TWI824068B - 積層片的捲物 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題係在於提供能夠抑制在光擴散控制膜發生打痕的積層片的捲物。 本發明的解決手段係一種積層片的捲物，其特徵在於：其係將積層片捲曲而成的捲物，該積層片具備：第一膜；層積在上述第一膜的一面側，在膜內具備折射率相對較低的區域中具有折射率相對較高的複數區域的內部結構的光擴散控制膜；及積層在上述光擴散控制膜的與上述第一膜的相反面側的第二膜，上述第一膜及上述第二膜的至少一方的厚度為45μm以上。

Description

積層片的捲物
本發明係關於具備根據入射角度使入射光擴散或穿透的光擴散控制膜的積層片的捲物。
在液晶顯示裝置或有機發光裝置等所屬的光學技術領域上，有研究使用關於能夠將來自特定角度範圍的入射光，向特定方向強烈擴散的光擴散控制膜。
作為如此的光擴散控制膜的一個例子，存在有：在膜內具有在折射率相對較低的區域中，具備折射率相對較高的複數區域的內部結構。更具體而言，存在有：具有折射率不同的複數板狀區域沿著膜面的任意一方向交互配置而成的百葉結構的光擴散控制膜；或具有在折射率相對較低的區域中使折射率相對較高的複數柱狀物林立而成的柱狀結構的光擴散控制膜等。
作為如上所述的光擴散控制膜，在專利文獻1，揭示一種光擴散控制膜，其係將含有：既定的胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物、具有芳香族骨架的既定(甲基)丙烯酸酯化合物、及既定的光聚合起始劑的光擴散控制膜樹脂組合物硬化而成。 ［先前技術文獻］ ［專利文獻］
［專利文獻1］日本專利第6414883號
［發明所欲解決的課題］
然而，在光擴散控制膜，在製造、搬運、保管等時，有容易發生打痕的問題。特別是將光擴散控制膜捲曲作成捲物的狀態，在進行搬運、保管等動作時，容易在光擴散控制膜相互之間容易發生夾入異物，結果變得容易發生打痕。特別是，在捲物上，有時會將異物押附在光擴散控制膜的狀態長期保管，藉此，有時會殘留強烈的打痕。
本發明係有鑑於如上所述的緣由所完成，以提供能夠抑制在光擴散控制膜發生打痕的積層片的捲物為目標。 ［用於解決課題的手段］
為達成上述目標，第1，本發明提供一種積層片的捲物，其特徵在於：其係將積層片捲曲而成的捲物，該積層片具備：第一膜；層積在上述第一膜的一面側，在膜內具備折射率相對較低的區域中具有折射率相對較高的複數區域的內部結構的光擴散控制膜；及積層在上述光擴散控制膜的與上述第一膜的相反面側的第二膜，上述第一膜及上述第二膜的至少一方的厚度為45μm以上(發明1)。
關於上述發明(發明1)的積層片的捲物，藉由使積層在光擴散控制膜的第一膜及第二膜的至少一方面，具有上述厚度，即使在捲物發生夾入異物的情形，亦能夠良好地抑制光擴散控制膜發生打痕。
在上述發明(發明1)，其具備設在上述光擴散控制膜與上述第二膜之間的黏著劑層為佳(發明2)。
在上述發明(發明2)，其中上述黏著劑層的厚度，以1μm以上且1000μm以下為佳(發明3)。
在上述發明(發明2、3)，其中上述黏著劑層，在23℃的儲存模數，以0.01MPa以上且50MPa以下為佳(發明4)。
在上述發明(發明1~4)，其中上述第一膜及上述第二膜的厚度，以45μm以上為佳(發明5)。
在上述發明(發明1~5)，其中上述第一膜及上述第二膜的至少一方，以在光擴散控制膜側的面進行剝離處理而成的剝離片為佳(發明6)。
在上述發明(發明1~6)，其中上述光擴散控制膜的在23℃的壓痕彈性模數，以1MPa以上且5000MPa以下為佳(發明7)。
在上述發明(發明1~7)，其中上述光擴散控制膜的厚度，以20μm以上且700μm以下為佳(發明8)。 ［發明的效果］
根據關於本發明的積層片的捲物，能夠提供抑制發生打痕的光擴散控制膜。
以下，說明關於本發明的實施形態。 在圖1表示構成關於本發明的一實施形態的捲物的積層片的剖面圖。圖1所示的積層片1，具備：第一膜11a；積層在第一膜11a的一面的光擴散控制膜12；積層在光擴散控制膜12的與第一膜11a的相反面側的黏著劑層13；及積層在黏著劑層13的與光擴散控制膜12的相反面側的第二膜11b。關於本實施形態的捲物，係捲曲具有如此的層構成的積層片1而成。再者，在關於本實施形態的捲物，上述黏著劑層13並非必須，亦可省略。
1. 積層片的捲物的構成構件 (1)第一膜及第二膜 在本實施形態的積層片1，第一膜11a及第二膜11b的至少一方的厚度為45μm以上。藉此關於本實施形態的捲物，即使夾進異物時，能夠藉由第一膜11a及第二膜11b的至少一方，抑制該異物對光擴散控制膜12的影響。結果，可良好地抑制在光擴散控制膜12發生打痕。從此觀點而言，第一膜11a及第二膜11b的至少一方的厚度，以60μm以上為佳，特別是以70μm以上為佳。另一方面，關於第一膜11a及第二膜11b的至少一方的厚度的上限值，並無特別限定，可例如為1000μm以下，特別是亦可為500μm以下，進一步亦可為200μm以下。
再者，關於本實施形態的捲物，即使只有第一膜11a及第二膜11b的一方的厚度為45μm以上，而另一方的厚度小於45μm，可藉由具有厚度為45μm以上的膜，充分抑制異物的影響。另一方面，第一膜11a及第二膜11b均具有45μm以上的厚度時，可藉由該等2層膜抑制異物的影響，而能夠更加良好地抑制發生打痕。
第一膜11a及第二膜11b，只要滿足在上述第一膜11a及第二膜11b方面的上述厚度條件，關於該等構成及材料並無特別限定。例如，該等膜可為所期望的基材，亦可為如後所述的剝離片。此外，該等膜，可由樹脂系材料為主要成分的樹脂系片構成，亦可由紙系的材料構成。再者，第一膜11a及第二膜11b的構成及材料，可以互相相同，亦可不同。
在上述樹脂系片的樹脂成分，可舉出聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二烯、聚甲基戊烯、乙烯-降莰烯共聚物、降莰烯樹脂等的聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等的聚酯、聚氯乙烯、聚氯乙烯共聚物、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚碳酸酯、聚伸苯硫醚、液晶聚合物等的樹脂。該等樹脂片，可為由單層構成的片，亦可為積層同種或異種的複數層的片。上述之中，以聚對苯二甲酸乙二酯膜為佳。
第一膜11a或第二膜11b係由紙系材料構成時的具體例，可舉出玻璃紙、塗層紙、道林紙等的紙基材、及在上述紙基材層壓聚乙烯等的熱塑性樹脂的層壓紙。
第一膜11a及第二膜11b的至少一方係由上述樹脂系片或紙系材料構成的片的一面(較佳的是光擴散控制膜12側的面)，可為施以剝離處理而成的剝離片。作為使用於該剝離處理的剝離劑，可舉出例如醇酸系、矽酮系、氟系、不飽和聚酯系、聚烯烴系、蠟系剝離劑。
(2)光擴散控制膜 在本實施形態的光擴散控制膜12，在膜內具有在折射率相對較低的區域中，具備折射率相對較高的複數區域的內部結構。再者，在本實施形態的光擴散控制膜12，在膜內具有在折射率相對較低的區域中，具備折射率相對較高的區域在厚度方向延伸的內部結構為佳。
作為該內部結構的一例，可舉出在膜內具有在折射率相對較低的區域中，使折射率相對較高的複數柱狀物林立而成的柱狀結構。此外作為其他的例子，將折射率不同的複數板狀區域沿著膜面的任意的一方向上交互配置而成的百葉結構。
(2-1)光擴散控制膜的構成 在本實施形態的光擴散控制膜12的具體構成或組成，並無特別限制，可使用先前習知者。作為較佳的光擴散控制膜12的例子，可舉出將含有：高折射率成分，其具有1個或2個聚合性官能基；低折射率成分，其折射率較高折射率成分低的同時，具有1個或2個聚合性官能基的光擴散控制膜用組合物硬化而成者。藉由使用如此的高折射率成分與低折射率成分，容易良好地形成上述內部構造。
作為上述高折射率成分的較佳的例子，可舉出含有芳香環的(甲基)丙烯酸酯，特別是可較佳地舉出含有複數芳香環的(甲基)丙烯酸酯。作為含有複數芳香環的(甲基)丙烯酸酯的例子，可舉出(甲基)丙烯酸聯苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸蒽酯、(甲基)丙烯酸苄基苯酯、(甲基)丙烯酸聯苯基氧烷基酯、(甲基)丙烯酸萘基氧烷基酯、(甲基)丙烯酸蒽基氧烷基酯、(甲基)丙烯酸苄基苯氧烷基酯等，該等的一部份以鹵素、烷基、烷氧基、鹵化烷基等取代者。該等之中，從容易形成良好的內部結構的觀點而言，以(甲基)丙烯酸聯苯酯為佳，具體而言，以鄰苯基苯氧基乙基丙烯酸酯、鄰苯基苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯等為佳。再者，在本說明書，所謂(甲基)丙烯酸，其意指丙烯酸及甲基丙烯酸的雙方。其他的類似用語亦相同。
高折射率成分的重量平均分子量，以2500以下為佳，特別是以1500以下為佳，進一步以1000以下為佳。此外，高折射率成分的重量平均分子量，以150以上為佳，特別是以200以上為佳，進一步以250以上為佳。藉由使高折射率成分的重量平均分子量在上述範圍，容易形成具有所期望內部結構的光擴散控制膜12。再者，在本說明書的重量平均分子量，係以凝膠滲透層析(GPC)法測定的標準聚苯乙烯換算值。
高折射率成分的折射率，以1.45以上為佳，以1.50以上更為佳，特別是以1.54以上為佳，進一步以1.56以上為佳。此外，高折射率成分的折射率，以1.70以下為佳，特別是以1.65以下為佳，進一步以1.59以下為佳。藉由使高折射率成分的折射率在上述範圍，容易形成具有所期望內部結構的光擴散控制膜12。再者，在本說明書的所謂折射率，其意指在光擴散控制膜用組合物硬化前的既定成分的折射率，此外，係遵照JIS K0062:1992所測定。
光擴散控制膜用組合物之中的高折射率成分的含量，對低折射率成分100質量份，以25質量份以上為佳，特別是以40質量份以上為佳，進一步以50質量份以上為佳。此外，光擴散控制膜用組合物中的高折射率成分的含量，對低折射率成分100質量份，以400以下為佳，特別是以300質量份以下為佳，進一步以200質量份以下為佳。藉由使高折射率成分的含量在該等範圍，在形成的光擴散控制膜的內部結構，成為來自高折射率成分的區域與來自低折射率成分的區域以所期望的比例存在，結果光擴散控制膜容易達成所期望的光擴散性。
作為上述低折射率成分的較佳例，可舉出胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、側鎖具有(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系聚合物、含有(甲基)丙烯醯基的矽酮樹脂、不飽和聚酯樹脂等，特別是使用胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯為佳。
上述胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯，以由(a)至少含有2個異氰酸酯基的化合物、(b)聚烷二醇、及(c)(甲基)丙烯酸羥烷酯所形成為佳。
上述(a)至少含有2個異氰酸酯基的化合物之較佳的例子，可舉出2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、1,3-二苯基二異氰酸酯、1,4-二苯基二異氰酸酯等的芳香族聚異氰酸酯；六亞甲基二異氰酸酯等的脂肪族聚異氰酸酯；異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)；加氫二苯甲烷二異氰酸酯等的脂環式聚異氰酸酯等；及該等的雙縮脲體、異氰酸酯體、進一步與乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等的含有低分子活性氫的化合物的反應物的加成物等(例如，二苯基二異氰酸酯系3官能加成物)等。該等之中，以脂環式聚異氰酸酯為佳，特別是以僅含有2個異氰酸酯基的脂環式二異氰酸酯為佳。
上述(b)聚烷二醇的較佳的例子，可舉出聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚己二醇等，其中以聚丙二醇為佳。
再者，(b)聚烷二醇的重量平均分子量，以2300以上為佳，特別是以4300以上為佳，進一步以6300以上為佳。此外，(b)聚烷二醇的重量平均分子量，以19500以下為佳，特別是以14300以下為佳，進一步以12300以下為佳。
上述(c)(甲基)丙烯酸羥烷酯的較佳的例子，可舉出(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯等。該等之中，從可降低所得胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的聚合速度，更有效地形成既定的內部結構的觀點而言，使用甲基丙烯酸2-羥乙酯為佳。
以上述(a)~(c)的成分作為材料的胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的合成，可遵照常法進行。此時，(a)~(c)成分的調配比例，從有效地合成胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的觀點而言，以莫耳比，以(a)成分︰(b)成分︰(c)成分=1~5:1:1~5的比例為佳，特別是以1~3:1:1~3的比例為佳，進一步以2:1:2的比例為佳。
低折射率成分的重量平均分子量，以3000以上為佳，特別是以5000以上為佳，進一步以7000以上為佳。此外，低折射率成分的重量平均分子量，以20000以下為佳，特別是以15000以下為佳，進一步以13000以下為佳。藉由使低折射率成分的重量平均分子量在上述範圍，容易形成具有所期望性能的光擴散控制膜12。
低折射率成分的折射率，以1.59以下為佳，以1.50以下更為佳，特別是以1.49以下為佳，進一步以1.48以下為佳。此外，低折射率成分的折射率，以1.30以上為佳，特別是以1.40以上為佳，進一步以1.46以上為佳。藉由使低折射率成分的折射率在上述範圍，容易形成所期望的光擴散控制膜。
上述光擴散控制膜用組合物，在高折射率成分及低折射率成分以外，也可含有其他的添加劑。作為其他的添加劑，可舉出例如，多官能性單體(具有3個以上的聚合性官能基的化合物)、光聚合起始劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、防止帶電劑、聚合促進劑、聚合抑制劑、紅外線吸收劑、塑化劑、稀釋溶劑、及調平劑(leveling agent)等。
上述添加劑之中，光擴散控制膜用組合物，含有多官能性單體為佳。藉此，所得光擴散控制膜12，成為具有相對較高的彈性，可更有效地抑制在製造光擴散控制膜12時發生打痕，或將光擴散控制膜積層在其他的構件時發生崩塌。
此外，光擴散控制膜用組合物，含有光聚合起始劑為佳。藉由使光擴散控制膜用組合物含有光聚合起始劑，容易有效地形成具有所期望內部結構的光擴散控制膜。
光聚合起始劑的例子，可舉出安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香正丁醚、安息香異丁醚、苯乙酮、二甲基胺基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-羥基環己基苯酮、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-嗎啉基-丙-1-酮(2-methyl-1-(4-methylthio)phenyl)-2-morpholino-propan-1-one)、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯基二苯甲酮、4,4-二乙基胺基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-胺基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苄基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對二甲基胺基安息香酸酯、寡聚[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]等。該等可以單獨使用，亦可組合2種以上使用。
使用光聚合起始劑時，光擴散控制膜用組合物中的光聚合起始劑的含量，對高折射率成分與低折射率成分的合計量100質量份，以0.2質量份以上為佳，特別是以0.5質量以上為佳，進一步以1質量以上為佳。此外，光聚合起始劑的含量，對高折射率成分與低折射率成分的合計量100質量份，以20質量份以下為佳，特別是以15質量份以下為佳，進一步以10質量份以下為佳。藉由使光擴散控制膜用組合物中的光聚合起始劑的含量在上述範圍，容易有效地形成光擴散控制膜12。
光擴散控制膜用組合物，可藉由將上述高折射率成分及低折射率成分、根據所期望的其他添加劑均勻混合而調製。混合時，可邊加熱為40~80℃的溫度邊攪拌，得到均勻的光擴散控制膜用組合物。此外，亦可添加稀釋溶劑混合使所得光擴散控制膜用組合物成為所期望的黏度。
(2-2)光擴散控制膜的壓痕彈性模數 在本實施形態的光擴散控制膜12，在23℃的壓痕彈性模數，作為下限值，以1MPa以上為佳，特別是以10MPa以上為佳，進一步以20MPa以上為佳。藉由使壓痕彈性模數的下限值在上述範圍，可更有效地抑制在光擴散控制膜12發生打痕。此外，上述壓痕彈性模數，作為上限值，以5000MPa以下為佳，以1000MPa以下更為佳，特別是以300MPa以下為佳，進一步以40MPa以下為佳。藉由使壓痕彈性模數的上限值在上述範圍，可使光擴散控制膜12具有適當的柔軟性，容易使光擴散控制膜12具有所期望的操作性。再者，上述壓痕彈性模數的測定方法的細節，係如後述的試驗例所示。
(2-3)光擴散控制膜的厚度 在本實施形態的光擴散控制膜12的厚度，作為下限值，以20μm以上為佳，特別是以40μm以上為佳，進一步以60μm以上為佳。藉由使光擴散控制膜12的厚度的下限值在上述範圍，容易發揮所期望的光擴散性。此外，光擴散控制膜12的厚度，作為上限值，以700μm以下，特別是以400μm以下為佳，進一步以200μm以下為佳。藉由使光擴散控制膜12的厚度的上限值在上述範圍，容易有效地抑制發生打痕。
(2-4)在光擴散控制膜的厚度方向的內部結構的比例 在本實施形態的光擴散控制膜12，如上所述，在膜內具有在折射率相對較低的區域中，具備折射率相對較高的複數區域在厚度方向延伸的內部結構。在此，作為在該內部結構的厚度方向延伸的比例，在作成光擴散性更有效率的觀點而言，以光擴散控制膜12的厚度的10%以上為佳，以30%上更為佳，以50%以上特別為佳。再者，上限值並無限制，亦可為100%，即在全厚度方向形成內部構造。
(3)黏著劑層 在本實施形態的積層片，亦可具備黏著劑層13。藉由具備黏著劑層13，可容易地將從關於本實施形態的捲物供給的光擴散控制膜12，經由上述黏著劑層13，固定在所期望的構件。再者，關於本實施形態的捲物，如上所述，藉由第一膜11a及第二膜11b滿足上述厚度條件，而抑制發生打痕。因此，從抑制發生打痕的觀點而言，無須勉強設黏著劑層13。
作為構成黏著劑層13的黏著劑，只要是具有所期望的黏著性的同時，不會損及上述抑制發生打痕的效果，並無特別限制，能夠使用先前習知的。例如，作為該黏著劑，可使用丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑等，其中以容易達成良好的黏著性及透明性的丙烯酸系黏著劑為佳。
作為上述丙烯酸系黏著劑的例子，可舉出將含有(甲基)丙烯酸酯聚合物及交聯劑的黏著性組合物交聯而成的黏著劑。再者，在本說明書，在「聚合物」亦包含「共聚物」的概念。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，作為構成該聚合物的單體單位，包含在分子內具有可與交聯劑反應的反應性基的反應性基含有單體為佳。藉由該反應性基與後述的交聯劑反應，控制所得黏著劑的凝聚力，而容易將儲存模數調節在良好的範圍。作為該官能基含有單體，以在分子內具有聚合性的雙鍵鍵結、羥基、羧基、胺基等的官能基的單體為佳，該等之中，作為官能基，至少使用含有羧基的單體(羧基含有單體)及含有羥基的單體(羥基含有單體)的一方為佳。
上述羧基含有單體的例子，可舉出例如丙烯酸、甲基丙烯酸等的乙烯性不飽和羧酸，該等之中，以丙烯酸為佳。此外，作為上述羥基含有單體的較佳例，可舉出(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等。該等可以單獨使用，亦可組合2種以上使用。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，從上述官能基含有單體所衍伸的構成單位，以含有1質量%以上為佳，特別是以含有5質量%以上為佳。此外，上述聚合物，將上述構成單位含有40質量%以下為佳，特別是以20質量%以下含有為佳。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，從顯現黏著力的觀點而言，作為構成該聚合物的單體單位，使用含有(甲基)丙烯酸烷基酯為佳，特別是使用烷基的碳數為1~18的丙烯酸烷基酯為佳。作為其具體例，可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基已酯等。該等可以單獨使用，亦可組合2種以上使用。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，從黏著力與儲存模數並存的觀點而言，將上述丙烯酸烷基酯所衍生的構成單位，含有50質量%以上為佳，特別是以含有80質量%以上為佳。此外，上述聚合物，將上述構成單位，含有99質量%以下為佳，特別是以含有95質量%以下為佳。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，亦可係與上述官能基含有單體及(甲基)丙烯酸烷基酯一起，將其他的單體共聚合者。此外，該聚合物的聚合態樣，可為隨機共聚物，亦可為嵌段共聚物。此外，該聚合物，可以1種單獨使用，亦可組合2種以上使用。
(甲基)丙烯酸酯聚合物的重量平均分子量，在使儲存模數合適的觀點而言，以30萬以上為佳，特別是以100萬以上為佳。此外，上述重量平均分子量，以250萬以下為佳，特別是以200萬以下為佳。
作為上述交聯劑，只要是可與(甲基)丙烯酸酯聚合物所具有的反應性基反應者即可，使用例如環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑等為佳。再者，交聯劑，可以1種單獨或組合2種以上使用。
在黏著性組合物中的交聯劑的含量，對(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量份，以0.01質量份以上為佳，特別是以0.1質量份以上為佳。此外，該含量，以10質量份以下為佳，特別是以5質量份以下為佳。
在黏著性組合物，可根據期望添加，通常使用於丙烯酸系黏著劑的各種添加劑，例如活性能量線硬化性成分、光聚合起始劑、矽烷偶合劑、帶電防止劑、黏著賦予劑、氧化防止劑、光安定劑、軟化劑、填充劑、折射率調整劑等。
黏著性組合物含有活性能量線硬化性成分時，可形成以活性能量線硬化性的黏著劑構成的黏著劑層13。活性能量線硬化性成分，只要是可藉由活性能量線的照射而使黏著劑層13硬化的成分，並無特別限制，可為單體、寡聚物或聚合物的任一者，亦可為該等的混合物。其中，可良好地舉出與(甲基)丙烯酸酯共聚物等的相溶性優良的多官能丙烯酸酯系單體。再者，藉由使用活性能量線硬化性成分，可提高黏著劑的儲存模數。
黏著性組合物，可藉由製造(甲基)丙烯酸酯聚合物，將所得(甲基)丙烯酸酯聚合物，與架橋劑、根據所期望的添加劑混合而製造。(甲基)丙烯酸酯聚合物，可藉由將構成聚合物的單體的混合物，以通常的自由基聚合法聚合而製造。(甲基)丙烯酸酯聚合物的聚合，可根據所期望使用聚合起始劑，以溶液聚合法進行為佳。黏著性組合物，亦可藉由添加稀釋溶劑，充分混合，作為黏著性組合物的塗佈溶液。
在本實施形態的黏著劑層13，在23℃的儲存模數，以0.01MPa以上為佳，以0.11MPa以上更為佳，特別是以0.20MPa以上為佳，進一步以0.40MPa以上為佳。此外，黏著劑層13，在23℃的儲存模數，以50MPa以下為佳，特別是以10MPa以下為佳，進一步以1MPa以下為佳。藉由使黏著劑層13，在23℃的儲存模數在上述範圍，可容易邊確保黏著力，邊藉由黏著劑層13降低夾入捲物的異物的影響。特別是，藉由儲存模數為0.01MPa以上，對來自第一膜側(積層在光擴散控制膜的不與黏著劑層相接側的膜)的打痕亦容易發揮消解的效果。藉此，能夠更有效地抑制在光擴散控制膜12發生打痕。再者，所謂黏著劑層13在23℃的儲存模數，其意指該黏著劑層13，由上述的活性能量線硬化性的黏著劑組成時，藉由活性能量線照射而硬化後的黏著劑層13的儲存模數。此外，上述儲存模數的測定方法的細節，如後述試驗例所述。
黏著劑層13的厚度，以1000μm以下為佳，以100μm以下更為佳，特別是以50μm以下為佳，進一步以20μm以下為佳，藉由使黏著劑層13的厚度在1000μm以下，容易抑制在黏著劑層13發生打痕。此外，黏著劑層13的厚度，以1μm以上為佳，特別是以5μm以上為佳，進一步以10μm以上為佳。藉由使黏著劑層13的厚度在1μm以上，容易發揮所期望的黏著性。
(4)其他 在本實施形態的積層片1，只要不阻礙抑制打痕的效果，亦可具備上述層以外的層。此外，關於本實施形態的捲物，亦可係將積層片1捲繞在卷軸材而成者。
上述卷軸材，只要是可捲繞關於本實施形態的積層片1的捲軸材，並無特別限定，能夠使用習知者。構成卷軸材的材料，以具有用於捲繞積層片1的充分強度為佳，可舉出例如樹脂、金屬、木材等。
2. 關於積層片的捲物的製造方法 關於本實施形態的積層片的捲物的製造方法，並無特別限定，能夠採用習知的方法。
作為一例，在得到將第一膜11a與光擴散控制膜12積層而成的積層體(第1積層體)之後，對在該第1積層體的光擴散控制膜12側的面，黏合第二膜11b。將以此所得之依序積層第一膜11a、光擴散控制膜12、及第二膜11b而成的積層片1捲曲，可得關於本實施形態的積層片的捲物。
此外，與第一膜11a與光擴散控制膜12積層而成的積層體(第1積層體)，同時準備第二膜11b與黏著劑層13積層而成的積層體(第2積層體)。然後，將在第1積層體的光擴散控制膜12側的面與第2積層體的黏著劑層13側的面黏合。將以此所得之依序積層第一膜11a、光擴散控制膜12、黏著劑層13、及第二膜11b而成的積層片1捲曲，亦可得到關本實施態的積層片的捲物。
上述之，將第一膜11a與光擴散控制膜12積層而成的積層體(第1積層體)的製造方法，亦無特別限定，能夠以先前習知的方法製造。例如，在工程片的一面塗佈上述光擴散控制膜用組合物，形成塗膜之後，在該塗膜的與工程片的相反側的面，黏合第一膜11a的一面。接著，隔著第一膜11a，對上述塗膜照射活性能量線，使之硬化，形成光擴散控制膜12。如此，藉由在上述塗膜，積層第一膜11a，保持第一膜11a與工程片的間隙，抑制塗膜被壓垮，而容易形成具有均勻厚度的光擴散控制膜12。藉由以上形成光擴散控制膜12，可將由第一膜11a與光擴散控制膜12所組成的第1積層體，以在光擴散控制膜12的面附有工程膜的狀態得到。
作為上述塗佈方法，可舉出例如，刀塗佈法、輥輪塗佈法、棒塗佈法、刮刀塗佈法、模具塗佈法、及凹版塗佈法等。此外，光擴散控制膜用組合物，亦可按照需要使用溶劑稀釋。
對塗膜的活性能量線的照射，可按照所欲形成的內部結構，以不同的態樣進行。如此的照射能夠以先前習知的方法進行。例如，形成上述柱狀結構時，對塗膜，照射光線平行度高的平行光。另一方面，形成上述百葉結構時，作為活性能量線的光源使用線狀光源，對層積體表面在寬方向(TD方向)以隨機且與流動方向(MD方向)略平行的帶狀(大致線狀)照射光。
再者，所謂上述活性能量線，其意指電磁波或電荷粒子線之中具有能量量子者，具體而言，可舉出紫外線或電子線等。活性能量線之中，以容易操作的紫外線特別為佳。
使用紫外線作為活性能量線，形成柱狀結構時，作為其照射條件，在塗膜表面的波峰照度以0.1~10mW/cm2 為佳。再者，在此所述波峰照度，其意指照射在塗膜表面的活性能量線顯示最大值的部分的測定值。再者，在塗膜表面的積算光量，以5~200mJ/cm2 為佳。
使用紫外線作為活性能量線，形成百葉結構時，作為其照射條件，在塗膜表面的波峰照度，以0.1~50mW/cm2 以下為佳。再者，在塗膜表面的積算光量，以5~300mJ/cm2 以下為佳。
從更確實地使硬化完成的觀點而言，在進行使用如上所述的平行光或帶狀光的硬化之後，照射通常的活性能量線(沒有進行轉換為平行光或帶狀光的處理的活性能量線、散射光)亦佳。
將第二膜11b與黏著劑層13積層而成的積層體(第2積層體)的上述製造方法，亦無特別限定，能夠以先前習知的方法進行。例如，對第二膜11b的一側的面，塗佈構成黏著劑層13的黏著劑的材料。將以此所得塗膜乾燥，能夠形成黏著劑層13。
藉由將如上所製造的積層片1捲繞可得積層片的捲物。此時，亦可將積層片1對上述卷軸材捲繞。此外，亦可將上述第1積層體(及第2積層體)的製造、積層片1的形成、形成的積層片1的捲繞連續進行。例如在流動方向的上游進行第1積層體及第2積層體的製造，同時在流動方向的下游進行所得第1積層體及第2積層體的積層，進一步將藉此所得之積層片1捲繞成捲物。
3. 關於積層片的捲物的使用 本實施形態的積層片的捲物，可使用於提供光擴散控制膜12。例如，從捲物送出積層片1，裁切成所期望的形狀，將第一膜11a及第二膜11b以所期望的時機剝離之後，提供裁切成所期望形狀的光擴散控制膜12(積層片1具備黏著劑層13時，係光擴散控制膜12與黏著劑層13的積層體)。如此的光擴散控制膜12，可良好地使用於製造液晶顯示裝置、有機發光裝置、電子紙等。
特別是，根據關於本實施形態的積層片的捲物，能夠良好地抑制光擴散控制膜12發生打痕。因此，在從關於本實施形態的捲物提供的光擴散控制膜12，並不會損及光擴散性等的性能。然後，藉由使用如此的光擴散控制膜，可製造具有所期望性能的裝置。
以上所說明的實施形態，係為容易理解本發明所記載，而並非用於限定本發明而記載。因此，揭示於上述實施形態的各要素，係含有屬於本發明的技術範圍的全部設計變更或均等物在內的主旨。 [實施例]
以下，將本發明以實施例等更具體地說明，惟本發明的範圍並非限定於該等實施例等。
［實施例1］ (1)光擴散控制膜的形成 對作為低折射率成分的，使聚丙二醇、異佛爾酮二異氰酸酯與甲基丙烯酸2-羥乙酯反應得到重量平均分子量9,900的聚醚胺甲酸乙酯甲基丙烯酸酯40質量份(固體份換算值；以下相同)，添加60質量份作為高折射率成分的分子量268的鄰苯基苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、及8質量份作為光聚合起始劑的2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮之後，在80℃條件下進行加熱混合，得到光擴散控制膜用組合物。
將所得光擴散控制膜用組合物，塗佈在作為工程片的長條聚對苯二甲酸乙二酯片的一面，形成塗膜。接著，在該塗膜的與工程片的相反側的面，積層作為第一膜的以矽酮系剝離劑剝離處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一面的剝離片(LINTEC公司製，產品名「SP-PET381130」，厚度︰38μm)的剝離面。
將藉此所得，由第一膜、上述塗膜、及工程片所組成的積層體，載置在輸送帶上。此時，使積層體的第一膜側的面為上側，同時使積層體的長邊方向與輸送帶的流動方向平行。然後，對載置在輸送帶的積層體，設置將中心光線平行度控制在±3°以內的紫外線點平行光源(JATEC公司製)。此時，將該光源，設置成對在層積體的第一膜側的面的法線方向，向輸送帶的流動方向的相反側傾斜15°的方向照射平行光。此外，將上述塗膜的表面與上述光源的距離設置成240mm。
之後，使輸送帶動作，邊將層積體以0.2m/分的速度移動，以在塗膜表面的波峰照度2.00mW/cm2 ，積算光量53.13mJ/cm2 的條件，照射平行度為2°以下的平行光(從具有主波峰波長為365nm，其他的為254nm、303nm、313nm的高壓水銀燈的紫外線)，使層積體中的塗膜硬化。藉此，形成上述塗膜硬化而成的厚度60μm的光擴散控制膜。進一步，藉由從上述積層體剝離工程片，得到依序積層第一膜、與光擴散控制膜而成的第1積層體。
再者，將所得光擴散控制膜在23℃的壓痕彈性模數，使用超微小硬度計(島津製造所公司製，「島津動態超微小硬度計DUH-W201S」)測定，結果為27MPa。此外，進行所形成的光擴散控制膜的剖面的顯微鏡觀察等，結果確認在光擴散控制膜的內部，形成有在厚度方向林立複數柱狀物而成的柱狀結構。即，在所得光擴散控制膜內部的柱狀結構的區域在厚度方向延伸的比例為100%。此外，確認該柱狀物，對光擴散控制膜的厚度方向向輸送帶的行進方向的相反側傾斜20°(傾斜角-20°)。再者，該傾斜角，係以膜面的法線方向為0°，輸送帶的行進方向標記為正，其相反方向為負。
此外，上述波峰照度及積算光量，係將安裝受光器的UV METER(EYE GRAPHICS公司製，產品名「EYE紫外線積算照度計UVPF-A1」)設定在上述塗膜的位置所測定。光擴散控制膜的厚度，係使用定壓厚度測定器(寶製造所公司製，產品名「TECLOCK PG-02J」)所測定。
(2)黏著劑層的形成
將90質量份丙烯酸正丁酯、10質量份丙烯酸，藉由溶液聚合法使之聚合，得到(甲基)丙烯酸酯聚合物。該(甲基)丙烯酸酯聚合物的重量平均分子量(Mw)，係以後述方法測定，結果為40萬。
將100質量份上述所得之(甲基)丙烯酸酯聚合物、與0.05質量份作為交聯劑的1,3-雙(N,N’-縮水甘油基胺基甲基)環己烷(1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane)(三菱氣體化學公司製造，產品名「TETRAD-C」)混合在溶媒中，得到黏著性組合物的塗佈液。
接著，將所得黏著性組合物的塗佈液，塗佈在作為第二膜的以矽酮系剝離劑剝離處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一面的剝離片(LINTEC公司製，產品名「SP-PET752150」，厚度：75μm)，以90℃加熱處理1分鐘，在第二膜上形成厚度25μm的黏著劑層。藉此得到積層第二膜與黏著劑層而成的第2積層體。
再者，將形成的黏著劑層在23℃的儲存模數，藉由後述的試驗例1測定，結果是0.16MPa。此外，黏著劑層的上述厚度，係遵照JIS K7130，使用定壓厚度測定器(TECLOCK公司製，產品名「PG-02」)測定之值。
(3)積層片的形成
將上述步驟(1)所得第1積層體的光擴散控制膜側的面，與上述步驟(2)所得第2積層體的黏著劑層側的面黏合之後，以溫度23℃，相對濕度50%的環境下進行風乾168小時，得到依序積層第一膜、光擴散控制膜、黏著劑層、第二膜而成的積層片。
在此，上述的重量平均分子量(Mw)係使用凝膠滲透層析儀(GPC)，以如下條件測定(GPC測定)的標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量。
<測定條件>
．GPC測定裝置：TOSOH公司製，HLC-8320
．GPC管柱(依以下順序通過)：TOSOH公司製
TSK gel super H-H
TSK gel super HM-H
TSK gel super H2000
．測定溶劑：四氫呋喃
．測定溫度：40℃
〔實施例2~4、比較例1〕
將示第一膜及第二膜的厚度變更為表1所示以外，以與實施例1同樣地製造積層片。
〔實施例5〕
將98.5質量份丙烯酸正丁酯、與1.5質量份丙烯酸2-羥基乙酯，藉由溶液聚合法聚合，得到重量平均分子量(Mw)為200萬的丙烯酸酯聚合物A。
此外，將95質量份丙烯酸正丁酯、與5質量份丙烯酸，藉由溶液聚合法聚合，得到重量平均分子量(Mw)為200萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物B。
再者，該等(甲基)丙烯酸酯聚合物的重量平均分子量(Mw)，係以與實施例1同樣的條件測定。
接著，將100質量份上述(甲基)丙烯酸酯聚合物A、10質量份上述(甲基)丙烯酸酯聚合物B、15質量份作為活性能量線硬化性成分的三(丙烯醯氧乙基)異氰酸酯(東亞合成公司製，產品名「ARONIX 315」)、及1.4質量份作為交聯劑的三羥甲基丙烷變性甲苯二異氰酸酯(TOSHO公司製，產品名「Cornate L」)，在溶劑中混合，得到黏著性組合物的塗佈液。
將上述黏著性組合物的塗佈液，以矽酮系剝離劑剝離處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一面的剝離片(LINTEC公司製，產品名「SP-PET752150」，厚度：75μm)，以90℃加熱處理1分鐘，形成塗膜。
接著，對形成的塗膜的與第二膜的相反側的面，黏合以矽酮系剝離劑剝離處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一面的剝離片(LINTEC公司製，產品名「SP-PET382120」，厚度：38μm)的剝離面。黏合30分鐘之後，隔著第二膜，以如下條件照射紫外線(UV)，形成使上述塗膜硬化而成的厚度15μm的黏著劑層。然後，藉由從該黏著劑層剝離(厚度38μm的)剝離片，得到積層第二膜與黏著劑層而成的第2積層體。 >UV照射條件> ．FUSION公司製無電極燈 使用H燈泡 ．照度︰600mW/cm2 、光量150mJ/cm2 ．UV照度．光量計 使用EYE GRAPHICS公司製「UVPF-36」
使用如上述所得之第2積層體以外，以與實施例1同樣地製造積層片。
再者，藉由後述的試驗例1測定所形成的黏著劑層在23℃的儲存模數，結果為0.59MPa。
［實施例6、比較例2］ 將第一膜及第二膜厚度變更為表2所示以外，以與實施例5同樣地製造積層片。
［試驗例1］(黏著劑層的儲存模數的測定) 將實施例及比較例所得風乾後的黏著劑層積層複數層，作成厚度為3mm的積層體。從所得黏著劑層的積層體，衝出直徑8mm的圓柱體(高度3mm)，以此作為樣品。
關於上述樣品，遵照JIS K7244-6，使用黏彈性測定器(REOMETRIC公司製，產品名「DYNAMIC ANALAYZER」)以扭轉剪力法，在如下條件測定儲存模數(G’)(MPa)。 測定頻率︰1Hz 測定溫度︰23℃
［試驗例2］(打痕的測定) (1)關於實施例1、實施例2及比較例1 將實施例1、實施例2及比較例1的積層片，使該第二膜側的面朝上，固定在設置為水平的玻璃板上。然後，對在積層片的第二膜側的面，使用壓芯的尖端直徑為2.54mm的半球的硬度計(高分子計器公司製，產品名「ASKER硬度計C2」)，以荷重225g施加點荷重10秒。
從施加上述點荷重經過5分鐘之後，從積層片剝離第二膜，將藉此露出的黏著劑層的露出面的打痕的深度(μm)，使用光干涉顯微鏡(Veeco公司製，產品名「表面形狀測定裝置WYKO NT110」)測定。將結果示於表1。此外，以比較例1所測定的深度作為基準算出比例(%)，其結果亦示於表1。
此外，將荷重改為443g，與上述進行同樣的測定。將藉此所得的打痕深度(μm)及比較例1所測定的深度作為基準的比例(%)示於表1。
(2)關於實施例3、實施例4及比較例1 將實施例3、實施例4及比較例1的積層片，那使該第二膜側的面朝上，固定在設置為水平的玻璃板上。然後，對在積層片的第一膜側的面，與上述(1)同樣地施加荷重225g或443g的點荷重。
從施加上述點荷重經過5分鐘之後，從積層片剝離第一膜，將藉此露出的光擴散控制膜的露出面的打痕的深度(μm)，使用光干涉顯微鏡(Veeco公司製，產品名「表面形狀測定裝置WYKO NT110」)測定。將結果示於表1。此外，以比較例1所測定的深度作為基準算出比例(%)，其結果亦示於表1。
(3)關於實施例5及比較例2 關於實施例5及比較例2的積層片，與上述(1)同樣地測定藉由施加荷重225g或443g的點荷重所產生的打痕深度(μm)。再者，亦算出以比較例2所測定的深度作為基準算出比例(%)，其結果亦示於表2。
(4)關於實施例6及比較例2 關於實施例6及比較例2關於積層片，與上述(2)同樣地測定藉由施加荷重225g或443g的點荷重所產生的打痕深度(μm)。再者，亦算出以比較例2所測定的深度作為基準算出比例(%)，其結果亦示於表2。
[表1]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1
層構成及 厚度(μm) 第一膜 38 38 75 50 38
光擴散控制膜 60 60 60 60 60
黏著劑層 25 25 25 25 25
第二膜 75 50 38 38 38
從第一 膜側施加 荷重 225g 打痕深度(μm) － － 7.73 － 9.91
對比較例1的深度的比例(%) － － 78 － 100
荷重 443g 打痕深度(μm) － － 10.73 14.13 17.48
對比較例1的深度的比例(%) － － 61 81 100
從第二 膜側施加 荷重 225g 打痕深度(μm) 5.35 8.04 － － 9.45
對比較例1的深度的比例(%) 57 85 － － 100
荷重 443g 打痕深度(μm) 12.52 14.10 － － 16.21
對比較例1的深度的比例(%) 77 87 － － 100
[表2]
實施例5 實施例6 比較例2
層構成及 厚度(μm) 第一膜 38 75 38
光擴散控制膜 60 60 60
黏著劑層 15 15 15
第二膜 75 38 38
從第一 膜側施加 荷重 225g 打痕深度(μm) － 1.29 3.10
對比較例2的深度的比例(%) － 42 100
荷重 443g 打痕深度(μm) － 2.35 4.86
對比較例2的深度的比例(%) － 48 100
從第二 膜側施加 荷重 225g 打痕深度(μm) 3.07 － 4.05
對比較例2的深度的比例(%) 76 － 100
荷重 443g 打痕深度(μm) 6.00 － 7.21
對比較例2的深度的比例(%) 83 － 100
從表1及表2明顯可知，關於實施例的積層片，即使是施加點荷重時，亦能夠良好地降低打痕的深度。從此結果，可推定在關於實施例的積層片的捲物，即使發生夾入異物的情形，亦可良好地抑制發生打痕。 [產業上的可利性]
本發明的積層片的捲物，能夠良好地使用於具備光擴散控制膜的裝置等地製造。
1:積層片 11a:第一膜 11b:第二膜 12:光擴散控制膜 13:黏著劑層
[圖1] 係是構成關於本發明的一實施形態的捲物的積層片的剖面圖。
1:積層片
11a:第一膜
11b:第二膜
12:光擴散控制膜
13:黏著劑層

Claims (6)

  1. 一種積層片的捲物，其特徵在於：其係將積層片捲曲而成的捲物，該積層片具備：第一膜；光擴散控制膜，層積在上述第一膜的一面側，在膜內具備折射率相對較低的區域中具有折射率相對較高的複數區域在厚度方向延伸的內部結構；第二膜，積層在上述光擴散控制膜的與上述第一膜的相反面側；及黏著劑層，設在上述光擴散控制膜與上述第二膜之間，其中上述內部結構是在折射率相對較低的區域中，使折射率相對較高的複數柱狀物在膜厚方向林立而成的柱狀結構，或者將折射率不同的複數板狀區域沿著膜面的任意的一方向上交互配置而成的百葉結構，上述第一膜及上述第二膜的至少一方的厚度為45μm以上，其中上述第一膜及上述第二膜的至少一方是在光擴散控制膜側的面進行剝離處理而成的剝離片。
  2. 如請求項1所述之積層片的捲物，其中上述黏著劑層的厚度為1μm以上且1000μm以下。
  3. 如請求項1所述之積層片的捲物，其中上述黏著劑層，在23℃的儲存模數為0.01MPa以上且50MPa以下。
  4. 如請求項1所述之積層片的捲物，其中上述第一膜及上述第二膜的厚度為45μm以上。
  5. 如請求項1所述之積層片的捲物，其中上述光擴散控制膜在23℃的壓痕彈性模數為1MPa以上且5000MPa以下。
  6. 如請求項1所述之積層片的捲物，其中上述光擴散控制膜的厚度為20μm以上且700μm以下。
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