WO1996006216A1 - Produit de depot en phase vapeur et son procede de production - Google Patents

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Jiichiro Okumura
Takao Negishi
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Toray Industries, Inc.
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    • D06M2200/00Functionality of the treatment composition and/or properties imparted to the textile material
    • D06M2200/35Abrasion, pilling or fibrillation resistance

Definitions

  • the present invention relates to a vapor-deposited product and a method for producing the same, and more particularly, to a vapor-deposited product and a method for producing the same, which are capable of enhancing the adhesive force of a vapor-deposited thin film and are most suitable for application to a vapor-deposited thin film-forming fiber product or sheet.
  • the light interference thin film is directly deposited on the surface of the fiber exposed on the surface of the fabric.
  • the problem remains that the adhesive strength against friction and bending may be insufficient.
  • the object of the present invention is to focus on such problems and to improve the adhesive force of a textile product (fiber cloth) or a sheet-like material, and furthermore, a deposited thin film deposited on the surface of the product. In this case, it is necessary to impart excellent washing resistance, abrasion resistance and the like to the deposited product.
  • the vapor-deposited product of the present invention has a metal or inorganic substance at least on a part of the surface of an organic base material via an intermediate containing at least a silicone resin and silicon dioxide. It is composed of one having a deposited thin film.
  • the silicon dioxide contained in the above intermediate is optimally produced by plasma treatment.
  • the intermediate is plasma-treated from the surface, and the silicon dioxide generated by such plasma treatment can exist near the surface of the intermediate and is generated by plasma treatment, so that it is uniformly dispersed in a molecular order. It can be distributed and therefore has a high adhesion to the deposited thin film formed thereon.
  • the elemental composition of the intermediate is plasma-treated until at least one silicon atom per two carbon atoms in the vicinity of the deposited thin film, an extremely high adhesive strength can be obtained. .
  • the method for manufacturing a vapor-deposited product according to the present invention is to apply a silicon-based resin to the surface of an organic base material, to perform a plasma treatment on the surface, It consists of a method of forming a thin film containing a metal or inorganic substance on the surface by vapor deposition.
  • the method for producing a vapor-deposited product of the present invention comprises applying a silicone-based resin to the surface of an organic base material, heat-treating the silicone-based resin to form a silicone-based resin layer, It comprises a method of performing a plasma treatment and forming a thin film having a metal or an inorganic substance on the plasma treated surface by vapor deposition.
  • a silicone-based resin film is formed on the surface of the silk-based fabric (sheet-like material) by coating and dipping, and the silicone-based resin is heat-treated to form a silicone-based resin layer.
  • Plasma treatment more precisely low-temperature plasma treatment, activates the silicon-based resin (silicon dioxide is uniformly generated in the molecular order by the plasma treatment), A predetermined vapor-deposited thin film is formed on the layer by a vapor deposition process.
  • the silicone-based resin contains silicon dioxide in advance
  • the silicone-based resin is applied to the surface of the organic base material by applying, for example, dipping, and then dried.
  • a relatively high adhesive strength can be obtained by forming a vapor-deposited thin film by vapor-depositing an inorganic substance.
  • FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of a vapor deposition product having an interference color manufactured by the method of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view of a deposition product having an interference color according to another example different from FIG.
  • FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view of a vapor deposition product having an interference color according to yet another example.
  • ⁇ FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of a vapor deposition product having an interference color according to still another example.
  • FIG. 2 is a schematic partial perspective view showing an example of a vapor-deposited product having a vapor-deposited thin film formed on the surface of each textile exposed on the surface of a textile product, particularly when the base material is a textile product.
  • FIG. 6 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of a vapor deposition product using a transparent base material.
  • FIG. 7 is a schematic partial cross-sectional view of a vapor deposition product using a transparent substrate according to another example.
  • the silicone resin used in the present invention for example, methylhydrogen polysiloxane emulsion is used, and as the catalyst, for example, a zinc resin can be used.
  • the content of silicon in the methylhydridoenepolysiloxane emulsion is suitably about 2 to 10% by weight
  • the content of the zinc-based catalyst is suitably about 2 to 10% by weight. From the viewpoint of obtaining an effect of softening the texture of the vapor-deposited product, a method of using a melamine resin without using a catalyst can also be preferably employed.
  • the content of the silicone resin is approximately 2 to 10% by weight, and the total content of the melamine resin and the polyester resin is approximately 0! About 5% by weight is appropriate.
  • a catalyst for the melamine resin can be used.
  • the content of the catalyst in the methylhydrogenpolysiloxane emulsion is preferably about 0.02 to 0.4% by weight.
  • a dipping method can be cited, and an appropriate drawing ratio is about 20 to 60%. Also, applying the drying after, as the condition for curing, 1 6 0 ⁇ 1 8 0 e C , about 2 minutes continuous conditions are preferred. It is more preferable to cure after drying at 110 to 130.
  • Suitable conditions for the low-temperature plasma treatment include, for example, a degree of vacuum: 20 to 100 Pa, a discharge power: 2 to 7 KV, and a processing speed: about 5 to 3 OmZ.
  • the processing atmosphere may be air or a gas atmosphere such as oxygen or argon.
  • the surface to be treated may be a double-sided surface, or at least a surface to be subjected to a vapor deposition process.
  • the degree of low-temperature plasma treatment also needs to be changed depending on the chemical composition of the silicone-based resin, but from the viewpoint of effectiveness, the elemental composition of the silicone-based resin layer is at least in the vicinity of the deposited thin film with respect to carbon atoms 2 It is preferable to use at least one gay atom from the viewpoint of adhesiveness.
  • the substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic substrate, and is, for example, a fiber cloth / sheet-like material.
  • Moth fabrics include synthetic fibers made of polyester, polyamide, polyacryl, rayon, etc., and fabrics made of natural fibers such as cotton and silk. it can.
  • the sheet-like material include a plastic film and paper.
  • the vapor-deposited thin film according to the present invention When the vapor-deposited thin film according to the present invention is formed on such a woven fabric, it has an interference color. Products can be obtained.
  • the interference color changes depending on the angle between the interference surface and the line of sight.
  • the base material is a strong twisted fabric, the drape property of the base material is high, and the supple movement of the cloth and the change of the interference color according to the movement give a new feeling of drape, resulting in a high ⁇ cloth.
  • the base material is uneven fabric, a deposited thin film is formed according to the unevenness, so that the interference color changes according to the unevenness, and a new sense of three-dimensional feeling is obtained, resulting in a high-quality fabric.
  • the interference color changes depending on the falling direction and movement of the bristles, resulting in a new sense of surface texture and a high ⁇ fabric.
  • the base material is a monofilament fabric
  • the fibers are thick and clear interference colors at one fork, and the fabric is generally transparent with a large space between the yarns. Therefore, a high-quality cloth with a new sensation that the color is dark and the cloth is transparent is obtained.
  • the vapor deposition material is not particularly limited, and includes metals, inorganic substances, and the like.
  • the metals used as the vapor deposition material are not particularly limited, and include Al, Au, Cr, Cu, Mg, Ni, Ti, Co, Pt, Si, etc., and oxidation of inorganic substances.
  • the object is not particularly limited, A 1 2 0 3, in 2 0 3, C r 2 0 3, MgO, S i O, S i 0 2, T i O, T i 0 2, I tO, Sn0 2 and the like
  • the nitride is not particularly limited, and examples thereof include A 1 N, Ti N, and Si 3 N 4 .
  • Other gF 2 can also be used.
  • the layer structure of the vapor-deposited thin film may be a single layer or a laminated structure.
  • a deposited thin film is deposited on a silicon-based resin containing silicon dioxide as described above, preferably on a silicon-based resin film that has been subjected to low-temperature plasma treatment.
  • a strong adhesive force is exerted between the activated silicon-based resin film.
  • good adhesion was secured between the silicone resin film and the organic base material.
  • the deposition method is not particularly limited.
  • the base material is placed in a known thin film forming apparatus such as a vacuum deposition apparatus, a sputtering apparatus, or an ion plating apparatus, and the deposition thin film is formed under reduced pressure. The method is preferred.
  • the above-mentioned enhancement of the adhesive strength is achieved by forming a silicon-based resin film containing silicon dioxide, preferably a silicone-based resin film that has been subjected to low-temperature plasma treatment. High adhesive strength cannot be obtained. X-ray photoelectron spectroscopy can be used to analyze the atomic state of the silicon resin film surface. Also, P
  • the element composition (ratio of the number of atoms) analysis can be used Oje electron spectroscopy £ Furthermore, if after the deposition film formation, in combination with ion etching under digging film Getsutsu analysis Can be used.
  • a heat treatment at 1 7 0 hand over By performing such heat treatment, particularly the surface of the deposited thin film is oxidized to become an oxidized thin film, and the strength of the thin film is improved, and at the same time, the interference color of the textile fabric described later becomes more vivid, and a metallic luster can be obtained. It is preferred. Further, in order to protect the deposited thin film, after the deposition and heat treatment, a protective layer may be coated on the deposited thin film as necessary.
  • Table 1 shows the comparison between the durability when each resin was applied and the case with and without plasma treatment. Irrigation and abrasion resistance are obtained. However, silicon dioxide is not included in the silicone resin that has not been subjected to low-temperature plasma treatment. Table 1 shows a comparison between plasma treatment and heat treatment before vapor deposition.
  • the vapor deposition product of the present invention and the method for producing the same can be applied even when the vapor deposition thin film is an electromagnetic interference thin film, for example, a light interference thin film. That is, the present invention can be applied to a case where a moth fabric or a sheet having an interference color is obtained by depositing a light interference thin film.
  • the above-mentioned silicone resin film is formed, subjected to a low-temperature plasma treatment, and then a light interference thin film is deposited thereon.
  • This light interference thin film can adopt the following various ideas.
  • a transparent layer 3 is formed on a silicone resin film 2 on one or both sides of a base material 1 made of a fiber fabric or a sheet.
  • the c transparent metal compound thin film of the material provided by the transparent layer 3 months ⁇ deposition made of a transparent metal compound thin film for example, a 1 2 0 3, I n 2 0 3, C r 2 0 3, MgO, S i O , mention may be made of one at least selected S i 0 2, T i O , T i 0 2, a ] N, T i N, the S i N 4. Mg F 2 .
  • the reflected light R 2 on the surface of the transparent layer 3 and the reflected light R 3 on the back surface of the light R incident from the front side, namely, the transparent layer, Color is generated by interference with reflection at the boundary surface between the transparent layer and the adjacent substrate (or silicone resin film 2).
  • the thickness of the transparent layer 3 is preferably not less than 40 OA and not more than 50,000 A.
  • the light interference thin film may be formed by a two-layer structure in which a reflective layer 4 and a transparent layer 3 are sequentially laminated from the substrate 1 side.
  • the reflective layer 4 is composed of a metal thin film having an average reflectance of 60% or more (preferably 90% or more) in a visible light region.
  • the material of the reflective metal thin film include Al, Cu, Ag, Mg, T At least one kind selected from i, Ni, Co, Pt, Au, Cr, Pe, and Rh can be obtained.
  • Such a reflective layer 4 can also be provided by vapor deposition, and the thickness of the reflective metal thin film constituting the reflective layer 4 is preferably 50 OA or more. Also in this case, the thickness of the transparent layer 3 is preferably not less than 40 OA and not more than 500 OA.
  • the light R incident from the front side is reflected light R 2 on the transparent layer 3 surface and reflected light R 3 on the back surface, that is, Color is generated by interference between reflected light at the interface between the transparent layer 3 and the reflective layer 4.
  • the light interference thin film has a three-layer structure in which the reflective layer 4, the transparent layer 3, and the translucent layer 5 are sequentially laminated in this order from the substrate 1. It may be formed.
  • the translucent layer 5 is composed of, for example, a translucent metal thin film having an average reflectance in the visible light region of 60% or less.
  • a material of the translucent metal thin film Al, Cu, Ag, Mg, Ti, At least one kind selected from Ni, Co, Pt, In, Cr, Si, Au, and Au / Pt can be mentioned.
  • Such a translucent layer 5 can also be provided by vapor deposition, and the thickness of the translucent metal thin film constituting the translucent layer 5 is preferably 2 O A or more and 500 A or less. Also in this case, it is preferable that the thickness of the transparent layer 3 be 400 A or more and 500 A or less. Further, the thickness of the reflection layer 4 is preferably 500 A or more.
  • the light R incident from the front side is reflected on the surface of the translucent layer 5, the surface of the transparent layer 3, and the reflective layer.
  • the reflected light, R 2 , and R 3 are generated on the surface of No. 4 (the back surface of the transparent layer 3), and the reflected light R, and R 2 and R 3 interfere to produce an interference color.
  • the light interference thin film may be formed by a two-layer structure in which the transparent layer 3 and the translucent layer 5 are sequentially laminated from the substrate 1 side.
  • a substrate 1 by interference between mainly the reflected light R 2 and R 3, it is developed.
  • a protective film is coated on the surface of the optical interference thin film as necessary. It may be provided by a ring or the like. It is preferable that the protective film is substantially completely transparent so as not to impair the light incident on the light interference thin film and the color of the interference color from the light interference thin film. However, it may be colored.
  • FIG. 5 shows, for example, the light interference thin film of the embodiment shown in FIG. 3 provided on a base material 1 of a fiber product, and shows the surface in an enlarged manner.
  • the interference color by the light interference thin film can be seen through the substrate from the side of the base of the substrate.
  • a silicone resin layer formed on a transparent or translucent material
  • the transparent resin A transparent layer consisting of a substantially transparent thin film capable of forming a color by the interference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the back of the layer of light generated through the conductive fiber cloth;
  • a transparent moth fabric having an interference color, provided with a reflector for reflecting light generated by transmitting through the transparent layer.
  • a transparent or translucent silicone-based resin layer 15 containing silicon dioxide is provided on a transparent moth fabric 11, and a transparent layer 12 and a reflective layer 13 are provided thereon. Are sequentially provided. As shown in FIG. 7, a translucent layer 14 may be further provided between the silicone resin layer 15 and the transparent layer 12.
  • the interference base 1 1 RH reflected light R which Deki transmitted through the (transparent fiber cloth) and R 1 2, or reflected light R u, is R 1 2 and R 1 3 together
  • the interference color can be seen from the back side of the substrate 11.
  • Polyester filament yarn (vertical 50 denier x 18 filament, approximately round cross section fiber and horizontal 75 denier x 36 filament, approximately round cross section fiber) is plain woven (vertical 110 denier)
  • silicone was applied by a dipping method, followed by heat treatment at 160 to form a silicone resin.
  • low-temperature plasma treatment is applied, and A1 is coated on one side of the woven fabric to a thickness of 800 A.
  • a metal thin film was deposited by an induction heating vacuum deposition method.
  • the silicone resin used was methylhydridoenepolysiloxane emulsion, and a zinc-based catalyst was used.
  • the processing conditions by the dip method and the conditions of the plasma processing are as follows.
  • Example 1 the A1 vapor-deposited thin film was found to have enhanced adhesion to textiles against friction and bending.
  • the plasma treatment after the application of the silicone resin improved the washing resistance from 2 ⁇ to 5 ⁇ and the abrasion resistance from 1 ⁇ to 3 ⁇ .
  • the test conditions at this time are as follows.
  • Example 2 the surface of the silicon-based resin layer before and after the low-temperature plasma treatment was analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy, and the atomic ratio of carbon atoms to gayon atoms and Si and S in silicon were determined. the ratio of the S i of i 0 2 shown in Table 2. The results showed that low-temperature plasma treatment significantly increased silicon dioxide in the silicone resin. It is thought that the silicon dioxide generated by this plasma treatment greatly contributes to the improvement of the adhesive strength.
  • X-ray photon spectroscopy is the measurement of the intensity of photons excited by X-rays radiated onto the sample surface and emitted from the surface as a function of kinetic energy, and then the photon spectrum is measured. What you get. It can be used for elemental analysis of substances, and also for composition analysis of substances based on the peak intensity ratio of core photoelectrons. In addition, since the binding energy value of the core photoelectron changes depending on the chemical bonding state even for the same element, state analysis can also be performed.
  • the analysis conditions of the X-ray photoelectron spectroscopy in this example are as follows.
  • High shrinkage polyester filament yarn 50 denier x 24 filaments, approximately round cross-section fiber, boiling water shrinkage about 20%
  • low shrinkage polyester filament yarn 50 denier x 48 filament, approximately triangular
  • the cross-section fiber and the boiling water shrinkage rate are about 7%
  • Book / inch, Thread about 100 books / inch
  • organization 2 pieces
  • a silicone resin was applied by a dipping method, and dried and cured.
  • plasma treatment from above a light interference thin film having a three-layer structure as shown in FIG. 3 was vapor-deposited on one surface of the yarn fabric with mixed yarn length by an induction heating vacuum vapor deposition method.
  • the processing conditions of the silicone resin by the dipping method and the plasma processing conditions are the same as those in Example 1.
  • the reflective layer is composed of A 1 and has a thickness of 800 A
  • the transparent layer is composed of S i 0 and has a thickness of 800 A, 100 A and 1200 persons, respectively.
  • the translucent layer was made of Cr and the thickness was 3 OA. After evaporation of the reflective layer, the transparent layer, and the translucent layer, a heat treatment was performed at 170 ° C. for 2 minutes, and a polydimethylpolysiloxane-based silicone was further coated thereon as a protective film. . C, heat-treated for 2 minutes.
  • the transparent layer having a thickness of 800 A has a deep color mainly composed of blue without falling off of both the intermediate layer and the upper layer.
  • a deep color mainly composed of green is obtained, and a color with a thickness of 1200 A is obtained with a depth of mainly yellow, and a color with a thickness of 150 A is colored red.
  • a deep color that was mainly used was obtained.
  • Example 2 by applying a plasma treatment after applying the silicone resin, the washing resistance was improved from grade 3 to grade 5 and the abrasion resistance from grade 2 to grade 4 was improved.
  • the test conditions at this time are as follows.
  • the resulting mixed yarn fabric with different yarn lengths has a complicated color change depending on the viewing angle, and the unevenness of the surface due to the mixed yarn length difference arrowhead yarn has a more three-dimensional appearance and a sense of confusion. High-quality colors with complex changes in color were obtained.
  • the presence of silicon dioxide, particularly silicon dioxide generated by the plasma treatment, in the intermediate results in an extremely high level between the substrate and the vapor deposition thin film. Adhesive strength can be obtained, and a vapor-deposited thin film is difficult to obtain, and a fiber product or a sheet-like material having excellent washing resistance and abrasion resistance can be obtained.
  • the vapor-deposited product of the present invention since the vapor-deposited thin film is adhered with an extremely high adhesive force, has high washing resistance and abrasion resistance, and is particularly useful for a textile product for forming a vapor-deposited thin film which is repeatedly washed and used repeatedly. It can be suitably applied to a sheet-like material.

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Description

明 細
蒸着製品およびその製造方法
技 術 分 野
本発明は、 蒸着製品およびその製造方法に関し、 とくに、 蒸着薄膜の接着力を 強化できるようにした、 蒸着薄膜形成繊維製品やシート状物に適用して最適な、 蒸着製品およびその製造方法に関する。
背 景 技 術
蒸着薄膜、 例えば金属蒸着薄膜を形成した有機系基材、 例えば繊維製品におい ては、 金属蒸着薄膜と織維との接着性は、 予想以上に低い。 そのため、 洗濯 (水 洗い洗濯、 ドライクリーニング) を行なうと大半の金属蒸着薄膜は脱落し、 その ことが、 商品展開の上で、 大きなネックとなっている。
これを改善するために、 蒸着処理後、 蛾維を保護膜でコーティ ングする方法が 行なわれている。 しかし、 いく ら金属の上から保護膜を形成しても、 金属と繊維 との接着性が低いため根本的な解決策とはならない。 すなわち、 洗濯時に金属蒸 着膜の脱落は一時的に少なくなるが、 時間が経過するにつれ、 あるいは洗濯回数 が増えるにつれ、 広範囲にわたって保護膜を含む金属蒸着膜が剝雠してしまうの である。
—方、 特定の光干渉薄膜を織維布帛に蒸着することにより、 干渉発色させるよ うにした干渉色を有する繊維布帛が先に本出願人により提案され、 既に公知にな つている (特開平 3 - 8 2 8 8 1号公報) 。
このような光干渉薄膜を蒸着した織維布帛においても、 光干渉薄膜を布帛表面 に露出した繊維の表面に直接蒸着していたため、 前述と同様の問題点、 すなわち、 蒸着された光干渉薄膜の摩擦や屈曲に対する接着強度が不足することがあるとい う問題が残されていた。
発 明 の 開 示
本発明の目的は、 このような問題点に着目し、 繊維製品 (繊維布帛) やシート 状物、 さらにはその製品の表面に蒸着される蒸着薄膜の接着力を向上することに あり、 究極的には、 該蒸着製品に優れた耐洗濯性、 耐摩耗性等を付与することに める。 上記目的を達成するために、 本発明の蒸着製品は、 有機系基材の表面の少なく とも一部に、 少なく ともシリコーン系樹脂と二酸化ケイ素とを含む中間剤を介し て、 金属又は無機物を有する蒸着薄膜を備えているものから成る。
とくに上記中間剤に含まれる二酸化ケイ素はプラズマ処理によって生成された ものが最適である。 中間剤は表面からプラズマ処理され、 このようなプラズマ処 理で生成された二酸化ケイ素は、 中間剤表面近傍に存在できるとともに、 ブラズ マ処理によって生成されるので、 分子オーダーに近い分散状態で均一に分布でき、 したがってその上に形成される蒸着薄膜に対して高い接着力をもつ。 とくに、 中 間剤の元素組成が、 少なく とも上記蒸着薄膜近傍において、 炭素原子 2に対しケ ィ素原子が 1以上となるまでプラズマ処理されていると、 極めて高い接着力をも つことができる。
したがって本発明による蒸着製品の製造方法は、 このような高い接着力をもた せるために、 有機系基材の表面にシリ コーン系樹脂を付与し、 その上からプラズ マ処理を施し、 プラズマ処理面上に金属又は無機物を有する薄膜を蒸着にて形成 する方法から成る。
さらに詳しくは、 本発明の蒸着製品の製造方法は、 有機系基材の表面にシリコ ーン系樹脂を付与し、 該シリコーン系樹脂を熱処理してシリコーン系樹脂層を形 成し、 その上からプラズマ処理を施し、 プラズマ処理面上に金属又は無機物を有 する薄膜を蒸着にて形成する方法から成る。
すなわち、 本発明の方法においては、 戡維布帛ゃシート状物の表面に先ずシリ コーン系樹脂の膜が塗布ゃ浸漬等により形成され、 該シリ コーン系樹脂が熱処理 されてシリ コーン系樹脂層とされ、 その上からプラズマ処理、 より正確には低温 プラズマ処理が施されることにより、 シリ コーン系樹脂が活性化され (二酸化ケ ィ素がプラズマ処理によって分子オーダーで均一に生成され) 、 その樹脂層上に 所定の蒸着薄膜が蒸着処理により形成される。 活性化されたシリ コーン系樹脂層 とすることにより、 該樹脂層と蒸着薄膜との接着力が大幅に向上され、 摩擦や屈 曲に対し剝雔しにくい蒸着薄膜が実現される。
また、 シリ コーン系樹脂に予め二酸化ケイ素が含まれている場合には、 有機系 基材の表面にシリコーン系樹脂を塗布ゃ浸漬等により付与し、 乾燥した後に金属 又は無機物を蒸着して蒸着薄膜を形成することでも、 比較的高い接着力をもたせ ることができる。
図 面 の 簡 単 な 説 明
図 1は、 本発明方法により製造された干渉色を有する蒸着製品の一例を示す概 略部分断面図である。
図 2は、 図 1 とは別の例に係る干渉色を有する蒸着製品の概略部分断面図であ る。
図 3は、 さらに別の例に係る干渉色を有する蒸着製品の概略部分断面図である < 図 4は、 さらに別の例に係る干渉色を有する蒸着製品の概略部分断面図である c 図 5は、 基材が特に織維製品である場合において、 繊維製品の表面に露出した 個々の織維の表面に形成された蒸着薄膜を有する蒸着製品の一例を示す概略部分 斜視図である。
図 6は、 透明性基材を用いた蒸着製品の一例を示す概略部分断面図である。 図 7は、 別の例に係る透明性基材を用いた蒸着製品の概略部分断面図である。
発 明 を 実施す る た めの最良 の 形態
本発明において用いられるシリコーン系樹脂としては、 例えばメチルハイ ドロ ジエンポリシロキサンェマルジヨンが举げられ、 触媒としては、 例えば亜鉛系の ものが使用できる。 この場合、 メチルハイ ドロジエンポリ シロキサンエマルジョ ンにおけるシリ コーンの含有量としては、 2〜 1 0重量%程度が適当であり、 亜 鉛系触媒は、 2〜 1 0重量%程度が適当である。 また、 蒸着製品の風合いを柔軟 にする効果を得る観点から、 触媒を用いずにメラミン系樹脂を使用する方法も好 ましく採用できる。 この場合には、 メチルハイ ドロジエンポリシロキサンエマル ジョ ンにおいて、 シリ コーン系樹脂の含有量としては、 2〜 1 0重量%程度が適 当であり、 メラミ ン系樹脂は、 0 . 1 ~ 2重量%程度が適当である。 また同様に、 触媒を用いずにポリエステル系樹脂を用いる方法も蒸着製品の風合いを柔軟にす る観点から好ましく採用できる。 この場合には、 メチルハイ ドロジェンポリ シ口 キサンェマルジヨンにおいて、 シリコーン系樹脂の含有量としては、 2〜 1 0重 董%程度が適当であり、 ポリエステル系樹脂は、 0 . 1〜5重量%程度が適当で ある。 また、 触媒を用いずに、 メラミ ン系樹脂とポリエステル系樹脂との両者を 用いることもできる。 この場合には、 メチルハイ ドロジェンポリシロキサンエマ ルジョ ンにおいて、 シリ コーン系樹脂の含有 iとしては 2〜 1 0重量%程度が適 当であり、 メラミ ン系樹脂とポリエステル系樹脂の合計含有量は 0 . !〜 5重量 %程度が適当である。 なお、 メラ ミ ン系樹脂を用いる場合、 メラ ミ ン系樹脂に対 する触媒を用いることができる。 この場合には、 メチルハイ ドロジェンポリシ口 キサンエマルジョンにおいて、 その触媒の含有量としては 0 . 0 2 ~ 0 . 4重量 %程度が適当である。
シリコーン系樹脂を鏃維布帛ゃシ一ト状物の表面に付与する方法としては、 例 えばディ ップ法が挙げられ、 絞り率としては 2 0〜 6 0 %程度が適当である。 ま た、 付与した後の乾燥、 キュアの条件としては、 1 6 0〜1 8 0 eC、 2分程度の 連続条件が好ましい。 1 1 0〜 1 3 0てで乾燥した後にキュアするとさらに好ま しい。
低温プラズマ処理の条件としては、 例えば、 真空度: 2 0〜 1 0 0 P a、 放電 ¾力 : 2〜7 K V、 処理速度: 5〜3 O m Z分程度が適当である。 処理雰囲気と しては、 空気でもよく、 酸素、 アルゴン等のガス雰囲気中でもよい。 また、 処理 面としては、 両面行ってもよく、 少なく とも蒸着処理する面に行えばよい。 低温 プラズマ処理の程度は、 シリコーン系樹脂の化学組成によっても変更する必要が あるが、 効果面からはシリ コーン系樹脂層の元素組成が、 少なく とも蒸着薄膜近 傍において、 炭素原子 2に対してゲイ素原子 1以上にすることが、 接着性の面か ら好ましい。
本発明において使用される基材は、 有機系基材であれば特に限定されず、 たと えば繊維布帛ゃシート状物である。 蛾維布帛としては、 ボリエステル、 ポリアミ ド、 ポリアクリル、 レーヨン等からなる化学繊維、 綿や絹などの天然總維からな る布帛などであって、 特に限定されず、 薄地から厚地のものまで適用できる。 シ ート状物としては、 プラスチックフィルムや紙などが挙げられる。
特に繊維布帛においては、 ジョーゼッ トクレープゃデシンクレープのような強 撚繳物、 エンボスゃシヮ加工のような凹凸辙物、 起毛や立毛布帛、 モノ フィ ラメ ント布帛、 染色された布帛などが好適な基材として使用できる。
このような織維布帛上に本発明による蒸着薄膜を形成すると、 干渉色を有する 製品を得ることができる。 一般に干渉色は、 干渉面と視線との間の角度により変 化するものである。 基材が強撚織物の場合には、 該基材のドレープ性が高く、 布 帛のしなやかな動きとその動きに従った干渉色の変化により新感覚のドレープ感 を覚え、 高极布帛となる。 基材が凹凸維物の場合には、 凹凸に従った蒸着薄膜が 形成されるため、 凹凸に従った干渉色の変化が現われ、 新感覚の立体感を覚え高 极布帛となる。 基材が起毛や立毛布帛の場合には、 毛の倒れ方向や動きによって 干渉色が変化し、 新感覚の表面質感を覚え高极布帛となる。 基材がモノフィラメ ント布帛の場合には、 一股に繊維が太く明瞭な干渉色となり、 また一般に糸間に 間隔が多く布帛が透けている。 したがって、 色が濃く布帛が透けているといった 新感覚の高极布帛となる。
蒸着材料としては、 特に限定されず、 金属類、 無機物などが挙げられる。
蒸着材料として使用される金属類としては、 特に限定されず、 A l、 Au、 C r、 Cu、 Mg、 N i、 T i、 Co、 P t、 S i等が举げられ、 無機物の酸化物 としては、 特に限定されず、 A 12 03 、 In 2 03 、 C r2 03 、 MgO、 S i O、 S i 02 、 T i O、 T i 02 、 I TO, Sn02 等が挙げられ、 窒化物と しては、 特に限定されず、 A 1 N、 T i N、 S i 3 N4 等が举げられる。 その他 gF2 も使用できる。
また、 蒸着薄膜の層構成としては、 単層であっても積層構成であってもよい。 このような蒸着薄膜が、 前述の如く二酸化ケイ素を含むシリコ一ン系樹脂上、 好ましくは低温プラズマ処理されたシリ コーン系樹脂膜上に蒸着される。 そして、 前述の如く、 活性化されたシリ コーン系樹脂膜との間に、 強力な接着力が発揮さ れる。 シリ コーン系樹脂膜と有機系基材との間は、 元々良好な接着性が確保され ている。 なお、 蒸着方法としては、 特に限定されず、 例えば真空蒸着装置、 スパ ッタ装置、 イオンプレーティ ング装置など公知の薄膜形成装置内に基材を配置し、 減圧下で蒸着薄膜の形成を行う方法が好ましい。
上記接着力の強化は、 二酸化ケイ素を含むシリ コーン系樹脂膜、 好ましくは低 温プラズマ処理されたシリコーン系樹脂膜を形成することによって達成されるも のであり、 他の樹脂膜では、 目標とする高い接着力は得られない。 シリ コーン系 樹脂膜表面の原子状態分析には、 X線光電子分光法を用いることができる。 また、 P
- 6 - 元素組成 (原子数の比率) 分析には、 ォージェ電子分光法を用いることができる £ さらに、 蒸着薄膜形成後の場合は、 イオンエッチング法を併用して、 膜を掘り下 げつつ分析する方法を用いることができる。
なお、 金属又は無機物を蒸着し蒸着薄膜を形成した後、 好ましくは 1 3 0 eC以 上、 より好ましくは 1 7 0て以上で熱処理することが好ましい。 かかる熱処理を することで、 蒸着薄膜の特に表面が酸化されて酸化薄膜となり、 薄膜強度が向上 するとともに、 後述の繳維布帛の干渉色がさらに鲜やかになり、 金属光沢とする ことができるので好ましい。 また、 蒸着薄膜を保護するために、 蒸着して熱処理 した後、 必要に応じて蒸着薄膜の上から保護層をコーティ ングしてもよい。
表 1に、 各樹脂を付与した場合、 およびプラズマ処理の有無の場合の耐久性を 比較して示すように、 シリコーン系樹脂、 それも特に低温プラズマ処理した場合 にのみ、 目標とする高い耐洗灌性、 耐摩耗性が得られる。 但し、 低温プラズマ処 理していないシリ コーン系樹脂には二酸化ケイ素は含まれていない。 なお、 表 1 はプラズマ処理および蒸着前に熱処理をした場合の比較である。
表 1
Figure imgf000009_0001
なお、 表 1に示した試験の条件は以下の通りである。 蒸着薄膜 : A l /S i OZC r
薄膜の耐洗濯性: J I S— L - 1 0 9 6 L - 5法
(対応 AATC C— 1 2 4 ) による, AATCC : Technical Manual of the American
Association of Textile Chemists and Colorists
酎摩耗性 : J I S— L - 0 8 4 9 I I型
(対応 AATC C - 8 ) による。
使用布帛 : ポリエステルフィラメ ン ト使用の平織物
(後述の実施例 1 と同一のもの)
本発明の蒸着製品およびその製造方法は、 蒸着薄膜が電磁波干渉薄膜、 たとえ ば光干渉薄膜の場合でも適用できる。 つまり、 光干渉薄膜を蒸着することにより、 干渉色を有する蛾維布帛又はシート状物を得る際にも適用できる。
この干渉色を有する繊維布帛又はシート状物においては、 前述のシリコーン系 樹脂膜が形成され、 それに低温プラズマ処理が施された後、 その上に光干渉薄膜 が蒸着される。
この光干渉薄膜は、 以下のような各種想様を採ることができる。
まず, 光干渉薄膜が透明層のみからなる場合、 図 1に示すように、 繊維布帛又 はシート状物からなる基材 1の片面又は両面のシリコーン系樹脂膜 2上に、 透明 層 3、 たとえば透明金属化合物薄膜からなる透明層 3カ^ 蒸着により設けられる c 該透明金属化合物薄膜の素材としては、 たとえば A 12 03 、 I n 2 03 、 C r 2 03 、 MgO、 S i O、 S i 02 、 T i O、 T i 02 、 A】 N、 T i N、 S i N4 . Mg F2 から選ばれた少なく とも一種を挙げることができる。
このような透明層 3が積層された基材 1においては、 表面側から入射した光 R の、 透明層 3の表面における反射光 R2 と、 裏面における反射光 R3 、 すなわち, 透明層と、 該透明層と隣接する基材 (あるいはシリコーン系樹脂膜 2) との境界 面での反射との干渉により、 発色する。
この発色は、 透明層 3の材質、 基材 1自身の色、 透明層 3の厚みによって種々 変化する。 とくに、 輝きのある発色を得るために、 透明層 3の厚みは、 4 0 O A 以上、 5 0 0 0 A以下であることが好ましい。
また、 光干渉薄膜は、 図 2に示すように、 基材 1側から反射層 4と透明層 3を 順次積層した 2層構造とすることによって形成してもよい。 反射層 4は、 たとえ ば可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以上 (好ましくは 9 0 %以上) の金 属薄膜からなり、 該反射金属薄膜の素材としては、 たとえば、 A l、 C u、 Ag、 Mg、 T i、 N i、 C o、 P t、 Au、 C r、 P e、 R hから選ばれた少なく と も一種を举げることができる。 このような反射層 4 も蒸着により設けることがで き、 反射層 4を構成する反射金属薄膜の厚みとしては、 5 0 O A以上あることが 好ましい。 この場合においても透明層 3の厚みは、 4 0 O A以上、 5 0 0 O A以 下であることが好ましい。
このような反射層 4、 透明層 3が順次積層された基材 1においては、 表面側か ら入射した光 Rの、 透明層 3表面における反射光 R2 と、 裏面における反射光 R 3 、 すなわち、 透明層 3と、 反射層 4 との境界面の反射光との干渉により、 発色 する。
また、 光干渉薄膜は、 図 3に示すように、 基材 1側から、 上記反射層 4 と、 透 明層 3と、 半透明層 5とをこの順に順次積層した 3層構造とすることによって形 成してもよい。 半透明層 5は、 たとえば可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以下の半透明金属薄膜からなり、 該半透明金属薄膜の素材としては、 A l、 C u、 Ag、 Mg、 T i、 N i、 C o、 P t、 I n、 C r、 S i、 Au、 Au/P tから選ばれた少なく とも一種を挙げることができる。 このような半透明層 5 も 蒸着により設けることができ、 半透明層 5を構成する半透明金属薄膜の厚みとし ては、 2 O A以上、 5 0 0 A以下が好ましい。 この場合においても透明層 3の厚 みは、 4 0 0 A以上、 5 0 0 0 A以下であることが好ましい。 また、 反射層 4の 厚みは、 5 0 0 A以上であることが好ましい。
このような反射層 4、 透明層 3、 半透明層 5が順次積層された基材 1において は、 表面側から入射した光 Rは、 半透明層 5の表面、 透明層 3の表面、 反射層 4 の表面 (透明層 3の裏面) でそれぞれ反射光 、 R2 、 R3 を生成し、 反射光 R , と R2 と R3 とが干渉して干渉色を発現する。
さらに、 光干渉薄膜は、 図 4に示すように、 基材 1側から、 上記透明層 3と半 透明層 5を順次積層した 2層構造とすることによって形成してもよい。 このよう な基材 1にあっては、 主として反射光 R2 と R3 との干渉により、 発色される。 また、 図示は省略するが、 光干渉薄膜の表面に、 必要に応じて保護膜をコ―テ ィ ング等により設けてもよい。 保護膜としては、 光干渉薄膜への光の入射、 光干 渉薄膜からの干渉色の発色を損なわないよう、 実質的に略完全に透明なものが好 ましい。 但し、 着色されていてもよい。
図 5は、 たとえば図 3に示した態様の光干渉薄膜を、 繊維製品の基材 1上に設 けたものを示しており、 その表面を拡大して示したものである。
上述のような光干渉薄膜を有する基材において、 基材が透明又は半透明のもの の場合には、 該基材の襄面側から、 基材を通して光干渉薄膜による干渉色を見る ことができる。 たとえば、 透明又は半透明の透明性繊維布帛の片面に、 前述と同 様のシリ コーン系樹脂層 (但し、 透明又は半透明のものに形成されている) を設 け、 その上に、 該透明性繊維布帛を透過してできた光の、 層表面における反射光 と層裏面における反射光との干渉により発色可能な、 実質的に透明な薄膜からな る透明層を設け、 該透明層の上に、 透明層を透過してできた光を反射させる反射 餍を設けた、 干渉色を有する透明性蛾維布帛である。
たとえば図 6に示すように、 透明性蛾維布帛 1 1の上に、 透明又は半透明の、 二酸化ケイ素を含むシリコーン系樹脂層 1 5を設け、 その上に透明曆 1 2、 反射 層 1 3を順次設けたものに棣成される。 また、 図 7に示すように、 シリコーン系 樹脂層 1 5と透明層 1 2との間に、 さらに半透明層 1 4を設けた棣成としてもよ い。
このような構成においては、 基材 1 1 (透明性繊維布帛) を透過してできた光 Rの反射光 R Hおよび R 1 2、 又は反射光 R u、 R 1 2および R 1 3が互いに干渉し、 基材 1 1 の裏面側から干渉色を見ることができる。
実 施 例
以下に、 本発明のより具体的な実施例について説明する。
実施例 1
ボリエステルフィ ラメ ン ト糸 (タテ 5 0デニール X 1 8 フィ ラメ ン ト、 略丸断 面維維とョコ 7 5デニール X 3 6 フィラメン ト、 略丸断面繊維) を平織 (タテ 1 1 0本ノィンチ、 ョコ 8 1本 インチ) とした繳物を精鍊仕上げした後、 ディ ッ プ法によりシリコーンを付与し、 1 6 0でで熱処理してシリコーン系樹脂を形成 した。 その後、 低温プラズマ処理を施し、 織物の片面に A 1を膜厚 8 0 0 Aにな るように金属薄膜を誘導加熱真空蒸着法により蒸着した。
使用したシリコーン系樹脂は、 メチルハイ ドロジエンポリ シロキサンェマルジ ヨンであり、 触媒としては亜鉛系のものを使用した。 ディ ップ法による処理条件 およびプラズマ処理の条件は以下の通りである。
デイ ツプ処理:
シリ コーン系樹脂含有量 7 %
亜鉛系触媒含有量 7 %
デイ ツプ処理絞り率 4 0 %
乾燥 ·キュア 1 6 0て X 2分、 連続
プラズマ処理:
真空度 4 0 P a
処理雰囲気 大気中
放電電力 5. 5 K V
処理速度 2 0 mZ分
処理面 P3 '面
結果、 A 1蒸着薄膜は摩擦や屈曲に対して、 織維との接着力強化が計られた。 実施例 1において、 シリ コーン樹脂付与後プラズマ処理することによって、 耐洗 濯性は 2极から 5极に、 耐摩耗性は 1极から 3极にそれぞれ向上した。 この時の 試験の条件は以下の通りである。
耐洗濯性: J I S - L一 1 0 9 6 L - 5法
(対応 A ATC C— 1 24 ) による。
耐摩耗性: J I S - L一 0 8 4 9 I I型
(対応 AATC C— 8 ) による。
また、 この実施例 1において、 低温プラズマ処理前後のシリ コーン系樹脂層の 表面を X線光電子分光法で分析し、 炭素原子とゲイ素原子の原子数比およびシリ コーン類中の S i と S i 02 中の S iの比率を表 2に示した。 その結果から、 低 温プラズマ処理することによって、 シリコーン系樹脂中で二酸化ケイ素が大幅に 増加することが判った。 このプラズマ処理によって生成された二酸化ケイ素が、 接着力向上に大きく寄与していると考えられる。 PC /JP94/013 一 1 2 表 2
Figure imgf000014_0001
なお、 X線光 ¾子分光法とは、 試料表面に照射された X線によって励起され表 面から放出される光 ¾子の強度を運動エネルギーの関数として測定し、 それから 光 ¾子スペク トルを得るものである。 物質の元素分析に利用できるとともに、 内 殻光電子のピーク強度比から物質の組成分析に利用できる。 また、 内殻光電子の 結合エネルギー値は同一の元素でも化学結合状態の違いによって変化するため、 状態分析も行なえる。
本実施例における X線光電子分光法の分析条件は次の通りである。
X線源 g k
X線出力 1 0 k V 2 0 mA
アナライザー
パスエネルギー W I DE S CAN 5 0 e V
NARROW S CAN 2 0 e V
分解能 1 e V
真空度 〜 1 x 1 0 -8m b a r
ジオメ ト リー Θ (脱出角) = 0°
実施例 2
高収縮ポリエステルフィラメント糸 ( 5 0デニール X 2 4フィラメント、 略丸 断面繊維、 沸水収縮率約 2 0 %) と低収縮ボリエステルフィラメント糸 ( 5 0デ ニール X 4 8 フィ ラメ ン ト、 略 3角断面繊維、 沸水収縮率約 7 %) とを引き揃え て流体混繊処理を施した後約 2 0 0回 の燃を与えて得た収縮差混繊糸を用い て織物 (経糸 :約 8 0本/ィンチ、 縴糸 :約 1 0 0本ノィンチ、 組織: 2ノ 2ッ ィル) を作り、 リラックス処理、 セッ ト、 アルカリ処理、 仕上げセッ トを施して 糸長差混織糸布帛とした。 その後、 ディ ップ法によりシリコーン樹脂を付与し、 乾燥 'キュアした。 さらにその上からプラズマ処理した後、 この糸長差混蛾糸布 帛の片面に図 3に示した態様の 3層構造の光干渉薄膜を誘導加熱真空蒸着法によ り蒸着した。 なお、 シリコーン系樹脂のディ ップ法による処理条件およびプラズ マ処理条件は実施例 1 と同じである。
反射層は A 1から構成して膜厚を 8 0 0 Aとし、 透明層は S i 0から構成して 膜厚をそれぞれ 8 0 0 A、 1 0 0 0 A、 1 2 0 0人、 1 5 0 0 Aとし、 半透明層 は C rから構成して膜厚を 3 O Aとした。 これら反射層、 透明層、 半透明層を蒸 着後、 1 7 0 °C 2分の条件で熱処理し、 さらにその上から保護膜としてポリジメ チルポリシロキサン系シリコーンをコ一ティ ングし 1 3 0。C、 2分の条件で熱処 理した。
結果、 下層蒸着薄膜が洗濯や摩擦、 屈曲に対して、 織維との接着力強化が計ら れた。 このことによって、 中間層、 上層とも脱落することなく透明層の膜厚 8 0 0 Aのものは、 青色を主体とした深みのある色が得られ、 膜厚 1 0 0 0 Aのもの は、 緑色を主体とした深みのある色が得られ、 膜厚 1 2 0 0 Aのものは、 黄色を 主体とした深みのある色が得られ、 膜厚 1 5 0 0 Aのものは、 赤色を主体とした 深みのある色が得られた。
この実施例 2において、 シリコーン樹脂付与後、 プラズマ処理することによつ て、 耐洗濯性は 3扱から 5級に、 酎摩耗性は 2級から 4极にそれぞれ向上した。 この時の試験の条件は以下の通りである。
耐洗濯性: J I S— L - 1 0 9 6 L - 5法
(対応 A A T C C - 1 2 4 ) による。
耐摩耗性: J I S - L— 0 8 4 9 I I型
(対応 A A T C C - 8 ) による。
得られた糸長差混繊糸布帛は、 見る角度によって複雑に色合いが変化するとと もに、 糸長差混鏃糸による表面凹凸が、 より立体感、 ふく らみ感のある、 しかも 各部の色が複雑に変化する、 高級感のある色調が得られた。
また、 低温プラズマ処理前後の表面を X線光電子分析光法で分析し、 炭素原子 とゲイ素原子の原子数比およびシリコーン類中の S i と S i 0 2 中の S i比率を 表 3に示した。 その結果から低温プラズマ処理することによってシリコーン樹脂 中に二酸化ゲイ素が増加することが判つた。
表 3
Figure imgf000016_0001
このように、 本発明の蒸着製品およびその製造方法によるときは、 中間剤中に 二酸化ケイ素、 とくにプラズマ処理により生成された二酸化ケイ素を存在させる ことにより、 基材と蒸着薄膜との間に極めて高い接着力を得ることができ、 蒸着 薄膜が剝雠しにく く、 優れた耐洗濯性、 耐摩耗性を有する繊維製品やシート状物 等を得ることができる。
産 業 上 の 利 用 可 能 性
本発明の蒸着製品は、 蒸着薄膜が極めて高い接着力をもって接着されるので、 高い耐洗濯性ゃ耐摩耗性が得られ、 とくに洗濯され、 く り返して使用される蒸着 薄膜形成繊維製品や、 シート状物に好適に適用できる。

Claims

言青 求 の 範 囲
1 . 有機系基材の表面の少なく とも一部に、 少なく ともシリコーン系樹脂と二酸 化ゲイ素とを含む中間剤を介して、 金属又は無機物を有する蒸着薄膜を備えてい ることを特徴とする蒸着製品。
2 . 前記二酸化ケイ素が、 プラズマ処理により生成されたものである請求の範囲 第 1項の蒸着製 αα ο
3 . 前記有機系基材がボリエステルからなる請求の範囲第 1項又は第 2項の蒸着 製品。
4 . 前記有機系基材がシ一ト状物である請求の範囲第 1項ないし第 3項のいずれ かに記載の蒸着製品。
5 . 前記有機系基材が繊維製品である請求の範囲第 1項ないし第 3項のいずれか に記載の蒸着製
6 . 前記中間剤の元素組成が、 少なく とも前記蒸着薄膜の近傍において、 炭素原 子 2に対しゲイ素原子が 1以上である請求の範囲第 1項ないし第 5項のいずれか に記載の蒸着製品。
7 . 前記蒸着薄膜が電磁波干渉薄膜からなる請求の範囲第 1項ないし第 6項のい ずれかに記載の蒸着製品。
8 . 前記電磁波干渉薄膜が、 表面側から入射した光の、 表面における反射光と裏 面における反射光との干渉により発色可能な、 実質的に透明な薄膜からなる透明 層を有する光干渉薄膜からなる請求の範囲第 7項の蒸着製品。
9 . 前記光干渉薄膜が、 前記透明層のみからなる請求の範囲第 8項の蒸着製品。
1 0 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以上である反射層と、 前記透明層を順次積層した 2層構造の薄膜からなる 請求の範囲第 8項の蒸着製品。
1 1 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以上である反射層と、 前記透明 Sと、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以下である半透明層とをこの順に順次積層した 3層構造の薄膜からなる請 求の範囲第 8項の蒸着製品。
1 2 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 前記透明層と、 可視光線領域におけ る平均反射率が 6 0 %以下である半透明層を順次積層した 2層構造の薄膜からな る請求の範囲第 8項の蒸着製品。
1 3 . 有機系基材の表面にシリ コーン系樹脂を付与し、 その上からプラズマ処理 を施し、 プラズマ処理面上に金属又は無機物を有する薄膜を蒸着することを特徴 とする蒸着製品の製造方法。
1 4 . 前記有機系基材の表面にシリコーン系樹脂を付与した後、 前記プラズマ処 理前に、 該シリコーン系樹脂を熱処理してシリコーン系樹脂層を形成する請求の 範囲第 1 3項の蒸着製品の製造方法。
1 5 . 前記蒸着処理が、 前記基材の少なく とも片面に、 表面側から入射した光の, 表面における反射光と裏面における反射光との干渉により発色可能な、 実質的に 透明な薄膜からなる透明層を有する光干渉薄膜を蒸着することにより行われる請 求の範囲第 1 3項又は第 1 4項の蒸着製品の製造方法。
1 6 . 前記光干渉薄膜が、 前記透明層のみからなる請求の範囲第 1 5項の蒸着製 品の製造方法。
1 7 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以上である反射層と、 前記透明層を順次積層した 2層構造の薄膜からなる 請求の範囲第 1 5項の蒸着製品の製造方法。
1 8 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以上である反射層と、 前記透明層と、 可視光線領域における平均反射率が 6 0 %以下である半透明層とをこの順に順次積層した 3層構造の薄膜からなる請 求の範囲第 1 5項の蒸着製品の製造方法。
1 9 . 前記光干渉薄膜が、 前記基材側から、 前記透明層と、 可視光線領域におけ る平均反射率が 6 0 %以下である半透明層を順次積層した 2層構造の薄膜からな る請求の範囲第 1 5項の蒸着製品の製造方法。
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