WO1997035851A1

WO1997035851A1 - Derives de benzene a substitution heterocyclique et herbicides

Info

Publication number: WO1997035851A1
Application number: PCT/JP1997/000985
Authority: WO
Inventors: Hiroyuki Adachi; Masao Yamaguchi; Takahiro Sagae; Masami Koguchi; Kazuyuki Tomita; Takashi Kawana; Akihiro Takahashi
Original assignee: Nippon Soda Co., Ltd.
Priority date: 1996-03-26
Filing date: 1997-03-25
Publication date: 1997-10-02
Also published as: US5948917A; AU1945497A; EP0894792A4; EP0894792A1

Description

明細害

ヘテロ環で置換さたベンゼン誘導体および除草剤

技術分野：

本発明は新規なヘテロ環で置換されたべンゼン誘導体及び除草剤に関する。背景技術：

本発明化合物に類似の 2 _ベンゾィルシクロへキサン一 1 , 3—ジオン化合物が除草活性を有することは、特開平 3— 2 5 5 0 4 7、特開平 6 - 2 7 1 5 6 2 s WO 9 4 / 0 4 5 2 4号公報等に記載されている。また、 WO 9 6 / 2 6 2 0 0号公報には、下記に示す式〔1Π〕で表される化合物力 <記載されている。

(式中、〜r _e は水素原子、 d— 8 アルキル基、 ₆ アルキルチオ基、 C 3 - β シクロアルキル基等を表す。また、 M Lは水素原子、 C アルキル基、 C-6 アルケニル基、ハロゲン原子等を表す。 Zは 5乃至 6員の飽和若しくは不飽和のへテロ環基を表す。）発明の開示：

本発明の目的は、工業的に有利に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全性の高い、作物との選択性の良い除草剤を提供することである。本発明は、式〔I〕

〔I〕

〔式中、 R¹ は、ハロゲン原子、 d-e アルキル基、 C,-_e アルコキシ基、二卜口基、シァノ基、 C,-_e ハロアルキル基、 _β アルキルチオ基、 d— ₈ アルキルスルフィニル基または ₆ アルキルスルホ二ル基を表す。

R² は、ハロゲン原子、ニトロ基、シァノ基、 d-e アルキル基、 C,—_e アルコキシ基、 d ハロアルキル基、 Cl ハロアルコキシ基、 d- ₆ アルキルチォ基、 d アルキルスルフィニル基または C アルキルスルホ二ル基を表す

R³ 、 R は、それぞれ独立して水素原子、 C アルキル基または _β ノ、口アルキル基を表す。

Tは、〔π〕

〔II〕

〔式中、 R⁵ 、 R⁶ 、 R⁷ 、 R⁸ 、 R⁹ および R'°は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、 C卜 _e アルキル基、 C,— ハロアルキル基、 C,-₆ アルコキシ基、 Ci ハロアルコキシ基、 d-e アルキルチオ基、 Cト ₆ アルキルスルフィニル基、 C,- アルキルスルホニル基、置換されていてもよいフヱニル基、 C

,-₈ アルキルチオ d アルキル基、 d- ₆ アルキルスルフィニル d アルキル基、 C-β アルキルスルホ二ルじ卜₆ アルキル基、 s換されていてもよいフエ二ルチオ d- β アルキル基、置換されていてもよいフヱニルスルフィニル C アルキル基、置換されていてもよいフヱニルスルホニル^ アルキル基、 C β アルコキシ d-e アルキル基、匿換されていてもよいフヱニル d-e アルキルォキシ d- ₆ アルキル基、 C-β アルキルカルボニルォキシ d-₆ アルキル基、ヒドロキシ _β アルキル基、ジ d-e アルコキシ〇卜₆ アルキル基、 _β ァルコキシカルボニル基、シァノ基、ホルミル基、ヒドロキシィミノアルキル基、 d—e アルコキシイミノ ^ アルキル基、 C₂-₄ アルケニルォキシイミノ d- ₆ アルキル基、 C₂- ₄ アルキニルォキシイミノ d - ₆ アルキル基、 d- ハロアルコキシィミノ β アルキル基、 C₂- ₆ ハロアルケニルォキシィミノ C アルキル基または C₂- ₄ ハロアルキニルォキシィミノ C ,-₆ アルキル基を表す。また、（R⁵ 若しくは R^e ) と（R⁷ 若しくは R⁸ ) (R⁷ 若しくは R⁸ ) と（R⁸ 若しくは R¹⁰) は、それぞれ一緒になって、メチレン又は C₂— ₅ のァルキレン鎖を形成していてもよい。）で表されるシクロへキサンジオン一 1, 3 ージオン環基を表す。〕

で表されるヘテロ環で置換されたベンゼン誘導体又はその塩およびそれらの 1種又は 2種以上を有効成分として含有する除草剤である。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明は、一般式〔 I〕で表されるヘテロ環で置換されたベンゼン誘導体又はその塩及びそれらの 1種又は 2種以上を有効成分として含有する除草剤である。式〔I〕において、 R¹ は、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、ェチル、プロピル、イソプロピル、プチル、 t一ブチル基等の d アルキル基

、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等の。アルコキシ基

、ニトロ基、シァノ基、クロロメチル、フルォロメチル、ジクロロメチル、ジフルォロメチル、トリフルォロメチル基等の C l ハロアルキル基、メチルチオ、ェチルチオ、プロビルチオ、イソプロピルチオ基等の d-e アルキルチオ基、メチルスルフィニル、ェチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル基等の ₆ アルキルスルフィニル基、またはメチルスルホニル、ェチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等の C ,-_β アルキルスルホ二ル基を表す。

R ² は、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、ニトロ基、シァノ基、メチル

、ェチル、プロピル、イソプロビル基等の d -e アルキル基、メトキシ、ェトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等の C ! - 6 アルコキシ基、クロロメチル、フルォロメチル、プロモメチル、ジクロロメチル、ジフルォロメチル、トリクロ口メチル、トリフフルォロメチル基等の C l - ₈ ハロアルキル基、トリフルォロメ卜キシ基等の C ! -B ハロアルコキシ基、メチルチオ、ェチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ基等の d -β アルキルチオ基、メチルスルフィニル、ェチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル基等の C i -₆ 了ルキルスルフィニル基、またはメチルスルホニル、ェチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等の〇, -_β アルキルスルホ二ル基を表す

R ³ は、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、ェチル、プロピル、イソプロピル基等の d - 6 アルキル基、メトキシ、ェ卜キシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等の d - ₆ アルコキシ基、ニトロ基、シァノ基、クロロメチル、フルォロメチル、プロモメチル、ジクロロメチル、ジフルォロメチル、卜リクロロメチル、トリフフルォロメチル基等のハロアルキル基、メチルチオ、ェチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ基等の C , -₆ アルキルチオ基、メチルスルフィニル、ェチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル基等の C卜 _S アルキルスルフィニル基、またはメチルスルホニル、ェチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基等の d -6 アルキルスルホ二ル基を表す。

Tは、〔！！〕で表されるシクロへキサンジオン環基を表す。

〔II〕

R⁵ 、 R⁶ 、 R⁷ 、 R⁸ 、 R" および R¹⁰は、それぞれ独立して水素原子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル、ェチル、プロピル、イソプロピル基等の C l-β アルキル基、クロロメチル、プロモメチル、ジクロロメチル、クロ口ェチル、ジフルォロメチル、トリフルォロメチル、トリクロロメチル基等の C ,-β ハロアルキル基、メトキシ、エトキシ、プロボキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、 t一ブトキシ基等の d-e アルコキシ基、トリフルォロメトキシ、トリク口ロメトキシ基等の C, - _β ハロアルコキシ基、メチルチオ、ェチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ基等の C,-₆ アルキルチオ基、メチルスルフィニル、ェチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル基等の C !-β アルキルスルフィニル基、またはメチルスルホニル、ェチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル基、ベンゼン環の任意の位置がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基等の C アルキル基、メトキシ

、エトキシ基等の C,-₆ アルコキシ基、ニトロ、シァノ基等の置換基で置換されていてもよいフヱニル基、メチルチオメチル、メチルチオェチル、メチルチオプ口ピル、ェチルチオメチル、ェチルチオェチル、 2—ェチルチオプロピル、 3— ェチルチオプロピル基等の d-s アルキルチオ C,-₆ アルキル基、メチルスルフィニルメチル、メチルスルフィニルェチル、メチルスルフィニルプロピル、ェチルスルフィニルメチル、ェチルスルフィニルェチル、 2—ェチルスルフィニルプ口ピル、 3—ェチルスルフィニルプロピル基等の Ci-₆ アルキルスルフィニル C アルキル基、メチルスルホニルメチル、メチルスルホニルェチル、メチルスノレホニルプロピル、ェチルスルホニルメチル、ェチルスルホニルェチル、 2—ェチルスルホニルブロピル、 3—ェチルスルホニルプロピル基等のアルキルスルホ二ルぃ _β アルキル基、（ベンゼン環の任意の位 sがフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基!^ C ,— _e アルキル基、メトキシ、エトキシ基等の C l- B アルコキシ基、ニトロ、シァノ基等の置換基で匿換されていてもよい）フェニルチオメチル、フヱニルチオェチル、フエ二ルチオプロピル基等のフヱニルチォ d— _β アルキル基、（ベンゼン環の任意の位置がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基等の C ,—8 アルキル基、メ卜キシ、エトキシ基等の d - S アルコキシ基、ニトロ、シァノ基等の置換基で置換されていてもよい）フニルスルフィニルメチル、フヱニルスルフィニルェチル、フエニルスルフィニルプロピル基等のフエニルスルフィニル C , -₆ アルキル基、（ベンゼン環の任意の位置がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基等の d - 6 アルキル基、メトキシ、エトキシ基等の C , - S アルコキシ基、ニトロ、シァノ基等の置換基で置換されていてもよい）フエニルスルホニルメチル、フエニルスルホニルェチル、フェニルスルホニルブロピル基等の置換されていてもよいフエニルスルホニル c β アルキル基、メ卜キシメチル、メトキシェチル、メトキシォゥ口ピル、ェトキシメチル、エトキンェチル、プロボキシメチル、プロポキシェチル基等の d -e アルコキシ ₆ アルキル基、（ベンゼン環の任意の位置がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基等のアルキル基、メトキシ、エトキン基等の d -₆ アルコキシ基、ニトロ、シァノ基等の S換基で置換されていてもよい）フェニルメトキシメチル、フエ二ルェ卜キシメチル、フエニルプロボキシメチル、フエニルメトキシェチル、フエ二ルェ卜キシェチル基等のフニル d - B アルキルォキシ C i -e アルキル基、メトキシカルボニルォキシメチル、エトキシカルボニルォキシメチル、メトキカルボニルォキシェチル基等の d -6 アルキルカルボニルォキシ d -₆ アルキル基、ヒドロキシメチル、ヒドロキシェチル基等のヒドロキシ C _β アルキル基、ジメ卜キシメチル、ジェ卜キシメチル、ジメトキシェチル基等のジ〇ぃ₆ アルコキシ d - _β アルキル基、メ卜キシカルボニル、ェトキシカルボニル基等の ₆ アルコキシカルボニル基、シァノ基、ホルミル基、ヒドロキシイミノメチル、ヒドロキシイミノエチル、ヒドロキシィミノプロピル基等のヒドロキシィミノ d -s アルキル基、メトキシィミノメチル、メトキシミノェチル、メトキシィミノプロピル、ェ卜キシィミノメチル、ェトキシィミノエチル基等の C,-₆ アルコキシイミノぃ₈ アルキル基、ビニルォキシィミノメチル

、ァリルォキシィミノメチル、ロチルォキシィミノメチル、ァリルォキシィミノエチル、ァリルォキシィミノプロピル基等の c₂-₄ アルケニルォキシィミノ C

,-6 アルキル基、ェチニルォキシイミノメチル、ェチニルォキシイミノエチル、プロパルギルォキシィミノメチル、プロパギルォキシィミノエチル基等の C₂-₄ アルキニルォキシイミノ^ アルキル基、クロロメトキシィミノメチル、クロロメ卜キシィミノエチル、クロロメトキシィミノプロピル、ジクロロエトキシィミノメチル、クロロェトキシィミノエチル、フルォロメトキシィミノメチル、フルォロメトキシミノエチル、トリフルォロエトキシイミノメチル、トリフルォロエトキシイミノエチル基等のハロアルコキシィミノ C卜₆ アルキル基、ク口ロアリルォキシイミノメチル、クロロアリルォキシイミノエチル、フルォロアリルォキシイミノメチル、フルォロアリルォキシイミノエチル、プロモアリルォキシイミノメチル、クロロブテニルォキシミノメチル、クロロブテニルォキシミノエチル基等の c₂— ₄ ハロアルケニルォキシィミノ c,-_e アルキル基、またはクロロェチニルォキシイミノメチル、クロロェチニルォキシイミノエチル、クロ口プロパルギルォキシィミノメチル、クロ口プロパルギルォキシィミノエチル基等の C_{2 4} ハロアルキニルォキシィミノ Cト₆ アルキル基を表す。

また、（R⁵ 若しくは R^e ) と（R⁷ 若しくは R^e ) 、（R⁷ 若しくは R⁸ ) と (R^B 若しくは R^l(1) は、それぞれ一緒になつてメチレン、エチレン、プロピレン基等の C,-₅ のアルキレン鎖を形成していてもよい。 )

より好ましい Tの例として、以下に掲げるシクロへキサンジオン環基を挙げることができる。

なお、 Tには次のような互変異性体が存在し得る。これらは全て本発明に含まれる。 -

(化合物の製造）

本発明化合物は、次の方法に-よって製造することができる c

製造法（ i )

[I]

Heい

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ 、 R⁴ 、 R⁵ 、 R⁶ 、 R' 、 RB 、 _Re 及び R>。は前記と同じ意味を有し、 Qは、ハロゲン原子、アルキルカルボニルォキシ基、アルコキシカルボ二ルォキシ基またはべンゾィルォキシ基を表す。）工程において、化合物 UVa〕および UVb〕は、化合物〔II〕と化合物 [V a] とを各々 1モルずつあるいは一方を過剰に用い、 1モルないし過剰の塩基の存在下に反応させることによって得ることができる。反応に用いられる塩基は、 KOH, N a 0H等のアルカリ金厲水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、トリ（C,— ₆ アルキル）ァミン、ピリジン、燐酸ナトリゥム等であり、溶媒としては、水、塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、酢酸ェチル、 N, N—ジメチルホルムアミド（DMF) 、テ卜ラヒドロフラン（THF) 、ジメトキシェタン、ァセトニトリル等が用いられる。反応混合物は反応が完了するまで 0~ 50°Cで搜拌される。また、四級アンモ二ゥム塩等の相間移動触媒を用いて、二相系で反応させることによつても得ることができる。化合物〔lVa〕および〔IVb〕は、化合物 (II) と化合物 [Vb] とをジシクロへキシルカルポジイミド（DCC) と反応させることによつても得られる。 DCCとの反応において用いられる溶媒としては、塩化メチレン、クロ口ホルム、トルエン、舴酸ェチル、 DMF、 THF、ジメトキシェタン、ァセト二トリル等が用いられる。反応混合物は反応が完了するまで一 10~50°Cで « 拌される。反応混合物は常法によって処理される。

転位反応はシァノ化合物および穏和な塩基の存在下に行われる。例えば、 1モルの化合物〔IVa〕および〔lVb〕を 1〜4モルの塩基、好ましくは 1~2モルの塩基および 0. 01〜 5モル以上、好ましくは 0. 05〜 2モルのシァノ化合物と反応させる。ここで用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用いられ得る。また、シァノ化合物としてはシアン化カリウム、シアン化ナトリウム、アセトンシアンヒドリン、シアン化水素、シアン化カリウムを保持したポリマー等が用いられる。尚、少 Sのクラウンエーテル等の相間移動触媒を加えることにより、反応がより短い時間で完結する。反応温度は 80°Cより低い温度、好ましくは 20〜40°Cで行われる。用いられる溶媒は、 1、 2—ジクロロェタン、トルェン、ァセトニトリル、塩化メチレン、齚酸ェチル、 DMF、メチルイソプチルケトン、 THF、ジメトキシェタン等である。

この際、ィ匕合物〔lVa〕および〔IVb〕を単離することなく、反応系に前記シァノ化合物及び塩基を加えることによつても、同様の転移反応が進行する。 W また、化合物〔I〕は、以下の方法に従って化合物〔II〕と化合物 [Vc] を塩基および必要ならばルィス ®?®存在下で反応させることによつても得られる。用いられる塩基は、 ΚΟΗ, N a ΟΗ等のアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、トリ（C,一 C₆アルキル）ァミン、ピリジン、炭酸ナトリゥム、燐酸ナトリウム等である。適当なルイス酸は、塩化亜鉛、三塩化アルミ二ゥム等であり、好ましくは塩化亜鉛である。反応は、ァセトニトリル、塩化メチレン等の有機溶媒中において、一 20°Cから溶媒の沸点までの適度な温度で行われる。製造法（ i i )

また、上記のようにして製造した化合物〔Ia〕を用いて、以下の方法により、シクロへキサン環上の置換基を変換した目的とする化合物〔ib〕および〔lc〕を製造することもできる。

(R⁵=0-了ルキル, S-アルキ,レ etc. )

[Ic]

(式中、 R' , R² , R⁵ , R^s , R⁷ . R⁸ , R^e . R'o及び He tは前記と同じ意味を表す。）

すなわち、化合物〔Ia〕を、不活性溶媒中、フヱニルトリメチルアンモニゥムトリブロミド、メルドラム酸ジブロミド等のハロゲン化剤と、 o°cから溶媒の沸点までの適度な温度、好ましくは室温から 50°Cで、数時間から数 10時間反応させることによって、ハロゲン化されたトリオン体〔lb〕を製造することができる。用いられる溶媒としては、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸ェチル、 THF, ァセトニ卜リル、ジメトキシェタン等を例示することができる。また、ハロゲン化されたトリオン体〔Ib〕は、塩基の存在下、求核試剤との反応により目的とする化合物〔Ic〕を製造することができる。製造法（ i i i )

(式中、 R¹ . R² , R⁵ . R⁶ . R⁷ , R⁸ , 及び He tは前記と同じ意味を表す。 R¹²は、低級の分岐していてもよいアルコキシ、ァラルキルォキシ、またはァセトキシを意味する。 Zは、ハロゲン原子、アルキルスルホナート基およびァリ一ルスルホナ一ト基等の脱離基を表す。）

すなわち、化合物〔Ie〕は、化合物〔ld〕を、塩酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、トリフルォロ酢酸、三臭化ホウ素等の反応、水素化分解あるいはアルカリ加水分解等により、また、必要に応じて次いで加水分解を行うことによって製造することができる。一

さらに、化合物〔le〕は、通常の方法によりハロゲン化、アルキルスルホナー卜化あるいはァリ一ルスルホナート化することにより化合物〔ΙΠ に導くことができる。この化合物 (If) を溶媒中、等モル以上の塩基の存在下、 _20°Cから用いる溶媒の沸点まで、好ましくは室温から 100°Cで 30分から数 10時間反応させることによって化合物〔Ig〕を製造することができる。

用いられる塩基は、 KOH、 N a OH等のアルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、トリ（C,— C_eアルキル）ァミン、ピリジン、 1, 8—ジァザービシクロ [5. 4. 0] ゥンデ一 7 -セン（DBU) , t—BuOK, トリトン B, 炭酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等であり、溶媒としては、単独あるいは混合して水、アルコール、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、酢酸ェチル、 DMF> THF、ジメトキシェタン、ァセ卜二トリル等が用いられる。製造法（ i V)

Π] [Ih ]

[Ii ]

(式中、 R¹ , R² , R⁵ , R⁶ , R⁷ . R^e , R⁹ , R¹⁰及び He tは前記と同じ意味を表す。 R¹³， R¹⁴は、低級アルキル基を表し、 R¹⁵は、水素、 C,-₆ アルキル、 C₂-₄ アルケニル、 C2-4 アルキニル、 Cl- β ハロアルキル、 C₂-4 ハロアルケニル、 C₂— ₄ ハロアルキニルを表し、 mは 0または 1を表す。）化合物〔Ih〕は、化合物〔I 〕力、ら公知の方法により製造することができる。次に化合物〔Ih〕を溶媒中、等モル以上の式： H₂NOR¹⁵で表される化合物の存在下、一 20°Cから用いる溶媒の沸点まで、好ましくは室温から 100°Cで 3 0分から数 10時間反応させることによって化合物〔li〕を製造することができる。尚、少 Sの硫酸等の酸触媒を加えることにより、反応がより短い時間で完結する。用いられる溶媒としては、単独あるいは混合して水、アルコール、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、酢酸ェチル、 DMF、 THF、ジメトキシェタン、ァセトニ卜リル等である。

—般式〔II〕で表される環状ジオン体は、公知の方法に従って製造することができる。また、上記の鱖換された安息香酸 [Va] も公知の反応により製造することが出来る。

なお、本発明化合物〔 I〕には、多数の互変異性体の形、例えば、下記に示すような形で存在し得る。これら" ©化合物はすべて本発明に含まれる。

本発明化合物の製造の重要な合成中間体であるアルデヒド体（3) 、カルボン酸体（4) は以下のように製造できる。

R^ie

(式中、 R¹ , R² は前記と同じ意味を表し、 R ¹⁶は水素原子あるいは低級アルキル基、 Wはハロゲン原子を表す。）

トルエン誘導体（1) から公知の方法、例えば塩素、臭素などの単体のハロゲンあるいは N—プロモコハク酸イミド（NB S)、 N—クロロコハク酸ィミド（ NCS)等のハロゲン化剤を、光あるいはベンゾィルペルォキシド等のラジカル反応開始剤の存在下に反応させることによってベンジルハライド誘導体（2) を得たのち、例えば、 J. Am. Ch em. So c. , 7 1. 1 767 ( 1 94 9 ) に記載の方法によりアルデヒド体（3) を製造することができる。すなわち、 2—二トロプロパン等の二卜ロアルカン類のアル力リ金属塩とメタノール、エタノール等のアルコール溶媒中 0 °Cから溶媒の沸点の間の温度で反応させることによってアルデヒド体（3) を製造することができる。

次に、カルボン酸体（4) は、トルエン誘導体（1) から過マンガン酸力リウム等の酸化反応によって、あるいはアルデヒド体（3) から J on e s試薬、クロム酸あるいは過マンガン酸力リゥム等の酸化反応等の公知の方法で製造することができる。

さらに、これらのアルデヒド体（3) およびカルボン酸体（4) を用いることにより次に示すような中間体を製造することができる。

Ph_sP=CHC0R¹⁹ (io)

(式中、 R R² , R^ieは、前記と同じ意味を表し、 R¹⁷, R¹⁸は、水素原子又は低級アルキル基、 Vはハロゲン原子を、 R¹⁹は低級アルキル基をそれぞれ表す。）

ァシル体 (6) は、アルデヒド体（3) に、 G r i gn a r d試薬を反応させることによりアルコール体（5)を製造し、このアルコール体（5) を活性化されたニ酸化マンガン、クロム酸類により酸化を行い、対応するァシル体（6) を得ることができる。

また、文献公知の方法、例えば、 Org. Syn. . Co l l. Vo l. , 丄 , 77 ( 1941 ) に記載の方法に従い、アルデヒド体 (3) とメチルケトン（ 9) とを、触媒の存在下、水中で 0〜50°Cで 1〜50時間反応させることにより、アルドール体 (7)を製造し、このものを適当な溶媒中、触媒を用いた脱水反応により、ビニルケ卜ン体（8)を製造することができる。アルドール体 (7 ) を製造する際に用いられる触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化バリゥム等の金属水酸化物類、ピぺリジン、ピリジン等の有機塩基類が挙げられる。また、脱水反応において用いられる触媒としては、濃硫酸、 p— トルエンスルホン酸等の酸類が挙げられる。また、脱水反応の溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。一

さらにまた、ビニルケトン体（8) は、アルデヒド体（3) とホスホラン（1 0) とを適当な溶媒中で、室温から用いる溶媒の沸点の間の温度で 1 0分から 3 0時間反応させることによつても製造できる。

/3—ジケトン体（ 1 1 ) は、次のようにして製造することができる。

R¹⁶0₂2Cし

(式中、 R¹ , R² , R^ieは、前記と同じ意味を表し、 R、 R²°、 R²'、 R²²はそれぞれ独立して低級アルキル基を表す。）

先ず、カルボン酸体（4) をベンゼン、トルエン等の炭化水素類、メチレンクロリド、クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類等の不活性な溶媒中でホスゲン、チォニルクロリド、ォキザリルクロリド等の塩素化剤と反応させることにより、中間体であるカルボニルクロリド（1 1) を製造する。次いで、 /9ーケ卜エステル（1 3) にマグネシウムアルコラートを作用させて得られるマグネシウム塩と、カルボニルクロリド（ 1 1 ) とを公知の方法に従って反応させることにより製造することができる。次に、ィソォキサゾール中間体の合成法について例示する <

(製造法 1 ) -

R^l

(15-1)

(式中、 R R² . R³ は前記と同じ意味を表し、 R'⁶は低級アルキル基を表す。 )

ビニルケトン体（8— 1 ) とヒドロキシルァミンを適当な溶媒中、 0°Cから用、る溶媒の沸点の間の温度で 0. 5〜 5時間反応させてォキシム体（ 1 4 ) を得たのち、さらに閉環、酸化反応することによって化合物（ 1 5— 1 ) を製造することができる。このォキシム化反応で用いられるヒドロキシルアミンは、硫酸塩あるいは塩酸塩の形で、あるいは適当な塩基によって中和した後反応させることができる。中和に用いられる塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、 7K酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物、酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩類、ナトリウムメチラート、ナトリウムェチラ ―卜等の金属アルコラ一ト類、卜リエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類が挙げられる。また、用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメ夕ン、クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類、 THF、ジォキサン等のエーテル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 DMF、ピリジン、酢酸、水等およびこれらの溶媒の 2種以上の混合溶媒が挙げられる。

ォキシム体（ 14) を閉環化させる反応は、 J. Ame r. C h e m. S o c. , 94, 91 28 ( 1 972 ) ； J. He t e r o c yc l. Chem. , 14, 1 289 (1 977) ； Te t r ahe d r on Le t t. , 1 97 7, 5075等に記載の方法に従い、ヨウ素-ヨウ化カリウム、 N—プロモサクシンイミド、パラジウム触媒等の触媒の存在下に行われる。

(製造法 2 )

(15)

(式中、 R¹ , R² , R³ , R⁴ 及び R ¹⁸は、前記と同じ意味を表す。）また、一般式（1 5) で表されるイソォキサゾール体は、ジケトン体 (1 2- 1) とヒドロキシルアミンあるいはヒドロキシルアミン鉱酸塩とを反応させることによっても製造することができる。これらの反応は、適当な溶媒中、 0でから用いる溶媒の沸点の間の温度で行われる。この反応において、硫酸、 p - 卜ルェンスルホン酸等の酸類を触媒として用いることもできる _c 用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類、 THF、ジォキサン等のエーテル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 D M F、ピリジン、酢酸、水等およびこれらの溶媒の 2種以上の混合溶媒が挙げられる。 (製造法 3 )

(15)

(式中、 R¹ . R² . R³ , R⁴ , R'^eは前記と同じ意味を表し、 r, . r₂ , R ' は低級アルキル基を表す。）

また、一般式（1 5) で表されるイソォキサゾ一ル体は、前記 3—ァシル体（ 6— 1) を出発原料として、 N, N—ジメチルホルムアミドジメチルァセタール等の N, N—ジアルキルアルキルアミドジアルキルァセタールを作用させて、式

(1 6) で表されるジアルキルアミノメチリデン体を得たのち、このものにヒド口キシァミンを反応させることによつても製造することができる。

前段階の反応は、無溶媒もしくはベンゼン、トルエン、キシレン等の不活性溶媒中、室温から用いられる溶媒の沸点（無溶媒の場合は、 N. N-ジアルキルァルキルアミドジアルキルァセタールの沸点）までの温度範囲で行われる。また、次の反応は、例えば、ジォキサン、エーテル、テトラヒドロフラン、 1, 2—ジメ卜キシェタン等のエーテル系溶媒、 DMF、 DM SO等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール類等の溶媒中、式（16) で表される化合物 1モルに対し、 1. 0〜2. 0倍モルの塩酸ヒドロキシルァミンあるいは硫酸ヒドロキシルァミンを作用させるとにより行われる。また、ヒドロキシルアミン塩を適当な塩基を用いてヒドロキシルアミンを遊離の形で反応させることもできる。反応は室温から用いられる溶媒の沸点までの温度範囲で行われる。また、ヒドロキシルアミンを添加したのち、閉環反応を完結させるために、 p— 卜ルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等の酸触媒を反応系に添加することも好ましい。

(製造法 4 )

R^l60₂C

(15-2) (15-3)

(15-4)

(式中、 R¹ , R³ , R⁴ , は前記と同じ意味を表、 R" は低級アルキル基を表す。 )

さらに、式（ 1 5— 4) で表される安息香酸類は、式（1 5— 2) で表される 4一 C 1体に、 R' SHで表されるメルカブタンを塩基の存在下に作用させることによって、式（ 1 5— 3) で表される 4—SR' 体としたのち、酸化することにより製造することができる。

反応に用いられる塩基としては，水酸化ナ卜リゥム、水酸化力リウム等のアル力リ金厲水酸化物、ナ卜リゥムメ卜キシド、ナトリゥムェトキシド、カリウム t

—ブトキシド等の金属アルコキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩

、水素化ナトリゥム等の水素化物、トリェチルァミン、ジィソプロピルェチルァミン、 1, ージァザビシクロ [5.4.0]-ゥンデ -7- セン（DBU) 、ピリジン等の有機塩基を例示することができる。また、反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、 THF、 DME等のエーテル類、 DMF 、ジメチルァセタミド（DMA 等のァミド類、 DMSO、ァセトニトリル、ベンゼン、トルエン、キシレン等を例示することができる。

次の酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、ジクロロメタン、クロ口ホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等の不活性溶媒中、過酸化水素、過酢酸、過安息香酸、 m—クロ口過安息香酸等の過酸、次亜塩素酸ナトリゥム等の次亜塩素酸塩等の酸化剤を使用して行われる。反応は、室温から溶媒の沸点までの温度範囲で円滑に進行する。

(製造法 5 )

また、イソォキサゾール体（ 1 5) は、 WO 96/26200号に記載の方法によっても製造することができる。以下にその方法を示す。

(式中、 R¹ 、 R² 、 R³ 、 R^ieは前記と同じ意味を表し、 Yは B r、 1、一 0 S0₂ CF₃ を、 Mは S n (Ci-6 アルキル） ₃ 、 B (OH) ₂、 Z n C 1を表す。 ) 【実施例】

次に実施例、参考例を挙げて—、本発明を更に詳細に説明する。

実施例 1

2 -[ 2—クロ口一 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル ) 一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] ーシクロへキサン一 1. 3—ジオンの製造

1, 3—シクロへキサンジオン 0. 6 0 gとトリエチルァミン 0. 56 gとを塩化メチレン 4 0m lに溶解し、そこへ、 2—クロロー 3— (3—メチルー 1>

2—イソォキサゾールー 5—ィル〉一 4ーメチルスルホニルベンゾィックァシッド 1. 6 gとチォニルクロリド 3. 0 gとを反応させて得た 2—クロロー 3— (

3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）一 4ーメチルスルホニルべンゾィイルク口リドの塩化メチレン 1 0m l溶液を室温で滴下した。室温で 1時間 «拌した後、反応混合物を 1規定の塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残留物をァセ卜二トリル 4 0m 1に溶解し、トリェチルァミン 0. 5 6 gとアセトンシアンヒドリン 0. 1 3を加えて、室温で一夜擾拌した。溶媒を減圧留去後、得られた残留物を酢酸ェチルに溶解し、希塩酸および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシゥ厶で乾燥した。溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール =9 8 : 2) で精製し、目的物 0. 97 gを結晶として得た。融点 1 6 6— 1 6 8 °C 実施例 2

5— t e r t—ブトキシメチ 7レー 2— [ 2—メチル— 3 (3—メチルー 1 , 2—イソォキゾ一ルー 5—ィル） — 4ーメチルスルホニーシクロへキサン一 1, 3—ジオンの製造

2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキサゾール _ 5—ィル）一 4 ーメチルスルホニルペンゾイツクァシッド 1. 1 6 gを出発原料として、常法に従い、 2—メチルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル）一 4ーメチルスルホニルベンゾイルク口リドを調製し、このものと、 5— t e r t—ブトキシメチルーシクロへキサンー 1. 3—ジオン 0. 7 l gとをクロロホルム 1 0m 1に溶解して、氷冷下にトリエチルァミン 36 gを滴下した。室温で 3 0分攪拌した後、氷水にあけ、希塩酸で酸性とし、クロ口ホルム層を分取した。有機層は、水、飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残留物をァセトニトリル 1 0m

1に溶解し、卜リエチルァミン 0. 4 1 gとアセトンシアンヒドリン 0. 06 g を加え、室温で 3日間擾拌した。溶媒を減圧留去後、得られた残留物を酢酸ェチルに溶解し、希塩酸および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー

(クロ口ホルム）にて精製して、目的物 1 8 gを得た。

Ή-NMR (CDC 1 δ p pm) : 1. 1 4 (s， 9 H) , 2. 0 3 (s , 3 H) , 2. 39 (s, 3 H) , 2. 4 0 (m, 3 H) , 2. 8 0 (m, 2 H ) . 2. 93 (s， 3H) , 3. 3 5 (m, 2 H) , 6. 3 9 (s, 1 H) , 7 • 3 1 (d, 1 H. J = 8. 2 H z) , 8. 07 (d, 1 H, J = 8. OHz) 1 7. 2 1 (b s, 1 H) 実施例 3

5—ヒドロキシメチルー 2— [ 2—メチルー 3 ― (3—メチルーし 2—イソォキサゾール— 5—ィル） — 4ーメチルスルホニルベンゾィル "I ーシクロへキサン一 1, 3 -ジオンの製造

実施例 2で得られた粗製 5— t e r t—ブ卜キシメチルー 2— [ 2 _メチル - 3 - (3—メチルー 1, 2—イソォキゾ一ルー 5—ィル）一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] —シクロへキサン一 1, 3—ジオン 1. 5 1 gをトリフルォ口酢酸 1 5m lに溶解し、室温で一夜攪拌した。反応混合物を氷水にあけ、酢酸ェチルで抽出した。有機牖を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧下に留去して、 2— [ 2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキゾ一ルー 5— ィル）一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] 一 5— トリフルォロアセトキシシク口へキサン一 1, 3—ジオンを得た。このものをエタノール 1 Om 1に溶解し、 1. 2 4 gの炭酸ソ一ダを水 1 0m lに溶解した溶液を加えて、室温で 6時間攒拌した。溶媒を減圧留去した後、水を加えて酢酸ェチルで洗浄し、水層を分取した。得られた水層を希塩酸で酸性とし、酢酸ェチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシゥムで乾燥し、溶媒を減圧留去して残留物 1. 0 1 gを得た。粗^^物から 0. 2 1 gを取り、シリカゲルカラムク口マトグラフィー（クロ口ホルム）で精製し、粉末状物質として目的物 0. 0 9 gを得た。

Ή-NMR (CDC 13 , <5 p pm) ： 2. 05 (s, 3H) , 2. 4 2 (s . 3H) , 2. 4 5 (m, 3Η) . 2. 8 5 (m, 2 H) , 2. 9 5 (s, 3H ) . 3. 67 (m, 2H) . 6. 4 1 (s, 1 H) . 7. 3 4 (d. 1 H, J = 8. 3H z) , 8. 1 0 (d, 1 H. J = 8. 3Hz) . 1 7. 2 4 (b s, 1 H) 実施例 4

3 -[ 2—メチル— 3一（3—メチル— 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル ) - 4ーメチルスルホニルベンゾィル] ービシクロ [4.1.0] ヘプタン一 2, 4— ジオンの製造

実施例 3で得られた粗製の 5—ヒドロキシメチル— 2— [ 2—メチルー 3— ( 3—メチルー 1. 2—イソォキサゾールー 5—ィル）一 4—メチルスルホニルべンゾィル] ーシクロへキサン— 1, 3—ジオン 0. 8 0 gをクロ口ホルム 1 0 m lに溶解し、氷冷下にトリェチルァミン 0 . 5 8 gを滴下した。次いで、無水メタンスルホン酸 0 . 4 0 gを加し、室温で 1時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、希塩酸で酸性として分液した。クロ口ホルム層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、得られた 5 ーメチルスルホニルォキシメチルー 2— [ 2—メチルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾール一 5—ィル）一 4—メチルスルホニルベンゾィル] ーシク口へキサン— 1 , 3—ジオンの粗生成生物をエタノール 1 0 m 1に溶解し、 1規定の水酸化ナ卜リゥム水溶液 5 . 7 m lを加え、室温で 6日間撮拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた残留物に水を加え、希塩酸で酸性とした後、酢酸ェチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して残留物 0 . 5 4 gを得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロ口ホルム）で精製し、淡黄色結晶として目的物 0 . 3 5 gを得た。融点 2 0 1— 2 0 3 °C

実施例 5

5—ヒドロキシメチルー 4—メチルー 2— [ 2—メチルー 4—メチルスルホニルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾィル] シクロへキサン一 1, 3—ジオンの製造

5—ァセトキシメチルー 4 -メチルシクロへキサン一 1, 3—ジオン 0. 4 4 gとトリエチルァミン 0. 24 gを塩化メチレン 5m 1に溶解し、そこへ、 2 ーメチルー 4ーメチルスルホニルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾイルクロリド 0. 6 gの塩ィヒメチレン 5m 1溶液を滴下し、室温で 1時間椽拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、クロ口ホルムで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を-减圧留去し、得られた残留物にメタノール 5ml及び 1 規定水酸化ナ卜リウム水溶液 5 m 1を加えて、室温で 1 2時間攪拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、クロ口ホルムで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、表記化合物をアモルファス状物質として 0. 85 g得た。実施例 6

3— [ 2 —メチル—3— ( 3—ズチルー 1 , 2 —イソォキサゾール— 5—ィル ) 一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] 一 5—メチルビシクロ [4. 1. 0] ヘプタン —2 , 4—ジオン（卜ランス体）の製造

5 —ヒドロキシメチルー 4ーメチルー 2— [ 2—メチルー 4ーメチルスルホニルー 3— ( 3—メチノレー 1 , 2 —イソォキサゾ一ル一 5 —ィル）ベンゾィル] シクロへキサン一 1 , 3 —ジオン 0 . 4 gと卜リエチルァミン 0 . 2 gを塩化メチレン 5 m l に溶解し、そこへ、メタンスルホン酸無水物 0 . 2 gの塩化メチレン 5 m 1溶液を滴下し、室温で 1時間攪拌した。反応混合物に水および希塩酸を加えて酸性にし、クロ口ホルムで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残留物にメタノール 5 m 1及び 1規定水酸化ナ卜リゥ厶水溶液 5 m 1を加えて、室温で 4 時間擅拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、クロ口ホルムで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を'减圧留去した。得られた残留物を分取し、薄屡クロマトグラフィーで精製して、表記化合物をァモルファス状物質として 0 . 1 g得た。以上の様にして製造することの出来る本発明化合物の例を、以下の第 1表〜第表に示した。一

第 1 表

第 1 表（続き）

第 2 表

第 2 表（铳き）

第 3 表

第 3 表 (続き)

第 4 表

化合物 R¹ R² R³ R⁴ R⁹ 立体配置物性値" 番号

IV-1 CI CI H H H cis

IV - 2 CI CI H H H trans

IV-3 CI S0₂CH₃ H H H cis

IV-4 CI S0₂CH₃ H H H trans

W-5 CI CI CH₃ H H cis

W-6 CI CI CH₃ H H trans powder

IV - 7 CI S0₂CH₃ CH₃ H H cis powder

IV-8 CI S0_ZCH₃ CH₃ H H trans [166-169]

IV-9 CI S0₂CH₃ CH₃ H C0₂Et cis

IV- 10 CI S0₂CH₃ CH₃ H C0₂Et trans powder

IV- 11 CI S0₂CH₃ CH₃ H OH cis

IV-12 CI SO2CH3 CH₃ H OH trans

IV- 13 CI S0_zCH₃ CH₃ H 0C₃H₇ cis powder

IV-14 CI SO2CH3 CH₃ H OC3H7 trans powder

IV-15 CH₃ CI H H H cis

IV- 16 CH₃ CI H H H trans

IV- 17 CH₃ S0₂CH₃ H H H cis

IV-18 CH₃ S0₂CH₃ H H H trans

IV-19 CH₃ CI CH₃ H H cis

IV-20 CH₃ CI CH₃ H H trans 第 4 表（続き）

第 5 表

第 5 表（続き）

第 1表〜第 5表に示した化合物の¹ H- MR data( <5 ρρπι) を以下の第 6表に示した _c

第 6 表化合物番号 ¹ H-NMR data( <5 ppm)

1-3 2. 04 (m, 2H), 2. 40 (s, 3H), 2. 43 (m, 2H), 2.78 (m, 2H), 6. 32 (s, IH).

7. 25 (m. 1H), 7. 47(m, lH). 16. 68(s, lH)

I I-3 1. 12. 1. 40 (d, 3H). 1. 82 (m, IH). 1. 82 (m, IH). 2. 13(m. IH), 2. 45 (m, 5H

). 2. 82 (m. IH). 6. 33 (s, 1H)， 7. 25 (m, IH), 7. 47 (m, IH)

I I-4 1. 12, 1. 40 (d, 3H), 1. 60 (s, 3H). 1. 82 (m, IH), 2. 13 (a IH), 2. 41 (s. 3H

), 2. 36-2. 58 (m. 2H), 2. 85 (m. IH), 3. 06 (s, 3H)

I I 1-4 0. 80-1. 02 (m. IH), 1. 38 (m. IH), 1. 66-2. 21 (m, 2H), 2. 41(s, 3H),

2.70-2. 88 (m. IH). 3. 01-3. 22 (m. IH), 3. 06 (s, 3H), 6. 47 (m, IH), 7. 52 (m, IH), 8. 20(in, IH). 16. 26. 17. 01 (s, IH)

IV-6 0.81, 1, 00(ra, IH), 1. 11-1. 38 (m, IH), 1. 29. 1. 46(d, 3H), 1. 53-2. 20

(m, 2H), 2. 39 (s, 3H), 3. 10 (m, IH), 6. 31 (s, IH), 7. 22 On, IH), 7. 46 (m , 1H), 16. 33. 17. 28 (s, IH)

IV - 7 0. 70, 0. 93 (m, IH), 1. 2-2. 1 (m, 2H), 1. 25 (ra, 3H), 1. 49, 1. 73(s, IH).

2. 32 On, IH), 2. 43(s, 3H). 3. 07 (s, 3HX4. 18 (ra, 2H), 6. 49(s. IH), 7. 4 4 (m, 1H), 8. 17, 8. 24 (d. IH)

IV-8 0. 83. 0. 98(ω, IH), 1. 21-1. 41 (m. IH). 1. 29, 1. 49 (d. 3H), 1. 55-1. 73

(m, IH), 1. 85-2. 20 On, IH), 2. 42(s. 3H), 2. 80. 3. 13(m. IH). 3. 07(s. 3 H), 6. 48 (m, IH), 7. 53 (m， IH), 8. 22 (m, IH)

IV- 10 0. 76, 0. 93 (m. IH), 1. 2-2. Km. 2H), 1.25(m, 3H) , 1. 49, 1. 73(s, IH),

2. 32 (m, IH). 2. 43 (s. 3H), 3. 07(s. 3H), 4. 18 (m, 2H) , 6. 49 (s, 1H), 7. 4 4 (m, 1H). 8. 17. 8. 24 (d, IH)

IV- 13 0. 88, 0, 98 (t, 3H) , 1. 12, 1. 27 (m, IH), 1. 50. 1. 62(s, 3H), 1. 50-2. 28

(m, 5H), 2. 41 (s, 3H), 3. 06 (s, 3H), 3. 30-3. 81 (m, 2H), 6. 48 (m, IH), 7. 55 (m, IH). 8. 20 (m, IH), 16. 78, IT. 10(s, IH)

IV - 14 0. 85 (ID, 4H), 1. 39, 1. 57 (s, 3H), 1. 40-1. 70 (m, 2H), 1. 86-2. 08 (m, IH)

. 2. 15-2. 29 On, 2H), 2. 42(s. 3H), 2. 95, 3. 37 (ra, IH), 3. 08 (s, 3H), 6. 4 9(s. IH), 7. 56(m, IH). 8. 20 (a IH). 16. 5, 17. 18(s, IH)

IV-22 0. 82, 0. 97 (m. IH), 1. 27, 1. 48(d, 3H), 1. 20-1. 45 (ra, IH), 1. 60-2. 20

(m, 2H). 2. 04， . 207(s. 3H), 2. 0(s, 3H), 2. 80. 3. 13(m, IH), 2. 94 (s. 3 H), 6. 48, 6. 50 (s. IH), 7. 28-7. 38 (m, IH) , 8. 06-8. 12 (m, IH), 16. 73, 1 7. 50(bs, IH)

V- 4 0. 98-1. 40 (m, 9H), 2. 05 (ID, IH). 2. 40(s. 3H) , 2. 54-2. 88 (ra. 2H), 3. 07

(s, 3H), 6. 48(s, 3H). 7. 45 (m, IH), 8. 20 (m, IH), 16. 38, 17. 21 (s, IH) 第 6 表（統き）

化合物番号 - Ή-NMR data( <5 ppm)

V-6 1. 62 (m, IH), 2. 42 (s. 3H), 2. 47 On, 2H), 2. 85 (m, 2H), 3. 07 (s. 3H), 3. 3

4(s, 3H), 3. 37 (m, 2H), 6. 48 (s, 3H) , 7.43(m, 1H), 8. 20 (m, IH).

lb. 60Cs, 3H)

V-8 2. 08 (s, 3H), 2. 41 (s, 3H), 2. 25-2. 95 (ID, 5H), 3. 07 (s, 3H), 4. 08 (ra, 2H

), 6. 48(s, IH). 7. 5 (m. IH), 8. 20 (m. IH), 16. 60(s, IH)

V- 10 2. 31-2. 52 On. 3H), 2. 40 (s, 3H), 2. 85 (m. 2H), 3. 06 (s. 3H), 3. 62 (m. 2H

). 6. 48(s. IH). 7. 45 (m. IH). 8. 20 (m. IH). 16. 60 (s. IH)

V - 12 1. 0-1. 33 (m, 6H), 1. 60 (m, 3H), 2. 18 (n. IH), 2. 40Cs, 3H), 2. 55 Cm. 5H

), 2. 82 (m, 2H), 3. 05 (s, 3H), 6. 48 (s, IH), 7. 42 (m, IH). 8. 20 (m, IH), 16. 58 (s, IH)

V-14 1. 13, 1. 33 (d. 3H), 1. 70 (m, IH), 2. 08 (ui, IH), 2. 42(s, 3H), 2. 50 (m, IH

), 2. 92 (m. IH), 3. 08 (s, 3H). 3. 30-3. 50 (m, 5H). 6. 48 (s, IH), 7. 45 (m, 1H). 8. 20(m, lH), 16. 48, 17. 05(s. IH)

V-16 1. 10-1. 48 (m, 3H) . 2. 07 ( , 3H) , 2. 21 (m, IH) , 2. 40 (m, IH) , 2. 42 (s. 3H

). 2. 64 (m. IH), 2. 85 (m, 1H)， 3. 07 (s, 3H), 4. 14 (m, 2H), 6. 46(s, IH) , 7. 45 (m. 1H), 8. 20 (m. IH)

V- 17 1. 10-1. 48 On, 3H), 2. 05 (m. 2H). 2. 40 (s. 3H), 2. 51 (m, IH), 2. 91 (m, IH

). 3. 73 (ra, 2H), 6. 30 (s. 1H) . 7.20 (a IH). 7. 45 (m, IH)

V- 18 1. 05-1, 48 (m. 3H), 2. 05 (ra, 2H). 2. 41 (s, 3H). 2. 51 (in, IH), 2. 91 (m, IH

) , 3. 05(s, 3H). 3. 73 (m, 2H), 6.47 (s, IH) , 7. 45 (m. 1H), 8. 18 (ra. IH)

V - 20 1. 22 (a 3H), 2. 03. 2. 05 (s， 3H), 2. 35-2. 81 (ra, 2H), 2. 42 (s, 3H), 3. 07

(s, 3H), 2. 99-3. 47 (ra, 2H), 6. 47(s, IH), 7. 46 (m, IH), 8. 20 (m, IH), 16. 60. 16. 72 (s. IH)

V-22 1. 32 (s, 6H). 1. 57 (s. 6H). 2. 41 (s, 3H), 3. 08 (s. 3H), 6. 49 (s. 3H).

7. 5 Km. 1H). 8. 22 (m, IH), 17. 05(s, IH)

V-23 実施例 2 に記載

V-24 実施例 3 に記載

(参考例）

参考例 1 - メチル 2, 4—ジクロロー 3—ホルミエー卜の製造

メタノール 1 0 Om lに、 28%ナトリウムメチラートのメタノール溶液 26 . 6 1 gを加え、氷冷下 25°C以下で、 2 -二トロプロパン 1 2. 29 gを滴下した。次いで、メチル 3—プロモメチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一ト 4 1 . 1 6 gを添加後、加熱還流下 3 0分授拌した。反応液を冷却後、減圧濃縮して、その残留分を酢酸ェチル 1 00 0m lに溶解し、氷冷下に 1 %水酸化ナ卜リゥム水溶液で洗浄した。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた結晶をベンゼン、次いで n—へキサンで洗浄して、目的物メチル 2, 4—ジクロロ— 3—ホルミルべンゾエートを結晶として 22. 00 g得た。 mp. 1 03 - 1 04 °C 参考例 2

2, 4ージクロ口— 3—ホルミルべンゾィックァシッドの製造

メチル 2, 4—ジクロロー 3—ホルミルべンゾエート 1. 0 4 gをエタノール

5 m 1に溶解し、 1規定水酸化ナ卜リゥム水溶液 1 0m lを加えて、室温で 1 7 時間擾拌した。反応液を氷水 4 0m lに空け、濃塩酸で酸性とし、析出した結晶を濂過、乾燥の後、目的物 2 , 4—ジクロロー 3—ホルミルべンゾイツクァシッドを結晶として 0. 7 5 g得た。 m p . 1 8 8 - 1 9 0 "C 参考例 3

2、 4ージクロロー 3— ( 3—メチルー 1、 2—イソォキサゾールー 5—ィル ) ベンゾィックァシッドの製造

メチル 3—ホルミル一 2、 4ージクロ口ベンゾェ一卜 2 4 . 7 g ( 0 . 1モル）をアセトン 1 2 0 m 1と水 1 2 m 1の溶媒に溶かし、氷水で冷却して 2 0

°C以下で 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 5 m 1を 3 0分で滴下し、室温で一夜拢拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性にし、酢酸ェチルで抽出した。酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシゥムで乾燥し減圧下濃縮した

。残留物をベンゼンに溶解し、触媒 Sの p—トルエンスルホン酸を加え 4時間水を除去しながら加熱環流した。放冷後、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシゥムで乾燥し減圧下濃縮した。残留物をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィ一で精製し、 15.4 gのメチル 2, 4—ジクロ口— 3— （3—ォキソ一 1ーブテニル ) ベンゾェートを得た。収率 5 - 4, 8%

得られたメチル 3— （3—ォキソ— 1一ブテニル） — 2, 4—ジクロ口ベンゾエー卜 15.4 g (0.056モル）と塩酸ヒドロキシアミン 15 g (021 6モル）をエタノール 80 m 1とピリジン 80 m 1の溶媒に溶かし、 2時間加熱還流した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸ェチルで抽出し、酢酸ェチル層を 1規定の塩酸と飽和食塩水でそれぞれ洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。 15.9 gのメチル 2、 4—ジクロロー 3— （3—ヒドロキシィミノー 1ーブテニル）ベンゾエー卜を得た。収率 98.2%

得られたメチル 2、 4ージクロ口一 3— （3—ヒドロキシイミノー 1ーブテニル）ベンゾェ一ト 15.9 g ( 0.052モル）をテ卜ラヒドロフラン 250 m 1に溶解した中へ、炭酸水素ナトリウム 16.8 g (0.2モル）の水 1 60 m 1溶液を加え、次いでヨウ化力リウ厶 30.1 g (0. i 8モル）とヨウ素 1 4 g ( 0.055モル）を水 120mlに溶解した水溶液を加えて光を遮断して 4時間加熱環流した。反応混合物を氷水に注ぎ、亞硫酸水素ナトリウムを加えた後酢酸ェチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシゥ厶で乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 8.8 gのメチル 2、 4ージクロロー 3— (3—メチルー 1 , 2—ィソォキサゾ一ル一 5—ィル）ベンゾエートを得た。収率 54. 5%

mp. 84 - 89 °C

得られたメチル 2、 4ージクロロー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエート 2.0g CO.0069モル）を 21 m 1のェチルアルコールに溶解し 1規定の苛性ソーダ水溶液 21 m 1を加え室温で一夜撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ濃塩酸で酸性にして、析出した結晶を濾過して、水洗浄し、乾燥して 1.86 gの 2、 4—ジクロロー 3— (3—メチル— 1、 2 ーォキサゾールー 5—ィル）ベンゾイツクァシッドを得た。収率 97. 9% mp. 154— 156°C 参考例 4

2—クロ口一 4一メタンスゾホニル一 3— （3_メチルー 1、 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾイツクァシッドの製造

BsCOzC

メチル 2、 4—ジクロロー 3— (3—メチルー 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾエー卜 8. 8 g ( 0.030モル）と炭酸力リウム 4.2 g ( 0.030モル）を 20m 1のジメチルホルムアミドに溶解し、メタンチオール 1. 9 g ( 0.038モル）、ジメチルホルムアミド 1 0m lの溶液を加え、室温で一夜携拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、詐酸ェチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 7. 49 gのメチル 2—クロロー 3— ( 3—メチル一 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）一 4ーメチルチオべンゾェートを得た。収率 82%

得られたメチル 2—クロ口一 3— (3—メチル—し 2—イソォキサゾール一 5—ィル） — 4ーメチルチオべンゾエー卜 7. 49 g ( 0. 025モル）を、 30mlのクロ口ホルムに溶解し m—クロ口過安息香酸 1 3 g (0. 074モル ) を加え室温で 3時間撹拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を 1規定の苛性フーダ水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を'减圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 8. 19 gのメチル 3— (3—メチルー 1. 2—イソォキサゾールー 5—ィル）一 2—クロロ一 4一メタンスルホニルベ-ンゾエートを得た。

収率 99 % mp. 1 38— 1 3 9 °C

得られたメチル 2—クロロー 4—メタンスルホ二ルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエート 8. 1 9 g ( 0. 0 2 4モル ) を 7 5m 1のエチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 75m l を加えて室温で一夜撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ濃塩酸で酸性にして、析出した結晶を濂過、水洗、乾燥後目的物 7. 49 gを白色結晶として得た。収率 9 6% mp. 225 - 2 2 8 °C 参考例 5

メチル 3—ァセチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一卜の製造

メチル 1、 4 -ジクロロー 3—ホルミルべンゾエー卜 2. 47 gを乾燥 THF

2 Om lに溶解し、 — Ί 0°Cでメチルマグネシウムブロミドージェチルエーテル溶液（3. Omo 1/1 ) 4m 1をゆっくり滴下した。滴下終了後、冷浴をはずし、自然に昇温させながら 1時間擾拌した。反応混合物を氷水に空け、希塩酸で酸性とし、ジェチルエーテルで抽出した。有機展を、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して、メチル 2, 4ージクロロー

3 - ( 1—ヒドロキシェチル）ベンゾエートを油伏物質として 2. 4 2 g得た。次にメチル 2, 4—ジクロロー 3— ( 1—ヒドロキシェチル〉ベンゾェ一卜 2.

4 2 gをベンゼン 1 0m lに溶解し、二酸化マンガン 4 gを加え、 1時間加熱還流下攪拌した。さらに、二酸化マンガン 3 gを加え、 1時間加熱還流下援拌した。反応液を室温まで冷却し、不溶物を濂別した。赚は、溶媒を-减圧留去し、目的物メチル 3—ァセチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一卜を 1. 7 5 g得た。 n ²³1.5495 参考例 6

メチル 2, 4—ジクロロー 3— (2—ォキソプロピルべンゾエー卜の製造 2レ Hs

2， 4—ジクロロー 3—ホルミルベンゾエート 25.72 gをトルエン 1 00m

1に添加し、次いで二トロエタン 39.0 g、 n—プチルァミン 1.5 gを添加後、還流下 21時間反応させた。反応液は、氷水に空け、酢酸ェチルで抽出後 1規定塩酸、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して

、メチル 2, 4—ジクロロー 3— （ 2—二トロ一 1一プロぺニル）ベンゾエー卜 34. 9 gを得た。このものを精製することなく 30. l gをトルエン 1 20 m 1と水 360 m 1の混合溶媒に添加し、次いで鉄粉 20. 8 gおよび塩化第二鉄 0. 4 gを加えた後、 80°Cで濃塩酸 104 gを滴下した。滴下終了後、還流下に 1時間反応させた。反応液は、冷却後酢酸ェチルを添加し、不溶物を據別した

。得られた有機層は、水洗、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した

。溶媒を減圧濃縮した後、残留物をシリ力ゲルクロマトグラフィ一で精製して、メチル 2, 4—ジクロロー 3— （2—ォキソプロピル）ベンゾエー卜 1 9. 5

3 gを得た。 ₂₂

n 1.5537

参考例 7

メチル 2, 4—ジクロロー - 3— （2—ジメチルアミノメチリデンー 1ーォキソプロピル）ベンゾェ一トの製造

)₂

メチルマロン酸ジメチルエステル 1 3. 3 2 gをトルエン 1 50m lに溶解し、マグネシウムェチラー卜 1 0. 4 3 gを加えて、 2時間加熱還流させた。反応液を冷却後、減圧下に濃縮し、得られた残留物をトルエン 2 0 0 m lに溶解させた。この中に、 3—メ卜キシカルボニル一 2, 6—ジクロ口べンゾイルクロリド 2 4. 4 0 gを加え、室温で時間、さらに 4. 5時間加熱還流した。反応液を氷水にあけ、濃塩酸で全体を酸性とし、有機層を分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して、メチル

2. 4—ジクロロー 3— （2, 2) —ジメ卜キシカルボ二ルー 1一ォキソプロピル）ベンゾエート 34. 3 を得た。

このものを水 4 0m l と濃硫酸 8m 1から調製した希硫酸と酢酸 6 3 m 1中加えて、 1 2. 5時間加熱還流した。反応液を氷水中にあけ、鲊酸ェチルで抽出し、水、次いで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、一部副生したカルボン酸を DMF中、炭酸カリウム存在下にヨウ化メチルで常法に従いエステル化を行い、粗製のメチル 2, 4—ジクロロー 3 - (1一ォキソプロピル）ベンゾェ一ト 1 9. 3 1 gを得た。

このものの 1 4. 2 98を1^, N—ジメチルホルムアミドジメチルァセタール 6 0m lに添加し、 23. 5時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷後、減圧濩縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、目的とするメチル 2, 4—ジクロロー 3- (2 -ォキソ一 1—ジメチルアミノメチルデンプロピル）ベンゾエー卜 7. 75 gを得た。 mp. 1 2 7. 5 - 1 2 8 °C 参考例 8

メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメチルイソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエー卜の製造

メチル 2, 4—ジクロロー 3— (2—ジメチルアミノメチリデン一 1ーォキソプロピル）ベンゾエー卜 7. 5 7 gをジォキサン 3 Om 1 と水 1 6m 1に溶解し、塩酸ヒドロキシルァミン 1. 7 0 gを添加し、室温で 1 7時間搜拌した。減圧下に溶媒を留去後、得られた残留物を酢酸ェチルに溶解し、飽和食塩水で洗浄してから、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、得られた粗ォキシム体をトルエン 3 Om lに溶解し、 0. 5 gの p— トルエンスルホン酸を添加後、加熱還流下 14. 5時間撹拌した。反応液を冷却後、水洗、飽和食塩水洗浄を行い、硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を'减圧濃縮後、得られた残留分はシリ力ゲルク口マトグラフィ一で精製して、目的物メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメチルイソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾェ一ト 0. 8 3 gを得た。

¹ H-NMR (CDC 1 δ p pm) ： 1. 97 (3 H, s) , 3. 96 (3 H. s) , 7. 50 ( 1 Η, d) , 7. 89 ( 1 Η, d ) , 8. 27 ( 1 Η. s ) 参考例 9

2, 4ージクロロー 3— (4—メチルイソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾィックァシッドの製造

メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメチルイソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾエート 0. 83 gをジォキサン 2 Om lに溶解し、濃塩酸 5 m 1を添加後、加熱還流下に 15. 5時間攪拌した。冷却後ジォキサンを留去して、酢酸ェチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、目的物 2, 4— ジクロロ— 3— （4ーメチルイソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾィックァシッドを結晶として 0. 4 8 g得た。 mp. 2 4 8 - 252 °C

(参考例 1 0 )

メチル 4—メタンスルホレー 2—メチル一 3— （3—メチルー 1 , 2—ィソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾエー卜の製造

メチル 2, 3—ジメチルー 4一メタンスルホニルベンゾエー卜 1 0. 8 g ( 0. 0 4 5モル）を四塩化炭素 8 0 m 1に溶かし、 N—プロモスクシンィミド 8 . 3 g (0. 0 4 7モル）と過酸化ベンゾィル 0. 1 gを加え、加熱還流下 3時間拌した。放冷後、不溶物を攄别し、濂液を重亜硫酸水素ナ卜リゥム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、残留物をシリ力ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、結晶として、メチル 3—プロモメチル— 4—メタンスルホニル— 2—メチルベンゾェ一ト 6. 2 gを得た。収率 4 3. 4%

メタノール 2 0m lに、 2 8%ナトリウムメチラ一卜のメタノール溶液 2. 6 g C O . 0 1 4モル）を加え、室温で 2—二トロプロパン i . 3 g ( 0. 0 1 5 モル）を滴下した。次いで、メチル 3—プロモメニルー 4—メタンスルホニル一 2—メチルべンゾエー卜 4. 4 g (0. 0 1 4モル）を添加後、加熱還流下 1 時間撹拌した。放冷後、反応液に 1 N—塩酸 5 0m lを加え、酢酸ェチルで抽出した。酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を减圧下濃縮して、結晶として、 3. l gのメチル 3—ホルミル一 4一メタンスルホニル— 2—メチルベンゾエートを得た。収率 88%

3. 1 g (0. 0 1 2モル）のメチル 3—ホルミル一 4一メタンスルホニル - 2—メチルベンゾエー卜にベンゼン 30m lと次いで、 2—ォキソプロピリデントリフエニルホスホラン 3. 85 g (0. 012モル）を加え、加熱還流下 1 時間撹拌した。放冷後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下濃縮して得たメチル 4 —メタンスルホニル _ 3— （3—ォキソ一 1ーブテニル）一2—メチルベンゾェ —トをエタノール 1 0m 1とピリジン 10mlの溶媒に溶かし、塩酸ヒドロキシァミン 1. 1 g (0. 0 1 6モル）を加え、加熱還流下 1時間拢拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸ェチルで抽出し、酢酸ェチル層を 1 N -塩酸と飽和食塩水でそれぞれ洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られたメチル 4一メタンスルホニル一 3— ( 3—ヒドロキシィミノー 1一ブテニル）一 2—メチルベンゾェ一卜を、 THF 15m 1に溶解した中へ、重炭酸水素ナトリウム 1. 4 g (0. 0 1 7モル）の水 1 5m 1溶液を加え、次いでヨウ化カリウム 2. 5 g (0. 01 5モル）とヨウ素 1. l g (0. 05モル）を水 1 2m lに溶解した水溶液を加え、水を遮断して 3時間加熱還流した。反応混合物を氷水に注ぎ、亜硫酸水素ナ卜リウムを加えた後、酢酸ェチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 0. 84 g のメチル 4一メタンスルホニル— 2—メチル— 3— （ 3—メチルー 1 , 2—ィソォキサゾ一ルー 5—ィル）ベンゾエートを得た。収率 23%

Ή-NMR (CDC 1 δ p pm) ； 2. 36 (3 H, s ) , 2. 45 (3 H. s) , 2. 92 (3 Η, s) , 3. 98 (3 Η, s) , 6. 4 1 ( 1 Η, s ) . 8. 07 ( 1 Η, d) . 8. 1 6 ( 1 Η, d)

(参考例 1 1 )

メチル 4一メタンスルホ "^レー 2—メチルー 3— (3—メチルー 1 , 2—ィソォキサゾール— 5—ィル）ベンゾェ一トの製造

メチル 3—メトキシー 2—メチルー 4—メチルチオベンゾェ一卜 1 0 g (0 . 04 4モル）を 90m 1の塩化メチレンに溶解し、三臭化硼素 8. 4 m 1 (0 . 088モル）の塩化メチレン 9 0 m 1溶液に 5〜1 0°Cで滴下した。室温で 4 時間搅拌後、メタノール 5 0m lを氷冷下で滴下し、水、次いで飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシゥ厶で乾燥後、溶媒を減圧下留去し、メチル 3—ヒドロキシー 2—メチルー 4—メチルチオベンゾェ一ト 9. 2 gを得た。収率 9 8 %

メチル 3—ヒドロキシー 2—メチルー 4ーメチルチオべンゾエー卜 9. 2 g (0. 0 4 3モル）を酢酸 50m 1に溶解し、 30 %過酸化水素 1 4. 8 g (0 . 1 3 0モル）を加え、 8 0°Cで 3時間攬拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、析出した結晶を濾過し、水で洗浄後、乾燥して、メチル 3—ヒドロキシー 4—メ夕ンスルホニルー 2—メチルベンゾエート 8. 8 gを得た。収率 8 3%

メチル 3—ヒドロキシー 4一メタンスルホニルー 2—メチルベンゾエート 8 . 8 g ( 0. 0 3 6モル）を塩化メチレン 1 0 0m 1に溶解し、ピリジン 8. 3 g (0. 1 1モル）を加え、 0°Cに冷却後、無水トリフロロメタンスルホン酸 1 2. 2 g (0. 043モル）を加えた。室温で 1時間撹拌後、反応混合物を 1規定塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、メチル 4一メタンスルホ二ルー 2—メチル— 3— (トリフロロメタンスルホニル）ォキシベンゾエート 1 3. 5 gを得た。収率 99%

メチル 4一メタンスルホニル一 2—メチル一 3— （トリフロロメタンスルホニル）ォキシベンゾエート 1. 65 g (4. 4ミリモル）と 3—メチルー 5— ( トリプチルスタニル）イソォキサゾール 1, 97 g (5. 3ミリモル）をジォキサン 2 Om 1に溶解し、塩化リチウム 0. 58 g ( 1 4ミリモル）、テ卜ラキス一（トリフエニルホスフィン）一パラジウム一（0) 0. 1 g、 2， 6—ジ— t —ブチルー 4ーメチルーフエノール 0. 0 1 gを加え、オートクレープ中 1 40 °Cで 3時間撹拌した。放冷後、不溶物を濾別し、溶媒を減圧下留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、メチル 4一メタンスルホ二ルー 2— メチル—3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエート 0. 74 gを得た。収率 55% 参考例 1 2

4一メタンスルホ二ルー 2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾィックアンッドの製造

メチル 4—メタンスルホ二ルー 2—メチル一 3— （3—メチルー 1， 2—ィソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエート 3. 1 1 g (10. 1 ミリモル）を 3 Om 1のメチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 Om 1を加え、室温で、一夜撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性にして、析出した結晶を鎵過し、水で洗浄後、乾燥して 2. 85 gの 4一メタンスルホニル— 2—メチルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾイツクァシッドを得た。収率 9 6%。 mp. 24 2 - 2 4 4 °C 参考例 1 3

メチル 2—クロロー 4ーメ卜キシ— 3—メチルベンゾエー卜の製造

3—クロ□— o—クレゾール 13. 6 g (0. 095モル）を DMF 1 00m 1に溶解し、炭酸カリウム 14. 5 g (0. 1 05モル）とヨウ化メチル 17. 6 g (0. 1 2 4モル）を室温で加えた後、 80°Cで 2時間 ¾拌した。放冷後、不溶物を據 SIJ し、水に注加後、ェチルエーテルで抽出した。有機雇を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、 2—クロ口— 6—メ卜キシトルェン 1 4. 6 gを得た。収率 9 5. 4 %

2—クロロー 6—メトキシトルエン 14. 6 g (0. 0 9 3 3モル）に塩化メチレン 1 0 0m l と塩化アルミニウム 24. 9 g (0. 1 87モル）を加え、塩化ァセチル 14. 6 g (0. 1 8 7モル）を 1 5 °Cで滴下した。室温で 1時間攪拌後、 1 N— 塩酸中に注ぎ、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、 18. 1 gの 2—クロ口一 4ーメトキシー 3—メチルァセトフエノンを得た。収率 97. 7% 2—クロ口一 4—メ卜キシー 3—メチルァセトフエノン 18. 1 g (0.09 1 2 モル）をジォキサン 9 Om lに溶解し、 9%次亜塩素酸ナトリゥ厶水溶液 246 g (0.319モル）を室温で滴下した。滴下終了後室温でさらに 3時間攪拌した後、反応液に濃塩酸を加えて酸性とし、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥して、 2—クロ口一 4ーメ卜キシー 3—メチルべンゾィックァシッド 16.6 gを得た。収率 91. 2%

2—クロ口一 4ーメトキシー 3—メチルベンゾイツクァシッド 16.6 g (0. 0 832モル）をメタノール 1 50m 1に溶解し、濃硫酸 1.0 gを加え、 1 8時間加熱還流下攪拌した。溶媒を减圧留去して得た残留物をベンゼンに溶解して、 3 %重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残った結晶をメタノールで洗浄し、メチル 2—クロロー 4ーメトキシ— 3—メチルベンゾェ一ト 1 3. 5 gを得た。収率 76. 0%

Ή-NMR (CDC 1 . δ p pm)

2. 2 1 (3 H. s) , 3. 89 (3H， s) . 3. 92 (3 H, s) , 6. 78 (1 H. d) , 7. 72 ( 1 H, d)

参考例 1 4

2—クロ口一 4ーメトキシー^ー（3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾイツクァシッドの製造

メチル 2—クロロー 4ーメ卜キシー 3—メチルベンゾエー卜 5. 0 g (0. 0 2 5モル）を四塩化炭素 5 0 m 1に溶かし、 N—プロモスクシンイミド 4. 9 g (0. 0 2 8モル）と過酸化ベンゾィル 0 . 1 gを加え、加熱還流下 4時間攬拌した。放冷後、不溶物を據別し、濂液を重亜硫酸水素ナトリゥム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮し、粗結晶として、メチル 3 —ブロモメチルー 2—クロロー 4ーメ卜キシベンゾエー卜 7 . 5 gを得た。メタノール 4 O m 1 に、 2 8 %ナトリゥムメチラ一卜のメタノール溶液 5. 4 g を加え、室温で 2—二トロプロパン 2 . 5 gを滴下した。次いで、メチル 3— プロモメチルー 2 _クロ口— 4ーメトキシベンゾェ一ト 7 . 5 gを添加後、加熱還流下 1時間撹拌した。放冷後、反応液に 1 N—塩酸 1 0 0 m lを加え、酢酸ェチルで抽出した。酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下濃縮して、得られた結晶をェチルエーテルで洗浄し、結晶として、 3. 1 gのメチル 2—クロロー 3—ホルミル一 4—メトキシベンゾエー卜を得た。収率 54%。

3.08 g (0.01 35モル）のメチル 2 -クロロー 3—ホルミル一 4—メトキシベンゾエー卜にベンゼン 30m lと次いで、 2—ォキソプロピリデン卜リフェニルホスホラン 4.52 g (0.0142モル）を加え、加熱還流下 1時間援拌した。放冷後、不溶物を濂別し、溶媒を減圧下濃縮して得たメチル 2—クロロー 3 - (3—ォキソ一 1ーブテニル）一 4—メトキシベンゾェ一トをエタノール 2 5 m 1とピリジン 25mlの溶媒に溶かし、塩酸ヒドロキシァミン 3.3 g (0.0 47モル）を加え、加熱還流下 1時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸ェチルで抽出し、鲊酸ェチル層を 1 N -塩酸と飽和食塩水でそれぞれ洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、弒圧下溶媒を留去した。得られたメチル 2— クロロー 3— （3—ヒドロキシィミノー 1ーブテニル）一 4—メ卜キシベンゾェ一卜を、 THF 50m 1に溶角し、そこへ、重炭酸水素ナトリゥム 4. 1 g (0.0 4 9モル）の水 40 m 1溶液を加え、次いでヨウ化力リウム 7.4 g (0.045モル）とヨウ素 3.4 g (0.0 1 4モル）を水 35m 1に溶解した水溶液を加え、光を遮断して 3時間加熱還流した。反応混合物を氷水に注ぎ、亜硫酸水素ナトリゥムを加えた後、鲊酸ェチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシゥムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残留物をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィ一で精製し、メチル 2—クロ口一 4ーメ卜キシー 3— （3—メチル一 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾエー卜 2. 02 gを得た。収率 53. 5%

得られたメチル 2—クロロー 4ーメ卜キシ— 3— ( 3—メチルー 1 , 2—ィソォキサゾールー 5—ィル）ベンゾェ一卜 2.02 g (7.23ミリモル）を 2 Om 1のメチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 Omlを加え、室温で一夜擾拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、濃塩酸で酸性にして、析出した結晶を過し、水で洗浄後、乾燥して 2—クロ口— 4—メ卜キシー 3— (3—メチルー 1, 2—イソォキサゾール—5—ィル）ベンゾイツクアシッド 1. 87 gを得た。収率 97. 4%、 mp. 217 - 220 °C 本発明化合物は畑作条件で、土壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示し、メヒシバ、力ヤッ^グサ、ィチビ、ィヌビュ等の各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ、大豆、ヮタ等の作物に選択性を示す化合物も含まれている。

また、本発明化合物は、作物、観 »用植物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成長調節作用を示す化合物も含まれている。

また本発明化合物は、水田雑草のノビエ、タマガヤッリ、ォモダカ、ホ夕ルイ等の各種水田雑草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す化合物も含まれている。

更に本発明化合物は果樹園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。

本発明化合物には植物成長調節作用、殺菌活性、殺虫 ·殺ダニ活性を有するものも含まれる。

本発明除草剤は、本発明化合物の 1種又は 2種以上を有効成分として含有する。本発明化合物を実際に施用する際には他成分を加えず純粋な形で使用できるし、また農薬として使用する目的で一般の農薬のとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル等の形態で使用することもできる。添加剤および担体としては固型剤を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライ卜、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソ一ダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物が使用される。液体の剤型を目的とする場合は、ケロシン、キシレンおよびソルベントナフサ等の石油留分、シクロへキサン、シクロへキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルェチレン、メチルイソプチルケトン、鉱物油、植物油、水等を溶剤として使用する。これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要ならば界面活性剤を添加することもできる。

本発明除草剤における有効成分濃度は前述した製剤の形により種々の濃度に変化するものである力例えば、水和剤に於いては、 5〜9 0 %'、好ましくは 1 0

- 8 5 % :乳剤に於いては、 3 ~ 7 0 %、好ましくは 5〜 6 0 %：粒剤に於いては、 0 . 0 1〜5 0 %、好ましくは、 0 . 0 5 %〜4 0 %の'港度が用いられる。このようにして得られた水和剤、乳剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳阇液として、粒剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に土壌に散布処理もしくは混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当たっては 1ヘクタール当たり有効成分 0 . 1 g以上の適当量が施用される。

又、本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調整剤、肥料等と混合して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用することにより、使用薬量を減少させることが可能である。又、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相乗作用により一雇高い効果も期待できる。その場合、複数の公知除草剤との組合せも可能である。

本発明除草剤と混合使用するにふさわしい薬剤としては、ジフルフヱニカン、プロパニル等のァニリド系除草剤、ァラクロール、プレチラクロール等のクロ口ァセトァニリド系除草剤 2 , 4— D、 2 , 4一 D B等のァリールォキシアルカン酸系除草剤、ジクロホップーメチル、フエノキサプロップ一ェチル等のァリールォキシフヱノキシアルカン酸系除草剤、ジカンパ、ピリチォバック等のァリールカルボン酸系除草剤、イマザキン、イマゼタピル等のイミダゾリン系除草剤、ジゥロン、イソプロッロン等のウレァ系除草剤、クロルプロファム、フヱンメジフアム等のカーバメート系除草剤、チォベンカルプ、 E P T C等のチォカーバメ一ト系除草剤、卜リフルラリン、ペンジメタリン等のジニトロア二りン系除草剤、アシフルオルフエン、ホメサフェン等のジフエ二ルェ一テル系除草剤、ベンスルフロンーメチル、ニコスルフロン等のスルホニルゥレア系除草剤、メ卜リプジン、メタミト口ン等のトリアジンノン系除草剤、アトラジン、シァナジン等のトリァジン系除草剤、グリホサート、グリホシネートなどのリン酸系除草剤、パラ一卜、ジフェンゾコート等の 4級アンモニゥム塩系除草剤、フルミクロラック一べンチル、フルチァセットーメチル等の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、エトフメセ一卜、ォキサシアノン、キンク口ラック、クロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチォピル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタゾン、ベンフルセー卜、更に、セトキシジム、卜ラルコキシジム等のシクロへキサンジオン系の除草剤等が挙げられる。又、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃縮物を^ Dすることも出来る。

【実施例】

隱剤〕

次に、本発明除草剤に関する製剤例を若千示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。実施例 7 水和剤

本発明化合物 2 0部ホワイ卜カーボン 2 0部ケイソゥ土 5 2部アルキル硫酸ソーダ 8部以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分 2 0 %の水和剤を得た _c 実施例 8 乳剤

本発明化合物 2 0部キシレン 5 5部ジメチルホルムァミド 1 5部ポリォキシエチレンフヱニルエーテル 1 0部以上を混合、溶解して有効成分 2 0 %の乳剤を得た _c 実施例 9 粒剤

本発明化合物 5部タルク 4 0部クレー 3 8部ベン卜ナイト 1 0部アルキル硫酸ソーダ 7部以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径 0 . 5 - 1 0 m mの粒状に造粒して有効成分 5 %の粒剤を得た。【発明の効果】

次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示す。

除草効果は下記の調査基準に従つて調査し、殺草指数で表した。

調査基準

殺草率殺草指数

0% 0

20〜29% 2

40~49% 4

60〜69% 6

80〜89% 8

1 00% 1 0

また、 1、 3、 5、 7、 9の数値は、各々 0と 2、 2と 4、 4と 6、 6と 8、 8と 1 0の中間の値を示す。

(無処理区の地上部生草重 -処理区の地上部生草重）殺草率（％) - 1 00 無処理区の地上部生草重試験例 1 茎葉散布処理

200 cm² のポッ卜に土壌を充填し、表層にィチビ、ィチビ、ォナモミ、ァキノエノコログザ、ェンバク及びトウモロコシの各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。各植物が 5~25 cmの草丈に生育した時点で実施例 8に示した乳剤の水希釈液を有効成分が 63 g/h aになるように、 1000リットル/ h aの散布水量相当量で小型噴霧器にて茎葉部に散布した。 3週間後に作物薬害及び除草効果を前記調査基準に従って調査し、その結果を第 7表に示した。第 Ί 表

対照化合物： W096/26200号記載の化合物

産業上の利用の可能性：

以上説明したように、本発明化合物は優れた除草活性および作物選択性を有しており、本発明化合物を含有する組成物は除草剤として有用である。

Claims

請求の範囲

1. 一般式〔 I〕

R⁴ R³

[1〕

〔式中、 R¹ はハロゲン原子、 d- ₄ アルキル基、 ₄ アルコキシ基、ニトロ基、シァノ基、ハロアルキル基、 Ct- ₄ アルキルチオ基、 d-₄ アルキルスルフィニル基または d アルキルスルホ二ル基を表す。

R² はハロゲン原子、ニトロ基、シァノ基、 C,-_e アルキル基、 C, アルコキシ基、 _β ハロアルキル基、 d- ハロアルコキシ基、 C,- アルキルチオ基、 d アルキルスルフィニル基または d アルキルスルホ二ル基を表す。

R³ 、 R は、それぞれ独立して水素原子、 « アルキル基または C,-^ ハ口アルキル基を表す。

Tは、〔II〕

〔II〕

(R⁵ 、 R⁶ 、 R⁷ 、 R⁸ 、 R^e および R】⁰は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、 C>— ₆ アルキル基、 d— _e ハロアルキル基、じぃ₆ アルコキシ基、 Cl ハロアルコキシ基、 Ci-₆ アルキルチオ基、 d アルキルスルフィニル基、 ₆ アルキルスルホニル基、匱換されていてもよいフヱニル基、（ト₆ ァルキルチオ C アルキル基、 _β アルキルスルフィニル Cト《；アルキル基、 C,_₆ アルキルスルホ二ル(：ト ₆ アルキル基、置換されていてもよいフヱニルチォじ！—(！アルキル基、 S換されていてもよいフヱニルスルフィニル C,-₆ アルキル基、置換されていてもよいフ―ェニルスルホニル C,—₆ アルキル基、 C,-₆ アルコキシアルキル基、置換されていてもよいフエ二ル！-₆ アルキルォキシ Cl-β アルキル基、 β アルキルカルボニルォキシアルキル基、ヒドロキシ Ci-S アルキル基、ジ C,- ₆ アルコキシ C, -S アルキル基、 Ci-S アルコキシカルボニル基、シァノ基、ホルミル基、ヒドロキシィミノ C , -s アルキル基、 Cl-e アルコキシィミノアルキル基、 C₂- ₄ アルケニルォキシィミノ C,- e アルキル基、 C₂-₄ アルキニルォキシィミノ C>-_e アルキル基、 d-e ハロアルコキシィミノ Ci-₆ アルキル基、 C₂-4 ハロアルケニルォキシィミノ d-6 了ルキル基または C₂-₄ ハロアルキニルォキシィミノ d-e アルキル基を表す。また、（R⁵ 若しくは R⁶ ) と（R⁷ 若しくは R^e ) 、 (R⁷ 若しくは R⁸ ) と（ R^e 若しくは R¹⁰) は、それぞれ一緒になって、メチレン又は C₂— ₅ のアルキレン鎖を形成していてもよい。）で表されるシクロへキサンジオン— 1 , 3—ジォン環基を表す。〕

で表されるへテ口環で匱換されたベンゼン誘導体またはその塩。

2. 丁が、以下に示す群から選ばれる一種の基である請求項 1に記載の化合物。

3. 式〔I〕

r

〔I〕

(式中、 R' 、 R² 、 R³ 、 R⁴ は、前記と同じ意味を表し、 Tは、〔II〕

〔II〕

(式中、 R⁵ 、 R⁶ 、 R⁷ 、 R⁸ 、 R⁹ 、 R^1Qは、前記と同じ意味を表す。 ) で表される化合物もしくはその塩の 1種または 2種以上を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。