JP2003263952A - 透過型2次電子面及び電子管 - Google Patents

透過型2次電子面及び電子管

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JP2003263952A
JP2003263952A JP2002064165A JP2002064165A JP2003263952A JP 2003263952 A JP2003263952 A JP 2003263952A JP 2002064165 A JP2002064165 A JP 2002064165A JP 2002064165 A JP2002064165 A JP 2002064165A JP 2003263952 A JP2003263952 A JP 2003263952A
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secondary electron
electron
electrons
emission
emission layer
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Minoru Aragaki
実 新垣
Shoichi Uchiyama
昌一 内山
Hirobumi Suga
博文 菅
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Hamamatsu Photonics KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 1次電子の入射に対して効率よく2次電子を
放出することができる透過型2次電子面、及びそれを用
いた電子管を提供する。 【解決手段】 本発明による透過型2次電子面は、ダイ
ヤモンド、またはダイヤモンドを主成分とする材料から
形成された2次電子放出層1、2次電子放出層1の機械
的強度を補う支持枠21、2次電子放出層1の入射面に
対して設けられる第1電極31、及び2次電子放出層1
の出射面に対して設けられる第2電極32によって構成
されている。そして、2次電子放出層1の入射面と出射
面との間に電圧が印加され、2次電子放出層1内部に電
界が形成される。1次電子が入射して2次電子放出層1
内部に2次電子が生成されると、2次電子放出層1内部
に形成されている電界によって2次電子は出射面方向に
加速され、透過型2次電子面の外部に放出される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射された1次電
子によって生成された2次電子を放出する透過型2次電
子面及び透過型2次電子面を備えた電子管に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】近年、電子管に用いられる2次電子面と
して、ダイヤモンドを用いたものが注目されている。こ
れは、ダイヤモンドが負の電子親和力を有しており、そ
の2次電子放出効率が高いためである。このようなダイ
ヤモンドを、2次電子が放出される出射面と1次電子が
入射する入射面が同一の表面である、反射型2次電子面
の材料として用いた一例が、文献“Thin Solid Films 2
53(1994)p151”に報告されている。すなわち、この2次
電子面では、Mo、Pd、TiまたはAlN等からなる
基板上に、その表面が水素終端された多結晶ダイヤモン
ド薄膜が形成され、その2次電子放出効率を向上させて
いる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のような反射型2
次電子面では、入射面と出射面が同一の表面であるた
め、入射する1次電子によって、水素終端が脱離するな
どの出射面の状態の変化が生じ、その2次電子放出効率
が低下する。この欠点を解決するために、入射面と出射
面に異なる面が用いられる透過型2次電子面が開示され
ている(特開平10−144251号公報、US特許第
5,986,387号)。
【0004】図11は、従来の透過型2次電子面を備え
る電子管の一例を示す構成図である。この電子管は、光
電子放出面からなる陰極101と、透過型2次電子面1
02と、陽極103とを備えている。また、透過型2次
電子面102は、ダイヤモンド薄膜102aと、その剛
性を補うための補強手段102bとからなる。ここで、
光が入射することによって陰極101から光電子が放出
されると、この光電子が透過型2次電子面102へ入射
して2次電子が生成され、陽極103へ向けて放出され
る。そして、陽極103に入射した2次電子によって、
ガラス面板103b上に塗布された蛍光体103aが発
光する。
【0005】また、図12に示すように、ダイヤモンド
を用いた透過型2次電子面であって、2次電子面の出射
面に対向する陽極に電圧を印加して2次電子を加速させ
る透過型2次電子面も開示されている(US特許第6,
060,839号)。この透過型2次電子面では、1次
電子が電極105を通過してダイヤモンド薄膜106に
入射すると、2次電子が生成され、放出される。この2
次電子は、陽極107に電圧が印加されることにより形
成されている電界によって、陽極107の方向へ加速さ
れる。
【0006】しかしながら、以上に示した透過型2次電
子面では、いまだに実用的な2次電子放出効率を有する
ものが実現されていない。この理由として、以下の点が
挙げられる。すなわち透過型2次電子面においては、1
次電子の入射により生成された2次電子が入射面とは反
対側の出射面まで移動し、その表面から放出されなくて
はならない。そのためには膜厚が電子の拡散長(平均自
由行程)程度の非常に薄いダイヤモンド膜が必要とな
る。また、本願発明者による光電子放出の実験結果よ
り、ダイヤモンド膜内の電子の拡散長は0.05μm程
度であることがわかっている。よって、透過型2次電子
面において効率よく2次電子を放出させるためには、ダ
イヤモンド薄膜の膜厚を拡散長と同程度、すなわち0.
05μm程度にする必要がある。しかしながら実際には
このような非常に薄いダイヤモンド膜では機械的強度の
不足や均一性の悪さから、上記したような透過型2次電
子面を実現することは不可能である。
【0007】一方、ダイヤモンド薄膜が充分な機械的強
度を有するためには少なくとも数μm程度の膜厚が要求
されるが、このような厚い膜では1次電子の入射により
生成された2次電子が入射面とは反対側の出射面までほ
とんど到達できない。このため、結果として2次電子放
出効率が非常に低くなり、実用的な透過型2次電子面を
実現することはできなかった。
【0008】本発明は、以上の問題点を解決するために
なされたものであり、1次電子の入射に対して効率よく
2次電子を放出することができる透過型2次電子面、及
びそれを用いた電子管を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明による透過型2次電子面は、入射され
た1次電子によって生成された2次電子を放出する2次
電子面であって、ダイヤモンド、またはダイヤモンドを
主成分とする材料からなり、その一方の面が1次電子を
入射する入射面、他方の面が2次電子を放出する出射面
となっている2次電子放出層と、2次電子放出層に対し
て、入射面と出射面との間に所定電圧を印加する電圧印
加手段とを備えることを特徴とする。
【0010】2次電子放出層の一方が入射面、他方が出
射面となっている透過型の2次電子面とすることによっ
て、1次電子の入射により出射面の表面状態が変化する
ことがなく、2次電子の放出効率の低下を防ぐことがで
きる。また、2次電子放出層がダイヤモンド、またはダ
イヤモンドを主成分とする材料からなることによって、
1次電子に対する2次電子放出効率を高めることができ
る。また、電圧印加手段が2次電子放出層内部に電界を
形成することによって、2次電子を出射面まで到達し易
くし、高い効率で放出させることができる。
【0011】また、透過型2次電子面は、2次電子放出
層の機械的強度を補う支持手段を備えることを特徴とし
てもよい。これにより、薄く形成される2次電子放出層
の機械的強度を補うことができる。
【0012】また、2次電子放出層は、多結晶ダイヤモ
ンド、または多結晶ダイヤモンドを主成分とする材料か
らなることを特徴とする。多結晶ダイヤモンドは薄膜内
部に粒界面が存在するので、単結晶ダイヤモンドよりも
効率よく2次電子を放出させることができる。また、多
結晶ダイヤモンドは単結晶ダイヤモンドに比べて形成が
容易なので、安価に製造することができる。
【0013】また、2次電子放出層が多結晶ダイヤモン
ドからなる場合には、その表面及び粒界面が酸素終端さ
れていることが好ましい。このようにすれば、出射面は
安定となり、電気的特性を長期にわたり持続させること
ができる。
【0014】また、2次電子放出層の出射面は酸素終端
されていることが好ましい。このようにすれば、出射面
は安定となり、電気的特性を長期にわたり持続させるこ
とができる。あるいは、2次電子放出層の出射面は水素
終端されていても、出射面の仕事関数を低下させること
ができ、出射面に到達した2次電子を透過型2次電子面
の外部へ容易に放出できる。
【0015】また、2次電子放出層の出射面には2次電
子放出層の仕事関数を低下させるための活性層が形成さ
れていることが好ましい。これにより、2次電子放出層
の出射面に到達した2次電子は透過型2次電子面の外部
へさらに容易に放出されることができる。この活性層
は、アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、またはアル
カリ金属のフッ化物を用いて形成されると、上記の効果
を好適に奏することができる。
【0016】また、本発明による電子管は、上記した透
過型2次電子面と、1次電子を透過型2次電子面へ向け
て放出する電子源と、透過型2次電子面から放出された
2次電子を収集するための陽極と、透過型2次電子面、
電子源、及び陽極を収納する容器とを備えることを特徴
とする。透過型2次電子面を用いたこのような電子管に
よれば、1次電子の入射に対して効率よく2次電子を得
ることができる。
【0017】また、電子源は、入射された被検出光によ
って励起された光電子を1次電子として放出する光電陰
極からなることを特徴としてもよい。このような電子管
により、微弱な被検出光を高いS/N比で精度よく検出
することが可能な光電子増倍管が得られる。
【0018】また、電子源は、入射された被検出光によ
って励起された光電子を1次電子として放出する光電陰
極からなるとともに、陽極は、2次電子が入射すること
によって発光する蛍光面を有することを特徴としてもよ
い。このような電子管により、被検出光による画像を高
いS/N比で精度よく再現することが可能な画像増強管
が得られる。
【0019】また、電子源は、電界放出電子源からなる
とともに、陽極は、2次電子が入射することによって発
光する蛍光面を有することを特徴としてもよい。このよ
うな電子管により、電界放出電子源から放出された電子
に対して効率よく2次電子を得ることができ、高輝度で
ある蛍光表示管が得られる。また、このような電子管
は、蛍光面から生じるイオンが直接電界放出電子源に到
達しないため、長寿命かつ安定となる。
【0020】また、電子源は、複数の電界放出電子源が
アレイ状に配列された電界放出電子源アレイからなると
ともに、陽極は、2次電子が入射することによって発光
する蛍光面を有することを特徴としてもよい。このよう
な電子管により、高輝度であるとともに、長寿命かつ安
定な平面表示装置が得られる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面とともに本発明による
透過型2次電子面及び電子管の好適な実施形態について
詳細に説明する。なお、図面の説明においては同一要素
には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、
図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していな
い。
【0022】図1は、本発明による透過型2次電子面の
第1実施形態の構成を示す側面断面図である。また、図
2は図1に示した透過型2次電子面の斜視図である。
【0023】図1に示す透過型2次電子面は、2次電子
放出層1、支持枠21、第1電極31、及び第2電極3
2によって構成されている。この透過型2次電子面は、
1次電子の入射により2次電子放出層1内部に2次電子
が生成され、この2次電子が外部へ放出される2次電子
面である。また、2次電子放出層1の一方の面(図1中
の上面)が1次電子を入射する入射面、その反対側の面
となる他方の面(図1中の下面)が2次電子を放出する
出射面となる透過型の構成を有している。
【0024】2次電子放出層1はダイヤモンド、または
ダイヤモンドを主成分とする材料から形成されたダイヤ
モンド膜からなる。この2次電子放出層1は、好ましく
は1次電子が入射する入射深さよりも充分に厚く形成さ
れるのが良い。また、2次電子放出層1は出射面が酸素
終端や水素終端として終端処理されるのが好ましい。
【0025】支持枠21は、薄く形成される2次電子放
出層1の機械的強度を補う支持手段である。この支持枠
21は、Si等の材料からなり、2次電子放出層1の出
射面上の外縁部に設けられている。
【0026】第1電極31は、2次電子放出層1の入射
面に対して設けられる入射面側電極である。本実施形態
においては、図2に示すように2次電子放出層1の入射
面上に格子状に第1電極31が形成されている。また、
第2電極32は、2次電子放出層1の出射面に対して設
けられる出射面側電極である。本実施形態においては、
支持枠21の2次電子放出層1側とは反対側の全面に第
2電極32が形成されている。これら第1電極31及び
第2電極32は、2次電子放出層1の入射面と出射面と
の間に電圧を印加して2次電子放出層1内部に電界を形
成する電圧印加手段として設けられている。
【0027】また、2次電子放出層1の出射面上には、
出射面の仕事関数を低下させるための活性層11が形成
されている。
【0028】上記した透過型2次電子面の構成におい
て、1次電子が2次電子放出層1の入射面から入射する
と、2次電子放出層1内部に1次電子の入射エネルギー
に相応する2次電子が生成される。また、2次電子放出
層1内部には、第1電極31と第2電極32との間に接
続された電源33によって所定の電圧を印加することに
より、出射面側が正、入射面側が負となるような電界が
形成されている。この電界によって、2次電子放出層1
内部に生成された2次電子は出射面方向に加速され、出
射面に到達した後、活性層11を通過して透過型2次電
子面の外部に放出される。
【0029】本実施形態の透過型2次電子面は、以下に
示す効果を得ることができる。
【0030】図1に示した透過型2次電子面は、2次電
子放出層1の一方の面が入射面で他方の面が出射面とな
っている透過型の構成を有している。このように、1次
電子が入射する入射面を2次電子が放出される出射面と
する反射型ではなく、透過型の構成とすることにより、
1次電子の入射による出射面の表面状態の変化が防止さ
れる。これによって、出射面での仕事関数の変化が抑制
されるので、2次電子の放出効率の低下を防ぐことがで
きる。
【0031】また、2次電子放出層1がダイヤモンドも
しくはダイヤモンドを主成分とする材料を用いて形成さ
れている。ダイヤモンドは負の電子親和力を有するため
に2次電子の放出効率が高い。そのため、2次電子放出
層1は1次電子の入射に対して効率よく2次電子を放出
することができる。
【0032】また、2次電子放出層1の入射面側に第1
電極31、出射面側に第2電極32を設けて2次電子放
出層1内部に電界を形成している。これによって、2次
電子放出層1内部で生成された2次電子を効率よく出射
面に到達させることができ、2次電子が透過型2次電子
面の外部へ放出される効率を高めることができる。通
常、2次電子放出層1内部で生成された2次電子が2次
電子放出層1外部へ放出されるためには、2次電子を外
部へ放出させるために2次電子放出層1の厚さを2次電
子の拡散長(平均自由行程)と同程度に形成する必要が
ある。しかし、このような厚さの2次電子放出層1をダ
イヤモンド及びダイヤモンドを主成分とするダイヤモン
ド膜として形成することは困難である。本実施形態によ
る透過型2次電子面では、2次電子放出層1内部に電界
を形成して、2次電子放出層1内部において生成された
2次電子を出射面へ向けて加速させることによって、2
次電子放出層1の厚さが、例えば厚さ数μm程度といっ
た拡散長より厚い場合でも効率よく2次電子を放出させ
ることができる。
【0033】ここで、2次電子放出層1の材料として
は、多結晶ダイヤモンド、または多結晶ダイヤモンドを
主成分とする材料を用いることが好ましい。多結晶ダイ
ヤモンドは粒状結晶からなるため、内部に粒状結晶の表
面である粒界面を有している。そして、2次電子放出層
1内部において生成された2次電子が拡散する全方向に
存在する粒界面から2次電子が放出される。このため、
2次電子が生成されてから放出されるまでの移動距離が
短くなり、放出される2次電子の数が多くなる。その結
果、より高い放出効率を得ることができる。また、多結
晶ダイヤモンドは単結晶ダイヤモンドに比べて安価に、
大量に製造できることから、2次電子放出層1の材料と
して多結晶ダイヤモンドを用いれば、透過型2次電子面
の製造コストを抑えることができる。
【0034】また、2次電子放出層1の出射面上の外縁
部には、支持手段として支持枠21が設けられている。
2次電子放出層1は、内部において生成された2次電子
を放出するために薄く形成されるので、機械的な強度が
充分でない場合がある。このように、2次電子放出層1
の機械的強度を補う必要がある場合は、支持枠21のよ
うな支持手段を出射面上の外縁部などの適当な位置に設
けると良い。これによって、2次電子放出層1の機械的
強度を補うことができる。
【0035】また、2次電子放出層1の出射面は酸素に
よって終端されていることが好ましい。2次電子放出層
1の出射面が酸素で終端されることによって、2次電子
放出層1の出射面は安定となり、電気的特性を長期にわ
たり持続することができる。あるいは、2次電子放出層
1の出射面の表面は、水素で終端することもできる。水
素で終端された場合でも、2次電子放出層1の出射面の
仕事関数を低下させることができ、出射面に到達した2
次電子を透過型2次電子面の外部へ容易に放出できる。
【0036】また、2次電子放出層1が多結晶ダイヤモ
ンドまたは多結晶ダイヤモンドを主成分とする材料から
なるときは、2次電子放出層1の多結晶ダイヤモンドの
表面及び粒界面は、酸素終端されていることが好まし
い。これらの面が酸素で終端されることによって、2次
電子放出層1の出射面は安定となり、電気的特性を長期
にわたり持続することができる。
【0037】なお、図1に示した透過型2次電子面は透
過型の構成を有しているため、1次電子は出射面には入
射せず、上記した終端処理による表面状態は変化しな
い。これによって、終端処理により高めた2次電子の放
出効率を維持できる。
【0038】また、2次電子放出層1の出射面上には、
ダイヤモンドの仕事関数を低下させる性質をもつ活性層
11が形成されることが好ましい。2次電子放出層1の
出射面の仕事関数を低下させることで、2次電子放出層
の出射面に到達した2次電子を2次電子放出層1の出射
面からさらに容易に放出できる。また、この活性層は、
アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属の
フッ化物などを用いて形成されることで、上記の効果を
好適に得ることができる。
【0039】図1に示した透過型2次電子面の製造方法
及び具体的構成の一例について概略的に説明する。図3
は、図1に示した透過型2次電子面の製造工程を示す工
程図である。
【0040】Siからなる基板20の一方の面上に、多
結晶ダイヤモンドからなる2次電子放出層1を約5μm
の厚さで堆積する(図3(a))。このような、薄い多
結晶ダイヤモンドの層を形成する方法としては、熱フィ
ラメントまたはマイクロ波プラズマを用いた化学気相堆
積法(CVD法)やレーザーアブレーション法などによ
る合成方法を用いることができる。また、基板20の材
料はSiに限らず、モリブデンやタンタルといった高融
点金属や、石英、サファイヤといったものを用いてもよ
い。
【0041】次に、基板20の他方の面上に第2電極3
2を蒸着により形成する(図3(b))。そして、基板
20の他方の面上から、第2電極32と基板20との一
部を適当な寸法のマスクを用いてエッチング除去し、2
次電子放出層1を一部露出させる(図3(c))。エッ
チングはHF+HNO3溶液またはKOH溶液により行
われ、基板20がエッチングされ2次電子放出層1が露
出するとエッチングは自動的に停止する。基板20のう
ち、エッチングによって除去されなかった部分は、支持
枠21として2次電子放出層1の機械的強度を補う機能
を有する。
【0042】そして、2次電子放出層1の、エッチング
により露出した面(出射面)とは反対側の面(入射面)
上に、フォトリソグラフィー技術とリフトオフ技術を用
いて、適当な寸法の格子状の第1電極31を形成する
(図3(d))。そして、これらを真空中に保持して、
2次電子放出層1の出射面の清浄化を行った後に出射面
等を酸素終端もしくは水素終端する。
【0043】最後に、2次電子放出層1の出射面にアル
カリ金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属のフッ
化物など、ダイヤモンド表面の仕事関数を低下させる性
質を有する材料を塗布して活性層11を形成する(図3
(e))。
【0044】上記の製造工程によって、第1実施形態に
よる透過型2次電子面を製造することができる。ただ
し、透過型2次電子面の製造方法及び具体的構成につい
ては、本実施例に限らず、様々な方法及び構成を用いる
ことができる。
【0045】図4は、透過型2次電子面の第2実施形態
の構成を示す側面断面図である。
【0046】図4に示す透過型2次電子面は、2次電子
放出層1、活性層11、支持枠21、第1電極膜31
a、補助電極34、及び第2電極32によって構成され
ている。このうち、2次電子放出層1、活性層11、支
持枠21、第2電極32の構成は図1に示した透過型2
次電子面と同様である。
【0047】第1電極膜31aは、2次電子放出層1の
入射面上に薄膜状に形成されている。第1電極膜31a
は、2次電子放出層1内部で生成された2次電子が第1
電極膜31aで吸収されないよう、ごく薄く(厚さ30
〜150Å程度)形成されている。また、薄膜状に形成
されている第1電極膜31aへの電気的接続のために、
第1電極膜31aの上に補助電極34が形成されてい
る。
【0048】本実施形態による透過型2次電子面は、2
次電子放出層1の一方の面が入射面で他方の面が出射面
となっている透過型の構成を有している。この構成によ
って、出射面の表面状態の変化が防止され、2次電子の
放出効率の低下を防ぐことができる。また、2次電子放
出層1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分と
する材料を用いて形成されていることによって、2次電
子放出層1は、1次電子の入射に対して高い効率で2次
電子を放出することができる。
【0049】また、2次電子放出層1の入射面側に第1
電極膜31a、出射面側に第2電極32を設けて2次電
子放出層1内部に電界を形成している。2次電子放出層
1内部に電界を形成して、2次電子放出層1内部におい
て生成された2次電子を出射面へ向けて加速させること
によって、2次電子を効率よく透過型2次電子面の外部
へ放出させることができる。
【0050】また、第1電極膜31aは2次電子放出層
1の入射面上に薄膜状に形成されている。電圧印加手段
を構成する電極のうち、2次電子放出層1に接する電極
は図1に示した第1電極31のように形成することで透
過型2次電子面を好適に動作させることができるが、製
造工程をより簡便にする必要があるときは、蒸着などの
方法により図4に示すような薄膜状に形成すると良い。
このように形成することで、透過型2次電子面の2次電
子放出効率を向上させるための電圧印加手段を簡便な製
造工程により設けることができる。また、第1電極膜3
1aを上記のようにごく薄く形成することによって、1
次電子は第1電極膜31aに吸収されることなく、2次
電子放出層1に到達することができる。
【0051】図5は、透過型2次電子面の第3実施形態
の構成を示す側面断面図である。
【0052】図5に示す透過型2次電子面は、2次電子
放出層1、活性層11、支持枠22、第1電極35、及
び第2電極36によって構成されている。このうち、2
次電子放出層1及び活性層11の構成は図1に示した透
過型2次電子面と同様である。
【0053】支持枠22は、薄く形成される2次電子放
出層1の機械的強度を補う支持手段である。この支持枠
22は、2次電子放出層1の入射面上の外縁部に設けら
れている。
【0054】第1電極35は、2次電子放出層1の入射
面に対して設けられる入射面側電極である。本実施形態
においては、支持枠22の2次電子放出層1側とは反対
側の全面に第1電極35が形成されている。また、第2
電極36は、2次電子放出層1の出射面に対して設けら
れる出射面側電極である。本実施形態においては、2次
電子放出層1の出射面上に格子状に第2電極36が形成
されている。これら第1電極35及び第2電極36は、
2次電子放出層1の入射面と出射面との間に電圧を印加
して2次電子放出層1内部に電界を形成する電圧印加手
段として設けられている。
【0055】本実施形態による透過型2次電子面は、2
次電子放出層1の一方の面が入射面で他方の面が出射面
となっている透過型の構成を有している。この構成によ
って、出射面の表面状態の変化が防止され、2次電子の
放出効率の低下を防ぐことができる。また、2次電子放
出層1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分と
する材料を用いて形成されていることによって、2次電
子放出層1は、1次電子の入射に対して効率よく2次電
子を放出することができる。
【0056】また、2次電子放出層1の入射面側に第1
電極35、出射面側に第2電極36を設けて2次電子放
出層1内部に電界を形成している。2次電子放出層1内
部に電界を形成して、2次電子放出層1内部において生
成された2次電子を出射面へ向けて加速させることによ
って、2次電子を効率よく透過型2次電子面の外部へ放
出させることができる。
【0057】また、2次電子放出層1の入射面上の外縁
部に、支持手段として支持枠22が設けられている。薄
く形成されている2次電子放出層1の機械的強度を補う
必要がある場合は、支持手段を図1に示したように出射
面上に設けるほか、本実施形態のように入射面上に設け
ることによっても、2次電子放出層1の機械的強度を好
適に補うことができる。
【0058】図6は、透過型2次電子面の第4実施形態
の構成を示す図である。図6(a)は透過型2次電子面
の側面断面図、図6(b)は、透過型2次電子面を第2
電極32側から見た底面図である。
【0059】図6に示す透過型2次電子面は、2次電子
放出層1、活性層11、支持枠23、第1電極31、及
び第2電極32によって構成されている。このうち、2
次電子放出層1、活性層11及び第1電極31の構成は
図1に示した透過型2次電子面と同様である。
【0060】支持枠23は、2次電子放出層1の出射面
上に、図6(b)に示すような格子状に設けられてい
る。この支持枠23は、各格子枠内の形状及び面積が均
一になるように形成されている。また、このように格子
状に設けられている支持枠23の、2次電子放出層1側
とは反対側の全面に、第2電極32が形成されている。
【0061】本実施形態による透過型2次電子面は、2
次電子放出層1の一方の面が入射面で他方の面が出射面
となっている透過型の構成を有している。これによっ
て、出射面の表面状態の変化が防止され、2次電子の放
出効率の低下を防ぐことができる。また、2次電子放出
層1がダイヤモンドもしくはダイヤモンドを主成分とす
る材料を用いて形成されていることによって、2次電子
放出層1は、1次電子の入射に対して効率よく2次電子
を放出することができる。
【0062】また、2次電子放出層1の入射面側に第1
電極31、出射面側に第2電極32を設けて2次電子放
出層1内部に電界を形成している。2次電子放出層1内
部に電界を形成して、2次電子放出層1内部において生
成された2次電子を出射面へ向けて加速させることによ
って、2次電子を効率よく透過型2次電子面の外部へ放
出させることができる。
【0063】また、2次電子放出層1の機械的強度を補
うための支持枠23が格子状に設けられている。2次電
子放出層1が比較的小さな面積の場合には、図1に示し
たような形状の支持手段で充分強度を補うことができ
る。しかし、2次電子放出層1の面積が大きいなどの理
由から、機械的強度をさらに補う必要がある場合には、
本実施形態のような形状の支持手段を設けることによっ
て、2次電子放出層1の機械的強度をさらに補うことが
できる。このとき、各格子枠内の形状及び面積が均一に
なるように支持枠23を設ければ、機械的強度をより強
くすることができる。なお、支持手段の形状は上記した
格子状に限られるものではなく、様々な形状が可能であ
る。
【0064】なお、透過型2次電子面の第3及び第4実
施形態においては、第2電極36及び第1電極31を格
子状に形成しているが、第2実施形態での第1電極膜3
1aのように薄膜状に形成しても良い。2次電子放出層
1の表面に設けられる電極の形状としては、格子状、薄
膜状、あるいは他の形状を適宜選択することができる。
【0065】以上に詳述した透過型2次電子面は、光電
子増倍管や画像増強管などの電子管に用いることができ
る。以下に、このような電子管に関する実施形態を述べ
る。
【0066】図7は、本発明による電子管の第1実施形
態として、光電子増倍管の一実施形態の構成を模式的に
示す断面図である。
【0067】図7に示す光電子増倍管は、被検出光を光
電子に変換して放出する光電陰極41、光電子を2次電
子増倍する透過型2次電子面5、増倍された2次電子を
収集するための陽極6、及びこれらを真空状態で内包す
る容器である真空容器7によって構成されている。これ
らの構成要素は、真空容器7の内部に、被検出光が入射
する側から光電陰極41、透過型2次電子面5、陽極6
の順に所定の間隔をあけて配置されている。
【0068】光電陰極41は、1次電子である光電子を
透過型2次電子面5へ向けて放出する電子源であり、本
実施形態においては被検出光が入射する面と光電子が出
射される面とが異なる透過型の光電陰極が用いられてい
る。光電陰極41としては、このような透過型に限らず
反射型のものを用いることもできる。そして、この光電
陰極41に所定の距離をおいて、透過型2次電子面5が
設けられている。透過型2次電子面5としては、ダイヤ
モンド、またはダイヤモンドを主成分とする材料からな
る上記した透過型2次電子面が用いられている。この透
過型2次電子面は、光電陰極41から放出された光電子
を1次電子として入射面から入射し、2次電子増倍して
入射面とは反対側の出射面から2次電子を放出する。ま
た、透過型2次電子面5の出射面から所定の距離をおい
て、陽極6が設けられている。陽極6は、透過型2次電
子面5から放出された2次電子を収集する。
【0069】また、光電陰極41、透過型2次電子面
5、及び陽極6は、内部が真空状態になっている密閉容
器である真空容器7に内包されている。真空容器7のう
ち、被検出光が入射する光電陰極41と対向した面には
入射窓71が設けられている。これにより、入射される
光のうち所定波長の被検出光が効率よく光電陰極41へ
と入射される。また、光電陰極41、透過型2次電子面
5、及び陽極6には、光電陰極41側が負の電位、陽極
6側が正の電位となるように段階的に電圧が印加されて
電界が形成されている。
【0070】上記の構成において、被検出光が入射窓7
1を通して光電陰極41の入射面に入射すると、光電陰
極41において1次電子である光電子が発生し、出射面
より真空容器7内部の真空中へ放出される。透過型2次
電子面5の入射面には光電陰極41に対して正の電圧が
印加されて電界が形成されており、真空中へ放出された
光電子は加速されて透過型2次電子面5へ入射される。
そして、透過型2次電子面5において光電子が電界によ
る加速に相応して増倍され、2次電子となって再び真空
中に放出される。陽極6は透過型2次電子面5の出射面
に対して正の電圧が印加されて電界が形成されており、
透過型2次電子面5から放出された2次電子は陽極に収
集され、入射した被検出光による検出信号として光電子
増倍管の外部に取り出される。
【0071】図7に示した光電子増倍管においては、上
記した構成を有する透過型2次電子面5を備えている。
これにより、光電子(1次電子)に対して効率よく2次
電子を得ることができ、高い2次電子増倍率で被検出光
を検出することが可能な光電子増倍管を実現できる。ま
た、このように2次電子増倍率が高くなることにより、
高いS/N比で精度よく被検出光を検出することが可能
になる。
【0072】図8は、電子管の第2実施形態として、光
電子増倍管の他の実施形態の構成を模式的に示す断面図
である。
【0073】図8に示す光電子増倍管は、光電陰極4
1、透過型2次電子面5、陽極6、及び真空容器7によ
って構成されている。このうち、光電陰極41、陽極
6、及び真空容器7の構成は図7に示した光電子増倍管
と同様である。
【0074】本実施形態では、透過型2次電子面5は複
数個(図8においては3個)用いられている。複数の透
過型2次電子面5のそれぞれは、ダイヤモンド、または
ダイヤモンドを主成分とする材料からなる上記した透過
型2次電子面が用いられている。そして、このような複
数の透過型2次電子面5が所定の間隔で、互いの出射面
と入射面とが向かい合うように配列されている。また、
光電陰極41から最も遠い位置にある透過型2次電子面
5の出射面から所定の距離をおいて、陽極6が設けられ
ている。陽極6は、この透過型2次電子面5から放出さ
れた2次電子を収集する。
【0075】上記の構成において、被検出光が入射窓7
1を通して光電陰極41に入射すると、光電陰極41に
おいて光電子が発生して真空容器7内部の真空中へ放出
される。真空中へ放出された光電子は、1次電子として
光電陰極41に最も近い位置にある透過型2次電子面5
へ入射し、増倍されて2次電子として放出される。そし
て、これ以降に配列されている複数の透過型2次電子面
5によって繰り返し増倍される。最後に、増倍された2
次電子は陽極6に収集され、入射した被検出光による検
出信号として光電子増倍管の外部に取り出される。
【0076】図8に示した光電子増倍管においては、上
記した構成を有する透過型2次電子面5を複数個用いる
ことによって、さらに高い2次電子増倍率で被検出光を
検出することが可能な光電子増倍管を実現できる。これ
により、より高いS/N比で精度よく被検出光を検出す
ることが可能になる。
【0077】また、本実施形態のように複数の2次電子
面を用いる必要がある場合でも、上記した透過型2次電
子面5を用いれば、複数の2次電子面を薄型にスタック
することが可能となる。
【0078】なお、上記した光電子増倍管の各実施形態
では、光電陰極41と透過型2次電子面5、陽極6が対
向するいわゆる近接型の構成となっているが、例えば光
電陰極41と透過型2次電子面5との間に静電レンズを
備えて光電子を収束する、いわゆる静電収束型の構成と
してもよい。
【0079】また、2次電子を収集するための陽極6を
備えているが、陽極6のかわりにフォトダイオードなど
の半導体素子を備えてもよい。2次電子を直接このよう
な半導体素子に打ち込む、いわゆる電子打ち込み型の光
電子増倍管として動作させることで、上記した光電子増
倍管の各実施形態を好適に実施できる。
【0080】図9は、電子管の第3実施形態として、画
像増強管(イメージ・インテンシファイア)の構成を模
式的に示す断面図である。
【0081】図9に示す画像増強管は、光電陰極41、
透過型2次電子面5、陽極6a、及び真空容器7によっ
て構成されている。このうち、光電陰極41、透過型2
次電子面5、及び真空容器7の構成は図7に示した光電
子増倍管とほぼ同様である。
【0082】陽極6aは、透過型2次電子面5から放出
された2次電子を収集する機能を有し、透過型2次電子
面5の出射面から所定の距離をおいて設けられている。
また、この陽極6aは電子が入射することによって発光
する蛍光体からなる蛍光面を有している。
【0083】上記の構成において、画像を構成している
被検出光が入射窓71を透過して光電陰極41に入射す
ると、光電陰極41内部において光電子が生成されて真
空容器7内部に放出される。そして、放出された光電子
は透過型2次電子面5に入射する。このとき、透過型2
次電子面5の入射面には光電陰極41に対して正の電圧
が印加され、電界が形成されている。光電子はこの電界
と平行に進むので、画像増強管に入射したときの2次元
情報を保ちながら透過型2次電子面5に入射する。透過
型2次電子面5に入射した光電子は増倍されて2次電子
として放出され、蛍光面を有する陽極6aに収集され
る。このとき、陽極6aには透過型2次電子面5の出射
面に対して正の電圧が印加されている。これにより電界
が形成され、光電子が有していた2次元情報を保ちなが
ら2次電子が陽極6aに収集されて、陽極6aの蛍光面
が発光する。以上の動作によって、画像増強管に入射し
た被検出光による画像は増強されて、陽極6aの蛍光面
から画像として出力される。
【0084】図9に示した画像増強管においては、上記
した構成を有する透過型2次電子面5を用いることによ
って、被検出光の入射に対して効率よく2次電子を得る
ことが可能な画像増強管を実現できる。これにより高輝
度の画像が得られるので、入射された画像が微弱である
場合においても高いS/N比で精度よく画像を再現する
ことが可能になる。
【0085】なお、上記した画像増強管においては、2
次電子によって発光する手段として蛍光面が用いられて
いるが、この手段は電子を画像に変換できるものであれ
ばよい。例えば、蛍光面を有する陽極6aのかわりに電
荷結合素子(CCD)などの撮像素子を備え、2次電子
を直接撮像素子に打ち込み、画像化することによっても
同様の効果を得ることができる。
【0086】図10は、電子管の第4実施形態として、
平面表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
【0087】図10に示す平面表示装置は、電界放出電
子源アレイ42、透過型2次電子面5、陽極6b、及び
真空容器7によって構成された電界放出ディスプレイで
ある。このうち、透過型2次電子面5及び真空容器7の
構成は、図9に示した画像増強管とほぼ同様である。
【0088】陽極6bは、2次電子を収集する機能を有
し、透過型2次電子面5の出射面から所定の距離をおい
て設けられている。この陽極6bは電子が入射すること
によって発光する蛍光体からなる蛍光面を有している。
蛍光面はRGBの画素が配列されており、電子の入射に
よって画像が表示される。
【0089】電界放出電子源アレイ42は、電界放出電
子源43がアレイ状に多数配列される構成を有する。電
界放出電子源43のそれぞれは、平面表示装置において
出力する画像の、RGBの各画素に対応する電子を放出
する。
【0090】上記の構成において、出力する画像の各画
素に対応する電子が電界放出電子源43から真空容器7
内部へ放出される。そして、放出された電子は透過型2
次電子面5に入射する。このとき、透過型2次電子面5
の入射面には電界放出電子源アレイ42に対して正の電
圧が印加され、電界が形成されている。電子はこの電界
と平行に進むので、電界放出電子源43から放出された
ときの2次元情報を保ちながら透過型2次電子面5に入
射する。透過型2次電子面5に入射したこの電子によっ
て2次電子が生成・放出され、蛍光面を有する陽極6b
に収集される。このとき、陽極6bには透過型2次電子
面5の出射面に対して正の電圧が印加されている。これ
により電界が形成され、電子が有していた2次元情報を
保ちながら2次電子が陽極6bに収集される。そして、
陽極6bの蛍光面において、所定の画素が発光する。以
上の動作によって、出力する画像の各画素に対応する電
子が電界放出電子源43から放出され、透過型2次電子
面5において生成された2次電子が蛍光面を発光させ
る。これにより、所定の画像が出力される。
【0091】図10に示した平面表示装置においては、
上記した構成を有する透過型2次電子面5を用いること
によって、電子(1次電子)の入力に対して効率よく2
次電子が得られ、蛍光面を発光させる平面表示装置を実
現できる。これにより、平面表示装置の画像出力をさら
に高輝度にすることができる。また、蛍光面に多量の電
子が加速されて入射することにより発生するイオンが、
直接電界放出素子に到達しないので、平面表示装置を長
寿命で、かつ安定に動作させることが可能になる。
【0092】ここで、本実施形態では、画像出力に対応
する電子を放出するための電子源として、電界放出電子
源43がアレイ状に多数配列されている電界放出電子源
アレイ42を備えている。本実施形態に使用する電子源
としてはこれ以外にも、ゲート電極、集束電極、あるい
はその他の電子源とすることも可能である。これによっ
て、上記した平面表示装置と同様の効果を有する蛍光表
示管を実現できる。
【0093】なお、第3実施形態の画像増強管、及び第
4実施形態の平面表示装置において、前述した第2実施
形態の光電子増倍管のように複数の2次電子面を用いる
必要がある場合には、上記した透過型2次電子面5を用
いることによって、複数の2次電子面を薄型にスタック
でき、かつ蛍光面において必要な輝度を得ることが可能
となる。
【0094】本発明による透過型2次電子面及び電子管
は、上記した実施形態に限られるものではなく、様々な
変形が可能である。例えば、透過型2次電子面の各実施
形態において、2次電子放出層1の機械的強度が充分で
あるなどの場合には、この機械的強度を補うための支持
枠21〜23を有しない構成としてもよい。また、2次
電子放出層1から2次電子を充分に効率よく放出できる
などの場合には、2次電子放出層1の出射面の仕事関数
を低下させる活性層11を設けない構成としてもよい。
【0095】また、電子管の各実施形態において、大型
化などのために真空容器7の機械的強度を補う必要があ
るときは、電子源と透過型2次電子面との間、あるいは
透過型2次電子面と陽極との間などの真空容器7内部に
スペーサ等の補強手段を備えるとよい。
【0096】
【発明の効果】本発明による透過型2次電子面及び電子
管は、以上詳細に説明したように、以下の効果を得る。
すなわち、2次電子放出層の一方が入射面、他方が出射
面となっている透過型とすることによって、1次電子の
入射により出射面の表面状態が変化することがなく、2
次電子の放出効率の低下を防ぐことができる。
【0097】また、2次電子放出層がダイヤモンド、ま
たはダイヤモンドを主成分とする材料からなることによ
って、高い効率で2次電子を放出することができる。ま
た、電圧印加手段が2次電子放出層内部に電界を形成す
ることによって、2次電子を出射面まで到達し易くし、
高い効率で放出させることができる。
【0098】また、電子管にこのような透過型2次電子
面を用いれば、電子源からの1次電子に対して効率良く
2次電子を得ることができる電子管が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による透過型2次電子面の第1実施形態
の構成を示す側面断面図である。
【図2】図1に示した透過型2次電子面の斜視図であ
る。
【図3】図1に示した透過型2次電子面の製造工程を示
す工程図である。
【図4】透過型2次電子面の第2実施形態の構成を示す
側面断面図である。
【図5】透過型2次電子面の第3実施形態の構成を示す
側面断面図である。
【図6】透過型2次電子面の第4実施形態の構成を示す
(a)側面断面図、及び(b)底面図である。
【図7】本発明による電子管の第1実施形態として、光
電子増倍管の一実施形態の構成を模式的に示す断面図で
ある。
【図8】電子管の第2実施形態として、光電子増倍管の
他の実施形態の構成を模式的に示す断面図である。
【図9】電子管の第3実施形態として、画像増強管(イ
メージ・インテンシファイア)の構成を模式的に示す断
面図である。
【図10】電子管の第4実施形態として、平面表示装置
の構成を模式的に示す断面図である。
【図11】従来の透過型2次電子面を備える電子管の一
例を示す構成図である。
【図12】従来の透過型2次電子面の他の例を示す構成
図である。
【符号の説明】
1…2次電子放出層、11…活性層、20…基板、2
1,22,23…支持枠、31,35…第1電極、31
a…第1電極膜、32,36…第2電極、33…電源、
34…補助電極、41…光電陰極、42…電界放出電子
源アレイ、43…電界放出電子源、5…透過型2次電子
面、6,6a,6b…陽極、7…真空容器、71…入射
窓。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅 博文 静岡県浜松市市野町1126番地の1 浜松ホ トニクス株式会社内 Fターム(参考) 5C036 EE01 EG11 EG50 EH04 5C037 GG02 GG06 GH11 GH18

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射された1次電子によって生成された
    2次電子を放出する2次電子面であって、 ダイヤモンド、またはダイヤモンドを主成分とする材料
    からなり、その一方の面が前記1次電子を入射する入射
    面、他方の面が前記2次電子を放出する出射面となって
    いる2次電子放出層と、 前記2次電子放出層に対して、前記入射面と前記出射面
    との間に所定電圧を印加する電圧印加手段とを備えるこ
    とを特徴とする透過型2次電子面。
  2. 【請求項2】 前記2次電子放出層の機械的強度を補う
    支持手段を備えることを特徴とする請求項1記載の透過
    型2次電子面。
  3. 【請求項3】 前記2次電子放出層は、多結晶ダイヤモ
    ンド、または多結晶ダイヤモンドを主成分とする材料か
    らなることを特徴とする請求項1または2記載の透過型
    2次電子面。
  4. 【請求項4】 前記2次電子放出層の前記多結晶ダイヤ
    モンドの表面及び粒界面が酸素終端されていることを特
    徴とする請求項3記載の透過型2次電子面。
  5. 【請求項5】 前記2次電子放出層の前記出射面が水素
    終端されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
    か1項に記載の透過型2次電子面。
  6. 【請求項6】 前記2次電子放出層の前記出射面が酸素
    終端されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
    か1項に記載の透過型2次電子面。
  7. 【請求項7】 前記2次電子放出層の前記出射面上に、
    前記2次電子放出層の仕事関数を低下させるための活性
    層が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のい
    ずれか1項に記載の透過型2次電子面。
  8. 【請求項8】 前記2次電子放出層の前記活性層は、ア
    ルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、またはアルカリ金
    属のフッ化物からなることを特徴とする請求項7記載の
    透過型2次電子面。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8の何れか一項記載の透過型
    2次電子面と、 前記1次電子を前記透過型2次電子面へ向けて放出する
    電子源と、 前記透過型2次電子面から放出された前記2次電子を収
    集するための陽極と、 前記透過型2次電子面、前記電子源、及び前記陽極を収
    納する容器とを備えることを特徴とする電子管。
  10. 【請求項10】 前記電子源は、入射された被検出光に
    よって励起された光電子を前記1次電子として放出する
    光電陰極からなることを特徴とする請求項9記載の電子
    管。
  11. 【請求項11】 前記電子源は、入射された被検出光に
    よって励起された光電子を前記1次電子として放出する
    光電陰極からなるとともに、前記陽極は、前記2次電子
    が入射することによって発光する蛍光面を有することを
    特徴とする請求項9記載の電子管。
  12. 【請求項12】 前記電子源は、電界放出電子源からな
    るとともに、前記陽極は、前記2次電子が入射すること
    によって発光する蛍光面を有することを特徴とする請求
    項9記載の電子管。
  13. 【請求項13】 前記電子源は、複数の電界放出電子源
    がアレイ状に配列された電界放出電子源アレイからなる
    とともに、前記陽極は、前記2次電子が入射することに
    よって発光する蛍光面を有することを特徴とする請求項
    9記載の電子管。
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