TWI827920B - 磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備 - Google Patents

Abstract

本發明實施例提供一種磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備，該機構包括旋轉驅動裝置、升降驅動裝置和升降連接件，升降驅動裝置固定在反應腔室頂部的底座上，該旋轉驅動裝置中，旋轉軸可圍繞其軸向旋轉的設置在升降連接件上，且旋轉軸用於與磁控管連接；旋轉軸承通過軸承座固定在升降連接件上；旋轉驅動源固定在底座上；傳動組件用於將旋轉驅動源提供的旋轉動力傳遞至旋轉軸，且傳動組件被設置為能夠在升降連接件帶動旋轉軸升降時，傳動組件與旋轉軸連接的部分與旋轉軸同步升降，同時傳動組件與旋轉驅動源連接的部分與旋轉驅動源始終保持連接。本發明提供的磁控管旋轉升降機構，其可以減小升降連接件產生變形程度，從而可以保證磁控管的水平度。

Description

磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備

本發明涉及半導體加工技術領域，具體地，涉及一種磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備。

磁控濺射方法是物理氣相沉積方法中的一種，其一般應用於製備金屬、半導體、絕緣體等材料，且具有設備簡單、易於控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。磁控濺射方法是通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度，從而達到增加濺射效率的目的。

靶材被濺射的整個過程一直伴隨著設置在靶材背面一側的磁控管的轉動，磁控管在靶材背面一側勻速轉動一個週期，整個靶材也進行了一次全靶濺射。目前，利用旋轉升降機構驅動磁控管作旋轉運動和升降運動，該旋轉升降機構通常包括旋轉驅動裝置和升降驅動裝置，其中，升降驅動裝置固定在反應腔室頂部的底座上，該升降驅動裝置通過升降連接件與旋轉驅動裝置連接，而旋轉驅動裝置與磁控管連接。在升降驅動裝置的驅動下，旋轉驅動裝置與磁控管同步作升降運動。旋轉驅動裝置用於驅動磁控管旋轉。

但是，上述旋轉升降機構在實際應用中不可避免地存在以下問題，即：上述升降連接件通常採用懸臂結構，即，一端與升降驅動裝置連接，另一端為自由端，在這種情況下，升降連接件在旋轉驅動裝置和控制管的重力作用下，很容易產生變形，從而影響磁控管的水平度，進而給工藝帶來不利影響。

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備，其可以減小升降連接件產生變形程度，從而可以保證磁控管的水平度。

為實現上述目的，本發明提供了一種磁控管旋轉升降機構，與設置在反應腔室頂部的底座連接，且包括升降驅動裝置以及與所述升降驅動裝置連接的升降連接件，所述升降驅動裝置固定在所述底座上，所述升降連接件為一平板結構，且水平設置，並且所述升降連接件的一端與所述升降驅動裝置連接；所述磁控管旋轉升降機構還包括旋轉驅動裝置，所述旋轉驅動裝置包括旋轉驅動源、傳動組件和旋轉軸，其中，所述旋轉軸可圍繞其軸向旋轉的設置在所述升降連接件上，且所述旋轉軸用於與所述磁控管連接；所述旋轉驅動源固定在所述底座上，且通過所述傳動組件與所述旋轉軸連接；所述傳動組件用於將所述旋轉驅動源提供的旋轉動力傳遞至所述旋轉軸，且所述傳動組件被設置為能夠在所述升降連接件帶動所述旋轉軸升降時，所述傳動組件與所述旋轉軸連接的部分與所述旋轉軸同步升降，同時所述傳動組件與所述旋轉驅動源連接的部分與所述旋轉驅動源始終保持連接；所述磁控管旋轉升降機構還包括間隔設置的至少兩個導向桿，且在所述升降連接件中設置有沿其升降方向貫通的至少兩個第二通孔，各個所述導向桿一一對應地穿設於各個所述第二通孔中，且各個所述導向桿的下端與所述底座固定連接，並且各個所述導向桿和對應的所述第二通孔採用可相對移動的方式配合。

可選的，所述傳動組件包括第一帶輪、第二帶輪和同步帶，其中，所述第一帶輪套設在所述旋轉軸上；所述第二帶輪套設在所述旋轉驅動源的驅動軸上；所述同步帶纏繞在所述第一帶輪和第二帶輪上，且與二者相配合，並且所述同步帶在所述旋轉軸的升降方向上的寬度小於所述第二帶輪在所述升降方向上的寬度。

可選的，在所述第二帶輪上還設置有兩個阻擋凸邊，兩個所述阻擋凸邊沿所述升降方向間隔設置在所述第二帶輪的與所述同步帶相配合的配合面的兩個邊緣處，用以將所述同步帶限制在兩個所述阻擋凸邊之間。

可選的，所述第二帶輪在所述升降方向上的寬度大於或等於所述同步帶在所述升降方向上的寬度與所述升降連接板在所述升降方向上的最大位移量之和。

可選的，所述旋轉驅動裝置還包括固定支架，所述固定支架包括支架本體和支腳，所述支腳的上端與所述支架本體連接，下端與所述底座固定連接，且在所述支架本體中設置有沿所述升降方向貫通所述支架本體的第一通孔；所述旋轉驅動源固定在所述支架本體的底部，且所述旋轉驅動源的驅動軸由下而上穿過所述第一通孔，並與位於所述支架本體上方的所述第二帶輪固定連接。

可選的，所述旋轉驅動裝置還包括軸承座和旋轉軸承，其中，所述旋轉軸承通過所述軸承座固定在所述升降連接件上；所述旋轉軸穿設於所述旋轉軸承中，且與所述旋轉軸承相配合。

可選的，在各個所述第二通孔中設置有導向軸承，各個所述導向桿與對應的所述導向軸承相配合。

可選的，各所述導向軸承通過法蘭固定在所述第二通孔中，所述法蘭通過緊固件與所述升降連接件螺紋連接。

作為另一個技術方案，本發明還提供一種磁控濺射設備，包括反應腔室和設置在所述反應腔室頂部的底座、磁控管和磁控管旋轉升降機構，其中，所述底座具有盛放有去離子水的空腔，所述磁控管通過所述磁控管旋轉升降機構設置在所述空腔中，所述磁控管旋轉升降機構採用本發明實施例提供的上述磁控管旋轉升降機構。

本發明的有益效果：本發明實施例提供的磁控管旋轉升降機構，其通過將旋轉驅動源固定在底座上，可以減小升降連接件承受的重力，消除其偏向一側的壓力，減小升降連接件的變形程度，從而可以保證磁控管的水平度。而且，傳動組件用於將旋轉驅動源提供的旋轉動力傳遞至旋轉軸，該傳動組件被設置為能夠在升降連接件帶動旋轉軸升降時，傳動組件與旋轉軸連接的部分與旋轉軸同步升降，同時傳動組件與旋轉驅動源連接的部分與旋轉驅動源始終保持連接，這樣，既可以使升降連接件能夠帶動旋轉軸升降，以實現驅動磁控管升降，又可以確保旋轉驅動源能夠通過傳動組件驅動旋轉軸和磁控管同步旋轉，從而在保證磁控管的水平度的同時，保證了旋轉升降機構驅動磁控管升降和旋轉的功能。

本發明實施例提供的磁控濺射設備，其通過採用本發明提供的上述磁控管旋轉升降機構，可以在保證磁控管的水平度的同時，保證了旋轉升降機構驅動磁控管升降和旋轉的功能。

1:升降驅動裝置

10:導向桿

101:光軸部分

102:螺柱部分

11:導向軸承

2:升降連接件

3:旋轉驅動源

31:驅動軸

32:減速器

322:固定孔

323:第一通孔

33:旋轉電機

34:固定支架

341:支架本體

342:支腳

4:傳動組件

41:第一帶輪

42:同步帶

43:第二帶輪

431:阻擋凸邊

432:配合面

5:軸承座

6:旋轉軸

7:齒輪箱

8:磁控管

9:底座

圖1為本發明第一實施例提供的磁控管旋轉升降機構的剖視圖；圖2A為本發明第一實施例採用的旋轉驅動源的安裝示意圖；圖2B為本發明第一實施例採用的固定支架的結構示意圖；圖3為本發明第一實施例採用的固定支架的仰視圖；圖4為本發明第一實施例採用的傳動組件的結構示意圖；圖5為本發明第一實施例採用的第二帶輪的結構圖；圖6為本發明第二實施例提供的磁控管旋轉升降機構的剖視圖；圖7為本發明第二實施例採用的導向桿的結構圖；圖8為本發明第二實施例採用的導向桿與升降連接件的連接剖視圖。

為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖對本發明實施例提供的磁控管旋轉升降機構及磁控濺射設備進行詳細描述。

第一實施例

請參閱圖1，本發明第一實施例提供的磁控管旋轉升降機構，其與設置在反應腔室(圖中未示出)頂部的底座9連接，該底座9位於靶材背面一側，並且底座9具有用於盛放有去離子水的空腔，磁控管8位於該空腔中，且通過磁控管旋轉升降機構安裝在底座9上。

磁控管旋轉升降機構包括升降驅動裝置1和與該升降驅動裝置1連接的升降連接件2，以及旋轉驅動裝置。其中，升降驅動裝置1固定在底座9上，該升降驅動裝置1可以為升降電機、升降氣缸或者升降液壓缸等等。當然，升降驅動裝置1還可以固定在其他相對於底座9固定不動的部件上。

在本實施例中，升降連接件2為一平板結構，且水平設置(即，垂直於升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)，並且該升降連接件2的一端與升降驅動裝置1連接，在升降驅動裝置1的驅動下，升降連接件2能夠作升降運動。當然，在實際應用中，升降連接件2還可以採用其他任意結構，本發明實施例對此沒有特別的限制。

旋轉驅動裝置包括旋轉驅動源3、傳動組件4和旋轉軸6。其中，旋轉軸6豎直設置(即，平行於升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)，其下端通過齒輪箱7與磁控管8固定連接，上端與傳動組件4連接；並且，旋轉軸6可圍繞其軸向旋轉的設置在升降連接件2上。傳動組件4用於將旋轉驅動源3提供的旋轉動力傳遞至旋轉軸6，以使旋轉軸6能夠通過齒輪箱7帶動磁控管8旋轉。齒輪箱7用於通過變速來使磁控管8能夠按指定的轉速旋轉。當然，在實際應用中，根據不同的需要，也可以不設置齒輪箱7。

在本實施例中，旋轉驅動裝置還包括軸承座5和旋轉軸承(圖中未示出)，其中，旋轉軸承通過軸承座5固定在升降連接件2上；旋轉軸6穿設於該旋轉軸承中，且與旋轉軸承相配合，以使旋轉軸6能夠作旋轉運動。軸承座5與升降連接件2的固定方式有多種，例如，在本實施例中，軸承座5包括主體和設置在該主體一端的法蘭，其中，在升降連接件2中設置有安裝孔，該軸承座5的主體穿設於該安裝孔中，且軸承座5的主體上的法蘭通過緊固件(例如螺釘)與升降連接件2固定連接，從而將軸承座5的主體固定在安裝孔中，並且上述旋轉軸承設置在該軸承座5的主體中。

上述升降連接件2類似於懸臂結構，即，升降連接件2的一端與升降驅動裝置1連接，而另一端是自由端，在這種情況下，若旋轉驅動裝置安裝在升降連接件2上，會使其一側承受較大的重力，很容易產生變形而發生傾斜，從而影響磁控管8的水平度。

為了解決上述問題，在本實施例中，旋轉驅動源3固定在底座9上。這樣，可以減小升降連接件2所承受的重力，消除其偏向一側的壓力，減小升降連接件2的變形程度，從而可以保證磁控管8的水平度。

由於旋轉驅動源3固定在底座9上，在升降連接件2帶動旋轉軸6作升降運動時，旋轉驅動源3與旋轉軸6會在豎直方向上產生相對運動，這就要求二者在產生相對運動時，旋轉驅動源3與旋轉軸6之間仍然能夠保持連接，以確保磁控管8的旋轉運動不會中斷。為了解決該問題，在本實施例中，傳動組件4被設置為能夠在升降連接件2帶動旋轉軸6升降時，傳動組件4與旋轉軸6連接的部分與旋轉軸6同步升降，同時傳動組件4與旋轉驅動源3連接的部分與旋轉驅動源3始終保持連接，也就是說，利用傳動組件4來確保旋在轉驅動源3與旋轉軸6產生相對運動時旋轉驅動源3與旋轉軸6仍然能夠保持連接，這樣，既可以使升降連接件2能夠帶動旋轉軸6升降，以實現驅動磁控管8升降，又可以確保旋轉驅動源3能夠通過傳動組件4驅動旋轉軸6和磁控管8同步旋轉，從而在保證磁控管8的水平度的同時，保證了旋轉升降機構驅動磁控管升降和旋轉的功能。

旋轉驅動源3固定在底座9上的方式有多種，例如，在本實施例中，如圖1和圖2A所示，旋轉驅動裝置還包括固定支架34，固定支架34用於將旋轉驅動源3固定在底座9上。藉助固定支架34，可以將旋轉驅動源3固定在合適的高度。具體地，如圖2B所示，該固定支架34包括支架本體341和支腳342，其中，支腳342為兩個，且分別位於支架本體341的兩側，並且兩個支腳342的上端均與支架本體341連接，兩個支腳342的下端均用於與底座9固定連接，具體地，如圖3所示，各個支腳342上設置有固定孔322，以能夠通過螺釘將支腳342與底座9固定連接。

在本實施例中，如圖1至圖2B所示，旋轉驅動源3包括旋轉電機33和減速器32，其中，旋轉電機33固定在支架本體341的底部，且旋轉電機33的驅動軸與位於支架本體341上方的減速器32連接，具體地，如圖3所示，在支架本體341中設置有沿升降方向(即，升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)貫通支架本體341的第一通孔323，第一通孔323用以供減速器32的驅動軸31穿過，並且在支架本體341中，且位於第一通孔323的周圍設置有多個安裝孔321，以能夠通過螺釘將支架本體341與旋轉電機33固定連接。需要說明的是，本發明實施例並不局限於採用上述方式將旋轉驅動源3固定在底座9上。在實際應用中，還可以採用其他任意方式將旋轉驅動源3固定在底座9上。

傳動組件4的結構可以多種，例如，如圖1和圖4所示，傳動組件4包括第一帶輪41、第二帶輪43和同步帶42，其中，第一帶輪41套設在旋轉軸6上，其能夠帶動旋轉軸6同步旋轉；第二帶輪43套設在旋轉驅動源3的驅動軸上，在本實施例中，第二帶輪43套設在減速器32的驅動軸31上，在旋轉電機33的驅動下，驅動軸31能夠帶動第二帶輪43同步旋轉；同步帶42纏繞在第一帶輪41和第二帶輪43上，且與二者相配合，以使第一帶輪41和第二帶輪43能夠帶動同步帶42運動。在旋轉驅動源3的驅動下，第二帶輪43轉動，並帶動同步帶42在第一帶輪41和第二帶輪43上滾動，從而帶動第一帶輪41同步轉動，進而帶動旋轉軸6同步旋轉。

同步帶42與第一帶輪41和第二帶輪43相配合的方式可以有多種，例如，同步帶42與第一帶輪41和第二帶輪43齒輪配合，具體地，在同步帶42、第一帶輪41和第二帶輪43上均設置有齒輪，且同步帶42上的齒輪與第一帶輪41和第二帶輪43上的齒輪相嚙合，從而使第一帶輪41和第二帶輪43能夠帶動同步帶42運動。又如，同步帶42與第一帶輪41和第二帶輪43摩擦配合，在這種情況下，同步帶42與第一帶輪41和第二帶輪43具有摩擦配合的配合面，從而使 第一帶輪41和第二帶輪43能夠帶動同步帶42運動。可選的，為了增大接觸面積，以增大同步帶42與第一帶輪41和第二帶輪43之間的摩擦力，可以在第一帶輪41和第二帶輪43的配合面或者同步帶42的配合面上設置齒輪或者其他可增大接觸面積的結構。

並且，同步帶42在旋轉軸6的升降方向(即，升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)上的寬度小於第二帶輪43在該升降方向上的寬度。當旋轉軸6隨升降驅動件2作升降運動時，同步帶42的纏繞在第一帶輪41上的部分(相當於傳動組件4與旋轉軸6連接的部分)會隨旋轉軸6一起升降，而由於同步帶42在旋轉軸6的升降方向上的寬度小於第二帶輪43在該升降方向上的寬度，這使得同步帶42的纏繞在第二帶輪42上的部分(相當於傳動組件4與旋轉驅動源3連接的部分)可以相對於第二帶輪43產生相對移動，即，第二帶輪43保持靜止，而同步帶42纏繞在第二帶輪43上的部分上移或下移。這樣，同步帶42仍然可以帶動第二帶輪43繼續旋轉，從而既實現了驅動磁控管8的升降，又可以確保旋轉軸6與旋轉驅動源3始終保持連接。

可選的，如圖5所示，在第二帶輪43上還設置有兩個阻擋凸邊431，兩個阻擋凸邊431沿升降方向(即，升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)間隔設置在第二帶輪43的配合面432的兩個邊緣處，用以將同步帶42限制在兩個阻擋凸邊431之間，從而避免同步帶42在升降時脫離第二帶輪43。

可選的，第二帶輪43在升降方向(即，升降驅動裝置1驅動升降連接件2升降的運動方向)上的寬度大於或等於同步帶42在該升降方向上的寬度與升降連接板2在該升降方向上的最大位移量之和。這樣，可以在第二帶輪43與旋轉驅動源3的驅動軸保持連接的同時，保證升降連接板2的移動範圍不會受到同步帶42的限制。

需要說明的是，本發明並不局限於採用本實施例提供的上述傳動組件4的結構，在實際應用中，還可以採用其他任意傳動結構，例如，傳動組件4採用諸如彈性連接件或者柔性連接件等的在豎直方向上可伸縮的部件，以實現旋轉驅動源3與旋轉軸6在產生相對運動時仍然能夠保持連接。

第二實施例

請參閱圖6，本發明第二實施例提供的磁控管旋轉升降機構，其是在上述第一實施例的基礎上所做的進一步改進。具體地，在上述第一實施例的基礎上，磁控管旋轉升降機構還包括間隔設置的至少兩個導向桿10，且在升降連接件2中設置有沿其升降方向貫通的至少兩個第二通孔，各個導向桿10一一對應地穿設於各個第二通孔中，且各個導向桿10的下端均與底座固定連接，並且各個導向桿10和對應的第二通孔採用可相對移動的方式配合。藉助導向桿10，不僅可以在一定程度上對升降連接板2提供一定的支撐力，使升降連接板2不再是懸臂結構，增加了升降連接板2的運動平穩性，而且還可以有效減少升降連接板2產生的變形，提高其水平度，從而可以保證磁控管8的水平度。

在本實施例中，如圖7所示，各導向桿10包括光軸部分101和設置在該光軸部分101下端的螺柱部分102，其中，螺柱部分102採用螺紋連接的方式與底座9固定連接，光軸部分101的上端由下而上穿過升降連接件2中與該光軸部分101對應的第二通孔，且各光軸部分101和對應的第二通孔採用可相對移動的方式配合，例如間隙配合。當然，在實際應用中，導向桿10與底座9還可以採用其他任意方式固定連接。

可選的，光軸部分101的直徑為20mm，長度為100mm，螺柱部分102的外螺紋尺寸為M12，長度為20mm。導向桿10可採用不銹鋼材質製作。

各個導向桿10和對應的第二通孔採用可相對移動的方式有多種，例如，如圖8所示，在本實施例中，在升降連接件2的各個第二通孔中均設 置有導向軸承11，各個導向桿10與對應的導向軸承11相配合。由於導向軸承11中的鋼球與軸承外套是點接觸，這使得鋼球可以以最小的摩擦阻力滾動，摩擦小，且比較穩定，從而導向桿10與導向軸承11的配合能夠使升降連接板2的運動更加平順。

可選的，各導向軸承11通過法蘭固定在第二通孔中，具體地，該法蘭可以疊置在升降連接件2的上表面，並通過緊固件與升降連接件2螺紋連接。

可選的，如圖6所示，導向桿10為兩個，且對稱分佈在旋轉軸6的靠近和遠離旋轉驅動源3的兩側，靠近和遠離旋轉驅動源3的兩側的方向即為升降連接板2的固定端與自由端所在方向，升降連接板2在該方向上很容易產生變形，因此，通過在該方向上間隔設置多個導向桿10，可以更有效地減少升降連接板2產生的變形，提高升降連接板2的水平度。當然，在實際應用中，可以根據具體需要自由設定導向桿10的數量和排布方式。

綜上所述，本發明上述各個實施例提供的磁控管旋轉升降機構，其通過將旋轉驅動源固定在底座上，可以減小升降連接件承受的重力，減小升降連接件的變形程度，從而可以保證磁控管的水平度。而且，傳動組件用於將旋轉驅動源提供的旋轉動力傳遞至旋轉軸，該傳動組件被設置為能夠在升降連接件帶動旋轉軸升降時，傳動組件與旋轉軸連接的部分與旋轉軸同步升降，同時傳動組件與旋轉驅動源連接的部分與旋轉驅動源始終保持連接，這樣，既可以使升降連接件能夠帶動旋轉軸升降，以實現驅動磁控管升降，又可以確保旋轉驅動源能夠通過傳動組件驅動旋轉軸和磁控管同步旋轉，從而在保證磁控管的水平度的同時，保證了旋轉升降機構驅動磁控管升降和旋轉的功能。

作為另一個技術方案，本發明實施例還提供一種磁控濺射設備，包括反應腔室和設置在該反應腔室頂部的底座、磁控管和磁控管旋轉升降機構，其中，該底座具有盛放有去離子水的空腔，磁控管通過磁控管旋轉升降機構設置在該空腔中。磁控管旋轉升降機構採用本發明上述各個實施例提供的磁控管旋轉升降機構。

本發明實施例提供的磁控濺射設備，其通過採用本發明上述各實施例提供的磁控管旋轉升降機構，可以在保證磁控管的水平度的同時，保證了旋轉升降機構驅動磁控管升降和旋轉的功能。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而採用的示例性實施方式，然而本發明並不局限於此。對於本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護範圍。

1:升降驅動裝置

2:升降連接件

3:旋轉驅動源

31:驅動軸

32:減速器

33:旋轉電機

4:傳動組件

41:第一帶輪

42:同步帶

43:第二帶輪

5:軸承座

6:旋轉軸

7:齒輪箱

8:磁控管

9:底座

Claims (8)

1. 一種磁控管旋轉升降機構，與設置在反應腔室頂部的底座連接，且包括升降驅動裝置以及與所述升降驅動裝置連接的升降連接件，所述升降驅動裝置固定在所述底座上，其特徵在於，所述升降連接件為一平板結構，且水平設置，並且所述升降連接件的一端與所述升降驅動裝置連接；所述磁控管旋轉升降機構還包括旋轉驅動裝置，所述旋轉驅動裝置包括旋轉驅動源、傳動組件、軸承座、旋轉軸承和旋轉軸，其中，所述旋轉軸承通過所述軸承座固定在所述升降連接件上；所述旋轉軸穿設於所述旋轉軸承中，且與所述旋轉軸承相配合；所述旋轉軸用於與所述磁控管連接；所述旋轉驅動源固定在所述底座上，且通過所述傳動組件與所述旋轉軸連接；所述旋轉驅動裝置還包括固定支架，所述固定支架包括支架本體和支腳，所述支腳的上端與所述支架本體連接，下端與所述底座固定連接；所述固定支架用於固定所述旋轉驅動源；所述傳動組件用於將所述旋轉驅動源提供的旋轉動力傳遞至所述旋轉軸，且所述傳動組件被設置為能夠在所述升降連接件帶動所述旋轉軸升降時，所述傳動組件與所述旋轉軸連接的部分與所述旋轉軸同步升降，同時所述傳動組件與所述旋轉驅動源連接的部分與所述旋轉驅動源始終保持連接；所述磁控管旋轉升降機構還包括間隔設置的兩個導向桿，所述兩個導向桿對稱分佈在所述旋轉軸的靠近和遠離所述旋轉驅動源的兩側，且在所述升降連接件中設置有沿其升降方向貫通的兩個第二通孔，各個所述導向桿一一對應地穿設於各個所述第二通孔中，且各個所述導向桿的下端與所述底座固定連接，並且各個所述導向桿和對應的所述第二通孔採用滑動配合。
2. 如請求項1所述之磁控管旋轉升降機構，其中所述傳動組件包括第一帶輪、第二帶輪和同步帶，其中，所述第一帶輪套設在所述旋轉軸上；所述第二帶輪套設在所述旋轉驅動源的驅動軸上；所述同步帶纏繞在所述第一帶輪和第二帶輪上，且與二者相配合，並且所述同步帶在所述旋轉軸的升降方向上的寬度小於所述第二帶輪在所述升降方向上的寬度。
3. 如請求項2所述之磁控管旋轉升降機構，其中在所述第二帶輪上還設置有兩個阻擋凸邊，兩個所述阻擋凸邊沿所述升降方向間隔設置在所述第二帶輪的與所述同步帶相配合的配合面的兩個邊緣處，用以將所述同步帶限制在兩個所述阻擋凸邊之間。
4. 如請求項2所述之磁控管旋轉升降機構，其中所述第二帶輪在所述升降方向上的寬度大於或等於所述同步帶在所述升降方向上的寬度與所述升降連接板在所述升降方向上的最大位移量之和。
5. 如請求項2所述之磁控管旋轉升降機構，其中在所述支架本體中設置有沿所述升降方向貫通所述支架本體的第一通孔；所述旋轉驅動源固定在所述支架本體的底部，且所述旋轉驅動源的驅動軸由下而上穿過所述第一通孔，並與位於所述支架本體上方的所述第二帶輪固定連接。
6. 如請求項1所述之磁控管旋轉升降機構，其中在各個所述第二通孔中設置有導向軸承，各個所述導向桿與對應的所述導向軸承相配合。
7. 如請求項6所述之磁控管旋轉升降機構，其中各所述導向軸承通過法蘭固定在所述第二通孔中，所述法蘭通過緊固件與所述升降連接件螺紋連接。
8. 一種磁控濺射設備，包括反應腔室和設置在所述反應腔室頂部的底座、磁控管和磁控管旋轉升降機構，其中，所述底座具有盛放有去離子水的空腔，所述磁控管通過所述磁控管旋轉升降機構設置在所述空腔中，其特徵在於，所述磁控管旋轉升降機構採用請求項1-7中任意一項所述的磁控管旋轉升降機構。