WO1994001419A1

WO1994001419A1 - Sulfamoyltriazole derivative and bactericide containing the same as active ingredient

Info

Publication number: WO1994001419A1
Application number: PCT/JP1993/000939
Authority: WO
Inventors: Yoshihiro Usui; Yoshimi Tsutsumi; Atsushi Goh; Seiichiro Yamada; Masako Yamanaka; Yoshihiro Takayama; Yoshie Kirio
Original assignee: Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.
Priority date: 1992-07-14
Filing date: 1993-07-08
Publication date: 1994-01-20
Also published as: EP0603415A1; US5527818A; AU662651B2; BG98647A; BG61973B1; CA2116220A1; AU4513893A; JPH0632785A; CA2116220C; EP0603415A4

Description

第 6表（続き）

第 6表（続き）

-1- 明細書スルファモイルトリアゾール誘導体及びそれを有効成分とする殺菌剤技術分野

本発明は、文献未記載の新規なスルファモイルトリアゾール誘導钵及びそれを有効成分とする殺菌剤に鬨するものである。冃、技術一onn

特開昭 6 3— 2 5 5 2 6 9号公報には、特定構造のスルファモイルトリアゾール誘導体が、抗真菌剤の有効成分として用いうることが記载されている。

しかしながら、これら公知の化合物の殺菌活性は必ずしも潢足すぺきものとは言い難い。発明の開示

本発明者らは、種々の置換スルファモイルトリアゾール系化合物について、殺菌活性が高く安全性の優れた農業用殺菌剤を開発すべく、鋭意研究の結果、トリァゾール環の 3位の炭素原子がある特定のァリ一ルスルホニル基またはァリールォキシスルホニル基で置換されているスルファモイル卜リアゾール誘導体は新規であり、農園芸作物に薬害を及ぼすことなく種々の病害に対して極めて低薬量で予防効果及び治療効果を発揮することを見いだし本発明を完成した。

(発明の要旨）

斯くして本発明によれば，一般式（ I ) ：

-2-

[式中、 R ¹ および R² は同一若しくは異なって低級アルキル基を表すか、 R ' および R ² が一緒になつて、低鈒アルキル基で置換されてもよい炭素数 6のアルキレン鎖を表し、 St は 0または 1の整数を表し、 Aは、

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低扱アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルボニル基、フエニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低扱アルケニル基、低級アルコキシ基、低鈒ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基、低扱アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルァミノ基を表わし； nは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し： R³ および R⁴ は同一若しくは異なって、水素原子または低釵アルキル基を表し、 Pは 1、 2、 3または 4の整数を表す）を表す]で示されるスルファモイルトリアゾール誘 ^、およびそれを有効成分として含有する殺茵剂が提供される。

(発明の具体的說明）

C I ] スルファモイルトリアゾール誘導体

本発明の上記一般式（ I )で表されるスルファモイルトリアゾール誘導 ί'ί:につ -3- いて詳細に説明する .

前記一般式（ I ) の化合物において、 R ' 、 P 、 R ³ 、 R ⁴ 、 Xおよび Yの定義におけるそれぞれの原子および基の具体例を以下に示す。

低級アルキル基：

例えば、メチル、ェチル、 n—プロピル、イソプロピル、 n—ブチル、イソブチル、第 2ブチル基等の如き炭素数 1〜4の低級アルキル基、

ハロゲン原子：

例えば、フッ素、塩素、臭素、

低級アルケニル基：

例えば、ァリル、 2—メチルー 2 —プロぺニル、 2—ブテニル、 3—ブテニル基等の如き炭素数 2〜4の低級アルケニル基、

低級アルコキシ基：

例えば、メトキシ、エトキシ、 n—プロポキシ、イソプロボキシ、 n—ブトキシ、イソブトキシ'、第 2ブトキシ、第 3ブトキシ基等の如き炭素数 1〜4の低級アルコキシ基、

低級ハロアルキル基：

例えば、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ジフルォロメチル、トリフルォロメチル、 2—クロロェチル、 2 —フルォロェチル基等の如き炭素数 1〜3の ί氐級ハロアルキル基、

低級ハ口アルコキシ基：

例えば、ジフルォロメトキシ、トリフルォロメトキシ、 2—クロ口エトキシ、 2 , 2—ジクロロエトキシ、 2 , 2， 2—トリクロ口エトキシ、 2—フルォロェトキシ、 3 —ブロモプロポキシ基等の如き炭素数 1〜3の低級ハロアルコキシ基低級アルキルカルボニル基：

例えば、メチルカルボニル、ェチルカルボニル、 η—プ π?ピルカルボニル、ィソプロピルカルボニル基等の如き炭素数 2〜4の ί氐扱アルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基：

冽えば、メトキシカルボニル、ェ卜キシカルボ二ル I —プロポキシカルボ二ル、ィソプロポキシカルボニル基等の如き炭素 2〜4の IS扱ァ几コキシカルボ -4- ニル基、

等が挙げられる。

上記に具体的に例示されていない基は、上記原子および基から任意に組み合わせて、あるい Xは一般的に知られた常識に従って選択することができる'。

前記一般式（ I ) 中、 R ¹および R ²における低級アルキル基としては、メチル、ェチル、 n—プロピルおよびイソプロピル基等が好ましい。

R ³および R こおける低 o級アルキル基としては、メチル、ェチルおよび n—プ口ピル基等が好ましい。

Xおよび Yにおけるハロゲン原子としてはフッ素および塩素原子が好ましく、低級アルキル基としてはメチル、ェチル、 n—プロピル、イソプロピル基等が好ましく、低級ハロアルキル基としてはトリクロロメチル、トリフルォロメチル基等が好ましく、低鈒ハロアルコキシ基としては、ジフルォロメトキシ、トリフルォロエトキシおよびテトラフルォロエトキシ基等が好ましい。 mは 1 , 2 , 3または 4であるのが好ましく、 nは 1 , 2または 3であるのが好ましく、 Pは 1、 2または 3が好ましい。

Aとしては、特に上記置換基で置換されたフエニル基が好ましく、具体的には 2 , 4—ジクロロ— 3—メチルフエニル基、 4 一トリフルォロメチルフヱニル基、 3 —クロ口フエニル基、 2 , 3—ジクロロフェニル基、 2 —クロ口一 4 —トリフルォロメチルフエニル基、 4—クロロフヱニル基および 3—トリフルォロメチルフヱニル基等が好ましい。本発明の前記一般式（ I ) で表される化合物の具体的構造を以下に例示する。

( 1 ) 前記一般式（ I ) において、が 1である場合：

( i ) 下記一般式（ I 一 1 )

-5-

[式中、 R¹ 、 R² 、 Xおよび mは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] ( ϋ )下記一般式（ I一 2 )

ノ R¹

—. N (1-2)

ヽ R²

[式中、 R¹ 、 R² 、 Yおよび nは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] ( Hi )下記一般式（ I一 3 )

[式中、 R' 、 R² 、 Yおよび nは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] (iv)下記一般式（ I一 4)

[式中、 R' 、 R² 、 R³ および R< は前記一般式 ( I ) と同じ意味を示す。 ] -6-

( v )下記一般式（ I

[式中、 R¹ 、 R² 、 R³ および R< は前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。]

(2)前記一般式（ I ) において、 αが 0である場合：

( vi )下記一般式（ I一 6 )

[式中、 R' 、 R² 、 Xおよび mは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] (vii)下記一般式（ I一 7 )

[式中、 R' 、 R² 、 Yおよび nは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] (vi)下記一般式（ I一 8)

[式中、 R' 、 R² 、 Yおよび nは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] ( ix )下記一般式（ I一 9 )

[式中、 R¹ 、 R² 、 R³ および R< は前記一般式（ I ) と同じ意味を示す ₀ ] ( X )下記一般式（ I一 10 )

( x ί)下記一般式（ I一 11 )

[式中、 X、 R R²および Pは前記一般式（ I ) と同じ意味を示す。 ] 前記一般式（ I )で表される本発明の化合物のうち、式（ I一 1〉に属する化合物の具体例を第 1表に、式（ Ϊ一 2) に属する化合物の具体例を第 2表に、式

( I一 3 ) に属する化合物の具体例を第 3表に、式（ I— 4 ) に属する化合物の具体例を第 4表に、式（ I一 5 ) に属する化合物の具体例を第 5表に、式（ I一 6 ) に属する化合物の具体例を第 6表に、式（ I一 7 ) に属する化合物の具体例を第 7表に、式（ I一 8) に属する化合物の具体例を第 8表に、式（ I一 9 ) に -8- 属する化合物の具体例を第 9表に、式（ I 一 1 0 ) に属する化合物の具体例を第 1 0表に、式（ I 一 1 1 ) に属する化合物の具体例を第 1 1表に、それぞれ示すなお第 1表〜第 1 1表中で用いられている略号の意味は下記の通りである。

Me =メチル基， Et =ェチル基， nPr= n—プロピル基， iPr=イソプロピル基， tBu= t—ブチル基

-9-

10-

11- 第 1表 (続き )

-12-

W 1

-13-

-14-

-15-

υΠϋΜΠΩ6

16- 第 1表（続き）

-17-

-18- 第 1表（続き）

-19-

-20-

-21- 第 4表

第 5表

化合物

N o . R¹ R² R³ R⁴

290 He He H H

291 Et Et H H

292 Me Me Me H

293 Et Et He H

294 e Me Me Me

295 Me Et Me Me

296 Et Et Me Me

297 Et nPr Me Me

298 Et iPr Me He

299 nPr nPr Me Me -22-

-23- 第 6表（続き）

ノレ

化合物

Rl R² 入 m

327 He He 4- iPr

328 Et Et 4-iPr

329 Me He 4-tBu

330 Et Et 4-tBu

331 Me Me 2-F

332 Et Et 2-F

333 Me Me 3-F

334 Et Et 3-F

335 He Me 4一 F

336 Et Et 4-F

337 Me Me 2-CI

338 Et Et 2 - CI

339 Me Me 3 - CI

Af ct し 1

341 Me He 4一 CI

34ク L·t L Pt 4一 Π 1

343 Mp Me クー Br

Ft Ft Ul

1 M IC Mp レ uウレ ii - "レ"

P bti

bt L一し il し Π——し fl«)

347 Me Me 2— OMe n 348 Et Et 2— OMe

349 Me Me 3-0He

350 Et Et 3 -OMe

351 Me Me 4-OMe

352 Et Et 4-0Me

353 Me He 3-OEt -24- 第 6表（続き）

化合物

N o . R¹ R² X_M m

354 Et Et 3-OEt

355 he Me 4-OEt

356 Et Et 4-OEt

357 ne Me 2- CF₃

358 Et Et 2 - CF₃

359 Me Me 3-CF₃

360 Et Et 3 - CF₃

361 Me He 4 - CF₃

Et Et 4 - CF₃

363 He Me 2-0CHF₂

364 Et Et 2-0CHF₂

365 He Me 4-0CHF₂

366 Et Et 4-OCHF

367 He Me 2-0CH₂CF₃

368 Et Et 2-0CH₂CF₃

369 He He 4-0CH₂CF₃

370 Et Et 4-0CH₂CF₃

371 Me Me 2-0CF₂CFClH

372 Et Et 2-0CF₂CFC!H

373 Me Me 2 - C₆H₅

374 Et Et 2 - C₆H₅

375 He Me 2 - CH₂C₆H₅

376 Et Et 2-CH₂CgH₅

377 Me Me 2-0CH₂C₆H₅ -25-

-26-

第 6表（続き）

第 6表 (続き)

化合物

N o . R¹ R²

528 he He 2,3,5,6—

529 Et Et 2,3,5,6-F₄

530 he He 2,3,4,5,6-F₅

531 Et Et 2,3,4,5,6— F₅

532 he Me 2,3,4,5, 6-Cl₅

533 Et Et 2,3, 4,5,6— Cl₅

534 Me Me 2.3.4,5,6- (He)₅

535 Et Et 2,3,4,5,6- (Me)₅

第 1 0表

化合物

N o . R¹ R² R³ R⁴

590 Me He H H

591 Et Et H H

592 Me Me Me H

593 Et Et Me H

594 Me Me Me Me

595 Me Et Me Me

596 Et Et Me Me

597 Et nPr Me Me

598 Et iPr Me Me

599 nPr nPr Me Me

次に本発明における前記一般式（ I ) の化合物の製造方法について説明する但し、本発明化合物はこれらの方法によって製造されたものに限定されない。

(I) cm)

溶媒

(I)一

osonun n

[式中、 Zはハロゲン原子、 A、、 R ' および R² は前記一般式（ I ) における定義と同じ意味を示す。 ]

本発明化合物（ I ) は、一般式（ Π )で示されるトリアゾール誘導体と、一般式（ΠΙ )で示されるスルファモイルハライドとを塩基の存在下、好ましくは溶媒中で反応させることにより得ることができる。その際、反応に供される試剤の量は、特に制限はないが、好ましくはトリアゾール誘導体（ Π ) 1当量に対してスルファモイルハライド（IE )は 1〜1 . 5当量、塩基は 1〜5当量である。反応温度は、氷冷下ないし溶媒の沸点の温度範囲で任意に設定できる。

反応時間は、設定条件によって変化するが、通常、 1 0分〜 2 4時間で終了させることができる。

溶媒としては、例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジォキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類：アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン、イソホロン、シクロへキサノン等のケトン類；ニトロェタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物；ァセトニトリル、イソプチロニトリル等の二トリル類；ビリジン、トリェチルァミン、 N , N—ジェチルァニリン、トリプチルァミン、 N—メチルモルホリン等の第三級ァミン； N , N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。

塩基としては、例えば、ピリジン、トリェチルァミン、 N， N—ジェチルァニリン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化力リゥム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。

反応終了後の反応液は、水を加えて、有機溶媒抽出および浸漬等の通常の後処理を行ない、必要ならば、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、中圧液体クロマトグラフィー等により精製することもできる。また、一般式（ Π ) で示されるトリァゾール誘導体は、下記（ 1 )および（ 2 ) の方法に従って製造することができるが、これらの方法によって製造されたものに限定されない。

( 1 )前記一般式において、 £ が 1である場合：

(IV) (V)

H

溶媒

( - 1 )

[式中、 Zはハロゲン原子、 Aは前記一般式（ I ) における定義と同じ意味を示す。 ] 一般式（ Π— 1 )で示される化合物は、一般式（ F )で示される化合物と、一般式（V )で示される化合物とを塩基性物質の存在下に適当な溶媒中で反応させることにより得ることができる。その際、反応に供される試剤の量は、特に制限はないが、好ましくは化合物（IV ) 1当置に対して化合物（V ) は1'〜1 . 2当量である。

反応温度は、氷冷下ないし溶媒の沸点の溫度範囲で任意に設定できる。

反応時間は、設定条件によって変化するが、通常、 1〜2 4時間で終了させることができる。

溶媒としては、例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジェチルエーテル、ジイソプロビルエーテル、ジォキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン、イソホロン、シクロへキサノン等のケトン類：ニトロェタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物：ァセトニトリル、イソプチロニトリル等の二トリル類：ビリジン、トリェチルァミン、 Ν , Ν—ジェチルァニリン、トリプチルァミン、 Ν—メチルモルホリン等の第三扱ァミン； Ν , Ν—ジメチルホルムアミド等の酸アミド；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。

塩基としては、例えば、ビリジン、トリェチルァミン Ν , Ν—ジェチルァニリン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。

生成物（ II一 1 ) は常法によって反応混合物から単離でき、再結晶、カラムク口マトグラフィーなどにより容易に精製することができる。

( 2 )前記一般式において、 α が 0である場合：

下記の A法または B法により、一般式（ Π— 2 )で示されるトリァゾール誘導体を製造することができる。 A法

A一 N+≡N C厂 +

(VI)

A S

(VII)

酸化剤

(Π - 2)

[式中、 Aは前記一般式（ I ) における定義と同じ意味を示す。 ]

一般式（VI )で示される化合物は、一般式（Ή )で示される化合物と、 3—メルカプト一 1 , 2 , 4—トリァゾールとを塩基性物質の存在下に適当な溶媒中で反応させることにより得ることができる。その際、反応に供ざれる試剤の量は、特に制限はないが、好ましくは化合物（Ή ) 1当量に対して 3—メルカプト一 1 ， 2 , 4—トリァゾールは 1〜： L . 2当量である。

反応温度は、一 2 0〜1 0 0 の温度範囲で任意に設定できる。

塩基性物質としては、例えば、炭酸アルカリ、苛性アルカリなどの無機物質を使用することができる。塩基性物質の使用量は、特に制限はないが、好ましくは化合物（Ή ) に対し、通常 1〜1 . 5当量が適当である。

生成物（VI ) は常法によって反応混合物から単離でき、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどにより容易に精製することができる。一般式（ Π— 2 )で示される化合物は、一般式（1 ) で示される化合物を酸化剤存在下に適当な溶媒中で反応させることにより得ることができる。その際、反応に供される試剤の置は、特に制限はないが、好ましくは化合物（W ) 1当量に対して酸化剤は 2〜 5当量である。

反応温度は、通常室温から 1 0 0^eCの温度範囲で任意に設定できる。反応時間は設定条件によって変化するが、通常 3 0分間〜 2 4時間で終了させることができる。

溶媒としては、例えば、アセトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジェチルエーテル等のエーテル類：齚酸ェチル等のエステル類；ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類：ベンゼン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素類； N , N—ジメチルホルムアミド、酢酸等の極性溶媒などを単独または混合して使用することができる。更に水と前記溶媒類との混合系も実施可能である。溶媒の使用量には特別な制限はないが、通常、化合物（ΉΙ ) の量の 5〜2 0重量倍が適当である。

酸化剤としては、メタクロ口過安息香酸等の芳香族過酸、過酢酸、過トリフルォロ酢酸等の脂肪族過酸、過酸化水素等が挙げられる。

生成物（ Π— 2 ) は常法により反応混合物から単離でき、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどのより容易に精製することができる。

B法

酸化剤

(Π - 2)

[式中、 Wはハロゲン原子、 Aは前記一般式（ I ) における定義と同じ意味を示す。 ] 一般式（VI )で示される化合物は、一般式（¾ ) に示される化合物と、 3—メルカプト一 1 , 2， 4一トリァゾールとを塩基性物質の存在下に適当な溶媒中で反応させることにより得ることができる。その際、反応に供される試剤の置は、特に制限はないが、好ましくは化合物（¾0 に対して 3—メルカプト一' 1，2 , 4— トリァゾールは 1〜 1 . 2当量である。

反応温度は、氷冷下ないし溶媒の沸点の溫度範囲で任意に設定できる。反応時間は設定条件によって変化するが、通常、 1〜2 4時間で終了させることができる。

溶媒としては、例えば、アセトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジェチルエーテル等のエーテル類；酢酸ェチル等のエステル類、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素類； N , N—ジメチルホルムアミド等の極性溶媒などを単独または混合して使用することができる。溶媒の使用量には特別な制限はないが、通常、化合物（IV ) の量の 5〜2 0重量倍が適当である。

塩基性物質としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基；ピリジン、トリェチルァミン、 N， N—ジェチルァニリン等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。

生成物（W )は常法によって反応混合物から単離でき、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどにより容易に精製することができる。

一般式（ Π— 2 ) に示される化合物は、一般式（VE ) で示される化合物より、 A法と同様の方法を用いて製造することができる。

[ Π ]殺菌剤

本発明の殺菌剤は、前記一般式（ I ) で示されるスルファモイルトリアゾール誘導体を有効成分として含有するものである。

本発明の前記一般式（ I )で示される化合物を殺菌剤として用いる場合には、担体もしくは希釈剤、添加剤、及び補助剤等と公知の手法で混合して、通常裊薬として用いられる製剤形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フロアブル剤等に調製して使用される。また他の II薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料及び土壌改良剤等と混合又は併用して使用することができる，

特に他の殺菌剤と混合使用することにより、使用薬量を滅少させ、.'また省力化をもたらすのみならず、両薬剤の共力作用による殺菌スペクトラムの拡大及び相乗作用による一層高い効果も期待できる。

製剤に際して用いられる担体もしくは希釈剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体が挙げられる。

固体担体としては、例えば、力オリナイト群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはボリグロスカイト群等で代表されるクレー類、詳しくはパイロフイラィト、ァタパルジャィト、セビオラィト、力オリナイト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タルク等の無機物質；石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、マグネシウム石灰、りん灰石、ゼォライト、無水ケィ酸、合成ケィ酸カルシウム等のその他無機物質；大豆粉、タバコ粉、クノレミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油樹脂、ァルキッド樹脂、ボリ塩化ビニル、ボリアルキレングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガム、ダンマルガム等の合成又は天然の高分子化合物：カルナウパロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が例示できる。

適当な液体担体としては、例えば、ケロシン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィン系又はナフテン系炭化水素：キシレン、ェチルベンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素；トリクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロルトルエン等の塩素化炭化水素；ジォキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；アセトン、メチルェチルケトン、ジィソブチルケトン、シクロへキサノン、ァセトフエノン、イソホロン等のケトン類；酢酸ェチル、酢酸ァミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレングリコールァセテ一ト、マレイン酸ジブチル、コハク酸ジェチル等のエステル類：メタノール、 n— へキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；エチレングリコールェチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あるいは水等が挙げられる。その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿潤、展着、.拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、流動性改良、防鑌、凍結防止等の目的で界面活性剤その他の補助剤を使用することもできる。

使用される界面活性剤としては、例えば、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性のいずれの化合物も使用しうるが、通常は非イオン性及び（又は）陰イオン性の化合物が使用される。

適当な非イオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、ォレイルアルコール、等の高級アルコールにエチレンォキシドを重合付加させた化合物；ブチルナフトール、ォクチルナフトール等のアルキルナフトールにエチレンォキシドを重合付加させた化合物；パルミチン酸、ステアリン酸、ォレイン酸等の高級脂肪酸にェチレンォキシドを重合付加させた化合物；ソルビタン等の多価アルコールの高级脂肪酸エステル及びそれにエチレンォキシドを重合付加させた化合物、エチレンォキシドとプロピレンォキシドをブロック重合付加させた化合物等が挙げられる。

適当な陰イオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ォレイルアルコール硫酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スルホこはく酸ジォクチルエステルナトリウム、 2—ェチルへキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩、ィソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メチレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のァリールスルホン酸塩等が挙げられる。

更に、本発明の殺菌剤には、製剤の性状を改善し、効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、アルブミン、二カヮ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチルセロース、メチルセルロース、ヒドロキシェチルセルロース、ボリビニルアルコール等の高分子化合物や他の補助剤を併用することもできる。

上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤系、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独あるいは組み合わせて適宜使用される。

このようにして得られた各種製剤形における本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化するものであるが、通常 0 . 1〜9 9重量％が適当であり、好ましくは 1〜8 0重置％が最も適当である。

水和剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常 5〜9 0 %含有し、残部は固体担体及び分散湿潤剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡射等が加えられる。

粒剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常 1〜3 5重量％含有し、残部は固体担体及び界面活性剤である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合されているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着又は吸着されており、粒の径は約 0 . 2ないし 1 . 5 mmである。

乳剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常 5〜8 0重量％含有しており、これに約 5ないし 2 0重量％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応じて展着剤及び防鐯剤等が加えられる。

フロアブル剤の場合は、例えば有効成分化合物を通常 5〜 5 0重量％含有しており、これに 3ないし 1 0重量％の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり必要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。

本発明のスルファモイルトリアゾール誘導体は、前記一般式（ I ) の化合物そのまま、あるいは上述した様な任意の製剤形態で殺菌剤として使用することができる。

本発明化合物の使用濃度は、対象作物、使用方法、製剤形態、施用量などの違いによって異なり、一概に規定できないが、一般式（ I ) で表される化合物量（有効成分量）として、茎棻処理の場合0.1〜10，00(^ 、好ましくは l〜500ppmであり、土壌処理の場合には10〜100,000 / 11 &、好ましくは 200〜20 ,000 g/ h a である。 [実施例]

次に、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。

( 1 )前駆体の合成

参考例 1

3— ( 2 ,4 ,6-トリメチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1， 2 ,4-トリァゾールの製造

2,4,6—トリメチルフエノール 4. lgをジクロロメタン 15m 1に溶解し、撹拌しながらトリェチルァミン 4.2m 1を加えた，さらに氷冷下、撹拌しながら 3—クロロスルホニルー 1，2 , 4—トリァゾール 4.6 gを徐々に加え、室温で 14時間撹拌した。 2 N塩酸を加えて分液し、有機層を水洗し、硫酸マグネシゥムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを n-へキサン Z酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 3.0 gを得た。参考例 2

3— （ 3，3—ジメチルー 2.3—ジヒドロべンゾフラン一 5—ィルーォキシスルホニル）一 1.2.4—トリァゾールの製造

3 ,3—ジメチルー 5—ヒドロキシー 2， 3—ジヒドロべンゾフラン 5.4 をテトラヒドロフラン 30mlに溶解し、撹拌しながらトリェチルァミン 4.6 m 1を加えた。さらに氷冷下、撹拌しながら 3—クロロスルホニルー 1 ,2, 4—トリアゾール 5.0 gを徐々に加え、室温で 14時閩撹拌した。テトラヒドロフランを減圧下で留去し、 2 N塩酸を加えて酢酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを _n-へキサン酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 2.7sを得た。参考例 3

3— （ 2.4—ジクロロー 3—メチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1 ,2 ,4 一トリァゾールの製造

2, 4ージクロロー 3—メチルフエノール 2.33 gをテトラヒドロフラン 1 5m lに溶解し、撹拌しながらトリェチルァミン 1.84m 1を加えた。さらに氷冷下、撹拌しながら 3—クロロスルホニルー 1 ,2,4—トリアゾール 2.0 g を徐々に加え、室温で 14時間撹拌した。テトラヒドロフランを滅圧下で留去し、 2N塩酸を加えて酢酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これ'を η-へキサン酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 2.25 gを得た。参考例 4

3— （4一トリフルォロメチルフヱ二ルチオ）ー1 ,2.4—トリァゾールの製

1

A) 漶塩酸 62.4mlを水 45m lに溶解し、 P—ァミノべンゾトリフルォライド 60gを加えた。これに水 60m 1に溶解した亜硝酸ナトリウム 28. 2 gを 5*0にてゆつくり滴下した後 30分間撹拌した。

B) 水酸化カリウム 25.1 gを水 100mlに溶解し 3—メルカプト一 1. 2, 4—トリアゾール 41.4gを加えた。

B)の反応液を 55°Cまで加温し、これに A)の反応液を徐々に加えた後 40 分間撹拌した。この反応液にクロ口ホルムを加え 20分間撹拌した後、不純物を沪過しクロ口ホルム層を水および飽和食塩水で洗铮した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を滅圧下留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一にて精製し、標題化合物 47.2 g (収率 52%) を得た。参考例 5

3— （4一二トロフエ二ルチオ）一 1.2,4—トリァゾールの製造

3—メルカプト一 1 ,2，4一トリァゾール 5 gを N， N—ジメチルホルムァミド 4 Omlに溶解し、水素化ナトリウム（鉱物油中 60%懸濁物） 2.17 gを 0 にて加えた。同温にて 1時間撹拌した後、 1一クロロー 4一二トロベンゼン 7.78gを加えた。 1時間室温で撹拌した後、 2時間加熱還流を行った。反応液に 10%塩酸を加え酢酸ェチル抽出し有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去して粗結晶を得た。これを n— へキサン/酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 7.72 g (収率 66%) を得た。参考例 6

3- (4ートリフルォロメチルフエニルスルホニル）一 1 , 2.4—'トリアゾールの製造

上記前駆体合成例 4に記載の方法に準じて合成した 3— （ 4一トリフルォロメチルフェ二ルチオ）一 1 , 2 , 4—トリァゾール 76.4 gを酢酸 400 m 1に溶解し、 7 CTCにて 30%過酸化水素水 140 gを加えた後、徐々に昇温し、 10 0 ^eCにて 3時間撹拌した。反応液を室温まで冷却しチォ硫酸ナトリウム水溶液を加え、析出した結晶を沪過することにより、標題化合物 66.4 g (収率 77% ) を得た。

(2)スルファモイルトリアゾール誘導体の製造

実施例 1

1一ジメチルスルファモイルー 3— （ 3—トリフルォロメチルフエニルォキシスルホニル）一 1.2,4 (化合物 No.59)の製造

上記前駆体合成例 1に記載の方法に準じて合成した 3— （ 3—トリフルォロメチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1，2 ,4—トリアゾール 1.0 gを、ァセト二トリル 10 m 1に溶解し、無水炭酸力リウム 0.57gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 0.59 gを徐々に加えた。 1時間加熱還流した後、反応液を水にあけ、酢酸ェチルにて抽出した。有 ¾層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、シリカゲルクロマトグラフィ一で精製し、標題化合物 1.33sを得た。実施例 2

1一ジメチルスルファモイルー 3— （4一トリフルォロメチルフヱニルォキシスルホニル）一 1，2，4ートリアゾール（化合物 No.61)の製造

上記前駆体合成例 3に記載の方法に準じて合成した 3— （4一トリフルォロメチルフェ二ルォキシスルホニル）一 1 , 2 , 4—トリァゾール 1.0 gを、ァセト二トリル 10 m 1に溶解し、無水炭酸力リウム 0.57gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 0.59gを铮々に加えた。 1時間加熟還流した後、反応液を水にあけ、酢酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、シリカゲルクロマトグラフィ一で精製し、標題化合物 1.18sを得た，実施例 3

1一ジメチルスルファモイルー 3— （4一クロロー 2—メチルフエニルォキシスルホ二ル）一 1.2.4—トリアゾール（化合物 No.124)の製造

上記前駆体合成例 1に記載の方法に準じて合成した 3— （ 4一クロロー 2—メチルフェ二ルォキシスルホニル）一 1， 2， 4一トリァゾール 0.57 gを、ァセトニトリル 10m 1に溶解し、無水炭酸カリウム 0.35gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 0.36 gを徐々に加えた。 1時間加熱還流した後、反応液を水にあけ、酢酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを n-へキサン Z酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 0.65 gを得た。実施例 4

1一ジメチルスルファモイルー 3— （ 2 ,4.6—トリメチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1，2.4—トリアゾール（化合物 No.192)の製造

上記前駆体合成例 1に記載の方法に準じて合成した 3— （2，4，6—トリメチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1 , 2 , 4—トリァゾール 24.2gをァセトニトリル 200 m 1に溶解し、無水炭酸力リウム 15.0 gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 15.6gを徐々に加えた。 1時間加熱還流した後、反応液を水にあけ、齚酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを π-へキサン Z酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 30.94 g を得た。実施例 5 1一ジメチルスルファモイルー 3— ( 2 ,4—ジクロロー 3—メチルフエニルォキシスルホニル）一 1 , 2, 4—トリァゾールー 3—ィル）スルホネート（化合物 No.206)の製造

上記前駆体合成例 3に記載の方法に準じて合成した 3— （2，4ージクロロー 3—メチルフエ二ルォキシスルホニル）一 1 , 2， 4一トリァゾール 1.0 gをァセトニトリル 15mlに溶解し、無水炭酸カリウム 0.54gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 0.56 gを徐々に加えた。 1時間加熱還流した後、反応液を水にあけ、酢酸ェチルにて抽出した。有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを II-へキサンノ酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 1.05 g を得た。

実施例 6

1一ジメチルスルファモイルー 3— ( 3 , 3—ジメチルー 2.3—ジヒドロベンゾフラン一 5—ィルーォキシスルホニル）一 1 ,2, 4—トリアゾール（化合物 No.294)の製造

上記前駆体合成例 2に記載の方法に準じて合成した 3— （ 3 , 3—ジメチルー 2 ,3—ジヒドロべンゾフラン一 5—ィルーォキシスルホニル）一 1，2 ,4—トリアゾール 1.00 gをァセトニトリル 10m 1に溶解し、無水炭酸カリウム 0. 56 gを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 0.58 gを徐々に加えた。 1時間加熱還流した後、反応液を水にあけ、酢酸ェチルにて抽出した。有檨層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して、粗結晶を得た。これを n-へキサン/酢酸ェチルから再結晶して、標題化合物 1.13 gを得た。実施例 7

1一ジメチルスルファモイルー 3— （4ートリフルォロメチルフエニルスルホニル）一 1.2.4—トリアゾール（化合物 No.361)の製造

上記前駆体合成例 6に記載の方法に準じて合成した 3— （ 4一トリフルォロメチルフエニルスルホニル）一 1，2 ,4—トリアゾール 66.4 gをァセトニトリル 500 m 1に溶解し、無水炭酸力リウム 75. Ogを加え、撹拌下室温にてジメチルスルファモイルク口ライド 50.6gを徐々に加えた。 2時閎加熱還流した後、反応液を水にあけ酢酸ェチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留まして粗結晶を得た。これを n—へキサン/酔酸ェチルから再結晶して標題化合物 42.7 g (収率 47% ) を得た。上記の実施例によって製造された物質、および同様の方法を用いて製造された物質の¹ H— NMRピーク値および融点を第 12表に示す。

第 1 2表

化合物

N o . NMR i (ppm) 溶媒 C D C l o J¾ CO

1 2.99(s，6H)、 7.1〜7.4(m，3H)、 117.0 - -118.4

23 1.18(s,3H)、 1.20(s，3H)、 3.05(s,6H) . 77.4- -80.6

3.32(sep,lH) 、 7.1〜7.4(m,4H)、 8.71(s,lH)

37 3.05(s，6H)、 7.2〜7.6(m，4H)、 8.69(s,lH) 117.8- -119.6 o 3n9 3.03(s,6H)、 7.1〜7.4(m,4H)、 8.65(s,lH)、 101.1〜102.9

8.01(d,2H) , 8.75(s,lH)

41 3.03(s，6H)、 7.1〜7.5(m，4H)、 8.63(s,lH)、 139.6 - -141.6

47 3.02(s,6H)、 3.67(s,3H)、 6.7〜7.5(m,4H)、 148.5 - 、151.0

8.77(s,lH)、

4S 2.99(s,6H)、 3.74(s,3H) . 6.6〜7.1(m,4H)、 74.5- -76.1

8.59(s,lH)

CO 3.01(s，6H)、 7.3〜7.6(m ,4H)、 8.59(s,lH) 油状物

C 0I1 3.01(s,6H)、 7.38,7.61 (ABq.lH) . 8.63(s,lH) 125.8 - -127.5

Q 01丄 3.04(s,6H)、 3.85(s,3H)、 7.26〜7.96(m，4H)、 131.3〜132.8

8.67(s,lH)

o 0o0 3.00(s,6H)、 3.87(s,3H)、 7.27.7.99(ABq,4H) . 127.7 - -130.0

8.60(s,lH)

O OQS 3.06(s,6H)、 7.47,8.20(ABq，4H)、 8.63(s,lH) 139.4- 、141.7

01

3丄 3.11(s,6H)、 7.44〜7.79(m,4H)、 8.63(s,lH) 135.2- 、137.6

93 3.08(s,6H)、 7·50〜7·68(ιη,4Η)、 8.72(s,lH) 136.9- -139.6

95 3.07(s,6H)、 7.43.7.72(ABq,4H) , 8.70(s，lH)、 184.9- -188.3

101 2.25(s，6H)、 3.05(s，6H)、 7.03(s,3H)、 100.1〜： 101.4

8.63(s,lH)

124 2.23(s，3H)、 3.00(s,6H)、 7.12(s,2H) 96.0- 、97.3

8.55(s,lH)

第 1 2表（続き）

化合物

N o . NMR ^ (ppm) 溶媒 C D C 1 ₃ (。c )

3.02(s,6H)、 7.1〜7.6(m，3H)、 8.63(s,lH) 116.7 - -119.3 丄 3.06(s,6H)、 7.2〜7.6(m,3H)、 8.65(s,lH)、 128.5 - -130.8 丄 34 3.03(s,6H)、 3.67(s,6H)、 6.3〜7.2(m,3H)、 156.2〜： 159.5

8.61(s,lH)

丄 1 β0メ 3.07(s,6H)、 7.5〜7.8(m,3H)、 8.71 (s,lH)、 109.3- -110.8 丄 οθ 3.08(s,6H)、 7.5〜7.65(m，2H)、 7.80(s,lH)、 117.6- -120.0

8.72(s,lH)

2.22(s,6H)、 2.26(s,3H)、 3.08(s，6H)、 113.4- 、115.7

6.86(bs,2H) 、 8.68(s,lH)

198 2.24(s,3H) . 2.34(s,3H) . 3.04(s，6H)、 131.5 - -133.5

8.59(s,lH)

20\ /6リ 2.44(s,3H) . 3.05(s，6H)、 7.28(s,2H)、 149.2〜151.6

8.63(s,lH)

210 3.06(s,6H)、 7.42(s，2H)、 8.66(s,lH) 3.6〜： 156.4

212 3.06(s，6H)、 7鳥，2H)、 8.64(s,lH) 140.5 - -142.8

216 3.03(s，6H)、 7.33(s,2H) . 8.62(s,lH) 149.3 - -151.2

284 1.34(s,6H)、 3.00(s,2H)、 3.03(s,6H) 136.7 - 、138.7

6.5〜7.2(m,3H)、 8.59(s,lH)

294 1.27(s,6H)、 3.00(s，6H)、 4.19(s ,2H) 108.4' -111.0

6.5〜7.2(m，3H)、 8.58(s,lH)

第 12表（続き）

化合物

No. NMR （ppm) 溶媒 CDC 1₃ M (^eo

301 3.05(s,6H)、 7.55〜7.75(m,3H)、 126.ト 128.5

310 2.68(s,3H)、 3.07(s，6H)、 7.34(d,lH)、 7.44(t,lH)、 113.6 14.0

312 2.45(s,3H)、 3.05(s,6H)、 7·42〜7·55(πι，2Η)、 102.1〜： 102.4

oo *f no ゥ II\ o 1 in

314 Z.46(s,3H) 3.06(s,6H) 7.39(d,ZH) _¾ lo7. ~lda.D

8.01(d,2H).8.75(s,lH)

337 3.04(s，6H)、 7.48〜7.70(m，3H)、 8.38(dd,lH), 133.0〜： 134.8 8.62(s,lH)

339 3-07(s,6H)、 7>54(t,lH)、 7-61〜7-70(m,lH〉、

/ .0 / - uo in，丄 nノ、 o · v ·丄、 m， inノ、 o · o丄 s ,丄 nノ

341 3.05(s,6H)、 7.57(d,2H).8.06(d,2H) 8.60(s,lH) 122.5 24.2

357 3.03(s,6H) 7.82〜7.97(m,3H) 8.55〜8.64(m,lH) 122.8 24.9 8.56(s.lH)

359 3.07(s,6H)、 7.77(t,lH)、 7.96(d,lH). 122.5 23.7 8.34(d'lH)、 8.40(s，lH)、 8.61(s,lH)

361 3.07(s.6H) 7.87(d,2H) 8.28(d,2H) 8.61(s,lH) 153.6〜155.6

363 3.04(s,6H)、 6.50(t,lH)、 7.13〜7.90(_m,3H)、 105.8〜10S.O

C c3 dd，丄 1U、 0,3tHS,itU

389 2,95(s,6H)、 8.31(d,2H).8.48(d，2H)、 9.46(s.lH), 189.5〜192.0

"ft甘 Mぐ Λ

492 2.28(s,3H)、 2.68(s,6H)、 3.02(s,6H)、 6,90(s,2H) 181.0〜； 185.7

0 r \S 丄 Πメ

506 2.51 (s,3H).3.05(s,6H)、 7.50(d,lH)、 8.11(d.lH). 148.0 52.5 8.53(s,lH)

540 3.06(s,6H)、 8.07〜8.53(m,2H)、 8.55(s,lH)、 139.4〜142.7 8.88(bs,lH)

610 3.05(s,6H).8.09(bs,lH)、 8.57(bs,lH)、 137.5〜； 139.5 8.61(s,lH) 次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数様態を示す。なお、下記製剤中の r 部 jは重置基準である。

製剤例 1 (乳剤〉

化合物 N o .192 1 0部キシレン 4 5部ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 7部ポリオキシエチレンスチリルフエニルエーテル 1 3部ジメチルホルムアミド 2 5部以上を均一に混合溶解して乳剤 1 0 0部を得た。

製剤例 2 (水和剤）

化合物 N o .361 2 0部ケイソゥ土 7 0部リグニンスルホン酸カルシウム 5部ナフタリンスルホン酸ホルマリン縮合物 5部以上を混合粉砕して水和剤 1 0 0部を得た。

製剤例 3 (粒剤）

化合物 N o .192 5部ベントナイト 5 0部タルク 4 2部リグニンスルホン酸ソーダ 2部ボリォキシェチレンアルキルァリールエーテル 1部以上を充分に混合した後、適量の水を加えて混鍊し、押し出し造粒機を用いて粒剤 1 0 0部を得た。

製剤例 4 (フロアブル剤）

化合物 N o .361 3 0部スルホコハク酸ジー 2—ェチルへキシルエステルナトリウム塩 2部ポリオキシエチレンノニルフエニルエーテル 3部消泡剤 1部プロピレングリコール 5部水 59部以上を湿式ボールミルで均一に粉砕混合し、フロアブル剤 100部を得た。上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用いた殺菌剤がそれぞれ製剤できる。

[殺菌剤の試験例]

次に試験例により、本発明殺菌剤による、各種植物病防除効果を具体的に説明する。

本発明の化合物及び殺菌剤は、ブドウのベと病 (Plasmopara viticola) 、ゥリ類のべと病 (Pseudoperonospora cubensis) 、立枯れ性病 ( Phytophthora welonis) 、トマトの灰色疫病 (Phytophthora capsici ) 、疫 (Phytophthora miestans) 、アブラナ科野采のへと？ H ( Peronospora brass icae) 、不のべと病 (Peronospora destructor) 、ホウレンソゥのべと病 (Peronospor s inaciae) 、ダイスのベと ( Peronospora manshuriea ) 、ソフマメのべこ？ ¾

( Peronosgoravic iae ) 、タノくコの疫? B ( Phytophthora nicotiana var.nicoti ana) 、ノヾレイショの疫病 (Phytophthora infestans) 、ホップのベと病 (Pseu do_ er nospora huraul i 、ノイ "ッ 7*ノレの疫? H ( Phytoptithora cinnamomi)、ビーマンの疫病 (Phytophthora capsici ) 、ィチゴの根腐病 (Phytophthora fragarie) 、各種作物の立枯れ病 ( Pythium属菌等による）等の卵菌類により引き起こされる韁広い植物病害に対して優れた防除効果を有している。なお、下記も試験例における評価は、病菌の接種 7日後に下記の基準により発病程度を調査し、発病度及び防除価を下記式により求めた。

m. 発病程度

発病が 12められない

小病斑面積が 1 3未満

中 " lZ3〜2/3未満

大 n 2Z3以上発病度 (％) I 00

発病 ¾g「健」の葉数

η 発病「小」の葉数

発病「中」の葉数

π. 発病程度「大」の葉数

Ν n^ + n' + n^n³ 処理区の発病度

防除価 (％)= ( ) X 100

無処理区の発病度試験結果は下記の評価基準に従い判定した。

評価基進

A ：防除価が 9 5%以上

B ： " 80〜95%未満

C ： " 50〜80%未満

D ： " 50 %未満試験例 1

キュウリベと病予防効果試験

直径 9 c mの塩ビボットにキユウリ種子（品種：相模半白）を 5粒づっ播種し温室内で 7日間育成した。子葉が展開したキユウリ幼苗に、製剤例 2に準じて調製した水和剤を有効成分濃度が 2 O O P P mになるよう水で希釈し、 1鉢当たり 1 0m l散布した。散布 1日後、キユウリへと？? ftf ( Pseudoperonospora cuben sis) の胞子懸濁液を噴霧接種し、 20での湿室内に 1日保った後温室で発病させた。評価結果を第 1 3表に示す。 W

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試験例 2

バレイショ疫病予防効杲試験

バレイショ（品種：メークイン）の葉に、製剤例 2に準じそ調製した水和剤を有効成分濃度が 20 Oppmになるよう水で希釈し、 1鉢当たり 1 Om 1散布した。散布 1曰後、バレイショ疫病（Phytophthora i if^i )の胞子懸濁液を噴霧接種し、 17^eCの湿室内に 1日保った後温室で発病させた。評価結果を第 1 4表に示す。

第 14表

化合物 No . M

61 A

206 A (発明の効果）

本発明の前記一般式（ I )で表される化合物は、ある特定のァリール基がスルホニル基を介して 1ースルファモイルー 1 , 2 , 4—トリァゾール環ど結合した精造有することが特徴であり、その構造的特徴によって該スルファモイルトリァゾール誘導体に優れた殺菌性能が発揮するものと考えられる。

Claims

請求の範囲一般式（ I ) ：

0 0

II II ノ R¹

、Ν' S - Nぐ ( I )

R²

0 0

[式中、 R ' および R² は同一若しくは異なって低級アルキル基を表すか、 R ' および R² が一緒になって、低級アルキル基で置換されてもよい炭素数 3 6のアルキレン鎮を表し、 H は 0または 1の整数を表し、 Aは、

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低扱アルキル力ルボニル基、フ Xニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低鈒ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルァミノ基を表し： nは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； R³ および P は同一若しくは異なつて、水素原子または低扱アルキル基を表し、 Pは 1、 2、 3または 4の整数を表す）を表す]

で示されるスルファモイルトリアゾール誘導体。

2 . 前記一般式（ I ) において、が 1であり、且つ Aが

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低鈒アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルボニル基、フエニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミ-ル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低扱アルキルカルボニル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルァミノ基を表し： nは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； R ³ およびは同一若しくは異なつて、水素原子または低級アルキル基を表す）である請求項 1記載のスルファモィルトリアゾール誘導体。

3 . 前記一般式（ I ) において、が 0である請求項 1記載のスルファモイルトリァゾール誘導体。

4 . 前記一般式（】）において、 Aが

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルボニル基、フエニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低扱アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表す）である請求項 1記載のスルファモイルトリァゾール誘導体。

5 . —般式（ I ) ：

0

^{A 0} - Nぐ ( I )

0 R2

[式中、 R ' および R² は同一若しくは異なって低扱アルキル基を表すか、 R ' および R ² が一緒になつて、低級アルキル基で置換されてもよい炭素数 3 6のアルキレン鎖を表し、 ί は 0または 1の整数を表し、 Αは、

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルゲニル基、伝級アルコキシ基、低级ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルポ二ル基、フエニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低扱アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； Yは水素子、ハロゲン原子、低扱アルキル基、低級アルケニル基、低釵アルコキシ基、低级ハロアルキル基、低扱ハロアルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルァミノ基を表し； nは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； R ³ およびは同一若しくは異なつて、水素原子または低級アルキル基を表し： Pは 1、 2、 3または 4の整数を表す）を表す]で示されるスルファモイルトリアゾール誘導体を有効成分として含有することを特徴とする殺菌剤。

6 . 前記一般式（ I ) において、 Iが 1であり、且つ Aが

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低扱アルキル基、低級アルケニル基、低鈒アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低鈒ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルボニル基、フニル基、フエノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； Yは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低级ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルカルボニル基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルァミノ基を表し； nは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表し； R³ およびは同一若しくは異なつて、水素原子または低級アルキル基を表す）である請求項 5記載の殺菌剤。

7 . 前記一般式（ I ) において、 H が 0である請求項 5記載の殺菌剤。

8 . 前記一般式（ I ) において、 Aが

(ここで Xは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低扱アルコキシ基、低級ハロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキル力ルポ二ル基、フ！ニル基、フヱノキシ基、ベンジル基、ベンジルォキシ基、ホルミル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シァノ基またはァセチルアミノ基を表し； mは 1、 2、 3、 4または 5の整数を表す）である請求項 5記載の殺菌剤。