TWM607286U - 電路板 - Google Patents

Abstract

一種電路板包含一載板、一線路層、一補強層、一阻流件及一保護層，該線路層、該補強層及該阻流件設置於該載板，該補強層具有一容置槽，該阻流件設置於該容置槽中，該保護層覆蓋該線路層及該補強層，該擋止層用以擋止該保護層，以避免該保護層溢流出一容許溢流邊界。

Description

電路板

本創作是關於一種電路板，特別是一種在一晶片設置區外側設置一補強層及一阻流件的電路板。

請參閱第1圖，習知的一種電路板10是在一載板11上預定一晶片設置區11a及一線路設置區11b，沿著該晶片設置區11a的一第一側邊11c延伸一第一軸線X，沿著該晶片設置區11a的一第二側邊11d延伸一第二軸線Y，在該第一軸線X與第二軸線Y之間形成一空白區域11e。

請參閱第1圖，複數個線路12設置於該線路設置區11b，並以一保護層13覆蓋該些線路12及該空白區域11e，在習知的技術中會以網版印刷技術將一具有流動性的防焊材料印刷於該些線路12及該空白區域11e上以形成該保護層13，該保護層13並顯露出各該線路12的一內引腳12a及一外引腳12b，該些內引腳12a被設置於該晶片設置區11a，該些內引腳12a用以接合一晶片，然而由於該保護層13在未固化前仍具有流動性，因此會造成未固化的該保護層13往該晶片設置區11a方向溢流，而往該晶片設置區11a方向溢流的該保護層13將影響後續的製程，或者造成該電路板10不符合規格要求。

請參閱第1圖，此外由於該空白區域11e僅以該保護層13覆蓋，因此在一烘烤固化該保護層13的製程中，將造成該空白區域11e翹曲，或者在一熱壓合該電路板10與該晶片的製程中，也會成該空白區域11e翹曲，當該空白區域11e發生翹曲時，將不利該晶片與該些內引腳12a對位、接合及裁切等製程。

本創作的主要目的是在一載板上設置一具有一容置槽的補強層及一阻流件，該阻流件設置於該容置槽中，該補強層及該阻流件可以避免該載板發生翹曲，該容置槽用以容納未固化且過量的一保護層，且設置於該容置槽中的該阻流件可以防止容納在該容置槽中未固化的該保護層溢流出一容許溢流邊界。

本創作的一種電路板包含一載板、一線路層、一補強層、一阻流件及一保護層，該載板具有一表面，該表面包含一晶片設置區、一線路設置區及一保護層設置區，該晶片設置區具有一第一邊界及一第二邊界，該第一邊界連接該第二邊界於一角隅，該線路設置區及該保護層設置區位於該晶片設置區外側，且該保護層設置區與該線路設置區部分重疊，該保護層設置區具有一第三邊界、一第四邊界及一角落邊界，該角落邊界的二端分別連接該第三邊界與該第四邊界，該第三邊界對應該第一邊界，該第四邊界對應該第二邊界，該角落邊界對應該角隅，該晶片設置區與該保護層設置區之間具有一顯露區，該角落邊界與該角隅之間定義有一容許溢流邊界，一虛擬軸線通過該角隅、該容許溢流邊界及該角落邊界，該線路層設置於該線路設置區，該線路層具有複數個線路，各該線路的一內引腳位於該顯露區及該晶片設置區，該補強層設置於該保護層設置區及該顯露區，該補強層具有一容置槽，該容置槽顯露出該載板的該表面，該補強層投影至該表面形成一補強層投影區，該虛擬軸線通過該補強層投影區，該阻流件設置於該容置槽中，且該阻流件投影至該表面形成一阻流件投影區，該保護層覆蓋該線路層及該補強層，且該保護層顯露出該內引腳及位於該容置槽中的該阻流件，該擋止層用以擋止該保護層，以避免該保護層溢流出該容許溢流邊界。

本創作是在未設有該線路層的區域設置該補強層及該阻流件，藉由該補強層及該阻流件增加未設有該線路層的區域的強度，以避免該載板發生翹曲，且藉由該補強層的該容置槽容納未固化且過量的該保護層，並以設置於該容置槽中的該阻流件阻擋位於該容置槽中未固化的該保護層，使未固化的該保護層滯留於該容置槽中，以避免未固化的該保護層溢流出該容許溢流邊界，以使該電路板符合規格要求，以利進行後續晶片對位接合及裁切等製程。

請參閱第2及3圖，本創作的一種電路板100包含一載板110、一線路層120、一補強層130、一阻流件140及一保護層150，該載板110具有一表面111，該表面111包含一晶片設置區112、一線路設置區113及一保護層設置區114，該線路設置區113及該保護層設置區114位於該晶片設置區112外側，在本實施例中，該線路設置區113與該晶片設置區112部分重疊，且該保護層設置區114與該線路設置區113部分重疊，該晶片設置區112與該保護層設置區114之間具有一顯露區115。

請參閱第2圖，該晶片設置區112具有一第一邊界112a及一第二邊界112b，該第一邊界112a連接該第二邊界112b於一角隅112c，該保護層設置區114具有一第三邊界114a、一第四邊界114b及一角落邊界114c，該角落邊界114c的二端分別連接該第三邊界114a與該第四邊界114b，該第三邊界114a對應該第一邊界112a，該第四邊界114b對應該第二邊界112b，該角落邊界114c對應該角隅112c，該角落邊界114c與該角隅112c之間定義有一容許溢流邊界116，該角落邊界114c至該容許溢流邊界116之間的一間距不大於300微米，一虛擬軸線L通過該角隅112c、該容許溢流邊界116及該角落邊界114c。

請參閱第2及3圖，該線路層120設置於該線路設置區113，該線路層120具有複數個線路121，各該線路121的一內引腳122位於該顯露區115及該晶片設置區112。

請參閱第2及4圖，該補強層130設置於未設有該線路層120的區域，在本實施例中，該補強層130設置於該保護層設置區114及該顯露區115，該補強層130的外觀選自於各種立體幾何形狀，該補強層130具有一容置槽131，該容置槽131顯露出該載板110的該表面111，該補強層130投影至該表面111形成一補強層投影區117，該虛擬軸線L通過該補強層投影區117，在本實施例中，該容置槽131具有一缺口132，該缺口132朝向該晶片設置區112，該缺口132位於該阻流件140與該晶片設置區112之間，在本實施例中，該虛擬軸線L通過該缺口132。

請參閱第2及4圖，該阻流件140設置於該容置槽131中，較佳地，該阻流件140的一外側壁141至該容置槽131的一內側壁131a之間的一最小間距不大於900微米，且該阻流件140投影至該表面111形成一阻流件投影區118，該阻流件投影區118位於該容許溢流邊界116與該角落邊界114c之間，在一實施例中，該阻流件投影區118具有一第一側緣118a及一第二側緣118b，該第一側緣118a位於該角落邊界114c與該第二側緣118b之間，該第二側緣118b位於該角隅112c與該容許溢流邊界116之間，在本實施例中，該虛擬軸線L通過該阻流件投影區118。

請參閱第5圖，在另一實施例中，相同地，該阻流件投影區118具有該第一側緣118a及該第二側緣118b，該第一側緣118a位於該角落邊界114c與該第二側緣118b之間，該第一側緣118b與該容許溢流邊界116重疊，在本實施例中，該虛擬軸線L通過該阻流件投影區118。

請參閱第6圖，在另一實施例中，相同地，該阻流件投影區118具有該第一側緣118a及該第二側緣118b，該第一側緣118a位於該角落邊界114c與該第二側緣118b之間，該第二側緣118b與該容許溢流邊界116重疊，在本實施例中，該虛擬軸線L通過該阻流件投影區118。

請參閱第2、3及4圖，該保護層150覆蓋該線路層120及該補強層130，且該保護層150顯露出該內引腳122及位於該容置槽131中的該阻流件140，在形成該保護層150的製程中，該容置槽131用以容納未固化且過量的該保護層150，該擋止層140用以擋止未固化的該保護層150，以避免該保護層150溢流出該容許溢流邊界116。

請參閱第4、7至10圖，該阻流件140選自於各種立體幾何形狀，請參閱第7至10圖，較佳地，該阻流件140具有至少一阻滯凹槽142，該阻滯凹槽142包含至少一導流開口142a，該導流開口142a朝向該保護層150，該阻滯凹槽142用以容納朝該晶片設置區112溢流的該保護層150。

本創作藉由設置於未設有該線路層120的區域的該補強層130及該阻流件140增加未設有該線路層120的區域的強度，以避免該載板110發生翹曲，且藉由該補強層130的該容置槽131容納未固化且過量的該保護層150，並以設置於該容置槽131中的該阻流件140阻擋位溢流至該容置槽131中且未固化的該保護層150，使未固化的該保護層150滯留於該容置槽131中，以避免未固化的該保護層150溢流出該容許溢流邊界116，以使該電路板100符合規格要求，以利進行後續晶片對位接合及裁切等製程。

本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準，任何熟知此項技藝者，在不脫離本創作之精神和範圍內所作之任何變化與修改，均屬於本創作之保護範圍。

10:電路板 11:載板 11a:晶片設置區 11b:線路設置區 11c:第一側邊 11d:第二側邊 11e:空白區域 12:線路 12a:內引腳 12b:外引腳 13:保護層 100:電路板 110:載板 111:表面 112:晶片設置區 112a:第一邊界 112b:第二邊界 112c:角隅 113:線路設置區 114:保護層設置區 114a:第三邊界 114b:第四邊界 114c:角落邊界 115:顯露區 116:容許溢流邊界 117:補強層投影區 118:阻流件投影區 118a:第一側緣 118b:第二側緣 120:線路層 121:線路 122:內引腳 130:補強層 131:容置槽 131a:內側壁    132:缺口 140:阻流件 141:外側壁 142:阻滯凹槽 142a:導流開口 150:保護層 L:虛擬軸線 X:第一軸線 Y:第二軸線

第1圖：習知的一種電路板的上視圖。 第2圖：本創作的電路板的上視圖。 第3圖：本創作的電路板的剖視圖。 第4圖：本創作的電路板的補強層及阻流件的上視圖。 第5圖：本創作的電路板的一實施例的局部放大圖。 第6圖：本創作的電路板的另一實施例的局部放大圖。 第7圖：本創作的電路板的補強層及阻流件的上視圖。 第8圖：本創作的電路板的補強層及阻流件的上視圖。 第9圖：本創作的電路板的補強層及阻流件的上視圖。 第10圖：本創作的電路板的補強層及阻流件的上視圖。

100:電路板

110:載板

112:晶片設置區

112a:第一邊界

112b:第二邊界

112c:角隅

113:線路設置區

114:保護層設置區

114a:第三邊界

114b:第四邊界

114c:角落邊界

115:顯露區

116:容許溢流邊界

117:補強層投影區

118:阻流件投影區

118a:第一側緣

118b:第二側緣

120:線路層

121:線路

122:內引腳

130:補強層

131:容置槽

131a:內側壁

132:缺口

140:阻流件

150:保護層

L:虛擬軸線

Claims (12)

1. 一種電路板，包含： 一載板，具有一表面，該表面包含一晶片設置區、一線路設置區及一保護層設置區，該晶片設置區具有一第一邊界及一第二邊界，該第一邊界連接該第二邊界於一角隅，該線路設置區及該保護層設置區位於該晶片設置區外側，且該保護層設置區與該線路設置區部分重疊，該保護層設置區具有一第三邊界、一第四邊界及一角落邊界，該角落邊界的二端分別連接該第三邊界與該第四邊界，該第三邊界對應該第一邊界，該第四邊界對應該第二邊界，該角落邊界對應該角隅，該晶片設置區與該保護層設置區之間具有一顯露區，該角落邊界與該角隅之間定義有一容許溢流邊界，一虛擬軸線通過該角隅、該容許溢流邊界及該角落邊界； 一線路層，設置於該線路設置區，該線路層具有複數個線路，各該線路的一內引腳位於該顯露區及該晶片設置區； 一補強層，設置於該保護層設置區及該顯露區，該補強層具有一容置槽，該容置槽顯露出該載板的該表面，該補強層投影至該表面形成一補強層投影區，該虛擬軸線通過該補強層投影區； 一阻流件，設置於該容置槽中，且該阻流件投影至該表面形成一阻流件投影區；以及 一保護層，覆蓋該線路層及該補強層，且該保護層顯露出該內引腳及位於該容置槽中的該阻流件，該擋止層用以擋止該保護層，以避免該保護層溢流出該容許溢流邊界。
2. 如請求項1之電路板，其中該阻流件投影區位於該容許溢流邊界與該角落邊界之間。
3. 如請求項1之電路板，其中該阻流件投影區具有一第一側緣及一第二側緣，該第一側緣位於該角落邊界與該第二側緣之間，該第二側緣位於該角隅與該容許溢流邊界之間。
4. 如請求項1之電路板，其中該阻流件投影區具有一第一側緣及一第二側緣，該第一側緣位於該角落邊界與該第二側緣之間，該第一側緣與該容許溢流邊界重疊。
5. 如請求項1之電路板，其中該阻流件投影區具有一第一側緣及一第二側緣，該第一側緣位於該角落邊界與該第二側緣之間，該第二側緣與該容許溢流邊界重疊。
6. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該容置槽具有一缺口，該缺口朝向該晶片設置區，該缺口位於該阻流件與該晶片設置區之間。
7. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該虛擬軸線通過該阻流件投影區。
8. 如請求項6之電路板，其中該虛擬軸線通過該缺口。
9. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該阻流件具有至少一阻滯凹槽，該阻滯凹槽包含至少一導流開口，該導流開口朝向該保護層。
10. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該角落邊界至該容許溢流邊界之間的一間距不大於300微米。
11. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該阻流件的一外側壁至該容置槽的一內側壁之間的一最小間距不大於900微米。
12. 如請求項1至5中任一項之電路板，其中該阻流件選自於各種立體幾何形狀。

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