JPH11193259A - 新規なフェニル基で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤 - Google Patents
新規なフェニル基で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤Info
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- JPH11193259A JPH11193259A JP11022598A JP11022598A JPH11193259A JP H11193259 A JPH11193259 A JP H11193259A JP 11022598 A JP11022598 A JP 11022598A JP 11022598 A JP11022598 A JP 11022598A JP H11193259 A JPH11193259 A JP H11193259A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
- C07C205/45—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by at least one doubly—bound oxygen atom, not being part of a —CHO group
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は工業的に有利に合成でき、より低い薬
量で効果の確実な安全性の高い、作物との選択性に優れ
た、新規な除草剤を提供することである。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ1 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 アル
コキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 アルキルチオ等
を、Ｒ2 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 アルコキ
シ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ハロアルコキシ，Ｃ
1-4 アルキルチオ等を、Ｒ3 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキ
ル，Ｃ1-4 アルコキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ア
ルキルチオ等を、ｎは０，１，２を、Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ
6 ，Ｒ7 ，Ｒ8およびＲ9 はそれぞれ独立して水素、ハ
ロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4
アルコキシ等を表し、Ｒ10はハロゲン，Ｃ1-4 アルキ
ル，Ｃ1-4アルコキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ア
ルキルチオ，Ｃ1-4 アルコキシカルボニル等を、ｌは
０，１，２，３，４，５を表す。）で表されるフェニル
基で置換されたベンゼン誘導体またはその塩により解決
できる。
量で効果の確実な安全性の高い、作物との選択性に優れ
た、新規な除草剤を提供することである。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ1 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 アル
コキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 アルキルチオ等
を、Ｒ2 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 アルコキ
シ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ハロアルコキシ，Ｃ
1-4 アルキルチオ等を、Ｒ3 はハロゲン，Ｃ1-4 アルキ
ル，Ｃ1-4 アルコキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ア
ルキルチオ等を、ｎは０，１，２を、Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ
6 ，Ｒ7 ，Ｒ8およびＲ9 はそれぞれ独立して水素、ハ
ロゲン，Ｃ1-4 アルキル，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4
アルコキシ等を表し、Ｒ10はハロゲン，Ｃ1-4 アルキ
ル，Ｃ1-4アルコキシ，Ｃ1-4 ハロアルキル，Ｃ1-4 ア
ルキルチオ，Ｃ1-4 アルコキシカルボニル等を、ｌは
０，１，２，３，４，５を表す。）で表されるフェニル
基で置換されたベンゼン誘導体またはその塩により解決
できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な、フェニル基
で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤に関する。
で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に有利に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全
性の高い、作物との選択性の良い除草剤を提供すること
である。
的に有利に合成でき、より低い薬量で効果の確実な安全
性の高い、作物との選択性の良い除草剤を提供すること
である。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ〕
【０００４】
【化３】
【０００５】〔式中、Ｒ1 は、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ
1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4 アルキルスルホ
ニル基を表す。Ｒ2 は、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基、
Ｃ1-4アルキルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基
又はＣ1-4 アルキルスルホニル基を表す。Ｒ3 は、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ
1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アル
キルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4
アルキルスルホニル基を表す。ｎは０，１，２を表す。
ｎが２のとき、Ｒ3 は同一でも相異なっていてもよい。
基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ
1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4 アルキルスルホ
ニル基を表す。Ｒ2 は、水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基、
Ｃ1-4アルキルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基
又はＣ1-4 アルキルスルホニル基を表す。Ｒ3 は、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ
1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アル
キルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4
アルキルスルホニル基を表す。ｎは０，１，２を表す。
ｎが２のとき、Ｒ3 は同一でも相異なっていてもよい。
【０００６】Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 およびＲ9
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、ホルミル基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 ハロアル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ
基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニ
ル基、Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、Ｃ1-4 アルキルチ
オＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニルＣ
1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルキルスルホニルＣ1-4 アル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 ア
ルキルカルボニルオキシＣ1-4 アルキル基、ヒドロキシ
Ｃ1-4 アルキル基、ジ（Ｃ1-4 アルコキシ）Ｃ1-4 アル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、ヒドロキシイ
ミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシイミノＣ1-4
アルキル基、Ｃ2-4 アルケニルオキシイミノＣ1-4 アル
キル基、Ｃ2-4 アルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル
基、Ｃ1-4 ハロアルコキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ
2-4 ハロアルケニルオキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ
2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル基、置
換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよい
フェニルチオＣ1-4 アルキル基，置換基を有してもよい
フェニルスルフィニルＣ1-4 アルキル基、置換基を有し
てもよいフェニルスルホニルＣ1-4 アルキル基又は置換
基を有してもよいフェニルＣ1-4 アルキルオキシＣ1-4
アルキル基を表す。また、（Ｒ4 とＲ5 ）、（Ｒ6 とＲ
7 ）または（Ｒ8 とＲ9 ）はそれぞれ一緒になってオキ
ソまたはＣ1-5 のアルキレン鎖を形成していてもよく、
さらに（4若しくはＲ5 ）と（Ｒ6 若しくはＲ7 ）、又
は（Ｒ6 若しくはＲ7 ）と（Ｒ8 若しくはＲ9 ）はそれ
ぞれ一緒になって、Ｃ1-5 のアルキレン鎖を形成しても
よい。Ｒ10は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ
1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1-4 アルキ
ルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基、Ｃ1-4 アル
キルスルホニル基、Ｃ1-4 アルキル基で置換されていて
もよいアミド基を表す。ｌは０，１，２，３，４，５を
表す。ｌが２以上の場合は、Ｒ10は同一でも相異なって
いてもよい。〕で表されるフェニル基で置換されたベン
ゼン誘導体またはその塩、およびそれらの１種または２
種以上を有効成分として含有する除草剤である。
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、ホルミル基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 ハロアル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ
基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニ
ル基、Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、Ｃ1-4 アルキルチ
オＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニルＣ
1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルキルスルホニルＣ1-4 アル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 ア
ルキルカルボニルオキシＣ1-4 アルキル基、ヒドロキシ
Ｃ1-4 アルキル基、ジ（Ｃ1-4 アルコキシ）Ｃ1-4 アル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、ヒドロキシイ
ミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシイミノＣ1-4
アルキル基、Ｃ2-4 アルケニルオキシイミノＣ1-4 アル
キル基、Ｃ2-4 アルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル
基、Ｃ1-4 ハロアルコキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ
2-4 ハロアルケニルオキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ
2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル基、置
換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよい
フェニルチオＣ1-4 アルキル基，置換基を有してもよい
フェニルスルフィニルＣ1-4 アルキル基、置換基を有し
てもよいフェニルスルホニルＣ1-4 アルキル基又は置換
基を有してもよいフェニルＣ1-4 アルキルオキシＣ1-4
アルキル基を表す。また、（Ｒ4 とＲ5 ）、（Ｒ6 とＲ
7 ）または（Ｒ8 とＲ9 ）はそれぞれ一緒になってオキ
ソまたはＣ1-5 のアルキレン鎖を形成していてもよく、
さらに（4若しくはＲ5 ）と（Ｒ6 若しくはＲ7 ）、又
は（Ｒ6 若しくはＲ7 ）と（Ｒ8 若しくはＲ9 ）はそれ
ぞれ一緒になって、Ｃ1-5 のアルキレン鎖を形成しても
よい。Ｒ10は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ
1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアル
キル基、Ｃ1-4 アルコキシカルボニル基、Ｃ1-4 アルキ
ルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基、Ｃ1-4 アル
キルスルホニル基、Ｃ1-4 アルキル基で置換されていて
もよいアミド基を表す。ｌは０，１，２，３，４，５を
表す。ｌが２以上の場合は、Ｒ10は同一でも相異なって
いてもよい。〕で表されるフェニル基で置換されたベン
ゼン誘導体またはその塩、およびそれらの１種または２
種以上を有効成分として含有する除草剤である。
【０００７】本発明において、置換されていてもよいフ
ェニル，置換されていてもよいフェニルチオＣ1-4 アル
キル，置換されていてもよいフェニルスルフィニルＣ
1-4 アルキル，置換されていてもよいフェニルスルホニ
ルＣ1-4 アルキルおよび置換されていてもよいフェニル
Ｃ1-4 アルキルオキシＣ1-4 アルキル等の置換基として
は、塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル等のＣ1-4 アルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等
のＣ1-4 アルコキシ基、トリフルオロメチル、２，２，
２−トリフルオロエチル、トリクロロメチル、クロロメ
チル等のＣ1-4 ハロアルキル基、トリフルオロメトキシ
等のＣ1-4 ハロアルコキシ基等が挙げられる。
ェニル，置換されていてもよいフェニルチオＣ1-4 アル
キル，置換されていてもよいフェニルスルフィニルＣ
1-4 アルキル，置換されていてもよいフェニルスルホニ
ルＣ1-4 アルキルおよび置換されていてもよいフェニル
Ｃ1-4 アルキルオキシＣ1-4 アルキル等の置換基として
は、塩素、フッ素、臭素等のハロゲン原子、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル等のＣ1-4 アルキル基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ基等
のＣ1-4 アルコキシ基、トリフルオロメチル、２，２，
２−トリフルオロエチル、トリクロロメチル、クロロメ
チル等のＣ1-4 ハロアルキル基、トリフルオロメトキシ
等のＣ1-4 ハロアルコキシ基等が挙げられる。
【０００８】また、本発明において、Ｃ2-4 アルケニル
オキシイミノＣ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 アルケニ
ルとしては、ビニル，１−プロペニル，クロチル，アリ
ル，ブタジエニル基等が挙げられ、Ｃ2-4 アルキニルオ
キシイミノＣ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 アルキニル
としては、エチニル，１−プロピニル，２−プロピニル
基等が挙げられる。Ｃ2-4 ハロアルケニルオキシイミノ
Ｃ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 ハロアルケニル基とし
ては、１−クロロビニル，２−クロロビニル，２，２−
ジフルオロビニル、３−クロロアリル，３，３−ジクロ
ロアリル，２−クロロアリル，２−クロロクロチル基等
が、Ｃ2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル
基におけるＣ2-4 ハロアルキニル基としては、２−クロ
ロエチニル，２−ブロモエチニル，３−クロロ−２−プ
ロピニル，３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル
基等を挙げることができる。
オキシイミノＣ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 アルケニ
ルとしては、ビニル，１−プロペニル，クロチル，アリ
ル，ブタジエニル基等が挙げられ、Ｃ2-4 アルキニルオ
キシイミノＣ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 アルキニル
としては、エチニル，１−プロピニル，２−プロピニル
基等が挙げられる。Ｃ2-4 ハロアルケニルオキシイミノ
Ｃ1-4 アルキル基におけるＣ2-4 ハロアルケニル基とし
ては、１−クロロビニル，２−クロロビニル，２，２−
ジフルオロビニル、３−クロロアリル，３，３−ジクロ
ロアリル，２−クロロアリル，２−クロロクロチル基等
が、Ｃ2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ1-4 アルキル
基におけるＣ2-4 ハロアルキニル基としては、２−クロ
ロエチニル，２−ブロモエチニル，３−クロロ−２−プ
ロピニル，３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル
基等を挙げることができる。
【０００９】本発明において、ハロゲン原子としては、
フッ素，塩素，臭素等が挙げられる。Ｃ1-4 アルキル基
としては、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，
ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル基等が挙げられ、Ｃ
1-4 アルコキシ基としては、メトキシ，エトキシ，プロ
ポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシ基
等、Ｃ1-4 ハロアルキル基としては、フルオロメチル，
１−フルオロエチル．２−フルオロエチル，ジフルオロ
メチル，トリフルオロメチル，ジフルオロクロロメチ
ル，フルオロクロロメチル，トリクロロメチル，トリブ
ロモメチル，トルフルオロエチル，ペンタフルオロエチ
ル基等が、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基としては、トリフル
オロメトキシ，１，１，２，２−テトラフルオロエトキ
シ，トリクロロメトキシ，ジフルオロメトキシ基等が挙
げられる。また、Ｃ1-5 アルキレン基としては、メチレ
ン、エチレン、プロピレン基等を挙げることができる。
フッ素，塩素，臭素等が挙げられる。Ｃ1-4 アルキル基
としては、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，
ブチル，イソブチル，ｔ−ブチル基等が挙げられ、Ｃ
1-4 アルコキシ基としては、メトキシ，エトキシ，プロ
ポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシ基
等、Ｃ1-4 ハロアルキル基としては、フルオロメチル，
１−フルオロエチル．２−フルオロエチル，ジフルオロ
メチル，トリフルオロメチル，ジフルオロクロロメチ
ル，フルオロクロロメチル，トリクロロメチル，トリブ
ロモメチル，トルフルオロエチル，ペンタフルオロエチ
ル基等が、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基としては、トリフル
オロメトキシ，１，１，２，２−テトラフルオロエトキ
シ，トリクロロメトキシ，ジフルオロメトキシ基等が挙
げられる。また、Ｃ1-5 アルキレン基としては、メチレ
ン、エチレン、プロピレン基等を挙げることができる。
【００１０】
【００１１】本発明化合物に類似の２−ベンゾイルシク
ロヘキサン−１，３−ジオン化合物が除草活性を有する
ことは、特開平３−２５５０４７号公報、特開平６−２
７１５６２号公報、ＷＯ９４／０４５２４号等に記載さ
れている。また、ＷＯ９６／２６２００号公報には、２
−（３−ヘテロイルベンゾイル）シクロヘキサン−１，
３−ジオン化合物が除草活性を有する旨の記載がある。
しかしながら、ベンゾイル基の３位にフェニル基が置換
した化合物は知られていない。
ロヘキサン−１，３−ジオン化合物が除草活性を有する
ことは、特開平３−２５５０４７号公報、特開平６−２
７１５６２号公報、ＷＯ９４／０４５２４号等に記載さ
れている。また、ＷＯ９６／２６２００号公報には、２
−（３−ヘテロイルベンゾイル）シクロヘキサン−１，
３−ジオン化合物が除草活性を有する旨の記載がある。
しかしながら、ベンゾイル基の３位にフェニル基が置換
した化合物は知られていない。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明化合物は、次の方法によっ
て製造することができる。 製造法（ｉ）
て製造することができる。 製造法（ｉ）
【００１３】
【化４】
【００１４】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｌおよびｎは、前記と
同じ意味を有し、Ｑは、ハロゲン原子、アルキルカルボ
ニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基又はベン
ゾイルオキシ基を表す。）
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｌおよびｎは、前記と
同じ意味を有し、Ｑは、ハロゲン原子、アルキルカルボ
ニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基又はベン
ゾイルオキシ基を表す。）
【００１５】工程において、化合物〔ＩＶａ〕および
〔ＩＶｂ〕は、化合物〔ＩＩ〕と化合物［Ｖa ］とを各
々１モルずつあるいは一方を過剰に用い、１モルないし
過剰の塩基の存在下に反応させることによって得られ
る。用いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリ
金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属
水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、トリ（Ｃ1-6 アル
キル）アミン、ピリジン、燐酸ナトリウム等であり、溶
媒としては、水, 塩化メチレン, クロロホルム，トルエ
ン，酢酸エチル，ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ），テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ），ジメトキシエタン，アセ
トニトリル等が用いられる。反応混合物は反応が完了す
るまで０℃から用いる溶媒の沸点で攪拌される。また、
四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二相系
で反応させることによっても得られる。化合物〔ＩＶ
ａ〕および〔ＩＶｂ〕は、化合物〔ＩＩ〕と化合物［Ｖ
ｂ］化合物とをジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）と反応させることによっても得られる。ＤＣＣとの
反応において用いられる溶媒としては、塩化メチレン，
クロロホルム，トルエン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨ
Ｆ，ジメトキシエタン，アセトニトリル等が用いられ
る。反応混合物は反応が完了するまで−１０℃から用い
る溶媒の沸点で攪拌される。反応混合物は常法によって
処理される。
〔ＩＶｂ〕は、化合物〔ＩＩ〕と化合物［Ｖa ］とを各
々１モルずつあるいは一方を過剰に用い、１モルないし
過剰の塩基の存在下に反応させることによって得られ
る。用いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリ
金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属
水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩、トリ（Ｃ1-6 アル
キル）アミン、ピリジン、燐酸ナトリウム等であり、溶
媒としては、水, 塩化メチレン, クロロホルム，トルエ
ン，酢酸エチル，ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ），テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ），ジメトキシエタン，アセ
トニトリル等が用いられる。反応混合物は反応が完了す
るまで０℃から用いる溶媒の沸点で攪拌される。また、
四級アンモニウム塩等の相間移動触媒を用いて、二相系
で反応させることによっても得られる。化合物〔ＩＶ
ａ〕および〔ＩＶｂ〕は、化合物〔ＩＩ〕と化合物［Ｖ
ｂ］化合物とをジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣ
Ｃ）と反応させることによっても得られる。ＤＣＣとの
反応において用いられる溶媒としては、塩化メチレン，
クロロホルム，トルエン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨ
Ｆ，ジメトキシエタン，アセトニトリル等が用いられ
る。反応混合物は反応が完了するまで−１０℃から用い
る溶媒の沸点で攪拌される。反応混合物は常法によって
処理される。
【００１６】転位反応はシアン化合物および穏和な塩基
の存在下で行われる。例えば、１モルの化合物化合物
〔ＩＶａ〕および〔ＩＶｂ〕を１〜４モルの塩基、好ま
しくは１〜２モルの塩基および0.０１〜0.５モル以上、
好ましくは、0.０５〜0.２モルのシアン化合物と反応さ
せる。ここで用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用
いられ得る。また、シアン化合物としてはシアン化カリ
ウム，シアン化ナトリウム，アセトンシアンヒドリン，
シアン化水素，シアン化カリウムを保持したポリマ−等
が用いられる。なお、少量のクラウンエ−テル等の相間
移動触媒を加えることにより、反応がより短い時間で完
結する。反応温度は８０℃より低い温度、好ましくは２
０〜４０℃で行われる。用いられる溶媒は、１，２−ジ
クロロエタン，塩化メチレン，クロロホルム，トルエ
ン，アセトニトリル，酢酸エチル，ＤＭＦ，メチルイソ
ブチルケトン，ＴＨＦ，ジメトキシエタン（ＤＭＥ）等
である。
の存在下で行われる。例えば、１モルの化合物化合物
〔ＩＶａ〕および〔ＩＶｂ〕を１〜４モルの塩基、好ま
しくは１〜２モルの塩基および0.０１〜0.５モル以上、
好ましくは、0.０５〜0.２モルのシアン化合物と反応さ
せる。ここで用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用
いられ得る。また、シアン化合物としてはシアン化カリ
ウム，シアン化ナトリウム，アセトンシアンヒドリン，
シアン化水素，シアン化カリウムを保持したポリマ−等
が用いられる。なお、少量のクラウンエ−テル等の相間
移動触媒を加えることにより、反応がより短い時間で完
結する。反応温度は８０℃より低い温度、好ましくは２
０〜４０℃で行われる。用いられる溶媒は、１，２−ジ
クロロエタン，塩化メチレン，クロロホルム，トルエ
ン，アセトニトリル，酢酸エチル，ＤＭＦ，メチルイソ
ブチルケトン，ＴＨＦ，ジメトキシエタン（ＤＭＥ）等
である。
【００１７】また、化合物〔Ｉ〕は、化合物〔ＩＩ〕と
化合物［Ｖc ］を塩基および必要ならばルイス酸の存在
下で反応させることによっても得られる。用いられる塩
基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類金属の水酸化物、トリ（Ｃ1 6 アルキル）ア
ミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等で
ある。適当なルイス酸は、塩化亜鉛，三塩化アルミニウ
ム等であり、好ましくは塩化亜鉛である。反応は、アセ
トニトリル，塩化メチレン等の有機溶媒中において、−
２０℃から溶媒の沸点までの適度な温度で行われる。
化合物［Ｖc ］を塩基および必要ならばルイス酸の存在
下で反応させることによっても得られる。用いられる塩
基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類金属の水酸化物、トリ（Ｃ1 6 アルキル）ア
ミン、ピリジン、炭酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等で
ある。適当なルイス酸は、塩化亜鉛，三塩化アルミニウ
ム等であり、好ましくは塩化亜鉛である。反応は、アセ
トニトリル，塩化メチレン等の有機溶媒中において、−
２０℃から溶媒の沸点までの適度な温度で行われる。
【００１８】製造法（ｉｉ） また、上記のようにして製造した化合物〔Ｉａ〕を用い
て以下の方法により、シクロヘキサン環上の置換基を変
換した目的とする化合物〔Ｉｂ〕および〔Ｉｃ〕を製造
することもできる。
て以下の方法により、シクロヘキサン環上の置換基を変
換した目的とする化合物〔Ｉｂ〕および〔Ｉｃ〕を製造
することもできる。
【００１９】
【化５】
【００２０】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。）
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。）
【００２１】すなわち、化合物〔Ｉａ〕を溶媒中、フェ
ニルトリメチルアンモニウムトリブロミド，メルドラム
酸ジブロミド等のハロゲン化剤と０℃から溶媒の沸点ま
での適度な温度、好ましくは室温から５０℃で、数時間
から数１０時間反応させることによってハロゲン化され
たトリオン体〔Ｉｂ〕を製造することができる。用いら
れる溶媒としては、塩化メチレン，ベンゼン，酢酸エチ
ル，ＴＨＦ，アセトニトリル，ジメトキシエタン等であ
る。ハロゲン化されたトリオン体〔Ｉｂ〕は、塩基の存
在下、求核試剤との反応により目的とする化合物〔Ｉ
ｃ〕を製造することができる。
ニルトリメチルアンモニウムトリブロミド，メルドラム
酸ジブロミド等のハロゲン化剤と０℃から溶媒の沸点ま
での適度な温度、好ましくは室温から５０℃で、数時間
から数１０時間反応させることによってハロゲン化され
たトリオン体〔Ｉｂ〕を製造することができる。用いら
れる溶媒としては、塩化メチレン，ベンゼン，酢酸エチ
ル，ＴＨＦ，アセトニトリル，ジメトキシエタン等であ
る。ハロゲン化されたトリオン体〔Ｉｂ〕は、塩基の存
在下、求核試剤との反応により目的とする化合物〔Ｉ
ｃ〕を製造することができる。
【００２２】製造法（ｉｉｉ）
【００２３】
【化６】
【００２４】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。Ｒ11は、低級の分岐していてもよいア
ルコキシ基、アラルキルオキシ基又はアセトキシ基を表
す。Ｚは、ハロゲン原子、アルキルスルホナート基およ
びアリールスルホナート基等の脱離基を表す。）
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。Ｒ11は、低級の分岐していてもよいア
ルコキシ基、アラルキルオキシ基又はアセトキシ基を表
す。Ｚは、ハロゲン原子、アルキルスルホナート基およ
びアリールスルホナート基等の脱離基を表す。）
【００２５】化合物〔Ｉｅ〕は、化合物〔Ｉｄ〕を、塩
酸，臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、トリフルオロ酢
酸、三臭化ホウ素等の反応、水素化分解あるいはアルカ
リ加水分解等により、また、必要に応じて次いで加水分
解を行うことによって製造することができる。
酸，臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、トリフルオロ酢
酸、三臭化ホウ素等の反応、水素化分解あるいはアルカ
リ加水分解等により、また、必要に応じて次いで加水分
解を行うことによって製造することができる。
【００２６】さらに化合物〔Ｉｅ〕は、通常の方法によ
りハロゲン化、アルキルスルホナート化あるいはアリー
ルスルホナート化することにより化合物〔Ｉｆ〕に導く
ことができる。この化合物〔Ｉｆ〕を溶媒中、等モル以
上の塩基の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｇ〕を製造するこ
とができる。用いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等の
アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、
トリ（Ｃ1-6 アルキル）アミン、ピリジン、１，８−ジ
アザ−ビシクロ［５．４．０］ウンデ−７−セン（ＤＢ
Ｕ）、ｔ−ＢｕＯＫ、トリトンＢ、炭酸ナトリウム、燐
酸ナトリウム等であり、溶媒としては、単独あるいは混
合して水，アルコール，塩化メチレン，ベンゼン，トル
エン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニ
トリル等が用いられる。
りハロゲン化、アルキルスルホナート化あるいはアリー
ルスルホナート化することにより化合物〔Ｉｆ〕に導く
ことができる。この化合物〔Ｉｆ〕を溶媒中、等モル以
上の塩基の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｇ〕を製造するこ
とができる。用いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等の
アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、
トリ（Ｃ1-6 アルキル）アミン、ピリジン、１，８−ジ
アザ−ビシクロ［５．４．０］ウンデ−７−セン（ＤＢ
Ｕ）、ｔ−ＢｕＯＫ、トリトンＢ、炭酸ナトリウム、燐
酸ナトリウム等であり、溶媒としては、単独あるいは混
合して水，アルコール，塩化メチレン，ベンゼン，トル
エン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニ
トリル等が用いられる。
【００２７】製造法（ｉｖ）
【００２８】
【化７】
【００２９】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。Ｒ12，Ｒ13は、低級アルキル基を表
し、Ｒ14は、水素原子，Ｃ1-4 アルキル基，Ｃ2-4 アル
ケニル基，Ｃ2-4 アルキニル基，Ｃ1-4 ハロアルキル
基，Ｃ2-4 ハロアルケニル基，Ｃ2-4 ハロアルキニル基
を表し、ｍは０または１を表す。）
Ｒ6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と
同じ意味を表す。Ｒ12，Ｒ13は、低級アルキル基を表
し、Ｒ14は、水素原子，Ｃ1-4 アルキル基，Ｃ2-4 アル
ケニル基，Ｃ2-4 アルキニル基，Ｃ1-4 ハロアルキル
基，Ｃ2-4 ハロアルケニル基，Ｃ2-4 ハロアルキニル基
を表し、ｍは０または１を表す。）
【００３０】化合物〔Ｉｈ〕は、化合物〔Ｉ〕から公知
の方法により製造することができる。次に化合物〔Ｉ
ｈ〕を溶媒中、等モル以上の式：Ｈ2 ＮＯＲ14で表され
る化合物の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｉ〕を製造するこ
とができる。なお、少量の硫酸等の酸触媒を加えること
により、反応がより短い時間で完結する。用いられる溶
媒としては、単独あるいは混合して水，アルコール，塩
化メチレン，ベンゼン，トルエン，酢酸エチル，ＤＭ
Ｆ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニトリル等である。
の方法により製造することができる。次に化合物〔Ｉ
ｈ〕を溶媒中、等モル以上の式：Ｈ2 ＮＯＲ14で表され
る化合物の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｉ〕を製造するこ
とができる。なお、少量の硫酸等の酸触媒を加えること
により、反応がより短い時間で完結する。用いられる溶
媒としては、単独あるいは混合して水，アルコール，塩
化メチレン，ベンゼン，トルエン，酢酸エチル，ＤＭ
Ｆ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニトリル等である。
【００３１】一般式〔ＩＩ〕で表される環状ジオン体
は、公知の方法に従って製造することができる。また、
上記の置換された安息香酸［Ｖa ］も公知の反応に記載
の方法）により製造することができる。
は、公知の方法に従って製造することができる。また、
上記の置換された安息香酸［Ｖa ］も公知の反応に記載
の方法）により製造することができる。
【００３２】本発明化合物の製造の重要な合成中間体で
ある化合物（１）は、以下に示す方法によって製造する
ことができる。
ある化合物（１）は、以下に示す方法によって製造する
ことができる。
【００３３】
【化８】
【００３４】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ10，ｎおよ
びｌは前記と同じ意味を表す。Ｒは低級アルキルを表
し、Ｘは、塩素原子，臭素原子．沃素原子又はＯＳＯ2
ＣＦ3 を表し、Ｙは、ＳｎＲ15 3 ，Ｂ（ＯＨ）2 ，Ｚｎ
Ｒ16，ＭｇＲ16等を表し、Ｒ15，Ｒ16は、それぞれ塩
素，臭素を表す。Ｒ17，Ｒ18，Ｒ19は、それぞれ水素原
子．低級アルキルを表し、Ｍは、カリウム，ナトリウ
ム，銅を表す。また、ｃａｔは、テトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウム、ジクロロビストリフェニルホ
スフィンパラジウム、塩化パラジウム等のＰｄ（０）ま
たはＮｉ（０）触媒を表す。）
びｌは前記と同じ意味を表す。Ｒは低級アルキルを表
し、Ｘは、塩素原子，臭素原子．沃素原子又はＯＳＯ2
ＣＦ3 を表し、Ｙは、ＳｎＲ15 3 ，Ｂ（ＯＨ）2 ，Ｚｎ
Ｒ16，ＭｇＲ16等を表し、Ｒ15，Ｒ16は、それぞれ塩
素，臭素を表す。Ｒ17，Ｒ18，Ｒ19は、それぞれ水素原
子．低級アルキルを表し、Ｍは、カリウム，ナトリウ
ム，銅を表す。また、ｃａｔは、テトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウム、ジクロロビストリフェニルホ
スフィンパラジウム、塩化パラジウム等のＰｄ（０）ま
たはＮｉ（０）触媒を表す。）
【００３５】これらの反応は、例えば、日本化学会編
「実験化学講座, ２５巻, 有機合成ＶＩＩ」３８９〜４
２７頁（１９９１年 丸善発行）に記載の方法に従って
行われる。
「実験化学講座, ２５巻, 有機合成ＶＩＩ」３８９〜４
２７頁（１９９１年 丸善発行）に記載の方法に従って
行われる。
【００３６】さらに式［Ｉ−１］で表される安息香酸類
は、式［Ｉ−２］で表される４─Ｃｌ体に、塩基の存在
下にＲ’ＳＨで表されるメルカプタンを作用させること
によって、式［Ｉ−３］で表される４−ＳＲ’体とした
のち、酸化することにより製造することができる。ＳＯ
2 Ｒ’が４位以外に置換している化合物も対応するクロ
ル体から同様にして製造することができる。
は、式［Ｉ−２］で表される４─Ｃｌ体に、塩基の存在
下にＲ’ＳＨで表されるメルカプタンを作用させること
によって、式［Ｉ−３］で表される４−ＳＲ’体とした
のち、酸化することにより製造することができる。ＳＯ
2 Ｒ’が４位以外に置換している化合物も対応するクロ
ル体から同様にして製造することができる。
【００３７】
【化９】
【００３８】（式中、Ｒ1 ，Ｒ10，Ｒおよびｌは前記と
同じ意味を表し、Ｒ’はＣ1-6 アルキル基を表す。）
同じ意味を表し、Ｒ’はＣ1-6 アルキル基を表す。）
【００３９】この反応に用いられる塩基としては、水酸
化ナトリウム，水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド，炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等の
炭酸塩、水素化ナトリウムなどの水素化物、トリエチル
アミン，ジイソプロピルエチルアミン，ＤＢＵ，ピリジ
ンなどの有機塩基を例示することができる。また、反応
に用いられる溶媒としては、メタノール，エタノールな
どのアルコール類、ＴＨＦ，１，２−ジメトキシエタン
（ＤＭＥ）などのエーテル類、ＤＭＦ，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセタミド（ＤＭＡ）などアミド類、ジメチルスルホ
キサイド（ＤＭＳＯ），アセトニトリル，ベンゼン，ト
ルエン，キシレン等を例示することことができる。次の
酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、ジクロロメタン，ク
ロロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等の不
活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，過安息香酸，ｍ−ク
ロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩素酸ナトリウム，次
亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸等の酸化剤を使用して
行われる。反応は、室温から溶媒の沸点までの温度範囲
で円滑に進行する。
化ナトリウム，水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド，炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等の
炭酸塩、水素化ナトリウムなどの水素化物、トリエチル
アミン，ジイソプロピルエチルアミン，ＤＢＵ，ピリジ
ンなどの有機塩基を例示することができる。また、反応
に用いられる溶媒としては、メタノール，エタノールな
どのアルコール類、ＴＨＦ，１，２−ジメトキシエタン
（ＤＭＥ）などのエーテル類、ＤＭＦ，Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセタミド（ＤＭＡ）などアミド類、ジメチルスルホ
キサイド（ＤＭＳＯ），アセトニトリル，ベンゼン，ト
ルエン，キシレン等を例示することことができる。次の
酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、ジクロロメタン，ク
ロロホルム，四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等の不
活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，過安息香酸，ｍ−ク
ロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩素酸ナトリウム，次
亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸等の酸化剤を使用して
行われる。反応は、室温から溶媒の沸点までの温度範囲
で円滑に進行する。
【００４０】また、化合物［Ｉ］から、その塩、特に農
園芸的に許容され得る塩、エナミンまたはその類似物，
アシレート，スルホネート，カルバメート，エーテル，
チオエーテル，スルホキシドまたはスルホン等を誘導し
得る。適当な農園芸的に許容され得る塩としてナトリウ
ム，カリウム，カルシウムおよびアンモニウム等の塩が
挙げられる。アンモニウム塩の例としては、式：Ｎ+ Ｒ
ａＲｂＲｃＲｄ（式中、Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄ
は、それぞれ独立して、水素および、場合によりヒドロ
キシ基等により置換されたＣ1-10アルキル基である）の
イオンとの塩が挙げられる。Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲ
ｄは、いずれかが、場合により置換されたアルキル基で
ある場合には、これらは１〜４個の炭素原子を含有して
いることが望ましい。適当なエナミンまたはその類似物
は、ＯＨ部分がそれぞれ、式：−ＮＲｅＲｆ（式中、Ｒ
ｅおよびＲｆは、それぞれ独立して、水素または、例え
ば炭素数が１〜６個の、場合により置換されたアルキル
基またはアリール基、例えばフェニル基である。）、ハ
ロゲン、Ｓ（Ｏ）ｇＲｈ（式中：Ｒｈは、例えば炭素数
が１〜６個の、場合により置換されたアルキル基または
アリール基、例えばフェニル基であり、ｇは０〜２を表
す。）に転化されている化合物である。適当なアシレー
ト，エーテルまたはカルバメート誘導体は、ＯＨ部分
が、それぞれ、式：−ＯＣＯＲｉ，−ＯＲｊまたは−Ｏ
ＣＯＮＲｋＲｌ（式中、ＲｉおよびＲｊは、前記のＲｈ
と同じ意味を表し、ＲｋおよびＲｌは、前記のＲｅと同
じ意味を表す。）に転化されている化合物である。これ
らの誘導体は、慣用の方法で製造することができる。
園芸的に許容され得る塩、エナミンまたはその類似物，
アシレート，スルホネート，カルバメート，エーテル，
チオエーテル，スルホキシドまたはスルホン等を誘導し
得る。適当な農園芸的に許容され得る塩としてナトリウ
ム，カリウム，カルシウムおよびアンモニウム等の塩が
挙げられる。アンモニウム塩の例としては、式：Ｎ+ Ｒ
ａＲｂＲｃＲｄ（式中、Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄ
は、それぞれ独立して、水素および、場合によりヒドロ
キシ基等により置換されたＣ1-10アルキル基である）の
イオンとの塩が挙げられる。Ｒａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲ
ｄは、いずれかが、場合により置換されたアルキル基で
ある場合には、これらは１〜４個の炭素原子を含有して
いることが望ましい。適当なエナミンまたはその類似物
は、ＯＨ部分がそれぞれ、式：−ＮＲｅＲｆ（式中、Ｒ
ｅおよびＲｆは、それぞれ独立して、水素または、例え
ば炭素数が１〜６個の、場合により置換されたアルキル
基またはアリール基、例えばフェニル基である。）、ハ
ロゲン、Ｓ（Ｏ）ｇＲｈ（式中：Ｒｈは、例えば炭素数
が１〜６個の、場合により置換されたアルキル基または
アリール基、例えばフェニル基であり、ｇは０〜２を表
す。）に転化されている化合物である。適当なアシレー
ト，エーテルまたはカルバメート誘導体は、ＯＨ部分
が、それぞれ、式：−ＯＣＯＲｉ，−ＯＲｊまたは−Ｏ
ＣＯＮＲｋＲｌ（式中、ＲｉおよびＲｊは、前記のＲｈ
と同じ意味を表し、ＲｋおよびＲｌは、前記のＲｅと同
じ意味を表す。）に転化されている化合物である。これ
らの誘導体は、慣用の方法で製造することができる。
【００４１】本発明化合物〔Ｉ〕には、光学活性体が存
在する場合もあり、さらに下記に示すような多数の互変
異性体の形で存在し得る。かかる形は、すべて本発明の
範囲に含まれる。
在する場合もあり、さらに下記に示すような多数の互変
異性体の形で存在し得る。かかる形は、すべて本発明の
範囲に含まれる。
【００４２】
【化１０】
【００４３】本発明において、反応終了後は、通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳ等から決定
した。
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳ等から決定
した。
【００４４】
【実施例】次に実施例、参考例を挙げて、本発明化合物
を更に詳細に説明する。
を更に詳細に説明する。
【００４５】実施例１
【００４６】２−（２−クロロ−４−メチルスルホニル
−３−フェニル）ベンゾイル−１，３−シクロヘキサン
ジオンの製造
−３−フェニル）ベンゾイル−１，３−シクロヘキサン
ジオンの製造
【００４７】
【化１１】
【００４８】ベンゼン２０ｍｌに、２−クロロ−４−メ
チルスルホニル−３−フェニル安息香酸０．８０ｇ、チ
オニルクロライド１．６ｇおよびピリジン１滴を加え、
１時間加熱還流した。ベンゼンを減圧留去した後、残渣
を塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、シクロヘキサン−
１，３−ジオン０．３５ｇを加えた後、冷却下にトリエ
チルアミン０．３１ｇを滴下した。室温で１時間攪拌し
た後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をアセトニ
トリル２０ｍｌに溶解し、アセトンシアンヒドリン０．
１０ｇおよびトリエチルアミン０．２６ｇを加えて、室
温で２０時間攪拌した。反応液に１Ｎ−水酸化ナトリウ
ム水溶液１５ｍｌと水１５ｍｌを加えて分液し、得られ
た水層を１Ｎ−塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にメタノール
２ｍｌを加え、析出した結晶をろ取して表記目的物０．
３３ｇを結晶として得た。融点 １９３−１９６℃ 上記実施例を含め、本発明化合物の代表例を第１表及び
第２表に示す。
チルスルホニル−３−フェニル安息香酸０．８０ｇ、チ
オニルクロライド１．６ｇおよびピリジン１滴を加え、
１時間加熱還流した。ベンゼンを減圧留去した後、残渣
を塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、シクロヘキサン−
１，３−ジオン０．３５ｇを加えた後、冷却下にトリエ
チルアミン０．３１ｇを滴下した。室温で１時間攪拌し
た後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をアセトニ
トリル２０ｍｌに溶解し、アセトンシアンヒドリン０．
１０ｇおよびトリエチルアミン０．２６ｇを加えて、室
温で２０時間攪拌した。反応液に１Ｎ−水酸化ナトリウ
ム水溶液１５ｍｌと水１５ｍｌを加えて分液し、得られ
た水層を１Ｎ−塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物にメタノール
２ｍｌを加え、析出した結晶をろ取して表記目的物０．
３３ｇを結晶として得た。融点 １９３−１９６℃ 上記実施例を含め、本発明化合物の代表例を第１表及び
第２表に示す。
【００４９】
【表１０１】
【００５０】
【表１０２】
【００５１】
【表１０３】
【００５２】
【表１０４】
【００５３】
【表１０５】
【００５４】
【表１０６】
【００５５】
【表１０７】
【００５６】
【表１０８】
【００５７】
【表１０９】
【００５８】
【表２０１】
【００５９】
【表２０２】
【００６０】
【表２０３】
【００６１】
【表２０４】
【００６２】
【表２０５】
【００６３】
【表２０６】
【００６４】次に、本発明化合物の重要な中間体である
安息香酸類の製造例を参考例として説明する。
安息香酸類の製造例を参考例として説明する。
【００６５】参考例１ メチル ４−メチルスルホニル−２−メチル−３−トリ
フルオロメチルスルホニルオキシベンゾエートの製造
フルオロメチルスルホニルオキシベンゾエートの製造
【００６６】
【化１２】
【００６７】メチル ３−ヒドロキシ−４−メチルスル
ホニル−２−メチルベンゾエート８．８ｇを塩化メチレ
ン１００ｍｌに溶解し、ピリジン８．３ｇを加えて、０
℃に冷却後、無水トリフルオロメタンスルホン酸１２．
２ｇを加えた。反応液を室温に戻し１時間攪拌した後、
反応混合物を１Ｎ−塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、表記化合物１３．５ｇを得た。融点 ７０−７１℃
ホニル−２−メチルベンゾエート８．８ｇを塩化メチレ
ン１００ｍｌに溶解し、ピリジン８．３ｇを加えて、０
℃に冷却後、無水トリフルオロメタンスルホン酸１２．
２ｇを加えた。反応液を室温に戻し１時間攪拌した後、
反応混合物を１Ｎ−塩酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
て、表記化合物１３．５ｇを得た。融点 ７０−７１℃
【００６８】参考例２ メチル ４−メチルスルホニル−２−メチル−３−フェ
ニルベンゾエートの製造
ニルベンゾエートの製造
【００６９】
【化１３】
【００７０】メチル ４−メチルスルホニル−２−メチ
ル−３−トリフルオロメチルスルホニルオキシベンゾエ
ート３．１０ｇ、フェニルトリブチルスズ３．６２ｇ、
塩化リチウム１．０５ｇ、テトラキストリフェニルホス
フィンパラジウム０．２０ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−ｐ−クレゾール０．０１ｇ及びジオキサン５０
０ｍｌを金属製オートクレーブに仕込み、１４０℃で４
時間加熱した。冷却後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルを加えて不溶物をろ別した。ろ液を酢酸エチルで抽出
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、結晶として表記化合物１．６０ｇ
を得た。融点 ８９−９３℃
ル−３−トリフルオロメチルスルホニルオキシベンゾエ
ート３．１０ｇ、フェニルトリブチルスズ３．６２ｇ、
塩化リチウム１．０５ｇ、テトラキストリフェニルホス
フィンパラジウム０．２０ｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチル−ｐ−クレゾール０．０１ｇ及びジオキサン５０
０ｍｌを金属製オートクレーブに仕込み、１４０℃で４
時間加熱した。冷却後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルを加えて不溶物をろ別した。ろ液を酢酸エチルで抽出
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、結晶として表記化合物１．６０ｇ
を得た。融点 ８９−９３℃
【００７１】参考例３ ４−メチルスルホニル−２−メチル−３−フェニル安息
香酸の製造法
香酸の製造法
【００７２】
【化１４】
【００７３】メチル ４−メチルスルホニル−２−メチ
ル−３−フェニルベンゾエート１．６ｇをエタノール１
６ｍｌに溶解し、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液１６ｍ
ｌを加えて室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応
混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して表記化合物
１．２ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3,δｐｐｍ）：２．２８（ｓ，
３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），７．３０（ｍ，２
Ｈ），７．５０（ｍ，３Ｈ），８．１５（ｑ，２Ｈ）
ル−３−フェニルベンゾエート１．６ｇをエタノール１
６ｍｌに溶解し、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液１６ｍ
ｌを加えて室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応
混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して表記化合物
１．２ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3,δｐｐｍ）：２．２８（ｓ，
３Ｈ），２．６２（ｓ，３Ｈ），７．３０（ｍ，２
Ｈ），７．５０（ｍ，３Ｈ），８．１５（ｑ，２Ｈ）
【００７４】参考例４ メチル ２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−フェ
ニルベンゾエートの製造
ニルベンゾエートの製造
【００７５】
【化１５】
【００７６】参考例１と同様にして得られたメチル ２
−クロロ−４−メチルスルホニル−３−トリフルオロメ
チルスルホニルオキシベンゾエート８．０ｇ、フェニル
トリブチルスズ８．８ｇ、塩化リチウム２．５４ｇ、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム０．２０ｇ
及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
０．０１ｇをジオキサン５０ｍｌ中に加え、全容を６時
間加熱還流した。冷却後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エ
チルを加えた後、不溶物をろ別した。ろ液を酢酸エチル
で抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、結晶として表記化合物
４．４７ｇを得た。融点 １０８−１１０℃
−クロロ−４−メチルスルホニル−３−トリフルオロメ
チルスルホニルオキシベンゾエート８．０ｇ、フェニル
トリブチルスズ８．８ｇ、塩化リチウム２．５４ｇ、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム０．２０ｇ
及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール
０．０１ｇをジオキサン５０ｍｌ中に加え、全容を６時
間加熱還流した。冷却後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エ
チルを加えた後、不溶物をろ別した。ろ液を酢酸エチル
で抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製して、結晶として表記化合物
４．４７ｇを得た。融点 １０８−１１０℃
【００７７】参考例５ ２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−フェニル安息
香酸の製造
香酸の製造
【００７８】
【化１６】
【００７９】メチル ２−クロロ−４−メチルスルホニ
ル−３−フェニルベンゾエート４．４７ｇをエタノール
４０ｍｌに溶解し、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液４０
ｍｌを加えて室温で２０時間攪拌した。反応混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで洗浄後、水層を濃塩酸で酸性とし
て酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して、表記化合物の結晶３．６９ｇを得た。融
点 ２１０−２１２℃
ル−３−フェニルベンゾエート４．４７ｇをエタノール
４０ｍｌに溶解し、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液４０
ｍｌを加えて室温で２０時間攪拌した。反応混合物を水
に注ぎ、酢酸エチルで洗浄後、水層を濃塩酸で酸性とし
て酢酸エチルで抽出した。有機層を水、次いで飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して、表記化合物の結晶３．６９ｇを得た。融
点 ２１０−２１２℃
【００８０】
【発明の実施の態様】本発明化合物は畑作条件で、土壌
処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示
し、メヒシバ、カヤツリグサ、イチビ、イヌビユ等の各
種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ類、大豆、ワタ
等の作物に選択性を示す化合物も含まれている。
処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示
し、メヒシバ、カヤツリグサ、イチビ、イヌビユ等の各
種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ類、大豆、ワタ
等の作物に選択性を示す化合物も含まれている。
【００８１】また、本発明化合物は、作物、観賞用植
物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成
長調節作用を示す化合物も含まれている。
物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成
長調節作用を示す化合物も含まれている。
【００８２】また、本発明化合物は、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。さらに、本発明化合物は、果樹
園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用する
ことができる。本発明化合物には植物成長調節作用、殺
菌活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。さらに、本発明化合物は、果樹
園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用する
ことができる。本発明化合物には植物成長調節作用、殺
菌活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。
【００８３】〔除草剤〕本発明除草剤は、本発明化合物
の１種または２種以上を有効成分として含有する。本発
明化合物を実際に施用する際には、他成分を加えず純粋
な形で使用できるし、また農薬として使用する目的で一
般の農薬のとり得る形態、すなわち、水和剤，粒剤，粉
剤，乳剤，水溶剤，懸濁剤，フロアブル等の形態で使用
することもできる。添加剤および担体としては固型剤を
目的とする場合は、大豆粉，小麦粉等の植物性粉末、珪
藻土，燐灰石，石こう，タルク，ベントナイト，パイロ
フィライト，クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソー
ダ，尿素，芒硝等の有機および無機化合物が使用され
る。液体の剤型を目的とする場合は、ケロシン，キシレ
ンおよびソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサ
ン，シクロヘキサノン，ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，アルコー
ル，アセトン，トリクロルエチレン，メチルイソブチル
ケトン，鉱物油，植物油，水等を溶剤として使用する。
これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるため
に、必要ならば界面活性剤を添加することもできる。界
面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、ポリオ
キシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル，ポ
リオキシエチレンが付加したアルキルエーテル，ポリオ
キシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル，ポリオキ
シエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル，
ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエ
ーテル等の非イオン性界面活性剤，ポリオキシエチレン
が付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル
塩，アルキルベンゼンスルホン酸塩，高級アルコールの
硫酸エステル塩，アルキル硫酸塩，アルキルナフタレン
スルホン酸塩，ポリカルボン酸塩，リグニンスルホン酸
塩，アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒ
ド縮合物，イソブチレン−無水マレイン酸の共重合物な
どが挙げられる。
の１種または２種以上を有効成分として含有する。本発
明化合物を実際に施用する際には、他成分を加えず純粋
な形で使用できるし、また農薬として使用する目的で一
般の農薬のとり得る形態、すなわち、水和剤，粒剤，粉
剤，乳剤，水溶剤，懸濁剤，フロアブル等の形態で使用
することもできる。添加剤および担体としては固型剤を
目的とする場合は、大豆粉，小麦粉等の植物性粉末、珪
藻土，燐灰石，石こう，タルク，ベントナイト，パイロ
フィライト，クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソー
ダ，尿素，芒硝等の有機および無機化合物が使用され
る。液体の剤型を目的とする場合は、ケロシン，キシレ
ンおよびソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサ
ン，シクロヘキサノン，ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，アルコー
ル，アセトン，トリクロルエチレン，メチルイソブチル
ケトン，鉱物油，植物油，水等を溶剤として使用する。
これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるため
に、必要ならば界面活性剤を添加することもできる。界
面活性剤としては、特に限定はないが、例えば、ポリオ
キシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル，ポ
リオキシエチレンが付加したアルキルエーテル，ポリオ
キシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル，ポリオキ
シエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル，
ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエ
ーテル等の非イオン性界面活性剤，ポリオキシエチレン
が付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル
塩，アルキルベンゼンスルホン酸塩，高級アルコールの
硫酸エステル塩，アルキル硫酸塩，アルキルナフタレン
スルホン酸塩，ポリカルボン酸塩，リグニンスルホン酸
塩，アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒ
ド縮合物，イソブチレン−無水マレイン酸の共重合物な
どが挙げられる。
【００８４】本発明除草剤における有効成分濃度は前述
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤に於いては、５〜９０％、好ましく
は１０〜８５％：乳剤に於いては、３〜７０％、好まし
くは５〜６０％：粒剤に於いては、0.０１〜５０％、好
ましくは、0.０５％〜４０％の濃度が用いられる。
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤に於いては、５〜９０％、好ましく
は１０〜８５％：乳剤に於いては、３〜７０％、好まし
くは５〜６０％：粒剤に於いては、0.０１〜５０％、好
ましくは、0.０５％〜４０％の濃度が用いられる。
【００８５】このようにして得られた水和剤、乳剤は水
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に散布処理もしく
は混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当
たっては１ヘクタール当たり有効成分０．１ｇ以上の適
当量が施用される。
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に散布処理もしく
は混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当
たっては１ヘクタール当たり有効成分０．１ｇ以上の適
当量が施用される。
【００８６】また、本発明除草剤は公知の殺菌剤，殺虫
剤，殺ダニ剤，除草剤，植物成長調整剤，肥料等と混合
して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用す
ることにより、使用薬量を減少させることが可能であ
る。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。
剤，殺ダニ剤，除草剤，植物成長調整剤，肥料等と混合
して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用す
ることにより、使用薬量を減少させることが可能であ
る。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。
【００８７】本発明除草剤と混合使用するにふさわしい
薬剤としては、ジフルフェニカン，プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール，プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、２，４−Ｄ，２，４−Ｄ
Ｂ等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル，フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ，ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン，イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤、ジウロ
ン，イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム，フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、ＥＰＴＣ等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン，ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、
アトラジン、シアナジン等のトリアジン系除草剤、フル
メツラム等のトリアゾピリミジン系除草剤、ブロモキシ
ニル、ジクロベニル等のニトリル系除草剤、グリホサー
ト、グリホシネート等のリン酸系除草剤、パラコート、
ジフェンゾコート等の４級アンモニウム塩系除草剤、フ
ルミクロラック−ペンチル、フルチアセット−メチル等
の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、
エトフメセート、オキサジアゾン、キンクロラック、ク
ロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチオピ
ル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタ
ゾン、ベンフルセート、更に、セトキシジム、トラルコ
キシジム等のシクロヘキサンジオン系除草剤等が挙げら
れる。また、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃
縮物を添加することも出来る。
薬剤としては、ジフルフェニカン，プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール，プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、２，４−Ｄ，２，４−Ｄ
Ｂ等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル，フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ，ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン，イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤、ジウロ
ン，イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム，フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、ＥＰＴＣ等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン，ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、
アトラジン、シアナジン等のトリアジン系除草剤、フル
メツラム等のトリアゾピリミジン系除草剤、ブロモキシ
ニル、ジクロベニル等のニトリル系除草剤、グリホサー
ト、グリホシネート等のリン酸系除草剤、パラコート、
ジフェンゾコート等の４級アンモニウム塩系除草剤、フ
ルミクロラック−ペンチル、フルチアセット−メチル等
の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、
エトフメセート、オキサジアゾン、キンクロラック、ク
ロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチオピ
ル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタ
ゾン、ベンフルセート、更に、セトキシジム、トラルコ
キシジム等のシクロヘキサンジオン系除草剤等が挙げら
れる。また、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃
縮物を添加することも出来る。
【００８８】
【実施例】〔除草剤〕次に、本発明除草剤に関する製剤
例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割合
は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変
更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割合
は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変
更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
【００８９】 実施例２ 水和剤 本発明化合物 ２０部 ホワイトカーボン ２０部 ケイソウ土 ５２部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の
水和剤を得た。
水和剤を得た。
【００９０】 実施例３ 乳剤 本発明化合物 ２０部 キシレン ５５部 ジメチルホルムアミド １５部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部 以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得た。
【００９１】 実施例４ 粒剤 本発明化合物 ５部 タルク ４０部 クレー ３８部 ベントナイト １０部 アルキル硫酸ソーダ ７部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.５〜1.０ｍ
ｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
ｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。
【００９２】
【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。
【００９３】 調査基準 殺 草 率 殺 草 指 数 ０％ ０ ２０〜２９％ ２ ４０〜４９％ ４ ６０〜６９％ ６ ８０〜８９％ ８ １００％ １０ また、１、３、５、７、９の数値は、各々０と２、２と
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。
【００９４】
【数１】
【００９５】試験例１ 茎葉散布処理 ２００ｃｍ2 のポットに土壌を充填し、表層にイチビ，
イヌビユ，オナモミ，アキノエノコログサ及びトウモロ
コシの各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。
各雑草が５〜２５ｃｍの草丈に生育した時点で実施例３
に示した乳剤の水希釈液を、有効成分が所定の薬量にな
るように、小型噴霧器にて茎葉部に散布した。３週間後
に雑草の除草効果を調査し、その結果を第３表に示し
た。
イヌビユ，オナモミ，アキノエノコログサ及びトウモロ
コシの各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。
各雑草が５〜２５ｃｍの草丈に生育した時点で実施例３
に示した乳剤の水希釈液を、有効成分が所定の薬量にな
るように、小型噴霧器にて茎葉部に散布した。３週間後
に雑草の除草効果を調査し、その結果を第３表に示し
た。
【００９６】
【表３】
【表１１０】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 205/45 Ｃ０７Ｃ 205/45 317/24 317/24 323/22 323/22 // Ａ０１Ｎ 25/04 １０１ Ａ０１Ｎ 25/04 １０１ 25/12 25/12 25/14 25/14 (72)発明者 寒河江 隆浩 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 田中 克典 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 古口 正巳 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 高橋 明裕 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 山岸 秀樹 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 山田 茂雄 神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式 会社小田原研究所内 (72)発明者 川名 貴 静岡県榛原郡榛原町坂部62−１ 日本曹達 株式会社榛原農業研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】一般式〔Ｉ〕 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロア
ルキル基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ1-4 アルキルスル
フィニル基又はＣ1-4 アルキルスルホニル基を表す。Ｒ
2 は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロア
ルキル基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基、Ｃ1-4アルキルチ
オ基、Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4 アルキ
ルスルホニル基を表す。Ｒ3 は、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ
1-4 アルキルスルフィニル基又はＣ1-4 アルキルスルホ
ニル基を表す。ｎは０，１，２を表す。ｎが２のとき、
Ｒ3 は同一でも相異なっていてもよい。Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ
6 ，Ｒ7 ，Ｒ8 およびＲ9 は、それぞれ独立して、水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、ホルミル基、Ｃ1-4 ア
ルキル基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、
Ｃ1-4 アルキルスルフィニル基、Ｃ1-4 アルキルスルホ
ニル基、Ｃ1-4 アルキルチオＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4
アルキルスルフィニルＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルキ
ルスルホニルＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシＣ
1-4 アルキル基、Ｃ1- 4 アルキルカルボニルオキシＣ
1-4 アルキル基、ヒドロキシＣ1-4 アルキル基、ジ（Ｃ
1-4 アルコキシ）Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 アルコキシ
カルボニル基、ヒドロキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ
1-4 アルコキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ2-4 アルケ
ニルオキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ2-4 アルキニル
オキシイミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ1-4 ハロアルコキシ
イミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ2-4 ハロアルケニルオキシ
イミノＣ1-4 アルキル基、Ｃ2-4 ハロアルキニルオキシ
イミノＣ1-4 アルキル基、置換基を有してもよいフェニ
ル基、置換基を有してもよいフェニルチオＣ1-4 アルキ
ル基，置換基を有してもよいフェニルスルフィニルＣ
1-4 アルキル基、置換基を有してもよいフェニルスルホ
ニルＣ1-4 アルキル基又は置換基を有してもよいフェニ
ルＣ1-4 アルキルオキシＣ1-4 アルキル基を表す。ま
た、（Ｒ4 とＲ5 ）、（Ｒ6 とＲ7 ）または（Ｒ8 とＲ
9 ）はそれぞれ一緒になってオキソまたはＣ1-5 のアル
キレン鎖を形成していてもよく、さらに（Ｒ4 若しくは
Ｒ5 ）と（Ｒ6 若しくはＲ7 ）、又は（Ｒ6 若しくはＲ
7 ）と（Ｒ8若しくはＲ9 ）はそれぞれ一緒になって、
Ｃ1-5 のアルキレン鎖を形成してもよい。Ｒ10は、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ1-4 アルキル基、Ｃ
1-4 アルコキシ基、Ｃ1-4 ハロアルキル基、Ｃ1-4 アル
コキシカルボニル基、Ｃ1-4 アルキルチオ基、Ｃ1-4 ア
ルキルスルフィニル基、Ｃ1-4 アルキルスルホニル基、
Ｃ1-4 アルキル基で置換されていてもよいアミド基を表
す。ｌは０，１，２，３，４，５を表す。ｌが２以上の
場合は、Ｒ10は同一でも相異なっていてもよい。〕で表
されるフェニル基で置換されたベンゼン誘導体またはそ
の塩。 - 【請求項２】一般式〔Ｉ〕 【化２】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 ，Ｒ6 ，Ｒ7 ，
Ｒ8 ，Ｒ9 ，Ｒ10，ｎおよびｌは、前記と同じ意味を表
す。）で表される化合物もしくはその塩の１種または２
種以上を有効成分として含有することを特徴とする除草
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11022598A JPH11193259A (ja) | 1997-04-09 | 1998-04-06 | 新規なフェニル基で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10540897 | 1997-04-09 | ||
| JP31889297 | 1997-11-05 | ||
| JP9-318892 | 1997-11-05 | ||
| JP9-105408 | 1997-11-05 | ||
| JP11022598A JPH11193259A (ja) | 1997-04-09 | 1998-04-06 | 新規なフェニル基で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11193259A true JPH11193259A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=27310474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11022598A Withdrawn JPH11193259A (ja) | 1997-04-09 | 1998-04-06 | 新規なフェニル基で置換されたベンゼン誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11193259A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012150221A2 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Neue halogenierte benzylalkoholester der cyclopropancarbonsäure als schädlingsbekämpfungsmittel |
| WO2012150208A1 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Verwendung von substituierten benzylalkoholestern der cyclopropancarbonsäure zur bekämpfung von insektizid-resistenten insekten |
| WO2012150205A1 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Neue substituierte benzylalkoholester der cyclopropancarbonsäure als schädlingsbekämpfungsmittel |
-
1998
- 1998-04-06 JP JP11022598A patent/JPH11193259A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012150221A2 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Neue halogenierte benzylalkoholester der cyclopropancarbonsäure als schädlingsbekämpfungsmittel |
| WO2012150208A1 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Verwendung von substituierten benzylalkoholestern der cyclopropancarbonsäure zur bekämpfung von insektizid-resistenten insekten |
| WO2012150205A1 (de) | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Bayer Cropscience Ag | Neue substituierte benzylalkoholester der cyclopropancarbonsäure als schädlingsbekämpfungsmittel |
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