DE4042442A1 - Schichtmaterial - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schichtmaterial
sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung.
Es sind verschiedenen Schichtmaterialien im Stand der
Technik bekannt, die aus unterschiedlichen Schichten in
unterschiedlicher Reihenfolge aufgebaut sind. Insbesonde
re sind Schichtmaterialien bekannt, die aufgrund ihres
Funktionszweckes bestimmte Musterschichten enthalten,
welche jeweils ein für den bestimmten Zweck bestimmtes
Muster aufweisen. Derartige Musterschichten sind grund
sätzlich bekannt.
Im Oberbegriff des Anspruches 1 wird von einem Schichtma
terial mit einer taktartig unterbrochenen Musterschicht
ausgegangen. Ein derartiges Muster dient beispielsweise
als Identifikationskennung für verschiedene Waren. Je
nach Abstand und Länge der durch die Taktfolge vorgegebe
nen Abschnitte läßt sich eine unterschiedliche Informa
tion kodieren. Ferner sind derartige Musterschichten in
Verbindung mit Waren-Sicherungssystemen bekannt, bei
denen das im Schichtmaterial verbleibende Taktmuster eine
Kennung für nicht ordnungsgemäß bezahlte Waren darstellt.
Derartige Waren-Sicherungssysteme werden beispielsweise
in Warenhäusern, in Bibliotheken und anderen öffentlich
zugänglichen Einrichtungen aufgestellt.
Der Nachteil derartiger herkömmlicher Schichtmaterialien
besteht darin, daß zur Herstellung der taktartig unter
brochenen Musterschicht eine Stanzvorrichtung mit aufwen
diger Steuerung verwendet wird, bei der hoher Ausschuß
entsteht. Derartige Herstellungsverfahren sind daher un
wirtschaftlich. Andererseits ist die Herstellung der
Musterschichten auf photomechanischem Wege nicht wirt
schaftlich genug, um große Menge derartiger Schichtmate
rialien herzustellen.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht daher da
rin, ein Schichtmaterial anzugeben, das einfach zu ferti
gen ist, wobei bei der Herstellung des Schichtmaterials
nur ein geringer Ausschuß produziert wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein
Schichtmaterial mit einer taktartig unterbrochenen Muster
schicht und einer darübergelegenen Deckschicht, wobei das
Schichtmaterial dadurch gekennzeichnet ist, daß die Deck
schicht dieselbe Taktfolge wie die Musterschicht auf
weist.
Es hat sich herausgestellt, daß es ungünstig ist, ledig
lich die gewünschte Musterschicht in einer Stanzvorrich
tung herzustellen und anschließend mit einer zum Schutz
bei der Weiterverarbeitung geeigneten Deckschicht zusam
menzufahren. Es ist vielmehr günstig, Deckschicht und
Musterschicht in einem einzigen Arbeitsgang herzustellen,
bei dem die Deckschicht mit demselben Muster wie die
Musterschicht versehen wird. Das erfindungsgemäße Schicht
material ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Schichtmate
rial mit Musterschicht verarbeitet wird, das bereits mit
einer Deckschicht versehen ist.
Es ist bevorzugt, daß das Schichtmaterial eine Basis auf
weist, auf der die Musterschicht angeordnet ist. Diese
Anordnung empfiehlt sich zur besseren Stabilisierung des
Schichtmaterials bei der Stanzung. Die Basis ist derart
ausgefaltet, daß sie von den Stanzmessern der Stanzvor
richtung nicht verletzt wird, und auf diese Weise als
fortlaufender Träger für das gestanzte Schichtmaterial
dienen kann.
Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht bzw. die
Basis eine unterbrochene Klebeschicht aufweist, an der
die Musterschicht, die Deckschicht und die Basis haften.
Eine derartige Klebeschicht ist bevorzugt, weil sie einen
günstigen Zusammenhalt von Deckschicht, Musterschicht und
Basis bewirkt. Dabei wird bevorzugt eine beidseitig kle
bende Schicht verwendet, an deren Oberseite die Deck
schicht und an deren Unterseite die Musterschicht und die
Basis haften. Der Haftkontakt von Basis und Musterschicht
ist gleichmaßen gewährleistet, da die Basis durch die un
beschichteten Flächen der Musterschicht hindurchgreifend
an der Klebeschicht haftet.
Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht und die
Musterschicht so übereinander angeordnet sind, daß jeder
durch die Taktfolge vorgegebene Abschnitt der Muster
schicht von einem entsprechenden Abschnitt der Deck
schicht überdeckt ist.
Bei dieser bevorzugten Anordnung werden die durch die
Stanzvorrichtung vorgegebenen Muster so eingeschnitten,
daß ein Haftkontakt der Musterschicht-Abschnitte mit den
darüberliegenden Klebstoff-beschichteten Deckschicht-Ab
schnitten immer sichergestellt ist.
Es ist ferner bevorzugt, daß das Schichtmaterial in einer
Längsrichtung aufwickelbar ist und die Abschnitte der
Deckschicht in der Längsrichtung mit den entsprechenden
Abschnitten der Musterschicht abschließen. Auf diese
bevorzugte Weise kann ein Stanzmesser eingesetzt werden,
das in einem einzelnen Stanzvorgang gleichzeitig längs
und quer zur Förderrichtung bzw. Vorschubrichtung des
Schichtmaterials die Deckschicht und die daruntergelegene
Musterschicht einschneidet. Der einzelne Stanzvorgang
schafft übereinanderliegende abschließende Abschnitte von
Musterschicht und Deckschicht.
Es ist ferner bevorzugt, daß die Abschnitte der Deck
schicht in Querrichtung über die Abschnitte der Muster
schicht überstehen. Mit dieser Anordnung wird ein kompak
ter Aufbau von Musterschicht und darüberliegender Deck
schicht gewährleistet, wobei in der Praxis meist eine
schmale streifenartige Musterschicht für die oben genann
te Zwecke ausreicht.
Es ist bevorzugt, daß die Musterschicht eine nicht unter
brochene Nebenschicht aufweist. Derartige Nebenschichten,
die ebenfalls in der Praxis von großer Bedeutung sind,
sind zur Anlage an die taktartig unterbrochene Muster
schicht vorgesehen, um die Taktstreifen zu modifizieren.
Es hat sich herausgestellt, daß bei Verwendung von Muster
schichten in Form von dünnen Metallstreifen eine zweite
anliegende Nebenschicht in Form eines zweiten Metallstrei
fens die Erfassung und Identifizierung des Musters bzw.
der Taktfolge begünstigt.
Es ist ferner bevorzugt, daß die Deckschicht eine darüber
gelegene, nach außen sichtbare Oberschicht aufweist. Der
artige Oberschichten sind ebenfalls im Stand der Technik
bekannt und dienen beispielsweise als Sichtblende für die
daruntergelegene versteckte Musterschicht. Sie tragen
dann eine von der eigentlichen Funktion des Schichtmateri
als ablenkende Bezeichnung bzw. Musterung, z. B. einen
"Barcode", wie er heutzutage zur verschlüsselten Identifi
zierung verschiedener Waren aufgebracht wird. Die Ober
schicht kann aber auch selbst als Informationsträger die
nen.
Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schichtmaterials
ist ein Verfahren vorgesehen, das gekennzeichnet ist
durch,
Herstellen eines Ausgangsmaterials mit einer Ausgangs schicht und einer darübergelegenen Deckschicht,
Stanzen eines taktartigen Schnittmusters in das Ausgangs material, und
Trennen des gestanzten Ausgangsmaterials in ein taktartig unterbrochenes erstes Schichtmaterial und dazu komplemen täres zweites Schichtmaterial.
Herstellen eines Ausgangsmaterials mit einer Ausgangs schicht und einer darübergelegenen Deckschicht,
Stanzen eines taktartigen Schnittmusters in das Ausgangs material, und
Trennen des gestanzten Ausgangsmaterials in ein taktartig unterbrochenes erstes Schichtmaterial und dazu komplemen täres zweites Schichtmaterial.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung des
erfindungsgemäßen Schichtmaterials ist es möglich, aus
musterlosen durchgehenden Ausgangsschichten und Deck
schichten die erfindungsgemäßen Schichtmaterialen im we
sentlichen ohne Abfall oder Ausschuß zu produzieren. Da
bei wird der Umstand ausgenutzt, daß durch Bestanzen des
Ausgangsmaterials ein taktartig unterbrochenes erstes
Schichtmaterial und ein dazu komplementäres zweites
Schichtmaterial entsteht. Der Vorteil des erfindungsge
mäßen Verfahrens besteht darin, daß somit das gesamte Aus
gangsmaterial weiterverarbeitet werden kann, und zwar so
wohl der eigentliche durch′s Stanzen freigelegte Muster
körper, als auch der dazu komplementäre Randkörper.
Es ist ferner vorgesehen, daß das Ausgangsmaterial eine
Klebstoff-beschichtete Deckschicht bzw. Klebstoff-be
schichtete Basis aufweist. Auf diese Weise kann der
Zusammenhalt von Ausgangsschicht und Deckschicht bereits
im Ausgangsmaterial gewährleistet werden.
Ferner ist bevorzugt, daß das Ausgangsmaterial eine unter
halb der Ausgangsschicht gelegene Basis aufweist. Zur Ge
währleistung eines fortlaufenden Träger ist eine Basis
vorgesehen, die von der Stanzung nicht erfaßt wird.
Ferner ist vorgesehen, daß das Ausgangsmaterial durch Zu
sammenfahren der Klebstoff-beschichteten Deckschicht, der
Ausgangsschicht und der Basis hergestellt wird. Ein derar
tiges Verfahren findet unmittelbar vor der Stanzung
statt, damit die im Handel erhältichen Ausgangsmateria
lien ohne Modifikation eingesetzt werden können.
Es ist ferner bevorzugt, daß das gestanzte Ausgangsmateri
al getrennt wird durch Abziehen des komplementären zwei
ten Schichtmaterials. Das Stanzen erfolgt derart, daß die
durch das Stanzen freigelegten Schichtkörper auf der im
Ausgangsmaterial befindlichen Basis verbleiben, während
der vom Schichtkörper getrennte Randkörper des Ausgangsma
terials von der Basis abgezogen wird.
Es ist ferner bevorzugt, daß das komplementäre zweite
Schichtmaterial mit einer Basis zusammengefahren wird. Da
bei dem abgezogenen komplementären zweiten Schichtmateri
al die Basis fehlt, muß sie getrennt aufgebracht werden,
damit das erste Schichtmaterial und das komplementäre
zweite Schichtmaterial in gleicher Art und Weise weiter
verarbeitet werden können.
Es ist ferner bevorzugt, daß das nach dem Trennen gewonne
ne erste und zweite Schichtmaterial aufgewickelt wird. Da
im Anschluß an den Stanzvorgang zwei gleichermaßen weiter
zu verarbeitende Schichtmaterialien entstehen, muß der
Produktionsprozeß eine Zwischenwickelung beider Schicht
materialien vorsehen.
Es ist ferner vorgesehen, daß das nach dem Stanzen gewon
nene erste und zweite komplementäre Schichtmaterial mit
einer Oberschicht zusammengefahren wird. Die bereits oben
erläuterte Oberschicht wird mit dem erfindungsgemäßen
Schichtmaterial zusammengefahren, um einen festen Verband
der Materialien zu schaffen.
Die Oberschicht ist bevorzugt Klebstoff-beschichtet, da
mit sie an der Deckschicht haftet.
Es ist ferner bevorzugt, daß die Oberschicht eine Basis
aufweist, die vor dem Zusammenfahren mit dem Schichtma
terial abgezogen wird. Da die mit Klebstoff versehene
Oberschicht in einem anderen Verfahrensabschnitt herge
stellt wurde, muß sie eine Basis aufweisen, die den Kleb
stoff vor unbeabsichtigter Kontaktnahme schützt. Vor dem
Zusammenfahren ist diese Basis zu entfernen.
Es ist bevorzugt, daß das Schichtmaterial mit einer Neben
schicht zusammengefahren wird, wobei vorausgehend die Ba
sis des Schichtmaterials abgetrennt wird. Die bereits
oben erläuterte Nebenschicht wird unterhalb der bereits
bestehenden taktartig unterbrochenen Musterschicht aufge
bracht, so daß zwischenzeitlich die Basis des Schichtmate
rials abgetrennt werden muß.
Nach dem Zusammenfahren von Schichtmaterial und Neben
schicht wird eine neue Klebstoff-beschichtete Basis aufge
bracht, damit auch für das neue Produkt ein Träger vorhan
den ist.
Es ist ferner bevorzugt, daß das Schichtmaterial einer
weiteren Stanzung unterzogen wird, bei der die beiden
Randbereiche des Schichtmaterials abgetrennt werden.
Dieser Verfahrensschritt ist notwendig, um die nach dem
Stanzen verbleibenden Randbereiche des komplementären
zweiten Schichtmaterials abzutrennen. Die Randbereiche
stehen gegenüber den Taktabschnitten des komplementären
Schichtmaterials auf beiden Seiten vor und verursachen
auf diese Weise einen ungleichmäßigen Schichtaufbau. Um
eine ungleichartige Behandlung des weiterverarbeiteten
ersten Schichtmaterials und des weiterverarbeiteten kom
plementären zweiten Schichtmaterials zu verhindern, wer
den beide weiterverarbeiteten Schichtmaterialien der ge
nannten Stanzung und Abtrennung ihrer Randbereiche unter
zogen, wobei die Stanzung so ausgestaltet ist, daß auch
von dem ersten Schichtmaterial (ohne Randbereiche) ein
gewisser Randbereich abgeschnitten wird. Im Rahmen dieser
Endstanzung kann das Schichtmaterial aber auch quer zur
Förderrichtung gestanzt werden, um Schichtmaterial mit
bestimmter Länge herzustellen.
Weitere Vorteile, Merkmale und Anwendungsmöglichkeiten
der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfol
genden Beschreibung von Ausführungsbeispielen in Verbin
dung mit der Zeichnung.
Fig. 1 zeigt ein erfindungsgemäßes Schichtmate
rial.
Fig. 2 zeigt ein zu Fig. 1 komplementäres er
findungsgemäßes Schichtmaterial.
Fig. 3 zeigt den Aufbau der weiterverarbeiteten
Schichtmaterialien.
Fig. 4 zeigt eine alternative Ausführungsform
von Fig. 1.
Fig. 5 zeigt eine alternative Ausführungsform
von Fig. 2.
Fig. 6 zeigt eine alternative Ausführungsform
von Fig. 3.
Fig. 7 zeigt den Aufbau der in den einzelnen
Verfahrensschritten erhaltenen Schicht
materialien.
Fig. 8 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Fig. 9 zeigt eine Vorrichtung zur Herstellung
der erfindungsgemäßen Oberschicht.
Fig. 10 zeigt eine Vorrichtung zum Versehen der
erfindungsgemäßen Schichtmaterialien mit
einer Oberschicht und einer Nebenschicht.
Fig. 11 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung
des Abtrennens der Randbereiche.
In Fig. 1 ist der Aufbau eines erfindungsgemäßen Schicht
materials gezeigt. Es besteht aus einer Basis in Form von
Siliconpapier 6, einer darübergelegenen Musterschicht in
Form eines getakteten Metallstreifens 2 mit einzelnen Ab
schnitten 10, einer Klebeschicht 8 und einer Deckschicht
in Form eines Films 4 mit Taktabschnitten 12. Als Aus
gangsmaterialien zur Herstellung des erfindungsgemäßen
Schichtmaterials wird ein durchgehender Metallstreifen
als Ausgangsschicht und ein durchgehender Filmstreifen
als Deckschicht verwendet. Die nach der Stanzung entste
henden Abschnitte 12 der Deckschicht 4 und Abschnitte 10
der Musterschicht 2 schließen in Längsrichtung miteinan
der ab, während die Abschnitte 12 in Querrichtung über
die Abschnitte 10 überstehen. Im Falle einer mit einer
Klebeschicht 8 verwendeten Deckschicht 4 weist auch die
Klebeschicht 8 entsprechende Taktabschnitte auf.
In Fig. 2 ist eine weitere Ausführungsform des erfin
dungsgemäßen Schichtmaterials dargestellt, wobei hier ein
gegenüber Fig. 1 komplementärer Aufbau dargestellt ist.
Der Aufbau besteht aus einer als Trägerschicht dienenden
Basis 6′ aus Siliconpapier, einer darübergelegenen
Musterschicht in Form eines Metallstreifens 2′ mit Ab
schnitten 10′, einer darübergelegenen Klebeschicht 8′ und
einer nach oben abschließenden Deckschicht 4′. Das in Fig. 2
dargestellte erfindungsgemäße Schichtmaterial ent
steht ebenfalls aus einem durchgehenden als Ausgangs
schicht dienenden Metallstreifen und einer darübergelege
nen durchgehenden Deckschicht. Nach der Stanzung dieses
Ausgangsmaterials verbleibt der in Fig. 2 gezeigte
Schichtaufbau auf der Basis 6′, während der in Fig. 1
gezeigte komplementäre Schichtaufbau mit den Schichten 2,
4, 8 abgezogen und mit einer neuen Basis 6 versehen wird.
In Fig. 3 ist der Aufbau von erfindungsgemäß weiterverar
beiteten Schichtmaterialien gezeigt, wobei gegenüber der
bereits beschriebenen Musterschicht 2, Klebeschicht 8 und
Deckschicht 4 von unten eine Nebenschicht in Form eines
gleichfalls schmalen Metallstreifens 14 aufgebracht ist,
der durch einen auf eine Basis 24 aus Siliconpapier ge
schichteten Kleber 18 stabilisiert ist. Von oben ist eine
ebenfalls mit Klebeschicht 20 versehene Oberschicht 16
aufgebracht, die nach außen sichtbar ist und das Schicht
material nach oben visuell verschließt.
Die Fig. 4, 5 und 6 zeigen eine alternative Ausfüh
rungsform der in den Fig. 1 bis 3 dargestellten
Schichtmaterialien, bei der nicht eine Klebstoff-beschich
tete Deckschicht, sondern eine Klebstoff-beschichtete Ba
sis verwendet wird. Der Aufbau der in den Fig. 4 und 5
gezeigten erfindungsgemäßen Schichtmaterialien liegt dem
zufolge in Form derselben Schichten aber in unterschied
licher Reihenfolge vor. Der Aufbau besteht aus einer zu
grundeliegenden Basis 6, 6′ aus Siliconpapier, einem da
rübergelegenen Kleber 8, 8′, der darübergelegenen Muster
schicht 2, 2′ in Form eines getakteten Metallstreifens
und der abschließenden Deckschicht 4, 4′. Es sind diesel
ben Abschnitte 10, 10′ der Musterschicht 2, 2′ und Ab
schnitte 12, 12′ der Deckschicht 4, 4′ vorgesehen. Das in
Fig. 6 dargestellte weiterverarbeitete Schichtmaterial
folgt diesem Aufbau. Der Vorteil dieser Ausführungsform
besteht darin, daß ein Klebstoff-beschichtetes Siliconpa
pier in aufgewickelter Form erhältlich ist, während im
Falle des mit Klebstoff zu beschichtenden Films die
Beschichtung erst zu Beginn des Verfahrens erfolgen kann,
weil ein Klebstoff-beschichteter Film in der Regel nicht
wickelfähig ist.
Fig. 7 zeigt das erfindungsgemäße Schichtmaterial in ein
zelnen Produktionsphasen. Fig. 7a zeigt die mit Basis 22
und Kleber 20 versehende Oberschicht 16. Fig. 7b zeigt
das nach der Stanzung entstehende erste Schichtmaterial
mit den Schichten 6′, 2′, 8′, 4′. Fig. 7c zeigt das kom
plementäre zweite Schichtmaterial nach der Stanzung mit
den Schichten 6, 2, 8, 4. Beim Vergleich von Fig. 7b und
7c fällt im Querschnitt der überstehende Rand des in Fig. 7c
dargestellten komplementären Schichtmaterials auf.
Fig. 7d zeigt das in Fig. 7b dargestellte erste Schicht
material mit aufgebrachter Oberschicht, wie in Fig. 7a
gezeigt. Fig. 7e zeigt das in Fig. 7c dargestellte kom
plementäre Schichtmaterial mit aufgebrachter Oberschicht,
wie in Fig. 7a dargestellt. Fig. 7f zeigt das nach Ab
trennen der Randbereiche 26, 28 erhaltene Endprodukt. Es
ist deutlich zu sehen, daß unabhängig von der Verwendung
des in Fig. 7d oder Fig. 7e gezeigten Zwischenprodukts
das gleiche Endprodukt erhalten wird.
Fig. 8 zeigt eine Vorrichtung zur Durchführung des erfin
dungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung des erfindungsge
mäßen Schichtmaterials. Die Deckschicht 4, 4′ in ununter
brochener Form ist auf dem Wickel 40 aufgerollt und wird
von dort abgespult, und von einer Beschichtungsvorrich
tung 42 mit einer Klebeschicht versehen. Die für die spä
tere Musterschicht vorgesehene Ausgangsschicht ist auf
einer Spule 44 aufgewickelt, die gleichfalls abgespult
wird. Schließlich befindet sich die in Form von Silicon
papier vorliegende Basis 6′ auf einer Rolle 46, die eben
falls abgewickelt wird. Die abgewickelten Materialien
werden von im Stand der Technik bekannten Führungen und
Rollenvorrichtungen zusammengefahren und in kompakter
Form einer Stanzvorrichtung 48 zugeführt, die ein recht
eckiges, wie in Fig. 1 und 2 gezeigtes, Stanzmuster
einstanzt. Das gestanzte Ausgangsmaterial wird getrennt
in ein erstes Schichtmaterial 2′, 4′, 8′, welches auf
einer Haspel 50 aufgewickelt wird und ein komplementäres
Schichtmaterial 2, 4, 8, das zunächst mit einer von einer
Rolle 52 stammenden Basis 6 in Form von Siliconpapier zu
sammengefahren wird und nachfolgend auf einer Haspel 54
aufgewickelt wird.
In Fig. 9 ist die vorausgegangene bzw. gleichzeitige
Herstellung der zur Weiterverarbeitung vorgesehenen Ober
schicht 16 dargestellt. Die Oberschicht 56 in Form eines
Films oder beschichteten Materials, z. B. eines Barcodes
liegt auf einem Wickel 56 vor und wird von diesem abge
spult und mit einer von einer Rolle 58 stammenden Kleb
stoff-beschichteten Basis 22 in Form von Siliconpapier
zusammengefahren und auf einer Haspel 60 aufgewickelt.
Fig. 10 zeigt das Aufbringen von Oberschicht und Neben
schicht auf das erfindungsgemäße Schichtmaterial. Das auf
Haspel 50 bzw. Haspel 54 vorliegende erfindungsgemäße
Schichtmaterial wird abgespult und mit der auf Haspel 60
vorliegenden Klebstoff-beschichteten Oberschicht 16 zusam
mengefahren, wobei vor dem Zusammenfahren die auf Haspel
60 vorliegende Oberschicht 16 von ihrer Basis (Siliconpa
pier 22) getrennt wird, welches auf eine Abziehrolle 62
aufgewickelt wird. Das mit Klebstoff-beschichteter Deck
schicht bzw. Basis versehene Schichtmaterial wird nachfol
gend selbst von seiner Basis 6 getrennt, welche auf einer
Abziehrolle 64 aufgewickelt wird, und gelangt in einen
Führungsmechanismus, wo sie mit der von einer Spule 66
abgewickelten Nebenschicht 14 und einer von einer Rolle
68 stammenden neuen Klebstoff-beschichteten Basis 24 zu
sammengefahren wird. Dieses in seinem Aufbau bereits abge
schlossene Endprodukt wird auf einer Haspel 70 aufge
wickelt.
Fig. 11 zeigt die Endbehandlung des Schichtmaterials.
Das auf Haspel 70 vorliegende vorläufige Endprodukt wird
von dort abgespult und einer Randstanzvorrichtung 72
zugeführt, die das Endprodukt beidseitig von seinem Rand
befreit. Das derart behandelte Schichtmaterial liegt nun
im Endproduktform vor und wird auf einer verkaufsfertigen
Haspel 76 aufgewickelt, wobei die abgetrennten Ränder auf
einem Wickel 74 abgezogen werden.
Claims (11)
1. Schichtmaterial mit einer taktartig unterbroche
nen Musterschicht (2) und einer darüber gelegenen Deck
schicht (4), dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht
(4) dieselbe Taktfolge wie die Musterschicht (2) auf
weist.
2. Schichtmaterial nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch eine Basis (6), auf der die Musterschicht (2) ange
ordnet ist.
3. Schichtmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Deckschicht (4) bzw. die Basis
(6) eine unterbrochene Klebeschicht (8) aufweist, an der
die Musterschicht (2), die Deckschicht (4) und die Basis
(6) haften.
4. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht (4)
und die Musterschicht (2) so übereinander angeordnet
sind, daß jeder durch die Taktfolge vorgegebene Abschnitt
(10) der Musterschicht (2) von einem entsprechenden Ab
schnitt (12) der Deckschicht (4) überdeckt ist.
5. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Schichtmaterial
in einer Längsrichtung aufwickelbar ist und die Abschnit
te (12) der Deckschicht (4) in der Längsrichtung mit den
entsprechenden Abschnitten (10) der Musterschicht (2) ab
schließen.
6. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschnitte (12)
der Deckschicht (4) in Querrichtung über die Abschnitte
(10) der Musterschicht (2) überstehen.
7. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Musterschicht
(2) eine nichtunterbrochene Nebenschicht (14) aufweist.
8. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht eine
darübergelegene, nach außen sichtbare Oberschicht (16)
aufweist.
9. Schichtmaterial nach einem der vorhergehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten die
folgende Reihenfolge aufweisen:
- - Basis (6, 24)
- - Nebenschicht (14)
- - Musterschicht (2)
- - Deckschicht (4)
- - Oberschicht (16).
10. Schichtmaterial nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die unterbrochene Klebeschicht (8) zwischen
Deckschicht und Musterschicht angeordnet ist.
11. Schichtmaterial nach Anspruch 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß zwischen Basis (6, 24) und Nebenschicht
(14) bzw. Oberschicht (16) und Deckschicht (4) weitere
Klebeschichten (18 bzw. 20) angeordnet sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4042442A DE4042442A1 (de) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | Schichtmaterial |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904025746 DE4025746A1 (de) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | Schichtmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
DE4042442A DE4042442A1 (de) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | Schichtmaterial |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4042442A1 true DE4042442A1 (de) | 1992-07-02 |
Family
ID=25895913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4042442A Withdrawn DE4042442A1 (de) | 1990-08-14 | 1990-08-14 | Schichtmaterial |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4042442A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0756256A1 (de) * | 1995-07-27 | 1997-01-29 | Esselte Meto International GmbH | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von deaktivierbaren Sicherungsstreifen |
EP0756255A1 (de) * | 1995-07-27 | 1997-01-29 | Esselte Meto International GmbH | Deaktivierbarer Sicherungsstreifen und Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines deaktivierbaren Sicherungsstreifens |
EP1462243A1 (de) * | 2003-03-26 | 2004-09-29 | Hueck Folien GmbH & Co. KG | Verpackungsverbundfolie |
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1990
- 1990-08-14 DE DE4042442A patent/DE4042442A1/de not_active Withdrawn
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