TWI820921B - PtRu合金鍍敷液及PtRu合金膜之鍍敷方法 - Google Patents
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Abstract
本發明係有關於一種PtRu合金鍍敷液,其係含有二價Pt鹽、Ru硫酸鹽或Ru硝酸鹽之任一種,與硫酸及磺胺酸的PtRu合金鍍敷液,係氯濃度為0.1mg/L以上300mg/L以下的PtRu合金鍍敷液。作為此PtRu合金鍍敷液之組成,較佳為Pt濃度1g/L以上15g/L以下、Ru濃度0.1g/L以上10g/L以下、總硫酸濃度10g/L以上200g/L以下、磺胺酸濃度0.1g/L以上20g/L以下者。本發明之PtRu合金鍍敷液可獲得析出效率優良且可抑制裂痕產生等的高等級之PtRu合金膜。
Description
本發明係有關於一種用於形成由PtRu合金所構成之合金鍍敷膜的PtRu合金鍍敷液。詳言之,係有關於一種適於製造析出效率優良且無裂痕的PtRu合金膜之PtRu合金鍍敷液。又,本發明係有關於一種使用該鍍敷液之PtRu合金膜之鍍敷方法。
以Pt鍍敷為首之貴重金屬鍍敷常使用於裝飾品、珠寶商品等,以及電子電機設備的電極材料或導電性被覆材料等廣泛領域。多種貴重金屬由於電導性、化學穩定性、硬度等機械性質優異,因此,貴重金屬鍍敷,由著重於貴重金屬的稀少性或外觀之領域而言,其利用範圍便朝向重視機能性的領域逐漸擴大。
於此種背景下,就施用於智慧型手機或平板終端等電子設備的端子或連接器(插頭、插座)的貴重金屬鍍敷,便更加要求硬度高且阻斷性優良者。於此類各種電子設備的連接器類,係對Cu合金等導電性基材實施Ni等的基底鍍敷後形成貴重金屬鍍敷膜。而且,以在使用時常重複插入拔出為前提的連接器類,其外表面的鍍敷膜容易削落而剝離,則會損及外觀;此外,會呈現因基底層露出或氧化而導致接觸電阻增大等對於電子設備屬極為不佳之狀態。因此,連接器類的貴重金屬鍍敷膜便要求高硬度且耐摩耗性優良者。
連接器類的貴重金屬鍍敷,往常係使用Au或Pt等。關於Au鍍敷或Pt鍍敷,迄今已有人提出多種見解,合宜之鍍敷液或鍍敷條件已為人所知。例如作為Pt鍍敷液,已知有多種以二硝基二胺Pt、二硝基硫化Pt等Pt鹽(Pt錯合物)為金屬源的Pt鍍敷液。然而,諸如上述,在需要硬度更高的貴重金屬鍍敷膜之下,便要求開發出新穎構成之貴重金屬鍍敷膜。
作為硬度高於Au或Pt等貴重金屬鍍敷膜的鍍敷膜候選者,可舉出經合金化之貴重金屬合金所構成者。於此,本案發明人等發現,作為屬適度高硬度且於成本方面亦為有用的貴重金屬合金鍍敷膜,可能為PtRu合金膜。Ru亦屬貴重金屬的一種,但相較於Pt為硬度更高之金屬,故可望與Pt合金化而使被膜達到更高硬度。又,Ru亦與Pt同樣地呈化學穩定,因此PtRu合金膜的耐蝕性亦優良。而且,週知Ru鍍敷亦屬貴重金屬鍍敷之一樣態,而考量亦可利用此見解。作為Ru之鍍敷液,已知有含有硫酸鹽、氯化物等的Ru鹽之鍍敷液(專利文獻2)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 美國專利第1779457號說明書
[專利文獻2] 日本特開2001-49485號公報
[發明所欲解決之課題]
惟,對於適於PtRu合金膜的製造之合金鍍敷液,現況在於迄今幾無實用的先前技術。就此,合金鍍敷液一般係藉由將擬合金化之金屬的金屬鹽與合宜的導電鹽混合而得。諸如上述,由於用於Pt鍍敷液及Ru鍍敷液之金屬鹽為已知者,對於PtRu合金鍍敷液亦可利用該等見解。然而,根據本案發明人等,針對迄今適用之Pt鹽及Ru鹽所成之鍍敷液進行研究,結果確認在作為鍍敷液之特性上,其未必為最佳者。
就合金鍍敷液,係要求可行成目標組成之合金膜,而其析出效率亦為重要者。又,如考量對基材之保護或確保耐蝕性之機能,則在形成期望厚度的合金膜前應抑制裂痕的產生。根據本案發明人等,僅有習知技術之見解,就此等特性而言並無法獲得實用的PtRu合金鍍敷液。
因此,本發明係針對用於形成PtRu合金膜之鍍敷液,以提供一種可獲得析出效率優良且可抑制裂痕產生等的高等級之PtRu合金膜的PtRu合金鍍敷液為目的。而且,闡明一種使用此PtRu合金鍍敷液,來製造硬度高且耐蝕性優良之PtRu合金膜用之鍍敷方法。
[解決課題之手段]
本案發明人等為解決上述課題,而針對Pt鍍敷液中混有數種Ru鹽的合金鍍敷液進行事前確認。針對合宜之Ru鹽的選定與鍍敷液組成進行研究。於此,作為Ru鍍敷液之Ru鹽,如上述,氯化Ru與硫酸Ru係廣為人知。
而且,就此研究之結果,本案發明人等確認,使用氯化Ru與硫酸Ru之任一種Ru鹽皆可形成PtRu合金膜,但僅將該等的任一種混於Pt鍍敷液中較為不佳。亦即,若為以硫酸Ru作為Ru鹽的合金鍍敷液時,有析出效率差之特點,且要確保PtRu合金膜的厚度需耗費時間。另一方面,以氯化Ru作為Ru鹽的合金鍍敷液雖可滿足析出效率,但隨著鍍敷時間的經過發生Pt的未析出,鍍敷液不穩定而確認長時間使用時會有問題。因此,採氯化Ru之PtRu合金鍍敷液,為了維持鍍敷液的穩定性,縱使犧牲析出效率亦非得將鍍敷溫度設於較低溫(45℃以下)下。而且,既已確認即使如此考量到穩定性,含氯化Ru之鍍敷液仍會隨著皮膜的厚度增大而產生裂痕。
本案發明人等究明,就上述含Pt鹽與氯化Ru之PtRu合金鍍敷液中Pt未析出之因素,係液中的氯使Pt過度穩定化所致。而且吾人究明,不應使用可能對鍍敷液中供給過量的氯之氯化Ru,但透過應用其他Ru鹽且在不會抑制Pt析出的範圍控制氯含量,可排除穩定性等的問題。本案發明人等基於此探究致力進行研究的結果思及一種Ru鹽應用硫酸Ru或硝酸Ru,並將氯含量控制於合宜範圍的PtRu合金鍍敷液。
亦即,本發明為一種PtRu合金鍍敷液,其係含有二價Pt鹽、Ru硫酸鹽或Ru硝酸鹽之任一種,與硫酸及磺胺酸的PtRu合金鍍敷液,其中氯濃度為0.1mg/L以上300mg/L以下。以下,就本發明之PtRu合金鍍敷液的構成加以說明,並且就使用此PtRu合金鍍敷液之PtRu合金膜之製造方法加以說明。
(A)本發明之PtRu合金鍍敷液的構成
本發明之PtRu合金鍍敷液係含有以下各者作為必需構成成分:作為必需構成之金屬源的二價Pt鹽及Ru鹽,與硫酸及磺胺酸。
二價Pt鹽宜使用包含硫酸基(SO
4)或磺酸基(SO
3)、硝基(NO
2)、硝酸基(NO
3)、胺基(NH
3)、AcO基(同乙醯氧基)(H
2O)、羥基(OH)之至少任一種的無機酸鹽。具體例可舉出硫酸Pt(PtSO
4)、二硝基硫化Pt(Pt(SO
4)(NO
3)
2)
、硝酸Pt(Pt(NO
3)
2)、二硝基二胺Pt(Pt(NH
3)
2(NO
3)
2)、二胺基二氯Pt(Pt(NH
3)
2Cl
2)、三氯胺基Pt酸(HPtCl
3(NH
3))或其鹽、四硝基Pt酸(H
2PtCl
4)或其鹽、四磺酸基Pt酸(H
6Pt(SO
3)
4)或其鹽、四胺基Pt磷酸(H
2Pt(NH
3)
4)或其鹽等。此等當中,特佳之Pt鹽為硫酸Pt、二硝基硫化Pt、二硝基二胺Pt。
另一方面,對於Ru鹽,係應用硫酸
Ru(RuSO
4)或硝酸Ru(Ru(NO
3)
2)。諸如上述,氯化Ru雖可應用於Ru鍍敷,但應用於PtRu合金鍍敷時,會使鍍敷液中的氯過量而導致Pt未析出等。為了抑制未析出並使鍍敷膜的外觀更良好,Ru鹽則僅限於硫酸Ru或硝酸Ru之任一種。而且,特佳者為硫酸Ru。
又,本發明之PtRu合金鍍敷液為溶解於上述Pt鹽及Ru鹽與硫酸及磺胺酸而成的水溶液。在鍍敷液中游離的硫酸及磺胺酸有時也會由上述Pt鹽及Ru鹽生成。硫酸及磺胺酸為發揮鍍敷液中的傳導鹽之作用的必需構成。又,磺胺酸亦有使鍍敷膜的外觀更均勻之作用。
而且,本發明之PtRu合金鍍敷液係將氯濃度調整於0.1mg/L以上300mg/L以下的範圍。氯濃度未達0.1mg/L之鍍敷液係處於等同於無氯之狀態,使Pt及Ru的析出效率變低而無法有效進行鍍敷作業。而且,氯濃度超過300mg/L時,則因氯使Pt穩定化而導致Pt未析出。又,過量的氯濃度,在形成1μm以上的膜時會導致合金膜產生裂痕。氯濃度較佳為0.1mg/L以上200mg/L以下,更佳為0.1mg/L以上100mg/L以下。此外,於本發明之PtRu合金鍍敷液中,透過含有既定範圍的氯可提升析出效率的原因仍不明。可推定氯會以氯離子形態形成某些錯合物,或者氯會以氯原子形態作用於Pt及/或Ru等機構,但仍未確定。
要控制本發明之PtRu合金鍍敷液的氯濃度,可使用作為原料之Pt鹽及Ru鹽中的氯濃度經減少的原料,並對鍍敷液添加氯化物。此時添加之氯化物可舉出氯化銨、氯化Pt、氯化Ru等。又,亦可添加後述之鹼金屬鹽或鹼土金屬鹽,兼添加氯化鈉、氯化鎂等鹼金屬或鹼土金屬的氯化物。
本發明之PtRu合金鍍敷液中之各構成的含量係以採Pt濃度1g/L以上15g/L以下、採Ru濃度0.1g/L以上10g/L以下、總硫酸濃度採10g/L以上200g/L以下、磺胺酸濃度採0.1g/L以上20g/L以下為宜。Pt濃度及Ru濃度未達下限值,有無法進行成膜的問題。另一方面,Pt濃度及Ru濃度超過上限值時,在形成有厚度的鍍敷膜之際,不易抑制裂痕的產生。
又,根據本發明之PtRu合金鍍敷液所形成之PtRu合金膜的組成可根據合金鍍敷液的Pt濃度與Ru濃度之比率來調整。根據本案發明人等的研究,為了獲得適高硬度的PtRu合金膜,Pt濃度與Ru濃度之比(Ru濃度(g/L)/Pt濃度(g/L))較佳採0.1以上0.8以下。以此濃度比率形成之PtRu合金膜的組成為Ru濃度2質量%~20質量%的PtRu合金。上述比率較低時,會形成Ru濃度過低的PtRu合金膜,而成為與Pt同等程度的硬度。又,PtRu合金膜的硬度,即使Ru濃度超過20%也幾乎不會提升,因此上述比率無需超過0.8。又,鍍敷液中的Ru濃度過高,亦有析出效率降低的問題。上述比率之更佳範圍為0.1以上0.5以下。
本發明之PtRu合金鍍敷液除以上說明之必需構成的Pt鹽、Ru鹽、硫酸及/或磺胺酸外,亦較佳含有陰離子界面活性劑。陰離子界面活性劑具有抑制Pt及Ru的未析出並促進該等元素之均質析出的作用。陰離子界面活性劑除硬脂酸鹽、磺酸鹽外,亦可使用屬硫酸鹽或磺胺酸鹽且具有界面活性作用者。較佳可舉烷基硫酸鹽、烷基苯磺酸鹽。合宜作為具體之鹽者,有鹼性硫酸之月桂基硫酸鹽。
添加陰離子界面活性劑時,其濃度宜採10mg/L以上500mg/L以下。這是因為,若未達下限值則無效果;又,超過上限值時則會抑制Pt及Ru的析出之故。
再者,本發明之PtRu合金鍍敷液較佳含有鹼金屬或鹼土金屬。鹼金屬或鹼土金屬係具有在鍍敷液中發揮作為還原劑之作用而促進Pt及Ru的析出,同時形成耐蝕性良好的鍍敷膜之作用。鹼金屬或鹼土金屬可與陰離子界面活性劑併存,而藉由添加鹼金屬或鹼土金屬,可壓低陰離子界面活性劑的添加量。特佳作為鹼金屬或鹼土金屬者為Mg。此外,鹼金屬或鹼土金屬由於有離子化傾向而不會在鍍敷膜中析出。
鹼金屬或鹼土金屬添加於PtRu合金鍍敷液時,宜添加此等的鹽,較佳為硫酸鹽、亞硫酸鹽、硝酸鹽、氧化物、氫氧化物等。較佳之鹼土金屬可舉出Mg;作為較佳之Mg鹽,較佳於調製鍍敷液時添加硫酸Mg、亞硫酸Mg、硝酸Mg、氧化Mg、氫氧化Mg、乙酸Mg、檸檬酸Mg、乳酸Mg、硬脂酸Mg等。
PtRu合金鍍敷液中之鹼金屬或鹼土金屬的濃度較佳定為1g/L以上20g/L以下。未達1g/L時則無效果。又,超過20g/L時,析出效率會變差。
又,本發明之PtRu合金鍍敷液除以上所說明之金屬鹽、硫酸及磺胺酸、陰離子界面活性劑、鹼金屬或鹼土金屬以外,亦可含有用於鍍敷液之週知添加劑。可容許含有例如pH緩衝劑、錯合劑、穩定劑等。
此外,針對PtRu合金鍍敷液測定Pt濃度、Ru濃度、硫酸濃度、磺胺酸濃度、氯濃度時,能以鍍敷液狀態藉由感應耦合電漿光譜法(ICP)、離子層析(IC)來進行分析、測定。又,高效液相層析儀(HPLC)、高效液相層析質譜儀(LC-MS、LC-MS/MS)、傅立葉轉換紅外光譜儀(FT-IR)、核磁共振儀(NMR)等分析儀器亦可適宜地選用。又,對於氯濃度,除上述分析方法外,亦可藉由以液中的氯(殘氯)之測定法廣為人知的DPD(二乙基對苯二胺)法(比色法或吸光光度法)、碘法、電流法(極譜法)來測定,也可藉由此等測定法中所使用之測試器、儀器、測定套組來進行測定。此外,針對形成之PtRu合金鍍敷膜之Pt、Ru的存在及鍍敷膜的組成則可藉由進行電子探針微量分析(EPMA)、能量色散X射線光譜法(EDX)、X射線螢光分析(XRF)等來測定。
本發明之PtRu合金鍍敷液可藉由將上述Pt鹽與Ru鹽以硫酸及磺胺酸溶解後調成原液,並適當予以稀釋來製造。又,亦可首先將Pt鹽以硫酸溶解,並將Ru鹽溶解於其中調成原液後稀釋。氯濃度的調整或陰離子界面活性劑等的添加較佳在前述稀釋階段進行。又,亦可針對前述原液進行氯濃度調整等而調成PtRu合金鍍敷液。
鍍敷液製造時所使用之金屬鹽係如上述,此金屬鹽可為無氯者,只要是鍍敷液的氯濃度不超過上限的範圍亦可含有氯。尤其是對於Ru鹽之硫酸Ru或硝酸Ru,亦可使用高純度的硫酸Ru或硝酸Ru,惟亦可使用含有氯的硫酸Ru或硝酸Ru。例如,亦可使用將氯化Ru的氯取代為硫酸的硫酸Ru。氯化Ru的取代可暫時將氯化Ru中和而形成氫氧化物,再將氫氧化物用硫酸、硝酸溶解、回收、洗淨而得到含有微量氯的硫酸Ru或硝酸Ru。另一方面,就二價Pt鹽,亦可使用含有氯作為構成元素的Pt鹽(二胺基二氯Pt等),惟此時需使鍍敷液的氯濃度處於本發明之範圍內。
(B)本發明之PtRu合金膜之鍍敷方法
其次,就使用本發明之PtRu合金鍍敷液的PtRu合金膜之製造方法加以說明。本發明之PtRu合金鍍敷液較佳為酸性,較佳為pH1以下者。pH超過1,則鍍敷皮膜會產生裂痕而導致耐蝕性變差。pH的下限值較佳為0.1。
又,鍍敷液的溫度較佳定為45℃以上65℃以下。由於液溫與析出效率有關,未達45℃時則缺乏析出效率。另一方面,在超過65℃的高溫下作業有夾具劣化等問題。就此,PtRu合金鍍敷液之Ru鹽應用氯化Ru時,基於鍍敷液的長期穩定性觀點,無法在45℃以上的溫度下實施鍍敷。而就本發明之PtRu合金鍍敷液,在45℃以上的溫度下亦可實施鍍敷,較佳定為50℃以上。
成膜時的電流密度較佳為2.0A/dm
2以上10A/dm
2以下。未達2.0A/dm
2時,要形成所需厚度的鍍敷膜則效率不彰;超過10A/dm
2時則有鍍敷膜產生色斑之虞。
[發明之效果]
如以上所說明,本發明之PtRu合金鍍敷液,與Pt鹽共同應用作為Ru鹽之硫酸Ru,並進一步限制氯濃度,由此可控制鍍敷步驟時Pt未析出等抑制鍍敷液之長期穩定性的因素。本發明之PtRu合金鍍敷液,相對於利用無氯硫酸Ru之鍍敷液,析出效率亦良好,且穩定性亦優良,於液溫的溫度管理上亦有其優點。
而且,本發明係有用於由合宜組成之PtRu合金所構成之鍍敷膜的形成。此PtRu合金膜,相對於Pt等係以高硬度的PtRu合金所構成。又,PtRu合金膜亦可抑制裂痕的產生,且耐蝕性良好,對基材之環境阻隔性亦優良。此PtRu合金膜係具有均勻的金屬光澤,且外觀上亦良好。基於此等優點,本發明之PtRu合金鍍敷液係有用於智慧型手機等的連接器、端子之保護鍍敷層且對重複之插入拔出亦具有耐久性。又,亦有用於作為珠寶商品等的鍍敷膜。
[實施發明之形態]
以下就本發明之實施形態加以說明。於本實施形態中,係以屬Pt鹽之二硝基硫化Pt(Pt(SO
4)(NO
3)
2)與屬Ru鹽之硫酸Ru作為原料來製造PtRu合金鍍敷液。然後,調整氯濃度而調製多種PtRu合金鍍敷液,並由該等鍍敷液形成PtRu合金膜。
於製造鍍敷液時,係首先對二硝基硫化
Pt(Pt(SO
4)(NO
3)
2)與硫酸Ru(RuSO
4)各添加等量的硫酸及磺胺酸,而調成Pt濃度10g/L、Ru濃度1g/L、總硫酸濃度80g/L、磺胺酸濃度5g/L的基本浴。然後,添加作為陰離子界面活性劑之月桂基硫酸鈉(花王股份有限公司製EMAL (註冊商標))100mg/L並以Mg濃度4g/L添加作為鹼土金屬鹽之硫酸Mg。進而,為調整氯濃度,而以鍍敷液中的氯濃度成為0.1mg/L~500mg/L的方式添加NaCl。最終調整成pH0.4而製成PtRu合金鍍敷液。
又,於本實施形態中,為供比較用,亦探討Ru鹽應用氯化Ru(RuCl
3)的PtRu合金鍍敷液。此PtRu合金鍍敷液係準備以使Pt濃度及Ru濃度與上述相同的方式使Pt鹽與氯化Ru溶解於硫酸與磺胺酸而成的原液,與本實施形態同樣地稀釋並添加添加劑而調成PtRu合金鍍敷液。
藉由上述製造之氯濃度不同的9種鍍敷液形成PtRu合金膜。就鍍敷條件,基板試樣係使用Cu板(20mm×40mm×0.1mm),設浴溫60℃、電流密度4.0A/dm
2。鍍敷時間係以膜厚5μm為基準而調整成30分鐘~60分鐘。
鍍敷處理後,取出基板並測定平均膜厚後,進行外觀觀察並評估有無裂痕及有無未析出。又,基於鍍敷前後之基板試樣的質量差算出析出效率。進而,為確認PtRu合金膜的耐蝕性,而對成膜後的試樣進行電解循環試驗。電解循環試驗之條件係對各試樣,於5質量%氯化鈉溶液中(溫度:室溫)以30秒施加5V的電壓,以此為1循環而重複實施。然後,以作為基底的Cu露出前的循環數評估耐蝕性,計數至最大200循環。將此等評估結果示於表1。
由表1確認,就不含氯之鍍敷液(氯濃度0mg/L),即Ru鹽應用硫酸Ru之鍍敷液(No.1),析出效率低而不實用。而且,可知藉由使氯濃度大於鍍敷液含有0.1mg/L的氯的鍍敷液(No.2),析出效率有所改善。惟,氯濃度為500mg/L時,確認PtRu合金膜產生裂痕(No.8)。又,若為Ru鹽應用氯化Ru之鍍敷液(No.9)時確認,除PtRu合金膜產生裂痕外,基板上亦有未析出部分。由表1可知,此等PtRu合金膜產生裂痕之試樣其耐蝕性亦較差。相對於此,可確認藉由氯濃度經適切控制之PtRu合金鍍敷液所形成的PtRu合金膜其耐蝕性亦優良(No.2~No.7)。
第2實施形態:由上述第1實施形態之結果確認,透過Ru鹽應用硫酸Ru並適切地調整氯濃度,能有效地形成高品質的PtRu合金膜。於本實施形態中,係製造改變Ru濃度的PtRu合金鍍敷液,並評估由該等形成之PtRu合金膜的構成及特性。
與第1實施形態同樣地將二硝基硫化Pt與硫酸Ru溶解於硫酸的原液稀釋,並添加月桂基硫酸鈉Mg鹽而調製PtRu合金鍍敷液。於此,係調整原液製作時之硫酸Ru的溶解量來製造Ru濃度為1g/L、2g/L、3g/L、4g/L、5g/L的PtRu合金鍍敷液。此等鍍敷液僅有Ru濃度與總硫酸濃度此兩條件不同而其他均相同。Pt濃度皆為10g/L、Mg濃度為4g/L、pH取0.4。又,氯濃度共同為0.5mg/L。
然後,針對與第1實施形態相同之Cu基板上鍍有Ni(厚度5μm)/Au(厚度0.1μm)的複層基板(Cu/Ni/Au),藉由各PtRu合金鍍敷液對PtRu合金膜實施鍍敷處理。對各PtRu合金膜進行析出效率的算出及採EDX之組成分析(Ru濃度測定)後,測定硬度。硬度測定係藉由維氏硬度計,以負載10g測定維氏硬度(Hv)。又,與第1實施形態同樣地以電解循環試驗評估耐蝕性。將此等結果示於表2。
由表2確認,本實施形態中形成之PtRu合金膜的Ru比率,隨著鍍敷液的Ru濃度增加而上升,以3質量%~12.3質量%的PtRu合金所構成。可知PtRu合金膜的硬度,較未添加Ru鹽之鍍敷液所成之Pt膜為更高硬度。此Ru與Pt合金化所產生之提升硬度之效果,縱為Ru1%的合金鍍敷膜亦明確地顯現。
而且,任一種PtRu合金膜,均未產生裂痕且耐蝕性良好。更且,呈現均勻的金屬光澤,外觀亦良好。
[產業上可利用性]
如以上所說明,本發明之PtRu合金鍍敷液係具有下述特性:與Pt鹽共存之Ru鹽為最佳化,同時,藉由規範氯濃度,而析出效率與液體的長期穩定性優良。又,亦可抑制形成之PtRu合金膜裂痕的產生。根據本發明所形成之PtRu合金膜係以高硬度的PtRu合金所構成,且耐蝕性亦良好。本發明除智慧型手機或平板終端等的連接器、端子等電子設備的保護鍍敷層外,亦有用於形成鍍敷於珠寶商品等的膜。
Claims (7)
- 一種PtRu合金鍍敷液,其係含有: 二價Pt鹽、 Ru硫酸鹽或Ru硝酸鹽之任一種,與 硫酸及磺胺酸的PtRu合金鍍敷液,其中, 氯濃度為0.1mg/L以上300mg/L以下。
- 如請求項1之PtRu合金鍍敷液,其中二價Pt鹽係包含硫酸基(SO 4)或磺酸基(SO 3)、硝基(NO 2)、硝酸基(NO 3)、胺基(NH 3)、AcO基(同乙醯氧基)(H 2O)、羥基(OH)之至少任一種的無機酸鹽。
- 如請求項1或2之PtRu合金鍍敷液,其係Pt濃度1g/L以上15g/L以下、Ru濃度0.1g/L以上10g/L以下、總硫酸濃度10g/L以上200g/L以下、磺胺酸濃度0.1g/L以上20g/L以下。
- 如請求項1或2之PtRu合金鍍敷液,其中Pt濃度與Ru濃度之比(Ru濃度(g/L)/Pt濃度(g/L))為0.1以上0.8以下。
- 如請求項1或2之PtRu合金鍍敷液,其係含有陰離子界面活性劑。
- 如請求項1或2之PtRu合金鍍敷液,其進一步含有鹼金屬或鹼土金屬。
- 一種PtRu合金膜之鍍敷方法,其係使用如請求項1或2之PtRu合金鍍敷液的PtRu合金膜之鍍敷方法,其中, 使前述PtRu合金鍍敷液的pH成為1以下, 且以溫度45℃以上65℃以下、 電流密度2.0A/dm 2以上10A/dm 2以下來進行鍍敷處理。
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