TWI815814B - 流量控制裝置、流量控制方法和程式存儲介質 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 77
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 71
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 29
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 15
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 12
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0664—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged for the control of a plurality of diverging flows from a single flow
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
- G01F1/36—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction
- G01F1/363—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction with electrical or electro-mechanical indication
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F15/00—Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
- G01F15/005—Valves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F22/00—Methods or apparatus for measuring volume of fluids or fluent solid material, not otherwise provided for
- G01F22/02—Methods or apparatus for measuring volume of fluids or fluent solid material, not otherwise provided for involving measurement of pressure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
- G05B19/416—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control of velocity, acceleration or deceleration
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0647—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in series
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/37—Measurements
- G05B2219/37371—Flow
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
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- Human Computer Interaction (AREA)
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Abstract
本發明提供流量控制裝置、流量控制方法和程式存儲介質，以比以往小的時間延遲得到作為控制點的閥中的實際流量，使測定點與控制點一致而大幅提高回應速度。流量控制裝置包括：流體阻力件，設置於流路；下游側閥，設置在流體阻力件的下游側；下游側壓力感測器，測定流體阻力件與下游側閥之間流路的容積部中的壓力；第一流量算出部，計算流過流體阻力件的第一流量；第二流量算出部，基於第一流量和由下游側壓力感測器測定的下游側壓力的時間變化量，計算出從下游側閥流出的第二流量；以及流量控制部，基於設定流量和第二流量來控制下游側閥。
Description
本發明涉及一種流量控制裝置，該流量控制裝置例如用於控制半導體製造裝置所使用的流體的流量。
在半導體工序中，為了控制例如向蝕刻室內導入的各種氣體的流量而使用被稱為質量流量控制器的流量控制裝置，該流量控制裝置將各種流體設備與控制機構集成化。
例如，質量流量控制器包括：流量感測器，設置於流路；閥，設置在流量感測器的下游側；以及流量控制部，以使由流量感測器測定的測定流量成為作為目標值的設定流量的方式控制所述閥的開度（參照專利文獻1）。
在這種質量流量控制器中需求提高回應速度，以便使閥的下游側流動的實際的氣體流量盡可能快地追隨設定流量。
但是，近年來在半導體製造工序中所需求的回應速度非常嚴格，具有如上所述的流量控制系統的質量流量控制器越來越難以應對。本申請的發明人對其原因進行了認真研究後，發現了存在以下說明的原理性問題。
即，在上述質量流量控制器中，對比閥更靠上游側測定的流量進行回饋來控制閥，由流量感測器測定流量的測定點與由閥控制流量的控制點偏離了流量感測器與閥的設置間隔。
例如，當流量感測器具有層流元件等流體阻力件時，以實現所需要的壓力的方式使氣體流入流出，以便在作為測定點的流體阻力件與作為控制點的閥之間的內部容積部實現設定流量，上述動作因流體阻力件的作用而需要預定時間。
因此，在控制點產生的流量變化顯現於具有流量感測器的測定點會產生時間延遲。因此，由於在控制點始終基於預定時間之前的流量資訊來持續控制閥的開度，所以回應速度必然具有極限。
專利文獻1：日本專利公開公報特開2004-280688號
本發明是鑒於上述問題而完成的，其目的在於提供一種流量控制裝置，能夠以比以往小的時間延遲得到作為控制點的閥中的實際流量，可以通過使測定點與控制點一致而大幅度提高回應速度。
即，本發明的流量控制裝置包括：流體阻力件，設置於流路；下游側閥，設置在流體阻力件的下游側；下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的容積部中的壓力；第一流量算出部，計算出流過所述流體阻力件的第一流量；第二流量算出部，基於第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的第二流量；以及流量控制部，基於設定流量和第二流量來控制所述下游側閥。
此外，本發明的流量控制方法利用流量控制裝置，所述流量控制裝置包括：流體阻力件，設置於流路；下游側閥，設置在流體阻力件的下游側；以及下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的容積部中的壓力，所述流量控制方法包括：第一流量算出步驟，計算出流過所述流體阻力件的第一流量；第二流量算出步驟，基於第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的第二流量；以及流量控制步驟，基於設定流量和第二流量來控制所述下游側閥。
按照這種結構，基於流入所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的容積部的流體的流量和從所述容積部流出的流體的流量之差，確定下游側壓力的時間變化量。
因此，所述第二流量算出部可以根據作為流入所述容積部的流體的流量的第一流量和下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的第二流量，所述第二流量是從所述容積部流出的流體的流量。
如此，由於能夠以幾乎不產生時間延遲的方式得到作為控制點的下游側閥處的流量亦即第二流量，所以所述流量控制部可以使控制點與測定點一致來控制所述下游側閥，從而與以往相比能夠提高例如暫態回應時的回應速度。
作為第二流量算出部的具體結構可以列舉的是，所述第二流量算出部包括：變化量算出部，計算出下游側壓力的時間變化量；以及流量運算部，基於第一流量與根據下游側壓力的時間變化量計算出的換算流量之差，計算出第二流量。
為了能夠實現穩健的控制，以便在利用所述下游側閥使第二流量穩定為設定流量之後，即使所述流體阻力件的上游側產生壓力變化，也能夠使第二流量不容易變動，優選的是，所述流量控制裝置還包括：上游側閥，設置成比所述流體阻力件更靠上游側；上游側壓力感測器，測定所述上游側閥與所述流體阻力件之間的所述流路的容積部中的壓力；以及壓力控制部，基於設定壓力和由所述上游側壓力感測器測定的上游側壓力來控制所述上游側閥。
為了使所述第一流量算出部能夠利用所述流體阻力件前後產生的壓差，計算出準確的第一流量，並且能夠抑制感測器數量的增加，優選的是，所述第一流量算出部基於上游側壓力和下游側壓力計算出流過所述流體阻力件的第一流量。
為了僅利用流量控制裝置就能夠對內部的異常進行自診斷，優選的是，所述流量控制裝置還包括診斷部，所述診斷部在所述下游側閥關閉的狀態下，對第一流量和第二流量進行比較來診斷是否存在異常。
作為用於得到本發明的第一流量的其他具體實施方式，可以列舉的是，所述流量控制裝置還包括流量檢測機構，所述流量檢測機構輸出與流過所述流體阻力件的第一流量對應的檢測信號，所述第一流量算出部基於所述流量檢測機構輸出的檢測信號計算出第一流量。
例如僅通過對現有的流量控制裝置升降程式，就能夠得到與本發明的流量控制裝置同樣的效果，可以使用流量控制裝置用程式，所述控制裝置用程式是用於流量控制裝置的程式，所述流量控制裝置包括：流體阻力件，設置於流路；下游側閥，設置在流體阻力件的下游側；以及下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的容積部中的壓力，其中，所述流量控制裝置用程式使電腦發揮如下功能：第一流量算出部，計算出流過所述流體阻力件的第一流量；第二流量算出部，基於第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的第二流量；以及流量控制部，基於設定流量和第二流量來控制所述下游側閥。
另外，流量控制裝置用程式能夠以電子方式發送，也可以存儲於CD、DVD、HDD和快閃記憶體器等存儲介質。
如此，按照本發明的流量控制裝置，可以基於第一流量和下游側壓力的時間變化量來得到作為流量的控制點的下游側閥中實際流動的第二流量，通過使流量的測定點與控制點一致來進行控制，可以提高回應速度。
參照圖1和圖2，對本發明第一實施方式的流量控制裝置100進行說明。
第一實施方式的流量控制裝置100例如用於在半導體製造工序中向蝕刻室以設定流量供給氣體。在此，設定流量是從某一流量值向另一流量值階段式上升或下降的步進信號。上述流量控制裝置100構成為例如以滿足製造的半導體的質量的方式在預定時間內追隨上述步進信號。
即，如圖1所示，流量控制裝置100包括：流體設備，由設置於流路的感測器和閥構成；以及控制器COM，對該流體設備進行控制。
相對於流路從上游側依次設置有供給壓力感測器P0、上游側閥V1、上游側壓力感測器P1、流體阻力件R、下游側壓力感測器P2和下游側閥V2。在此，流體阻力件R例如是層流元件，產生與其前後流動的氣體的流量對應的壓差。
供給壓力感測器P0用於監測從上游側供給的氣體的壓力。另外，在保證供給壓力穩定等情況下，也可以省略供給壓力感測器P0。
上游側壓力感測器P1測定作為充入上游側容積部內的氣體的壓力的上游側壓力，該上游側容積部是流路中的上游側閥V1與流體阻力件R之間的容積部。
下游側壓力感測器P2測定作為充入下游側容積部VL的氣體的壓力的下游側壓力，該下游側容積部VL是流路中的流體阻力件R與下游側閥V2之間的容積部。
如此，上游側壓力感測器P1和下游側壓力感測器P2分別測定由上游側閥V1、流體阻力件R和下游側閥V2形成的兩個容積部的壓力。此外，作為其他表現方式，上游側壓力感測器P1和下游側壓力感測器P2測定配置在流體阻力件R前後的各容積部內的壓力。
上游側閥V1和下游側閥V2在第一實施方式中為相同類型，例如是利用壓電元件相對於閥座驅動閥體的壓電閥。上游側閥V1基於由上游側壓力感測器P1測定的上游側壓力來控制上游側容積部內的壓力。另一方面，流體設備中的設置在最下游側的下游側閥V2對從流體設備流出的氣體流量整體進行控制。
接著，對控制器COM進行詳細說明。
控制器COM例如是具有CPU、記憶體、A/D及D/A轉換器和輸入輸出裝置的所謂的電腦，通過執行記憶體中存儲的流量控制裝置用程式，使各種設備協同動作，從而至少作為第一流量算出部1、第二流量算出部2、流量控制部3和壓力控制部4發揮功能。
第一流量算出部1與上游側壓力感測器P1、流體阻力件R和下游側壓力感測器P2一起構成所謂的壓差式流量感測器。即，第一流量算出部1將由上游側壓力感測器P1測定的上游側壓力和由下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力作為輸入，計算出作為流過流體阻力件R的氣體的流量的第一流量並輸出。在此，在第一流量算出部1中使用的流量的算式可以使用現有算式。雖然由第一流量算出部1計算出的第一流量連續變化，但是相對於利用下游側閥V2的控制實現的經過該下游側閥V2的實際流量產生預定的時間延遲。
第二流量算出部2基於由第一流量算出部1計算出的第一流量和由下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力，計算出作為從下游側閥V2流出的氣體的流量的第二流量並輸出。更具體地說，第二流量算出部2基於第一流量與第二流量之差的常數倍(倍數為常數)等於下游側壓力的時間變化量，計算出第二流量，該第一流量是流入流體阻力件R與下游側閥V2之間的下游側容積部VL的氣體的流量，該第二流量是從下游側容積部VL流出的氣體的流量。
即，第二流量算出部2包括：變化量算出部21，計算出由下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力的時間變化量；以及流量運算部22，基於第一流量與下游側壓力的時間變化量計算出第二流量。
以下，針對第二流量能夠基於第一流量與下游側壓力的時間變化量而算出這一點進行說明。
設下游側壓力為P2
、下游側容積部VL的體積為V、氣體的溫度為T、氣體常數為R、質量為n時，根據氣體的狀態方程式，成為P2
＝nRT/V。對該公式取時間微分，
[式1]
此外，由於質量的時間微分與每單位時間流入流出下游側容積部VL的氣體的流量呈比例關係，所以設第一流量為Q1
、第二流量為Q2
、常數為a時，
[式2]根據各式對第二流量Q2
求解，
[式3]
在此，A是彙集了R、T、V、a的函數，下游側壓力的時間變化量乘以函數A的值為換算流量。根據該式可知，能夠基於作為實際測定的值的第一流量和作為下游側壓力的時間變化量的時間微分，計算出第二流量。
在第一實施方式中，變化量算出部21計算出時間微分作為由下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力的時間變化量。另外，時間微分可以通過從下游側壓力的時序資料取得差分而算出。
流量運算部22例如根據預先由實驗等求出的常數A、輸入的第一流量Q1
以及從變化量算出部21輸入的下游側壓力的時間微分，計算出第二流量並向流量控制部3輸出。
流量控制部3基於由用戶設定的設定流量和從第二流量算出部2輸入的第二流量來控制下游側閥V2。即，流量控制部3利用作為從下游側閥V2流出的氣體的流量的第二流量的回饋，以使設定流量與第二流量的偏差變小的方式來控制下游側閥V2。
另一方面，壓力控制部4基於由用戶設定的設定壓力和由上游側壓力感測器P1測定的上游側壓力來控制上游側閥V1。即，壓力控制部4利用上游側壓力的回饋，以使設定壓力與上游側壓力的偏差變小的方式來控制上游側壓力。在此，基於第二流量穩定為設定流量時在流體阻力件R的前後應保持的壓力差，對設定壓力進行設定。
接著，參照圖2的流程圖，說明在下游側閥V2完全關閉的狀態下，使第二流量從零的狀態向預定的流量變化的情況下的控制動作的示例。
設定流量的值為零的期間（步驟S0），流量控制部3使下游側閥V2保持為完全關閉狀態，使氣體不從下游側閥V2流出（步驟S1）。
另一方面，壓力控制部4以使上游側容積部內的壓力成為設定壓力的方式控制上游側閥V1的開度，使氣體流入該上游側容積部內（步驟S2）。
如果設定流量步進式地從零變化為預定值（步驟S3），則流量控制部3以使第二流量成為設定流量的預定值的方式打開下游側閥V2，該第二流量是根據由流體阻力件R前後的壓差計算出的第一流量以及下游側壓力的時間變化量計算出的控制點處的流量（步驟S4）。另外，第一流量是由第一流量算出部1將上游側壓力感測器P1測定的上游側壓力和下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力作為輸入而算出的流過流體阻力件R的流量。
在此，如果下游側閥V2打開，則氣體從下游側容積部VL流出，所以下游側壓力下降，產生下游側壓力的時間變化量（步驟S5）。即，在氣體開始流動的暫態回應狀態下，第二流量是與第一流量不同的值，並且是考慮了下游側壓力的時間變化量的值。
如果進行基於第二流量的回饋控制（步驟S6），則流量的測定點與控制點一致，所以下游側閥V2中的流量變化立即反映於下游側閥V2的開度控制。因此，第二流量在短時間內穩定為設定流量的預定值（步驟S7）。
在第二流量穩定為設定流量的預定值時，相對於下游側容積部VL流入流出的氣體的量為平衡狀態，所以下游側壓力的時間變化量大體為零（步驟S8）。即，第二流量實質上等於第一流量，流量控制部3對下游側閥V2進行利用第一流量的回饋控制（步驟S9）。如此，由於流量控制部3基於由流體阻力件R前後的壓差計算出的第一流量以及由下游側壓力的時間變化量計算出的第二流量，來控制下游側閥V2的開度，所以在下游側容積部VL內產生壓力變化時和下游側容積部VL內的壓力穩定時，回饋的流量自然地變化。即，也可以說由流量控制部3進行的流量控制自然地從第二流量控制切換為第一流量控制。
此外，壓力控制部4與流量控制部3獨立地控制上游側閥V1的開度，在第二流量穩定為設定流量的預定值的期間，以利用上游側閥V1的開度變化而使從下游側閥V2流出的流量保持恒定的方式進行控制（步驟S10）。
按照如此構成的第一實施方式的流量控制裝置100，可以根據實際測定的第一流量和下游側壓力的時間變化量，計算出作為從下游側閥V2流出的流量的第二流量。並且，由於對作為控制點的下游側閥V2處的流量亦即第二流量進行回饋來控制下游側閥V2，所以在實際的流量與回饋的流量之間不產生時間延遲，從而與以往相比能夠提高相對於設定流量變化的追隨速度。即，可以實現在半導體製造工序中所需求的回應速度。
此外，由於利用上游側閥V1，以使流體阻力件R的上游側的壓力始終保持為設定壓力的方式進行控制，所以不容易產生壓力變動，並且利用下游側閥V2的控制，在第二流量穩定為設定流量後容易繼續保持其流量。即，對於從下游側閥V2流出的氣體的流量的控制，可以提高穩健性。
接著參照圖3，對本發明第二實施方式進行說明。另外，對已經在第一實施方式中說明的構件賦予相同的附圖標記。
在第二實施方式中，流量控制裝置100未附加外部感測器，而是具有自診斷功能，該自診斷功能根據流量控制裝置100自身所具有的感測器的資訊診斷自身狀態。即，如圖3所示，流量控制裝置100還包括診斷部5，該診斷部5在下游側閥V2關閉的狀態下，對第一流量和第二流量進行比較來診斷是否存在異常。如果是下游側閥V2關閉的狀態，則不存在來自下游側容積部VL的氣體的流出，所以如果各感測器未發生故障，則第一流量和第二流量幾乎不會產生差異。因此，當第一流量與第二流量之差超過預定閾值時，診斷部5診斷為上游側壓力感測器P1、下游側壓力感測器P2和下游側閥V2中的某一個發生了故障。
如此，按照第二實施方式的流量控制裝置100，通過對從內部得到的各種流量進行比較，可以診斷流體設備是否發生了故障等異常。
接著參照圖4，對本發明第三實施方式進行說明。
在第三實施方式的流量控制裝置100中，第一流量的算出原理與第一實施方式不同。具體地說，第三實施方式的流量控制裝置100未使用設置在流體阻力件R前後的壓力感測器的測定值，而是另外設置有用於測定流量的流量檢測機構F，第一流量算出部1基於上述流量檢測機構F的輸出計算出第一流量。
即，在第三實施方式中，流量檢測機構F具有：細管F1，以跨越流體阻力件R前後的方式分路設置；兩個傳熱線圈F2，捲繞於該細管F1；以及流量檢測器F3，由將各傳熱線圈F2保持為預定溫度的電橋電路構成。向各傳熱線圈F2施加的電壓對應於細管F1內流動的流體的流量而變化。第一流量算出部1基於從流量檢測器F3輸出的電壓之差計算出第一流量。即，在第三實施方式中，由流量檢測機構F和第一流量算出部1構成熱式流量感測器。
按照這種結構，基於第一流量和由下游側壓力感測器P2測定的下游側壓力的時間變化量，計算出作為在下游側閥V2中實際流動的流量的第二流量，能夠基於上述第二流量以不產生時間延遲的方式來進行流量控制。
對其他實施方式進行說明。
也可以是流量控制裝置不具備上游側閥，流體設備僅具備上游側壓力感測器、流體阻力件、下游側壓力感測器和下游側閥。即，也可以不進行將流體阻力件的上游側的壓力保持為恒定的壓力控制，而利用下游側閥進行第一實施方式中說明的基於第二流量的流量回饋控制。即使是這種結構，通過使流量的測定點與控制點一致，也能夠得到提高回應速度的效果。
流量控制裝置控制的流體不限於氣體，也可以是液體。
也可以是下游側閥包括位移感測器，可以檢測閥體相對於閥座的位置、即開度。此外，也可以是流量控制部例如基於設定流量與第二流量的偏差計算出當前應實現的目標開度，並且以使位移感測器檢測的檢測開度成為目標開度的方式控制下游側閥。按照這種結構，由於能夠利用第二流量以不產生時間延遲的方式得到下游側閥在某一控制點處的實際流量，並且能夠基於位移感測器的檢測開度高速地控制下游側閥的開度自身，所以能夠使實際經過下游側閥的流量進一步高速地追隨設定流量。
此外，由於可以檢測下游側閥的當前開度，並且根據第二流量得到實際經過下游側閥的流量，所以還能夠準確地把握開度與實際流動的第二流量之間的關係。因此，即使例如發生了某種故障或堵塞，從某一開度下應實現的流量僅稍許變化，也能夠檢測為異常。即，如果診斷部基於位移感測器的檢測開度和第二流量來進行流量控制裝置內的自診斷，則與以往相比能夠進行高精度的診斷。
另外，也可以是上游側閥也包括位移感測器，從而能夠檢測上游側閥的開度。
此外，為了可以將利用本發明的流量控制裝置在極短時間內實現的流量例如向腔室等直接供給，只要在流路中將下游側閥配置在腔室的導入口附近即可。
此外，只要不違反本發明的宗旨，可以進行實施方式的變形，也可以分別組合各實施方式的一部分或全部。
100‧‧‧流量控制裝置COM‧‧‧控制器F‧‧‧流量檢測機構F1‧‧‧細管F2‧‧‧傳熱線圈F3‧‧‧流量檢測器V1‧‧‧上游側閥V2‧‧‧下游側閥P0‧‧‧供給壓力感測器P1‧‧‧上游側壓力感測器P2‧‧‧下游側壓力感測器R‧‧‧流體阻力件VL‧‧‧下游側容積部1‧‧‧第一流量算出部2‧‧‧第二流量算出部21‧‧‧變化量算出部22‧‧‧流量運算部3‧‧‧流量控制部4‧‧‧壓力控制部5‧‧‧診斷部
圖1是表示本發明第一實施方式的流量控制裝置的示意圖。 圖2是表示第一實施方式的流量控制裝置的控制動作的流程圖。 圖3是表示本發明第二實施方式的流量控制裝置的示意圖。 圖4是表示本發明第三實施方式的流量控制裝置的示意圖。
100‧‧‧流量控制裝置
COM‧‧‧控制器
V1‧‧‧上游側閥
V2‧‧‧下游側閥
P0‧‧‧供給壓力感測器
P1‧‧‧上游側壓力感測器
P2‧‧‧下游側壓力感測器
R‧‧‧流體阻力件
VL‧‧‧下游側容積部
1‧‧‧第一流量算出部
2‧‧‧第二流量算出部
21‧‧‧變化量算出部
22‧‧‧流量運算部
3‧‧‧流量控制部
4‧‧‧壓力控制部
Claims (7)
- 一種流量控制裝置，其特徵在於，包括：一流體阻力件，設置於一流路；一下游側閥，設置在所述流體阻力件的一下游側；一上游側壓力感測器，設置在所述流體阻力件的一上游側；一下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的一容積部中的壓力；一第一流量算出部，基於由所述上游側壓力感測器測定的上游側壓力及由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力，計算出流過所述流體阻力件的一第一流量；一第二流量算出部，基於通過所述第一流量算出部得到的所述第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的一下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的一第二流量；以及一流量控制部，基於一設定流量和通過所述第二流量算出部得到的所述第二流量來控制所述下游側閥。
- 如請求項1所述的流量控制裝置，其特徵在於：所述第二流量算出部包括：一變化量算出部，計算出所述下游側壓力的時間變化量；以及一流量運算部，基於所述第一流量與根據所述下游側壓力的時間變化量計算出的換算流量之差，計算出所述第二流量。
- 如請求項1所述的流量控制裝置，其特徵在於，還包括：一上游側閥，設置成比所述流體阻力件更靠一上游側；以及 一壓力控制部，基於一設定壓力和由所述上游側壓力感測器測定的一上游側壓力來控制所述上游側閥。
- 如請求項1所述的流量控制裝置，其特徵在於，還包括一診斷部，所述診斷部在所述下游側閥關閉的狀態下，對所述第一流量和所述第二流量進行比較來診斷是否存在異常。
- 如請求項1所述的流量控制裝置，其特徵在於：還包括一流量檢測機構，所述流量檢測機構輸出與流過所述流體阻力件的所述第一流量對應的一檢測信號，所述第一流量算出部基於所述流量檢測機構輸出的所述檢測信號計算出所述第一流量。
- 一種流量控制方法，利用流量控制裝置，所述流量控制裝置包括：一流體阻力件，設置於一流路；一下游側閥，設置在所述流體阻力件的一下游側；一上游側壓力感測器，設置在所述流體阻力件的一上游側；以及一下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的一容積部中的壓力；所述流量控制方法的特徵在於，包括：一第一流量算出步驟，基於由所述上游側壓力感測器測定的上游側壓力及由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力，計算出流過所述流體阻力件的一第一流量；一第二流量算出步驟，基於由所述第一流量算出步驟得到的所述第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的一下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的一第二流量；以及 一流量控制步驟，基於一設定流量和由所述第二流量算出步驟得到的所述第二流量來控制所述下游側閥。
- 一種程式存儲介質，存儲有流量控制裝置用程式，所述流量控制裝置用程式是用於流量控制裝置的程式，所述流量控制裝置包括：一流體阻力件，設置於一流路；一下游側閥，設置在所述流體阻力件的一下游側；一上游側壓力感測器，設置在所述流體阻力件的一上游側；以及一下游側壓力感測器，測定所述流體阻力件與所述下游側閥之間的所述流路的一容積部中的壓力，所述程式存儲介質的特徵在於：所述流量控制裝置用程式使電腦發揮如下功能：一第一流量算出部，基於由所述上游側壓力感測器測定的上游側壓力及由所述下游側壓力感測器測定的下游側壓力，計算出流過所述流體阻力件的一第一流量；一第二流量算出部，基於通過所述第一流量算出部得到的所述第一流量和由所述下游側壓力感測器測定的一下游側壓力的時間變化量，計算出從所述下游側閥流出的一第二流量；以及一流量控制部，基於一設定流量和通過所述第二流量算出部得到的所述第二流量來控制所述下游側閥。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017147801A JP7164938B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
| JP2017-147801 | 2017-07-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201910955A TW201910955A (zh) | 2019-03-16 |
| TWI815814B true TWI815814B (zh) | 2023-09-21 |
Family
ID=65038611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107125734A TWI815814B (zh) | 2017-07-31 | 2018-07-25 | 流量控制裝置、流量控制方法和程式存儲介質 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10545514B2 (zh) |
| JP (2) | JP7164938B2 (zh) |
| KR (1) | KR102483417B1 (zh) |
| CN (1) | CN109324641B (zh) |
| TW (1) | TWI815814B (zh) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10633297B2 (en) | 2018-03-16 | 2020-04-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing honeycomb structure |
| JP7437980B2 (ja) * | 2019-03-12 | 2024-02-26 | 株式会社堀場エステック | 流体制御装置、流体制御システム、診断方法、及び、流体制御装置用プログラム |
| US11512998B2 (en) * | 2019-09-18 | 2022-11-29 | GE Precision Healthcare LLC | Systems and method for an air flow sensor in a medical gas flow device |
| CN111579013B (zh) * | 2020-05-26 | 2022-07-15 | 北京七星华创流量计有限公司 | 气体质量流量控制器及其流量标定方法 |
| US11860018B2 (en) * | 2020-08-14 | 2024-01-02 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Rate-of-change flow measurement device |
| JP2022047815A (ja) * | 2020-09-14 | 2022-03-25 | アズビル株式会社 | マスフローコントローラ |
| CN113983224A (zh) * | 2021-10-12 | 2022-01-28 | 康赛特自动化集团有限公司 | 一种用于物联网的电动执行器装置及其使用方法 |
| JP2023080611A (ja) * | 2021-11-30 | 2023-06-09 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
| JP7144126B1 (ja) * | 2022-05-16 | 2022-09-29 | 東フロコーポレーション株式会社 | 流量制御装置 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008053839A1 (fr) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Mécanisme de diagnostic dans un régulateur de débit massique à pression différentielle |
| WO2013179550A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 株式会社フジキン | ビルドダウン方式流量モニタ付流量制御装置 |
| JP5395451B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2014-01-22 | サーパス工業株式会社 | 流量コントローラ |
| TW201602749A (zh) * | 2014-06-20 | 2016-01-16 | 堀場Ｓｔｅｃ股份有限公司 | 中繼器以及流體控制和測量系統 |
| TW201612669A (en) * | 2014-08-01 | 2016-04-01 | Horiba Stec Co | Flow rate control apparatus, storage medium storing program for flow rate control apparatus and flow rate control method |
| TW201642063A (zh) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | Tokyo Electron Ltd | 氣體供給控制方法 |
| TW201702781A (zh) * | 2015-07-10 | 2017-01-16 | 派伏塔系統公司 | 氣流控制方法及裝置 |
| CN103529869B (zh) * | 2012-07-03 | 2017-06-06 | 株式会社堀场Stec | 压力控制装置、流量控制装置、压力控制方法及流量控制方法 |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323402A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Tomoe Tech Res Co | バルブの漏れ検出装置，方法，バルブ駆動用アクチュエータ，プログラム |
| JP2003084840A (ja) * | 2001-09-14 | 2003-03-19 | Ckd Corp | 圧力操作式流量制御方法及び圧力操作式流量制御装置 |
| JP4544992B2 (ja) | 2002-06-24 | 2010-09-15 | エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド | 圧力の揺らぎに鈍感な質量流量制御のための装置及び方法 |
| JP4146746B2 (ja) | 2003-03-18 | 2008-09-10 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラ |
| JP2004302914A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Advanced Energy Japan Kk | 一次側圧力のセンサを具えたマスフローコントローラ |
| JP4204400B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2009-01-07 | 忠弘 大見 | 差圧式流量計及び差圧式流量制御装置 |
| US7740024B2 (en) * | 2004-02-12 | 2010-06-22 | Entegris, Inc. | System and method for flow monitoring and control |
| US7204158B2 (en) * | 2004-07-07 | 2007-04-17 | Parker-Hannifin Corporation | Flow control apparatus and method with internally isothermal control volume for flow verification |
| US7757554B2 (en) * | 2005-03-25 | 2010-07-20 | Mks Instruments, Inc. | High accuracy mass flow verifier with multiple inlets |
| US7621290B2 (en) * | 2005-04-21 | 2009-11-24 | Mks Instruments, Inc. | Gas delivery method and system including a flow ratio controller using antisymmetric optimal control |
| US20090250116A1 (en) * | 2006-07-10 | 2009-10-08 | Hong Sa-Mun | Flow rate controlling apparatus |
| US8079383B2 (en) * | 2006-12-07 | 2011-12-20 | Mks Instruments, Inc. | Controller gain scheduling for mass flow controllers |
| US20080250854A1 (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-16 | Junhua Ding | Mass flow device using a flow equalizer for improving the output response |
| JP2010055500A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Mitsumi Electric Co Ltd | 流量制御装置及び流量制御方法 |
| US7826986B2 (en) * | 2008-09-26 | 2010-11-02 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and system for operating a mass flow controller |
| JP2010169657A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-08-05 | Horiba Stec Co Ltd | 質量流量計及びマスフローコントローラ |
| US8131400B2 (en) * | 2010-06-10 | 2012-03-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Adaptive on-tool mass flow controller tuning |
| JP2012168824A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Horiba Stec Co Ltd | 流体制御装置 |
| US10353408B2 (en) * | 2011-02-25 | 2019-07-16 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of fast pulse gas delivery |
| US8849466B2 (en) * | 2011-10-04 | 2014-09-30 | Mks Instruments, Inc. | Method of and apparatus for multiple channel flow ratio controller system |
| US9846074B2 (en) * | 2012-01-20 | 2017-12-19 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time |
| US9557744B2 (en) * | 2012-01-20 | 2017-01-31 | Mks Instruments, Inc. | System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time |
| JP5754853B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2015-07-29 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| US9797520B2 (en) * | 2012-02-03 | 2017-10-24 | Hitachi Metals, Ltd. | Flow control apparatus and program |
| JP5960614B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-08-02 | Ckd株式会社 | 流体制御システム、流体制御方法 |
| JP5665794B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2015-02-04 | 株式会社フジキン | 半導体製造装置のガス分流供給装置 |
| US10031005B2 (en) * | 2012-09-25 | 2018-07-24 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for self verification of pressure-based mass flow controllers |
| CN108027618B (zh) * | 2015-09-24 | 2021-01-29 | 株式会社富士金 | 压力式流量控制装置及其异常检测方法 |
| US10459458B2 (en) * | 2015-09-30 | 2019-10-29 | Hitachi Metals, Ltd. | Mass flow controller and diagnostic method for differential pressure type flow meter |
| JP6892687B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2021-06-23 | 株式会社フジキン | 流量制御装置および流量制御装置を用いる異常検知方法 |
| JP6804874B2 (ja) * | 2016-05-31 | 2020-12-23 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御装置に用いられるプログラム、及び、流量制御方法 |
| JP6600854B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2019-11-06 | 株式会社フジキン | 圧力式流量制御装置、その流量算出方法および流量制御方法 |
| JP7245600B2 (ja) * | 2016-12-15 | 2023-03-24 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム |
| US10983537B2 (en) * | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
| JP7008499B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2022-01-25 | 株式会社堀場エステック | 校正データ作成装置及び校正データ作成方法、並びに、流量制御装置 |
| US10649471B2 (en) * | 2018-02-02 | 2020-05-12 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for pulse gas delivery with isolation valves |
| JP7059053B2 (ja) * | 2018-03-12 | 2022-04-25 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム |
| US11209298B2 (en) * | 2018-04-27 | 2021-12-28 | Hitachi Metals, Ltd. | Thermal mass flow sensor with improved accuracy |
-
2017
- 2017-07-31 JP JP2017147801A patent/JP7164938B2/ja active Active
-
2018
- 2018-07-11 KR KR1020180080692A patent/KR102483417B1/ko active IP Right Grant
- 2018-07-12 CN CN201810762767.6A patent/CN109324641B/zh active Active
- 2018-07-25 TW TW107125734A patent/TWI815814B/zh active
- 2018-07-30 US US16/048,750 patent/US10545514B2/en active Active
-
2021
- 2021-11-10 JP JP2021183490A patent/JP2022010221A/ja active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008053839A1 (fr) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Mécanisme de diagnostic dans un régulateur de débit massique à pression différentielle |
| JP5395451B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2014-01-22 | サーパス工業株式会社 | 流量コントローラ |
| WO2013179550A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 株式会社フジキン | ビルドダウン方式流量モニタ付流量制御装置 |
| CN103529869B (zh) * | 2012-07-03 | 2017-06-06 | 株式会社堀场Stec | 压力控制装置、流量控制装置、压力控制方法及流量控制方法 |
| TW201602749A (zh) * | 2014-06-20 | 2016-01-16 | 堀場Ｓｔｅｃ股份有限公司 | 中繼器以及流體控制和測量系統 |
| TW201612669A (en) * | 2014-08-01 | 2016-04-01 | Horiba Stec Co | Flow rate control apparatus, storage medium storing program for flow rate control apparatus and flow rate control method |
| TW201642063A (zh) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | Tokyo Electron Ltd | 氣體供給控制方法 |
| TW201702781A (zh) * | 2015-07-10 | 2017-01-16 | 派伏塔系統公司 | 氣流控制方法及裝置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US10545514B2 (en) | 2020-01-28 |
| JP7164938B2 (ja) | 2022-11-02 |
| CN109324641B (zh) | 2023-07-25 |
| JP2019028747A (ja) | 2019-02-21 |
| CN109324641A (zh) | 2019-02-12 |
| TW201910955A (zh) | 2019-03-16 |
| KR20190013490A (ko) | 2019-02-11 |
| KR102483417B1 (ko) | 2022-12-30 |
| US20190033896A1 (en) | 2019-01-31 |
| JP2022010221A (ja) | 2022-01-14 |
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