anode 6 for collecting photoelectrons or secondary electrons is provided, a semiconductor element such as a photodiode may be provided instead of the anode 6.
  • a photoelectron or a secondary electron directly into such a semiconductor device, that is, as a so-called electron-implantation type photomultiplier, each embodiment of the photomultiplier described above can be suitably implemented.
  • FIG. 10 shows an image tube as an image tube according to a third embodiment of the electron tube.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of the intensifier.
  • the image intensifier tube shown in FIG. 10 includes a transmission photocathode 4, an electron multiplier 5, an anode 6a, and a vacuum vessel 7. Among them, the configurations of the transmission photocathode 4, the electron multiplier 5, and the vacuum vessel 7 are almost the same as those of the photomultiplier shown in FIG.
  • the anode 6a has a function of collecting the secondary electrons emitted from the MC P 51, and
  • the anode 6a is made of a phosphor that emits light when electrons enter it.
  • the photoelectrons incident on the MCP 51 are multiplied and emitted as secondary electrons, which are collected on the anode 6a made of a phosphor.
  • a positive voltage is applied to the output terminal of the MCP 51 with respect to the input terminal, and a positive voltage is applied to the anode 6a with respect to the output terminal of the MCP 51.
  • An electric field is formed by these, secondary electrons are collected by the anode 6a while maintaining the two-dimensional information possessed by the photoelectrons, and the anode 6a made of a phosphor emits light.
  • the following effects can be obtained by the above configuration and operation. That is, by using the transmissive photocathode 4 having the above-described configuration, an image intensifier having high quantum efficiency can be realized.
  • photoelectrons obtained with high quantum efficiency are further multiplied according to the amount of light to be detected incident on the transmissive photocathode 4 and incident on the phosphor, so that a high-luminance image is obtained. As a result, even if the incident image is weak, the image is accurately multiplied. It becomes possible.
  • a phosphor is used as a means for emitting light by photoelectrons or secondary electrons, but this means may be any as long as it can convert electrons into an image.
  • a similar effect can be obtained by providing an imaging device such as a charge-coupled device (CCD) instead of a phosphor, and directly shooting photoelectrons or secondary electrons into the imaging device to form an image.
  • CCD charge-coupled device
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of the fourth embodiment of the electron tube.
  • the electron tube shown in FIG. 11 includes a transmission type photocathode 4, an anode 6b, and a vacuum vessel 7.
  • the configurations of the transmission type photocathode 4, the anode 6b, and the vacuum vessel 7 are the same as those of the image intensifier tube shown in FIG. 10, but the electron tube of the present embodiment has no electron multiplier. It has a configuration.
  • the present electron tube can be used as an image display device for displaying an image by causing a phosphor at a position corresponding to the incident position of the detection light incident on the transmission type photocathode to emit light.
  • the operation of the electron tube as the image display device will be described.
  • the detection light When the light to be detected (11, ml, n1) as an image signal passes through the entrance window 71 and enters a predetermined position of the transmission-type photocathode 4, the detection light enters inside the transmission-type photocathode 4.
  • Photoelectrons (el, e2, e3) corresponding to the positions are generated and emitted into the vacuum vessel 7. Since a high voltage is applied between the transmission type photocathode 4 and the anode 6b, the photoelectrons emitted into the vacuum are accelerated and go straight, and are collected by the anode 6b made of a phosphor. That is, at the positions corresponding to the detected light 11, ml, and nl at different incident positions, the light 12, m 2, and n 2 are emitted from the phosphor.
  • the following effects can be obtained by the above configuration and operation. That is, by using the transmissive photocathode 4 having the above configuration, an electron tube having high quantum efficiency can be realized. From this, a high-luminance image can be obtained by photoelectrons obtained with a high quantum efficiency with respect to the light amount of the image signal input to the transmissive photocathode 4. View video It becomes possible.
  • ultraviolet light such as plasma light, which is given two-dimensional positional information such as XY address, is used as the image signal input to the electron tube, the phosphor is directly irradiated with plasma as in a conventional plasma display. An image display device with higher luminance and lower power consumption can be realized than emitting light.
  • the MCP 51 when it is necessary to obtain a higher-luminance image, the MCP 51 is optional for further obtaining a secondary electron multiplication factor. Can be the number of In this way, the intensity of the incident image can be further increased, and the brightness can be increased.
  • the transmission-type photocathode and the electron tube according to the present invention are not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible.
  • the transmissive photocathode when the mechanical strength of the light absorbing layer 1 is sufficient, the light absorbing layer 1 does not have the support frames 21 to 23 to supplement the mechanical strength. It may be configured.
  • the active layer 11 for lowering the work function of the light emitting surface of the light absorbing layer 1 may not be provided.
  • a reinforcing means such as a spacer may be provided inside the vacuum vessel 7.
  • the electron multiplying means is not limited to this, and a single-stage or multiple-stage dynode may be used.
  • the present invention is applicable to, for example, an optical monitoring device when using photolithography in a manufacturing process of a semiconductor integrated device.

Landscapes

  • Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
  • Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)

Description

明細書
透過型光電陰極及び電子管
技術分野
本発明は、 被検出光を吸収して光電子を励起し、 外部へ放出する光電陰極及び 光電陰極を備えた電子管に関するものである。
背景技術
従来から、 所定波長の被検出光を検知するために用レ、られる光電陰極及びそれ を備えた電子管が知られている。 光電陰極は、 所定波長の光を吸収して光電子を 放出する光吸収層を有しており、 光吸収層に被検出光が入射されてこの被検出光 が光電子に変換されることによって、 被検出光を検知することができる。 光吸収 層には様々な半導体材料が用いられるが、 紫外光について光電変換の量子効率の 高い材料として多結晶ダイヤモンドが、 特開平 1 0— 1 4 9 7 6 1号公報に開示 されている。
近年の半導体の高集積化に伴って半導体集積回路の微紬化が急速に進んでいる。 現在、 微細な半導体集積回路の製造方法として光リソグラフィ一が有望視されて おり、その光源は A r Fマキシマレ一ザから F 2レーザ等の波長の短いものへと研 究が進められている。 そして、 このような紫外光などの波長の短い光を利用した 技術の発展に伴って、 紫外光をモニタするための光検出器が要求されている。 発明の開示
紫外光などの光検出器として従来用いられてきた S iフォトダイオード等の内 部光電効果素子は、 強い紫外光の入射によって、 p Z n接合やショットキ接合が 劣化し、 安定に動作しないことが問題になっている。
一方、 光電陰極を用いた電子管などの外部光電効果素子は、 一般に上記のよう な p Z n接合ゃショットキ電極を有しないので、 これらの劣化の問題は発生しな い。 そして、 光電陰極には、 被検出光を入射する入射面と光電子を放出する出射 面とが同一の面である反射型と、これらの面が異なる透過型の 2種類の型がある。 本願発明者による実験では、 ダイヤモンドからなる反射型の光電陰極では強力 な紫外光の入射によりその表面状態が変化することがわかっており、 このため仕 事関数の変化により光電子の放出効率が低下することが観測されている。
一方、 ダイヤモンドからなる透過型の光電陰極では、 被検出光の入射により発 生した光電子が反対側の出射面から放出されなくてはならず、 そのためには薄い ダイヤモンド膜が必要となる。 本願発明者によるダイヤモンド膜の光電子放出に 関する実験により、 ダイヤモンド膜内の光電子の拡散長は 0 . 0 5 μπι程度であ ることがわかっている。 また、 効率よく光電子を放出させるためにはダイヤモン ド膜の膜厚を拡散長と同程度にする必要がある。 しかしながら実際にはこのよう な薄い膜厚のダイヤモンド薄膜を、 紫外光に対して透明な基板、 例えば M g F 2、 サフアイャ、 石英基板上に形成することは困難であり、 ダイヤモンドからなる透 過型の光電陰極を実現することは困難であった。 このため、 紫外光などの波長の 短い光に対して充分な感度を有する透過型光電陰極を実現できなかった。
本発明は、 以上の問題点を解決するためになされたものであり、 紫外光などの 波長の短い光に対して充分な感度を有するとともに、 光電変換によって生成され た光電子を高い効率で放出させることができる透過型光電陰極、 及びそれを用い た電子管を提供することを目的とする。
このような目的を達成するために、 本発明による透過型光電陰極は、 入射され た被検出光によって励起された光電子を放出する光電陰極であって、 ダイヤモン ド、 またはダイヤモンドを主成分とする材料からなり、 その一方の面が被検出光 を入射する入射面、他方の面が光電子を放出する出射面となっている光吸収層と、 光吸収層に対して、 入射面と出射面との間に所定電圧を印加する電圧印加手段と を備えることを特徴とする。
光吸収層の一方が入射面、 他方が出射面となっている透過型の光電陰極とする ことによって、強い紫外光の入射により出射面の表面状態が変化することがなく、 光電子の放出効率の低下を防ぐことができる。 また、 光吸収層がダイヤモンド、 またはダイヤモンドを主成分とする材料からなることによって、 紫外光などの波 長の短い被検出光が光電子に変換される効率を高めることができる。 また、 電圧 印加手段が光吸収層内部に電界を形成することによって、 光電子を出射面まで到 達し易くし、 高い効率で放出させることができる。
また、 透過型光電陰極は、 光吸収層の機械的強度を補う支持手段を備えること が好適である。 これにより、 薄く形成される光吸収層の機械的強度を補うことが できる。
また、 光吸収層は、 多結晶ダイヤモンド、 または多結晶ダイヤモンドを主成分 とする材料からなることが好適である。 多結晶ダイヤモンドは薄膜内部に粒界面 が存在するので、 単結晶ダイヤモンドよりも効率よく光電子を放出させることが できる。 また、 多結晶ダイヤモンドは単結晶ダイヤモンドに比べて形成が容易な ので、 安価に製造することができる。
また、 光吸収層が多結晶ダイヤモンドからなる場合には、 その粒界面が酸素終 端されていることが好ましい。 このようにすれば、 これらの面は安定となり、 電 気的特性を長期にわたり持続させることができる。
また、 光吸収層の出射面は酸素終端されていることが好ましい。 このようにす れば、出射面は安定となり、電気的特性を長期にわたり持続させることができる。 あるいは、 光吸収層の出射面は水素終端されていることが好適である。 これによ り出射面の仕事関数を低下させることができ、 出射面に到達した光電子を透過型 光電陰極の外部へ容易に放出できる。
また、 光吸収層の出射面には光吸収層の仕事関数を低下させるための活性層が 形成されていることが好ましい。 これにより、 光吸収層の出射面に到達した光電 子は透過型光電陰極の外部へさらに容易に放出されることができる。 この活性層 は、 アルカリ金属、 アルカリ金属の酸化物、 またはアルカリ金属のフッ化物を用 いて形成されると、 上記の効果を好適に奏することができる。
また、 本発明による電子管は、 上記した透過型光電陰極と、 透過型光電陰極か ら放出された光電子を直接または間接に収集するための陽極と、 透過型光電陰極 及び陽極を収納する容器とを備えることが好適である。 このような透過型光電陰 極を用いた電子管によれば、 紫外光などの波長の短い被検出光を高い量子効率で 検出することができる。
また、 電子管は、 透過型光電陰極から放出された光電子を 2次電子増倍する電 子増倍手段を備えることを特徴としてもよレ、。 このような電子管により、 微弱な 被検出光を大きな信号電流として検出可能な光電子増倍管が得られる。 これによ り、 紫外光等を高い S ZN比で精度良く検出できる。
また、 陽極は、 電子が入射することによって発光する蛍光体からなることが好 適である。 このような電子管により、 被検出光による画像を精度よく再現可能な イメージ管が得られる。
また、 電子管は、 電子が入射することによって発光する蛍光体を備え、 透過型 光電陰極への被検出光の入射位置に対応する位置の蛍光体を発光させることによ り画像を表示することが好適である。 電子管をこのように画像表示素子として用 いることによって、 位置情報を有する光信号を入射させて静止画、 あるいは動画 を従来より高輝度、 低消費電力で表示することができる。
図面の簡単な説明
図 1は、 本発明による透過型光電陰極の第 1実施形態の構成を示す側面断面図 である。
図 2は、 図 1に示した透過型光電陰極の斜視図である。
図 3は、 図 1に示した透過型光電陰極の、 入射した光の波長に対する量子効率 を示す分光感度特性のグラフである。
図 4 A— Eは、 図 1に示した透過型光電陰極の製造工程を示す工程図である。 図 5は、 透過型光電陰極の第 2実施形態の構成を示す側面断面図である。 図 6は、 透過型光電陰極の第 3実施形態の構成を示す側面断面図である。 図 7 Aは、 透過型光電陰極の第 4実施形態の構成を示す側面断面図であり、 図 7 Bは、 その底面図である。
図 8は、 本発明による電子管の第 1実施形態として、 光電子増倍管の一実施形 態の構成を模式的に示す断面図である。
図 9は、 電子管の第 2実施形態として、 光電子増倍管の他の実施形態の構成を 模式的に示す断面図である。
図 1 0は、 電子管の第 3実施形態として、 画像増強管 (イメージ ·インテンシ ファイア) の構成を模式的に示す断面図である。
図 1 1は、 電子管の第 4実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、 図面とともに本発明による透過型光電陰極及び電子管の好適な実施形態 について詳細に説明する。 なお、 図面の説明においては同一要素には同一符号を 付し、 重複する説明を省略する。 また、 図面の寸法比率は、 説明のものと必ずし も一致していない。
図 1は、 本発明による透過型光電陰極の第 1実施形態の構成を示す側面断面図 である。 また、 図 2は図 1に示した透過型光電陰極の斜視図である。
図 1に示す透過型光電陰極は、 光吸収層 1、 支持枠 2 1、 第 1電極 3 1、 及び 第 2電極 3 2によって構成されている。 この透過型光電陰極は、 紫外光などの被 検出光の入射により光吸収層 1内部に光電子が励起され、 この光電子が外部へ放 出される光電陰極である。 また、 光吸収層 1の一方の面 (図 1中の上面) が被検 出光を入射する入射面、 その反対側の面となる他方の面 (図 1中の下面) が光電 子を放出する出射面となる透過型の構成を有している。
光吸収層 1はダイヤモンド、 またはダイヤモンドを主成分とする材料から形成 されたダイヤモンド膜からなる。 この光吸収層 1は、 好ましくは被検出光が入射 する入射深さよりも充分に厚く形成されるのが良い。 また、 光吸収層 1は出射面 が酸素終端や水素終端として終端処理されるのが好ましい。
支持枠 2 1は、薄く形成される光吸収層 1の機械的強度を補う支持手段である。 この支持枠 2 1は、 S i等の材料からなり、 光吸収層 1の出射面上の外縁部に設 けられている。
第 1電極 3 1は、光吸収層 1の入射面に対して設けられる入射面側電極である。 本実施形態においては、 図 2に示すように光吸収層 1の入射面上に格子状に第 1 電極 3 1が形成されている。 また、 第 2電極 3 2は、 光吸収層 1の出射面に対し て設けられる出射面側電極である。 本実施形態においては、 支持枠 2 1の光吸収 層 1側とは反対側の全面に第 2電極 3 2が形成されている。 これら第 1電極 3 1 及び第 2電極 3 2は、 光吸収層 1の入射面と出射面との間に電圧を印加して光吸 収層 1内部に電界を形成する電圧印加手段として設けられている。
また、 光吸収層 1の出射面上には、 出射面の仕事関数を低下させるための活性 層 1 1が形成されている。
上記した透過型光電陰極の構成において、 被検出光が光吸収層 1の入射面から 入射すると、 光吸収層 1内部に被検出光の光量に応じた数の光電子が発生する。 また、 光吸収層 1内部には、 第 1電極 3 1と第 2電極 3 2との間に接続された電 源 3 3によって所定の電圧を印加することにより、 出射面側が正、 入射面側が負 となるような電界が形成されている。 この電界によって、 光吸収層 1内部に発生 した光電子は出射面方向に加速され、 出射面に到達した後、 活性層 1 1を通過し て透過型光電陰極の外部に放出される。
本実施形態の透過型光電陰極は、 以下に示す効果を得ることができる。 なお、 量子効率とは、 被検出光の入射に対して光吸収層 1内部において変換された光電 子が透過型光電陰極の出射面から外部に放出される効率である。
図 1に示した透過型光電陰極は、 光吸収層 1の一方の面が入射面で他方の面が 出射面となっている透過型の構成を有している。 このように、 被検出光が入射す る入射面を光電子が放出される出射面とする反射型ではなく、 透過型の構成とす ることにより、 強力な紫外光などの被検出光の入射による出射面の表面状態の変 化が防止される。 これによつて、 出射面での仕事関数の変化が抑制されるので、 光電子の放出効率の低下を防ぐことができる。
また、 光吸収層 1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分とする材料を 用いて形成されている。 ダイヤモンドは、 光電陰極の材料として従来より用いら れている C s Iなどの材料よりも、 紫外光に対する光電子変換効率が高い。 この ような性質を有するダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分とする材料を光 吸収層 1に用いることによって、 光吸収層 1は、 紫外光などの波長の短い被検出 光の入射に対して高い効率で光電子に変換することができる。
また、 光吸収層 1の入射面側に第 1電極 3 1、 出射面側に第 2電極 3 2を設け て光吸収層 1内部に電界を形成している。 これによつて、 光吸収層 1内部で発生 した光電子を効率よく出射面に到達させることができ、 光電子が透過型光電陰極 の外部へ放出される効率を高めることができる。 通常、 光吸収層 1内部で発生し た光電子が光吸収層 1外部へ放出されるためには、 光電子を外部へ放出させるた めに光吸収層 1の厚さを光電子の拡散長と同程度に形成する必要がある。しカゝし、 このような厚さの光吸収層 1をダイヤモンド及びダイヤモンドを主成分とするダ ィャモンド膜として形成することは困難である。 本実施形態による透過型光電陰 極では、 光吸収層 1内部に電界を形成して、 光吸収層 1内部において発生した光 電子を出射面へ向けて加速させることによって、 光吸収層 1の厚さが、 例えば厚 さ数 μπι程度といった拡散長より厚い場合でも効率よく光電子を放出させること ができる。
ここで、 光吸収層 1の材料としては、 多結晶ダイヤモンド、 または多結晶ダイ ャモンドを主成分とする材料を用いることが好ましい。 多結晶ダイヤモンドは粒 状結晶からなるため、内部に粒状結晶の表面である粒界面を有している。そして、 光吸収層 1内部において発生した光電子が拡散する全方向に存在する粒界面から 光電子が放出される。 このため、 光電子が励起してから放出されるまでの移動距 離が短くなり、 放出される光電子の数が多くなる。 その結果、 より高い量子効率 を得ることができる。 また、 多結晶ダイヤモンドは単結晶ダイヤモンドに比べて 安価に、 大量に製造できることから、 光吸収層 1の材料として多結晶: ドを用いれば、 透過型光電陰極の製造コストを抑えることができる。
また、 光吸収層 1の出射面上の外縁部には、 支持手段として支持枠 2 1が設け られている。 光吸収層 1は、 内部において発生した光電子を放出するために薄く 形成されるので、 機械的な強度が充分でない場合がある。 このように、 光吸収層 1の機械的強度を補う必要がある場合は、 支持枠 2 1のような支持手段を出射面 上の外縁部などの適当な位置に設けると良い。 これによつて、 光吸収層 1の機械 的強度を補うことができる。
また、 光吸収層 1の出射面は酸素によって終端されていることが好ましい。 光 吸収層 1の出射面が酸素で終端されることによって、 光吸収層 1の出射面は安定 となり、 電気的特性を長期にわたり持続することができる。 あるいは、 光吸収層 1の出射面の表面は、水素で終端することもできる。水素で終端された場合でも、 光吸収層 1の出射面の仕事関数を低下させることができ、 出射面に到達した光電 子を透過型光電陰極の外部へ容易に放出できる。
また、 光吸収層 1が多結晶ダイヤモンドまたは多結晶ダイヤモンドを主成分と する材料からなるときは、光吸収層 1の多結晶ダイヤモンドの表面及び粒界面は、 酸素終端されていることが好ましい。 これらの面が酸素で終端されることによつ て、 光吸収層 1の出射面は安定となり、 電気的特性を長期にわたり持続すること ができる。
なお、 図 1に示した透過型光電陰極は透過型の構成を有しているため、 紫外光 などの被検出光は出射面には入射せず、 上記した終端処理による表面状態は変化 しない。 これによつて、 終端処理により高めた光電子の放出効率を維持できる。 また、 光吸収層 1の出射面上には、 ダイヤモンドの仕事関数を低下させる性質 をもつ活性層 1 1が形成されることが好ましい。 光吸収層 1の出射面の仕事関数 を低下させることで、 光吸収層の出射面に到達した光電子を光吸収層 1の出射面 からさらに容易に放出できる。 また、 この活性層は、 アルカリ金属、 アルカリ金 属の酸化物、 アルカリ金属のフッ化物などを用いて形成されることで、 上記の効 果を好適に得ることができる。
ここで、 図 3は、 図 1に示した透過型光電陰極の、 入射した光の波長に対する 量子効率を示す分光感度特性のグラフである。 図 3では、 縦軸に量子効率 (%;)、 横軸に被検出光の波長 (n m) を表している。 透過型光電陰極を上記した構成と することによって、 真空紫外域の光に対して高い量子効率を実現している。
図 1に示した透過型光電陰極の製造方法及び具体的構成の一例について概略的 に説明する。 図 4 A— Eは、 図 1に示した透過型光電陰極の製造工程を示す工程 図である。
S iからなる基板 2 0の一方の面上に、 多結晶ダイヤモンドからなる光吸収層
1を約 5 μπιの厚さで堆積する (図 4 Α:)。 このような、 薄い多結晶ダイヤモンド の層を形成する方法としては、 熱フィラメントまたはマイクロ波プラズマを用い た化学気相堆積法 (C V D法) やレーザ一アブレーシヨン法などによる合成方法 を用いることができる。 また、 基板 2 0の材料は S iに限らず、 モリブデンゃタ ンタルといった高融点金属や、 石英、 サフアイャといったものを用いてもよい。 次に、 基板 2 0の他方の面上に第 2電極 3 2を蒸着により形成する (図 4 B )。 そして、 基板 2 0の他方の面上から、 第 2電極 3 2と基板 2 0との一部を適当な 寸法のマスクを用いてエッチング除去し、光吸収層 1を一部露出させる(図 4 C )。 エッチングは H F + H N 03溶液または K O H溶液により行われ、基板 2 0がエツ チングされ光吸収層 1が露出するとエッチングは自動的に停止する。 基板 2 0の うち、 エッチングによって除去されなかった部分は、 支持枠 2 1として光吸収層 1の機械的強度を補う機能を有する。
そして、 光吸収層 1の、 エッチングにより露出した面 (出射面) とは反対側の 面 (入射面) 上に、 フォトリソグラフィ一技術とリフトオフ技術を用いて、 適当 な寸法の格子状の第 1電極 3 1を形成する (図 4 D )。 そして、 これらを真空中に 保持して、 光吸収層 1の出射面の清浄化を行った後に出射面等を酸素終端もしく は水素終端する。
最後に、 光吸収層 1の出射面にアルカリ金属、 アルカリ金属の酸化物、 アル力 リ金属のフッ化物など、 ダイヤモンド表面の仕事関数を低下させる性質を有する 材料を塗布して活性層 1 1を形成する (図 4 E )。
上記の製造工程によって、 第 1実施形態による透過型光電陰極を製造すること ができる。 ただし、 透過型光電陰極の製造方法及び具体的構成については、 本実 施例に限らず、 様々な方法及び構成を用いることができる。
図 5は、 透過型光電陰極の第 2実施形態の構成を示す側面断面図である。
図 5に示す透過型光電陰極は、 光吸収層 1、 活性層 1 1、 支持枠 2 1、 第 1電 極膜 3 1 a、 補助電極 3 4、 及び第 2電極 3 2によって構成されている。 このう ち、 光吸収層 1、 活性層 1 1、 支持枠 2 1、 第 2電極 3 2の構成は図 1に示した 透過型光電陰極と同様である。
第 1電極膜 3 l aは、 光吸収層 1の入射面上に薄膜状に形成されている。 第 1 電極膜 3 1 aは、 被検出光により発生した光電子が第 1電極膜 3 1 aで吸収され ないよう、 極めて薄く (厚さ 3 0〜 1 5 0口程度) 形成されている。 また、 薄膜 状に形成されている第 1電極膜 3 1 aへの電気的接続のために、 第 1電極膜 3 1 aの上に補助電極 3 4が形成されている。
本実施形態による透過型光電陰極は、 光吸収層 1の一方の面が入射面で他方の 面が出射面となっている透過型の構成を有している。 この構成によって、 出射面 の表面状態の変化が防止され、 光電子の放出効率の低下を防ぐことができる。 ま た、 光吸収層 1がダイヤモンドもしくはダイャモンドを主成分とする材料を用い て形成されていることによって、 光吸収層 1は、 紫外光などの波長の短い被検出 光の入射に対して高い効率で光電子に変換することができる。
また、 光吸収層 1の入射面側に第 1電極膜 3 1 a、 出射面側に第 2電極 3 2を 設けて光吸収層 1内部に電界を形成している。光吸収層 1内部に電界を形成して、 光吸収層 1内部において発生した光電子を出射面へ向けて加速させることによつ て、 光電子を効率よく透過型光電陰極の外部へ放出させることができる。
また、 第 1電極膜 3 1 aは光吸収層 1の入射面上に薄膜状に形成されている。 電圧印加手段を構成する電極のうち、 光吸収層 1に接する電極は図 1に示した第 1電極 3 1のように形成することで透過型光電陰極を好適に動作させることがで きるが、 製造工程をより簡便にする必要があるときは、 蒸着などの方法により図 5に示すような薄膜状に形成すると良い。 このように形成することで、 透過型光 電陰極での量子効率を向上させるための電圧印加手段を簡便な製造工程により設 けることができる。
図 6は、 透過型光電陰極の第 3実施形態の構成を示す側面断面図である。
図 6に示す透過型光電陰極は、 光吸収層 1、 活性層 1 1、 支持枠 2 2、 第 1電 極 3 5、 及び第 2電極 3 6によって構成されている。 このうち、 光吸収層 1及び 活性層 1 1の構成は図 1に示した透過型光電陰極と同様である。
支持枠 2 2は、薄く形成される光吸収層 1の機械的強度を補う支持手段である。 この支持枠 2 2は、 光吸収層 1の入射面上の外縁部に設けられている。
第 1電極 3 5は、光吸収層 1の入射面に対して設けられる入射面側電極である。 本実施形態においては、 支持枠 2 2の光吸収層 1側とは反対側の全面に第 1電極 3 5が形成されている。 また、 第 2電極 3 6は、 光吸収層 1の出射面に対して設 けられる出射面側電極である。 本実施形態においては、 光吸収層 1の出射面上に 格子状に第 2電極 3 6が形成されている。 これら第 1電極 3 5及び第 2電極 3 6 は、 光吸収層 1の入射面と出射面との間に電圧を印加して光吸収層 1内部に電界 を形成する電圧印加手段として設けられている。
本実施形態による透過型光電陰極は、 光吸収層 1の一方の面が入射面で他方の 面が出射面となっている透過型の構成を有している。 この構成によって、 出射面 の表面状態の変化が防止され、 光電子の放出効率の低下を防ぐことができる。 ま た、 光吸収層 1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分とする材料を用い て形成されていることによって、 光吸収層 1は、 紫外光などの波長の短い被検出 光の入射に対して高い効率で光電子に変換することができる。
また、 光吸収層 1の入射面側に第 1電極 3 5、 出射面側に第 2電極 3 6を設け て光吸収層 1内部に電界を形成している。 光吸収層 1内部に電界を形成して、 光 吸収層 1内部において発生した光電子を出射面へ向けて加速させることによって、 光電子を効率よく透過型光電陰極の外部へ放出させることができる。
また、 光吸収層 1の入射面上の外縁部に、 支持手段として支持枠 2 2が設けら れている。薄く形成されている光吸収層 1の機械的強度を補う必要がある場合は、 支持手段を図 1に示したように出射面上に設けるほか、 本実施形態のように入射 面上に設けることによつても、 光吸収層 1の機械的強度を好適に補うことができ る。
図 7 A、 Bは、 透過型光電陰極の第 4実施形態の構成を示す図である。 図 7 A は透過型光電陰極の側面断面図、 図 7 Bは、 透過型光電陰極を第 2電極 3 2側か ら見た底面図である。
図 7 Aに示す透過型光電陰極は、 光吸収層 1、 活性層 1 1、 支持枠 2 3、 第 1 電極 3 1、 及び第 2電極 3 2によって構成されている。 このうち、 光吸収層 1、 活性層 1 1及び第 1電極 3 1の構成は図 1に示した透過型光電陰極と同様である。 支持枠 2 3は、 光吸収層 1の出射面上に、 図 7 Bに示すような格子状に設けら れている。 この支持枠 2 3は、 各格子枠内の形状及び面積が均一になるように形 成されている。 また、 このように格子状に設けられている支持枠 2 3の、 光吸収 層 1側とは反対側の全面に、 第 2電極 3 2が形成されている。
本実施形態による透過型光電陰極は、 光吸収層 1の一方の面が入射面で他方の 面が出射面となっている透過型の構成を有している。 これによつて、 出射面の表 面状態の変化が防止され、 光電子の放出効率の低下を防ぐことができる。 また、 光吸収層 1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分とする材料を用いて形 成されていることによって、 光吸収層 1は、 紫外光などの波長の短い被検出光の 入射に対して高い効率で光電子に変換することができる。 また、 光吸収層 1の入射面側に第 1電極 3 1、 出射面側に第 2電極 3 2を設け て光吸収層 1内部に電界を形成している。 光吸収層 1内部に電界を形成して、 光 吸収層 1内部において発生した光電子を出射面へ向けて加速させることによって、 光電子を効率よく透過型光電陰極の外部へ放出させることができる。
また、 光吸収層 1の機械的強度を補うための支持枠 2 3が格子状に設けられて いる。 光吸収層 1が比較的小さな面積の場合には、 図 1に示したような形状の支 持手段で充分強度を補うことができる。 しかし、 光吸収層 1の面積が大きいなど の理由から、 機械的強度をさらに補う必要がある場合には、 本実施形態のような 形状の支持手段を設けることによって、 光吸収層 1の機械的強度をさらに補うこ とができる。 このとき、 各格子枠内の形状及び面積が均一になるように支持枠 2 3を設ければ、 機械的強度をより強くすることができる。 なお、 支持手段の形状 は上記した格子状に限られるものではなく、 様々な形状が可能である。
なお、 透過型光電陰極の第 3及び第 4実施形態においては、 第 2電極 3 6及び 第 1電極 3 1を格子状に形成しているが、 第 2実施形態での第 1電極膜 3 1 aの ように薄膜状に形成しても良い。 光吸収層 1の表面に設けられる電極の形状とし ては、 格子状、 薄膜状、 あるいは他の形状を適宜選択することができる。
以上に詳述した透過型光電陰極は、 光電子増倍管や画像増強管などの電子管に 用いることができる。 以下に、 このような電子管に関する実施形態を述べる。 な お、 以下においては透過型光電陰極に設けられる電圧印加手段等については図示 を省略する。
図 8は、 本発明による電子管の第 1実施形態として、 光電子増倍管の一実施形 態の構成を模式的に示す断面図である。
図 8に示す光電子增倍管は、 被検出光を光電子に変換して放出する透過型光電 陰極 4、 光電子を 2次電子増倍する電子増倍手段 5、 増倍された 2次電子を収集 するための陽極 6、 及びこれらを真空状態で内包する容器である真空容器 7によ つて構成されている。 これらの構成要素は、 真空容器 7の内部に、 被検出光が入 射する側から透過型光電陰極 4、 電子増倍手段 5、 陽極 6の順に所定の間隔をあ けて配置されている。
透過型光電陰極 4としては、 ダイヤモンド、 またはダイヤモンドを主成分とす る材料からなる上記した透過型光電陰極が用いられている。 そして、 透過型光電 陰極 4の出射面側に所定の距離をおいて、 電子増倍手段 5が設けられている。 電 子増倍手段 5としては、 マイクロチャンネルプレート (以下、 M C Pという) 5 1が用いられている。 MC P 5 1は、 内壁が 2次電子放出体である筒状のチャン ネルを多数束ねた構成を有している。 このチャンネルの、 光電子が入射する入力 端と 2次電子が放出される出力端との間には所定の電圧が印加され、 電界が形成 されている。 そして、 チャンネル内部に入射した光電子が 2次電子放出体への衝 突を繰り返しながら増倍され、 2次電子として放出される。
また、 M C P 5 1の出力端から所定の距離をおいて、陽極 6が設けられている。 陽極 6は、 M C P 5 1から放出された 2次電子を収集することによって、 透過型 光電陰極 4力、ら放出された光電子を間接的に収集する。
また、 透過型光電陰極 4、 電子増倍手段 5、 及び陽極 6は、 内部が真空状態に なっている密閉容器である真空容器 7に内包されている。 真空容器 7のうち、 被 検出光が入射する透過型光電陰極 4と対向した面には入射窓 7 1が設けられてい る。 これにより、 入射される光のうち所定波長の被検出光が効率よく透過型光電 陰極 4へと入射される。 また、 透過型光電陰極 4 、 M C P 5 1の入力端及び出力 端、 及び陽極 6には、 透過型光電陰極 4側が負の電位、 陽極 6側が正の電位とな るように段階的に電圧が印加されて電界が形成されている。
上記の構成において、 被検出光が入射窓 7 1を通して透過型光電陰極 4の入射 面に入射すると、 透過型光電陰極 4において光電子が生成されて出射面より真空 容器 7内部の真空中へ放出される。 M C P 5 1の入力端には透過型光電陰極 4に 対して正の電圧が印加されて電界が形成されており、 真空中へ放出された光電子 は MC P 5 1 へ入射される。 そして、 M C P 5 1のチャンネル内部で光電子が増 倍されて 2次電子となり、 Sび真空中に放出される。 このとき、 M C P 5 1を通 過した 2次電子は、 例えば光電子の約 1 0 0万倍程度にまで増倍される。 陽極 6 は MC P 5 1の出力端に対して正の電圧が印加されて電界が形成されており、 M C P 5 1から放出された 2次電子は陽極に収集され、 入射した被検出光による検 出信号として光電子増倍管の外部に取り出される。
図 8に示した光電子増倍管においては、 上記した構成及び動作によって以下の 効果が得られる。 すなわち、 上記した構成を有する透過型光電陰極 4を用いるこ とによって、 高い量子効率で紫外光などの被検出光を検出することが可能な光電 子増倍管を実現できる。
また、 被検出光が微弱である等の場合には、 図 8に示したような電子増倍手段 を用いれば、 増倍された大きな電流の検出信号が得られるので、 高い S ZN比で 精度よく被検出光を検出することが可能になる。
図 9は、 電子管の第 2実施形態として、 光電子増倍管の他の実施形態の構成を 模式的に示す断面図である。
図 9に示す光電子増倍管は、 透過型光電陰極 4、 電子増倍手段 5、 陽極 6、 及 び真空容器 7によって構成されている。 このうち、 透過型光電陰極 4、 陽極 6、 及び真空容器 7の構成は図 8に示した光電子増倍管と同様である。
電子増倍手段 5としては、 複数の MC P 5 1 (図 9においては 3個) が用いら れている。 複数の M C P 5 1のそれぞれは、 内壁が 2次電子放出体である筒状の チャンネルを多数束ねた構成を有しており、 チャンネルの入力端と出力端との間 には所定の電圧が印加され、 電界が形成されている。 そして、 このような複数の M C P 5 1が所定の間隔で、 互いの出力端と入力端とが向かい合うように配列さ れている。 また、 透過型光電陰極 4から最も遠い位置にある M C P 5 1の出力端 から所定の距離をおいて、 陽極 6が設けられている。 陽極 6は、 この MC P 5 1 から放出された 2次電子を収集する。
上記の構成において、 被検出光が入射窓 7 1を通して透過型光電陰極 4の入射 面に入射すると、 透過型光電陰極 4において光電子が生成されて出射面より真空 容器 7内部の真空中へ放出される。 真空中へ放出された光電子は、 1次電子とし て透過型光電陰極 4に最も近い位置にある MC P 5 1へ入射し、 増倍されて 2次 電子として放出される。 そして、 これ以降に配列されている複数の M C P 5 1に よって繰り返し増倍される。 最後に、 増倍された 2次電子は陽極 6に収集され、 入射した被検出光による検出信号として光電子増倍管の外部に取り出される。 図 9に示した光電子増倍管においては、 上記した構成及び動作によって以下の 効果が得られる。 すなわち、 上記した構成を有する透過型光電陰極 4を用いるこ とによって、 高い量子効率で紫外光などの被検出光を検出することが可能な光電 子增倍管を実現できる。
また、 電子増倍手段 5としてネ复数の M C P 5 1を用いることによって、 さらに 高い 2次電子増倍率で大きな検出信号を得ることができるので、 より高い S ZN 比で精度よく被検出光を検出することが可能になる。
なお、 上記した光電子増倍管の各実施形態では、 透過型光電陰極 4と MC P 5 1、 陽極 6が対向するいわゆる近接型の構成となっているが、 例えば透過型光電 陰極 4と電子増倍手段 5との間に静電レンズを備えて光電子を収束する、 いわゆ る静電収束型の構成としてもよい。 また、 透過型光電陰極を用いた電子管として は、 上記した光電子増倍管以外にも、 電子増倍手段 5を備えない、 すなわち透過 型光電陰極 4から放出された光電子が直接に陽極 6に収集されるような構成とし てもよレヽ。
また、 光電子もしくは 2次電子を収集するための陽極 6を備えているが、 陽極 6のかわりにフォトダイォ一ドなどの半導体素子を備えてもよい。 光電子もしく は 2次電子を直接このような半導体素子に打ち込む、 いわゆる電子打ち込み型の 光電子増倍管として動作させることで、 上記した光電子増倍管の各実施形態を好 適に実施できる。
図 1 0は、 電子管の第 3実施形態として、 イメージ管である画像増強管 (ィメ ージ ·インテンシファイア) の構成を模式的に示す断面図である。
図 1 0に示す画像増強管は、 透過型光電陰極 4、 電子増倍手段 5、 陽極 6 a、 及び真空容器 7によって構成されている。 このうち、 透過型光電陰極 4、 電子増 倍手段 5、及び真空容器 7の構成は図 8に示した光電子増倍管とほぼ同様である。 陽極 6 aは、 M C P 5 1から放出された 2次電子を収集する機能を有し、 M C
P 5 1の出力端から所定の距離をおいて設けられている。 また、 この陽極 6 aは 電子が入射することによって発光する蛍光体からなる。
上記の構成において、 画像を構成している被検出光が入射窓 7 1を透過して透 過型光電陰極 4に入射すると、 透過型光電陰極 4内部において光電子が生成され て真空容器 7内部に放出される。 そして、 放出された光電子は M C P 5 1に入射 する。 このとき、 M C P 5 1の入力端には透過型光電陰極 4に対して正の電圧が 印加され、 電界が形成されている。 光電子はこの電界と平行に進むので、 画像増 強管に入射したときの 2次元情報を保ちながら M C P 5 1に入射する。 M C P 5 1に入射した光電子は増倍されて 2次電子として放出され、 蛍光体からなる陽極 6 aに収集される。 このとき、 M C P 5 1の出力端には入力端に対して正の電圧 が印加され、 かつ陽極 6 aには M C P 5 1の出力端に対して正の電圧が印加され ている。 これらにより電界が形成され、 光電子が有していた 2次元情報を保ちな がら 2次電子が陽極 6 aに収集されて、 蛍光体からなる陽極 6 aが発光する。 以 上の動作によって、 画像増強管に入射した被検出光による画像は増強されて、 蛍 光体からなる陽極 6 aから出力される。
図 1 0に示した画像増強管においては、 上記した構成及び動作によって以下の 効果が得られる。 すなわち、 上記した構成を有する透過型光電陰極 4を用いるこ とによって、 高い量子効率を有する画像増強管を実現できる。
また、 透過型光電陰極 4に入射した被検出光の光量に応じて、 高い量子効率で 得られた光電子が、さらに増倍されて蛍光体へ入射し、高輝度の画像が得られる。 これにより、 入射された画像が微弱である場合においても精度よく画像を増倍す ることが可能になる。
なお、 上記した画像増強管においては、 光電子または 2次電子によって発光す る手段として蛍光体が用いられているが、 この手段は電子を画像に変換できるも のであればよい。 例えば、 蛍光体のかわりに電荷結合素子 (C C D ) などの撮像 素子を備え、 光電子あるいは 2次電子を直接撮像素子に打ち込み、 画像化するこ とによっても同様の効果を得ることができる。
図 1 1は、 電子管の第 4実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
図 1 1に示す電子管は、 透過型光電陰極 4、 陽極 6 b、 及び真空容器 7によつ て構成されている。 これらの透過型光電陰極 4、 陽極 6 b、 及び真空容器 7の構 成は、 図 1 0に示した画像増強管と同様であるが、 本実施形態の電子管は、 電子 増倍手段を有しない構成となっている。 本電子管は、 透過型光電陰極に入射され た被検出光の入射位置に対応する位置の蛍光体を発光させることにより、 画像を. 表示する画像表示素子として用いることができる。 以下に、 画像表示素子として の電子管の動作を説明する。
画像信号としての被検出光 ( 1 1、 m l、 n 1 ) が入射窓 7 1を透過して透過 型光電陰極 4の所定の位置に入射すると、 透過型光電陰極 4内部において被検出 光の入射位置に対応した光電子 (e l、 e 2、 e 3 ) が生成されて真空容器 7内 部に放出される。 真空中へ放出された光電子は、 透過型光電陰極 4と陽極 6 bと の間に高電圧が印加されているため、 加速されて直進し、 蛍光体からなる陽極 6 bに収集される。 すなわち入射位置の異なる被検出光 1 1、 m l、 n lに対応す る位置において、 それぞれ光 1 2、 m 2、 n 2が蛍光体から発光される。
図 1 1に示した電子管においては、 上記した構成及び動作によって以下の効果 が得られる。 すなわち、 上記した構成を有する透過型光電陰極 4を用いることに よって、 高い量子効率を有する電子管を実現できる。 このことから、 透過型光電 陰極 4に入力された画像信号の光量に対して高い量子効率で得られた光電子によ つて高輝度の画像が得られるので、 高輝度、 低消費電力で静止画や動画を表示す ることが可能となる。 また、 電子管に入力される画像信号として、 X Yア ドレス などの 2次元での位置情報が与えられた、 プラズマ光などの紫外光を用いれば、 従来のプラズマディスプレイのようにプラズマにより直接蛍光体を発光させるよ りも、 より高輝度、 低消费電力な画像表示装置を実現できる。
なお、第 3実施形態の画像増強管、及び第 4実施形態の画像表示素子において、 さらに高輝度な画像を得る必要があるときには、 2次電子増倍率をさらに得るた めに M C P 5 1は任意の個数とすることができる。 このようにすれば、 入射した 画像をさらに増強し、 高輝度とすることができる。
本発明による透過型光電陰極及び電子管は、 上記した実施形態に限られるもの ではなく、 様々な変形が可能である。 例えば、 透過型光電陰極の各実施形態にお いて、 光吸収層 1の機械的強度が充分であるなどの場合には、 この機械的強度を 補うための支持枠 2 1〜2 3を有しない構成としてもよい。 また、 光吸収層 1か ら光電子を充分に効率よく放出できるなどの場合には、 光吸収層 1の出射面の仕 事関数を低下させる活性層 1 1を設けない構成としてもよい。
また、 電子管の各実施形態において、 大気圧に対して真空容器 7の強度が不足 する場合には、真空容器 7内部にスぺーサなどの補強手段を備えるとよい。また、 電子増倍手段として M C P 5 1を用いているが、 電子増倍手段はこれに限られる ものではなく、 1段または複数段のダイノードなどを用いてもよい。
産業上の利用可能性
本発明は、 例えば半導体集積素子の製造工程においてフォトリソグラフィ一を 用いる際の光モニタ装置に適用可能である。

Claims

請求の範囲
1 . 入射された被検出光によって励起された光電子を放出する光電陰極であ つて、
ダイヤモンド、 またはダイヤモンドを主成分とする材料からなり、 その一方の 面が前記被検出光を入射する入射面、 他方の面が前記光電子を放出する出射面と なっている光吸収層と、
前記光吸収層に対して、 前記入射面と前記出射面との間に所定電圧を印加する 電圧印加手段と
を備えることを特徴とする透過型光電陰極。
2 . 前記光吸収層の機械的強度を補う支持手段を備えることを特徴とする請 求項 1記載の透過型光電陰極。
3 . 前記光吸収層は、 多結晶ダイヤモンド、 または多結晶ダイヤモンドを主 成分とする材料からなることを特徴とする請求項 1または 2記載の透過型光電陰 極。
4 . 前記光吸収層の前記多結晶ダイヤモンドの粒界面が酸素終端されている ことを特徴とする請求項 3記載の透過型光電陰極。
5 . 前記光吸収層の前記出射面が水素終端されていることを特徴とする請求 項 1〜4のいずれか 1項に記載の透過型光電陰極。
6 . 前記光吸収層の前記出射面が酸素終端されていることを特徴とする請求 項 1〜4のいずれか 1項に記載の透過型光電陰極。
7 . 前記光吸収層の前記出射面上に、 前記光吸収層の仕事関数を低下させる ための活性層が形成されていることを特徴とする請求項 1〜 6のレ、ずれか 1項に 記載の透過型光電陰極。
8 . 前記光吸収層の前記活性層は、 アルカリ金属、 アルカリ金属の酸化物、 またはアルカリ金属のフッ化物からなることを特徴とする請求項 Ί記載の透過型 光電陰極。
9 . 請求項 1〜 8の何れか一項記載の透過型光電陰極と、
前記透過型光電陰極から放出された前記光電子を直接または間接に収集するた めの陽極と、
前記透過型光電陰極及び前記陽極を収納する容器と
を備えることを特徴とする電子管。
1 0 . 前記透過型光電陰極から放出された前記光電子を 2次電子増倍する電 子增倍手段を備えることを特徴とする請求項 9記載の電子管。
1 1 . 前記陽極は、 電子が入射することによって発光する蛍光体からなるこ とを特徴とする請求項 9または 1 0記載の電子管。
1 2 . 電子が入射することによって発光する蛍光体を備え、 前記透過型光電 陰極への前記被検出光の入射位置に対応する位置の前記蛍光体を発光させること により画像を表示することを特徴とする請求項 9または 1 0記載の電子管。
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