WO1999027031A1 - Utilisation de polysiloxanes comprenant des motifs polyethers et/ou des motifs amines comme agents anti-buee - Google Patents
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- WO1999027031A1 WO1999027031A1 PCT/FR1998/002408 FR9802408W WO9927031A1 WO 1999027031 A1 WO1999027031 A1 WO 1999027031A1 FR 9802408 W FR9802408 W FR 9802408W WO 9927031 A1 WO9927031 A1 WO 9927031A1
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- HICUGGYRYZOXJI-UHFFFAOYSA-N CCC1C=CCC1 Chemical compound CCC1C=CCC1 HICUGGYRYZOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
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- C11D3/3703—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C11D3/373—Macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds containing silicones
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
- C09K3/185—Thawing materials
Definitions
- the present invention relates to the use, in formulations intended for cleaning hard surfaces, as anti-fogging agent, of at least one compound of the polysiloxane type comprising polyether units, or else amino units optionally combined with polyether patterns, or alternatively polyether patterns combined with hindered amino patterns (of the Hais type). Its purpose is also
- a method of anti-fogging treatment of hard surfaces by depositing on said surfaces a cleaning formulation comprising said polysiloxanes.
- the invention also relates to the formulations comprising them.
- hard surfaces is meant more particularly surfaces such as panes, mirrors, ceramic tiles, glazed tiles, glass surfaces.
- This problem can be annoying, for example if it takes place in the rooms of a
- the present invention relates to the use as anti-fogging agent, in a formulation intended for cleaning hard surfaces, of at least one compound of the following formula (I):
- R identical or different, represent monovalent radicals chosen from C-
- R1 represents a linear C1-C15 alkyl radical, or a branched alkyl radical in
- the linear radical is in C1-C9 and preferably in
- the branched radical it is preferably C -C8; according to a particularly advantageous embodiment of the invention, the linear radical is at C3, the branched radical is at C4;
- R2 identical or different, represent - CH2CH2 - or - CH (CH3) - CH2 -, or their combinations; the latter can present statistical breakdowns or blocks;
- R3 represents a hydrogen atom, a linear or branched C-i-C ⁇ alkyl radical or an acyl radical for which the hydrocarbon part is a linear or branched C-i-C ⁇ alkyl radical.
- the radical R3 represents a hydrogen atom, the methyl radical, the radical -COCH3; r, representing an average value, whole or decimal, varies from 2 to 200; Identical or different Y represent a group corresponding to the following formulas (b1) and / or (b2):
- R 4 is a divalent hydrocarbon radical chosen from:
- alkylene-carbonyl radicals in which the linear or branched alkylene part is in C-2-C20.
- alkylene-cyclohexylene radicals the linear or branched alkylene part of which is C 2 -C 12 and the cyclohexylene part comprises an OH group and optionally one or two C 1 -C 4 alkyl radicals,
- R 4 has the meaning indicated above
- R 5 and R 6 have the meanings indicated below and
- R 1 1 represents a divalent alkylene radical, linear or branched, in C1-C12, one of the valential bonds (that of R 11 ) being linked to the atom of -NR 10 -, the other (that of R 4 ) being connected to a silicon atom;
- U represents - O - or - NR 10 -, in which R 10 is a radical chosen from a hydrogen atom, a linear or branched C1-C6 alkyl radical;
- R 5 identical or different, are chosen from linear or branched alkyl radicals, in C1-C3, preferably the methyl radical, and the phenyl radical;
- R 6 represents a hydrogen radical or the radical R 5 or O;
- R ' 4 is chosen from a trivalent group of formula:
- ⁇ CO 0 ù m represents a number from 2 to 20, and a trivalent group of formula:
- U represents -O- or -NR 12 -, R 12 being a radical representing a hydrogen atom or a linear or branched C1-C ⁇ alkyl radical; corresponds to a group of formula (d) or (c2): - R1 - N (R 13 ) 2 - R 1 - N (R 1 3) - R "1 - N (R 14 ) 2 d c2 formulas in which:
- R 1 , R'1, identical or different represent a linear C1-C15 alkyl radical, or a branched C4-C15-alkyl radical
- R 13 , RI, identical or different represent a hydrogen atom, an alkyl radical , linear or branched, in C1-C20.
- C1-C10 from preferably at C1-C4, a C5-C6 cylcoalkyl radical, an acyl radical for which the hydrocarbon part is a linear or branched C1-C20 alkyl radical.
- n represents: * an average number, whole or decimal, ranging from 5 to 1000, preferably from 5 to
- an average number, whole or decimal, greater than 50 and going up to 1000 preferably ranging from 55 to 200, very particularly from 55 to 150 when p and t are equal to 0 m representing a mean number, whole or decimal , ranging from 0 to 450, and more particularly from 0 to 200, preferably from 2 to 50 p representing an average number, whole or decimal, ranging from 0 to 450; according to a more particular embodiment of the invention, p varies from 0 to 100, and preferably from 0 to 50 t representing an average number, whole or decimal, ranging from 1 to 20, if at least p is equal to 0 ; In the case where at least p is different from 0, then t is equal to 0.
- the compound of formula (I) can also have some T and / or Q units; the number of these T and / or Q units can range up to 10 per 100 silicon atoms, preferably up to 5 per 100 silicon atoms.
- patterns T and Q we mean silicon atoms which are engaged in a network.
- the patterns T correspond to a silicon atom sharing, on the four bonds, three oxygen atoms with three other silicon atoms (also symbolized by R-Si-03 / 2); the patterns Q represent a silicon atom sharing four oxygen atoms with four silicon atoms (also symbolized by Si-04/2).
- formula (I) is understood as also describing polymers having a statistical distribution of the various groups mentioned.
- a second object of the present invention consists of a method for the anti-fogging treatment of hard surfaces, by depositing on said surfaces a cleaning formulation comprising at least one compound of formula (I) above.
- a third object of the present invention consists of a formulation comprising:
- the formulation comprising at least one compound of formula (I) makes it possible to avoid the formation of fogging or to strongly limit the effects thereof, while retaining the cleaning properties of the formulation.
- At least one compound of formula (I) as defined above is used in formulations intended for cleaning hard surfaces.
- the polysiloxane according to this first mode is free of amino units, and only comprises polyether units.
- the compound of formula (I) is such that the coefficient m is different from 0 and more particularly ranges from 2 to 50. It is recalled that m is a mean value, whole or decimal.
- the coefficient m equal to 0.
- at least one of the radicals R ′ represents the group X defined previously.
- the compound of formula (I) corresponds to the following formula:
- R ' identical or different, represent a methyl radical or a group X, at least one of the symbols R' representing X when m is equal to 0 X represents a group of formula (a) below:
- R 1 represents a linear C3-C9, preferably C3, alkyl radical or a branched C4-C9, preferably C4 alkyl radical
- - (O - R2) represents: - (O- CH2CH2) r ⁇ - ( O - CH (CH 3 ) - CH 2 ) r2 - in which r1 represents a whole or decimal mean value, ranging from 2 to 100, more particularly from 10 to 30, and preferably from 20 to 30, r2 represents a mean value integer or decimal, ranging from 0 to 100, more particularly from 10 to 30, and preferably 20 to 30, the distribution between the groups being of block type,
- R3 represents a hydrogen atom, an alkyl radical, linear or branched, in Ci-Ce, or an acyl radical for which the hydrocarbon part ⁇ represents a linear or branched alkyl radical, in C - ⁇ - C &, and preferably R3 represents a hydrogen atom, the methyl radical, or the - CO - CH3 radical.
- m is equal to 0 or different from 0 and preferably goes from 2 to 50
- n is greater than 50 and goes up to 1000, preferably goes from 55 to 200, very particularly from 55 to 150.
- the number of units Q and T which may be present may preferably range up to 5 per 100 silicon atoms.
- compounds of formula (I) in formulations intended for cleaning hard surfaces, compounds of formula (I) are used in which the coefficient p is different from 0, the coefficient t being equal to 0.
- such compounds include at least units carrying hindered amino functions.
- the compounds of formula (I) corresponding to this second embodiment also have a coefficient m which is also different from 0.
- the compounds have both motifs bearing polyether functions and patterns carrying hindered amino functions.
- the compound of formula (I) is such that the coefficient p varies from 0.2 to 20.
- the group Y carries a radical (U) comprising a ring with 5, or preferably with 6 atoms, one of which is nitrogen; the latter being substituted in positions a and by four alkyl and / or phenyl radicals (hindered amine Hais type).
- this second mode consists in using compounds of formula (I) for which the coefficient n has a value ranging from 100 to 1000.
- a preferred characteristic of the compounds of formula (I) is that the coefficient m varies from 2 to 150, and preferably from 2 to 20.
- the sum of the total siloxane units (T and Q included) can range from 10 to 2000.
- the group X of formula - R 1 - (O - R2) r - OR3, is preferably such that: R1 represents a linear C3-C9, preferably C3, alkyl radical or a branched C4-C9 alkyl radical, preferably C4; - (O - R2) represents: - (O- CH 2 CH 2 ) ri - (O - CH (CH3) - CH 2 ) r2 - in which it represents an integer or decimal mean value, ranging from 2 to 100, more particularly from 5 to 50, and preferably from 8 to 25, ⁇ 2 represents an integer or decimal average value, ranging from 0 to 100, more particularly ranging from 0 to 50, and preferably from 0 to 7,
- R3 represents a hydrogen atom, an alkyl radical, linear or branched, in C1-C6, or an acyl radical for which the hydrocarbon part represents a linear or branched alkyl radical, in C1-C ⁇ , and preferably R3 represents an atom of hydrogen, the methyl radical, or the - CO - CH3 radical.
- the compound of formula (I) corresponding to this second embodiment may also have, for 100 silicon atoms, at most 20 silicon atoms to which a group X is attached. In addition, for 100 silicon atoms, the compound of formula (I) comprises at most 20 silicon atoms to which a group Y is attached.
- the compound of formula (I) is such that the coefficient t ranges from 1 to 20, if at least p is equal to 0. In such a case, the compound of formula (I ) includes only uncluttered amino patterns.
- This third mode includes a first variant, in which the coefficient m is different from 0, and preferably ranges from 2 to 50.
- the polyoxyethylene and polyoxypropylene groups preferably have a block distribution and coefficients r1 and r2, as described in the first embodiment of the invention.
- the second variant of this third embodiment consists of compounds of formula (I) in which the coefficient m is equal to 0.
- the group Z preferably corresponds to the following formulas (d) or (c2):
- R1, R'i identical or different, represent a divalent linear alkyl radical at C3, or a branched alkyl radical at C4,
- R 13 , R 14 identical or different, represent a hydrogen atom, a linear or branched C1-C4 alkyl radical, a C5-C6 cylcoalkyl radical, an acyl radical for which the hydrocarbon part is an alkyl radical linear or branched, in C1-C4.
- the formulations intended for cleaning hard surfaces can comprise one or more compounds of formula (I), corresponding to one and / or the other of the three abovementioned embodiments.
- the total content of compound of formula (I) varies from 0.1 to 5% by weight relative to the total weight of the formulation. Preferably, this content ranges from 0.1 to 2% by weight relative to the same reference.
- the formulations according to the invention include water.
- the water content is such that it represents the complement to 100% of the formulation. As an indication, it generally ranges from 50 to 99% by weight relative to the total weight of the formulation. Preferably, the water content ranges from 70 to 95% by weight relative to the same reference. Even more preferably, the water content ranges from 90 to 95% by weight relative to the same reference.
- the formulations can optionally comprise at least one solvent.
- This solvent is more particularly soluble in water.
- a solvent considered non-toxic is chosen.
- solvents of this type mention may be made of solvents comprising at least one hydroxyl radical and whose boiling point is less than 100 ° C.
- solvents such as monoalcohols, such as in particular ethanol, propanol, isopropanol, alone or as a mixture.
- the solvent content if it is present in the formulation according to the invention, ranges more particularly from 0.1 to 20% by weight relative to the total weight of the formulation. Preferably the solvent content ranges from 5 to 15% by weight relative to the same reference.
- the formulation according to the invention can also comprise at least one surfactant.
- the latter can be of nonionic or ionic type, insofar as it is compatible with the rest of the formulation.
- ionic, and more particularly anionic, surfactants capable of entering into the composition of the formulations according to the invention, there may be mentioned without intending to be limited thereto:
- alkyl sulfonate esters of formula R-CH (S ⁇ 3M) -COOR ' where R represents a Cs-20 alkyl radical. preferably in C10-C16.
- Mention may very particularly be made of methyl ester sulfonates whose radicals R is C14-C16; .
- alkyl sulphates of formula ROSO3M where R represents a C10-C24, preferably C12-C20 and especially C12-C18 alkyl or hydroxyalkyl radical, representing a hydrogen atom or a cation of the same definition as above, as well as their ethoxylenated (OE) and / or propoxylenated (OP) derivatives, having on average from 0.5 to 6 units, preferably from 0.5 to 3 OE and / or OP units;
- alkylamide sulfates of formula RCONHROSO3M where R represents a C2-C22 alkyl radical. preferably at C6-C-20, R 'a C2-C3 alkyl radical, M representing a hydrogen atom or a cation of the same definition as above, as well as their ethoxylenated (OE) and / or propoxylenated derivatives ( OP), with an average of 0.5 to 60 OE and / or OP units;
- the salts of C8-C24 preferably C14-C20 saturated or unsaturated fatty acids.
- cationic surfactants capable of being used in the formulations according to the invention, there may be mentioned more especially the alkyldimethylammonium halides, the alkyldihydroxydimethylammonium halides, the diesters of trialkanalime quaternized with dimethylsulfate, the quaternized dialkylamidoamines.
- alkylamphoacetates alkylamphodiacetates
- alkyldimethylbetaines alkylamidopropyldimethylbetaines
- alkyltrimethylsulfobetaines alkyltrimethylsulfobetaines
- fatty acid condensation products and protein hydrolysates may be suitable for the implementation invention.
- nonionic surfactants that may be mentioned are polyoxyalkylenated (polyethoxyethylenated, polyoxypropylenes, polyoxybutylenated) alkylphenols in which the alkyl substituent is C6-C12 and containing from 5 to 25 oxyalkylene units.
- polyoxyalkylenated polyethoxyethylenated, polyoxypropylenes, polyoxybutylenated alkylphenols in which the alkyl substituent is C6-C12 and containing from 5 to 25 oxyalkylene units.
- TRITON X-45, X-1 14, X-100 or X-102 sold by Rohm & Haas Cy.
- glucosamide, glucamide, the alkylpolyglycosides described in US-A-4565647, the glycerolamides derived from N-alkylamines may likewise be suitable.
- NEODOL 45-9 Carbide Corp., NEODOL 45-9, NEODOL 23-65, NEODOL 45-7, NEODOL 45-4 marketed by Shell Chemical Cy., KYRO EOB marketed by Procter &
- the formulations according to the invention may likewise comprise, as nonionic surfactants, compounds resulting from the condensation of ethylene oxide with a hydrophobic compound resulting from the condensation of propylene oxide with propylene glycol, such as PLURONIC marketed by BASF, the compounds resulting from the condensation of ethylene oxide or propylene oxide with ethylenediamine, such as TETRONIC marketed by BASF.
- nonionic surfactants compounds resulting from the condensation of ethylene oxide with a hydrophobic compound resulting from the condensation of propylene oxide with propylene glycol, such as PLURONIC marketed by BASF, the compounds resulting from the condensation of ethylene oxide or propylene oxide with ethylenediamine, such as TETRONIC marketed by BASF.
- Surfactants of the type amine oxides such as the oxides of alkyl C 1 8 C10 dimethylamines, oxides of C8-C22 alkoxy ethyl dihydroxy ethyl amines, fatty acid amides of C8-C20. ethoxylated fatty acids, ethoxylated fatty amides, ethoxylated amines can also be used.
- the total surfactant content in the formulations according to the invention is between 0.1 and 5% by weight relative to the total weight of the formulation. Preferably, this content is between 0.1 and 3% by weight relative to the same reference.
- the formulations can comprise, if necessary, at least one additional solvent which is compatible with the rest of the formulation.
- the solvent advantageously exhibits degreasing properties.
- such solvents are chosen from glycol derivatives such as monoethylene glycol, diethylene glycol, monopropylene glycol, dipropylene glycol, butyldiglycol, and their mono- or polyetherified derivatives.
- the hydrocarbon part of the ether being a linear or branched C 1 -C 6 alkyl.
- the additional solvent can be a mixture of several solvents.
- the additional solvent content in the formulation according to the invention is between 0.1 and 5% by weight relative to the total weight of the formulation.
- the formulations according to the invention, intended for cleaning hard surfaces can include additives conventional in the field.
- the latter may include foam suppressants, in amounts of up to 5% by weight.
- suitable agents one can by way of illustration, mention the C10-C24 monocarboxylic fatty acids or their alkali, ammonium or alkanolamine salts, fatty acid triglycerides, aliphatic, alicyclic, aromatic or heterocyclic saturated or unsaturated hydrocarbons, such as paraffins , waxes, N-alkylaminotriazines, monostearylphosphates, monostearyl alcohol phosphates.
- the formulations according to the invention can also comprise buffering agents, perfumes, pigments, and / or dyes.
- Another object of the present invention consists of formulations comprising: (a) 0.1 to 5% by weight of at least one compound of formula (I) below:
- R identical or different represent monovalent radicals chosen from C1-C6 alkyl radicals, C1-C6 alkoxy radicals, phenyl radical, hydroxyl radical, at least 60% by number of said R symbols representing a C1-C ⁇ alkyl radical, preferably methyl;
- R 1 represents a linear C1-C15 alkyl radical, or a branched C4-C15 alkyl radical
- R2 identical or different, represent - CH2CH2 - or - CH (CH3) - CH2 -, or their combinations; the latter can present statistical breakdowns or blocks;
- R3 represents a hydrogen atom, a linear or branched C-i-C ⁇ alkyl radical or an acyl radical for which the hydrocarbon part is a linear or branched C1-C6 alkyl radical; r, representing an average value, whole or decimal, varies from 2 to 200. Y identical, or different, represent a group corresponding to the formulas
- R 4 is a divalent hydrocarbon radical chosen from:
- alkylene-carbonyl radicals in which the linear or branched alkylene part is in C-2-C20.
- alkylene-cyclohexylene radicals the linear or branched alkylene part of which is C 2 -C 12 and the cyclohexylene part comprises an OH group and optionally one or two C 1 -C 4 alkyl radicals,
- R 7 the radicals of formula - R 7 - (CO) b O - R 7 in which R 7, which are identical or different, represent C1-C12 alkylene radicals, one and / or the other of said radicals being optionally substituted by one or two groups -OH, b being equal to 0 or 1,
- the radical R 9 can, where appropriate, be substituted by a hydroxyl radical;
- U represents - O - or - NR 10 -, in which R 10 is a radical chosen from a hydrogen atom, a linear or branched C 1 -C 6 alkyl radical and a divalent radical of formula:
- R 4 has the meaning indicated above
- R 5 and R 6 have the meanings indicated below
- R 11 represents a divalent alkylene radical, linear or branched, in C1-C12, one of the valential bonds (that of R 11 ) being connected to the atom of -NR 10 -, the other (that of R 4 ) being connected to a silicon atom;
- R 5 identical or different, are chosen from linear or branched alkyl radicals, C1-C3, preferably the methyl radical, and the phenyl radical;
- R 6 represents a hydrogen radical or the radical R 5 or O;
- R ' 4 is chosen from a trivalent group of formula:
- U ' represents -O- or -NR 12 -, R 12 being a radical representing a hydrogen atom or a linear or branched C1-C6 alkyl radical;
- Z corresponds to a group of formula (d) or (c2): - R1 - N (R 1 3) 2 - R1 - N (R 13 ) - RM - N (R 14 ) 2 d c2 formulas in which: R 1 , R ' 1 , identical or different, represent a linear C1-C15 alkyl radical, or a branched C4-C15 alkyl radical,
- an average number, whole or decimal, greater than 50 and going up to 1000 preferably ranging from 55 to 200, very particularly from 55 to 150 when p and t are equal to 0 m representing a mean number, whole or decimal , ranging from 0 to 450, and more particularly from 0 to 200, preferably from 2 to 50 p representing an average number, whole or decimal, ranging from 0 to 450; according to a more particular embodiment of the invention, p varies from 0 to 100, and preferably from 0 to 50 t representing an average number, whole or decimal, ranging from 1 to 20, if at least p is equal to 0 ; in the case where at least p is different from 0, then t is equal to 0.
- the water content ranges from 50 to 99% by weight relative to the total weight of the formulation, preferably from 70 to
- the water content ranges from 90 to 95% by weight relative to the same reference.
- compositions are collated in the table below:
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Abstract
La présente invention a trait à l'utilisation, dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, en tant qu'agent anti-buée, d'au moins un composé du type des polysiloxanes comprenant des motifs polyéthers, ou bien des motifs aminés, éventuellement combinés aux précédents, ou bien encore des motifs polyéthers combinés à des motifs aminés encombrés (de type Hals), de formule générale (I) dans laquelle R représente un radical hydrocarboné, R' représente R ou X, X représente un groupement portant une fonction polyéther, Y un motif portant au moins une fonction amine encombrée, Z un motif portant au moins une fonction amine non encombrée, n va de 10 à 1000, m et p vont de 0 à 450 et t est égal à 0 si au moins p est différent de 0, ou t va de 1 à 20 si au moins p est égal à 0.
Description
UTILISAΗON DE POLYSILOXANES COMPRENANT DES MOΗFS POLYETHERS ET/OU DES MOΗFS AMINES COMME AGENTS ANTI-BUEE
5 La présente invention a trait à l'utilisation, dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, en tant qu'agent anti-buée, d'au moins un composé du type des polysiloxanes comprenant des motifs polyethers, ou bien des motifs aminés éventuellement combinés à des motifs polyethers, ou bien encore des motifs polyethers combinés à des motifs aminés encombrés (de type Hais). Elle a également pour objet
10 un procédé de traitement anti-buée des surfaces dures par dépôt sur lesdites surfaces d'une formulation de nettoyage comprenant lesdits polysiloxanes. L'invention concerne aussi les formulations les comprenant.
Par surfaces dures, on entend plus particulièrement des surfaces comme les vitres, les miroirs, les carreaux de céramiques, les carreaux émaillés, les surfaces vitro-
15 céramiques, les surfaces synthétiques comme les surfaces mélaminées, le formica.
Les formulations actuelles destinées au nettoyage de surfaces dures, si elles sont relativement efficaces pour ce qui concerne le nettoyage proprement dit, ne sont toutefois pas très performantes pour éviter la formation de buée sur de telles surfaces.
Ce problème peut être gênant, par exemple s'il a lieu dans les pièces d'une
20 maison où le degré d'humidité est élevé, tel que dans les salles de bains entre autres, ou bien dans les pièces où la différence de température entre l'extérieur et l'intérieur est importante. Ce phénomène peut devenir critique, s'il apparaît dans un véhicule en mouvement, car il limite fortement la visibilité du conducteur.
La présente invention a donc pour but d'apporter une solution au problème
25 d'apparition de buée, soit en l'évitant, soit en accélérant sa disparition du support.
Ainsi, la présente invention concerne l'utilisation en tant qu'agent anti-buée, dans une formulation destinée au nettoyage de surfaces dures, d'au moins un composé de formule suivante (I) :
30 R' - - R'
formule dans laquelle :
R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en C-|-C6, les radicaux alcoxy en C-|-C6, le radical phényle, le 35 radical hydroxyle ; de préférence, les radicaux R, identiques ou différents, représentent le radical méthyle, hydroxyméthyle, hydroxyéthyle, hydroxyle ; au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en C-|-
Cε, méthyle de préférence ;
R' identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m+p+t = 0 X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en
C4-C15. Plus particulièrement, le radical linéaire est en C1-C9 et de préférence en
C3-C9. Quant au radical ramifié, il est de préférence en C -C8 ; selon un mode de réalisation particulièrement avantageux de l'invention, le radical linéaire est en C3, le radical ramifié est en C4 ;
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou leurs combinaisons ; ces dernières pouvant présenter des répartitions statistiques ou blocs ;
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C-i-Cβ ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en C-i-Cβ. De préférence, le radical R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, le radical -COCH3 ; r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200 ; Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules (b1 ) et/ou (b2) suivantes :
(CH2)a - C(R5)2 (CH2)a - C(R5)2 R4 - U - Hcζ N - R6 - R'4 U' - HC ^ N - R6|
(CH2) - C(R5)2 ?CH2) - C(R5)2 b1 b2 dans lesquelles : a vaut 0 ou de préférence 1
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi :
- les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C-2-C20.
- les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4,
- les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1 ,
- les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et Rs, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ; U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C-i-Cβ, et un radical divalent de formule :
R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ;
R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule :
_(CH2) CH
' m
^ CO 0ù m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule :
R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15- R13, RI , identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20. P'us particulièrement en C1-C10, de
préférence en C1-C4, un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C20. plus particulièrement en C1-C10, de préférence en C1-C4 ; n représente : * un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à
500, lorsque p et ou t sont (est) différent(s) de 0
* un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 ; selon un mode plus particulier de réalisation de l'invention, p varie de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0 ; Dans le cas où au moins p est différent de 0, alors t est égal à 0.
Le composé de formule (I) peut en outre présenter quelques motifs T et/ou Q ; le nombre de ces motifs T et/ou Q peut aller jusqu'à 10 pour 100 atomes de silicium, de préférence jusqu'à 5 pour 100 atomes de silicium. II est rappelé que par motifs T et Q, on entend des atomes de silicium qui sont engagés dans un réseau. Les motifs T correspondent à un atome de silicium partageant, sur les quatre liaisons, trois atomes d'oxygène avec trois autres atomes de silicium (symbolisé aussi par R-Si-03/2) ; les motifs Q représentent un atome de silicium partageant quatre atomes d'oxygène avec quatre atomes de silicium (aussi symbolisé par Si-04/2).
En outre, et ce de manière classique dans le domaine des composés comme les polysiloxanes, la formule (I) est comprise comme décrivant aussi des polymères présentant une répartition statistique des différents groupements mentionnés.
Un second objet de la présente invention est constitué par un procédé pour le traitement anti-buée des surfaces dures, par dépôt sur lesdites surfaces d'un formulation de nettoyage comprenant au moins un composé de formule (I) ci-dessus.
Un troisième objet de la présente invention est constitué par une formulation comprenant :
(a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) telle que décrite ci-dessus, (b) 0 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif,
(d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol,
(e) complément à 100 % en poids d'eau.
Ainsi, la formulation comprenant au moins un composé de formule (I) permet d'éviter la formation de buée ou d'en limiter fortement les effets, tout en conservant les propriétés de nettoyage de la formulation.
Mais d'autres avantages apparaîtront plus clairement à la lecture de la description et des exemples qui vont suivre.
Ainsi que cela a été indiqué, on met en oeuvre dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, au moins un composé de formule (I) telle que définie ci-dessus.
Selon un premier mode de réalisation de l'invention, on met en oeuvre en tant qu'agent anti-buée, au moins un composé de formule (I) tel que les coefficients p et t sont égaux à 0, et m est différent de ou égal à 0. Par conséquent, le polysiloxane selon ce premier mode est exempt de motifs aminés, et ne comprend que des motifs polyethers.
Selon une première variante de ce premier mode, le composé de formule (I) est tel que le coefficient m est différent de 0 et va plus particulièrement de 2 à 50. On rappelle que m est une valeur moyenne, entière ou décimale.
Selon une seconde variante de ce premier mode, le coefficient m égal à 0. Dans ce cas, au moins l'un des radicaux R' représente le groupement X défini auparavant.
Selon un mode de réalisation tout particulièrement avantageux de la présente invention, le composé de formule (I) correspond à la formule suivante :
R R R R
R' - Si - O - (Si - 0)n - (Si - 0)m - Si - R* i ι i i R R X R dans laquelle :
R identiques ou différents, représentent le radical méthyle
R' identiques ou différents, représentent un radical méthyle ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m est égal à 0 X représente un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C3-C9, de préférence en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4-C9, de préférence en C4, - (O - R2) représente : - (O- CH2CH2 )rι - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle r1 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 10 à 30, et de préférence de 20 à 30, r2 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement de
10 à 30, et de préférence de 20 à 30, la répartition entre les groupements étant de type bloc,
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonéβ représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C-\-C&, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3. m est égal à 0 ou différent de 0 et va de préférence de 2 à 50 n est supérieur à 50 et va jusqu'à 1000, de préférence va de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150. Le nombre de motifs Q et T éventuellement présents peut aller de préférence jusqu'à 5 pour 100 atomes de silicium.
Des composés de ce type ont notamment été décrits dans la demande de brevet EP 633018.
Selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention, on emploie dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, des composés de formule (I) dans lesquels le coefficient p est différent de 0, le coefficient t étant égal à 0. Dans ce cas, de tels composés comprennent au moins des motifs portant des fonctions aminés encombrées. Et de manière tout à fait avantageuse, les composés de formule (I) correspondant à ce second mode de réalisation, présentent en outre un coefficient m différent lui aussi de 0. En d'autres termes, les composés présentent à la fois des motifs portant des fonctions polyethers et des motifs portant des fonctions aminés encombrées.
Conformément à ce deuxième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient p varie de 0,2 à 20. Selon ce mode de réalisation particulier, le groupement Y porte un radical (U) comprenant un cycle à 5, ou de préférence à 6 atomes, dont l'un est un azote ; ce dernier étant substitué en positions a et par quatre radicaux alkyles et/ou phényles (amine encombrée type Hais).
En outre, une variante particulière de ce deuxième mode consiste à mettre en oeuvre des composés de formule (I) pour lesquels le coefficient n présente une valeur allant de 100 à 1000.
Une caractéristique préférentielle des composés de formule (I) est que le coefficient m varie de 2 à 150, et de préférence de 2 à 20.
De plus, la somme des motifs siloxanes totaux (T et Q inclus) peut aller de 10 à 2000.
Le groupement X de formule - R1 - (O - R2)r - OR3, est de préférence tel que : R1 représente un radical alkyle linéaire en C3-C9, de préférence en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4-C9, de préférence en C4 ;
- (O - R2) représente : - (O- CH2CH2 )ri - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle il représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 5 à 50, et de préférence de 8 à 25, ι2 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement allant de 0 à 50, et de préférence de 0 à 7,
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C-i-Cβ, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3. Le composé de formule (I) correspondant à ce deuxième mode de réalisation peut en outre, présenter, pour 100 atomes de silicium, au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement X. De plus, pour 100 atomes de silicium, le composé de formule (I) comprend au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement Y. Ces composés sont bien connus et ont notamment été décrits dans la demande de brevet WO 97/33034.
Selon un troisième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient t va de 1 à 20, si au moins p est égal à 0. Dans un tel cas, le composé de formule (I) ne comprend que des motifs aminés non encombrés. Ce troisième mode comprend une première variante, dans laquelle le coefficient m est différent de 0, et de préférence va de 2 à 50. Les groupements polyoxyéthylénés et polyoxypropylénes présentent de préférence une répartition bloc et des coefficients r1 et r2, comme décrits dans le premier mode de réalisation de l'invention.
La seconde variante de ce troisième mode de réalisation consiste en des composés de formule (I) dans lesquels le coefficient m est égal à 0.
Conformément à ce troisième mode de réalisation, le groupement Z correspond de préférence aux formules (d) ou (c2) suivantes :
- R1 - N (R13)2 - R1 - N (R13) - R'1 - N (R14)2 d c2 formules dans lesquelles : R1, R'i, identiques ou différents, représentent un radical divalent alkyle linéaire en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4 ,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C4, un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C4.
Bien évidemment, les formulations destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre un ou plusieurs composés de formule (I), correspondant à l'une et/ou l'autre des trois modes de réalisation précités.
La teneur totale en composé de formule (I) varie de 0,1 à 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur va de 0,1 à 2 % en poids par rapport à la même référence.
Les formulations selon l'invention, comprennent de l'eau.
Plus particulièrement, la teneur en eau est telle qu'elle représente le complément à 100 % de la formulation. A titre indicatif, elle va généralement de 50 à 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, la teneur en eau va de 70 à 95 % en poids par rapport à la même référence. De manière encore plus préférée, la teneur en eau va de 90 à 95% en poids par rapport à la même référence.
Les formulations peuvent comprendre éventuellement au moins un solvant. Ce solvant est plus particulièrement soluble dans l'eau. De façon avantageuse, on choisit un solvant considéré non toxique.
Parmi les solvants de ce type, on peut citer des solvants comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C.
Conviennent particulièrement à la réalisation de l'invention les solvants tels que les monoalcools, comme notamment l'ethanol, le propanol, l'isopropanol, seuls ou en mélange.
La teneur en solvant, si celui-ci est présent dans la formulation selon l'invention, va plus particulièrement de 0,1 à 20 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence la teneur en solvant va de 5 à 15 % en poids par rapport à la même référence.
La formulation selon l'invention peut de plus comprendre au moins un tensioactif. Ce dernier peut être de type non ionique ou ionique, dans la mesure où il est compatible avec le reste de la formulation.
Parmi les tensioactifs ioniques, et plus particulièrement anioniques, susceptibles d'entrer dans la composition des formulations selon l'invention, on peut citer sans intention de s'y limiter :
. les alkylesters sulfonates de formule R-CH(Sθ3M)-COOR', où R représente un radical alkyle en Cs-20. de préférence en C10-C16. R' un radical alkyle en C1-C-6, de préférence en C1-C3 et M un cation alcalin (sodium, potassium, lithium), ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, trimethyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium ...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ...). On peut citer tout particulièrement les méthyl ester sulfonates dont les radical R est en C14-C16 ;
. les alkylsulfates de formule ROSO3M, où R représente un radical alkyle ou hydroxyalkyle en C10-C24, de préférence en C12-C20 et tout particulièrement en C12- C18, représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que ci- dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), présentant en moyenne de 0,5 à 6 motifs, de préférence de 0,5 à 3 motifs OE et/ou OP ;
. les alkylamides sulfates de formule RCONHROSO3M où R représente un radical alkyle en C2-C22. de préférence en C6-C-20, R' un radical alkyle en C2-C3, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que ci-dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), présentant en moyenne de 0,5 à 60 motifs OE et/ou OP ;
. les sels d'acides gras saturés ou insaturés en C8-C24, de préférence en C14-C20. les alkylbenzènesulfonates en C9-C20, les alkylsulfonates primaires ou secondaires en Cβ- C22. 'es alkylglycérol sulfonates, les acides polycarboxyliques sulfonés décrits dans GB-A-1 082 179, les sulfonates de paraffine, les N-acyl N-alkyltaurates, les alkylphosphates, les alkyliséthionates, les alkylsuccinamates les alkylsulfosuccinates, les monoesters ou diesters de sulfosuccinates, les N-acyl sarcosinates, les sulfates d'alkylglycosides, les polyéthoxycarboxylates le cation étant un métal alcalin (sodium, potassium, lithium), un reste ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, trimethyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium ...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ...) ;
Parmi les tensioactifs cationiques susceptibles d'être mis en oeuvre dans les formulations selon l'invention, on peut citer plus spécialement les halogénures d'alkyldiméthylammonium, les halogénures d'alkyldihydroxydiméthylammonium, les diesters de trialcanoalime quaternisée avec du diméthylsulfate, les dialkylamidoamines quaternisées.
Pour ce qui a trait aux tensioactifs de type amphotère et zwitterionique, alkylamphoacétates, les alkylamphodiacétates, les alkyldiméthylbétaînes, les alkylamidopropyldiméthylbétaïnes, les alkyltriméthylsulfobétaïnes, les produits de condensation d'acides gras et d'hydrolysats de protéines, peuvent convenir à la mise en oeuvre de invention.
Parmi les tensioactifs non ioniques, on peut mentionner les alkylphénols polyoxyalkylénés (polyéthoxyéthylénés, polyoxypropylénes, polyoxybutylénés) dont le substituant alkyle est en C6-C12 et contenant de 5 à 25 motifs oxyalkylènes. A titre d'exemple, on peut citer les TRITON X-45, X-1 14, X-100 ou X-102 commercialisés par Rohm & Haas Cy.
Les glucosamide, glucamide, les alkylpolyglycosides décrits dans US-A-4565647, les glycérolamides dérivés de N-alkylamines (US-A-5,223,179 et FR-A-1 ,585,966) peuvent de même convenir.
On peut aussi mentionner les alcools aliphatiques en C8-C-22 polyoxyalkylénés contenant de 1 à 25 motifs oxyalkylènes (oxyéthylène, oxypropylène), avec à titre d'exemple, les TERGITOL 15-S-9, TERGITOL 24-L-6 NMW commercialisés par Union
Carbide Corp., NEODOL 45-9, NEODOL 23-65, NEODOL 45-7, NEODOL 45-4 commercialisés par Shell Chemical Cy., KYRO EOB commercialisé par Procter &
Gamble Cy. Les formulations selon l'invention peuvent de même comprendre en tant que tensioactifs non ioniques des composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène avec un composé hydrophobe résultant de la condensation de l'oxyde de propylène avec le propylène glycol, tels les PLURONIC commercialisés par BASF, les composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène ou de l'oxyde de propylène avec l'éthyiènediamine, tels les TETRONIC commercialisés par BASF.
Les tensioactifs du type des oxydes d'aminés tels que les oxydes d'alkyl C10-C18 diméthylamines, les oxydes d'alkoxy C8-C22 éthyl dihydroxy éthylamines, des amides d'acides gras en C8-C20. des acides gras éthoxylés, des amides gras éthoxylés, des aminés éthoxylées peuvent aussi être employés. La teneur en tensioactif totale dans les formulations selon l'invention est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur est comprise entre 0,1 et 3 % en poids par rapport à la même référence.
Les formulations peuvent comprendre, si nécessaire, au moins un solvant supplémentaire qui soit compatible avec le reste de la formulation. De plus, le solvant présente, de manière avantageuse, des propriétés de dégraissage.
Plus particulièrement, de tels solvants sont choisis parmi les dérivés du glycol tels que le monoéthylène glycol, le diéthylène glycol, le monopropylène glycol, le dipropylène glycol, le butyldiglycol, et leurs dérivés mono- ou poly- éthérifiés. La partie hydrocarbonée de l'éther étant un alkyle linéaire ou ramifié en C1-C6. II est à noter que le solvant supplémentaire peut être un mélange de plusieurs solvants.
La teneur en solvant supplémentaire dans la formulation selon l'invention, si elle en contient, est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. Les formulations selon l'invention, destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre des additifs classiques dans le domaine.
Ainsi, ces dernières peuvent comprendre des agents suppresseurs de mousse, en quantités pouvant aller jusqu'à 5% en poids. Parmi les agents convenables, on peut
mentionner à titre d'illustration, les acides gras monocarboxyliques en C10-C24 ou leurs sels alcalins, d'ammonium ou alcanolamines, les triglycérides d'acides gras, les hydrocarbures saturés ou insaturés aliphatiques, alicycliques, aromatiques ou hétérocycliques, tels que les paraffines, les cires, les N-alkylaminotriazines, les monostéarylphosphates, les monostéaryl alcool phosphates.
Les formulations selon l'invention peuvent aussi comprendre des agents tampons, des parfums, des pigments, et/ou des colorants.
Un autre objet de la présente invention est constituée par des formulations comprenant : (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) suivante :
X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15 ;
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou leurs combinaisons ; ces dernières pouvant présenter des répartitions statistiques ou blocs ;
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C-i-Cβ ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en C1-C6 ; r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200. Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules
(b1 ) et/ou (b2) suivantes :
(CH2)a - C(R5)2 (CH2)a - C(R5)2 - R4 - U - Hc' ^N - R6 - R'4 U' - Hc ^> N - R6
(CH2) - C(R5)2 (CH2) - C(R5)2 b1 b2
dans lesquelles : a vaut 0 ou de préférence 1
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi :
- les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C-2-C20.
- les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4,
- les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1 ,
- les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12. le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ;
U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, et un radical divalent de formule :
R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ;
R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule :
— (CHZ) CH
' m c0 où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule :
-(CH2) -NH- N
où p représente un nombre de 2 à 20.
U' représente -O- ou -NR12-, R12 étant un radical représentant un atome d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6 ; Z correspond à un groupement de formule (d ) ou (c2) : - R1 - N (R13)2 - R1 - N (R13) - RM - N (R14)2 d c2 formules dans lesquelles : R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20. un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en Cι-C-2o. n représente :
* un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent(s) de 0
* un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 ; selon un mode plus particulier de réalisation de l'invention, p varie de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0 ; dans le cas où au moins p est différent de 0, alors t est égal à 0.
(b) 0,1 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à
100°C,
(c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif,
(d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol,
(e) complément à 100 % en poids d'eau. Plus particulièrement, la teneur en eau va de 50 à 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence, de 70 à
95 % en poids. Selon un mode plus particulier, la teneur en eau va de 90 à 95% en poids par rapport à la même référence.
Tout ce qui vient d'être décrit à propos de la nature et des variantes préférées du composé de formule (I), de même que les divers éléments constitutifs de la formulation et leur proportions respectives, reste valable et ne sera par conséquent pas repris dans cette partie.
Les formulations selon l'invention sont obtenues par simple mélange de chacun des éléments constitutifs énoncés auparavant.
Des exemples concrets mais non limitatifs de l'invention vont maintenant être présentés.
EXEMPLES
Dans ce qui va suivre, les formulations ont été testées selon le protocole suivant : - laver des miroirs d'environ 15 cm x 15 cm à l'aide d'un liquide vaisselle,
- traiter les miroirs à l'aide de 0,3 g de la formulation à tester, en répartissant la formulation à l'aide de papier absorbant ("type Sopalin®"),
- placer les miroirs dans un réfrigérateur pendant 30 minutes,
- observer l'apparition de buée, après les avoir retiré du réfrigérateur, - après disparition de la buée, observer la présence de traces, taches et points sur les miroirs.
On prépare trois formulations :
A comparatif
B selon l'invention, avec un polysiloxane comprenant des motifs polyethers
(R1 = -(CH2)3-, r1 , r2 compris entre 20 et 25, R3 = H, 65 < n ≤ 85, 6 ≤ m < 9, p = t = 0).
C selon l'invention avec un polysiloxane comprenant des motifs polyethers et aminés encombrées (90 < n < 120 ; motifs polyethers : R1 = -(CH2)3-, 8 ≤ r1 ≤ 12,
1 < r2 < 3, R3 = H, 2 < m < 5 ; motifs aminés encombrées : Y = b1 , a = 1 ,
R4 = -(CH2)3-, U = O, R5 = CH3, R6 = H, 2 < p < 5 ; t = 0 ; la somme des motifs totaux étant comprise entre 100-200).
Les compositions sont rassemblées dans le tableau ci-dessous :
Aucune des trois formulations ne laisse de traces apparentes sur les miroirs traités.
Claims
1. Utilisation en tant qu'agent anti-buée, dans une formulation destinée au nettoyage de surfaces dures, d'au moins un composé de formule suivante (I) :
R R R R R R
R' - Si - O - (Si - 0)n - (Si - 0)m - (Si - 0)p- (Si - 0)t - Si - R' I I I | μ « I
R R X Y Z R formule dans laquelle : R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en C-|-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le radical hydroxyle, au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en C1-C6, méthyle de préférence ;
R' identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m+p+t = 0
X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15 ;
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs ;
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en
C-i-Cβ ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en C-i-Cδ ; r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200 ;
Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules
(
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi :
- les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C-20.
- les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4,
- les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1 ,
- les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ;
U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et un radical divalent de formule :
R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ;
R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule :
— (CH2) CH
\ CO 0Ù représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule :
R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15,
R13, R1 . identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20. un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C20 ; n représente :
* un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent(s) de 0
* un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 , tout particulièrement de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0, ou égal à 0 si au moins p est différent de 0.
2. Procédé pour le traitement anti-buée des surfaces dures, par dépôt sur lesdites surfaces d'un formulation de nettoyage comprenant au moins un composé de formule (I) suivante :
R' - - R'
formule dans laquelle :
R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en C1-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le radical hydroxyle, au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en C1-C6, méthyle de préférence ;
R' identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m+p+t = 0 X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante : - R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C-1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15 ;
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs ; R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6 ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en Ci-Cε ; r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200 ; identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules (b1) et/ou (b2) suivantes :
(CH2)a - C(R5)2 (CH2)a - C(R5)2 R4 - U - HC^ N - R6 - R'4 U' - Hc' ^>N - R6
(CH2) - C(R5)2 (CH2) - C(R5)2 b1 b2 dans lesquelles : a vaut 0 ou de préférence 1
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi :
- les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20.
- les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4,
- les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1 ,
- les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12. le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ;
U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et un radical divalent de formule :
(CH2)a - C(R5)2
R11 - N - HC \ N - R6 I \
R4 (CH2) - C(R5)2
dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en C-|-Cι2, l'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à l'atome de -NR10-, l'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium ;
R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ;
R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ;
R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule :
— (CH.) CH m co où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule :
R1, R"i, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20. un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C20 ; n représente :
* un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent(s) de 0
* un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450 , tout particulièrement de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0, ou égal à 0 si au moins p est différent de 0.
3. Utilisation ou procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé(e) en ce que ledit composé de formule (I) présente en outre jusqu'à 10 motifs, de préférence jusqu'à 5 motifs T et/ou Q pour 100 atomes de silicium
4. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente, caractérisé(e) en ce qu'au moins un composé de formule (I) est tel que p et t sont égaux à 0.
5. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente, caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) est tel que m est différent de 0, et de préférence va de 2 à 50.
6. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) correspond à la formule suivante : R R R R
R1 - Si - O - (Si - 0)n - (Si - 0)m - Si - R' ι I I I
R R X R dans laquelle :
R identiques ou différents, représentent le radical méthyle R' identiques ou différents, représentent un radical méthyle ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m est égal à 0
X représente un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle : R1 représente un radical alkyle linéaire en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4,
- (O - R2) représente : - (O- CH2CH2 )rι - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle M représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 10 à 30, et de préférence de 20 à 30, r2 représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement de 10 à 30, et de préférence de 20 à 30, la répartition entre les groupements étant de type bloc,
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3. m est égal à 0 ou différent de 0 et va de préférence de 2 à 50. n est supérieur à 50 et va jusqu'à 1000, de préférence va de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150.
7. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé(e) en ce qu'au moins un composé de formule (I) est tel que p et m sont différents de 0.
8. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente, caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) présente une valeur de n allant de 100 à 1000.
9. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 7 ou 8, caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) présente une valeur de m allant de 2 à 150, de préférence de 2 à 20.
10. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) présente une valeur de p allant de 0,2 à 20.
1 1. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 10, caractérisée en ce que le composé de formule (I) présente un groupement X de formule (a) suivante : - R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle : R1 représente un radical alkyle linéaire en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4 ; - (O - R2) représente : - (O- CH CH2 )M - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle ri représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 2 à 100, plus particulièrement de 5 à 50, et de préférence de 8 à 25, ι£ représente une valeur moyenne entière ou décimale, allant de 0 à 100, plus particulièrement allant de 0 à 50, et de préférence de 0 à 7, R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Ci-Ce, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3.
12. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 1 1 , caractérisé(e) en ce que le composé de formule (I) comprend, pour 100 atomes de silicium, au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement X, et au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement Y.
13. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé(e) en ce que la teneur en composé de formule (I) va de 0,1 à 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence de 0,1 à 2 % en poids par rapport à la même référence.
14. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications précédente, caractérisé(e) en ce que la formulation comprend de l'eau, et éventuellement au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C.
15. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente, caractérisé(e) en ce que le solvant est choisi parmi l'ethanol, l'isopropanol.
16. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications 14 ou 15, caractérisé(e) en ce que la teneur en solvant va de 0,1 à 20 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence de 5 à 15 % en poids par rapport à la même référence.
17. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé(e) en ce que la formulation comprend au moins un tensioactif.
18. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente caractérisé(e) en ce que la teneur en tensioactif va de 0,1 à 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence de 0,1 à 3 % par rapport à la même référence.
19. Utilisation ou procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé(e) en ce que la formulation comprend un solvant supplémentaire compatible choisi parmi les dérivés du glycol, tels que l'éthylène glycol, le diéthylène glycol, le propylène glycol, le dipropylène glycol, et leurs dérivés mono- ou poly- éthérifiés.
20. Utilisation ou procédé selon la revendication précédente, caractérisé(e) en ce que la teneur en solvant supplémentaire va de 0,1 à 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation.
21. Formulation caractérisée en ce qu'elle comprend :
(a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) suivante :
R R R R R R ι I I I I I
R' - Si - O - (Si - 0)n - (Si - 0)m - (Si - 0)p- (Si - 0)t - Si - R'
I l ι J ' '
R R X Y Z R formule dans laquelle : R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les radicaux alkyles en C-|-C6, les radicaux alcoxy en C-i-Cβ, le radical phényle, le radical hydroxyle, au moins 60% en nombre desdits symboles R représentant un radical alkyle en Ci-Cβ, méthyle de préférence ;
R' identiques ou différents, représentent un radical R ou un groupement X, au moins un des symboles R' représentant X lorsque m+p+t = 0
X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante :
- R1 - (O - R2)r - OR3 formule dans laquelle :
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15 ;
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs ;
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en
Ci-Cε ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié en C1-C6 ; r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie de 2 à 200
Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules
(b1) et/ou (b2) suivantes :
R4 - U - R6
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi :
- les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C-2-C18, les radicaux alkylène- carbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C-20.
- les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4,
- les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits
radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1 ,
- les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C-2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle ;
U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C-6, et un radical divalent de formule :
R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle ;
R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O ; R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule :
— (CH2) CH
\ x CO où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule :
R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en C4-C15, R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C-1-C20. un radical cylcoalkyle en C5-C6. un radical
acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C-ι-C-20, n représente :
* un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 5 à 1000, de préférence de 5 à 500, lorsque p et/ou t sont (est) différent(s) de 0
* un nombre moyen, entier ou décimal, supérieur à 50 et allant jusqu'à 1000, de préférence allant de 55 à 200, tout particulièrement de 55 à 150 lorsque p et t sont égaux à 0 m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, et plus particulièrement de 0 à 200, de préférence de 2 à 50 p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 0 à 450, plus particulièrement de 0 à 100, et de préférence de 0 à 50 t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, allant de 1 à 20, si au moins p est égal à 0, ou égal à 0 si au moins p est différent de 0. (b) 0,1 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100°C,
(c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif,
(d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau.
22. Formulation selon la revendication précédente, caractérisée en ce que ledit composé de formule (I) est choisi parmi ceux mentionnés à l'une quelconque des revendications 3 à 1 1.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6764717B2 (en) * | 2001-12-13 | 2004-07-20 | Wacker-Chemie Gmbh | Alkenyl-functional siloxane copolymers as antimisting additives for silicone coating compositions |
| US6821943B2 (en) | 2001-03-13 | 2004-11-23 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Hard surface antimicrobial cleaner with residual antimicrobial effect comprising an organosilane |
| US6992053B2 (en) | 2001-03-26 | 2006-01-31 | The Procter & Gamble Company | Hard surface cleaning composition comprising a bleach, acid, and silicone glycol polymer |
| CN109810672A (zh) * | 2019-03-06 | 2019-05-28 | 深圳永合高分子材料有限公司 | 一种防雾组合剂、双向拉伸片材及成型品 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4427815A (en) * | 1982-07-02 | 1984-01-24 | Toray Silicone Company, Ltd. | Fiber-treating compositions comprising two organofunctional polysiloxanes |
| EP0331833A1 (fr) * | 1988-01-12 | 1989-09-13 | Shiseido Company Limited | Cosmétiques de type eau/huile émulsions |
| EP0404698A1 (fr) * | 1989-06-22 | 1990-12-27 | Rhone-Poulenc Chimie | Polydiorganosiloxanes organofonctionnels à fonction amino et polyoxyalkylène |
| EP0565950A1 (fr) * | 1992-04-13 | 1993-10-20 | Miles Inc. | Nettoyeur de verre à propriétés antibuée |
| EP0578144A2 (fr) * | 1992-07-09 | 1994-01-12 | Pfersee Chemie GmbH | Organosiloxanes ayant des restes contenant de l'azote et des restes contenant des groupes éther |
| WO1995000619A1 (fr) * | 1993-06-18 | 1995-01-05 | Polymer Technology Corporation | Composition destinee au nettoyage de verres de contact |
| EP0633018A1 (fr) * | 1993-07-09 | 1995-01-11 | Rhone-Poulenc Chimie | Mélange silicone autoémulsifiable |
| EP0659930A1 (fr) * | 1993-12-27 | 1995-06-28 | Rhone-Poulenc Chimie | Procédé d'adoucissage textile non jaunissant dans lequel, on utilise une composition comprenant un polyorganosiloxane |
| WO1996012005A1 (fr) * | 1994-10-14 | 1996-04-25 | Colgate-Palmolive Company | Composition de nettoyage du verre |
| WO1997033034A1 (fr) * | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Rhodia Chimie | Procede pour adoucir et rendre non jaunissant et hydrophile une matiere textile dans lequel on utilise une composition comprenant un polyorganosiloxane |
-
1997
- 1997-11-25 FR FR9714894A patent/FR2771416A1/fr active Pending
-
1998
- 1998-11-12 AU AU11624/99A patent/AU1162499A/en not_active Abandoned
- 1998-11-12 WO PCT/FR1998/002408 patent/WO1999027031A1/fr active Application Filing
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4427815A (en) * | 1982-07-02 | 1984-01-24 | Toray Silicone Company, Ltd. | Fiber-treating compositions comprising two organofunctional polysiloxanes |
| EP0331833A1 (fr) * | 1988-01-12 | 1989-09-13 | Shiseido Company Limited | Cosmétiques de type eau/huile émulsions |
| EP0404698A1 (fr) * | 1989-06-22 | 1990-12-27 | Rhone-Poulenc Chimie | Polydiorganosiloxanes organofonctionnels à fonction amino et polyoxyalkylène |
| EP0565950A1 (fr) * | 1992-04-13 | 1993-10-20 | Miles Inc. | Nettoyeur de verre à propriétés antibuée |
| EP0578144A2 (fr) * | 1992-07-09 | 1994-01-12 | Pfersee Chemie GmbH | Organosiloxanes ayant des restes contenant de l'azote et des restes contenant des groupes éther |
| WO1995000619A1 (fr) * | 1993-06-18 | 1995-01-05 | Polymer Technology Corporation | Composition destinee au nettoyage de verres de contact |
| EP0633018A1 (fr) * | 1993-07-09 | 1995-01-11 | Rhone-Poulenc Chimie | Mélange silicone autoémulsifiable |
| EP0659930A1 (fr) * | 1993-12-27 | 1995-06-28 | Rhone-Poulenc Chimie | Procédé d'adoucissage textile non jaunissant dans lequel, on utilise une composition comprenant un polyorganosiloxane |
| WO1996012005A1 (fr) * | 1994-10-14 | 1996-04-25 | Colgate-Palmolive Company | Composition de nettoyage du verre |
| WO1997033034A1 (fr) * | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Rhodia Chimie | Procede pour adoucir et rendre non jaunissant et hydrophile une matiere textile dans lequel on utilise une composition comprenant un polyorganosiloxane |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6821943B2 (en) | 2001-03-13 | 2004-11-23 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Hard surface antimicrobial cleaner with residual antimicrobial effect comprising an organosilane |
| US6992053B2 (en) | 2001-03-26 | 2006-01-31 | The Procter & Gamble Company | Hard surface cleaning composition comprising a bleach, acid, and silicone glycol polymer |
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| US6956096B2 (en) | 2001-12-13 | 2005-10-18 | Wacker-Chemie Gmbh | Alkenyl-functional siloxane copolymers as antimisting additives for silicone coating compositions |
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