CN109594119A - 一种电致化学抛光装置及其工作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种电致化学抛光装置及其工作方法，所述的装置包括隔振光学平台、线型滑台、电极系统、基准平晶、真空陶瓷吸盘、调平基板、微分测头和压电陶瓷偏转台。本发明采用粗调和精调相结合，调平精度高、范围大，可以对不同厚度的材料进行抛光；本发明使用柔性波纹管传递扭矩，降低了由于电极转动受力不均对下方液膜厚度均一性造成的影响，此外，柔性波纹管还可以减缓与减速电机和线型滑台相连的保持架上装配结构引起的振动对下端电极的影响，可以显著提高抛光工件的质量；本发明采用直线轴承和导向轴代替传统技术中的拨叉结构，可以极大地减小电极系统与其他部件的摩擦力，避免了电极在转动过程中导致贵重电极与工件划擦而损坏的技术难题。

Description

一种电致化学抛光装置及其工作方法

技术领域

本发明属于抛光技术领域，具体涉及一种电致化学抛光装置及其工作方法。

背景技术

电致化学抛光(Electrogenerated chemical polishing，简称EGCP)是一种新的超精密无应力平坦化抛光方法，传统的电化学抛光方法只能抛光导电材料，不具备整平能力，而电致化学抛光方法可以抛光导电和不导电等各种材料，而且可以获得高平面度的超光滑表面，在超精密无损伤平坦化抛光领域具有广阔的应用前景。该方法通过电化学氧化将抛光液中的电活性中介体氧化成刻蚀剂，扩散至工件表面完成抛光过程。该抛光方法具有距离敏感性，工作电极与工件表面之间抛光间隙越小，抛光效率越高。因此，在电致化学抛光过程中，电极和工件之间的间隙通常在微纳尺度，如此小的间隙导致物料扩散困难，不能及时地将Cu²⁺转移出去，会严重影响抛光过程和工件的表面质量。因此，需要解决微纳间隙内物料扩散问题；另外，在抛光过程中，间隙对刻蚀速率具有显著影响，需要对工件与工具电极平面进行调平，以高效地将工具电极平面面形复制到工件上，因此，如何有效精确地调平工件和工具电极表面是一个需要解决的关键问题；最后，在动态刻蚀电极转动过程中，由于传动机构扰动或摩擦力变化可能导致电极的上下移动或倾覆，易出现电极和工件碰撞导致工件和电极变形问题。因此，实现高稳定性的电极浮动是需要解决的关键问题。只有上述这些关键问题得到有效解决，才能实现稳定的电致化学抛光完成超精密无损伤平坦化高质量工件的抛光过程。

发明内容

为解决现有技术存在的上述问题，本发明设计了一种可以有效提高抛光过程稳定性和工件抛光质量的电致化学抛光装置及工作方法。

为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：一种电致化学抛光装置，包括隔振光学平台、直角固定块、线型滑台、减速电机、刹车电机、导向轴、转动轴、导电滑环、直线轴承、深沟球轴承、电极系统、电解槽、基准平晶、真空陶瓷吸盘、调平基板、微分测头、压电陶瓷偏转台、蠕动泵、过滤器A、液压罐、过滤器B、压力源、玻碳电极、电极平晶和配重块。

所述的线型滑台通过直角固定块固定在隔振光学平台上，保持架通过连接板固定在线型滑台上，连接板上部安装连接件，连接件上安装张紧板，减速电机固定在张紧板上；所述的深沟球轴承通过轴承卡子固定在保持架上，深沟球轴承的上端和转动盖过盈配合，转动盖上安装转动轴，转动轴上安装导电滑环和皮带轮，所述的皮带轮通过同步带与减速电机的皮带轮连接；转动盖下部与柔性波纹管连接，柔性波纹管下端通过直线轴承、导向轴以及夹持螺钉与电极系统连接；所述的隔振光学平台上安装底板，所述的压电陶瓷偏转台安装在底板上，所述的压电陶瓷偏转台上安装转接板，转接板上端放置真空陶瓷吸盘，真空陶瓷吸盘上放置工件；所述的转接板下端与气阀接头配合，气阀接头与气阀连接；所述的底板上固定支撑板，所述的支撑板通过微分测头和调平螺钉与调平基板配合连接；所述的调平基板上安装基准平晶和电解槽，基准平晶和调平基板之间放置蝶形弹簧；所述的隔振光学平台上安装显微放大装置、检测装置以及液压供液系统；所述的液压供液系统的接口A通过转动轴的内孔与电极系统的旋转接头连接，液压供液系统的接口B与电解槽上的接口连接。

所述的基准平晶表面通过溅射仪器溅射一层铜膜。

进一步地，所述的微分测头有三个，三个微分测头和一个调平螺钉固定在在支撑板四个边的中心处。

进一步地，所述的导向轴放置在直线轴承中，所述的导向轴和直线轴承均是两个，两个直线轴承关于转动轴轴线对称。

进一步地，所述的基准平晶通过螺钉与调平基板连接。

一种电致化学抛光装置的工作方法，包括以下步骤：

A、安装和检测处理

将工件置于真空陶瓷吸盘上，通过检测装置中的线激光位移传感器对工件和基准平晶的正交的两条线上的点进行高度信息的测量；

B、检测和调平

根据线激光位移传感器反馈的高度信息，采用调整三个微分测头和调平螺钉进行四点粗调；当工件和基准平晶平面一致时，采用压电陶瓷偏转台进行精调，即通过拧紧基准平晶和调平基板之间的螺钉、对蝶形弹簧进行挤压变形；最终在允许误差范围内，使得工件和基准平晶在同一平面；

C、吸附和液压支撑

调平之后，采用真空泵抽取陶瓷吸盘中的空气形成负压，将工件吸附固定，并开启液压供液系统，通过压力源产生压力，经减压阀调出所需压力值，并显示在压力计上；在液路上设置两个过滤器，分别为过滤器A和过滤器B，将抛光液中的微小颗粒过滤，以免造成液路的堵塞，通过蠕动泵将电解池中的抛光液泵回液压罐中，实现抛光液循环利用；

D、间隙调整

根据静压液浮基本原理，在工件和电极系统之间产生液膜，将电极系统支撑，液膜厚度与供液压力有关，调节供液压力控制液膜厚度，使得工件和电极系统之间的液膜间隙控制在5-10μm之间；通过显微放大装置实时检测电极系统的液膜厚度，防止出现电极系统因未被浮起抛光工件而损坏电极情况的出现；

E、抬起和抛光

供液稳定后，停止真空泵对工件的吸附作用，开启减速电机，通过转动轴- 柔性波纹管带动电极系统进行转动；打开电极系统工作站，进行工件抛光，每隔一个时间间隔，停止转动电极系统，并打开真空泵吸附工件，利用线型滑台将电极系统抬起离开工件，并间隔15s后自动将电极系统降低至原来高度；转步骤C直至完成整个工件的抛光过程。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1、本发明采用粗调和精调相结合，调平精度高、范围大，可以对不同厚度的材料进行抛光；

2、使用柔性波纹管传递扭矩，一定程度上可以降低由于电极转动受力不均可能对下方液膜厚度均一性造成的影响，此外，柔性波纹管还可以减缓与减速电机和线型滑台相连的保持架上装配结构引起的振动对下端电极的影响，可以显著提高抛光工件的质量；

3、本发明采用直线轴承和导向轴代替传统技术中的拨叉结构，可以极大地减小电极系统与其他部件的摩擦力，避免了电极在转动过程中由于摩擦力的存在而不能在Z轴方向上自由运动发生倾斜导致贵重电极与工件划擦而损坏的技术难题。

4、本发明增加了自动抬起和定位装置，可以极大地提高抛光效率和抛光质量。不仅可以抛光铜薄板工件，更换抛光液，也可以抛光其他各种材料，包括导电和不导电材料均可抛光。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的液压系统图。

图3是本发明的电极系统连接装配图。

图4是本发明的检测与调平系统详细图。

图5是本发明的检测与调平位置图。

图中：1、隔振光学平台，2、直角固定块，3、线型滑台，4、连接板，5、连接件，6、同步带，7、减速电机，8、刹车电机，9、张紧板，10、皮带轮， 11、导向轴，12、转动轴，13、导电滑环，14、直线轴承，15、转动盖，16、夹持螺钉，17、深沟球轴承，18、保持架，19、柔性波纹管，20、电极系统， 21、电解槽，22、工件，23、基准平晶，24、真空陶瓷吸盘，25、调平基板， 26、微分测头，27、支撑板，28、蝶形弹簧，29、转接板，30、气阀，31、压电陶瓷偏转台，32、底板，33、调平螺钉，34、蠕动泵，35、过滤器A，36、液压罐，37、过滤器B，38、压力计，39、减压阀，40、压力源，41、玻碳电极， 42、电极平晶，43、配重块，44、导电铜电极，45、电极端盖，46、旋转接头， 47、线激光位移传感器，48、螺钉，49、气阀接头，50、接口A，51、接口B。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行进一步地描述。如图1-5所示，一种电致化学抛光装置，包括隔振光学平台1、直角固定块2、线型滑台3、减速电机7、刹车电机8、导向轴11、转动轴12、导电滑环13、直线轴承14、深沟球轴承17、电极系统20、电解槽21、基准平晶23、真空陶瓷吸盘24、调平基板25、微分测头26、压电陶瓷偏转台31、蠕动泵34、过滤器A35、液压罐36、过滤器B37、压力源40、玻碳电极41、电极平晶42和配重块43。

所述的线型滑台3通过直角固定块2固定在隔振光学平台1上，保持架18 通过连接板4固定在线型滑台3上，连接板4上部安装连接件5，连接件5上安装张紧板9，减速电机7固定在张紧板9上；所述的深沟球轴承17通过轴承卡子固定在保持架18上，深沟球轴承17的上端和转动盖15过盈配合，转动盖15 上安装转动轴12，转动轴12上安装导电滑环13和皮带轮10，所述的皮带轮10 通过同步带6与减速电机7的皮带轮10连接；转动盖15下部与柔性波纹管19 连接，柔性波纹管19下端通过直线轴承14、导向轴11以及夹持螺钉16与电极系统20连接；所述的电极系统主要由电极端盖45、配重块43和导电铜电极44 组成，电极端盖45通过三个紧固螺钉与配重块43连接，配重块43通过钛合金螺钉与导电铜电极44连接；所述的隔振光学平台1上安装底板32，所述的压电陶瓷偏转台31安装在底板32上，所述的压电陶瓷偏转台31上安装转接板29，转接板29上端放置真空陶瓷吸盘24，真空陶瓷吸盘24上放置工件22；所述的转接板29下端与气阀接头49配合，气阀接头49与气阀30连接；所述的底板 32上固定支撑板27，所述的支撑板27通过微分测头26和调平螺钉33与调平基板25配合连接；所述的调平基板25上安装基准平晶23和电解槽21，基准平晶23和调平基板25之间放置蝶形弹簧28；所述的隔振光学平台1上安装显微放大装置、检测装置以及液压供液系统；所述的液压供液系统的接口A50通过转动轴12的内孔与电极系统20的旋转接头46连接，液压供液系统的接口B51 与电解槽21上的接口连接；

所述的基准平晶23表面通过溅射仪器溅射一层铜膜。

进一步地，所述的微分测头26有三个，三个微分测头26和一个调平螺钉 33固定在在支撑板27四个边的中心处。

进一步地，所述的导向轴11放置在直线轴承14中，所述的导向轴11和直线轴承14均是两个，两个直线轴承14关于转动轴12的轴线对称。

进一步地，所述的基准平晶通过螺钉48与调平基板连接。

一种电致化学抛光装置的工作方法，包括以下步骤：

A、安装和检测处理

将工件22置于真空陶瓷吸盘24上，通过检测装置中的线激光位移传感器 47对工件22和基准平晶23的正交的两条线上的点进行高度信息的测量；

B、检测和调平

根据线激光位移传感器47反馈的高度信息，采用调整三个微分测头26和调平螺钉33进行四点粗调；当工件22和基准平晶23平面一致时，采用压电陶瓷偏转台31进行精调，即通过拧紧基准平晶23和调平基板25之间的螺钉、对蝶形弹簧28进行挤压变形；最终在允许误差范围内，使得工件22和基准平晶 23在同一平面；

C、吸附和液压支撑

调平之后，采用真空泵抽取陶瓷吸盘中的空气形成负压，将工件22吸附固定，并开启液压供液系统，通过压力源40产生压力，经减压阀39调出所需压力值，并显示在压力计38上；在液路上设置两个过滤器，分别为过滤器A35和过滤器B37，将抛光液中的微小颗粒过滤，以免造成液路的堵塞，通过蠕动泵 34将电解池中的抛光液泵回液压罐36中，实现抛光液循环利用；

D、间隙调整

根据静压液浮基本原理，在工件22和电极系统20之间产生液膜、将电极系统20支撑，液膜厚度与供液压力有关，调节供液压力控制液膜厚度，使得工件22和电极系统20之间的液膜间隙控制在5-10μm之间；通过显微放大装置实时检测电极系统20的液膜厚度，防止出现电极系统20因未被浮起工件22而损坏电极情况的出现；

E、抬起和抛光

供液稳定后，停止真空泵对工件22的吸附作用，开启减速电机7，通过转动轴12和柔性波纹管19带动电极系统20进行转动；打开电极系统20工作站，进行工件22抛光，每隔一个时间间隔，停止转动电极系统20，并打开真空泵吸附工件22，利用线型滑台3将电极系统20抬起离开工件22，并间隔15s后自动将电极系统20降低至原来高度；转步骤C直至完成整个工件22的抛光过程。

本发明的工作原理如下：针对维纳间隙内(间隙需要控制在10μm)物料扩散的技术难题，本发明采用的技术方案为：采用线型滑台3定时抬起电极系统 20，以使微纳间隙内的离子能够充分从间隙内扩散到电解槽21的工具电极外部区域，具体为安装有刹车电机8的线型滑台3驱动保持架18竖直方向的上下运动，安装在保持架18上的柔性波纹管19下端和电极系统20由夹持螺钉16进行连接，保持架18的上下运动可以通过夹持螺钉16传递给电极系统20，从而使得电极系统20能够定时抬起，在抬起一定高度时，保持10-15s，使得间隙内的离子能够充分扩散出工具电极区域，然后线型滑台3自动驱动电极系统20回复至原抛光位置，刹车电机8的左右是能够使安装在保持架18上的结构即使在断电情况下也能安全稳定地处于垂直方向的任意位置，而不会由于保持架18上的结构由于重力影响而使得线型滑台3滑落；针对由于摩擦力或者倾覆力矩而导致工具电极与工件22摩擦而损坏的技术难题，采用的技术方案为：在电极系统20收到静压液浮支撑时，采用的直线轴承14和导向轴11配合的方式，由于直线轴承14内圈的滚珠可以极大地减小了电极在z轴方向上运动的摩擦阻力，直线轴承14和导向轴11180°对称排列，可以有效减小倾覆力矩的影响，上端的柔性波纹管19在一定程度上可以降低由于电极转动受力不均可能对下方液膜厚度均一性造成的影响，此外，柔性波纹管19还可以减缓与减速电机7和线型滑台3相连的保持架18上装配结构引起的振动对下端电极的影响。针对如何使工具电极和工件22获取均一平行间隙的问题，采取的技术方案为：在抛光工件 22之前，首先对工件22进行调平处理，调平机构主要采取精调和粗调相结合的方式，首先通过线激光位移传感器47对工件22和基准平晶23平面进行位置扫描，获取工件22和基准平晶23平面的位置信息，根据线激光位移传感器47测得反馈的位置数据，通过调平螺钉33和微分测头26进行四点粗调平，在基准平晶23和调平基板25之间装配有蝶形弹簧28，一方面可以用于辅助调平，另一方面也有助于电解池中基准平晶23槽内抛光液的流动，在粗调之后，可以使得工件22与基准平晶23之间的位置差在5μm以内，然后通过下端的压电陶瓷偏转台31对工件22进行精准调平，压电陶瓷偏转台31的分辨率可以达到0.6 nm，垂直方向行程为80μm，经过这种调平方式，可以使工件22与基准平晶23的位置差控制在1μm以下。

本发明的装配方案为：使用直角固定块2将线型滑台3固定在隔振光学平台1上，通过连接板4将保持架18固定在线型滑台3上，连接板4上部安装连接件5，连接件5上安装减速电机7张紧板，减速电机7固定在张紧板上，两个皮带轮10通过同步带6进行传动。通过轴承卡子将深沟球轴承17固定在保持架18上，上端和转动盖15过盈配合，转动盖15上安装转动轴12，转动轴12 上安装导电滑环13和皮带轮10，转动盖15下部与柔性波纹管19连接，柔性波纹管19下端通过直线轴承14、导向轴11以及夹持螺钉16与电极系统20连接；将底板32安装到隔振光学平台1上，底板32上安装有压电陶瓷偏转台31，偏转台上安装转接板29，转接板29上端放置真空陶瓷吸盘24，吸盘上放置工件 22，下端与气阀接头49配合，气阀30接在气阀接头49上，将支撑板27固定在底板32上，使用微分头和调平螺钉33将调平基板25与支撑板27配合连接，调平基板25上安装有基准平晶23和电解槽21，基准平晶23和调平基板25之间放置蝶形弹簧28；在隔振光学平台1上安装显微放大装置、检测装置以及液压供液系统。液压供液系统的接口A50通过传动轴的内孔与电极系统20的旋转接头46连接，接口B51与电解槽21上的接口连接。

抛光过程如下：首先将一定尺寸规格的工件22置于真空陶瓷吸盘24上，通过检测装置中的线激光位移传感器47分别对工件22和基准平晶23(镀铜处理) 的点A、B、C的两侧进行测量(位置如附图5所示)；根据线激光位移传感器47 反馈的点A处和点B处的高度信息，采用调整三个微分测头26和调平螺钉33 进行四点粗调，当工件22和基准平晶23平面基本一致时，采用压电陶瓷偏转台31进行精调(配合基准平晶23和调平基板25之间的蝶形弹簧28)，最终在一定允许误差范围内(小于1μm)，使得工件22和基准平晶23在同一平面；调平之后，采用与点C位置的气阀30接口的真空泵通过真空陶瓷吸盘24将工件22 吸附到吸盘上，并开启液压供液系统，供液系统如图2所示，通过压力源产生一定压力，经减压阀39调出所需压力值，并显示在压力计38上，在液路上设置过滤器，将抛光液中的微小颗粒过滤，以免造成液路的堵塞，通过蠕动泵34 将电解池中的抛光液泵回液压罐36中，实现抛光液循环利用；根据静压液浮基本原理，在工件22和电极系统20之间产生液膜，将电极系统20支撑，液膜厚度与供液压力有关，调节供液压力可以控制液膜厚度，使得工件22和电极之间的液膜间隙控制在5-10μm之间；通过显微放大装置实时检测电极系统20的液膜厚度，防止出现电极系统20因未被浮起抛光工件22而损坏电极情况的出现。供液稳定后，停止真空泵对工件22的吸附作用，开启减速电机7，通过转动轴12和柔性波纹管19带动电极系统20进行转动；打开电极系统20工作站进行工件22抛光，每隔一定时间间隔，停止转动电极，并打开真空泵吸附工件22，利用线型滑台3将电极抬起距离工件22一定高度，并间隔15s后自动将电极降低至原来高度；重复调平之后的过程，完成整个工件22的抛光过程。

本发明的实施例如下：

针对直径50mm、厚度1mm的纯铜薄壁构件的抛光按一下步骤完成抛光过程：首先将直径50mm、厚度1mm的纯铜工件22放置在真空陶瓷吸盘24上，根据工件22厚度粗略调整工件22和基准平晶23高度差，使其基本趋于一致，然后通过测量系统进行检测，并根据反馈数据进行粗精调；打开真空泵，吸附工件22，通过线型滑台3将电极系统20降落到基准平晶23上，紧密接触；开启液压系统供液，调节供液压力获取稳定液膜厚度，并有显微放大装置进行在线实时监测，开启减速电机7，使电极系统20旋转，最后接通电极电源，进行工件22抛光，并通过电化学工作站进行数据收集，监测抛光过程。抛光过程分阶段进行，每抛光30分钟，进行电极抬起，20s后物料基本充分扩散，进行下一个阶段同样的抛光，整个抛光过程大约持续10个循环阶段，完成工件22的抛光。

本发明不局限于本实施例，任何在本发明披露的技术范围内的等同构思或者改变，均列为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种电致化学抛光装置，其特征在于：包括隔振光学平台(1)、直角固定块(2)、线型滑台(3)、减速电机(7)、刹车电机(8)、导向轴(11)、转动轴(12)、导电滑环(13)、直线轴承(14)、深沟球轴承(17)、电极系统(20)、电解槽(21)、基准平晶(23)、真空陶瓷吸盘(24)、调平基板(25)、微分测头(26)、压电陶瓷偏转台(31)、蠕动泵(34)、过滤器A(35)、液压罐(36)、过滤器B(37)、压力源(40)、玻碳电极(41)、电极平晶(42)和配重块(43)；

所述的线型滑台(3)通过直角固定块(2)固定在隔振光学平台(1)上，保持架(18)通过连接板(4)固定在线型滑台(3)上，连接板(4)上部安装连接件(5)，连接件(5)上安装张紧板(9)，减速电机(7)固定在张紧板(9)上；所述的深沟球轴承(17)通过轴承卡子固定在保持架(18)上，深沟球轴承(17)的上端和转动盖(15)过盈配合，转动盖(15)上安装转动轴(12)，转动轴(12)上安装导电滑环(13)和皮带轮(10)，所述的皮带轮(10)通过同步带(6)与减速电机(7)的皮带轮(10)连接；转动盖(15)下部与柔性波纹管(19)连接，柔性波纹管(19)下端通过直线轴承(14)、导向轴(11)以及夹持螺钉(16)与电极系统(20)连接；所述的隔振光学平台(1)上安装底板(32)，所述的压电陶瓷偏转台(31)安装在底板(32)上，所述的压电陶瓷偏转台(31)上安装转接板(29)，转接板(29)上端放置真空陶瓷吸盘(24)，真空陶瓷吸盘(24)上放置工件(22)；所述的转接板(29)下端与气阀接头(49)配合，气阀接头(49)与气阀(30)连接；所述的底板(32)上固定支撑板(27)，所述的支撑板(27)通过微分测头(26)和调平螺钉(33)与调平基板(25)配合连接；所述的调平基板(25)上安装基准平晶(23)和电解槽(21)，基准平晶(23)和调平基板(25)之间放置蝶形弹簧(28)；所述的隔振光学平台(1)上安装显微放大装置、检测装置以及液压供液系统；所述的液压供液系统的接口A(50)通过转动轴(12)的内孔与电极系统(20)的旋转接头(46)连接，液压供液系统的接口B(51)与电解槽(21)上的接口连接；

所述的基准平晶(23)表面通过溅射仪器溅射一层铜膜。

2.根据权利要求1所述的一种电致化学抛光装置，其特征在于：所述的微分测头(26)有三个，三个微分测头(26)和一个调平螺钉(33)固定在在支撑板(27)四个边的中心处。

3.根据权利要求1所述的一种电致化学抛光装置，其特征在于：所述的导向轴(11)放置在直线轴承(14)中，所述的导向轴(11)和直线轴承(14)均是两个，两个直线轴承(14)关于转动轴(12)的轴线对称。

4.根据权利要求1所述的一种电致化学抛光装置，其特征在于：所述的基准平晶通过螺钉(48)与调平基板连接。

5.一种电致化学抛光装置的工作方法，其特征在于：包括以下步骤：

A、安装和检测处理

将工件(22)置于真空陶瓷吸盘(24)上，通过检测装置中的线激光位移传感器(47)对工件(22)和基准平晶(23)的正交的两条线上的点进行高度信息的测量；

B、检测和调平

根据线激光位移传感器(47)反馈的高度信息，采用调整三个微分测头(26)和调平螺钉(33)进行四点粗调；当工件(22)和基准平晶(23)平面一致时，采用压电陶瓷偏转台(31)进行精调，即通过拧紧基准平晶(23)和调平基板(25)之间的螺钉、对蝶形弹簧(28)进行挤压变形；最终在允许误差范围内，使得工件(22)和基准平晶(23)在同一平面；

C、吸附和液压支撑

调平之后，采用真空泵抽取陶瓷吸盘中的空气形成负压，将工件(22)吸附固定，并开启液压供液系统，通过压力源(40)产生压力，经减压阀(39)调出所需压力值，并显示在压力计(38)上；在液路上设置两个过滤器，分别为过滤器A(35)和过滤器B(37)，将抛光液中的微小颗粒过滤，以免造成液路的堵塞，通过蠕动泵(34)将电解池中的抛光液泵回液压罐(36)中，实现抛光液循环利用；

D、间隙调整

根据静压液浮基本原理，在工件(22)和电极系统(20)之间产生液膜、将电极系统(20)支撑，液膜厚度与供液压力有关，调节供液压力控制液膜厚度，使得工件(22)和电极系统(20)之间的液膜间隙控制在5-10μm之间；通过显微放大装置实时检测电极系统(20)的液膜厚度，防止出现电极系统(20)因未被浮起工件(22)而损坏电极情况的出现；

E、抬起和抛光

供液稳定后，停止真空泵对工件(22)的吸附作用，开启减速电机(7)，通过转动轴(12)和柔性波纹管(19)带动电极系统(20)进行转动；打开电极系统(20)工作站，进行工件(22)抛光，每隔一个时间间隔，停止转动电极系统(20)，并打开真空泵吸附工件(22)，利用线型滑台(3)将电极系统(20)抬起离开工件(22)，并间隔15s后自动将电极系统(20)降低至原来高度；转步骤C直至完成整个工件(22)的抛光过程。