WO1992018285A1 - Laser processing device - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a laser processing apparatus that processes a workpiece by irradiating a laser beam, and more particularly to a laser processing apparatus that prevents intrusion of spatter and the like into a processing head.
- FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus that has been widely used in the past.
- this laser processing equipment a laser oscillator
- the laser beam 2 emitted from 1 is reflected by mirrors 3 and 4 in the light guide path 12 and proceeds into the processing head 5. Then, the light is condensed by the parabolic mirror 6 and is irradiated on the surface of the workpiece 7.
- the auxiliary gas 10 is guided to the gas supply unit 9 through the gas pipe 8. The auxiliary gas 10 is emitted from the gas supply unit 9, throttled by the nozzle 11 and supplied to the workpiece 7. The surface of the workpiece ⁇ ⁇ is melted by the interaction between the laser beam 2 and the auxiliary gas 10, whereby laser processing is achieved.
- the present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of preventing a contaminant from entering a processing head.
- Another object of the present invention is to provide a laser machining apparatus expand its Abu 1 J Ke Sho emissions in the three-dimensional machining.
- a laser processing apparatus for processing a workpiece by irradiating a laser beam comprising: an optical component forming a light guide path of the laser beam; and an impeller provided between the optical component and the workpiece to rotate at a high speed.
- a laser processing apparatus characterized by having the following.
- FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
- Fig. 2 is a view of the impeller of Fig.
- FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
- FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional laser processing apparatus. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
- FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a laser processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
- the laser beam 2 is reflected by the mirror 4 in the light guide path 12 and proceeds into the processing head 5. Then, the light is condensed by the parabolic mirror 6 and is irradiated to the focal point 7a on the surface of the workpiece 7.
- the auxiliary gas 10 is guided to the gas supply unit 9 through the gas pipe 8. The auxiliary gas 10 is emitted from the gas supply unit 9, squeezed by the nozzle 11, and supplied to the workpiece 7. The surface of the workpiece ⁇ ⁇ is melted by the interaction between the laser beam 2 and the auxiliary gas 10, whereby laser processing is achieved.
- An impeller 20 is provided between the parabolic mirror 6 of the processing head 5 and the workpiece 7.
- the motor 21 is fixed to the side wall 51 of the machining head 5 and drives the impeller 20.
- the impeller 20 is rotated at high speed by the motor 21.
- FIG. 2 is a view of the impeller of FIG.
- Impeller 20 is 8 feathers 2 Consists of two.
- Each wing 22 has a thin rectangular shape and is made of a heat-resistant metal or ceramic. Further, it may be formed of a material that reflects the laser beam (for example, silver, brass, aluminum, and tin stain). In this case, since the wings 22 do not absorb the laser beam, they have an effect that the temperature does not rise.
- the impeller 20 is cooled as needed.
- contaminants 13 such as spatters fly from the workpiece 7 into the processing head 5.
- these pollutants 13 are bounced off. That is, even if the contaminant 13 flies and reaches the wing 22 and attempts to pass through the width W of the wing 22, the next wing 22 rotates and is reliably secured by the wing 22. Is bounced off.
- the number of the wings 22 is 8
- the width W of the wings 22 is 40
- the distance between the focal point 7a and the wings 22 is 100
- the height at which the spatters fly is 50 O.
- the number of revolutions required for the blade 22 to reliably bounce off the spatter as mra is obtained, it is 280 rpm.
- the speed of the laser beam 22 is light speed, which is much higher than the rotation speed of the wings 22. Therefore, the portion that is pushed by the wings 22 is very small and does not affect the laser processing.
- the impeller 20 is provided between the parabolic mirror 6 of the processing head 5 and the workpiece ⁇ , and the impeller 20 is configured to rotate at high speed. For this reason, the contaminants 13 such as spatters that have flown into the processing head 5 from the workpiece 7 during laser welding are reliably bounced off by the wings 22. Therefore, the optical components such as the parabolic mirror 6 and the mirrors 3 and 4 provided in the laser light guide path 12 are contaminated. --
- FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.
- the impeller 20 is driven by a high-speed gas flow injected from the injection nozzle 23.
- the high-speed gas at this time is supplied from the compressor 24.
- the injection nozzle 23 also has an effect of cooling the impeller 20. Further, when the injection nozzle 23 is provided inside the processing head 5, not only the effect of removing the pollutant 13 by the blade 22 but also the effect of removing the contaminant 13 by the high-speed gas flow can be expected.
- the impeller is provided between the optical component forming the light guide path of the laser beam and the workpiece, and the impeller is configured to rotate at high speed. For this reason, contaminants such as spatters that have flown from the workpiece into the laser beam processing head during laser welding are reliably bounced off by the wings. Therefore, optical components such as parabolic mirrors and mirrors provided in the light guide path can be completely protected from contamination by contaminants. Furthermore, during three-dimensional machining, even if the machining head faces upward, the contaminants are reliably bounced off by the impeller. For this reason, the application in three-dimensional laser processing is not restricted.
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Description
明 細 書 レーザ加工装置 技 術 分 野
本発明はレーザビームを照射して被加工物を加工するレーザ 加工装置に関し、 特に加工へッ ド内へのスパッタ等の侵入を防 ぐようにしたレーザ加工装置に関する。 背 景 技 術
近年、 レーザ加工装置を用いた金属加工技術が飛躍的に増加 している。 図 4は従来から多く使用されているレーザ加工装置 の概略構成図である。 このレーザ加工装置では、 レーザ発振器
1より出射されたレーザビーム 2は、 導光路 1 2内のミ ラー 3 および 4で反射し加工へッ ド 5内へ進む。 そして放物面鏡 6で 集光され、 被加工物 7表面に照射される。 一方、 図示されてい ないガスボンベからは、 補助ガス 1 0がガス配管 8を通じてガ ス烘給部 9に導かれる。 補助ガス 1 0は、 ガス供給部 9から出 射され、 ノ ズル 1 1で絞られ被加工物 7に供給される。 被加工 物 Ίの表面は、 レーザビーム 2 と補助ガス 1 0 との相互作用に より溶融し、 それにより レーザ加工が達成される。
しかし、 図 4のレーザ加工装置では、 被加工物 7からスパッ タ、 オイ ルミ ス ト (汚染ガス) 等の多量の汚染物質 1 3が飛散 し、 加工へッ ド 5内に侵入してしまう。 この汚染物質 1 3は、 放物面鏡 6を汚染し、 さ に導光路 1 2、 ミ ラー 3, 4等をも 汚染する。 したがって、 これらの部品を頻繁に清浄しなければ
ならず、 保守が困難になるという問題がある。 さらに、 3次元 加工用のレーザ加工機を用いて加工を行う場合には、 加工へッ ド 5の向きが横や上を向くので、 スパッタ等により一層汚染さ れやすくなる。 このため、 3次元加工では、 レーザ加工のァプ リケーショ ンに大きな制約があった。 発 明 の 開 示
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、 加工へ ッ ド内部への汚染物質の侵入を防ぐことのできるレーザ加工装 置を提洪することを目的とする。
また、 本発明の他の目的は、 3次元加工等におけるアブ 1 Jケ ーショ ンの拡大を図ったレーザ加工装置を提供することである。 本発明では上記課題を解決するために、
レーザビームを照射して被加工物を加工するレーザ加工装置 において、 前記レーザビームの導光路を構成する光学部品と、 前記光学部品と前記被加工物との間に設けられ高速で回転する 羽車と、 を有することを特徵とするレーザ加工装置が、 提供さ れる。
レーザビームの導光路を構成する光学部品と、 レーザ加工の 被加工物との間に羽車を設け、 高速で回転させる。 このため、 レーザ加工時に発生するスパッタゃオイ ルミ ス ト等の汚染物質 が加工へッ ドの内部に侵入してきても、 その汚染物質は羽車に よって弾き飛ばされる。 したがって、 レーザビームの導光路を 構成する光学部品等の汚染を防止することができる。 一方、 レ —ザビームは羽車によつて若干妨げられるが、 光速であるため カッ トされる部分はごくわずかであり、 レーザ加工に影響はな
い。 図 面 の 簡 単 な 説 明 図 1 は、 本発明の一実施例であるレーザ加工装置の概略構成 図、
図 2 は、 図 1の羽車の A矢視図、
図 3は、 本発明の第 2の実施例を示す図、
図 4は、 従来のレーザ加工装置の概略構成図である。 発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
図 1 は本発明の一実施例であるレーザ加工装置の概略構成図 である。 図 1 において、 図 4と同一の構成要素には同一の符号 が付してある。 レーザビーム 2は、 導光路 1 2内のミ ラー 4で 反射し加工へッ ド 5内へ進む。 そして放物面鏡 6で集光され、 被加工物 7表面の焦点 7 aに照射される。 一方、 図示されてい ないガスボンベからは、 補助ガス 1 0がガス配管 8を通じてガ ス供給部 9に導かれる。 補助ガス 1 0は、 ガス供給部 9から出 射され、 ノ ズル 1 1で絞られ被加工物 7 に供給される。 被加工 物 Ίの表面は、 レーザビーム 2 と補助ガス 1 0 との相互作用に より溶融し、 それにより レーザ加工が達成される。
加工へッ ド 5の放物面鏡 6 と被加工物 7 との間には羽車 2 0 が設けられる。 モータ 2 1 は加工へッ ド 5の側壁部分 5 1 に固 定され、 羽車 2 0を駆動する。 羽車 2 0はモータ 2 1 によって 高速回転する。
図 2は図 1の羽車の A矢視図である。 羽車 2 0は 8枚の羽 2
2から成る。 各羽 2 2は肉厚の薄い矩形状のものであり、 耐熱 性金属またはセラ ミ ックによって形成される。 また、 レーザビ ームを反射する材質 (例えば、 鋦、 真鍮、 アルミ、 タ ンダステ ン) によって形成してもよい。 この場合、 羽 2 2はレーザビー ムを吸収しないので高温にならないという効果をもつ。 なお、 羽車 2 0は必要に応じて冷却される。
レーザ加工時には被加工物 7から加工へッ ド 5内にスパッタ 等の汚染物質 1 3が飛んでく る。 しかし、 羽車 2 0は高速で回 転しているためにこれらの汚染物質 1 3は跳ね飛ばされる。 す なわち、 汚染物質 1 3が飛んできて羽 2 2に到達し、 羽 2 2の 幅 Wを通過しようとしても、 次の羽 2 2が回転してく るために、 その羽 2 2によって確実に跳ね飛ばされる。
ここで、 例えば、 羽 2 2の枚数を 8枚、 羽 2 2の幅 Wを 4 0 随、 焦点 7 aと羽 2 2との距離を 1 0 0 随、 スパッタが飛ぶ高 さを 5 0 O mraなどとして、 羽 2 2がスパッタを確実に跳ね飛ば すのに必要な回転数を求めると、 2 8 5 0 r p mとなる。 とこ ろで、 レーザビーム 2が羽 2 2によって妨げられることが考え られるが、 レーザビ一厶 2 2の速度は光.速であり、 羽 2 2の回 転速度に比べてはるかに速い。 したがって、 羽 2 2によって力 ッ トされる部分はごくわずかであり、 レーザ加工に影響はない。 このように、 加工へッ ド 5の放物面鏡 6と被加工物 Ί との間 に羽車 2 0を設け、 その羽車 2 0を高速回転させるように構成 した。 このため、 レーザ溶接時に被加工物 7から加工ヘッ ド 5 内に飛んできたスパッタ等の汚染物質 1 3は、 羽 2 2によって 確実に跳ね飛ばされる。 したがって、 レーザの導光路 1 2内に 設けられる放物面鏡 6、 ミ ラ一 3及び 4等の光学部品を、 汚染
- -
物質 1 3による汚染から完全に防護することができる。 さらに 3次元加工時に、 加工へッ ド 5の向きが横や上を向いても、 汚 染物質 1 3は羽車 2 0によって確実に跳ね飛ばされる。 このた め、 3次元レーザ加工でのアブリケ一シ ョ ンが制約を受けるこ ともない。
図 3は本発明の第 2の実施例を示す図である。 この実施例で は、 羽車 2 0を噴射ノズル 2 3から噴射される高速ガス流によ つて駆動する。 このときの高速ガスはコ ンプレッサ 2 4から供 給される。 この噴射ノズル 2 3は羽車 2 0を冷却する効果をも 有する。 さらに、 噴射ノズル 2 3を加工へッ ド 5の内部に設け ると、 汚染物質 1 3の羽 2 2による除去効果だけでなく、 高速 ガス流による除去効果をも期待することができる。
¾上説明したように本発明では、 レーザビームの導光路を構 成する光学部品と、 被加工物との間に羽車を設け、 その羽車を 高速回転させるように構成した。 このため、 レーザ溶接時に被 加工物からレーザビームの加工ヘッ ド内に飛んできたスパッタ 等の汚染物質は、 羽によって確実に跳ね飛ばされる。 したがつ て、 導光路内に設けられる放物面鏡、 ミ ラー等の光学部品を、 汚染物質による汚染から完全に防護することができる。 さらに、 3次元加工時に、 加工へッ ドの向きが橫ゃ上を向いても、 汚染 物質は羽車によって確実に跳ね飛ばされる。 このため、 3次元 レーザ加工でのァプリケーショ ンが制約を受けることもない。
Claims
1 . レーザビームを照射して被加工物を加工するレーザ加工 装置において、
前記レーザビームの導光路を構成する光学部品と、
前記光学部品と前記被加工物との間に設けられ高速で回転す る羽車と、
を有することを特徵とするレーザ加工装置。
2 . 前記羽車は、 耐熱性金属またはセラ ミ ックから成ること を特徵とする請求項 1記載のレーザ加工装置。
3 . 前記羽車は、 前記レーザビームを反射する材質から成る ことを特徵とする請求項 1記載のレーザ加工装置。
4 . 前記羽車は、 モータによって駆動することを特徵とする 請求項 1記載のレーザ加工装置。
5 . 前記羽車は、 高速ガス流によって駆動することを特徵と する請求項 1記載のレーザ加工装置。
6 . 前記羽車は前記レーザビームの導光路を構成する最^の 光学部品と前記被加工物の間に設けたことを特徵とする請求項 1記載のレーザ加工装置。
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