FR2771416A1

FR2771416A1 - Utilisation de polysiloxanes comprenant des motifs polyethers et/ou des motifs amines comme agents anti-buee et formulations les comprenant

Info

Publication number: FR2771416A1
Application number: FR9714894A
Authority: FR
Inventors: Maryline Avice; Der Spuy Andre Van
Original assignee: Rhodia Chimie SAS
Current assignee: Rhodia Chimie SAS
Priority date: 1997-11-25
Filing date: 1997-11-25
Publication date: 1999-05-28
Also published as: AU1162499A; WO1999027031A1

Abstract

La présente invention a trait l'utilisation, dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, en tant qu'agent anti-buée, d'au moins un composé du type des polysiloxanes comprenant des motifs polyéthers, ou bien des motifs aminés, éventuellement combinés aux précédents, ou bien encore des motifs polyéthers combinés à des motifs aminés encombrés (de type Hals), de formule générale suivante : (CF DESSIN DANS BOPI) Formule dans laquelle X représente un groupement portant une fonction polyéther, Y un motif portant au moins une fonction amine encombrée, Z un motif portant au moins une fonction amine non encombrée, n est compris entre 10 et 1000, m et p, sont compris entre 0 et 450 et t est égal à 0 si au moins p est différent de 0, ou t est compris entre 1 et 20 si au moins p est égal à 0.

Description

UTILISATION DE POLYSILOXANES COMPRENANT DES MOTIFS
POLYETHERS ET /OU DES MOTIFS AMINES COMME AGENTS ANTI-BUEE
ET FORMULATIONS LES COMPRENANT
La présente invention a trait à l'utilisation, dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, en tant qu'agent anti-buée, d'au moins un composé du type des polysiloxanes comprenant des motifs polyéthers, ou bien des motifs aminés éventuellement combinés à des motifs polyéther, ou bien encore des motifs polyéthers combinés à des motifs aminés encombrés (de type Hals). L'invention concerne aussi les formulations les comprenant.

Par surfaces dures, on entend plus particulièrement des surfaces comme les vitres, les miroirs, les carreaux de céramiques, les carreaux émaillés, les surfaces vitrocéramiques, les surfaces synthétiques comme les surfaces mélaminées, le formica.

Les formulations actuelles destinées au nettoyage de surfaces dures, si elles sont relativement efficaces pour ce qui concerne le nettoyage proprement dit, ne sont toutefois pas très performantes pour éviter la formation de buée sur de telles surfaces.

Ce problème peut être gênant, par exemple s'il a lieu dans les pièces d'une maison où le degré d'humidité est élevé, tel que dans les salles de bains entre autres, ou bien dans les pièces où la différence de température entre l'extérieur et l'intérieur est importante. Ce phénomène peut devenir critique, s'il apparaît dans un véhicule en mouvement, car il limite fortement la visibilité du conducteur.

La présente invention a donc pour but d'apporter une solution au problème d'apparition de buée, soit en l'évitant, soit en accélérant sa disparition du support.

Ainsi, la présente invention concerne l'utilisation en tant qu'agent anti-buée, dans une formulation destinée au nettoyage de surfaces dures, d'au moins un composé de formule suivante (I):

formule dans laquelle:
R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les
radicaux alkyles en C1-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le
radical hydroxyle, I'un des radicaux R se trouvant à l'une et/ou l'autre extrémité de
chaîne pouvant représenter le groupement X. De préférence, les radicaux R,
identiques ou différents, représentent le radical méthyle, hydroxyméthyle,
hydroxyéthyle, hydroxyle, ou encore le groupement X pour un radical se trouvant à
une extrémité de la chaîne, ou pour deux radicaux R se trouvant chacun à une
extrémité de la chaîne.

X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante: - R1 (O-R2)r-OR3
formule dans laquelle:
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-Cls, ou un radical alkyle ramifié en
C4-C1s. Plus particulièrement, le radical linéaire est en C1-C9 et de préférence en
C3-Cg. Quant au radical ramifié, ii est de préférence en C4-Cg. Selon un mode de
réalisation particulièrement avantageux de l'invention, le radical linéaire est en C3,
le radical ramifié est en C4.

R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2- ou - CH(CH3) - CH2 -, ou
leurs combinaisons ; ces dernières pouvant présenter des répartitions statistiques
ou blocs.

R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en
C1-C6 ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle
linéaire ou ramifié en C1-C6. De préférence, le radical R3 représente un atome
d'hydrogène, le radical méthyle, le radical -COCH3.
r, représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie entre 2 et 200.

Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules (bol) et/ou (b2) suivantes:

dans lesquelles: a vaut 0 ou de préférence 1.

R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi: -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C18, les radicaux alkylènecarbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20, -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie aliçylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4, -les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1, -les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et
R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylénes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle.

U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et un radical divalent de formule:

dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en C1-C12, l'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à l'atome de -NR10-, I'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium. De préférence, U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6.

R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux aikyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3, de préférence le radical méthyle, et le radical phényle.

R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O-.

R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule:

où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule:

où p représente un nombre de 2 à 20.

U' représente -O- ou -NR12-, R12 étant un radical représentant un atome
d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6.

Z correspond à un groupement de formule (ci) ou (c2):
-R1 -N(R13)2 - RI - N (R13) - R'i - N (R14)2
cl c2
formules dans lesquelles:
R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C1s,
ou un radical alkyle ramifié en C4.C15,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical
aikyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20, plus particulièrement en C1-C109 de
préférence en C1-C4, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical acyle pour lequel
la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C20, plus
particulièrement en C1-C10, de préférence en C1-O4. n représente un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 5 et 1000, de
préferénce entre 5 et 500. m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450, et plus
particulièrement compris entre 0 et 200. p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450. Selon
un mode plus particulier de réalisaiton de l'invention, p varie entre 0 et 100, et de
préférence entre 0 et 50. t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 1 et 20, si au
moins p est égal à 0. Dans le cas où au moins p est différent de 0, alors t est égal à O.

En outre, le composé de formule (I) présente un nombre de motifs Q et de motifs
T compris entre 0 et 10 pour 100 atomes de silicium.

II est rappelé que par motifs T et Q, on entend des atomes de silicium qui sont engagés dans un réseau. Les motifs T correspondant à un atome de silicium partageant, sur les quatre liaisons, trois atomes d'oxygène avec trois autres atomes de silicium (symbolisé aussi par R-Si-O32) ; les motifs Q représentant un atome de silicium partageant quatre atomes d'oxygène avec quatre atomes de silicium (aussi symbolisé par Si-O2).

En outre, et ce de manière classique dans le domaine des composés comme les polysiloxanes, la formule (I) est comprise comme décrivant aussi des polymères présentant une répartition statistique des différents groupements mentionnés.

Un second objet de la présente invention est constitué par une formulation comprenant: (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) telle que décrite ci-dessus, (b) O à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100"C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif, (d) O à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau.

Ainsi, la formulation comprenant au moins un composé de formule (I) permet d'éviter la formation de buée ou d'en limiter fortement les effets, tout en conservant les propriétés de nettoyage de la formulation.

Mais d'autres avantages apparaîtront plus clairement à la lecture de la description et des exempies qui vont suivre.

Ainsi que cela a été indiqué, on met en oeuvre dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, au moins un composé de formule (I) telle que définie ci-dessus.

Selon un premier mode de réalisation de l'invention, on met en oeuvre en tant qu'agent anti-buée, au moins un composé de formule (I) tel que les coefficients p et t sont égaux à 0. Par conséquent, le polysiloxane selon ce premier mode est exempt de motifs aminés, et ne comprend que des motifs polyéthers.

Selon une première variante de ce mode, le composé de formule (I) est tel que le coefficient m est différent de 0 et plus particulièrement compris entre 2 et 50. On rappelle que m est une valeur moyenne, entière ou décimale.

Une seconde variante de ce premier mode est tel que le composé de formule (I) présente un coefficient m égal à 0. Dans ce cas, I'un des radicaux R se trouvant à une extrémité de la chaîne du polysiloxane ou l'un des radicaux R se trouvant à chacune des extrémités de ladite chaîne, représente(nt) le groupement X défini auparavant.

En outre, le composé de formule (I) ne comprenant que des motifs du type polyéther, présente un coefficient n de préférence compris entre 20 et 200.

Selon un mode de réalisation tout particulièrement avantageux de la présente invention, le composé de formule (I) correspond à la formule suivante:

dans laquelle:
R identiques ou différents, représentent le radical méthyle ou, pour un radical R situé
à l'une et/ou l'autre extrémité de la chaîne, (soit un radical à une extrémité de la
chaîne ou deux radicaux R situés à l'une et l'autre des extrémités de la chaîne), le
groupement X,
X représente un groupement de formule (a) suivante: -R1-(0-R2)1-OR3
formule dans laquelle:
R1 représente un radical alkyle linéaire en C3-C9, de préférence en C3, ou un
radical alkyle ramifié en C4-09, de préférence en C4,
- (O - R2) représente : - (O- CH2CH2 )rl - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle r1
représente une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 2 et 100, plus
particulièrement entre 10 et 30, et de préférence entre 20 et 30, r2, représente
une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 0 et 100, plus
particulièrement comprise entre 10 et 30, et de préférence entre 20 et 30, la
répartition entre les groupements étant de type bloc,
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Oî-
C6, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical
alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome
d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3,
Si m est égal à 0, alors l'un des radicaux R d'une et ou de l'autre extrémité de
chaîne, correspond(ent) au groupement X.

Si m est différent de 0, et ceci représente la variante préférée, dans ce cas il est
plus particulièrement compris entre 2 et 50.
n est compris entre 20 et 200, de préférence entre 50 et 150.

Le nombre de motifs Q et T est de plus compris entre 0 et 5 pour 100 atomes de silicium.

Des composés de ce type ont notamment été décrits dans la demande de brevet
EP 633018.

Selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention, on emploie dans des formulations destinées au nettoyage de surfaces dures, des composés de formule (I) dans lesquels le coefficient p est différent de 0, le coefficient t étant égal à 0. Dans ce cas, de tels composés comprennent au moins des motifs portant des fonctions amines encombrées. Et de manière tout à fait avantageuse, les composés de formule (I) correspondant à ce second mode de réalisation, présentent en outre un coefficient m différent lui aussi de 0. En d'autres termes, les composés présentent à la fois des motifs portant des fonctions polyéthers et des motifs portant des fonctions amines encombrées.

Conformément à ce deuxième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient p varie entre 0,2 et 20.

Selon ce mode de réalisation particulier, le groupement Y porte un radical (U) comprenant un cycle à 5, ou de préférence à 6 atomes, dont l'un est un azote ; ce dernier étant substitué en positions a et a' par quatre radicaux alkyles et/ou phényles (amine encombrée type Hals).

En outre, une variante particulière consiste à mettre en oeuvre des composés de formule (I) pour lesquels le coefficient n présente une valeur comprise entre 100 et 1000.

Une caractéristique préférentielle des composés de formule (I) est que le coefficient m varie entre 2 et 150, et de préférence entre 2 et 20.

De plus, la somme des motifs totaux (T et Q inclus) est comprise entre 10 et 2000.

Le groupement X de formule - R1 - (O - R2)r - OR3, est de préférence tel que:
R1 représente un radical alkyle linéaire en C3-Cg, de préférence en C3, ou un
radical alkyle ramifié en C4-Cg, de préférence en C4.

- (O - R2) représente - (O- CH2CH2 )rî - (O - CH(CH3) - CH2 )r2 - dans laquelle ri
représente une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 2 et 100, plus
particulièrement entre 5 et 50, et de préférence entre 8 et 25, r2, représente une
valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 0 et 100, plus
particulièrement comprise entre 0 et 50, et de préférence entre 0 et 7,
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Oî-
C6, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical
alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome
d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3.

Le composé de formule (I) correspondant à ce deuxième mode de réalisation peut en outre, présenter, pour 100 atomes de silicium, au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement X. De plus, pour 100 atomes de silicium, le composé de formule (I) comprend au plus 20 atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement Y.

Ces composés sont bien connus et ont notamment été décrits dans la demande de brevet WO 97/33034.

Selon un troisième mode de réalisation de l'invention, le composé de formule (I) est tel que le coefficient t est compris entre 1 et 20, si au moins p est égal à 0. Dans un tel cas, le composé de formule (I) ne comprend que des motifs aminés, non encombrés.

Ce troisième mode comprend une première variante, dans laquelle le coefficient m est différent de 0, et de préférence compris entre 2 et 50. Les groupements polyoxyéthylénés et polyoxypropylénés présentent de préférence une répartition bloc et des coefficients r1 et r2, comme décrits dans le premier mode de réalisation de l'invention.

La seconde variante consiste en des composés de formule (I) dans lesquels le coefficient m est égal à 0.

Conformément à ce troisième mode de réalisation, le groupement Z correspond de préférence aux formules (ci) ou (c2) suivantes: R1N(Rî3)2 -N(R13)2 -R1 -N(R13)-R'1 -N(R14)2
cl c2
formules dans lesquelles:
R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical divalent alkyle linéaire en
03, ou un radical alkyle ramifié en C4,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical
alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C4, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical
acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié,
en C1-C4.

Bien évidemment, les formulations destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre un ou plusieurs composés de formule (I), correspondant à l'une et/ou l'autre des trois modes de réalisation précités.

La teneur totale en composé de formule (I) varie entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur est comprise entre 0,1 et 2 % en poids par rapport à la même référence.

Les formulations selon l'invention, comprennent de l'eau.

Plus particulièrement, la teneur en eau est telle qu'elle représente le complément à 100 % de la formulation.

A titre indicatif, elle est généralement comprise entre 50 et 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, la teneur en eau est comprise entre 70 et 95 % en poids par rapport à la même référence. De manière encore plus préférée, la teneur en eau est comprise entre 90 et 95% en poids par rapport à la même référence.

Les formulations peuvent comprendre éventuellement au moins un solvant. Ce solvant est plus particulièrement soluble dans l'eau. De façon avantageuse, on choisit un solvant considéré non toxique.

Parmi les solvants de ce type, on peut citer des solvants comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100 C.

Conviennent particulièrement à la réalisation de l'invention les solvants tels que les monoalcools, comme notamment l'éthanol, le propanol, I'isopropanol, seuls ou en mélange.

La teneur en solvant, si celui-ci est présent dans la formulation selon l'invention, est plus particulièrement comprise entre 0,1 et 20 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence la teneur en solvant est comprise entre 5 et 15 % en poids par rapport à la même référence.

La formulation selon l'invention peut de plus comprendre au moins un tensioactif.

Ce dernier peut être de type non ionique ou ionique, dans la mesure où il est compatible avec le reste de la formulation.

Parmi les tensioactifs ioniques, et plus particulièrement anioniques, susceptibles d'entrer dans la composition des formulations selon l'invention, on peut citer sans intention de s'y limiter:
les alkylesters sulfonates de formule R-CH(SO3M)-COOR', où R représente un radical alkyle en C8-20, de préférence en C1o-C16, R' un radical alkyle en C1-C6, de préférence en C1-C3 et M un cation alcalin (sodium, potassium, lithium), ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium ...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ...). On peut citer tout particulièrement les méthyl ester sulfonates dont les radical R est en C14-C16;
les alkylsulfates de formule ROSO3M, où R représente un radical alkyle ou hydroxyalkyle en C10-C24, de préférence en C12-C20 et tout particulièrement en 012- C1g, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que cidessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), présentant en moyenne de 0,5 à 6 motifs, de préférence de 0,5 à 3 motifs OE et/ou OP; . les alkylamides sulfates de formule RCONHR'0SO3M où R représente un radical alkyle en C2-C22, de préférence en C6-C20 R' un radical alkyle en C2-C3, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation de même définition que ci-dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) etlou propoxylénés (OP), présentant en moyenne de 0,5 à 60 motifs OE et/ou OP; les sels d'acides gras saturés ou insaturés en C8'C241 de préférence en C14-C20, les alkylbenzènesulfonates en C9-C20, les alkylsulfonates primaires ou secondaires en 08-
C22, les alkylglycérol sulfonates, les acides polycarboxyliques sulfonés décrits dans
GB-A-1 082 179, les sulfonates de paraffine, les N-acyl N-alkyltaurates, les alkylphosphates, les alkyliséthionates, les alkylsuccinamates les alkylsulfosuccinates, les monoesters ou diesters de sulfosuccinates, les N-acyl sarcosinates, les sulfates d'alkylglycosides, les polyéthoxycarboxylates le cation étant un métal alcalin (sodium, potassium, lithium), un reste ammonium substitué ou non substitué (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tetraméthylammonium, diméthylpiperidinium ...) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine...);
Parmi les tensioactifs cationiques susceptibles d'être mis en oeuvre dans les formulations selon l'invention, on peut citer plus spécialement les halogénures d'alkyldiméthylammonium, les halogénures d'alkyldihydroxydiméthylammonium, les diesters de trialcanoalime quaternisée avec du diméthylsulfate, les dialkylamidoamines quaternisées.

Pour ce qui a trait aux tensioactifs de type amphotère et zwitterionique, alkylamphoacétates, les alkylamphodiacétates, les alkyldim éthylbétaïnes, les alkylamidopropyldiméthyl bétaïnes, les alkyltriméthylsulfobétaïnes, les produits de condensation d'acides gras et d'hydrolysats de protéines, peuvent convenir à la mise en oeuvre de invention.

Parmi les tensioactifs non ioniques, on peut mentionner les alkylphénols polyoxyalkylénés (polyéthoxyéthylénés, polyoxypropylénés, polyoxybutylénés) dont le substituant alkyle est en C6-C12 et contenant de 5 à 25 motifs oxyalkylènes. A titre d'exemple, on peut citer les TRITON X-45, X-1 14, X-100 ou X-102 commercialisés par
Rohm & Haas Cy.

Les glucosamide, glucamide, les alkylpolyglycosides décrits dans US-A-4 565 647, les glycérolamides dérivés de N-alkylamines (US-A-5,223,179 et FR-A-1,585,966) peuvent de même convenir.

On peut aussi mentionner les alcools aliphatiques en C8'C22 polyoxyalkylénés contenant de 1 à 25 motifs oxyalkylènes (oxyéthylène, oxypropylène), avec à titre d'exemple, les TERGITOL 15-S-9, TERGITOL 24L-6 NMW commercialisés par Union
Carbide Corp., NEODOL 45-9, NEODOL 23-65, NEODOL 45-7, NEODOL 45-4 commercialisés par Shell Chemical Cy., KYRO EOB commercialisé par Procter &
Gamble Cy.

Les formulations selon l'invention peuvent de même comprendre en tant que tensioactifs non ioniques des composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène avec un composé hydrophobe résultant de la condensation de l'oxyde de propylène avec le propylène glycol, tels les PLURONIC commercialisés par BASF, les composés issus de la condensation de l'oxyde d'éthylène ou de l'oxyde de propylène avec l'éthylènediamine, tels les TETRONIC commercialisés par BASF.

Les tensioactifs du type des oxydes d'amines tels que les oxydes d'alkyl C10-C1e diméthylamines, les oxydes d'alkoxy C8'C22 éthyl dihydroxy éthylamines, des amides d'acides gras en Cg-C20, des acides gras éthoxylés, des amides gras éthoxylés, des amines éthoxylées peuvent aussi être employés.

La teneur en tensioactif totale dans les formulations selon l'invention est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation. De préférence, cette teneur est comprise entre 0,1 et 3 % en poids par rapport à la même référence.

Les formulations peuvent comprendre, si nécessaire, au moins un solvant supplémentaire qui soit compatible avec le reste de la formulation. De plus, le solvant présente, de manière avantageuse, des propriétés de dégraissage.

Plus particulièrement, de tels solvants sont choisis parmi les dérivés du glycol tels que le monoéthylène glycol, le diéthylène glycol, le monopropylène glycol, le dipropylène glycol, le butyldiglycol, et leurs dérivés mono- ou poly- éthérifiés. La partie hydrocarbonée de l'éther étant un alkyle linéaire ou ramifié en C1-C6.

Il est à noter que le solvant supplémentaire peut être un mélange de plusieurs solvants.

La teneur en solvant supplémentaire dans la formulation selon l'invention, si elle en contient, est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la formulation.

Les formulations selon l'invention, destinées au nettoyage de surfaces dures peuvent comprendre des additifs classiques dans le domaine.

Ainsi, ces dernières peuvent comprendre des agents suppresseurs de mousse, en quantités pouvant aller jusqu'à 5% en poids. Parmi les agents convenables, on peut mentionner à titre d'illustration, les acides gras monocarboxyliques en C10-C24 ou leurs sels alcalins, d'ammonium ou alcanolamines, les triglycérides d'acides gras, les hydrocarbures saturés ou insaturés aliphatiques, alicycliques, aromatiques ou hétérocycliques, tels que les paraffines, les cires, les N-alkylaminotriazines, les monostéarylphosphates, les monostéaryl alcool phosphates.

Les formulations selon l'invention peuvent aussi comprendre des agents tampons, des parfums, des pigments, et/ou des colorants.

Un autre objet de la présente invention est constituée par des formulations comprenant: (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) suivante:

formule dans laquelle:
R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les
radicaux alkyles en C1-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le
radical hydroxyle, i'un des radicaux R se trouvant à l'une et/ou l'autre extrémité de
chaîne pouvant représenter le groupement X;
X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante: RI (OR2)rOR3
formule dans laquelle:
R1 représente un radical alkyle linéaire en C1-C15, ou un radical alkyle ramifié en
C4-C15,
R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou
leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs
R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en
C1-C6 ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle
linéaire ou ramifié en C1-C6,
r, représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie entre 2 et 200.

dans lesquelles: a vaut 0 ou de préférence 1,
R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C1g, les radicaux alkylènecarbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20, -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4, -les radicaux de formule - R7 -(CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1, -les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et
R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substit
-R1-N(R13)2 -R1-N(R13)-R'1-N(R14)2
cl c2
formules dans lesquelles:
RI, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C,s,
ou un radical alkyle ramifié en C4-C1s,
R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical
alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20, un radical cylcoalkyle en Cs-C6, un radical
acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié,
en C1-C20, n représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 10 et 2500; m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 1 et 20, si au
moins p est égal à 0 ; ou égal à 0 si au moins p est différent de 0;
le nombre de motifs Q et T étant compris entre 0 et 10 pour 100 atomes de
silicium, (b) 0 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100"C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, dau moins un tensioactif, (d) O à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau. Plus particulièrement, la teneur en eau est comprise entre 50 et 99 % en poids par rapport au poids total de la formulation, de préférence, entre 70 et 95 % en poids. Selon un mode plus particulier, la teneur en eau est comprise entre 90 et 95% en poids par rapport à la même référence.

Tout ce qui vient d'être décrit à propos de la nature et des variantes préférées du composé de formule (I), de même que les divers éléments constitutifs de la formulation et leur proportions respectives, reste valable et ne sera par conséquent pas repris dans cette partie.

Les formulations selon l'invention sont obtenues par simple mélange de chacun des éléments constitutifs énoncés auparavant.

Des exemples concrets mais non limitatifs de l'invention vont maintenant être présentés.

EXEMPLES
Dans ce qui va suivre, les formulations ont été testées selon le protocole suivant:
- laver des miroirs d'environ 15 cm x 15 cm à l'aide d'un liquide vaisselle,
- traiter les miroirs à l'aide de 0,3 g de la formulation à tester, en répartissant la formulation à l'aide de papier absorbant ("type Sopalin#@),
- placer les miroirs dans un réfrigérateur pendant 30 minutes,
- observer l'apparition de buée, après les avoir retiré du réfrigérateur,
- après disparition de la buée, observer la présence de traces, taches et points sur
les miroirs.

On prépare trois formulations:
A comparatif
B selon l'invention, avec un polysiloxane comprenant des motifs polyéthers
(R1 = -(CH2)3-, ri, r2 compris entre 20 et 25, R3 = H, 65 # n # 85, 6 < m # 9, p=t=0).

C selon l'invention avec un polysiloxane comprenant des motifs polyéthers et
amines encombrées (90 # n # 120 ; motifs polyéthers : R1 = -(CH2)3-, 8 # r1 # 12,
1 c r2 s 3, R3 = H, 2 # m < 5 ; motifs amines encombrées: Y = b1, a = 1,
R4 = -(CH2)3-, U = O, R5 = CH3, R6 = H, 2 # p # 5 ; t = 0; la somme des motifs
totaux étant comprise entre 100-200).

Les compositions sont rassemblées dans le tableau ci-dessous :

<tb> <SEP> formulation <SEP> A <SEP> B <SEP> C
<tb> composants <SEP> (%pds) <SEP> (%pds) <SEP> (%pds)
<tb> alcool <SEP> isopropylique <SEP> 7 <SEP> 7 <SEP> 7
<tb> dodécylbenzènesulfonate <SEP> de <SEP> sodium <SEP> (37%) <SEP> 0,5 <SEP> 0,5 <SEP> 0,5
<tb> <SEP> monométhyléther <SEP> de <SEP> dipropylèneglycol <SEP> 0,25 <SEP> 0,25 <SEP> 0,25
<tb> polysiloxane <SEP> motifs <SEP> polyéthers <SEP> - <SEP> 0,5 <SEP>
<tb> <SEP> polysiloxane <SEP> motifs <SEP> polyéthers <SEP> et <SEP> amines <SEP> - <SEP> - <SEP> 0,5
<tb> <SEP> encombrées
<tb> <SEP> eau <SEP> qsp <SEP> 100 <SEP> qsp <SEP> 100 <SEP> qsp <SEP> 100
<tb>
Les résultats sont les suivants

<tb> <SEP> A <SEP> B <SEP> C
<tb> buée <SEP> impotante. <SEP> absence <SEP> de <SEP> buée. <SEP> buée <SEP> moins <SEP> importante
<tb> <SEP> avec <SEP> une <SEP> disparition <SEP> plus
<tb> <SEP> rapide <SEP> que <SEP> pour <SEP> ta <SEP>
<tb> <SEP> formulation <SEP> A.
<tb>

Aucune des trois formulations ne laisse de traces apparentes sur les miroirs traités.

Claims

de surfaces dures1 d'au moins un composé de formule suivante (I):

REVENDICATIONS 1. Utilisation en tant qu'agent anti-buée, dans une formulation destinée au nettoyage

silicium.

le nombre de motifs Q et T étant compris entre 0 et 10 pour 100 atomes de

moins p est égal à 0; ou égal à O si au moins p est différent de 0;

en C1-C20; n représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 10 et 1000; m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 1 et 20, si au

acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié,

alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20, un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical

R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical

ou un radical alkyle ramifié en C4'C151

R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C1s,

formules dans lesquelles:

cl c2

Z correspond à un groupement de formules (cl) ou (c2): R1-N(R13)2 -R1-N(R13)-R'1-N(R14)2

d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-Cs ;

U' représente -O- ou -NR12-, R12 étant un radical représentant un atome

où p représente un nombre de 2 à 20;

où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule:

R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule:

R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O,

R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3 et le radical phényle,

dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en C1-C12, l'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à l'atome de -NR10-, l'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium,

U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et un radical divalent de formule:

R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle,

R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi: -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C1g, les radicaux alkylènecarbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20, -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4, -les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1, -les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et

dans lesquelles: a vaut 0 ou 1,

(bol) et/ou (b2) suivantes:

Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules

r , représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie entre 2 et 200;

linéaire ou ramifié en C1-C6,

C1-C6 ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle

R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en

leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs;

R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou

RI représente un radical alkyle linéaire en C1-C1s, ou un radical alkyle ramifié en C4-C1s,

formule dans laquelle:

X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante: R1-(O-R2)r-OR3

chaîne pouvant représenter le groupement X;

radical hydroxyle, l'un des radicaux R se trouvant à l'une et/ou l'autre extrémité de

radicaux alkyles en C1-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le

R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les

formule dans laquelle:
2. Utilisation selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu'au moins un

composé de formule (I) est tel que p et t sont égaux à 0.
3. Utilisation selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le composé

de formule (I) est tel que m est différent de 0, et de préférence compris entre 2 et

50.
4. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que

le composé de formule (I) est tel que m est égal à 0 et en ce que l'un des radicaux

situés à l'une et/ou l'autre extrémité de chaîne représente le groupement X.
5. Utilisation selon l'une quelconque des revednications précédentes, caractérisée en

ce que le composé de formule (I) est tel que n est compris entre 20 et 200.
6. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en

ce que le composé de formule (I) correspond à la formule suivante:

le nombre de motifs Q et T étant compris entre 0 et 5 pour 100 atomes de silicium.

n est compris entre 20 et 200, de préférence entre 50 et 150,

50,

chaîne correspond au groupement X, ou, de préférence, m est compris entre 2 et

m est égal à 0, auquel cas l'un des radicaux R de l'une et/ou l'autre extrémité de

d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3,

alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome

06, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical

R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Oi-

répartition entre les groupements étant de type bloc,

particulièrement comprise entre 10 et 30, et de préférence entre 20 et 30, la

une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 0 et 100, plus

particulièrement entre 10 et 30, et de préférence entre 20 et 30 ; r2, représente

représente une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 2 et 100, plus

- (O - R2) représente : - (O- CH2CH2)rl -(O - CH(CH3)- CH2 ),2 - dans laquelle r1,

R1 représente un radical alkyle linéaire en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4,

formule dans laquelle:

X représente un groupement de formule (a) suivante: - R1 -OR3

à l'une et/ou l'autre extrémité de la chaîne, le groupement X,

R identiques ou différents, représentent le radical méthyle ou, pour un radical R situé

dans laquelle:
7. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en

ce qu'au moins un composé de formule (I) est tel que p et m sont différents de 0.
8. Utilisation selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le composé

de formule (I) présente une valeur de n comprise entre 100 et 1000.
9. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 7 ou 8, caractérisée en ce

que le composé de formule (I) présente une valeur de m comprise entre 2 et 150,

de préférence entre 2 et 20.
10. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, caractérisée en ce que

le composé de formule (I) présente une valeur de p comprise entre 0,2 et 20.
11. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 7 à 10, caractérisée en ce

que le composé de formule (I) présente un groupement X de formule (a) suivante:

-R1-(O-R2)r-OR3

formule dans laquelle

R1 représente un radical alkyle linéaire en C3, ou un radical alkyle ramifié en C4,

- (O - R2) représente : - (O- CH2CH2),1 -(O - CH(CH3) - CH2 ).2 - dans laquelle rl

représente une valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 2 et 100, plus

particulièrement entre 5 et 50, et de préférence entre 8 et 25 ; r2 représente une

valeur moyenne entière ou décimale, comprise entre 0 et 100, plus

particulièrement comprise entre 0 et 50, et de préférence entre 0 et 7,

R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en Oi-

C6, ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée représente un radical

alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et de préférence R3 représente un atome

d'hydrogène, le radical méthyle, ou le radical - CO - CH3.
12. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 7 à 11, caractérisée en ce

que le composé de formule (I) comprend, pour 100 atomes de silicium, au plus 20

atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement X, et au plus 20

atomes de silicium auxquels sont rattachés un groupement Y.
13. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée

ce que la teneur en composé de formule (I) est comprise entre 0,1 et 5 % en poids

par rapport au poids total de la formulation, de préférence entre 0,1 et 2 % en

poids par rapport à la même référence.
14. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédente, caractérisée e

en ce que la formulation comprend de l'eau, et éventuellement au moins un

solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est

inférieur à 100"C.
15. Utilisation selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le solvant est

choisi parmi l'éthanol, l'isopropanol.
16. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 14 ou 15, caractérisée en ce

que la teneur en solvant est comprise entre 0,1 et 20 % en poids par rapport au

poids total de la formulation, de préférence entre 5 et 15 % en poids par rapport à

la même référence.
17. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée

ce que la formulation comprend au moins un tensioactif.
18. Utilisation selon la revendication précédente caractérisé en ce que la teneur en

tensioactif est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au poids total de la

formulation, de préférence compris entre 0,1 et 3 % par rapport à la même

référence.
19. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée

ce que la formulation comprend un solvant supplémentaire compatible choisi

parmi les dérivés du glycol, tels que l'éthylène glycol, le diéthylène glycol, le

propylène glycol, le dipropylène glycol, et leurs dérivés mono- ou poly- éthérifiés.
20. Utilisation selon la revendication précédente, caractérisée en ce que la teneur en

solvant supplémentaire est comprise entre 0,1 et 5 % en poids par rapport au

poids total de la formulation.
21. Formulation caractérisée en ce qu'elle comprend: (a) 0,1 à 5 % en poids d'au moins un composé de formule (I) suivante:

silicium, (b) 0 à 20 % en poids, de préférence 5 à 15 % en poids, d'au moins un solvant comprenant au moins un radical hydroxyle et dont le point d'ébullition est inférieur à 100"C, (c) 0,1 à 5 % en poids, de préférence 0,1 à 3 % en poids, d'au moins un tensioactif, (d) 0 à 5 % d'un solvant supplémentaire choisi parmi les dérivés du glycol, (e) complément à 100 % en poids d'eau.

le nombre de motifs Q et T étant compris entre 0 et 10 pour 100 atomes de

moins p est égal à 0 ; ou égal à O si au moins p est différent de 0;

en C1-C20, n représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 10 et 2500; m représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; p représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 0 et 450; t représentant un nombre moyen, entier ou décimal, compris entre 1 et 20, si au

acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle linéaire ou ramifié,

aikyle, linéaire ou ramifié, en C1-C20, un radical cylcoalkyle en C5-C6, un radical

R13, R14, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical

ou un radical alkyle ramifié en C4-C1s,

R1, R'1, identiques ou différents, représentent un radical alkyle linéaire en C1-C1s,

formules dans lesquelles:

cl c2

Z correspond à un groupement de formules (cl) ou (c2) RI -N(R13)2 RI-N(R13)-R'1-N(R4)2

d'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en C1-C6;

U' représente -O- ou -NR12-, R12 étant un radical représentant un atome

où p représente un nombre de 2 à 20;

où m représente un nombre de 2 à 20, et un groupement trivalent de formule:

R'4 est choisi parmi un groupement trivalent de formule:

R6 représente un radical hydrogène ou le radical R5 ou O,

R5 identiques ou différents, sont choisis parmi les radicaux alkyles linéaires ou ramifiés, en C1-C3 et le radical phényle,

dans laquelle R4 a la signification indiquée précédemment, R5 et R6 ont les significations indiquées ci-après et R11 représente un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, en C1-C12, l'un des liens valentiels (celui de R11) étant relié à l'atome de -NR10-, I'autre (celui de R4) étant relié à un atome de silicium,

U représente - O - ou - NR10 -, dans laquelle R10 est un radical choisi parmi un atome d'hydrogène, un radical alkyle linéaire ou ramifié, en C1-C6, et un radical divalent de formule:

R9, identiques ou différents, représentent des radicaux alkylènes en C2-C12, le radical R9 pouvant, le cas échéant, être substitué par un radical hydroxyle,

R4 est un radical hydrocarboné divalent choisi parmi -les radicaux alkylènes linéaires ou ramifiés, en C2-C1g, les radicaux alkylènecarbonyle dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C20, -les radicaux alkylène-cyclohexylène dont la partie alkylène linéaire ou ramifiée, est en C2-C12 et la partie cyclohexylène comporte un groupement OH et éventuellement un ou deux radicaux alkyles en C1-C4, -les radicaux de formule - R7 - (CO)b O - R7 dans laquelle R7 identiques ou différents représentent des radicaux alkylènes en C1-C12, l'un et/ou l'autre desdits radicaux étant éventuellement substitués par un ou deux groupements -OH, b étant égal à 0 ou 1, -les radicaux de formule - R8 - O - R9 - OCO - R8 dans laquelle les radicaux R8 et

dans lesquelles: a vaut 0 ou 1,

(bol) et/ou (b2) suivantes

Y identiques, ou différents, représentent un groupement répondant aux formules

r, représentant une valeur moyenne, entière ou décimale, varie entre 2 et 200,

linéaire ou ramifié en C1-C6,

C1-C6 ou un radical acyle pour lequel la partie hydrocarbonée est un radical alkyle

R3 représente un atome d'hydrogène, un radical alkyle, linéaire ou ramifié, en

leurs combinaisons présentant des répartitions statistiques ou blocs;

R2, identiques ou différents, représentent - CH2CH2 - ou - CH(CH3) - CH2 -, ou

C4-C15,

R1 représente un radical alkyle linéaire en CI-C15I ou un radical alkyle ramifié en

formule dans laquelle:

X identiques ou différents, représentent un groupement de formule (a) suivante: Ri -(O-R2)r-OR3

chaîne pouvant représenter le groupement X ;

radical hydroxyle, l'un des radicaux R se trouvant à l'une et/ou l'autre extrémité de

radicaux alkyles en C1-C6, les radicaux alcoxy en C1-C6, le radical phényle, le

R identiques ou différents, représentent des radicaux monovalents choisis parmi les

formule dans laquelle: