WO2002035539A1

WO2002035539A1 - Procede de production de disques optiques

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Publication number: WO2002035539A1
Application number: PCT/JP2001/009389
Authority: WO
Inventors: Kotaro Kurokawa; Yuji Akiyama; Toshiyuki Kashiwagi
Original assignee: Sony Corporation
Priority date: 2000-10-27
Filing date: 2001-10-25
Publication date: 2002-05-02
Also published as: JPWO2002035539A1; TW556188B

Description

の製造方法

技術分野

本発明は、例えば高密度情報記録媒体として使用される光ディスクの製造方法に関するものである。

明背景田技術

従来、高密度情報記録用の光ディスクは、その情報記録の方式により、両面記録、片面記録そして記録層の数により単層または二層の種類に分かれており、例えば片面単層、片面二層、両面単層及び両面二層の型式がある。

図 9は、片面に二層の信号記録部を形成した光ディスクの考えられる構成例を示している。

図において、光ディスク 1は、例えばポリカーポネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の支持基板 2の表面（上面）が、案内構 4となる所定の凹凸形状に形成されている。このディスク基板 2の上面に記録可能な反射膜でなる第 2信号記録部 5が形成され、透明な中間層 6を介して、半透過性の第 1信号記録部 7が設けられ、その表面に透明な保護層 8が設けられている。保護層 8側が、記録再生レ一ザ光の入射側 L Iとなる。

また、光ディスク 1の中心には、チヤッキング用のセンターホール 3が設けられる。

このような構成の片面二層の光ディスクに対して、情報を読み取ったり書き込んだりする場合には、図 1 0に示すような光学ピックァップが使用される。図 1 0において、光学ピックアップ 1 0は、所定のレーザ光を発生するレーザダイォ一ド等の光源 1 1と、光源 1 1からの光を平行光に変換するコリメ一タレンズ 1 2と、コリメ一夕レンズ 1 2からの平行光が入射する光分離手段としてのビームスプリツ夕 1 3と、ビームスプリッタ 1 3からの光が入射する光集束手段としての対物レンズ 1 4とを備えている。

そして、スピンドルモータ 1 7により回転駆動された光ディスク 1の第 1信号記録部 7または第 2信号記録部 5に対物レンズ 1 4から集束された光が、これらの信号記録部で反射されて戻る戻り光は、再びビームスプリッタ 1 3に入射し、ビームスプリツ夕 1 3に約 4 5度の角度で設けた半透過反射膜 1 3 aにより反射されるようになつている。光学ピックアップ 1 0には、このビームスプリツ夕 1 3により反射された光ビームを集光する集光レンズ 1 5と集光レンズ 1 5の作用により集束された戻り光が入射する光検出器 1 6を備えている。

また、対物レンズ 1 4は、図示しないァクチユエ一夕により、光ディスク 1の径方向に沿って微動されるトラッキングサーポと、光ディスク 1に対して、近接または離間するように微動されるフォーカシンダサ一ポとにより制御されるようになっている。

これにより、光ディスク 1においては、光学ピックアップ 1 0の動作により、光源 1 1の出力を高くしたレーザ光を変調して、第 1信号記録部 7または第 2信号記録部 5に情報を記録したり、光源 1 1の出力を高くして、第 1信号記録部 7 または第 2信号記録部 5に集束させ、戻り光を光検出器 1 6で読み取って、情報の再生を行うようになっている。

ところで、このような片面二層の光ディスク 1は、図 9に示すような構成が考えられているが、第 1信号記録部 7及び第 2信号記録部 5を上述のように記録可能とするためには、次に説明するような製造上の重要な問題が残っている。

すなわち、光ディスク 1の第 1信号記録部 7及び第 2信号記録部 5を記録可能もしくは書換え可能とするための有力な構成としては、各信号記録部が相変化型の記録層を有する構成がある。各信号記録部は、具体的には、誘電体、相変化型記録層や金属反射膜等からなる複合層であり、その相変化型記録層の状態変化に対応して、再生信号を得るようになつている。つまり、上記相変化型記録層が結晶状態であるかアモルファス状態であるかによって、光学定数が変化し、再生用の光ビームに対する反射率が異なるように設計されている。

すなわち、情報記録を行う場合には、相変化記録層に記録に適した光ビームを集束させて、高いエネルギーを与え、記録材料を溶融して、急冷することによつてアモルファス状態の記録マークを形成して行う。そして、再生時には、記録時よりも低い出力の光ビームを当てることで、記録マークとその周辺の結晶状態領域との反射光量の差を検出して再生信号を生成するようになっている。

ここで、信号記録部として、例えば、図 9に示す光ディスク 1の第 2信号記録部 5を形成する場合には、グループと呼ばれる案内溝でなる凹凸が形成された支持基板 2上に、スパッタリング等の手段により所定の相変化型記録材料や誘電体等を成膜して形成する。この成膜時の状態では、相変化型記録層は a s— d e p o s i t e dと呼ばれるアモルファスに近い状態にある。したがって、相変化型記録層の成膜後には、これに情報記録を行うことができるようにするために、結晶状態にする初期化という工程が必要になる。

初期化の工程には、図 1 0に示す光学ピックアップ 1 0とほぼ同様の装置により行われるのが一般的である。

図 1 1は、この初期化の様子を説明する.ための概念図である。対物レンズ 1 4 は、光源 1 1からのレ一ザ光 Lを光ディスク 1の図示していない保護層 8を透過させて第 1信号記録部 7に集束させるために、フォーカシング制御されて、スポット S P 1を形成する。

このスポット S P 1は、実際には、図 1 2に示すように、光ディスク 1のトラック方向 D _Tに約 1 m程度の幅を持ち、半径方向 D _Kには 5 0乃至 2 0 0 x m 程度の長さとなるような長い形状のスポットである。このようなスポット S P 1 を集束させた状態で、ディスク 1を回転させ、かつスポット S F 1を、ディスク 1の 1回転当たり所定距離だけ半径方向に移動させるように、対物レンズ 1 4の移動量を制御することで、スポット S P 1は、第 1信号記録部 7上をスパイラル状に移動する。この時、光源 1 1 (図 1 0参照）のパワー及びスポット S P 1の記録層上での走査速度を適切に調整することにより、第 1信号記録部 7の記録層の状態を a s— d e p o s i t e dと呼ばれるアモルファスに近い状態から、結晶状態に変化させることができる。

ここで、第 1信号記録部 7は、図 1 1に示すように、光源側に位置することから、奥側の第 2信号記録部 5へ対物レンズ 1 4からの光を到達させるために、金属反射膜を極力使用しない半透過膜とする必要がある。

このため、上記初期化工程の際には、対物レンズ 1 4を介して集束されたレ一ザ光 Lは、第 1信号記録部 7にスポット S P 1を形成するだけでなく、そのレーザ光 Lの一部は第 1信号記録部 7を透過して、奥側の第 2信号記録部 5に到達してスポッ卜 S P 2を形成し、さらにこのレーザ光 Lは、第 2信号記録部 5の金属反射膜により反射されて、第 1信号記録部 7に戻り、拡散したレーザ光によるスポット S P 3を形成する。 .

これにより、第 1信号記録部 7では、対物レンズ 1 4からの集束光によるスポッ卜 S P 1と、戻り光によるスポット S P 3が干渉し、集束光と戻り光の位相差によって、その強度が強められたり、弱められたりする。

ところが、相変化型記録層では、初期化のための光強度が 5パ一セント変動すると、メディアの記録再生信号特性が変化してしまう。例えば、図 1 2にてスポット S P 3のうち S P 1と重なる領域の光量が S P 1の光量の 1パーセントである場合、第 1信号記録部 7上での光強度は S P 1の光強度に対し、プラスマイナス 2 0パーセントの変動を起とすと考えられることから、上記した製造方法では、十分な記録再生信号特性を備えた光ディスク 1を製造することができないという問題がある。発明の開示

本発明は、上記のような問題を解決して、記録再生信号特性が損なわれることなく、片面又は両面に複数の信号記録部を備えた光ディスクの製造方法を提供することを目的としている。

本発明の光ディスクの製造方法は、所定の凹凸パターンが転写された第 1の基板上に相変化型の記録層を含む第 1の信号記録部を設ける工程と、所定の凹凸パターンが転写された第 2の基板上に相変化型の記録層を含む第 2の信号記録部を設ける工程と、第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を対向させて貼り合せるェ程とを有する光ディスクの製造方法において、前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を対向させて貼り合せる工程の前に、前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部に対して、情報記録可能となるような初期化を夫々に行う工程を有することを特徴とする。

また、上記光ディスクの製造方法においては、前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を貼り合せる工程の後に、第 1の基板を第 1の信号記録部から剥離する工程と、前記第 1の信号記録部の上に、透明材料による保護層を設ける工程とを、さらに有することが好ましい。

また、前記第 1の基板がァクリル樹脂からなることが好ましい。

また、上記光ディスクの製造方法においては、前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を貼り合せる工程の前に、第 1の信号記録部に透明フィルムを貼り合せる工程と、第 1の基板を第 1の信号記録部から剥離する工程とを、さらに有することが好ましい。

また、上記光ディスクの製造方法においては、前記第 1の基板が前記所定のパ夕一ンとしてグループに対応した凹凸パターンを有するス夕ンパを使用して成形されると共に、前記第 2の基板が、前記凹凸パターンと同様なパターンを有する回転方向の異なるスタンパを使用して成形されることが好ましい。図面の簡単な説明

図 1 A〜 1 Eはガラス原盤を製造する工程を順次に示す断面図である。

図 2 A〜 2 Dはスタンパを製造する工程を順次に示す断面図である。

図 3 A〜 3 Cはスタンパを製造する工程を順次に示す断面図である。

図 4は光ディスクの製造用の基板の成形工程を示す断面図である。

図 5 A〜 5 Iは本発明の第 1の実施形態に係る光ディスクの信号記録部の形成工程を順次に示す断面図である。

図' 6は本発明の実施形態に係る製造方法により製造された光ディスクの断面構造を模式的に示す説明図である。

図 7 A〜 7 Eは本発明の第 2の実施形態に係る光ディスクの形成工程を順次に示す断面図である。

図 8 A〜 8 Fは本発明の第 3の実施形態に係る光ディスクの形成工程を順次に示す断面図である。

図 9は片側に複数の信号記録部を形成した光ディスクの想定される構成例を示す概略断面図である。

図 1 0は図 9の光ディスクの情報を記録，再生する光学ピックアップの光学系の構成例を示す図である。

図 1 1は図 9の光ディスクの信号記録部の初期化の様子を示す説明図である。図 1 2は図 1 1の信号記録部の初期化において、光源からの光と戻り光とが干渉する様子を示す概念図である。発明を実施するための最良の形態

以下、この発明の好適な実施形態を添付図面を参照しながら、詳細に説明する。尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。 (第 lの実施形態）

先ず、本発明の光ディスクの製造方法の第 1の実施形態について説明する。

(スタンパの製造工程）

先ず、光ディスクの支持基板及び製造用の各基板を作成するためのスタンパの製造について図 1 A〜 1 E乃至図 2 A〜 2 Dを参照して説明する。

図 1 Aに示すように、光学的に平坦なガラス 2 0を用意して、その表面を洗浄する。

次に、図 1 Bに示すように、ガラス 2 0の表面にフォトレジスト 2 1を規定厚さ tで均一に塗布し、熱処理（ベ一キング）を行なう。この規定厚さ tは、必要なグループ（後述）深さが得られる程度に設定される。また、熱処理は、フォトレジスト 2 1の現像時におけるグループ寸法の安定化させるために行なうものである。これにより、ガラス原盤 2 2が完成する。

その後、図 1 Cに示すように、レーザ光 Lによりガラス原盤 2 2に案内溝としてのランド部もしくはグループ（以下、「グループ」と総称する。）を形成すベき部分に対して露光を行なう。この露光は、 L B R (レーザビ一ムレコーダ）を使用して、記録すべき信号に応じたレーザ光のオンオフにより行なわれる。

続いて、図 I Dに示すように、フォトレジスト 2 1の現像を行なう。これにより、露光した部分のフォ卜レジスト 2 1が除去され、グループ 2 3が形成されることになる。

さらに、図 1 Eに示すように、ガラス原盤 2 2の表面を、無電解処理 N E等によって化学的に導電処理を行なった後、図 2 Aに示すように、ガラス原盤 2 2の表面全体に、規定厚さ（例えば 0 . 3 mm程度）のメツキ板 2 4を形成する。そして、図 2 Bに示すように、ガラス原盤 2 2からメツキ板 2 4を剥離させる。このメツキ板 2 4の下面には、ガラス原盤 2 2の表面に形成されたグループ 2 3 が凸状に転写されており、このメツキ板 2 4によりマスタースタンパ 2 4 aが形成される。尚、メツキ板 2 4を剥離したガラス原盤 2 2は、表面のフォトレジスト 2 1を除去して、表面を研磨 ·洗浄することにより、再使用される。

その後、上記マスタースタンパ 2 4 aは、その表面（下面）が酸化処理された後、図 2 Cに示すように、その下面全体に、規定厚さ（例えば 0 . 3 mm程度）のメツキ板 2 5を形成する。

次に、図 2 Dに示すように、マスタースタンパ 2 4 aからメツキ板 2 5を剥離させる。このメツキ板 2 5の上面には、マスタースタンパ 2. 4 aの表面に形成された凸状のグループ 2 3 aが凹状に転写されており、このメツキ板 2 5によりマザ一スタンパ 2 5 aが形成される。

続いて、マザースタンパ 2 5 aは、その表面（上面）が酸化処理された後、図 3 Aに示すように、その上面全体に、規定厚さ（例えば 0 . 3 mm程度）のメッキ板 2 6を形成する。

次に、図 3 Bに示すように、マザースタンパ 2 5 aからメツキ板 2 6を剥離させる。このメツキ板 2 6の下面には、マザ一スタンパ 2 5 aの表面に形成された凹状のダル一ブ 2 3 bが凸状に転写されており、このメツキ板 2 6によりスタンパ 2 6 aが形成される。

最後に、このスタンパ 2 6 aは、図 3 Cに示すように、裏面（上面）を研磨することにより規定厚さに成形されると共に、グルーブによる信号位置を基準に芯合わせして、セン夕一穴 2 6 bを加工し、さらに外周をトリミングして、外径 D 1にする。

このようにして、スタンパ 2 6 aが製造されるが、このようなスタンパ 2 6 a は、後述する各信号記録部についてそれぞれ製造される。

(支持基板又は製造用基板の製造工程）

次に、各スタンパ 2 6 aから凹凸パ夕一ンを転写して形成するディスクの支持基板（第 2の基板）又は製造工程で一時的に使用する製造用基板（第 1の基板）を製造する場合について説明する。図 4に示すように、上記スタンパ 2 6 aを例えば射出成形機の金型 2 7に取り付ける。ここで、金型 2 7のキヤビティ 2 7 aの寸法は、ディスク基板の外径 D ' よりも僅かに（例えば直径で 1乃至 2 mm程度）小さく選定されている。

これは、支持基板である第 2の基板に信号記録部を後述するように貼付けたとき、接着剤または保護膜が製造用基板側に付着しないようにすると共に、信号記録部の外周部分が保護膜により覆われるようにするためである。そして、このような点を特に考慮しない場合には、キヤビティ 2 7 aの寸法は、ディスク基板の外径と同等もしくはこれより大きくとってもよい。

この場合、製造用基板 2 8は、通常の光ディスク用の支持基板と同様に、例えば射出成形により成形されるが、その際、製造用基板 2 8自体は、記録，再生用の光ビームを透過させる支持基板ではないので、光ディスクを構成しないため、吸湿率を小さく収める対策を採る必要はなく、グループ転写性及びスタンパから製造用基板 2 8を剥す点にのみ注意を払えばよい。

そして、製造用基板 2 8は、好ましくは、例えばアクリル樹脂から成形される _t これは、後工程におけるスパッタリング法により信号記録部を形成する半透過反射膜を形成したとき、アクリル樹脂の物理的，化学的特性に基づいて、半透過の信号記録部をス卜レスなく基板 2 8から剥離させるためである。

また、後述するように、光ディスクを構成する支持基板に関しても、片側読み出し型の光ディスクである場合には、支持基板に記録，再生用の光ビームを透過させる必要がないので、光透過性の無い樹脂を用いて、上記と同様に成形することができる。

(信号記録層の形成工程）

次に、上述の製造用基板を用いて、複数の信号記録部を形成する方法について詳細に説明する。この実施形態では、支持基板上に 2層の信号記録部を形成する場合について説明するが、支持基板の片側に 3層以上の信号記録部を形成する場合は、使用する製造用基板の数が増えるだけで、その方法は同じである。

図 5 Aおよび図 5 Dに示すように、第 1の基板としての製造用基板 4 1と、光ディスクを構成する第 2の基板としての支持基板 3 1とを別々に用意する。製造用基板 4 1は、上述したようにスタンパ 2 6 aから、合成樹脂，好ましくはァクリル樹脂により成形され、グループに対応した所定の凹凸パターンが転写されている。

この製造用基板 4 1には、半透過性を有する第 1の信号記録部が形成される。これに対して、第 2の基板である支持基板 3 1は、例えば、製造用基板 4 1とは反対の回転方向を持ったスタンパ 2 6 aにより形成され Tおり、一般的にはポリカーボネ一卜樹脂等の材料が使用される。

第 2の基板である支持基板 3 1には、光ディスクの第 2の信号記録部が形成される。

この実施形態の特徴は、上記第 1の基板である製造用基板 4 1と第 2の基板である支持基板 3 1のそれぞれ対して、別々に、もしくは、それぞれ並行して、信号記録部を成膜することである。

すなわち、図 5 Aに示す第 2の基板である支持基板 3 1のグループに対応した凹凸が形成された面に対して、図 5 Bに示すように、第 2の信号記録部 3 2が形成形成される。

この場合、第 2の信号記録部 3 2は、例えば、相変化型記録層を含むように形成され、光ディスクの最も奥側に位置する信号記録部であり、支持基板 3 1側から、例えば、図 6に示すように、金属反射層 3 3、誘電体層 3 4、相変化型記録層 3 5、誘電体層 3 6の各層を積層するように成膜して形成される。

金属反射層 3 3は、入射する記録 ·再生用の光ビームを反射して戻り光とする層であり、 A l 、 A g、 A u等から選択される金属またはこれらも金属または、これらと他の金属との合金をスパッタリングゃ蒸着等の手法により所定の反射率に対応した厚みに成膜する。

誘電体層 34は、 Z n— S i〇₂や S i , S i C， G e , G e C, S n, S n C, A l， A 1 C， G a, G a C, I n, I n C等の窒化物もしくは酸化物により成膜される。

相変化型記録層 3 5は、 S b, T e, I n, Ag, Ge等やその材料を 2種類以上化合させた化合物状態のものにより成膜される。例えば G e S bT eが用いら；る。

誘電体膜 36は、 Z n— S i〇₂や S i , S i C, Ge， G e C, S n, S n C， A 1 , A 1 C， G a, G a C， I n， I n C等の窒化物もしくは酸化物によ .り成膜される。 '

次に、図 5 Cに示すように、初期化が行われる。上記成膜時の状態では、相変化型記録層 3 5は a s— d e p o s i t e dと呼ばれるアモルファスに近い状態にある。したがって、相変化型記録層の成膜後には、これに情報記録を行うことができるようにするために、既に説明したように、結晶状態にする初期化という作業が必要になる。

図 5 Cに示す段階で行われる初期化の作業には、図 1 0で説明した光学ピックアップ 1 0とほぼ同様の装置により行われ、例えば、図 1 1.で説明したように初期化が行われる。しかしながら、本実施形態では、図 1 1とは異なり、ディスク基板である支持基板 3 1上には、第 2の信号記録部 32が 1層だけ形成されている点が異なる。

すなわち、図 1 1では、対物レンズ 14を介して集束されたレーザ光 Lは、第 2信号記録部 7にスポット S P 1を形成するだけでなく、そのレーザ光 Lの一部は第 2信号記録部 7を透過して、奥側の第 1信号記録部 5に到達してスポッ卜 S P 2を形成し、さらにこのレーザ光 Lは、第 1信号記録部 5の金属反射膜により反射されて、第 2信号記録部 7に戻り、拡散したレ一ザ光によるスポット S P 1 3を形成している。このため、第 2信号記録部 7では、対物レンズ 1 4からの集束光によるスポット S P 1と、戻り光によるスポット S P 3が干渉し、集束光と戻り光の位相差によって、その強度が強められたり、弱められたりするという現象が生じてしまう。

これに対して、本実施形態では、ディスク基板である支持基板 3 1上には、第 2の信号記録部 32が 1層だけ形成されている状態で、信号記録部 3 2だけにレ一ザ光を集束させることができる。このため、信号記録部 32上において、光源からの光と戻り光との干渉が生じることなく、精度よく初期化を行うことができ. 優れた記録再生特性を備えた信号記録部 32を形成することができる。

ここまでの作業と並行して、あるいはここまでの作業とは別に、第 1の基板である製造用基板 41を使用して他の信号記録部が形成される。

図 5 Dに示すように、製造用基板 41には、グループに対応した凹凸が形成されており、この凹凸面に対して、図 5 Eに示すように、第 1の信号記録部 42が形成される。

この場合、第 1の信号記録部 42は、例えば、相変化型記録層を含むように形成され、後述するように、上記第 2の信号記録部 32と後の工程で重ねられる。このため、第 1の信号記録部 42は、基板 3 1側から、例えば、図 6に示すように、誘電体層 44、相変化型記録層 45、誘電体層 46の各層を積層するように成膜して形成される。

誘電体層 44は、 Z n— S i〇₂や S i , S i C, Ge， G e C, S n， S n C， A 1 , A 1 C, G a, G a C， I n, I n C等の窒化物もしくは酸化物により成膜される。

相変化型記録層 45は、 S b, T e， 'I n， Ag, G e等やその材料を 2種類以上化合させた化合物状態のものにより成膜される。例えば Ge S bT eが用いられる。誘電体膜 4 6は、 Z n— S i〇₂や S i , S i C , G e , G e C， S n， S n C , A 1 , A 1 C , G a , G a C , I n , I n C等の窒化物もしくは酸化物により成膜される。

このように、第 1の信号記録部 4 2は、金属反射層を有しない点を除いて第 2 の信号記録部 3 2と同じである。

次に、図 5 Fに示すように、初期化が行われる。つまり、上記成膜時の状態では、相変化型記録層 4 5は a s— cl e p o s i t e dと呼ばれるアモルファスに近い状態にある。したがって、相変化型記録層の成膜後には、これに情報記録を行うことができるようにするために、第 2の信号記録部 3 2と同様に結晶状態にする初期化という作業が必要になる。

図 5 Fに示す初期化の作業は、第 2の信号記録部 3 2の場合と同じであり、本実施形態では、製造用基板 4 1上には、第 1の信号記録部 4 2が 1層だけ形成されているので、上記で説明したように、信号記録部 4 2上において、光源からの光と戻り光との干渉が生じることなく、精度よく初期化を行うことができ、優れた記録再生特性を備えた信号記録部 4 2を形成することができる。

次に、図 5 Gに示すように、支持基板 3 1と製造用基板 4 1の各信号記録部 3 2と信号記録部 4 2とを向かい合わせて、その間に透明材料による接着剤 5 1をとして、紫外線硬化樹脂（以下、「U V硬化樹脂」という。）を介して貼り合わせる。この U V硬化樹脂は、この段階で紫外線を照射されることにより、硬化して中間層 5 1とされる。

具体的には、例えば、支持基板 3 1側の初期化済の第 2の信号記録部 3 2の上に、 U V硬化樹脂 5 1をスピニングコートにより適用し、その上から製造用基板 4 1の初期化済の第 1の信号記録部 4 1を重ねて、紫外線照射を行うことにより貼-りイ寸ける。

次いで、図 5 Hに示すように、製造用基板 4 1を剥離する。この場合、製造用基板 4 1が上述したようにアクリル樹脂で形成されていれば、アクリル樹脂の物理的，化学的特性に基づいて、第 1の信号記録部 4 2にストレスを加えることなく製造用基板 4 1を剥離させることができる。

最後に、図 5 1に示すように、第 1の信号記録部 4 2の表面に、保護層 5 2を設ける。保護層 5 2は、例えば、第 1の信号記録部 4 2の表面に、透明な材料、例えばポリカーポネ一トフィルムを感圧性接着剤等で貼りつけることによつても形成出来る。

以上の工程により、例えば、図 6に示す層構造でなる光ディスク 6 0を製造することができる。

以上の工程では、例えば、支持基板 4 1を 1 . 1 mmの厚みに、第 2の信号記録部 3 2を 0 . 2 ΙΉ程度の厚みに、 U V硬化樹脂による中間層 5 1を約 2 0 X mの厚みに、第 1の信号記録部 4 2を 0 . 2 m程度の厚みに、さらに、保護層 5 2を約 9 0 x mの厚みにして、約 2 0 mの感圧性接着剤で貼付けることにより、片側 2層の光ディスク 6 0を形成することができる。

そして、この実施形態によれば、各信号記録部 3 2と 4 2に対して、それぞれ支持基板 3 1と製造用基板 4 1に成膜された状態で初期化することにより、信号記録部を重ねて初期化する場合による光源からの光ビームと戻り光の光ビームの千渉を避けることができる。したがって、精密な初期化作業が可能となり、記録再生信号特性が損なわれることなく、片面に複数の信号記録部を備えた光ディスク 6 0を製造することができる。

(第 2の実施形態）

図 7 A〜 7 Eは本発明の第 2の実施形態を示している。

図 7 A〜 7 Eにおいて、第 1の実施形態と同じ符号を付した箇所は共通する構成であるから重複する説明を省略する。

図 7 Aに示すように、第 1の基板である製造用基板 4 1には、第 1の信号記録部 4 2が設けられる。この信号記録部 4 2の上に接着剤として U V硬化樹脂 5 5 を均一な厚みとなるようにスピンコート等の手法により厚み調整して塗布する。この接着剤 5 5の上に、保護層となる透明なフィルム 5 2を載置し、紫外線照射を行うことにより接着剤を硬化させて貼り付ける。この場合、保護層 5 2は、単体では、平坦な形状を保つことが出来ない、例えば、厚み 8 5 x m程度のごく薄いフィルムが使用される。

次に、図 7 Bに示すように、貼り付けたフィルムでなる保護層 5 2の上からこの保護層 5 2を透過するように、矢印で示すレーザ光 Lを照射して、第 1の信号記録部' 4 2の初期化を行う。

次いで、図 7 Cに示すように、貼り付けたフィルムでなる保護層 5 2を、第 1 の信号記録部 4 2を保護層 5 2側に残すようにして、製造用基板 4 1から剥離する。すなわち、初期化済の第 1の信号記録部 4 2は、接着剤 5 5によりフィルムでなる保護層 5 2側と接着されているので、フィルムでなる保護層 5 2を剥がすと、基板側でなく、フィルム側にくっついて製造用基板 4 1から剥離される。さらに、これとは別工程で製造した支持基板 3 1とこの支持基板 3 1に形成した第 2の信号記録部 3 2を形成して、この第 2の信号記録部 3 2を第 1の実施形態と同様に初期ィ匕したものを用意する。

次に図 Ί Dに示すように、この支持基板 3 1に形成された初期化済の第 2の信号記録部 3 2の上に、中間層となる透明材料による接着剤 5 1である、 U V硬化樹脂を第 1の実施形態と同様に適用して、この接着剤 5 1を挟んで、フィルム 5 2と固定されている第 1の信号記録部 4 2を対向させて貼り付ける。

そして、接着剤 5 1に紫外線を照射して硬化させることにより、図 7 Eに示すように、全体として第 1の実施形態で製造されると同様な構造の光ディスク 7 0 を製造することができる。

このように、第 2の実施形態によれば、各信号記録部 3 2と 4 2は別々に初期化することができるので、信号記録部を重ねて初期化する場合による光源からの光ビームと戻り光の光ビームの干渉を避けることができる。したがって、精密な初期化作業が可能となり、記録再生信号特性が損なわれることなく、片面に複数の信号記録部を備えた光ディスク 7 0を製造することができる。

これに加えて、第 1の信号記録部 4 2の上に保護層 5 2となる透明フィルムを接着し、この保護層を介して、製造用基板 4 1を剥離する前に、第 1の信号記録部 4 2に対して、情報記録可能となるような初期化を行うことで、単体では平坦な状態を保てないような極薄い保護層 5 2つけたままで初期化出来る。

これにより、光ディスク 7 0に記録及び/または再生用の光ビームとして、極めて波長の短い光及び N Aの高い対物レンズを用いて集光した光ビームを使用しても、読み取り側に配置された保護層 5 2が極めて薄いので、収差の発生を好適に抑えることができる。

(第 3の実施形態）

図 8 A〜 8 Fは本発明の第 3の実施形態を示している。

図 8 A〜 8 Fにおいて、第 1の実施形態と同じ符号を付した箇所は共通する構成であるから重複する説明を省略する。

図 8 Aに示すように、第 1の基板である製造用基板 4 1には、第 1の信号記録部 4 2が設けられる。そして、この状態で、第 1の信号記録部 4 2に光ビーム L を照射して、第 1の信号記録部 4 2の初期化を行う。

次いで、図 8 Bに示すように、初期化後の第 1の信号記録部 4 2に透明な接着剤 5 5を適用して、保護層 5 2となる透明なフィルムを貼り付け、図 8 Cに示す構成にする。

この後の図 8 D〜8 Fに示す各工程は、実質的に第 2の実施形態の図 7 (：〜 7 Eに示す工程と同じであるから、重複する説明は省崎する。

したがって、第 3の実施形態は、第 2の実施形態と同様な作用効果を発揮することができる。

(光ディスクの構成）図 6は、本発明の製造方法を適用して製造した光ディスクの構成を示す概略部分断面図であり、製造方法の説明で使用した符号と同一の符号を付した部分は共通する構成であるから、詳しい説明は省略する。

図 6において、光ディスク 6 0は、図 9に示す従来の光ディスクと同様に全体として円盤状に形成され、チヤッキング用のセンターホール等を備えている点は同じであり、図においては、その特徴となる層構造のみが拡大断面の状態で示されている。

上述した実施形態においては、記録可能な信号記録部として、 2つの信号記録部を有する光ディスクの製造方法について説明しているが、同様の方法で 3 つ以上の複数の信号記録部を有する光ディスクを製造することができる。産業上の利用可能性

以上述べたように、本発明によれば、記録再生信号特性が損なわれることなく, 片面に複数の信号記録部を備えた光ディスクの製造方法を提供することができる：

Claims

請求の範囲

1 . 所定の凹凸パターンが転写された第 1の基板上に相変化型の記録層を含む第 1の信号記録部を設ける工程と、

所定の凹凸パターンが転写された第 2の基板上に相変化型の記録層を含む第 2の信号記録部を設ける王程と、

第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を対向させて貼り合せる工程とを有する光ディスクの製造方法において、

前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を対向させて貼り合せる工程の前に、前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部に対して、情報記録可能となるような初期化を夫々に行う工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法

2 . 前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を貼り合せる工程の後に、

前記第 1の基板を前記第 1の信号記録部から剥離する工程と、

前記第 1の信号記録部の上に、透明材料による保護層を設ける工程とを、さらに有することを特徴とする請求項 1記載の光ディスクの製造方法。

3 . 前記第 1の基板がァクリル樹脂からなることを特徴とする請求項 2記載の光ディスクの製造方法。

4 . 前記第 1の信号記録部と第 2の信号記録部を貼り合せる工程の前に、

前記第 1の信号記録部に透明フィルムを貼り合せる工程と、

前記第 1の基板を前記第 1の信号記録部から剥離する工程とを、さらに有することを特徴とする請求項 1記載の光ディスクの製造方法。

5 . 前記第 1の基板が前記所定のパターンとしてグループに対応した凹凸パ夕ーンを有するスタンパを使用して成形されると共に、前記第 2の基板が、前記凹凸パターンと同様なパターンを有する回転方向の異なるス夕ンパを使用して成形されることを特徴とする、請求項 1に記載の光ディスクの製造方法。