WO1999048944A1 - Film et article antireflet - Google Patents

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WO1999048944A1
WO1999048944A1 PCT/JP1999/001503 JP9901503W WO9948944A1 WO 1999048944 A1 WO1999048944 A1 WO 1999048944A1 JP 9901503 W JP9901503 W JP 9901503W WO 9948944 A1 WO9948944 A1 WO 9948944A1
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film
group
epoxy
fluorine
antireflection
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PCT/JP1999/001503
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Takahisa Aoyama
Hitoharu Hachisuka
Shigeru Morita
Takuya Arase
Tetsuo Shimizu
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Daikin Industries, Ltd.
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    • C08F2810/40Chemical modification of a polymer taking place solely at one end or both ends of the polymer backbone, i.e. not in the side or lateral chains

Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film and an antireflection-treated product covered with the antireflection film.
  • an antireflection film (AR film) utilizing interference a material having a low refractive index is preferable from the viewpoint of an antireflection effect (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-198001, 3-3-1). See, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62665/1994 and Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-74568. This tendency is particularly remarkable in a one-layer or two-layer antireflection film that is advantageous in terms of productivity.
  • a transparent material is preferable because a material that scatters light interferes with the interference.
  • Examples of applying a compound containing an epoxy group to an anti-reflection technique are disclosed in JP-A-6-118656, JP-A-5-104673, JP-A-6-15556. No. 52, JP-A-6-226928, JP-A-8-313704, and the like.
  • the epoxy compounds described in these publications are hydrocarbon-based, and merely function as a resin matrix for improving adhesion and functioning as a resin matrix. Therefore, epoxy compounds do not contribute to a decrease in reflectance.
  • An anti-reflection film containing microvoids sufficiently smaller than the wavelength of light is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 225002 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-288210 are disclosed.
  • the disclosed antireflection film has no problem in terms of the antireflection effect and the scratch resistance ⁇ E.
  • the wear resistance which is more important than the scratch resistance in practical use, is inferior.
  • the coating method is spin coating as described in the gazette. It is thought that productivity is low, for example, it is limited to painting by varnish and requires gentle drying at room temperature.
  • An object of the present invention is to provide an antireflection film having improved scratch resistance and abrasion resistance while maintaining an antireflection effect by increasing the film strength while maintaining a low refractive index.
  • Another object of the present invention is to provide an antireflection-treated article coated with such an antireflection film.
  • the object is to provide an antireflection film comprising a cured film of a fluorinated prepolymer, wherein the fluorinated prepolymer has a fluorine content of 50% by weight or more, and is contained in one molecule.
  • One is a method in which a monomer containing an epoxy group, for example, an acrylate or methacrylate having a glycidyl group in a side chain is copolymerized with a fluorine-containing monomer.
  • an epoxy group is basically introduced in the middle of the molecular chain.
  • the movement of the epoxy group is restricted, and a crosslinking reaction occurs.
  • a crosslinking reaction occurs.
  • a large side chain extends from the crosslinking point, and the hardness of the film may not easily increase.
  • the number of epoxy groups to be introduced is determined stochastically, some molecules have a small number (in extreme cases, no epoxy groups) and some have a large number. Cross-linking may not occur, and the film strength may not increase.
  • Another method of introducing epoxy groups is to introduce epoxy groups near both ends of the molecular chain. In this case, the above-mentioned adverse effects are eliminated, but the synthesis is somewhat difficult.
  • the compound having both ends of iodine may be a low molecular compound, but it can be synthesized by polymerizing fluorine-containing olefin or ⁇ -fluoroacrylate by iodine transfer polymerization. It is also known (see, for example, Japanese Patent Publication No. 58-47228 and Japanese Patent Publication No. Hei 6-222831).
  • fluorine-containing olefin with a high fluorine content, such as tetrafluoroethylene (TFE), perfluorovinyl ether (PFVE), or hexafluoropropylene (HFP), it has a very low refractive index. Moreover, it is possible to synthesize a compound in which both ends are epoxy groups.
  • the (co) polymerized portion of fluorine-containing olefin will be referred to as the main chain of a fluorine-containing prepolymer (epoxy-containing compound) having an epoxy group used in the present invention.
  • epoxy compounds not only epoxy compounds but also polymers having functional groups at both ends as described above are generally called telechelic polymers.
  • Examples of the method of introducing an epoxy group at the terminal include a method of adding glycidyl aryl ether to an iodine terminal and a method of removing ⁇ I after addition of aryl alcohol, and the like. It is not limited to.
  • a C-I bond is present in the fluorine-containing prepolymer. C—I bonds often have large light absorption in the ultraviolet below 300 nm, often reducing the sensitivity of UV curing agents. Therefore, in some way I Is preferably removed.
  • the C—I bond is converted to a C—H bond by a force reduction reaction (such as using sub-shipping powder).
  • F 2 , 8 1 ” 2 Yaji 1 2, etc., away illustration be substituted for I halogen other than I.
  • any fluorine-containing monomer capable of iodine transfer polymerization can be used.
  • bilidene fluoride (Vd F), TFE, HFP, PFVE, perfluoro dialkyl dioxols and perfluoro monoalkyl dithiols as disclosed in JP-A-7-138252.
  • Kisol bilidene fluoride
  • Known monomers containing a functional group such as OR can also be used.
  • R is, for example, CH 3 , CH 3 CH 2 —
  • TFE, HFP and PFVE, refractive index, availability of monomer, price, copolymerizability, and ease of iodine transfer polymerization are preferred.
  • PFVE perfluorobutyl ether
  • PMVE perfluoromethylbutyl ether
  • PEVE phenol- 0 -fluoroethyl ether
  • PPVE perfluoropropyl vinyl ether
  • CF 2 CF_0_ [CF 2 — CF (CF 3 ) — O—] n C 3 F 7 (n is an integer from 1 to 4).
  • the above monomers are polymerized to form a main chain, but copolymerization, iodine transfer, ease of polymerization, cost, epoxy reactivity, transparency, hardness after curing, anti-reflection effect, and abrasion resistance
  • the monomer composition of the main chain is determined in consideration of the properties and the like.
  • a main chain consisting of only TFE repeating units has crystallinity, and therefore has the following problems.
  • Crystallinity restricts the movement of molecules, which hinders the epoxy curing reaction. Increasing the refractive index reduces the antireflection effect. Failure to form a uniform film itself results in a decrease in the scratch resistance and abrasion resistance of the film.
  • the main chain of the epoxy prepolymer is not a repeating unit of TFE but a copolymer containing a comonomer that disrupts crystallinity.
  • a copolymer containing a comonomer that disrupts crystallinity Preferably.
  • Amorphous copolymers are more preferred.
  • the comonomer those as exemplified above can be used.
  • TFE repeating unit a single TFE repeating unit is preferable, so the composition should be determined in consideration of the balance between the above-mentioned drawbacks and cost.
  • compositions include a copolymer having the following composition in addition to the homopolymer of the above monomer.
  • H 2 H 2
  • monomers with various side chains can be used.
  • a monomer having a side chain of an epoxy group, an OH group, a COOH group, an amine group, or the like is preferable.
  • those having a long perfluoroalkyl group are preferred.
  • COOH is included, it is preferable to block it with vinyl ether or the like so that it does not react with the epoxy group at room temperature.
  • the fluorine-containing prepolymer is usually dissolved in a solvent, applied to a substrate, dried and cured to form an antireflection film.
  • the solvent used at the time of coating may be appropriately selected according to the type of prepolymer. Examples of preferred solvents are shown below.
  • Ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as butyric acetate; nitrogen-containing solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide;
  • the compound to be added needs to be uniformly dispersed in the prepolymer, and the method for curing the epoxy compound containing an epoxy group is roughly classified into the following methods.
  • polycarboxylic acid or polycarboxylic anhydride as curing agent (crosslinking point is carboxylic acid)
  • Polymerization curing (brensted acid or tertiary amine is added as a curing agent to form a cation polymerization initiator.
  • the crosslinking point is epoxy
  • a cross-linking method utilizing a reaction between an epoxy group and a silane compound, an alcohol or a mercaptan compound is also known (for example, see Coating Technology 30 (2), pp. 57-58 (1 995)).
  • one of the well studied curing methods utilizes the reaction between carboxylic acid and epoxy group, and is considered to react as follows.
  • epoxy compounds and carboxylic acids having two or more functionalities causes high molecular weight (when both epoxy compounds and carboxylic acids are bifunctional) or three-dimensional crosslinking (epoxy and carboxylic acid). When at least one of them is trifunctional or higher).
  • three-dimensional cross-linking occurs, it is obvious that it is very advantageous in terms of hardness.However, even with a simple increase in molecular weight, hardness close to three-dimensional cross-linking due to hydrogen bonds between hydroxyl groups or between hydroxyl groups and carboxyl groups Can be expected. When a hydroxyl group and a carboxyl group form an ester bond, a three-dimensional cross-link is formed.
  • the undercoat should have excellent adhesion to not only epoxy compounds but also compounds containing ester groups or hydroxyl groups. Specifically, it is preferable that the undercoat contains an acryl, an isocyanate compound, a silane compound, or the like, or that these compounds are used for curing the undercoat.
  • the carboxylic acid used for curing in the present invention may be selected from the following viewpoints.
  • the carboxylic acid is preferably a fluorinated polybasic acid.
  • Carboxylic acids that can be synthesized relatively easily are roughly classified An example is as follows.
  • Rf is one (CF 2 ) k —, m 1 and m 2 are each an integer of 0 to 6, and k represents an integer of 2 to 16.
  • Is a dicarboxylic acid represented by Rf may be one exemplified in the main chain of the epoxy compound.
  • Rf is a divalent organic group composed of repeating units of TFE and PFVE, and a divalent organic group composed of repeating units of VdF and HFP. Since it is preferable to increase the fluorine content and lower the refractive index in order to enhance the antireflection effect, both ml and m 2 are preferably 0.
  • R f represents a fluoroalkyl group
  • X represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • the polymer may be composed of only two kinds of monomers, but may be composed of three or more kinds of monomers.
  • the former monomer homopolymer or copolymer is partially hydrolyzed, and as a result,
  • It may have the same structure as a copolymer of two types of monomers.
  • fluoroalkyl group R f Specific examples of the fluoroalkyl group R f are as follows.
  • a part of tribasic or higher polybasic acid is converted to an ester with a fluorinated alcohol to form dibasic or higher polybasic acid
  • Rf has the same meaning as described above.
  • the carboxylic acid shown above is used to cure the epoxy compound.To improve the pot life after mixing the carboxylic acid and the epoxy compound, and to improve the water resistance of the cured film, a carboxylic acid group is used. To block some or all of Can be.
  • blocking means that a certain functional group (here, a carboxyl group) is temporarily reacted with another compound (a diblocking agent) to reduce the reaction activity of the functional group.
  • the blocked functional group is regenerated to the original functional group by an external stimulus such as heat or light, and the activity of the compound is restored.
  • the details of the blocking technique are described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-254,06, Coating Engineering, 30 (2) 57-68, etc., and are well known.
  • a similar blocking technique can be used in the present invention.
  • As the blocking agent a vinyl ether compound is preferred.
  • the amount of the curing agent added is large (about 1% of the fluorine-containing prepolymer containing epoxy group). 0 weight./.), which increases the refractive index and reduces the antireflection effect.
  • the amount of the curing agent may be a catalytic amount (5 weights / 0 or less).
  • polymerization hardening is preferable because the adverse effect of the curing agent on the antireflection effect is small.
  • Curing agents for polymerization curing are classified as follows.
  • One salt for example, sulfonium salt, iodonium salt (bronstead acid is generated by UV irradiation)
  • the fluorine-containing prepolymer having an epoxy group used in the present invention is difficult to cure using a conventional curing agent.
  • known curing agents are ionic and highly polar. Since the fluorine-containing prepolymer of the present invention has a high fluorine content, the compatibility with an ionic curing agent is poor, the curing agent is separated, the film becomes cloudy, and the antireflection effect is reduced. In addition, the contact between the prepolymer and the curing agent at the molecular level decreases with the separation, and the reactivity decreases significantly. In order to enhance compatibility, the curing agent needs to have a fluorine-containing group.
  • the principle of polymerization curing is that, in the absence of water, an acid is generated by an external stimulus to initiate cationic polymerization of the epoxy compound, thereby causing a curing reaction.
  • the present inventors have found that a compound having the structure shown below generates an acid upon heating or irradiation with light, and is therefore effective as a polymerization curing agent for a fluorine-containing prepolymer having an epoxy group used in the present invention.
  • This compound has high sensitivity to light, especially to ultraviolet light.
  • 1 1 and 1 ⁇ 2 are the same or different, and are a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or an organic group containing carbon;
  • X is a fluorine atom, a chlorine atom
  • R 3 is a carbon-containing organic group or one O—R 4 (where R 4 is a carbon-containing organic group, a metal cation, or an organic cation), a bromine atom, an iodine atom, or a cyano group.
  • Rw represents an electron-withdrawing group; represents a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom or an iodine atom.
  • the generated acid is considered to be HX or an active intermediate generated when XX is eliminated from the compound of formula (I).
  • R 2 and R 3 are organic groups
  • the type of the organic group is not particularly limited, and may be any organic group in principle. It may be a polymer chain or one linked to a single polymer chain. Select as appropriate based on the complexity of synthesis, other added functions, and cost.
  • the organic group is, for example, with respect to R have R 2, R 3, Mechinore group, Echiru group, triflic Oromechiru group, Asechiru group, Shiano group, CH 3 _0-, CH 3 CH 2 - O- and the like.
  • a is an integer of 1 to 20, and b is an integer of 1 to 10.
  • X is a part that becomes a counter ion of H +, so a halogen atom or a cyano group (CN).
  • a halogen atom or a cyano group (CN) When X is a halogen atom, it also has the ability to initiate radical polymerization as evident from JP-A-6-228231. From the viewpoint of toxicity, a fluorine atom or a chlorine atom is preferred.
  • R w is an electron withdrawing group, for example, -CO-, one CN, - F, one CF 3, - C l, _N0 2, and the like one S0 3 H, one O-S0 3 H.
  • the carboxyl group (1-CO—) in the formula (I) is an electron-withdrawing group and also plays a role in stabilizing the radical intermediate by resonance and absorbing ultraviolet light efficiently to accelerate the decomposition by ultraviolet light. .
  • R 1 R 2 CX 1 -CR w X- (II) (wherein, R 2 , R 3 , X and R w have the same meanings as described above.
  • represents an organic group containing an aromatic ring.
  • Examples of the organic group containing an aromatic ring represented by ⁇ include a group containing a benzene ring, a naphthalene ring, a perylene ring, a pyrene ring, and the like. Specifically, one CH ⁇ '-00 -3 ⁇ 4o -ID
  • a hydrogen atom at any position of the aromatic ring can be substituted with the electron-withdrawing group exemplified for R w . It is more advantageous for the aromatic ring to be directly bonded to the carbon atom to which R w and X are bonded in terms of the rate of acid generation.
  • R 3 and R 4 or be Pureborima one compatibilized desired to be cured, melting point of the curing agent, (if you want to remove by evaporation) Chasse is evaporating, the handling property is determined from the viewpoint of decomposition rate.
  • R 3 is preferably a group represented by 10-R 4 .
  • R 4 OH! ⁇ CR w CR w X— This is because it is only bonded to the carboxylic acid represented by COOH or its acid anhydride or acid halide by an ester reaction.
  • R! R 4 may be introduced by transesterification using an ester of I ⁇ CX—CR w X_COOH.
  • a prepolymer having a high fluorine content is to be cured, it is preferable to use a fluorine-containing curing agent from the viewpoint of compatibility.
  • a fluorine-containing curing agent for example, as an organic group, one CH 2 (CF 2 ) c CF 3 (c is an integer of 0 to 10), -CH 2 CH 2 (CF 2 ) C CF 3 (c is an integer of 0 to 10), etc. Can be illustrated.
  • Some of the compounds represented by the formula (I) are acrylics having an electron-withdrawing group at the ⁇ -position, for example, monocyanoacrylate, ⁇ -fluoroacrylate, ⁇ _ (trifluoromethyl) acrylate, ⁇ - the chloro acrylate, halogen compounds (e.g., iodine (1 2), bromine (B r 2), chlorine (C 1 2), fluorine (F 2), IB r, IC 1, IF, etc.) to Caro with the Can be synthesized.
  • halogen compounds e.g., iodine (1 2), bromine (B r 2), chlorine (C 1 2), fluorine (F 2), IB r, IC 1, IF, etc.
  • Such a compound is represented by the following general formula (III).
  • R w , R 4 and X are as defined above. Represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • these acrylate derivatives are esters, they evaporate easily for their molecular weight.
  • water is an inhibitor in the polymerization and curing of epoxy, so there is a process to remove water by heating, but it may evaporate at that time.
  • it In order to make it difficult to evaporate, it must be an organic group or organic cation having a molecular weight of RJil 00 or more. Is desirable.
  • the article treated with the antireflection film of the present invention that is, the type of the substrate is not particularly limited.
  • inorganic materials such as glass, stone, concrete, and tile; salty resin, polyethylene terephthalate, cellulosic resin such as triaceti / reseno-relose, polycarbonate resin, polyolefin resin, acrylic resin, phenolic resin, xylene resin , Urea resin, melamine resin, diaryl phthalate resin, furan resin, amino resin, alkyd resin, urethane resin, butyl ester resin, polyimide resin and other synthetic resins; iron, aluminum, copper and other metals; wood, paper, Examples include printed matter, photographic paper, paintings, and the like. Also, by performing an anti-reflection treatment on a part other than the specific part of the article, and by making the shape of the specific part stand out by the reflected light, the decorativeness of the article can be improved.
  • the present invention is effective when applied to the following forms of articles.
  • optical components such as prisms, lens sheets, polarizing plates, optical filters, lenticular lenses, Fresnel lenses, rear projection display screens, optical fibers and optical power pullers;
  • Optical recording media such as magneto-optical discs, read-only optical discs such as CDs, LDs and DVDs, phase-change optical discs such as PDs, and holographic recordings;
  • Light-emitting media such as halogen lamps, fluorescent lamps, and incandescent lamps Protective cover;
  • the antireflection film of the present invention may be formed as a film having a thickness of about 0.1 tm by directly applying a solution of a fluorinated prepolymer having an epoxy group to the substrate, and forming one film between the substrate and the substrate.
  • a plurality of layers may be formed as an undercoat, and an antireflection film may be formed thereon as a topcoat.
  • the effects of the undercoat can be broadly divided into three types. It is to increase the anti-reflection effect by increasing the thickness, protecting the substrate, or adding a layer having a higher refractive index than the substrate.
  • a self-healing undercoat as exemplified in JP-A-7-168005 may be used.
  • a paint generally called a hard coat may be used to protect the base material.
  • Curable acrylic resins and epoxy resins, cured products of silicon alkoxide compounds, cured products of metal alkoxide compounds, and the like can be given as examples. Thermal curing can be applied to all of them. For acrylic and epoxy resins, UV curing is preferred in terms of productivity.
  • one COO-, _NH 2 one NH 3 +, -NR ⁇ R ⁇ R 13 (wherein, R 11 R 12 and R 13 include a methyl group, Echiru group, n- propyl radical, n —Butyl group, etc.), polymers containing ionic groups such as —SO 3 —, silicone compounds, and inorganic electrolytes (eg, NaF, CaF 2 ).
  • an antistatic agent to the undercoat layer and the Z or top coat layer of the antireflection film for the purpose of preventing dust from adhering.
  • the additives include metal oxide fine particles, fluoroalkoxysilanes, and surfactants (anion-based, cationic-based, both-based, nonionic-based, etc.) in addition to the above-described additives for imparting conductivity.
  • the antistatic agent added to the undercoat layer has a long-lasting effect, the effect is not easily affected by humidity, the antistatic effect is high, and the transparency and refractive index are high. Fine particles of metal oxides, specifically, antimony-doped tin oxide ( ⁇ ) and indium-containing tin oxide ( ⁇ ⁇ ) are preferable because they can be adjusted to enhance the antireflection effect. . ⁇ is preferred in terms of transparency, and ITO is preferred in terms of antistatic effect or conductivity. Further, even when the antistatic effect is not required, the refractive index can be easily adjusted, so that the use of these additives can enhance the antireflection effect.
  • the content of the filter is several 10% in terms of the solid content ratio, so that the film tends to be very fragile.
  • a coating of a tough fluorinated epoxy cured product on this film it becomes a strong film integrally. In this state, scratches caused by nails and the like are not easily made.
  • the thickness of the undercoat layer is preferably about submicron so as not to hinder the transmission of light.
  • 0.05 to 0.3 m is preferable, though it depends on the refractive index of the fluorinated prepolymer cured product.
  • the optimum refractive index is preferably 1.55 to 1.95, which similarly depends on the refractive index of the fluoropolymer.
  • An alkoxysilane-based antistatic agent is preferred from the viewpoint that the refractive index does not easily increase and the antireflection effect is not adversely affected, as long as the antistatic property is imparted to the coating of the fluorinated prepolymer cured product.
  • Fluoroalkoxysilane is more preferable because it has a smaller effect of increasing the refractive index, and in addition, an effect of improving surface characteristics can be expected.
  • the antireflection ability is adversely affected.
  • a method of forming a surfactant layer with a film thickness not large When applied to the present invention, there is an effect of improving antifouling properties such as prevention of dust adhesion. The same effect is obtained when a hard coat layer is formed.
  • the hard coat layer can be formed by applying an alkoxysilane or polysilazane solution, followed by heating and curing.
  • UV-curable acryl paint and melamine cross-linked cured film can also be used.
  • a fluorinated oil can be added.
  • the amount to be added in consideration of deterioration of the mechanical properties and cloudiness due to phase separation with the fluoropolymer. If the terminal is a COHH group or a blocked — COHH group, a COH group, or an epoxy group, it will react with the epoxy group and be easily fixed in the membrane. The same effect can be obtained even when applied to the surface.
  • a method of dispersing a fluorine-containing polymer One method is to apply a solution, dry it, and then bake it if necessary, or apply a solution and dry it. Solution coating is preferred because thin film formation is easy.
  • a known coating method can be adopted. For example, a roll coating method, a microgravure coating method, a gravure coating method, a flow coating method, a bar coating method, a spray coating method, or a die coating method as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-151904 is used. Can be done. From these methods, the most appropriate coating method is determined in consideration of the balance between productivity, enormous controllability, and yield.
  • a silane compound may be added in order to increase the adhesion of the antireflection film to the substrate.
  • the amount of silane compound added to the film is several weight. /. Degree is fine. This is because the film strength is mainly ensured by three-dimensional crosslinking of epoxy.
  • treating the substrate surface with a silane compound is effective for improving the adhesion.
  • the silane compound hardly increases the refractive index of the cured film, so that the adverse effect on the antireflection effect is very small.
  • Iodine transfer polymerization proceeds in such a manner that 2 is introduced.
  • terminal iodine is eliminated in the form of iodine radicals, and the terminal of the polymer becomes a radical.
  • Fluorinated prepolymer 1 is a perfluoro liquid rubber having epoxy groups bonded to both ends.
  • m—XHF 10 wt% ⁇ m—XHF solution of the curing agent was prepared. This solution is referred to as a curing agent 11.
  • the above addition reaction proceeds very slowly compared to the case of methyl methacrylate-styrene, and the reaction can be easily controlled at room temperature.
  • a reaction with complete light shielding is not preferred because the rate of the Br 2 addition reaction is too slow. It is good to have natural light in the glass container. If the reaction rate is too fast, the reaction rate can be reduced by shading, cooling, and dilution with a solvent.
  • 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl-1-fluoroacrylate 100 g, AIBN (azobisisobutyronitrile) 0.015 g, mercapto as chain transfer agent Mix isooctyl acetate (2.0 g), deaerate in vacuo, and cool the reaction mixture to 50 ° C Keep in for 24 hours.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • the resulting polymer was dissolved in acetone, and then poured into methanol for reprecipitation and purification.
  • the resulting mixture was mixed with 100 parts / 900 parts of Z30 parts (weight) to obtain a topcoat solution.
  • the ratio of prepolymer to curing agent is 100 parts Z 3 parts
  • This solution was dip-coated on an acryl plate at a pulling rate of 6 O mmZs. Then, it was air-dried and dried in a hot-air drying oven at 40 ° C for 3 minutes.
  • An antireflection-treated acryl plate was produced in the same manner as in Example 1 except that fluorinated prepolymer 2 was used instead of fluorinated prepolymer 1.
  • P 3 5 5 5 UV curable antistatic paint manufactured by Kasei Kagaku Kogyo Co., Ltd.
  • P 3 5 5 5 UV curable antistatic paint manufactured by Kasei Kagaku Kogyo Co., Ltd.
  • the antistatic layer was cured by irradiating ultraviolet rays in the same manner as in Example 1 to obtain an undercoat.
  • This layer acts as an antistatic layer and at the same time contributes to the improvement of the antireflection effect as a high refractive index layer.
  • Example 4 On the antistatic layer, a fluorinated prepolymer was applied in the same manner as in Example 1 and irradiated with ultraviolet rays. As described above, a two-layer antireflection treated article was produced.
  • Example 4
  • An antireflection-treated acryl plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that curing agent 2 was used instead of curing agent 1.
  • Fluorine-containing prepolymer 1 Perfluorosveric acid (HOOC— (CF 2 ) 6
  • Methyldimethyl ketone was mixed in 10 parts / 3 parts Z90 part (weight) to make a top coat solution.
  • the topcoat solution was dip-coated on the antistatic layer at a pulling rate of 20 Omm / min and air-dried. Then, it was heat-treated in a hot-air drying oven at 160 ° C for 10 minutes to be cured.
  • Diamond beam UR4222 (UV curable paint manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is dip-coated on an acryl plate at a pulling speed of 200 mmZ, and is heated in a hot-air drying oven.
  • Example 5 Thereafter, an undercoat layer and a topcoat layer were formed in the same manner as in Example 5. Thus, an acryl plate subjected to antireflection treatment was produced.
  • the polymer obtained in Comparative Synthesis Example 1 was made into a 3% by weight solution of petit / resin acetate, and was dip-coated on an ataryl plate at a bow I lifting speed of 10 OmmZ minutes.
  • the acryl plate used in the examples was directly used for the test.
  • An anti-reflection film was formed on an acryl plate in the same manner as in Example 1 except that the curing agent 1 was not used.
  • the refractive index of the light having a wavelength of 550 nm was measured at 25 ° C using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
  • a film with a thickness of about 0.1 mm was formed on an aluminum foil, cured in the same manner as the antireflection film, and the aluminum foil was dissolved with dilute hydrochloric acid to form a sample film.
  • a film having a thickness of about 0.1 mm was formed by a solvent casting method and used as a sample.
  • the 5 ° regular reflection unit was attached to a visible ultraviolet spectrometer (U-3410, manufactured by Hitachi, Ltd.), and the reflectance was measured for light having a wavelength of 55 Onm.
  • Light transmittance was measured at a wavelength of 550 nm using a visible ultraviolet spectrometer (U-3410, manufactured by Tate Works Co., Ltd.) using air as a reference.
  • a standard cotton cloth (broad, white cloth) was attached to a Taira Rika rubbing tester, a 900 g load was applied to 6.2 crf (pressure: about 15 Ogf / cm 2 ), and the antireflection film was rubbed by 100 reciprocations. The change in the state of the film at that time was examined. The evaluation was performed in the following three stages.

Description

明細書
反射防止膜および反射防止処理物品
技術分野
本発明は、 反射防止膜およびその反射防止膜により被覆された反射防止処理物 品に関する。
従来の技術
一般的に干渉を利用した反射防止膜 (A R膜) の素材としては、 低屈折率のも のが反射防止効果の面から好ましい (特開平 2— 1 9 8 0 1号公報、 特開平 3— 6 2 6 5号公報、 特開平 4一 7 4 5 6 8号公報など参照) 。 この傾向は、 生産性 の面で有利な 1層または 2層の反射防止膜において特に顕著である。 また、 干渉 を利用した反射防止膜の場合、 光を散乱するような素材を用いると干渉を阻害す るので、 透明な素材が好ましい。
エポキシ基を含有する化合物を反射防止技術に応用する例が、 特開平 6— 1 1 8 6 5 6号公報、 特開平 5— 1 0 4 6 7 3号公報、 特開平 6— 1 5 5 6 5 2号公 報、 特開平 6— 2 2 6 9 2 8号公報、 特開平 8— 3 1 3 7 0 4号公報などに開示 されている。 しかしながら、 特開平 8— 3 1 3 7 0 4号公報を除き、 これら公報 に記載されたエポキシ化合物は炭化水素系のものであり、 単に密着性の改善ゃ樹 脂マトリクスとして機能しているだけであって、 エポキシ化合物は反射率の低下 に寄与しない。
特開平 8— 3 1 3 7 0 4号公報に記載されたエポキシ化合物では、 エポキシ基 が片末端にしか存在しないため、 エポキシ化合物だけでは 3次元架橋できなレ、の で硬化膜の強度が十分ではない。 そこで、 多量 (1 0重量%以上) のシラン化合 物の添加が必須となり、 膜強度、 膜硬度はシラン化合物の硬化によるものである。 そのため、 屈折率を 1 . 3 7程度までしか下げられないので、 このようなェポキ シ化合物の使用は反射防止効果の点からは不利である。
特開平 8— 3 1 3 7 0 4号公報に記載の発明では、 エポキシ化合物の重合は塗 布前に行われており、 ポリマーを塗布するタィプの先行技術と本質的には同じ技 術の範疇にある。
光線の波長よりも十分小さいミクロボイドを含む反射防止膜が、 特開平 9一 2 2 2 5 0 2号公報、 特開平 9— 2 8 8 2 0 1号公報など開示されている。 開示さ れた反射防止膜は、 反射防止効果、 耐擦傷 ¾Eの面で問題ないものである。 しかし、 ミクロボイドを含むために、 実用上耐擦傷性よりも重要である耐摩耗性に劣ると 思われる。 また、 3 0〜5 0 n m程度の粒径の乳化粒子を厚み方向に 2〜3個重 ね、 面全体に均一に並べる必要があり、 塗装方法は、 公報に記述されているよう なスピンコートによる塗装に限定される上、 室温での緩やかな乾燥が必要となる など、 生産性が低いと思われる。
更に、 低屈折率層の上に反射防止効果に影響を与えない程度の薄膜を形成する ことにより、 耐擦傷性と反射防止性能を両立する試みがある (特開平 9一 2 8 8 2 0 2号公報) 。 し力、し、 薄膜を塗布する工程が増えるので、 製造コストの面か ら好ましくない。
発明の概要
本発明の目的は、 低屈折率を維持しつつ膜強度を高めることにより、 反射防止 効果を維持しながら、 耐擦傷性、 耐摩耗性が改善された反射防止膜を提供するこ とである。
本発明の別の目的は、 そのような反射防止膜が被覆された反射防止処理物品を 提供することである。
本発明によれば、 上記目的は、 含フッ素プレボリマーの硬化膜からなる反射防 止膜であって、 該含フッ素プレボリマ一は、 5 0重量%以上のフッ素含有率を有 し、 かつ 1分子に少なくとも 2つのエポキシ基が結合している化合物であり、 硬 化膜の厚さは 0 . 0 3〜0 . 5 // mである反射防止膜、 およびこの反射防止膜に より被覆された反射防止処理物品により達成される。
発明の詳細な説明
本発明で用いる 1分子に少なくとも 2つのエポキシ基が結合している含フッ素 プレボリマーの合成法は大きく分けて 2つある。
1つはエポキシ基を含むモノマ一、 たとえばグリシジル基を側鎖に持つァクリ レート、 メタクリレ一トなどをフッ素含有モノマーと共重合する方法である。 こ の方法では、 基本的には分子鎖の中間にエポキシ基が導入される。 エポキシ基が 分子鎖の中間に結合していると、 エポキシ基の動きが制限され、 架橋反応が起こ りにくいことがあり得る。 また、 架橋反応が行われた際に架橋点から大きな側鎖 が延びている形となり、 膜の硬度が上がりにくいことがある。 加えて、 エポキシ 基が導入される個数は確率的に決定されるので、 ある分子には少なく (極端な場 合はエポキシ基が無い) 、 ある分子には多いということが起こり、 全体として均 一に架橋が行われず、 膜強度が上がらない可能性がある。
もう一つのエポキシ基を導入する方法は、 分子鎖の両末端付近にエポキシ基を 導入する方法である。 この場合、 上に示したような弊害は無くなるが、 合成はや や困難である。
含フッ素化合物の両末端にエポキシ基を導入する方法として、 両末端によう素 が結合している含フッ素化合物を利用する方法が報告されている (たとえば、 高 分子論文集第 4 9巻第 1 0号、 1 9 9 2年、 7 6 5— 7 8 3頁) 。 また、 この両 末端がよう素である化合物は、 低分子化合物であってもよいが、 よう素移動重合 で、 含フッ素ォレフィンや、 α—フルォロアクリレートを重合することによって 合成可能であることも知られている (たとえば特公昭 5 8— 4 7 2 8号公報、 特 開平 6— 2 2 8 2 3 1号公報参照) 。
含フッ素ォレフィンにフッ素含量の高いもの、 たとえばテトラフルォロェチレ ン (T F E) 、 パーフルォロビニルエーテル (P F V E ) 、 へキサフルォロプロ ピレン (H F P ) などを選ぶことにより、 非常に低い屈折率を有し、 しかも両末 端がエポキシ基となっている化合物を合成することが可能である。 以後、 含フッ 素ォレフインの (共) 重合部分を本発明で使用するエポキシ基を有する含フッ素 プレボリマー (エポキシ含有化合物) の主鎖と呼ぶことにする。 また、 エポキシ 化合物に限らず、 一般に上述のような両末端に官能基を持つようなポリマ一をテ レケリックポリマーと呼んでいる。
末端にエポキシ基を導入する方法としては、 よう素末端にグリシジルァリルェ 一テルを付加する方法、 ァリルアルコールを付加した後 Η Iを脱離させる方法、 などが例示できるが、 これらの方法に限定されるわけではない。 グリシジルァリ ルエーテルを付加する方法の場合、 含フッ素プレボリマー中に C一 I結合が存在 する。 C— I結合は 3 0 0 n m以下の紫外部に大きな光の吸収を持つことが多く、 多くの場合、 紫外線硬化剤の感度を低下させる。 そのため、 なんらかの方法で I を除去することが好ましい。
たとえばアルカリ (KOH、 N a OHなど) により H Iの形で引き抜くと力 還元反応 (亜船粉を使う方法など) により C— I結合を C一 H結合に変換すると カ F2、 8 1" 2ゃじ 12などで、 Iを I以外のハロゲンに置換することが例示で さる。
主鎖を構成するモノマーとしては、 よう素移動重合可能な含フッ素モノマーで あれば使用可能である。 たとえば、 ビエリデンフルオライド (Vd F) 、 TFE、 HF P、 PF VE、 特開平 7— 138252号公報に示されるようなパ一フルォ 口ジアルキルジォキソ一ル、 パーフルォロモノアルキルジォキソールなどである。 密着性を改善するため、 一 OH, 一 NH3、 一 COOH、 — COOR、 一 O— C
O-R (Rはたとえば CH3、 CH3CH2— ) などの官能基を含有する公知モノ マーを使用することもできる。 それらの中でも、 TFE、 HFPおよび PFVE 、 屈折率、 モノマーの入手のしゃすさ、 価格、 共重合性、 よう素移動重合の容 易さから好ましい。
パーフルォロビュルエーテル (PFVE) を更に例示すると、 パーフルォロメ チルビュルエーテル (PMVE) 、 ノヽ0—フルォロェチルビ-ルエーテル (PEV E) 、 パーフルォロプロピルビニルエーテル (PPVE) 、 CF2 = CF_0_ [CF2— CF (CF3)— O— ]nC3F7 (nは 1から 4の整数) などである。
上記のモノマーを重合して主鎖を形成するのであるが、 共重合性、 よう素移動 重合の容易さ、 コスト、 エポキシの反応性、 透明性、 硬化後の硬度、 反射防止効 果、 耐摩耗性などを考慮し、 主鎖のモノマー組成を決定する。 TFE繰り返し単 位のみからなる主鎖は結晶性を持っため、 以下のような不具合がある。
1. 屈折率の上昇
2. 製膜性の悪化 (=白化する) のため、 均一な膜が形成されにくい
3. 結晶性により、 分子の動きが制限され、 エポキシの硬化反応を阻害する 屈折率の上昇は、 反射防止効果の低下をもたらす。 均一な膜が形成されないこ とは、 それ自体で膜の耐擦傷性 ·耐摩耗性の低下をもたらす。
以上のような不具合を避けるために、 エポキシプレボリマ一の主鎖は、 TFE 単独繰り返し単位ではなく、 結晶性を乱すようなコモノマーを含む共重合体であ ることが好ましい。 非晶性共重合体がより好ましい。 コモノマ一としては、 先に 例示したようなものを利用することができる。
コストの面からは、 TFE単独繰り返し単位が好ましいため、 上に延べたよう な欠点とコストとのバランスを考慮して組成を決定すると良い。
好ましい組成を具体的に例示すると、 上記モノマーの単独重合体に加え、 以下 の組成の共重合体が挙げられる。
TFE 50-99モル0 /o/ PMV E 1— 50モル0 /0
TFE60— 99モル0 /oZ PPVE 1 -40モル0 /0
TFE 70-99モル0 /oZH F P 1 - 30モル0 /0
さらに透明性や屈折率の面からは、 下記組成
TFE 50-70モル0 /oZ PMV E 30 - 50モル0 /0
TFE60-80モル%/ PPVE20— 40モル0 /0
が好ましい。
もちろん、 膜の物性を所望通り変化させるため、 他の公知の共重合可能なモノ マー (例えば、 CF2 = CFC 1、 CH2 = CFH2、 CH2 = CF2、 CH2 = C
H2) を 30モル%まで使用することができる。
このポリマーに機能を追加するために、 種々の側鎖を持ったモノマ一を使用す ることができる。 架橋密度を高めるためや、 接着性を付与するためには、 ェポキ シ基、 OH基、 COOH基、 アミン基などを側鎖に持つモノマーが好ましい。 屈 折率を下げるためには、 長いパーフルォロアルキル基を持つものが好ましい。 な お、 — COOHを含む場合は、 エポキシ基と常温で反応しないよう、 ビニルエー テルなどでプロック化しておくことが好ましい。
含フッ素プレボリマ一は、 通常、 溶剤に溶解して基材に塗布し、 乾燥、 硬化し て反射防止膜を形成する。
塗装時に使用する溶剤は、 プレボリマーの種類に応じて適宜選択すればよい。 好ましい溶剤の例を次に示す。
(1) 主鎖がTFE/PFVE共重合体の場合:
分子量が高い場合 (70000以上)
パーフルォロ (4—ブチルテトラヒ ドロフラン) 、 パ一フルォロベンゼンな 。 分子量が低い場合 (400から 8000)
C4F9— 0_CH3などのフルォロアルキル基とアルキル基とを有するエーテ ルゃ、 へキサフルォロメタキシレン、 《[。 〇ー225などの、 C— F結合と C _H結合を持つ溶媒。 分子量が 700以下の場合、 下記 (2) に示したような溶 剤も使用可能である。
(2) 主鎖が Vd F共重合体の場合:
メチルェチルケトン、 メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、 酢酸ブチ ルなどのエステル系溶剤、 ジメチルフオルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ドなど の含窒素溶剤など、
本発明のエポキシ基を有する含フッ素プレボリマーを硬化した場合、 用途によ つては硬すぎるため、 柔軟性を付与するのが好ましい場合がある。 その場合、 ェ ポキシ基と反応する化合物 (たとえば 1価のエポキシ化合物、 2価アルコールな ど) を添加し、 架橋点間距離を長くするという、 従来技術と同様の方法が応用で さる。
逆に、 さらに硬度を高めたいときは、 3官能以上のエポキシ化合物を添加する とよレ、。 ただし、 添加する化合物はプレボリマーに均一に分散することが必要で エポキシ基を含むィヒ合物を硬化させる方法には、 大別して以下のような方法が ある。
1. 硬化剤としてアミンを使用 (架橋点はァミン)
2. 硬化剤として多価カルボン酸または多価カルボン酸無水物を使用 (架橋点は カルボン酸)
3. 重合硬化 (硬化剤としてブレンステツド酸または三級ァミンを加え、 カチォ ン重合開始剤とする。 架橋点はエポキシ)
さらに、 エポキシ基と、 シラン化合物、 アルコールまたはメルカプタン化合物 との反応を利用した架橋法も知られている (たとえば、 塗装工学 30 (2) 、 5 7— 58頁 (1 995) 参照) 。
上記の硬化法のなかで、 よく研究されている硬化法の一つはカルボン酸とェポ キシ基の反応を利用したものであり、 以下のように反応すると考えられる。 R f — CH— CH2 + R-COOH
O
R f -CH-CH9-0-CO-R
I
OH
エポキシ化合物およびカルボン酸として 2官能以上のものを使用することによ り、 高分子量体 (エポキシ化合物およびカルボン酸がともに 2官能の場合) 、 も しくは 3次元架橋を生じさせる (エポキシおよびカルボン酸の少なくとも一方が 3官能以上の場合) ことができる。 3次元架橋が生じた場合、 硬度の面で非常に 有利であることは明白であるが、 単なる高分子量化でも、 水酸基同士、 もしくは 水酸基とカルボキシル基との水素結合により、 3次元架橋に近い硬度が期待でき る。 また、 水酸基とカルボキシル基がエステル結合を形成すると 3次元架橋とな る。
上の反応式に示したように、 エポキシ基がエステル化されると同時に水酸基が 生じる。 そのため、 アンダーコートには、 エポキシ化合物は当然のことながら、 エステル基や水酸基を含む化合物に対しても密着性が優れるものが好ましい。 具 体的には、 アンダーコートがアクリル、 イソシァネート化合物、 シラン化合物等 を含んでいる、 もしくはこれらの化合物をアンダーコートの硬化に使用している ことが好ましい。
本発明において硬化に用いるカルボン酸は、 以下のような観点で選択するとよ レ、。
1. 含フッ素エポキシ化合物と相溶し、 透明で均一な膜を形成可能であること 2. 含フッ素エポキシ化合物と同じ溶媒に溶解すること。
3. 含フッ素エポキシ化合物の屈折率を上げない (好ましくは下げる) こと
4. 容易に蒸発しないこと
5. コスト
上記 2. の観点は、 含フッ素エポキシ化合物を溶液の形態で塗る場合にのみ必 要となる。 溶媒を使わない場合は必要ではない。
上記 1. 〜4. の四つの条件を満たすためには、 カルボン酸は含フッ素多塩基 酸であることが好ましい。 比較的容易に合成できるカルボン酸を大まかに分類し て例示すると、 以下のようになる。
a . 含フッ素直鎖の末端にカルボキシル基があるもの
具体的に例示すると、 式:
HOOC-(CH2)ml-Rf1-(CH2)m2-COOH
(式中、 Rf は、 一(CF2)k—、 m 1およびは m2はそれぞれ 0〜6の整数、 kは 2〜16の整数を表す。 )
で示されるジカルボン酸である。 Rf は、 エポキシ化合物の主鎖で例示したもの であっても良い。 たとえば は TFE、 P FVEの繰り返し単位からなる 2 価の有機基や、 Vd F、 HF Pの繰り返し単位からなる 2価の有機基である。 反射防止効果を高めるため、 フッ素含量が多くし、 屈折率を低くする方が好ま しいので、 mlおよび m 2はともに 0が好ましい。
b. 側鎖にフッ素を含むアクリルポリマーの側鎖の一部を加水分解し、 カルボ ン酸基としたもの
具体的に例示すると、 式:
CH2 = CXCOOR f
(式中、 R f はフロロアルキル基、 Xは水素原子、 フッ素原子、 塩素原子、 メチ ル基またはトリフルォロメチル基を表す。 )
で示されるモノマーと、 式:
CH2=CXCOOH
(式中、 Xは上記と同意義である。 )
で示されるモノマーとの共重合体が挙げられる。 ポリマーは 2種のモノマ一だけ で構成されても良いが、 3種以上のモノマーで構成されていても良い。 また、 前 者のモノマーの単独重合体または共重合体を部分的に加水分解し、 結果的に上記
2種のモノマーの共重合体と同じ構造となってもよい。
フロロアルキル基 R f の具体例をさらに示すと、 以下の通りである。
— (CH2)p(CF2)qF (p = l〜6の整数、 q = 0〜22の整数) ;
-(CH2)p(CF2)qH (pおよび qは上記と同じ) ;
— (CH2)p(CF2) rCF (CF3)2 (pは上記と同じ。 r=0〜; 10の整数) ; _C(CF3)„H; -CH2-C (C F a) 2CH さらにコストの面から好ましいフロロアルキル基は、 一 CH2CF3, -CH2 CF2CF3, 一 CH2CH2(CF2)7CF3, —CH2CF2CF2H, 一 CH2(C F2)4H, 一 CH2(CF2)6Hなどである。
c . 3価以上の多塩基酸の一部を含フッ素アルコールとのエステルとし、 2価 以上の多塩基酸としたもの
3価以上のカルボン酸の種類が非常に多く、 また、 それらを一部エステル化し たものは、 エステル化する部位により種々の化合物となり、 種類がさらに多くな る。 従って、 ここに属する多塩基酸を全てを例示することは困難であるので、 好 ましい化合物のみを以下に例示する。 R f OCOC-CH9-COOH
I
CO OH 、 R f OCOC-CH-COOH
i I
HOOC COOH、
(各式中、 R n b. 項で例示したものと同じ) 、 シトラコン酸、 メサコン酸、 ィタコン酸などの不飽和多塩基酸のカルボン酸の一部を R f OHによりエステル ィ匕したもの。
d. R f 基を持つ 2価以上の多塩基酸
これに属する化合物の数も多いので、 好ましいごく一部を以下に例示する。
Rf2-CH2-COOH
COOH 、
RfCH-CH-COOH
I I
HOOC COOH 、
(式中、 Rfは前記と同意義である。 R f 2は、 b. 項で例示した R f の内、 p =0〜6のものである。 )
上に示したカルボン酸をェポキシ化合物の硬化に使用するのであるが、 カルボ ン酸とエポキシ化合物の混合後のポットライフを改善したり、 硬化後の膜の耐水 性を向上させる目的で、 カルボキシル基の一部または全部をプロック化すること ができる。
なお、 「ブロック化」 とは、 ある官能基 (ここではカルボキシル基) を一時的 に別の化合物 (二ブロック化剤) と反応させておき官能基の反応活性を落とすこ とをいう。 ブロック化された官能基は、 熱、 光などの外的刺激により元の官能基 に再生され、 化合物の活性は元に戻る。 プロック化技術の詳細は特開平 1 0— 2 5 4 0 6号公報、 塗装工学 3 0 ( 2 ) 5 7— 6 8頁などに記載され、 公知となつ ている。 本発明においても同様のブロック化技術が使用可能である。 ブロックィヒ 剤としてはビニルエーテルィヒ合物が好ましい。
硬化膜を反射防止膜として使用する際、 上記 および 2 . の硬化方法では、 架橋点としてアミンゃ酸が残ると、 硬化剤の添加量が多いこと (エポキシ基を有 する含フッ素プレボリマーの約 1 0重量。/。) もあって、 屈折率の上昇を招き、 反 射防止効果が低下する。 それに対して、 3 . の方法では、 硬化剤は触媒量 (5重 量。 /0以下) でよい。 また、 架橋点として取り込まれていないので、 硬化後に取り 除くことも可能である。 従って、 反射防止効果への硬化剤の悪影響は小さいので、 重合硬化が好ましい。
重合硬化用の硬化剤は、 次のように分類される。
1 . 三級アミン
2 . ブレンステツド酸
3 . ォニゥム塩類。 たとえばスルホニゥム塩、 ヨウドニゥム塩 (U V照射により ブレンステッド酸を発生)
ところで、 本発明で用いるエポキシ基を有する含フッ素プレボリマーは、 従来 技術の硬化剤を使用して硬化することが困難である。 上述の通り、 公知の硬化剤 はイオン性であり、 極性が高い。 本発明の含フッ素プレボリマーは、 フッ素含有 率が高いのでイオン性硬化剤との相容性が悪く、 硬化剤が分離し、 膜が白濁し、 反射防止効果は低下する。 また、 分離に伴いプレボリマーと硬化剤の分子レベル での接触が少なくなり、 反応性が著しく低下する。 相容性を高めるために、 硬化 剤が含フッ素基を有している必要がある。
ところ力 従来技術の硬化剤に含フッ素基を導入しょうとすると、 反応性がな くなつたり、 合成が難しいなどの問題がある。 また、 従来技術の硬化剤はイオン 性なので、 かなりフッ素含有率を高める必要があるが、 事実上不可能であろう。 そこで、 本発明では、 上記の硬化剤とは異なる硬化剤をも使用する。
重合硬化の原理は、 水の不存在下、 外的刺激により酸が発生してエポキシ化合 物のカチオン重合が開始され、 硬化反応が起こるというものである。 本発明者ら は、 以下に示す構造の化合物が、 加熱または光照射により、 酸を発生するため、 本発明で使用するエポキシ基を有する含フッ素プレボリマーの重合硬化剤として 有効なことを見出した。 この化合物は、 特に光、 中でも紫外線に対する感度が高 レ、。
R2CX1-CRwX-CO-R3 (I)
(式中、 1^ぉょび1¾2は、 同一または異なって、 水素原子、 フッ素原子、 塩素 原子、 臭素原子、 よう素原子、 または炭素を含む有機基; Xは、 フッ素原子、 塩 素原子、 臭素原子、 よう素原子またはシァノ基; R3は、 炭素を含む有機基また は一 O— R4 (ここで、 R4は、 炭素を含む有機基、 金属カチオンまたは有機カチ オンである。 ) ; Rwは、 電子吸引性基; は、 フッ素原子、 臭素原子、 塩素 原子またはよう素原子を表す。 ) 。
発生する酸は HXである力 もしくは式 (I) の化合物より XX が脱離する 際に生じる活性中間体と考えられる。
R2および R3が有機基である場合、 有機基の種類は特に限定されず、 原 理上はどのような有機基でもよい。 ポリマー鎖や、 ポリマ一鎖につながるもので もよい。 合成のしゃすさ、 他に付加する機能、 コストなどを基準に適宜選択する。 有機基は、 例えば、 Rい R2、 R3に関しては、 メチノレ基、 ェチル基、 トリフル ォロメチル基、 ァセチル基、 シァノ基、 CH3_0—、 CH3CH2— O—などで ある。
R4の有機基に関しては、 例えば、
— CH2CF3、 — CH3
— CH2CH2(CF2)aF、 — CH2(CF2CF2)bH、
— CH2(CF2)aF
(式中、 aは 1〜20の整数、 bは 1〜10の整数である。 )
Xは、 H+の対イオンになる部分であるので、 ハロゲン原子、 またはシァノ基 (CN) である。 Xがハロゲン原子であれば、 特開平 6— 228231号公報か らも明らかなように、 ラジカノレ重合開始能もある。 毒性の面からはフッ素原子ま たは塩素原子が好ましい。
Rwは電子吸引性基であり、 例えば、 —CO—、 一 CN、 — F、 一 CF3、 - C l、 _N02、 一 S03H、 一O— S03Hなどである。
式 (I) 中のカルボ-ル基 (一 CO—) は電子吸引性基であるとともに、 ラジ カル中間体を共鳴安定化したり、 紫外線を効率よく吸収して紫外線による分解を 早める役割を果たしている。
また、 式 (I)中の一 CO— R3を芳香環を含む官能基で置き換えることも可能 である。 つまり、 以下に示す構造の化合物でも同様の機能を持たせることができ る。
R1R2CX1-CRwX- (II) (式中、 R2、 R3、 Xおよび Rwは前記と同意義。 Φは芳香環を含む有機基 を表す。 )
Φで表される芳香環を含む有機基としては、 ベンゼン環、 ナフタレン環、 ペリ レン環、 ピレン環などを含む基が例示できる。 具体的には、 一 CHゥ' -00 -¾o -ID
Figure imgf000014_0001
などの基が好ましい。
さらに電子吸引性を付与するため、 Rwに関して例示した電子吸引性基により、 芳香環の任意の位置の水素原子を置換することができる。 芳香環は、 Rwおよび Xが結合している炭素原子に直接結合している方が、 酸発生速度の面で有利であ る。 R3および R4は、 硬化させたいプレボリマ一と相容することや、 硬化剤の融 点、 蒸発のしゃすさ (蒸発により除去したい場合) 、 取り扱い性、 分解速度など の面から決定する。 その際、 多種多様な硬化剤を容易に合成するには、 R3は一 0—R4で示される基であるのが好ましい。 なぜなら、 R4OHで示されるアル コールを、 !^じ 丄一 CRwX— COOHで示されるカルボン酸またはその 酸無水物や酸ハロゲン化物に、 エステル反応で結合させるだけだからである。 R ! I^CX — CRwX_COOHのエステルを用いて、 エステル交換反応により、 R4を導入してもよい。
フッ素含有率の高いプレボリマーを硬化させるのであれば、 相容性の面から、 フッ素を含む硬化剤を用いるのが好ましい。 たとえば、 有機基として、 一 CH2 (CF2)cCF3 (cは 0〜: 10の整数)、 -CH2CH2(CF2)CCF3 (cは 0 〜 10の整数)などが例示できる。
以下に、 式 (I) で示す化合物の合成法の一例を示す。 式 (I) で示される化 合物の一部は、 α位に電子吸引性基を持つアクリル、 例えばひ一シァノアクリレ ート、 α—フルォロアクリレ一ト、 α_ (トリフルォロメチル) アタリレート、 α—クロロアクリレートに、 ハロゲン化合物 (例えば、 よう素 (12) 、 臭素 (B r 2) 、 塩素 (C 12) 、 フッ素 (F2) 、 I B r、 I C 1、 I Fなど)を付カロ することにより合成できる。 そのような化合物は、 以下の一般式 (III) で表さ れる。
X1CH2-CRwX-COOR4 (III)
(式中、 Rw、 R4および Xは前記と同意義。 は、 フッ素原子、 塩素原子、 臭 素原子またはよう素原子を表す。 )
ハロゲン化合物としては、 付加反応速度が適度に速いことから、 B r2、 C 12 が好ましい。 従って、 Xおよび が、 ともに B rである力、、 ともに C 1である こと力 合成上好ましい。
これらァクリレート誘導体は、 エステルであるため、 分子量の割に蒸発しやす い。 通常の場合、 エポキシの重合硬化は水分が阻害剤となるので、 水分を加熱除 去する工程があるが、 その際に蒸発してしまう可能性がある。 蒸発しにくくする ために、 RJil 00以上の分子量を有する有機基または有機カチオンであるこ とが望ましい。
本発明の反射防止膜により処理する物品、 すなわち基材の種類は特に限定され ない。
例えば、 ガラス、 石材、 コンクリート、 タイルなどの無機材料;塩ィヒビエル樹 脂、 ポリエチレンテレフタレ一ト、 トリァセチ /レセノレロースなどのセルロース系 樹脂、 ポリカーボネート樹脂、 ポリオレフイン樹脂、 アクリル系樹脂、 フエノー ル樹脂、 キシレン樹脂、 ユリア樹脂、 メラミン樹脂、 ジァリルフタレート樹脂、 フラン樹脂、 ァミノ樹脂、 アルキド樹脂、 ウレタン樹脂、 ビュルエステル樹脂、 ポリイミ ド樹脂などの合成樹脂;鉄、 アルミ、 銅などの金属;木、 紙、 印刷物、 印画紙、 絵画、 などを挙げることができる。 また、 物品の特定部分以外の部分に 反射防止処理をおこない、 その特定部分の形状を反射光によって浮かび上がらせ ることにより、 物品の装飾性を向上することもできる。
本発明は、 以下のような形態の物品に適用した場合に効果的である。
'プリズム、 レンズシート、 偏光板、 光学フィルター、 レンチキュラーレンズ、 フレネルレンズ、 背面投写型ディスプレイのスクリーン、 光ファイバ一や光力プ ラー等の光学部品;
'ショーウインドーのガラス、 ショーケースのガラス、 広告用カバー、 フォ トス タンド用のカバ一等に代表される透明な保護版;
- C R T , 液晶ディスプレイ、 プラズマディスプレイ、 背面投写型ディスプレイ 等の保護板;
'光磁気ディスク、 C D · L D · D V Dなどのリードオンリー型光ディスク、 P Dなどの相転移型光ディスク、 ホログラム記録等に代表される光記録媒体; 'ハロゲンランプ、 蛍光灯、 白熱電灯などの発光体の保護カバ一;
•上記物品にはりつけるためのシート、 もしくはフィルム。
本発明の反射防止膜は、 エポキシ基を有する含フッ素プレボリマーの溶液を基 材に直接塗布し、 0 . 1 t m程度の厚みにの膜として形成してよいが、 基材との 間に 1つまたは複数の層をアンダーコートとして形成し、 その上にトップコート として反射防止膜を形成してもよレ、。
アンダーコートの効果は、 大きく分けて 3つあり、 トップコートの耐擦傷性を 高めたり、 基材を保護したり、 基材よりも高屈折率の層を加えることにより反射 防止効果を高めることである。
トップコートの耐擦傷性を高めるためには特開平 7— 168005号公報に例 示されるような自己修復性のアンダーコートを用いいればよい。 また、 基材の保 護のためにはハードコートと一般に呼ばれる塗料を用いればよい。 硬化型のァク リル樹脂やエポキシ樹脂、 シリコンアルコキシド系化合物の硬化体、 金属アルコ キシド系化合物の硬化体、 などが例示できる。 これらすべてに熱硬化が適用でき る。 アクリル樹脂およびエポキシ樹脂については、 紫外線硬化が生産性の面で好 ましい。
CRTやプラズマディスプレイなどでは、 装置の特性として表面に静電気がた まりやすい。 そこで、 上記のようなアンダーコート層及び Z又はトップコート層 に導電性を付与する添加剤を混ぜることが好ましい。
添加剤としては、 一 COO—、 _NH2、 一 NH3 +、 -NR^R^R13 (ここ で、 R11 R 12及び R 13は、 例えばメチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 n —プチル基など) 、― SO 3—などのイオン性基を含むポリマ一、 シリコーン化合 物、 無機電解質 (例えば NaF、 CaF2など) などが例示できる。
また、 ほこりの付着を防止する目的で、 反射防止膜のアンダーコート層及び Z 又はトップコート層に帯電防止剤を添加することが好ましレ、。 添加剤としては上 記の導電性を付与する添加剤に加え、 金属酸化物の微粒子、 フルォロアルコキシ シラン、 界面活性剤 (ァニオン系、 カチオン系、 両 系、 ノニオン系など) など が例示される。
アンダーコート層に添加する帯電防止剤としては、 効果が永続すること、 効果 が湿度の影響を受けにくいこと、 帯電防止効果が高いこと、 透明性、 屈折率が高 いために基材の屈折率を調整できるので反射防止効果を高めることができること、 などの理由から、 金属酸化物の微粒子、 具体的にはアンチモンをドープした酸ィ匕 錫 (ΑΤΟ) 、 インジウムを含む酸化錫 (Ι ΤΟ) が好ましい。 透明性の面では ΑΤΟが好ましく、 帯電防止効果もしくは導電性の面では I TOが好ましい。 ま た、 帯電防止効果が必要ない場合でも、 容易に屈折率を調節できるため、 これら の添加剤を用いて反射防止効果を高めることもできる。 これらの無機フィラーを 用いる場合、 上記機能を発現するためにはフイラ一含量が固形分比で数 1 0 %と なるため、 非常にもろい膜となりやすい。 しかし、 この膜の上に強靭な含フッ素 エポキシ硬化体の被覆を形成することにより、 一体となって強度のある膜となる。 この状態では、 つめなどによる傷は容易には付かなくなる。
また、 A T O、 I T Oが光を散乱 '吸収しやすいので、 光の透過を妨げないた めには、 アンダーコート層の厚みは、 サブミクロン程度であることが好ましい。 反射防止効果の波長依存性を小さくし、 全波長にわたって反射防止効果を高める ためには、 含フッ素プレボリマー硬化体の屈折率にもよるが、 0 . 0 5— 0 . 3 mが好ましい。 最適な屈折率も、 同様に含フッ素ポリマーの屈折率に依存する 力 1 . 5 5— 1 . 9 5が好ましい。
含フッ素プレボリマ一硬化体の被覆に帯電防止性を与えるのであれば、 屈折率 が上がりにくく、 反射防止効果に悪影響が少ないという面から、 アルコキシシラ ン系の帯電防止剤が好ましい。 フルォロアルコキシシランは屈折率が上がる効果 がさらに少なく、 それに加え表面特性が改良される効果も期待できるので、 さら に好ましい。
また、 上に示したような膜の一部を改質するという方法とは全く異なつた方法 として、 特開平 8—1 4 2 2 8 0号公報に示されるように反射防止能に悪影響を 及ぼさない膜厚で界面活性剤の層を形成する方法がある。 本発明に適用した場合、 ほこり付着防止など、 防汚性を向上するという効果がある。 ハードコート層を形 成した場合も同様の効果がある。
ハードコート層は、 アルコキシシランやポリシラザンの溶液を塗布後、 加熱. 硬化させる方法により形成することができる。 また、 U V硬化型ァクリル塗料や メラミン架橋の硬化膜も使用可能である。
反射防止層に防汚性を付与するために、 含フッ素オイルを添加することができ る。 その場合、 力学特性の劣化や、 含フッ素ポリマーとの相分離による白濁を考 慮して添加量を決める必要がある。 末端を一 C O O H基、 もしくはブロック化さ れた— C O O H基、 一 O H基、 エポキシ基としておけばエポキシ基と反応し、 膜 中に固定されやすくなる。 表面に塗布しても同様の効果がある。
含フッ素ポリマーの薄膜を形成する方法として、 含フッ素ポリマーのディスパ 一ジョンを塗り、 乾燥し、 その後必要に応じて焼成して造膜する方法と、 溶液を 塗布し、 乾燥する方法がある。 薄膜の形成が容易であることから、 溶液塗布が好 ましレ、。 その際、 膜厚を十分にコントロールできるのであれば、 公知の塗装法を 採用することができる。 例えばロールコート法、 マイクログラビアコート法、 グ ラビアコート法、 フローコート法、 バーコート法、 スプレーコート法や、 特開平 7- 1 51 904号公報に開示されているようなダイコート法を採用することが できる。 このような方法の中から、 生産性、 II莫厚コントロール性、 歩留まり等の バランスを考慮して、 最適な塗装法を決定する。
フィルム、 シート等に反射防止膜を形成した後、 これを基材に貼り付けてもよ い。 本発明でも、 反射防止膜の基材への密着性を高めるために、 シラ ン化合物を添加してもよい。 膜中に添加するシラン化合物の量は数 重量。 /。程度でよい。 これは、 膜強度は主にエポキシの三次元架橋に よって確保されているためである。 また、 基材表面をシラン化合物 で処理しておく ことも、 密着性の改善のために効果がある。 本発明 においてはいずれの場合でも、 シラン化合物は硬化膜の屈折率をほ とんど増加させないため、 反射防止効果への悪影響は非常に少ない。 実施例
以下、 実施例および比較例を示し、 本発明を具体的に説明する。 合成例 1一 1
5 Omlガラスオートクレーヴに 6. Ogの I (CF2CF2) 21および 20m
1の CF2 = CFOCF2CF2CF3を仕込み、 ドライアイスで冷却した後、 真 空排気および窒素ガス加圧を 3回繰り返した。 真空排気後, 温度を 45〜 50 °C に保ち, 高圧水銀灯 (ゥシォ電機 (株) 製 USH— 250D) で光照射しながら 。?2 =〇?2ガスを5〜6気圧でサィクル仕込みした. なお、 反応は、 スクリ ュ一型攪拌翼で反応混合物を 700 r p m攪拌しながら行つた。
I (CF2CF2) 21の I (よう素原子) 、 もしくはポリマー末端の Iは光照 射により遊離し、 その間にじ?2 =〇 0〇?2じ?23ゃ〇?2 =じ?2が揷 入されるような形でよう素移動重合は進行する。 (よう素移動重合とは、 末端よ う素がよう素ラジカルの形で脱離し、 ポリマーの末端がラジカルとなり、 その部 分が一定期間ラジカル重合で成長した後、 再び脱離したよう素が付加するという 重合形式。 擬似的にリビング重合的に重合反応が進む。 詳細に関しては特公昭 5 8-4728号公報参照。 )
C F 2 = C F 2ガスを 1 3回仕込んだところ (反応時間 3時間 45分) で光照 射を止め、 オートクレーヴ内部を減圧にし、 よう素移動重合を停止させた。 液温 を 100°Cに上げ、 未反応の原料を減圧除去した。 この段階で、 末端に C— I結 合を持ち、 分子量が約 1000のパ一フルォロエラストマ一が生成した。
室温まで冷却した後、 6. Ogのァリルグリシジルエーテルおよび 2 Omlの H じ じ—225を加ぇ、 ドライアイスで冷却した後、 窒素ガスで 3回置換した。 温度を 40 °Cに保ち、 600 rpmで攪拌しながら上記高圧水銀灯で一時間光照射 した。 液温を 100°Cとし、 未反応の原料を減圧除去した。 この操作により、 ほ とんどすベてのポリマー末端とァリルグリシジルエーテルは、 以下のように反応 する。
C一 I + CH, CH-CH2-0-CH„CH-CH0
O
〜C— CH2— CH I— CH2_0— CH2CH— CH2
O このようにして末端にエポキシ基を持ち、 パーフルォロエラストマ一を骨格と するポリマ一が合成された。 これらの操作の結果、 1 5 gのポリマーが得られた。 これを含フッ素プレボリマ一 1とする。
含フッ素プレボリマー 1は両末端にエポキシ基が結合されたパーフルォロ液状 ゴムである。
合成例 1一 2
20mlのCF2 = CFOCF2CF2CF3に代ぇてパーフルォロへキサンを使 用し、 CF2 = CF2ガスに代えて CF2 = CF2と CF2 = CFOCF3の混合ガ ス (モル比で 6. 5 : 3. 5) を使用した以外は合成例 1 - 1と同様にしてェポ キシ基含有ポリマーを合成した。 これを含フッ素プレボリマー 2とする。 含フッ 素プレポリマー 2は両末端にェポキシ基が付加されたパ一フルォ口液状ゴムであ る。
合成例 2— 1
CH2 = C FCOOCH2CH2 (CF2) 7C F3 (以下、 「1 7 F FA」 と略 す) に B r 2を少しずつ添加した。 最終添加量は 1 7 F FAZB r 2= 5. 50 g /1. 60 g (モル比では、 1 7 F F Aが微過剰) とした。 二重結合への B r 2 の付加反応が進むにつれて B r2による着色は消えていった。 なお、 1 7 F FA および B r2は、 それぞれ α, , a, , , α'—へキサフルォロメタキシレン
(以下、 「m— XHF」 と略す) であらかじめ 1 0重量。 /0に希釈して使用した。 所定量添加した後、 B r2による着色がなくなるまで反応液を室温で放置した。 上記のようにして、 硬化剤の 1 0重量% · m— XHF溶液を調製した。 この溶 液を硬化剤一 1とする。
上記付加反応は、 メチルメタクリレートゃスチレンの場合に比べると非常に緩 やかに進み、 室温において容易に反応をコントローノレすることができる。 完全遮 光での反応は、 B r2の付加反応速度が遅すぎるので好ましくない。 ガラス容器 中、 自然光があたっている程度が良い。 反応速度が速すぎる場合は、 遮光、 冷却、 溶媒による希釈により、 反応速度を低下させることができる。
合成例 2— 2
CH2 = C (CF3) COOCH2 (CF2) 4H (以下、 「8 F 3 FA」 と略 す) に B r 2を少しずつ添加した。 最終添加量は、 8 F 3 F A/B r2= 3. 6 0 g/ 1. 60 g (モル比では、 8 F 3 F Aが微過剰) とした。 二重結合への B r
2の付加反応が進むにつれて B r 2による着色は消えていく。 なお、 8 F 3 FA および B r2は、 それぞれ m— XHFであらかじめ 1 0重量%に希釈して使用し た。 所定量添加した後、 B r2による着色がなくなるまで反応液を室温で放置し た。 この溶液を硬化剤一 2とする。 反応速度およびそのコント口ール方法に関し ては合成例 2— 1と同様である。
比較合成例
2, 2, 3, 3, 3—ペンタフルォロプロピル一 2—フルォロアクリレート 1 0 0 g、 A I BN (ァゾビスイソブチロニトリル) 0. 0 1 5g、 連鎖移動剤としてメ ルカプト酢酸イソォクチル 2. 0 gを混合し、 真空脱気後、 反応混合物を 50°C で 2 4時間保つた。
生じたポリマーをアセトンに溶解させた後、 メタノール中に投入することで再 沈殿し、 精製した。
実施例 1
含フッ素プレボリマー l Zm_ X H F Z硬化剤一 1 (合成例 2—1参照) を、 1
0 0部 / 9 0 0部 Z 3 0部 (重量) で混合し、 トップコ一ト溶液とした。 固形分 比で、 プレボリマ一と硬化剤との割合は 1 0 0部 Z 3部である
この液をァクリル板上に 6 O mmZsの引き上げ速度でディップコ一トした。 そ の後、 風乾し、 熱風乾燥炉にて 4 0 °Cで 3分乾燥した。
その後、 紫外線照射装置 U S H— 2 5 O D (ゥシォ電機 (株) 製) により、 2
0秒間紫外線を照射した。
このようにして反射防止処理されたアタリル板を作製した。
実施例 2
含フッ素プレボリマー 1の替わりに含フッ素プレポリマー 2を用いた以外は実 施例 1と同様にして、 反射防止処理されたァクリル板を作製した
実施例 3
P 3 5 5 5 (触媒化成工業 (株) 製 U V硬化型帯電防止塗料) を酢酸ブチルで 3倍に希釈し、 6 O mm/ sの引き上げ速度でァクリル板上にディップコートし、 風乾し、 熱風乾燥炉にて 4 0 °Cで 3分乾燥した。
その後、 実施例 1と同様に紫外線照射して帯電防止層を硬化させ、 アンダーコ ートとした。 この層は、 帯電防止層としてはたらくと同時に、 高屈折率層として 反射防止効果の向上に寄与する。
その帯電防止層の上に、 実施例 1と同様にして含フッ素プレボリマ一を塗布し、 紫外線照射した。 以上のようにして 2層反射防止処理された物品を作製した。 実施例 4
硬化剤 1のかわりに硬化剤 2を用いたことを除いては実施例 1と同様にして反 射防止処理されたァクリル板を作製した。
実施例 5
P 3 5 7 4 (触媒化成工業 (株) 製、 熱硬化型帯電防止塗料) の主剤 1 0 0部、 硬化剤 7部、 酢酸ブチル 300部を混合し、 アンダーコ一ト用塗料とした。 10 OmmZ分の引き上げ速度でァクリル板にディップコ一トし、 風乾後、 熱風乾燥 炉にて 1 10°Cで 10分間熱処理し、 帯電防止層 (=アンダーコート層) を形成 した。
含フッ素プレポリマー 1 パ一フルォロスべリン酸 (HOOC— (CF2) 6
-COOH) メチルヱチルケトンを 10部 /3部 Z90部 (重量) で混合し、 トップコート溶液とした。 上記帯電防止層の上に、 上記トップコート溶液を 20 Omm/分の引き上げ速度でディップコートし、 風乾した。 その後、 1 60°Cで 1 0分間熱風乾燥炉で熱処理し、 硬化させた。
なお、 ァクリル板の熱変形を防ぐため、 アンダーコートゃトップコ一トの硬化 時は、 アクリル板の上部を固定し、 乾燥炉内にぶら下げた状態で熱処理した。 このようにして反射防止処理されたアタリル板を作製した。
実施例 6
ダイヤビーム UR4222 (三菱レーヨン (株) 製 UV硬化塗料) を、 200 mmZ分の引き上げ速度でァクリル板にディップコートし、 熱風乾燥炉にて 4
0 °Cで 5分間乾燥した。 その後、 紫外線照射装置 U SH- 250D (ゥシォ電機 (株) 製) により、 20秒間紫外線を照射した。
その後、 実施例 5と同様にアンダーコート層およびトップコート層を形成した。 このようにして反射防止処理されたァクリル板を作製した。
比較例 1
比較合成例 1で得たポリマーを 3重量 %の酢酸プチ/レ溶液とし、 アタリル板上 に、 弓 Iき上げ速度 10 OmmZ分でディップコートした。
比較例 2
実施例で用いたァクリル板をそのまま試験に供した。
比較例 3
硬化剤 1を使用しなかったこと以外は実施例 1と同様にしてァクリル板上に反 射防止膜を形成した。
反射防止膜の物性
反射防止膜について以下の測定を行った (ただし、 屈折率の測定は除く) 。 ま た、 耐摩耗性および耐擦傷性試験で、 いずれも Xと評価された場合、 他の項目 に関して、 試験、 測定はおこなわない場合がある。
1, トップコートの屈折率
アッベ屈折率計 ( (株) ァタゴ製) により、 25°Cで、 波長 550 nmの光に ついて屈折率を測定した。
硬化物に関しては、 アルミ箔上に厚み約 0. 1mmの膜を形成後、 反射防止膜 と同様に硬化し、 アルミ箔を希塩酸で溶かしてサンプルフィルムとした。 その他 のものに関しては溶剤キャスト法により厚み約 0. 1 mmのフィルムを形成し、 サンプルとした。
2. 片面反射率
5° 正反射ユニットを可視紫外分光器 ( (株) 日立製作所製 U— 3410) に 装着し、 波長 55 Onmの光について反射率を測定した。
3. 光透過率
可視紫外分光器 ( (株) 立製作所製 U— 3410) により、 空気をリファレ ンスとして波長 550 nmについて光透過率を測定した。
4. 耐擦傷性
太平理科製ラビングテスターにスチールウール # 0000をとりつけ、 荷重 2 20 gを 22cm2に力、け (圧力約 10 gf/cm2) 、 20往復こすった。 表面をきれ いに拭いた後、 傷の付き具合を調べた。 評価は次の 3段階でおこなった。
外観上全く変化がない: A
2、 3個所の力、すかな傷がみられる : B
大きな傷があったり、 多数の傷がある : C
5. 耐摩耗性
太平理科製ラビングテスターに標準綿布 (ブロード、 白布) をとりつけ、 荷重 900 gを 6. 2crfにかけ (圧力約 1 5 Ogf/cm2) 、 100往復して反射防止 膜をこすった。 そのときの膜の状態の変化を調べた。 評価は次の 3段階でおこな つた。
外観上全く変化がない: A
膜厚が変化し、 反射率の増加がみられる : B 下地が見えている部分がある : C
6 . 密着性
碁盤目一セロテープ剥離試験を J I S K 5 4 0 0に準拠しておこなった
7 . ほこり吸着性
湿度 5 0 %以下の雰囲気にて、 5 X 5 mmに切り分けたキムワイプ (登録商 標、 (株) クレシァ製) を 1 0枚ならベておき、 そこへ上から耐摩耗性試験と同 様に摩擦した直後のテストピースを 3 mmの距離まで近づけ、 5秒間静置後、 テ ストピースを静かに上昇させる。
2枚以上のキムワイプの小片が静電気によりテストピースに付着している場合 は 「吸着する」 とし、 0枚の場合 「吸着しない」 とする。 1枚の場合は、 摩擦す るところからもう一度繰り返し、 再評価する。
結果を表 1に示す。
宝夭倫 1 含フッ素 硬化剤 屈折 片面 光透 耐擦 耐摩 密着性 ほこり プレポリマー 率 反射率 過率 傷性 耗性 吸着性
1丄 1 1 1. 328 0. 65% 97. 3% B A 100/100 吸着する
2 2 1 1. 325 0. 71% 97. 0% B A 100/100 吸着する
3 1 1 1. 328 0. 04% 98. 5% B A 100/100 吸着しない
4 1 2 1. 328 0. 68% 98. 0% B A 100/100 吸着しない
5 1 ジカルボン酸 1. 335 0. 10% 98. 4% B A 100/100 吸着しない
6 1 ジカノレボン酸 1. 335 0. 18% 98. 2% B A 100/100 吸着しない 比較例
1 比較合成例 1 1. 357 1. 12% 95. 4% C C
2 なし 4. 33% 88. 3%
3 1 X X
(未硬化物)
(注) ジカルボン酸 =ドデカフルォロスべリン酸

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 含フッ素プレボリマーの硬化膜からなる反射防止膜であって、 該含フッ素 プレボリマーは、 5 0重量%以上のフッ素含有率を有し、 かつ 1分子に少なくと も 2つのエポキシ基が結合している化合物であり、 硬化膜の厚さは 0 . 0 3〜0 . 5 // mである反射防止膜。
2 . 該含フッ素プレボリマー 1分子中の少なくとも 2つのエポキシ基がテレケ リックな位置にある請求項 1に記載の反射防止膜。
3 . 該含フッ素プレボリマーが、 テトラフルォロエチレン単位とパーフルォロ ビニルエーテル単位の共重合体プロックを含み、 かつ非晶質である請求項 1また は 2に記載の反射防止膜。
4 . 請求項 1〜 3のいずれかに記載の反射防止膜により被覆された反射防止処 理物品。
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