CN220827455U - 镀膜伞架及真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了镀膜伞架和真空镀膜设备。该镀膜伞架包括机架、第一驱动件、第二驱动件、升降台和驱动轴；第一驱动件、第二驱动件和升降台均设于机架上；升降台设于机架上，第一驱动件通过传动组件与升降台传动连接，第一驱动件能带动带动升降台升降；驱动轴穿设于升降台，驱动轴的一端与第二驱动件驱动连接，驱动轴的另一端与承载部连接，承载部用于放置基板。通过本实用新型，能在实现基板多自由度调节的同时，还能提升镀膜伞架高度调节的准确性。

Description

镀膜伞架及真空镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及镀膜伞架及真空镀膜设备。

背景技术

在基板的膜层镀制过程中，通常使用镀膜伞架来承载基板，基板的待镀膜表面朝向镀膜伞架下方的镀膜源，进而通过镀膜伞架热蒸发等方式在基板的待镀表面形成所需膜层。

目前，为了提高镀膜均匀性等薄膜性能和提高真空镀膜设备的通用性，需要对镀膜源和承载基板的镀膜伞架之间的距离进行灵活调节；然而，现有技术中，镀膜伞架与镀膜源之间的距离往往是固定的，无法满足灵活和精确地调节蒸发距离的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供镀膜伞架及真空镀膜设备，能在实现基板多自由度调节的同时，还能提升镀膜伞架高度调节的准确性。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

镀膜伞架，包括：

机架；

第一驱动件和第二驱动件，均设于所述机架上；

升降台，所述升降台设于所述机架，所述第一驱动件通过传动组件与所述升降台传动连接，所述第一驱动件能带动所述升降台升降；

驱动轴，穿设于所述升降台，所述驱动轴的一端与所述第二驱动件驱动连接，所述驱动轴的另一端与承载部连接，所述承载部用于放置基板。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述机架包括顶板和底板，所述顶板和所述底板通过立柱相连接，所述升降台设于所述顶板和所述底板之间。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述传动组件包括丝杠，所述丝杠的一端与所述第一驱动件连接，所述丝杠的另一端转动连接于所述底板，所述升降台上设有螺套，所述螺套与所述丝杠螺接。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述升降台靠近所述第二驱动件的一侧设有磁流体，所述磁流体套设在所述驱动轴上。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述驱动轴上套设有波纹管，所述波纹管的一端与所述升降台的底面连接，所述波纹管的另一端与所述底板连接。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述第一驱动件与所述丝杠之间通过同步带传动。

作为一种镀膜伞架的可选方案，两个所述第一驱动件相对所述驱动轴对称设置。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述丝杠穿设于所述顶板，所述丝杠与所述顶板之间设有轴承。

作为一种镀膜伞架的可选方案，所述顶板上设有避让孔，所述避让孔与所述第二驱动件相对，所述第二驱动件能通过所述避让孔。

真空镀膜设备，包括镀膜室，还包括以上任一方案所述的镀膜伞架。

有益效果：

在本实用新型第一方面中，通过第一驱动件带动传动组件，传动组件继续带动升降台沿着竖直方向升降，能够实现承载部和驱动轴沿着所述至方向升降，从而实现基板的高度调整；进一步地，通过第二驱动件带动驱动轴转动，驱动轴再带动整个承载部转动，进而实现基板的周向转动，本镀膜伞架不仅能够实现基板的多自由度调整，从而提升基板镀膜的均匀性，还能进一步通过丝杠与第一驱动件精确配合实现高度调节的准确；

在本实用新型第二方面中，配置有该镀膜伞架的真空镀膜设备，不仅能够实现基板的转动镀膜和高度调整，还能使高度调整的准确性得到提升。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的镀膜伞架的结构示意图。

图中：

1、机架；11、丝杠；12、顶板；121、避让孔；13、底板；14、立柱；15、同步带；16、轴承；2、第一驱动件；3、第二驱动件；4、升降台；41、螺套；5、驱动轴；6、承载部；7、磁流体；8、波纹管。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。

请参阅附图1，本实施例的第一方面涉及一种镀膜伞架，用于镀膜基板的承载，并能够实现镀膜基板的多自由度运动，提升镀膜的均匀性。其中该镀膜伞架包括机架1、第一驱动件2、第二驱动件3、升降台4和驱动轴5；第一驱动件2固定连接于机架1上、第二驱动件3和升降台4活动连接于机架1上；升降台4设于机架1上，第一驱动件2通过传动组件与升降台4传动连接，第一驱动件2能带动升降台4升降；驱动轴5穿设于升降台4，一端与第二驱动件3驱动连接，另一端与承载部6连接，承载部6用于放置基板。

在本实施例中，承载部6为伞形托板，基板放置在伞形托板上，伞形托板的中心与驱动轴5远离第二驱动件3的一端连接；第一驱动件2和第二驱动件3均可以采用驱动电机，在镀膜过程中，通过第一驱动件2带动传动组件，通过传动组件带动升降台4沿着竖直方向升降，从而实现基板的高度调整；通过第二驱动件3带动驱动轴5转动，驱动轴5再带动整个承载部6转动，进而实现基板的周向转动。本镀膜伞架不仅能够实现基板的多自由度调整，从而提升基板镀膜的均匀性，还能进一步通过传动组件与第一驱动件2精确配合实现高度调节的准确。

可选地，机架1包括顶板12和底板13，顶板12和底板13通过立柱14相连接，升降台4设于顶板12和底板13之间。

本实施例中，顶板12和底板13均为相对布置的长方体金属板件，顶板12和底板13之间通过四根圆柱形立柱14连接，通过调整立柱14的长度方便调整顶板12和底板13之间的距离，升降台4也为长方形金属板件，设于顶板12和底板13之间，可以在顶板12和底板13所形成的空间内部沿着竖直方向升降。

可选地，传动组件包括丝杠11，丝杠11的一端与第一驱动件2连接，丝杠11的另一端转动连接于底板13，升降台4上设有螺套41，螺套41与丝杠11螺接。

在本实施例中，通过第一驱动件2带动丝杠11转动，丝杠11与升降台4螺纹连接，升降台4可以随着丝杠11的转动沿着竖直方向升降，进而实现承载部6和驱动轴5沿着所述至方向升降，从而实现基板的高度调整；升降台4的对应于丝杠11设有螺套41，螺套41上设置有内螺纹，螺套41的外壁嵌设于升降台4开孔内，螺套41能避免直接在升降台4加工出内螺纹，螺套41的使用寿命相对于在升降台4直接加工的内螺纹使用寿命更长，也有利于及时更换。

进一步地，升降台4靠近第二驱动件3的一侧设有磁流体7，磁流体7套设在驱动轴5上；驱动轴5上套设有波纹管8，波纹管8的一端与升降台4的底面连接，波纹管8的另一端与底板13连接。

由于升降台4将驱动轴5分隔为两段，在每段的驱动轴5都需要轴系上的动密封，从而避免灰尘等杂质通过驱动轴5与升降台4之间的空隙，以及驱动轴5与底板13之间的空隙进入镀膜室内部，从而影响基板的镀膜质量，具体地，在升降台4靠近第二驱动件3的一侧设有磁流体7，磁流体7包括两个不同直径的空心柱体，位于上部的小直径空心柱体用于支撑和限位驱动轴5，位于下部的大直径空心柱体用于与升降台4连接，具体地在大直径空心柱体的周向上设有多个螺孔，通过锁紧螺钉实现磁流体7与升降台4的螺接；由于随着升降台4的升降，升降台4与底板13之间的距离不断变化，波纹管8能够随着升降台4与底板13之间距离变化而改变长度，同时，利用波纹管8能实现驱动轴5在升降台4于底板13之间的轴系动密封。

可选地，第一驱动件2与丝杠11之间通过同步带15传动。

具体地，在第一驱动件2的驱动端上设置带轮，在丝杠11的一端也设置有带轮，两个带轮之间通过同步带15进行传动。在本实施例中，共设置了两套驱动升降台4高度调整的驱动和传动系统，两个第一驱动件2相对驱动轴5对称设置，两个第一驱动件2同步运转，使升降台4的两侧同时稳步升降。

可选地，丝杠11穿设于顶板12，丝杠11与顶板12之间设有轴承16。

在本实施例中，第一驱动件2固定在顶板12的上壁面上，同时适应性地，在顶板12上开设有穿孔，在穿孔内部设置有轴承16，轴承16可以选用滚动轴承或滑动轴承，轴承16用于支撑和限位丝杠11。

可选地，顶板12上设有避让孔121，避让孔121与第二驱动件3相对，第二驱动件3能通过避让孔121。

在不断调整基板高度时，随着升降台4的不断升高，为了避免升降台4高度调整路径与顶板12干涉，在顶板12的中心位置开设有避让孔121，第二驱动件3不断向上移动时，能够通过避让孔121，从而在不改变顶板12高度的前提下，增加升降台4的高度调整量。

本实施例的第二方面还涉及一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备包括镀膜室和以上的镀膜伞架，其中镀膜伞架的底板13固定在镀膜室的外壁上，使整个驱动和传动结构布置在镀膜室的外部，承载部6设置在镀膜室的内腔，配置有该镀膜伞架的真空镀膜设备，不仅能够实现基板的转动镀膜和高度调整，还能使高度调整的准确性得到提升。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.镀膜伞架，其特征在于，包括：

机架(1)；

第一驱动件(2)和第二驱动件(3)，均设于所述机架(1)上；

升降台(4)，所述升降台(4)设于所述机架(1)，所述第一驱动件(2)通过传动组件与所述升降台(4)传动连接，所述第一驱动件(2)能带动所述升降台(4)升降；

驱动轴(5)，穿设于所述升降台(4)，所述驱动轴(5)一端与所述第二驱动件(3)驱动连接，驱动轴(5)的另一端与承载部(6)连接，所述承载部(6)用于放置基板。

2.根据权利要求1所述的镀膜伞架，其特征在于，所述机架(1)包括顶板(12)和底板(13)，所述顶板(12)和所述底板(13)通过立柱(14)相连接，所述升降台(4)设于所述顶板(12)和所述底板(13)之间。

3.根据权利要求2所述的镀膜伞架，其特征在于，所述传动组件包括丝杠(11)，所述丝杠(11)的一端与所述第一驱动件(2)连接，所述丝杠(11)的另一端转动连接于所述底板(13)，所述升降台(4)上设有螺套(41)，所述螺套(41)与所述丝杠(11)螺接。

4.根据权利要求2所述的镀膜伞架，其特征在于，所述升降台(4)靠近所述第二驱动件(3)的一侧设有磁流体(7)，所述磁流体(7)套设在所述驱动轴(5)上。

5.根据权利要求2所述的镀膜伞架，其特征在于，所述驱动轴(5)上套设有波纹管(8)，所述波纹管(8)的一端与所述升降台(4)的底面连接，所述波纹管(8)的另一端与所述底板(13)连接。

6.根据权利要求3所述的镀膜伞架，其特征在于，所述第一驱动件(2)与所述丝杠(11)之间通过同步带(15)传动。

7.根据权利要求6所述的镀膜伞架，其特征在于，两个所述第一驱动件(2)相对所述驱动轴(5)对称设置。

8.根据权利要求7所述的镀膜伞架，其特征在于，所述丝杠(11)穿设于所述顶板(12)，所述丝杠(11)与所述顶板(12)之间设有轴承(16)。

9.根据权利要求2所述的镀膜伞架，其特征在于，所述顶板(12)上设有避让孔(121)，所述避让孔(121)与所述第二驱动件(3)相对，所述第二驱动件(3)能通过所述避让孔(121)。

10.真空镀膜设备，包括镀膜室，其特征在于，还包括如权利要求1-9任一项所述的镀膜伞架。