WO1992003811A1

WO1992003811A1 - Schichtmaterial sowie verfahren und vorrichtung zu seiner herstellung

Info

Publication number: WO1992003811A1
Application number: PCT/DE1991/000647
Authority: WO
Inventors: Heiner Kudrus
Original assignee: Heiner Kudrus
Priority date: 1990-08-14
Filing date: 1991-08-14
Publication date: 1992-03-05
Also published as: AU8325591A; DE4025746C2; DE4025746A1

Abstract

Offenbart wird ein Schichtmaterial mit einer taktartig unterbrochenen Musterschicht (2, 2'), die voneinander getrennte Abschnitte aufweist (10, 10'), und einer darübergelegenen Deckschicht (4, 4'), wobei das Schichtmaterial dadurch gekennzeichnet ist, dass die Deckschicht dieselbe taktartige Unterbrechung wie die Musterschicht aufweist, so dass durch die Taktfolge gebildete Abschnitte (12, 12') der Deckschicht mit den Abschnitten der Musterschicht jeweils an mindestens zwei Kanten abschliessen, wobei unterhalb der Musterschicht bzw. oberhalb der Deckschicht eine durchgehende Nebenschicht angeordnet ist, und dass die Musterschicht sowie die Deckschicht jeweils mindestens zwei Abschnitte umfassen.

Description

Schichtmaterial sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schichtmaterial sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung. Aus der DE-OS 3026482- Al, der DE-3345031-A1, der DE-3724267-A1, der US-3790945 und der US-4342904 sind bereits Schichtmaterialien bekannt, die aus unterschiedlichen Schichten in unterschiedlicher Rei¬ henfolge aufgebaut sind. Insbesondere sind Schichtmateria¬ lien bekannt, die aufgrund ihres Funktionszweckes bestimmte Musterschichten enthalten, welche jeweils ein für den be¬ stimmten Zweck bestimmtes Muster aufweisen. Derartige Mu¬ sterschichten sind grundsätzlich bekannt.

Der Oberbegriff des Anspruchs 1 geht aus von einem Schicht¬ material mit einer taktartig unterbrochenen Musterschicht, die voneinander getrennte Abschnitte aufweist, und einer darübergelegenen Deckschicht. Die Musterschicht dient bei¬ spielsweise als Identifikationskennung für verschiedene Wa¬ ren. Je nach Abstand und Länge der durch die Taktfolge vor¬ gegebenen Abschnitte läßt sich eine unterschiedliche Infor¬ mation kodieren. Ferner sind derartige Musterschichten in Verbindung mit Waren-Sicherungssystemen bekannt, bei denen das im Schichtmaterial befindliche Taktmuster der Muster¬ schicht eine Kennung für nicht ordnungsgemäß bezahlte Waren darstellt. Derartige Waren-Sicherungssysteme werden bei- spielsweise in Warenhäusern, in Bibliotheken und anderen öffentlich zugänglichen Einrichtungen aufgestellt.

Der Nachteil derartiger herkömmlicher Schichtmaterialien besteht darin, daß bei der Herstellung des Schichtmaterials mit taktartig unterbrochener Musterschicht Abfall entsteht, der nicht weiterverwendet wird. Derartige Herstellungsver¬ fahren sind daher unwirtschaftlich. Andererseits ist die Herstellung der Musterschichten auf fotomechanischem Wege nicht wirtschaftlich genug, um große Mengen derartiger Schichtmaterialien kostengünstig herzustellen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Schichtmaterial anzugeben, das einfach zu fertigen ist und bei dessen Herstellung nur wenig Abfall produziert wird.

Diese Aufgabe wird bei einem gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 ausgestalteten Schichtmaterial dadurch gelöst, daß die Deckschicht dieselbe taktartige Unterbrechung wie die Mu¬ sterschicht aufweist, so daß durch die Taktfolge gebildete Abschnitte der Deckschicht mit den Abschnitten der Muster¬ schicht an mindestens zwei Kanten abschließen, daß unterhalb der Musterschicht bzw. oberhalb der Deckschicht eine durch¬ gehende Nebenschicht angeordnet ist, und daß die Muster¬ schicht und die Deckschicht jeweils mindestens zwei Ab¬ schnitte umfassen. Es hat sich herausgestellt, daß es un¬ günstig ist, lediglich die gewünschte Musterschicht in einer Stanzvorrichtung herzustellen und anschließend mit einer zum Schutz bei der Weiterverarbeitung geeigneten Deckschicht zusammenzufahren. Es ist vielmehr günstig, Deckschicht und Musterschicht in einem einzigen Arbeitsgang herzustellen, wobei die Deckschicht mit demselben Muster wie die Muster- schicht versehen wird. Das erfindungsgemäße Schichtmaterial weist somit eine Musterschicht und eine Deckschicht auf, bevor es verarbeitet wird. Ferner werden die durch die StanzVorrichtung vorgegebenen Abschnitte so eingeschnitten, daß ein Haftkontakt der Musterschicht-Abschnitte mit den darüberliegenden Deckschichtabschnitten immer möglich ist. Auf diese bevorzugte Weise kann ein Stanzmesser eingesetzt werden, das in einem einzigen Stanzvorgang im wesentlichen quer zur Förderrichtung bzw. Vorschubrichtung des Schicht¬ material die Deckschicht und die darunter gelegene Muster¬ schicht einschneidet. Der einzelne Stanzvorgang schafft übereinanderliegende abschließende Abschnitte von Muster¬ schicht und Deckschicht. Die Nebenschicht ist erfindungsge¬ mäß ober- bzw unterhalb der taktartig unterbrochenen Mu¬ sterschicht vorgesehen, um die elekt onische Erfassung zu erleichtern. Es hat sich herausgestellt, daß bei Verwendung von Musterschichten in der Form von dünnen Metallstreifen eine zweite anliegende Nebenschicht in Form eines zweiten Metallstreifens die Erfassung und Identifizierung des Mu¬ sters bzw. der Taktfolge stark begünstigt.

Es ist bevorzugt, daß das Schichtmaterial eine Basis au^f¬ weist, auf der die Musterschicht angeordnet ist. Diese Anordnung empfiehlt sich zur besseren Stabilisierung des Schichtmaterials bei der Stanzung. Die Basis ist derart ausgestaltet, daß die von den Stanzmessern der StanzVor¬ richtung nicht verletzt wird und auf diese Weise als fort¬ laufenden Träger für das gestanzte Schichtmaterial dienen kann.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht bzw. die Basis eine taktartig unterbrochene Klebeschicht aufweisen, an der die Musterschicht, die Deckschicht und die Basis haften. Eine derartige Klebeschicht ist bevorzugt, weil sie einen günstigen Zusammenhalt von Deckschicht, Musterschicht und Basis bewirkt. Dabei wird bevorzugt eine beidseitig klebende Schicht verwendet, an deren Oberseite die Deckschicht und an deren Unterseite die Musterschicht und die Basis haften. Der Haftkontakt von Basis und Musterschicht ist gleichermaßen gewährleistet, da die Basis durch die unbeschichteten Flä¬ chen der Musterschicht hindurchgreifend an der Klebeschicht haftet.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Klebeschicht zwischen Deckschicht und Musterschicht angeordnet ist, und dasselbe Taktmuster wie die Deckschicht aufweist. Auf diese Weise ergibt sich ein günstiger Haftkontakt.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht und die Mu¬ sterschicht so übereinander angeordnet sind, daß jeder durch die Taktfolge vorgegebene Abschnitt der Musterschicht von einem entsprechenden Abschnitt der Deckschicht überdeckt ist. Bei dieser bevorzugten Ausfuhrungsform werden die durch die Stanzvorrichtung vorgegebenen Muster so eingeschnitten, daß ein Haftkontakt der Musterschicht-Abschnitte mit den darüberliegenden Klebstoff-beschichteten Deckschicht-Ab¬ schnitten immer sichergestellt ist.

Es ist ferner bevorzugt, daß das Schichtmaterial in einer Längsrichtung aufwickelbar ist und die Abschnitte der Deck¬ schicht in der Längsrichtung mit den entsprechenden Ab¬ schnitten der Musterschicht abschließen. Auf diese bevor¬ zugte Weise kann ein Stanzmesser eingesetzt werden, das in einem einzigen StanzVorgang gleichzeitig längs und quer zur Förderrichtung bzw. Vorschubrichtung des Schichtmaterial die Deckschicht und die darunter gelegene Musterschicht ein¬ schneidet. Der einzelne Stanzvorgang schafft übereinander- liegenden abschließende Abschnitte von Musterschicht und Deckschicht.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Abschnitte der Deckschicht in zumindest einer Querrichtung über die Abschnitte der Mu¬ sterschicht überstehen. Dadurch wird ein sicherer Verbund von Musterschicht und darüberliegender Deckschicht gewährlei¬ stet, wobei in der Praxis meist eine schmale streifenartige Musterschicht für die oben genannten Kodierzwecke ausreicht.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Nebenschicht im wesentli¬ chen dieselbe Breite wie die Musterschicht aufweist. Diese Ausgestaltung ist materialsparend.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht eine darüber- gelegene, nach außen sichtbare Oberschicht aufweist. Derar¬ tige Oberschichten sind ebenfalls im Stand der Technik be¬ kannt und dienen beispielsweise als Informationsträger, z.B. als Barcode zur maschinenlesbaren Identifikation oder als Träger eines Preisschilds. Die Oberschicht kann aber auch als Sichtblende dienen und von der Sicherungsfunktion des Schichtträgers ablenken.

Die Abschnitte der Musterschicht haben bevorzugt eine recht¬ eckige Form. Diese läßt sich einfach stanzen und ermöglicht die Verwendung eines streifenförmigen Musterschicht-Ma¬ terials.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Abschnitte in der Längs- richtung eine Abmessung haben, die im wesentlichen gleich ist dem Abstand zwischen den einander gegenüberliegenden Kanten zweier benachbarter Abschnitte (Freifelder) . Bei dieser Ausgestaltung sind die Lücken zwischen den Abschnit¬ ten genauso groß wie die Abschnitte selbst. Diese Ausge¬ staltung begünstigt das später beschriebene Verfahren zur Herstellung des Schichtmaterials.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Schrittweite der Abschnitte im wesentlichen doppelt so groß ist wie die Abmessung eines Abschnitts. Die Schrittweite gibt den Vorschub des Schicht¬ materials zwischen zwei Stanzvorgangen an und dieser ist im wesentlichen doppelt so groß wie die Abmessung eines Ab¬ schnitts, um die Lücke zwischen den Abschnitten im wesent¬ lichen gleich der Abmessung jedes Abschnitts zu machen.

Es ist bevorzugt, daß die Schichten die folgende Reihenfolge haben: Basis, Nebenschicht, Musterschicht, Deckschicht und Oberschicht. Dieser Aufbau begünstigt eine einfache Her¬ stellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials.

Es ist ferner bevorzugt, daß zwischen Basis und Nebenschicht bzw. zwischen Oberschicht und Deckschicht mindestens eine weitere Klebeschicht angeordnet ist. Dies erhöht den Zusam¬ menhalt des Schichtmaterials.

Es ist alternativ bevorzugt, daß die Schichten die folgende Reihenfolge aufweisen: Basis, Deckschicht, Musterschicht, Nebenschicht und Oberschicht. Auch bei diesem Aufbau ist die Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials begün¬ stigt. Bei dieser Ausführungsform ist ferner bevorzugt, daß zwi¬ schen Basis und Deckschicht bzw. zwischen Nebenschicht und Oberschicht mindestens eine weitere Klebeschicht angeordnet ist. Auch dies erhöht den Zusammenhalt.

Es ist bevorzugt, daß die Abschnitte der Musterschicht linksbzw. rechtsbündig mit den Abschnitten der Deckschicht abschließen. Diese Ausgestaltung ermöglicht eine einfachere Einstellung der StanzWerkzeuge und erhöht die Haftwirkung.

In einer weiteren bevorzugten Ausfuhrungsform ist vorgese¬ hen, daß die Musterschicht in Bereiche unterteilt ist, wobei jeder Bereich so aufgebaut ist, daß er eine auf der Kante eines im wesentlichen mittleren Abschnitts angeordnete Spiegellinie aufweist, und die einerseits der Spiegellinie befindlichen Abschnitte dieselbe Abmessung haben wie die spiegelsymmetrisch gelegenen Freifelder zwischen den an¬ dererseits der Spiegellinie gelegenen Abschnitten. Mit die¬ sem Aufbau ist die Konstruktion eines Schichtträgers mög¬ lich, dessen einerseits der Spiegellinie gelegene Teilbe¬ reiche beliebig gewählt sein können um unterschiedliche De- tektionsanforderungen zu erfüllen. Gleichzeitig ist die Herstellung eines derartigen in Bereiche unterteilten Schichtmaterials ohne Musterschicht-Abfall möglich.

Bei dieser Ausführungsform ist es bevorzugt, daß entspre¬ chende Bereiche einer Musterschicht und einer dazu komple¬ mentären Musterschicht so aufgebaut sind, daß der einerseits der Spiegellinie der Musterschicht gelegene Teilbereich spiegelsymmetrisch ist mit dem andererseits der ent¬ sprechenden Spiegellinie der komplementären Musterschicht gelegenen Teilbereich. Diese Gestaltung ermöglicht die ab- fallfreie Herstellung von Musterschicht und komplementärer Musterschicht in einem Arbeitsgang, wobei die gewonnenen Schichtmaterialien abgesehen von der entgegengesetzten Rei¬ henfolge der Abschnitte identisch sind. In dieser Ausfüh- rungsform sind somit zwei zueinander komplementäre Schicht¬ materialien herstellbar, die in ihrem einen Teilbereich je¬ weils beliebigen Aufbau haben. Der aufgrund des Aufbaus des einen Teilbereichs festgelegte andere Teilbereich ist je¬ weils komplementär zu dem gegenüberliegenden Teilbereich des komplementären Schichtmaterials.

Bei dieser Ausführungsform ist es ebenfalls bevorzugt, daß die Abmessungen der Abschnitte und Freifelder eines Teilbe¬ reichs von der Spiegellinie ausgehend zu- bzw. abnehmen. Wenn ein Teilbereich mit zunehmenden bzw. abnehmenden Ab¬ schnitten und Freifelder ausgestaltet ist, folgt auch der andere Teilbereich dieser Gestaltung, da die Abschnitte des einen Teilbereichs und die Freifelder des anderen Teilbe¬ reichs spiegelsymmetrisch sind. Auf diese Weise läßt sich ein Bereich mit zwei Teilbereichen konstruieren, die im we¬ sentlichen dieselbe Form haben. Bevorzugt nehmen die Ab¬ schnitte bzw. Freifelder gleichmäßig zu.

In einer weiteren Ausfuhrungsform sind zwei nebeneinander gelegene Musterschichten vorhanden. Dies hat den Vorteil, daß andere Detektionsmuster in der Doppelschicht erzeugt werden können.

In dieser Ausführungsform sind bevorzugt zwei nebeneinander gelegene Musterschichten vorhanden, deren Abschnitte derart gegeneinander versetzt sind, daß die Abschnitte der einen Musterschicht neben den Freifeldern zwischen den Abschnitten der anderen Musterschicht liegen und in Längsrichtung mit diesen abschließen. Mit dieser Ausgestaltung wird eine zickzack-förmige Musterschicht gebildet, bei der sich die Eckpunkte der innenliegenden Kante der einen Musterschicht mit den Eckpunkten der gegenüberliegenden innenliegenden Kante der anderen Musterschicht berühren. Somit ist ein Schichtmaterial herstellbar, das eine durchgehende ineinan¬ der verschachtelte Doppelschicht aufweist. Diese Modifika¬ tion ermöglicht eine einfache magnetische Erfassung des ma- gnetisierten Schichtmaterials. Die beiden Musterschichten bestehen bevorzugt aus zwei verschiedenen Metallen.

In dieser Ausführungsform ist alternativ bevorzugt, daß die Abschnitte der beiden Musterschichten teilweise gegenseitig überlappen. Dies hat den Vorteil, daß Musterschichten mit langen Abschnitten und kurzen Lücken erzeugt werden können.

Bei dieser Ausführungsform ist auch bevorzugt, daß die bei¬ den Schichten in Querrichtung einen bestimmten Abstand von¬ einander aufweisen. Der Abstand bewirkt, daß sich die Eck¬ punkte der gegenüberliegenden Innenkanten nicht mehr berüh¬ ren, sondern einen gewissen Abstand voneinander aufweisen. Dieser Abstand schafft eine zusätzliche verbesserte Detek- tierbarkeit, da Lücken von bestimmten Detektoren besser er¬ faßt werden.

Es ist ferner bevorzugt, daß die beiden Musterschichten entsprechende Deckschichten bzw. Klebeschichten aufweisen, die denselben Versatz gegeneinander bzw. Abstand voneinander haben. Auf diese Weise läßt sich das Schichtmaterial nach dieser Ausfuhrungsform so herstellen wie die Schichtmate¬ rialien der anderen Ausführungsformen, nämlich durch gleichzeitige Herstellung von getakteter Musterschicht und getakteter Deckschicht und durch versetztes Aufbringen zweier derartiger getakteter Schichten.

Es ist alternativ bevorzugt, daß die Abschnitte der Muster¬ schicht gegenüber der Längsrichtung angeschrägte Kanten aufweisen. Diese Gestaltung ermöglicht eine Variation der Form der einzelnen Abschnitte. Die schrägen Kanten können so gewählt werden, daß einzelne Punkte benachbarter Abschnitte näher aneinander liegen als durch die Freifeld-Länge bzw. die Schrittweite vorgegeben ist.

In dieser Ausführungsform ist bevorzugt, daß die Abschnitte die Form eines Parallelogramms haben. Die beiden parallelen Außenkanten des Parallelogramms sind bereits durch die Streifenform der Musterschicht vorgegeben. Die parallelo- gramm-artigen Abschnitte können prinzipiell so angeordnet werden, daß sich in Längsrichtung Überlappung zwischen den Abschnitten einstellt. Dies ist dann möglich, wenn die füh¬ rende Ecke des unteren Abschnitts auf der rechten Seite über die Höhe der unteren linken Ecke des darüberliegenden Ab¬ schnitts in Längsrichtung übersteht.

In dieser Ausfuhrungsform ist ferner bevorzugt, daß der in Längsrichtung gemessene Abstand der obersten Ecke eines Ab¬ schnitts von der untersten Ecke des benachbarten darüber- liegenden Abschnitts kleiner ist als der Abstand der ent¬ sprechenden gegenüberliegenden Kanten. Mit dieser Gestaltung läßt sich bei Einhaltung einer komplementären abfallfreien Herstellung ein Schichtmaterial erzeugen, dessen Abschnitte in Längsrichtung eine größere Abmessung haben als die Ab¬ messung des Freiabstands zwischen den Abschnitten. Durch die Scherung eines rechteckigen Abschnitts zum Parallelogramm rücken die Abschnitte jeweils um den doppelten Betrag der Höhe der Scherung zusammen.

Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials ist ein Verfahren vorgesehen, das gekennzeichnet ist durch Her¬ stellen eines Ausgangsmaterials mit einer Ausgangsschicht und einer darübergelegenen Deckschicht, Stanzen eines takt¬ artigen Schnittmusters in das Ausgangsmaterial, und Trennen des gestanzten Ausgangsmaterials in ein taktartig unterbro¬ chenes erstes Schichtmaterial und ein dazu komplementäres zweites Schichtmaterial. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials ist es möglich, aus musterlosen durchgehenden Ausgangsschichten und Deckschichten die erfindungsgemäßen Schichtmaterialien im wesentlichen ohne Abfall oder Ausschuß zu produzieren. Dabei wird der Umstand ausgenutzt, daß durch Bestanzen des Ausgangsmaterials ein taktartig unterbrochenes erstes Schichtmaterial und ein dazu komplementäres zweites Schichtmaterial entsteht, das gleich dem ersten Schichtma¬ terial weiterverarbeitet werden kann. Somit kann das gesamte Ausgangsmaterial weiterverarbeitet werden, und zwar sowohl der eigentliche durch das Stanzen freigelegte Musterkörper, als auch der dazu komplementäre Randkörper.

Es ist vorgesehen, daß das Ausgangsmaterial eine klebstoff- beschichtete Deckschicht bzw. klebstoffbeschichtete Basis aufweist. Auf diese Weise kann der Zusammenhalt von Aus¬ gangsschicht und Deckschicht bereits im Ausgangsmaterial gewährleistet werden.

Ferner ist bevorzugt, daß das Ausgangsmaterial eine unter- halb der Ausgangsschicht gelegene Basis aufweist. Zur Ge¬ währleistung eines fortlaufenden Trägers ist eine Basis vorgesehen, die von der Stanzung nicht erfaßt wird.

Ferner ist vorgesehen, daß das Ausgangsmaterial durch Zu¬ sammenfahren der klebstoffbeschichteten Deckschicht, der Ausgangsschicht und der Basis hergestellt wird. Ein derar¬ tiges Verfahren findet unmittelbar vor der Stanzung statt, damit die im Handel erhältlichen Ausgangsmaterialien ohne Modifikation eingesetzt werden können.

Ferner ist bevorzugt, daß das gestanzte Ausgangsmaterial getrennt wird durch Abziehen des komplementären zweiten Schichtmaterials. Das Stanzen erfolgt derart, daß der durch das Stanzen freigelegte Schichtkörper auf der im Ausgangs¬ material befindlichen Basis verbleibt, während der vom Schichtkörper getrennte Randkörper des Ausgangsmaterials von der Basis abgezogen wird.

Es ist ferner bevorzugt, daß das komplementäre zweite Schichtmaterial mit einer Basis zusammengefahren wird. Da bei dem abgezogenen komplementären zweiten Schichtmaterial die Basis fehlt, muß sie getrennt aufgebracht werden, damit das erste Schichtmaterial und das komplementäre zweite Schichtmaterial in gleicher Art und Weise weiterverarbeitet werden können.

Es ist ferner bevorzugt, daß das nach dem Trennen gewonnene erste und zweite Schichtmaterial aufgewickelt werden. Da im Anschluß an den Stanzvorgang zwei gleichermaßen weiterzuver¬ arbeitende Schichtmaterialien entstehen, muß der Produk¬ tionsprozeß eine Zwischenwicklung beider Schichtmaterialien vorsehen .

Es ist ferner vorgesehen, daß das nach dem Stanzen gewonnene erste und zweite komplementäre Schichtmaterial mit einer Oberschicht zusammengefahren wird. Die bereits oben erläu¬ terte Oberschicht wird mit dem erfindungsgemäßen Schichtma¬ terial zusammengefahren, um einen festen Verbund der Mate¬ rialien zu schaffen.

Die Oberschicht ist bevorzugt klebstoffbeschichtet, damit sie an der Deckschicht haftet.

Es ist ferner bevorzugt, daß die Oberschicht eine Basis aufweist, die vor dem Zusammenfahren mit dem Schichtmaterial abgezogen wird. Da die mit Klebstoff versehene Oberschicht in einem anderen Verfahrensabschnitt hergestellt wurde, muß sie eine Basis aufweisen, die den Klebstoff vor unbeabsich¬ tigten Kontaktnahme schützt. Vor dem Zusammenfahren ist diese Basis zu entfernen.

Es ist bevorzugt, daß das Schichtmaterial mit einer Neben¬ schicht zusammengefahren wird, wobei vorausgehend die Basis des Schichtmaterials abgetrennt wird. Die bereits oben er¬ läuterte Nebenschicht wird unterhalb der bereits bestehenden taktartig unterbrochenen Musterschicht aufgebracht und ist eine durchgehende nichtunterbrochene Schicht. Zwischenzeit¬ lich muß die Basis des Schichtmaterials abgetrennt werden.

Nach dem Zusammenfahren von Schichtmaterial und Nebenschicht wird eine neue (klebstoffbeschichtete) Basis aufgebracht, damit auch für das neue Produkt ein Träger vorhanden ist. Es ist ferner bevorzugt, daß das Schichtmaterial einer wei¬ teren Stanzung unterzogen wird, bei der mindestens zwei Randbereiche des Schichtmaterials abgetrennt werden. Dieser Verfahrensschritt ist notwendig, um die nach dem Stanzen verbleibenden Randbereiche bzw. Randstreifen des komplemen¬ tären zweiten Schichtmaterials abzutrennen. Die Randbereiche stehen gegenüber den Taktabschnitten des komplementären Schichtmaterials auf beiden Seiten vor und verursachen auf diese Weise einen ungleichmäßigen Schichtaufbau. Um diesen ungleichartigen Aufbau des weiterverarbeiteten ersten Schichtmaterials und des weiterverarbeiteten komplementären zweiten Schichtmaterials zu verhindern, werden beide Schichtmaterialien der genannten Stanzung und Abtrennung ihrer Randbereiche unterzogen, wobei die Stanzung so ausge¬ staltet ist, daß auch von dem ersten Schichtmaterial (ohne Randstreifen) ein gewisser Randbereich abgetrennt wird. Im Rahmen dieser Endstanzung kann das Schichtmaterial aber auch quer zur Förderrichtung getrennt werden, um Schichtmaterial mit einer bestimmten Länge herzustellen.

Ferner ist bevorzugt, daß das in seiner Länge unterteilte Schichtmaterial um einen bestimmten Winkel gedreht wird. Dieser Verfahrensschritt empfiehlt sich, um das in einer bestimmten Länge vorliegende Schichtmaterial auf eine im Winkel verlaufende Förderbahn, beispielsweise eine Etiket¬ ten-Förderlinie, aufzubringen.

In dieser Ausführungsform ist es bevorzugt, daß das Schichtmaterial um 90° gegenüber einer Basis bzw. einem ex¬ ten Träger gewendet wird. Dieser Schritt empfiehlt sich für eine Verwendung des Schichtmaterials unter bzw. auf Etiketten, die das Schichtmaterial entlang ihrer Längsachse tragen, jedoch in Querrichtung gefördert werden.

Ferner ist eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin¬ dungsgemäßen Herstellungsverfahrens angegeben, die gekenn¬ zeichnet ist durch eine Stanzvorrichtung zum Bestanzen eines Ausgangsmaterials in ein erstes und ein komplementäres zweites Schichtmaterial; eine Trenneinrichtung zum Abziehen des ersten Schichtmaterials; eine Auftragseinrichtung zum Aufbringen einer neuen Basis auf das komplementäre zweite Schichtmaterial, und eine Abzieheinrichtung zum Abziehen des komplementären zweiten Schichtmateriais mit Basis. Diese Vorrichtung ist zur Durchführung des Verfahrens geeignet, da sie die Trennung des Ausgangsmaterials und die gleichartige Weiterverarbeitung der beiden zueinander komplementären Schichtmaterialien gestattet.

Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten der vorliegenden Erfindung ergebώn sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung.

Fig. la zeigt ein erfindungsgemäßes Schichtmaterial.

Fig. lb zeigt ein zum Schichtmaterial von Fig. la komple¬ mentäres Schichtmaterial.

Fig. 2a zeigt eine Aufsicht auf das in Fig. la gezeigte Schichtmaterial.

Fig. 2b zeigt eine Aufsicht auf das in Fig. lb gezeigte komplementäre Schichtmaterial. Fig. 3a zeigt eine alternative Ausfuhrungsform des Schicht¬ materials von Fig. la.

Fig. 3b zeigt eine alternative Ausführungsform des Schicht¬ materials von Fig. lb.

Fig. 4 zeigt den Aufbau des weiterverarbeiteten Schichtma¬ terials der Fig. la und lb perspektivisch.

Fig. 5 zeigt den Aufbau des weiterverarbeiteten Schichtma¬ terials der Fig. 3a und 3b perspektivisch.

Fig. 6a bis 6f zeigen den Aufbau des Schichtmaterials in den einzelnen Verfahrensschritten.

Fig. 7 zeigt den Aufbau des Schichtmaterials nach Fig. 6f perspektivisch.

Fig. 8 zeigt ein Schichtmaterial mit gewendeten inneren Schichten.

Fig. 9 zeigt ein Schichtmaterial mit linksbündiger Anordnung der Musterschicht.

Fig. 10 zeigt eine Ausführungsform des Schichtmaterials mit beliebig gestalteten Teilbereichen.

Fig. 11 zeigt eine weitere Ausführungsform des Schichtmate¬ rials mit zwei nebeneinanderliegenden Musterschichten.

Fig. 12 zeigt eine Kombination der Ausführungsformen von Fig. 10 und Fig. 11. Fig. 13a zeigt eine Aufsicht auf ein Schichtmaterial nach Fig. 10.

Fig. 13b zeigt eine Aufsicht auf ein komplementäres Schichtmaterial nach Fig. 10.

Fig. 14a zeigt eine Aufsicht auf ein Schichtmaterial nach Fig. 11.

Fig. 14b zeigt eine Aufsicht auf ein komplementäres Schichtmaterial nach Fig. 11.

Fig. 15a zeigt eine Aufsicht auf ein Schichtmaterial nach Fig. 12.

Fig. 15b zeigt eine Aufsicht auf ein komplementäres Schichtmaterial nach Fig. 12.

Fig. 16a zeigt eine Aufsicht auf eine weitere Ausführungs¬ form des Schichtmaterials mit angeschrägten Muster¬ schichtabschnitten.

Fig. 16b zeigt eine Detailansicht der Musterschicht-Ab¬ schnitte in der Ausführungsform von Fig. 16a.

Fig. 17 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin¬ dungsgemäßen Verfahrens.

Fig. 18 zeigt eine Vorrichtung zur Herstellung der erfin¬ dungsgemäßen Oberschicht. Fig. 19 zeigt eine Vorrichtung zum Aufbringen einer Ober¬ schicht und einer Nebenschicht auf das erfindungs¬ gemäße erste Schichtmaterial.

Fig. 20 zeigt eine Vorrichtung zum Aufbringen einer Ober¬ schicht und einer Nebenschicht auf ein komplemen¬ täres zweites Schichtmaterial.

Fig. 21a zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des Ab¬ trennens der Randbereiche.

Fig. 21b zeigt eine Detailansicht der Vorrichtung von Fig. 21a.

Fig. 22 zeigt das Aufbringen des gewendeten Schichtmaterials auf einen Etikettenträger.

Fig. 23a zeigt eine Aufsicht auf ein Ausgangsmaterial für eine weitere Ausführungsform der Erfindung.

Fig. 23b zeigt ein erstes Schichtmaterial in dieser Ausfüh¬ rungsform.

Fig. 23c zeigt eine Aufsicht auf ein dazu komplementäres Schichtmaterial dieser Ausführungsform.

In Fig. la ist der Aufbau eines erfindungsgemäßen Schicht¬ materials gezeigt. Dieses besteht aus einer Basis in Form von Silikonpapier 6, einer darubergelegenen Musterschicht in Form eines getakteten Metallstreifens 2 mit einzelnen recht¬ eckigen Abschnitten 10, einer Klebeschicht 8 und einer Deckschicht 4, die in Form eines Films mit rechteckigen Taktabschnitten 12 vorliegt. Die Taktabschnitte 12 dieses erfindungsgemäßen Schichtmaterials sind auf ihrer einen Seite durch einen durchgehenden Randstreifen 26 verbunden und auf der anderen Seite durch einen durchgehenden Rand¬ streifen 28. Die zwischen den Abschnitten 12 der Deckschicht 4 gelegenen Freifelder 13 haben dieselbe Breite und Länge wie die Abschnitte 12. Die beiden Randstreifen 26 und 28 fassen sowohl die Abschnitte 12 als auch die Freifelder 13 ein. Die unter der Deckschicht 4 befindliche Klebeschicht 8 hat denselben Aufbau wie die Deckschicht 4 und daher die¬ selben durch die Taktfolge vorgegebenen Abschnitte und Freifelder. Die Musterschicht besteht aus den Muster¬ schicht-Abschnitten 10 und den dazwischen befindlichen, ebenfalls rechteckigen Musterschicht-Freifeldern 11. Als Ausgangsmaterial zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials wird ein durchgehender Metallstreifen und ein durchgehender Filmstreifen als Deckschicht verwendet. Die nach der Stanzung entstehenden Abschnitte 12 der Deck¬ schicht 4 und Abschnitte 10 der Musterschicht 2 schließen in Längsrichtung miteinander ab, während die Abschnitte 12 in Querrichtung über die Abschnitte 10 überstehen. Dasselbe gilt für die Freifelder 13 der Deckschicht 4, die über die entsprechenden Freifelder 11 der Musterschicht 2 überstehen. Im Falle einer mit Klebeschicht 8 verwendeten Deckschicht 4 weist auch die Klebeschicht 8 entsprechende Taktabschnitte auf.

In Figur lb ist eine weitere Ausfuhrungsform des erfin¬ dungsgemäßen Schichtmaterials gezeigt, nämlich ein komple¬ mentäres Schichtmaterial, das zum Aufbau von Fig. la kom¬ plementär ist. Der Aufbau dieses zweiten Materials besteht aus einer als Trägerschicht dienenden Basis 6 aus Silikon- papier, einer darubergelegenen Musterschicht in Form eines Metallstreifens 2' mit rechteckigen Abschnitten 10' , einer darubergelegenen Klebeschicht 8' und einer nach oben ab¬ schließenden Deckschicht 4'. Das in Fig. lb dargestellte erfindungsgemäße Schichtmaterial entsteht ebenfalls aus ei¬ nem durchgehenden als Ausgangsschicht dienenden Metall¬ streifen und einer darubergelegenen durchgehenden Deck¬ schicht. Die Deckschicht 4¹ weist rechteckige Abschnitte 12' und dazwischenliegende Freifelder 13' auf. Die Abschnitte 12' der Deckschicht 4' schlie-ßen in Längsrichtung, d.h. Wickelrichtung, mit den Abschnitten 10' der Musterschicht 2' ab, stehen jedoch in Querrichtung über diese über. Die Kle¬ beschicht 8* hat denselben Aufbau wie die Deckschicht 4' . Das in Fig. lb gezeigte zweite Schichtmaterial verbleibt auf der Basis 6', während das in Fig. la gezeigte erste Schichtmaterial mit den Schichten 2, 4, 8 abgezogen und mit einer neuen Basis 6 versehen wird.

Fig. 2a zeigt eine Aufsicht auf das erste Schichtmaterial von Fig. la. Die durch Stanzung freigelegten Freifelder 13 der Deckschicht 4 legen die unterliegende Basis 6 frei. Die filmartige Deckschicht 4 ist teilweise transparent, so daß die Abschnitte 10 der Musterschicht 2 schwarz durchscheinen. Die Randstreifen 26 und 28 sind mit den Abschnitten 12 der¬ art verbunden, daß lediglich die Freifelder 13 ausgenommen sind.

Fig. 2b zeigt eine Aufsicht auf das komplementäre zweite Schichtmaterial von Fig. lb. Die Abschnitte 10' der Muster¬ schicht 2* scheinen durch die teilweise transparenten Ab¬ schnitte 12' der Deckschicht 4' durch. Die Freifelder 13' zwischen den Abschnitten 12' der Deckschicht 4¹ legen das Schichtmaterial bis auf die Basis 6¹ frei.

In Fig. 3a und 3b ist eine alternative Ausfuhrungsform der in den Fig. la und lb dargestellten Schichtmaterialien ab¬ gebildet, bei der nicht eine klebstoffbeschichtete Deck¬ schicht, sondern eine klebstoffbeschichtete Basis verwendet wird. Der Aufbau der in den Fig. 3a und 3b gezeigten Schichtmaterialien liegt demzufolge in Form derselben Schichten aber in unterschiedlicher Reihenfolge der Schich¬ ten vor. Der Aufbau besteht aus der zugrundeliegenden Basis 6, 6' aus Silikonpapier, der darubergelegenen Klebeschicht 8, 8' , der darüoer angeordneten Musterschicht 2, 2' in Form eines getakteten Metallstreifens und der abschließenden Deckschicht 4, 4'. Es sind dieselben Abschnitten 10, 10• der Musterschicht 2 , 2* und Abschnitte 12, 12* der Deckschicht 4, 4' vorgesehen. Im Gegensatz zum Aufbau der Fig. la und lb hat dieser Aufbau den Vorteil, daß hier die Abschnitte 10, 10* der Musterschicht 2, 2' selbst an der Basis 6, 6' haf¬ ten. Die beidseitig klebende Klebeschicht 8, 8¹ stellt da¬ gegen nur einen mittelbaren Klebkontakt zwischen Muster¬ schicht 2, 2* und Deckschicht 4, 4' her.

Fig. 4 zeigt den Aufbau des weiterverarbeiteten Schichtma¬ terials der Fig. la und lb. Gegenüber der bereits beschrie¬ benen Musterschicht 2 , Klebeschicht 8 und Deckschicht 4 ist von unten eine Nebenschicht in Form eines durchgehenden schmalen Metallstreifens 14 aufgebracht, der durch einen auf die Basis 24 aus Silikonpapier geschichteten Kleber 18 sta¬ bilisiert ist. Von oben ist eine ebenfalls mit Klebeschicht 20 versehene Oberschicht 16 aufgebracht, die nach außen sichtbar ist und das Schichtmaterial nach oben visuell ver¬ schließt. Die Oberschicht 16 hat im wesentlchen dieselbe Breite wie die Deckschicht 4.

Fig. 5 zeigt den Aufbau des weiterverarbeiteten Schichtma¬ terials von Fig. 3a und 3b, der analog zum Aufbau von Fig. 4 ebenfalls eine durchgehende Nebenschicht 14, einen darun¬ terliegenden Kleber 18 und eine abschließende Silikonbasis 24 aufweist. Nach oben ist der Aufbau ebenfalls durch eine mit Kleber 20 versehene Oberschicht 16 visuell verschlossen. Der Vorteil dieser Ausführungsform besteht darin, daß ein klebstoffbeschichtetes Silikonpapier in aufgewickelter Form erhältlich ist, während im Falle des mit Klebstoff zu be¬ schichtenden Films die Beschichtung erst zu Beginn des Ver¬ fahrens erfolgen kann, weil ein klebstoffbeschicht ter Film nur mit einer silikonbeschichteten Basis wickelfähig ist.

Fig. 6a bis 6f zeigt das erfindungsgemäße Schichtmaterial in den einzelnen Produktionsphasen. Fig. 6a zeigt die mit Basis 22 und Kleber 20 versehene Oberschicht 16. Fig. 6b zeigt das nach der Stanzung entstehende erste Schichtmaterial mit den Schichten 6', 2', 8', 4', während Fig. 6c das komplementäre zweite Schichtmaterial nach der Stanzung mit den Schichten 6, 2, 8, 4 zeigt. Beim Vergleich von Fig. 6b und 6c fallen im Querschnitt die überstehenden Randstreifen 26 und 28 des in Fig. 6c dargestellten Schichtmaterials auf. Fig. 6d zeigt das in Fig. 6b dargestellte Schichtmaterial mit aufgebrach¬ ter Oberschicht, wie sie in Fig. 6a gezeigt ist. Fig. 6e zeigt das in Fig. 6c dargestellte komplementäre zweite Schichtmaterial mit aufgebrachter Oberschicht, wie es in Fig. 6a dargestellt ist. Fig. 6f zeigt das nach Abtrennen der Randstreifen 26, 28 erhaltene Endprodukt. Es ist deut¬ lich zu sehen, daß unabhängig von der Verwendung einer der beiden komplementären Schichtmaterialien (nach Fig. 6d bzw. 6e) das gleiche Endprodukt erhalten wird.

Fig. 7 zeigt eine Aufsicht auf den Aufbau des Schichtmate¬ rials nach Fig. 6f. Die Musterschicht 2, 2¹ liegt mittig unter der Klebeschicht 8, 8¹ bzw. Deckschicht 4, 4¹ und hat dieselbe Breite wie die durchgehende Nebenschicht 14. Die Deckschicht 16 und die Klebeschicht 20 haben im wesentlichen die Breite der Deckschicht 4, 4', sind jedoch schmaler als die Silikonbasis 24. Bei Wahl einer aus vier Abschnitten 10' , 10 bestehenden Musterschicht 2, 2' können die außen¬ liegenden Abschnitte 12, 12' der Deckschicht 4, 4• abgerun¬ dete Ecken haben, um sich der Abrundung der Oberschicht 16 anzupassen.

Fig. 8 zeigt den Aufbau eines weiterverarbeiteten Schicht¬ materials mit gegenüber Fig. 7 gewendeten Innenschichten. Dies bedeutet, daß die Nebenschicht 14, die Musterschicht 2, 2• , die Klebeschicht 8, 8', die Deckschicht 4, 4' und die Klebeschicht 18 bzw. 20 umgewendet sind. Der Vorteil dieser Ausführungsform liegt darin, daß hier die durchgehende Ne¬ benschicht 14 nach oben aufliegt. Dies begünstigt die Gleichmäßigkeit der tastbaren Oberfläche des Schichtmate¬ rials.

Fig. 9 zeigt den Aufbau des Schichtmaterials von Fig. 8 mit modifizierter linksbündiger Musterschicht 2, 2'. Die Ab¬ schnitte 10, 10* der Musterschicht 2, 2' schließen links¬ bündig mit den Abschnitten 12, 12' der Deckschicht 4, 4¹ ab. Dies ermöglicht eine einfachere Einstellung eines einfachen Stanzwerkzeugs.

Fig. 10 zeigt eine andere Ausführungsform des Schichtmate- rials mit in Teilbereichen beliebig wählbarer Form der Mu¬ sterschicht. Das Schichtmaterial ist unterteilt in Bereiche 80, die durch eine querverlaufende Spiegellinie bzw. Spie¬ gelebene 82 in einen unteren und oberen Teilbereich geteilt sind. Die Spiegellinie 82 fluchtet mit der unteren bzw. oberen Kante eines im wesentlichen im mittleren Bereich liegenden Abschnitts 84 der Musterschicht 2, 2' . Aufgrund der Spiegellinie 82 ergibt sich eine Symmetrie beidseits der Spiegellinie zwischen den einerseits der Spiegellinie lie¬ genden Abschnitten 10, 10' und den andererseits der Spie¬ gellinie liegenden Freifeldern 11,11' zwischen den Ab¬ schnitten 10, 10'. Die Freifelder 11, ll¹ auf der einen Seite haben dieselbe Abmessung wie die symmetrischen Ab¬ schnitte 10,10' auf der anderen Seite. Diesem Aufbau folgt sowohl die Klebeschicht 8, 8' als auch die Deckschicht 4, 4' . Auch hier schließen somit die Abschnitte der Deckschicht mit den Abschnitten der Musterschicht in Längsrichtung ab, stehen aber in Querrichtung über diese über. Im vorliegenden Fall ist die im einen Teilbereich frei wählbare Anordnung der Abschnitte 10, 10' und Freifelder 11, 11' so gewählt, daß von der Spiegellinie 82 ausgehend die Abschnitte 10, 10' zu beiden Seiten der Spiegellinie hin in der Abmessung gleichmäßig anwachsen. Dadurch ergibt sich ein quasisymme¬ trischer Aufbau.

Fig. 11 zeigt eine andere Ausführungsform des erfindungsge¬ mäßen Schichtmaterials mit zwei nebeneinanderliegenden Mu¬ sterschichten 2, 2' und 3, 3' . Die Abschnitte 10, 10' der einen Musterschicht 2, 2' sind gegenüber den Abschnitten 10, 10' der anderen Musterschicht 3, 3' so versetzt, daß die Abschnitte 10, 10' der Musterschicht 3, 3' neben den Frei¬ feldern 11, 11' der anderen Musterschicht 2, 2' liegen und mit diesen fluchtend abschließen. Dadurch ergibt sich ein Zickzack-Muster, das eine fluchtende Anordnung der Kanten der Abschnitte der Musterschichten 3, 3' und 2, 2' aufweist. Diesem Aufbau folgt die Deckschicht, die zwei nebeneinander angeordnete Deckschichten 4, 4' und 5, 5' aufweist, die je¬ weils die Musterschichten 2 , 2' und 3, 3' überdecken. Die Abschnitte 10, 10' der beiden Musterschichten sind links- bzw. rechtsbündig unter den entsprechenden Abschnitten der Deckschichten 4, 4' und 5, 5' angeordnet. Ebenfalls sind zwei Klebeschichten 8, 8' und 9 9' vorgesehen, die im Auf¬ bau den Deckschichten 4, 4' und 5, 5' entsprechen. Die durchgehende Nebenschicht 14 ist mittig unter den beiden Musterschichten angeordnet und liegt somit mittig unter der Berührungslinie zwischen den beiden Musterschichten. Wahl¬ weise ist es auch möglich, eine zweite durchgehende Neben¬ schicht neben der ersten Nebenschicht 14 anzuordnen bzw. die Nebenschicht 14 zu verbreitern, damit sie unterhalb beider Musterschichten verläuft und mit diesen nach unten quer fluchtet. Alternativ ist vorgesehen, daß die beiden Muster¬ schichten 2, 2' und 3, 3' einen Abstand voneinander aufwei¬ sen, der ebenfalls für die Deckschichten 4, 4* und 5, 5' besteht. Ein solcher Abstand erhöht die Kennbarkeit des Schichtmaterials bei einem Detektionssystem, das auf Lücken zwischen den magnetisierten Abschnitten der Musterschicht empfindlich ist. Alternativ ist vorgesehen, daß die Ab¬ schnitte der Musterschicht 2, 2' und die Abschnitte der Mu¬ sterschicht 3, 3' in Längsrichtung überlappen, so daß sich zwischen den Musterschichten-Abschnitten Lücken ergeben.

Fig. 12 zeigt eine Kombination der Ausführungsformen von Fig. 10 und 11, wobei die Musterschichten 2, 2' und 3, 3' im Gegensatz zu den Deckschichten 4, 4' und 5, 5' einen gerin- gen Abstand voneinander haben.

Fig. 13a und 13b zeigen Aufsichten auf die Ausführungsform des Schichtmaterials nach Fig. 10. Die Spiegellinie 82 liegt an der oberen Kante eines im wesentlichen in der Mitte be¬ findlichen mittleren Abschnitts 84 der Musterschicht 2, 2' bzw. Deckschicht 4, 4', so daß man auch von einer Spiegele¬ bene 82 sprechen kann, die durch die Kanten der übereinan- derliegenden Abschnitte 84 von Musterschicht und Deckschicht gebildet wird. Der unterhalb der Spiegelebene 82 gelegene Teilbereich enthält Freifelder von Musterschicht und Deck¬ schicht, die in Anordnung und Abmessung (in Wickelrichtung) den in dem oberhalb der Spiegelebene 82 gelegenen Teilbe¬ reich angeordneten Abschnitten von Musterschicht und Deck¬ schicht entsprechen. Die beiden in Fig. 13a und 13b gezeig¬ ten Schichtmaterialien sind komplementär zueinander, so daß die unterhalb der Spiegelebene 82 des einen Materials an¬ geordneten Abschnitte den oberhalb der Spiegelebene an¬ geordneten Abschnitten des anderen Materials spiegelsymme¬ trisch sind bzw. in gedrehter Anordnung identisch sind;

Fig. 14a und 14b zeigen Aufsichten auf die Ausführungsform des Schichtmaterials von Fig. 11, wobei die beiden Muster¬ schichten 2, 3 bzw. 2' und 3' ohne Abstand angeordnet sind. Die Innenkanten der beiden Musterschichten 2 und 3 bzw. 2' und 3' fluchten somit. Dasselbe gilt für die Abschnitte der Deckschicht 4 bzw. 4' die ebenfalls nebeneinander und an ihren Kanten fluchtend angeordnet sind.

Fig. 15a und 15b zeigen Aufsichten auf die Ausführungsform des Schichtmaterials von Fig. 12, wobei in dieser Ausfüh¬ rungsform die beiden Musterschichten 2 und 3 bzw. 2' und 3¹ einen geringen Abstand voneinander haben. Auf diese Weise ergeben sich taktartige Lücken in dem Musterschichtverbund, die gut detektierbar sind. Im Gegensatz zu den Muster¬ schichten sind die Deckschichten, wie zu erkennen ist, ohne Abstand und mit fluchtenden Innenkanten angeordnet.

Fig. 16a und 16b zeigen eine weitere Ausfuhrungsform des Schichtmaterials mit schräggestanzten Abschnitten. In Fig. 16a ist eine Aufsicht auf das gestanzte und bereits ge¬ trennte Schichtmaterial gezeigt, aus der hervorgeht, daß die St_ zmesser einen rechteckigen Verlauf haben. Somit sind die gestanzten Abschnitte der Deckschicht ebenfalls rechteckig. Die darunterliegenden und in Fig. 16b im Detail gezeigten Abschnitte 10, 10' der Musterschicht 2, 2' haben die Form von Parallelogrammen, da die Deckschicht als gradliniger, mit parallelen Kanten ausgebildeter Streifen vorliegt. Die Stanzung erfolgt daher so, daß der zwischen der oberen Ecke 92 eines Abschnitts und der unteren Ecke 94 des darüberlie- genden Abschnitts gebildete Zwischenraum einen in Längs¬ richtung gemessenen Abstand a hat, der kleiner ist als der Abstand b zwischen den entsprechenden Kanten 96 und 98. Der Abstand b entspricht dem Abstand der nichtschräggestellten Stanzmesser. Eine derartige Verkleinerung der Lücken zwi¬ schen den Abschnitten 10, 10' benachbarter Abschnitte be¬ günstigt die magnetische Erfassung der Schichtmaterialien.

Fig. 17 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin¬ dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung des erfindungsgemä¬ ßen Schichtmaterials. Die Deckschicht 4 , 4' in durchgehender Form ist auf der Rolle 40 aufgewickelt und wird von dort abgespult und an einer Beschichtungseinrichtung 42 für Klebstoff vorbeigeführt. Die Beschichtungseinrichtung 42 beschichtet die Deckschicht 4, 4' an ihrer Unterseite ganz¬ flächig mit einer durchgehenden Klebeschicht. Das Ausgangs¬ material für die spätere Musterschicht ist auf einer Spule 44 aufgewickelt, die gleichfalls abgewickelt wird. Im vor¬ liegenden Fall enthält die Spule 44 ein Ausgangsmaterial in Form von drei parallelen Metallstreifen bzw. -fäden. Schließlich befindet sich die in Form von Silikonpapier vorliegende Basis 6' auf einer Rolle 46, die unterhalb der Spule 44 angeordnet ist und ebenfalls abgespult wird. Die von den Einrichtungen 40, 44 und 46 abgewickelten Materia¬ lien werden von grundsätzlich bekannten Führungen und Rol¬ lenvorrichtungen geleitet und an zwei gegensinnig aufeinan¬ der abrollenden Walzen zusammengefahren und anschließend einer allgemeinen Stanzvorrichtung 48 zugeführt, die ein dreireihiges rechteckiges, wie in Fig. la und lb gezeigtes Stanzmuster einstanzt. Das gestanzte Ausgangsmaterial wird getrennt in ein erstes Schichtmaterial 2' , 4' , 8' , welches auf einer Haspel 50 aufgewickelt wird und ein komplementäres zweites Schichtmaterial 2, 4, 8, das zunächst mit einer von einer Rolle 52 stammenden Basis 6 in Form von Silikonpapier zusammengefahren und nachfolgend auf einer Haspel 54 aufge¬ wickelt wird. Die StanzVorrichtung 48 ist so beschaffen, daß sie die filmartige Deckschicht 4, 4' , die darunterliegende Klebeschicht 8, 8' und die Musterschicht 2, 2* stanzartig durchtrennt, während die Silikonbasis 6' unbeschädigt bleibt. Die klebstoffbeschichtete Deckschicht 4, 4' haftet an der Basis 6• und bewirkt auch das Anliegen der nichtkle- benden Musterschicht 2, 2• an der Basis 6• . Die einzelnen Abschnitte der dreireihigen gestanzten Deckschicht 4' sind jeweils breiter als die einzelnen gestanzten Abschnitte der dreireihigen Metall-Musterschicht 2• und bewirken mit ihren über die Musterschicht 2' überstehenden Bereichen einen Haftkontakt an der Basis 6' und damit auch Kontakt der in¬ nenliegenden Musterschicht-Abschnitte 10' an Basis 6' und Deckschicht 4' . Alternativ kann die Beschichtungseinrichtung 42 weggelassen werden, wenn eine bereits mit Klebstoff be¬ schichtete Filmrolle 40 eingesetzt wird.

In Fig. 18 ist die vorausgegangene bzw. gleichzeitige Her¬ stellung der zur Weiterverarbeitung vorgesehenen Oberschicht 16 dargestellt. Die Oberschicht 16 in Form eines Films oder Schichtmaterials, z.B. eines Barcodes, liegt auf einem Wik- kel 56 vor und wird von diesem abgespult und an einer Be- schichtungsvorrichtung 57 vorbeigeführt, welche die Ober¬ schicht 16 an ihrer Unterseite mit einer ganzflächigen Kle¬ beschicht 20 versieht. Gleichzeitig wird von einer Rolle 58 eine Basis 22 in Form von Silikonpapier abgespult und mit der klebstoffbeschichteten Oberschicht 16 an zwei Rollen zusammengefahren. Das nach dem Zusammenfahren gewonnene Produkt aus Oberschicht 16 und Klebstoffschicht 20 und Basis 22 wird auf einer Haspel 60 aufgewickelt. Alternativ kann die Beschichtungseinrichtung 57 weggelassen werden, wenn eine bereits mit Klebstoff versehene Basis 22 verwendet wird.

Fig. 19 zeigt das Aufbringen von Oberschicht und Neben¬ schicht auf das erfindungsgemäße erste Schichtmaterial. Das auf Haspel 50 vorliegende erfindungsgemäße Schichtmaterial wird abgespult und mit der auf Haspel 60 vorliegenden kleb¬ stoffbeschichteten Oberschicht 16 zusammengefahren, wobei vor dem Zusammenfahren die auf Haspel 60 unterliegende Basis 22 abgetrennt und auf eine Abzie Olle 62 aufgewickelt wird. Das mit klebstoffbeschichteter Deckschicht bzw. Basis ver¬ sehene Schichtmaterial wird nachfolgend selbst von seiner Basis 6' getrennt, welche auf einer Abziehrolle 64 aufge¬ wickelt wird. Das verbleibende Schichtmaterial aus Ober¬ schicht 16, Klebstoffschicht 20, Deckschicht 4', Klebstoff- schicht 8' und Musterschicht 2' gelangt in einen Führungs¬ mechanismus, wo es mit einer von einer Spule 66 stammenden Nebenschicht 14 in Form eines durchgehenden Metallstreifens sowie einer von einer Rolle 68 stammenden neuen klebstoff¬ beschichteten Basis 24 zusammengefahren wird. Dieses bereits in seinem Aufbau abgeschlossene Endprodukt entsprechend Fig. 6f wird auf einer Haspel 70 aufgewickelt. Die Basis kann auch ohne Klebstoffschicht in alternativer Weise zusammen¬ gefahren werden.

Fig. 20 zeigt dieselben Verfahrensschritte wie Fig. 19 aber mit dem komplementären zweiten Schichtmaterial. Im Unter¬ schied zum ersten Schichtmaterial sind in diesem Fall noch Randstreifen 26 und 28 beidseits jeder Reihe der dreireihi¬ gen Musterschicht und Deckschicht vorhanden. Die Vorrichtung zum Zusammenfahren entspricht der Vorrichtung von Fig. 19. Der Aufbau des Endproduktes, welches ebenfalls auf einer Haspel 70 aufgewickelt wird, entspricht dem Aufbau des End¬ produkts von Fig. 19.

Fig. 21a und 21b zeigen die Endbehandlung des Schichtmate¬ rials. Das auf Haspel 70 vorliegende vorläufige Endprodukt wird von dort abgespult und einer Randstanzeinrichtung 72 zugeführt, die das Endprodukt beidseitig jeder Reihe des dreireihigen Schichtmaterials von seinem Rand befreit. Dies bedeutet, daß vier Randstreifen ausgestanzt werden, von de¬ nen die beiden inneren doppelt so breit sind, wie die beiden äußeren. Das "abgegitterte" Endprodukt wird nun auf einer verkaufsfertigen Haspel 76 aufgewickelt, während die abge- trennten Ränder 26, 28 auf einem Wickel 74 abgezogen werden.

Fig. 22 zeigt einen Etikettenträger, der in Längsrichtung gewickelt ist, auf dem die erfindungsgemäßen Schichtmate¬ rialien in Querrichtung aufgebracht sind. Dies bedeutet, daß die Abschnitte des Schichtmaterials in Querrichtung verlau¬ fen, während der Etikettenträger selbst in Längsrichtung gefördert wird. Somit ist eine Basis 24 als Etikettenträger gewählt, die senkrecht zu der Musterschicht, Deckschicht, Nebenschicht, Klebeschicht und Oberschicht gewickelt bzw. abgespult wird.

In Fig. 23a ist ein Ausgangsmaterial für eine weitere Aus¬ führungsform der Erfindung gezeigt. Dieses besteht aus einer Basis 106, auf der ein für die spätere Musterschicht be¬ stimmter schmaler Metallstreifen 104 aufgetragen ist. Darü¬ ber befindet sich in etwa der Breite der Basis 106 eine Deckschicht 100, die transparent ist und den darunterlie¬ genden Metallstreifen 104 durchscheinen läßt. Die Deck¬ schicht 100 und der Metallstreifen 104 weisen ein wie in der Figur gezeigtes Stanzmuster 102 auf, das einen rechteckför- migen Verlauf hat und den Metallstreifen zwischen seinen Kanten einschließt. Der Metallstreifen 104 ist mittig unter dem Stanzmuster 102 angeordnet, wobei das Stanzmuster mit seinen Kanten jeweils links und rechts abwechselnd über den Metallstreifen 104 übersteht.

Das in Fig. 23b gezeigte erste erfindungsgemäße Schichtma¬ terial dieser Ausführungsform weist eine auf der Basis 106 verbliebene linke Hälfte 110 der Deckschicht 100 auf, die einen durch das Stanzmuster erzeugten rechteckförmigen rechten Rand 108 mit vorstehenden rechteckigen Abschnitten aufweist. Diese vorstehenden Abschnitte des rechten Randes 108 der Deckschicht 110 überdecken entsprechende Abschnitte 116 der darunterliegenden Musterschicht.

Das in Fig. 23c gezeigte zur Fig. 23b komplementäre Schichtmaterial dieser Ausführungsform zeigt eine neue Basis 120, auf der die abgezogene rechte Hälfte 114 der Deck¬ schicht 100 von Fig. 23a zusammen mit der darunterliegenden Musterschicht aufgebracht ist. Diese rechte Hälfte 114 hat einen rechteckförmigen linken Rand 112 mit rechteckigen vorstehenden Abschnitten, wobei die vorstehenden Abschnitte entsprechende Abschnitte 118 der darunterliegenden Muster¬ schicht überdecken. Die Abschnitte 118 dieser Musterschicht sind zu den Abschnitten 116 der Musterschicht von Fig. 23b komplementär, da sie aus demselben durchgehenden Metall¬ streifen 104 durch Stanzung gebildet sind. Die Abschnitte 116 und 118 wechseln einander in Längsrichtung ab. Somit haben der rechte Rand des Materials von Fig. 23b und der linke Rand von Fig. 23c einen ineinandergreifenden reißver¬ schlußartigen Verlauf.

Die gewonnenen ersten und zweiten Schichtmaterialien werden in der beschriebenen Weise weiterverarbeitet, insbesondere mit einer Oberschicht und Nebenschicht versehen.

Claims

P A T E N T A N S P R Ü C H E

1. Schichtmaterial mit einer taktartig unterbrochenen Mu¬ sterschicht (2,2'), die voneinander getrennte Abschnitte (10,10') aufweist, und einer darubergelegenen Deckschicht (4,4'), dadurch αekennzeichnet. daß die Deckschicht (4,4') dieselbe taktartige Unterbrechung wie die Musterschicht (2,2') aufweist, so daß durch die Taktfolge gebildete Ab¬ schnitte (12,12') der Deckschicht (4,4') mit den Abschnitten (10, 10') der Musterschicht (2,2') jeweils an mindestens zwei Kanten abschließen, daß unterhalb der Musterschicht (2,2*) bzw. oberhalb der Deckschicht (4,4') eine durchge¬ hende Nebenschicht (14) angeordnet ist, und daß die Muster¬ schicht sowie die Deckschicht jeweils mindestens zwei Ab¬ schnitte {12,10;12',10') umfassen.

2. Schichtmaterial nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Basis (6), auf <ier die Musterschicht <2,2') angeordnet ist.

3. Schichtmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn¬ zeichnet, daß die Deckschicht (4,4') bzw. die Basis (6) eine taktartig unterbrochene Klebeschicht (8,8') aufweist, an der die Musterschicht (2,2'), die Deckschicht (4,4') und die Basis (6) haften.

4. Schichtmaterial nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet. daß die Klebeschicht (8) zwischen Deckschicht und Muster¬ schicht angeordnet ist, und dasselbe Taktmuster wie die Deckschicht aufweist.

5. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht (4,4') und die Musterschicht (2,2') so übereinander angeordnet sind, daß jeder durch die Taktfolge vorgegebene Abschnitt (10,10') der Musterschicht (2,2') von einem entsprechenden Abschnitt

(12,12') der Deckschicht (4,4') überdeckt ist.

6. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Schichtmaterial in einer Längsrichtung aufwickelbar ist und die Abschnitte (12,12') der Deckschicht (4,4*) in der Längsrichtung mit den ent¬ sprechenden Abschnitten (10,10') der Musterschicht (2,2') abschliessen.

7. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschnitte (12,12') der Deckschicht (4,4') über die Abschnitte (10,10') der Muster¬ schicht (2,2') in zumindest einer Querrichtung überstehen.

8. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Nebenschicht (14) im we¬ sentlichen dieselbe Breite wie die Musterschicht (2,2') hat.

9. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht eine darüberge- legene, nach außen sichtbare Oberschicht (16) aufweist.

10. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschnitte (10,10') der Mu¬ sterschicht (2,2') eine rechteckige Form haben.

11. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet_f daß die Abschnitte (10,10') in der Längsrichtung eine Abmessung haben, die im wesentlichen gleich ist dem Abstand zwischen den einander gegenüberlie¬ genden Kanten zweier benachbarter Abschnitte (Freifelder) .

12. Schich^tmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schrittweite der Abschnitte im wesentlichen doppelt so groß ist wie die Abmessung eines Abschnitts.

13. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten die folgende Rei¬ henfolge aufweisen: - Basis (6, 24) - Nebenschicht (14) - Musterschicht (2, 2') - Deckschicht (4, 4') - Oberschicht (16).

14. Schichtmaterial nach Anspruch 13, dadurch geke~ 'zeich¬ net, daß zwischen Basis (6, 24) und Nebenschicht ( ) bzw. zwischen Oberschicht (16) und Deckschicht (4) mindestens eine weitere Klebeschicht (18 bzw. 20) angeordnet ist.

15. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten die folgende Rei¬ henfolge aufweisen: - Basis (6, 24) - Deckschicht (4, 4') - Musterschicht (2, 2') - Nebenschicht (14) - Oberschicht (16)

16. Schichtmaterial nach Anspruch 15, dadurch gekennzeich¬ net, daß zwischen Basis und Deckschicht bzw. zwischen Ne¬ benschicht und Oberschicht mindestens eine weitere Klebe¬ schicht (18 bzw. 20) angeordnet ist.

17. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet. daß die Abschnitte (10, 10') der Musterschicht (2, 2') links- bzw. rechtsbündig mit den Ab¬ schnitten (12,12') der Deckschicht (4, 4') abschliessen.

18. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Musterschicht (2, 2') in Bereiche (80) unterteilt ist, wobei jeder Bereich (80) so aufgebaut ist, daß er eine auf der Kante eines im wesentli¬ chen mittleren Abschnitts (84) angeordnete Spiegellinie (82) aufweist, und die einerseits der Spiegellinie (82) befind¬ lichen Abschnitte dieselbe Abmessung haben wie die spiegel¬ symmetrisch gelegenen Freifelder zwischen den andererseits der Spiegellinie (82) gelegenen Abschnitten.

19. Schichtmaterial nach Anspruch 18, dadurch gekennzeich¬ net, daß entsprechende Bereiche (80) einer Musterschicht (2) und einer dazu komplementären Musterschicht (2') so aufge¬ baut sind, daß der einerseits der Spiegellinie (82) der Mu¬ sterschicht (2) gelegene Teilbereich spiegelsymmetrisch ist mit dem andererseits der entsprechenden Spiegellinie (82) der komplementären Musterschicht (2') gelegenen Teilbereich.

20. Schichtmaterial nach Anspruch 18 oder 19, dadurch ge¬ kennzeichnet, daß die Abmessungen der Abschnitte und Frei- feider eines Teilbereichs (80) von der Spiegellinie (82) ausgehend zu- bzw. abnehmen.

21. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch zwei nebeneinander gelegene Muster¬ schichten (2, 3) .

22. Schichtmaterial nach Anspruch 21, gekennzeichnet durch zwei nebeneinander gelegene Musterschichten (2, 3), deren Abschnitte (10) derart gegeneinander versetzt sind, daß die Abschnitte der einen Musterschicht (2) neben den Freifeldern zwischen den Abschnitten der anderen Musterschicht (3) lie¬ gen und in Längsrichtung mit diesen abschließen.

23. Schichtmaterial nach Anspruch 21, dadurch gekennzeich¬ net, daß die Abschnitte der beiden Musterschichten teilweise in Längsrichtung gegenseitig überlappen.

24. Schichtmaterial nach Anspruch 21, dadurch gekennzeich¬ net, daß die beiden Schichten (2, 3) in Querrichtung einen bestimmten Abstand voneinander aufweisen.

25. Schichtmaterial nach Anspruch 21, dadurch gekennzeich¬ net, daß die beiden Musterschichten (2, 3) entsprechende Deckschichten (4, 5) bzw. Klebeschichten (8, 9) aufweisen, die denselben Versatz gegeneinander bzw. Abstand voneinander haben.

26. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschnitte (10) der Muster¬ schicht gegenüber der Längsrichtung angeschrägte Kanten (96, 98) haben.

27. Schichtmaterial nach Anspruch 26, dadurch gekennzeich¬ net, daß die Abschnitte (10, 10') die Form eines Parallelo¬ gramms haben.

28. Schichtmaterial nach Anspruch 26 oder 27, dadurch ge¬ kennzeichnet. daß der in Längsrichtung gemessene Abstand (a) der obersten Ecke (92) eines Abschnitts von der untersten Ecke (94) des benachbarten darüberliegenden Abschnitts kleiner ist als der Abstand (b) der entsprechenden gegenü¬ berliegenden Kanten (96, 98) .

29. Verfahren zur Herstellung eines Schichtmaterials durch Herstellen eines Ausgangsmaterials mit einer Ausgangsschicht (2, 2') und einer darubergelegenen Deckschicht (4, 4'), ge¬ kennzeichnet durch Stanzen eines taktartigen Schnittmusters in das Ausgangsmaterial und Trennen des gestanzten Aus¬ gangsmaterials (2', 2, 4', 4) in ein taktartig unterbroche¬ nes erstes Schichtmaterial (2', 4') und ein dazu komplemen¬ täres zweites Schichtmaterial (2, 4).

30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß das Ausgangsmaterial eine klebstoffbeschichtete Deckschicht (4) bzw. eine klebstoffbeschichtete Basis (6') aufweist.

31. Verfahren nach Anspruch 29 oder 30, dadurch gekenn¬ zeichnet , daß das Ausgangsmaterial eine unterhalb der Aus¬ gangsschicht gelegene Basis (6') aufweist.

32. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 31, dadurch gekennzeichnet, daß das Ausgangsmaterial durch Zusammenfah¬ ren der klebstoffbeschichteten Deckschicht, der Ausgangs- schicht und der Basis (6) hergestellt wird.

33. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 32, dadurch gekennzeichnet. daß das gestanzte Ausgangsmaterial (2', 2, 4', 4) getrennt wird durch Abziehen des komplementären zweiten Schichtmaterials (2, 4).

34. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 33, dadurch gekennzeichnet. daß das komplementäre zweite Schichtmaterial (2, 4) mit einer Basis (6) zusammengefahren wird.

35. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 34, dadurch gekennzeichnet. daß das nach dem Trennen gewonnene erste und zweite Schichtmaterial (2, 4; 2', 4') aufgewickelt wird.

36. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 35, dadurch gekennzeichnet. daß das nach dem Stanzen gewonnene erste und zweite Schichtmaterial (2, 4; 2', 4') mit einer Oberschicht (16) zusammengefahren wird.

37. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 36, dadurch gekennzeichnet. daß die Oberschicht (16) klebstoffbeschich¬ tet ist.

38. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 37, dadurch gekennzeichnet. ciaß die Oberschicht (16) eine Basis (22) aufweist, die vor dem Zusammenfahren mit dem Schichtmaterial abgezogen wird.

39. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 38, dadurch gekennzeichnet. daß das Schichtmaterial mit einer Neben¬ schicht (14) zusammengefahren wird, wobei vorausgehend die Basis (6) des Schichtmaterials abgetrennt wird.

40. Verfahren nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Zusammenfahren von Schichtmaterial und Nebenschicht (14) eine neue klebstoffbeschichtete Basis (24) aufgebracht wird.

41. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 40, dadurch gekennzeichnet. daß das Schichtmaterial einer weiteren Stanzung unterzogen wird, bei der mindestens zwei Randbe¬ reiche (26, 28) des Schichtmaterials abgetrennt werden, bzw. das Schichtmaterial in seiner Länge unterteilt wird.

42. Verfahren nach einem der auf Anspruch 29 folgenden An¬ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das in der Länge un¬ terteilte Schichtmaterial um einen bestimmten Winkel gedreht wird.

43. Verfahren nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, daß das Schichtmaterial um 90° gegenüber einer Basis bzw. einem externen Träger gewendet wird.

44. Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Ver¬ fahrens, gekennzeichnet durch eine StanzVorrichtung (48) zum Bestanzen eines Ausgangsmaterials (4, 4'; 2, 2'; 6') in ein erstes (4', 2', 6') und ein komplementäres zweites (4, 2) Schichtmaterial; eine Trenneinrichtung (50) zum Abzie¬ hen des ersten Schichtmaterials (4¹, 2 ' , 6'); eine Auf- tragseinrichtung (52) zum Aufbringen einer neuen Basis (6) auf das komplementäre zweite Schichtmaterial (4, 2), und eine Abzieheinrichtung (54) zum Abziehen des komplementären zweiten Schichtmaterials (4, 2, 6) mit Basis.