TWI808638B - 熔融金屬之脫硫方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提出一種對渣金屬間賦予電位差時,在不流入過量電流之情況下於短時間內有效地使熔融金屬脫硫之方法。本發明係一種熔融金屬之脫硫方法,其使用直流電源,將與熔融金屬相接之電極作為負極,將僅與熔渣相接之電極作為正極,經由兩電極而對上述熔渣與上述熔融金屬之間賦予電位差,上述熔融金屬之脫硫方法係根據施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0,以施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea成為目標S濃度[S]
ft以下之方式決定施加電流密度J
a。
Description
本發明係關於一種藉由使填充於鐵水包或魚雷罐等反應容器中之熔融金屬、與添加至熔融金屬上之渣進行反應而去除熔融金屬中之硫之方法。
近年來,隨著鋼材之高級化,對超低硫鋼之出鋼比率增大、及鋼中[S]規格嚴格化之要求日漸提高。因此,要求藉由提高鐵液脫硫技術,以降低處理後到達之硫濃度,或實現脫硫處理之高速化。
脫硫反應係由[S]+(O
2-)=(S
2-)+[O]表示,作為渣-鐵液間之界面反應。此處,[R]表示元素R溶存於鐵液中,(R)表示元素R於渣中之形態。習知以來,到達濃度及直至到達濃度為止所需之處理時間(到達時間)係分別藉由平衡理論及反應動力學而求出的。具體而言,平衡S濃度係根據以下量而求出:由以CaO-SiO
2-Al
2O
3-MgO系為代表之渣之組成所決定之硫化物容量與金屬之氧活度、由溫度求出之S分配比L
s(-)及渣之投入量。又,到達時間係根據與脫硫速度相關之一階反應式:-d[S]/dt=k·(A/V)·([S]-[S]
e)而求出,該式使用總質傳係數k(m/s)、反應面積A(m
2)、鐵液體積V(m
3)、上述平衡S濃度[S]
e(mass%)。
依據該方法,利用以下手段來促進脫硫速度:(1)增加渣中之鹼性氧化物之比例;(2)利用脫氧能力較強之Al來降低鐵液中之氧活度;(3)藉由氣體攪拌來增加總質傳係數k。
然而,於目前之脫硫處理中,渣組成被控制在如硫化物容量變得最高之組成範圍內(手段1)。又,氣體攪拌亦已改善至可容忍下述問題之極限程度,如原料金屬之飛濺、因夾帶大氣而導致之鋼液再氧化、氮吸收等問題(手段3)。鐵液中之氧活度係由Al濃度與溫度唯一決定(手段2)。因此,習知之改善方法難以使脫硫反應速度比以前提高。
相對於此,非專利文獻1記載了若將以脫硫反應為代表之渣金屬反應視為於界面交換電子之電化學反應,則藉由從外部對渣金屬界面施加電流電壓,使得由上述硫化物容量、氧活度、溫度、渣投入量所求出之平衡濃度促使反應進一步進行。
又,專利文獻1提出了一種藉由以鋼液側為負(陰極)、渣側為正(陽極)之方式配置電極,對渣金屬界面施加電壓,而降低平衡氮濃度之方法。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本專利特開平04-9420號公報
[非專利文獻]
非專利文獻1:德田昌則,日本金屬學會報,15(1976)、p379-
非專利文獻2:D. J. Sosinsky et al. :Metall. Trans. B, 17B(1986), p331
非專利文獻3:中村崇等人,日本金屬學會誌,第50卷,第5號(1986),pp456-461
(發明所欲解決之問題)
然而,如上所述,在渣金屬間賦予電位差之習知技術中存在以下問題點。
非專利文獻1中所揭示之技術,對於如何控制施加電流或電壓、或此時所獲得之效果如何,並無具體記載,根據非專利文獻1來控制脫硫反應較為困難。
又,專利文獻1中所揭示之技術為控制電壓之方式(所謂之定電壓控制),因此當鐵液與浸漬於渣側之電極因攪拌所引起之爐浴面變動而接觸時,會對電阻幾乎為0 Ω之鐵液施加數十V之電壓。結果,於電路中流過極大電流。安裝用以容許上述情況之配線或電源容量、斷路器功能等設備保護對策,會成為超出現實之規模。若無法安裝此種裝置,則可能發生設備破損,而無法成為實用之操作手段。另一方面,於欲進行定電流控制時,雖然專利文獻1中記載有電流值,但對於可利用容器截面面積來獲取計算電流密度時所需之面積,還是可利用浸漬於渣或金屬中之電極來獲取,尚不明確。此外,由於各面積資訊亦不明確,故而無法根據專利文獻1之資訊進行定電流控制。
本發明係鑒於此種情況而完成者,其目的在於提供一種當藉由電化學方法使熔融金屬中之S轉移至熔渣中時,在不流入過量電流之情況下有效地提高脫硫速度,並於短時間內有效地對熔融金屬進行脫硫處理之方法。
(解決問題之技術手段)
發明者鑒於該等問題而進行了反覆研究,結果發現,根據流入電路之電流密度,可定量地推定出平衡S濃度[S]
e(mass%)之降低量及總質傳係數k(m/s)之增加量,並基於該見解完成了本發明。
有利於解決上述問題之本發明之熔融金屬之脫硫方法,係使用直流電源,將與熔融金屬相接之電極作為負極,將僅與熔渣相接之電極作為正極,經由兩電極而對上述熔渣與上述熔融金屬之間賦予電位差,上述熔融金屬之脫硫方法之特徵在於:根據施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0,以施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea成為目標S濃度[S]
ft以下之方式決定施加電流密度J
a。
再者,關於本發明之熔融金屬之脫硫方法,認為以下(a)、(b)等可成為更佳之解決手段。
(a)上述熔融金屬為鐵液,於決定上述施加電流密度J
a(A/m
2)時,包括下述程序:程序1,其基於由施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0(mass ppm)所求得之表1中所記載之係數,使用下述式(1)及式(2)來決定A值及B值;及程序2,其根據程序1中所決定之A值與B值,使用下述式(3)來計算施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea(mass ppm),以所算出之平衡到達S濃度[S]
ea成為目標S濃度[S]
ft(mass ppm)以下之方式決定上述施加電流密度J
a;
(b)將上述施加電流密度J
a設為1000 A/m
2以下。
[表1]
(對照先前技術之功效)
No. | [S] e0 | A0 | A1 | A2 | A3 | B0 | B1 | B2 | B3 |
mass ppm | ×10 - 2 | ×10 -4 | ×10 - 7 | ×10 - 10 | ×10 - 1 | ×10 - 4 | ×10 - 7 | ×10 - 11 | |
1 | 超過10 | 6.4408 | 3.6497 | 3.8200 | 1.8218 | 1.1981 | 2.3088 | 1.4831 | 5.2189 |
2 | 超過6且為10以下 | 7.4338 | 3.1714 | 2.9497 | 1.3469 | 1.2493 | 2.1868 | 1.3061 | 4.3146 |
3 | 超過5且為6以下 | 8.1965 | 2.8943 | 2.4923 | 1.1083 | 1.2833 | 2.2380 | 1.5197 | 5.8263 |
4 | 超過4且為5以下 | 10.012 | 2.4337 | 1.8788 | 8.3450 | 1.4139 | 2.0718 | 1.4623 | 6.2218 |
5 | 4以下 | 14.236 | 1.6594 | 0.91710 | 4.0404 | 1.7774 | 1.4833 | 0.79567 | 3.4848 |
根據本發明,可根據渣之條件及目標之S濃度來決定施加電流密度。因此,可在不施加過量電流之情況下降低平衡S濃度。進而,可獲得總質傳係數增加之效果,與習知相比,可以相同之渣體積於更短之時間內有效率地對熔融金屬進行脫硫處理,直至更低濃度。
以下,具體地說明本發明之實施形態。再者,各圖式為示意圖,可能與實際有所不同。又,以下實施形態例示了用於將本發明之技術思想具體化之裝置及方法,並非將其構成特定為下述內容。亦即,本發明之技術思想可於申請專利範圍中所記載之技術範圍內進行各種變更。
圖1(a)係表示適用於本發明之一實施形態之熔融金屬之脫硫方法的裝置之一例之示意圖。圖1(b)係表示同樣適用於熔融金屬之脫硫方法的裝置之另一例之示意圖。熔融金屬可列舉鐵液或銅合金。尤其,使用鐵液作為熔融金屬較為合適。此處,所謂鐵液係指主要包含Fe之已熔融之金屬,其包含熔鐵、已熔融之冷鐵源、鋼液。以下,以鐵液為例對本發明之實施形態進行說明。
圖1(a)之裝置中,將鐵液3填充於內襯有絕緣性耐火物2之鐵水包等容器1中,並於其上添加渣4。將導電性物質5配置於渣4側與鐵液3側(於圖1(a)之例中,位於爐底),經由導線6而與直流穩定化電源7連接。此時,與配置於渣4側之導電性物質5連接之導線6係與直流穩定化電源7之+側(正極)連接。另外,與配置於鐵液3側之導電性物質5連接之導線6係與直流穩定化電源7之-側(負極)連接。於圖1(a)之例中,將鐵液3側之導電性物質5配置於爐底,但亦可配置於爐壁。
如圖1(b)所示,配置於鐵液3側之導電性物質5之一部分可與渣4接觸。於此情形時,需以以下方式配置:自浸漬於渣4側之導電性物質5之先端至渣-鐵液界面為止之最短距離L
1小於渣4內之導電性物質5彼此之表面間之最短距離L
2。
於如圖1(a)或(b)般之裝置構成中,藉由從外部電源7施加電位差,可向渣-鐵液間流入電流。
製鋼時,絕緣性耐火物2多使用Al
2O
3系之煉磚或不定形耐火物。其亦可使用其他不具有導電性之耐火物來代替。
可使用石墨軸或MgO-C系耐火物作為導電性物質5。可用其他物質代替,只要其具有導電性,且於鐵液溫度範圍(1300~1700℃)內不熔融即可。
可於裝置中追加噴槍或底部吹孔,經由此等將氣體吹入至鐵液3中,而對鐵液浴進行攪拌。
其次,對本實施形態之施加電流密度之決定方法進行說明。
首先,於渣4與鐵液3間之脫硫反應中,求出施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0(mass ppm)。其可根據如上所述使用之渣4之硫化物容量與鐵液之氧活度、溫度、以及使用渣4之量來決定。計算方法已藉由論文等而為人所知,對於本領域技術人員而言可容易地計算,因此在此不作詳細說明。例如,可使用非專利文獻3中所提出之氧化物之理論光學鹼度作為非專利文獻2中所提出之硫化物容量式中之渣之理論光學鹼度進行計算。
對於施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0(mass ppm),除了使用硫化物容量之上述計算方法以外,可參照條件相近之以往之操作計算或實績S分配比Ls=(mass%S)/[mass%S],並由此及渣量來求出。此處,(mass%S)表示渣中之S濃度,[mass%S]表示鐵液中之S濃度。又,所謂「條件相近」,可自渣組成或鐵液之成分組成、處理溫度等中進行選擇。
首先,作為決定施加電流密度J
a(A/m
2)之程序1,係參照利用上述手法所求出之施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0(mass ppm)之值,根據以下之情況分類來確定下述通式(1)及(2)之係數。然後,確定決定A值、B值之公式。再者,式中之J
a為施加電流密度(A/m
2),且J
a>0。
1)[S]
e0>10 mass ppm之情形時
2)10 mass ppm≧[S]
e0>6 mass ppm之情形時
3)6 mass ppm≧[S]
e0>5 mass ppm之情形時
4)5 mass ppm≧[S]
e0>4 mass ppm之情形時
5)4 mass ppm≧[S]
e0之情形時
繼而,作為程序2,係根據程序1中所決定之A值、B值,使用下述式(3)來計算施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea(mass ppm)。以施加電流密度J
a(A/m
2)作為橫軸,以平衡到達S濃度[S]
ea(mass ppm)作為縱軸,繪製上述各情況分類之圖,示於圖2。可自圖2求出施加電流密度J
a與當時之平衡到達S濃度[S]
ea。
可使用圖2,針對施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0,而獲得使施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea成為脫硫處理結束時之目標S濃度[S]
ft以下時所需之最低限度之施加電流密度J
a之資訊。再者,較佳為使施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea小於脫硫處理結束時之目標S濃度[S]
ft。
例如,於施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0為8 mass ppm,使處理結束時之目標S濃度[S]
ft成為5 mass ppm時,自使用判別式2)之計算結果來看,可估計施加電流密度J
a約為20 A/m
2以上。
且說,由於脫硫速度如上所述被定義為-d[S]/dt=k·(A/V)·([S]-[S]
e),故而除了降低平衡到達S濃度[S]
e以外,亦可藉由增加總質傳係數k來提高脫硫速度。
將施加電位差時之總質傳係數k
a(m/s)與施加電位差之前之總質傳係數k
0(m/s)進行比較,結果發現總質傳係數之比k
a/k
0(-)如圖3所示對施加電流密度J
a具有依存性。
由圖3可知,當施加電流密度J
a超過1000 A/m
2時,總質傳係數之增加率之斜率較小,因此,若超過1000 A/m
2,則無法期待藉由施加電流密度J
a之增加來使總質傳係數增加之效果。因此,施加電流密度J
a較佳係設為1000 A/m
2以下。
當基於藉由以上方式所獲得之施加電流密度J
a(A/m
2)來計算流入電路之電流量I
a(A)=J
a×A時,較佳為採用容器內所填充之渣與鐵液之接觸面積(m
2)作為面積A。然而,實際上,因對鐵液施加攪拌等而導致在多數情況下並不知曉確切之接觸面積,因此,計算時可採用將容器1內所內襯之絕緣性耐火物2考慮在內之渣-鐵液界面位置處之裝置之內徑截面面積(m
2)。其原因在於,通過導電性物質,渣4自身表現為+極(陽極),鐵液3自身表現為-極(陰極)。發明者已確認,即便使渣4側與鐵液3側各自之導電性物質5之先端部分截面面積之比率發生變化,也不會對到達S濃度或脫硫速度造成影響。
[實施例]
以下,詳細地說明發明之實施例。
使用圖1(a)構成之裝置,將CaO-Al
2O
3二元系渣、CaO-Al
2O
3-MgO三元系渣、或CaO-Al
2O
3-SiO
2-MgO四元系渣添加於1400℃~1650℃之鐵液上。使用導線經由石墨軸將渣連接於外部電源之+極(正極),使用導線經由MgO-C煉磚將鐵液連接於外部電源之-極(負極),使用直流穩定化電源,藉由定電流施加法而向電路流入電流。
調整渣組成、鐵液之氧活度、溫度及渣投入量,以使施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0成為11.0、8.0、5.5、4.5及3.8 mass ppm之5個水準。
施加電流密度J
a(A/m
2)係由上述判別式1)~5)求出A值及B值,藉由上述程序1及2而求出如施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea成為處理結束時之目標S濃度[S]
ft之施加電流密度J
min(A/m
2),以成為a)未達所得值J
min、b)為所得值J
min以上且1000 A/m
2以下、c)大於1000 A/m
2之三種模式之方式設定施加電流密度J
a,從直流穩定化電源流出電流。
所流入之電流係將基於填充有鐵液之部分之上端之裝置截面面積A(m
2)與施加電流密度J
a(A/m
2)之乘積所求得之值作為直流穩定化電源之設定電流值I
a(A),並於脫硫處理時間ta(min)內持續維持該電流。
於填充有鐵液之部分之上端之裝置截面面積A為0.018~18 m
2、鐵液量為6.8 kg~280 t之範圍內進行試驗。將試驗條件及結果示於表2。判定欄中,將到達S濃度[S]
fa為目標S濃度[S]
ft以下之試驗記為「〇」,將到達S濃度[S]
fa大於目標S濃度[S]
ft之試驗記為「×」。表2中亦一併記載了施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea、脫硫之總質傳係數之比k
a/k
0(-)、處理時間ta及脫硫速度-d[S]/dt(mass ppm/min)。此處,處理時間ta係將施加電位差時之平衡到達S濃度[S]
ea及總質傳係數k
a代入至與脫硫反應相關之S濃度[S]之時間變化之線性方程(揭示如上)中,預測S濃度[S]之經時變化,並預測到達S濃度[S]
fa變得小於平衡到達S濃度[S]
ea加上0.5 mass ppm所得之值之時間,將其作為處理時間ta。
[表2]
No. | [S] e0 | [S] ft | J min | J a | [S] fa | [S] ea | 判定 | k a/k 0 | ta | -d[S]/dt | 備註 |
mass ppm | mass ppm | A/m 2 | A/m 2 | mass ppm | mass ppm | - | min | mass ppm/min | |||
1 | 11.0 | 6.4 | 10 | 0 | 11.4 | 11.0 | × | 1 | 80 | 0.61 | 比較例 |
2 | 11.0 | 6.4 | 10 | 5 | 6.6 | 6.2 | × | 1.05 | 73 | 0.71 | 比較例 |
3 | 11.0 | 6.4 | 10 | 10 | 6.3 | 6.0 | 〇 | 1.10 | 66 | 0.81 | 發明例 |
4 | 11.0 | 6.4 | 10 | 60 | 5.2 | 4.8 | 〇 | 1.45 | 49 | 1.12 | 發明例 |
5 | 11.0 | 6.4 | 10 | 100 | 4.4 | 4.3 | 〇 | 1.57 | 44 | 1.27 | 發明例 |
6 | 11.0 | 6.4 | 10 | 600 | 3.9 | 3.2 | 〇 | 1.85 | 36 | 1.54 | 發明例 |
7 | 11.0 | 6.4 | 10 | 1000 | 3.4 | 3.0 | 〇 | 1.87 | 35 | 1.60 | 發明例 |
8 | 11.0 | 6.4 | 10 | 1200 | 3.4 | 2.8 | 〇 | 1.87 | 35 | 1.61 | 發明例 |
9 | 8.0 | 4.4 | 100 | 0 | 8.4 | 8.0 | × | 1 | 80 | 0.65 | 比較例 |
10 | 8.0 | 4.4 | 100 | 90 | 4.6 | 4.2 | × | 1.57 | 48 | 1.14 | 比較例 |
11 | 8.0 | 4.4 | 100 | 100 | 4.4 | 4.1 | 〇 | 1.57 | 46 | 1.21 | 發明例 |
12 | 8.0 | 4.4 | 100 | 300 | 3.9 | 3.4 | 〇 | 1.76 | 40 | 1.40 | 發明例 |
13 | 8.0 | 4.4 | 100 | 1000 | 3.4 | 3.0 | 〇 | 1.87 | 37 | 1.53 | 發明例 |
14 | 8.0 | 4.4 | 100 | 1100 | 3.4 | 2.9 | 〇 | 1.87 | 37 | 1.53 | 發明例 |
15 | 5.5 | 4.4 | 90 | 0 | 5.9 | 5.5 | × | 1 | 80 | 0.68 | 比較例 |
16 | 5.5 | 4.4 | 90 | 80 | 4.6 | 4.1 | × | 1.53 | 51 | 1.08 | 比較例 |
17 | 5.5 | 4.4 | 90 | 100 | 4.4 | 4.0 | 〇 | 1.59 | 48 | 1.16 | 發明例 |
18 | 5.5 | 4.4 | 90 | 500 | 3.7 | 3.2 | 〇 | 1.83 | 41 | 1.39 | 發明例 |
19 | 4.5 | 4.4 | 20 | 0 | 4.9 | 4.5 | × | 1 | 80 | 0.69 | 比較例 |
20 | 4.5 | 4.4 | 20 | 10 | 4.6 | 4.1 | × | 1.10 | 72 | 0.77 | 比較例 |
21 | 4.5 | 4.4 | 20 | 20 | 4.4 | 4.0 | 〇 | 1.20 | 66 | 0.85 | 發明例 |
22 | 4.5 | 4.4 | 20 | 400 | 3.7 | 3.3 | 〇 | 1.81 | 42 | 1.33 | 發明例 |
23 | 3.8 | 3.4 | 500 | 0 | 4.2 | 3.8 | × | 1 | 80 | 0.70 | 比較例 |
24 | 3.8 | 3.4 | 500 | 400 | 3.6 | 3.2 | × | 1.80 | 43 | 1.30 | 比較例 |
25 | 3.8 | 3.4 | 500 | 500 | 3.4 | 3.1 | 〇 | 1.82 | 42 | 1.33 | 發明例 |
26 | 3.8 | 3.4 | 500 | 700 | 3.4 | 3.1 | 〇 | 1.85 | 42 | 1.35 | 發明例 |
27 | 3.8 | 3.4 | 500 | 900 | 3.4 | 3.0 | 〇 | 1.87 | 41 | 1.37 | 發明例 |
關於各水準中不滿足所需最低限度之施加電流密度J
min之試驗(No.2、10、16、20及24),雖然相同處理時間下之到達S濃度[S]
fa低於不流通電流之試驗(No.1、9、15、19及23),但未達目標S濃度[S]
ft。另一方面,使所需最低限度之施加電流密度J
min以上之電流流入之試驗(No.3-8、11-14、17、18、20、21及25-27)中,到達S濃度[S]
fa可降低至目標S濃度[S]
ft以下。
以大於1000 A/m
2之施加電流密度使電流流入之試驗(No.8及14)與以1000 A/m
2之施加電流密度使電流流入之試驗(No.7及13)中,到達S濃度[S]
fa、處理時間ta均未發生變化。由此可知,以超過1000 A/m
2之電流密度使電流流入,至少對到達S濃度、脫硫反應速度並無較大影響。
(產業上之可利用性)
根據本發明,可抑制耗電,並且可降低每相同處理時間下之到達S濃度,可降低生產成本。本發明不限於熔融金屬之脫硫,亦適用於界面處之電化學反應占主導地位之精煉。
1:容器
2:耐火物(絕緣性)
3:鐵液
4:渣
5:導電性物質
6:導線
7:直流穩定化電源
L
1:自浸漬於渣4側之導電性物質5之末端至渣-鐵液界面為止之最短距離
L
2:渣4內之導電性物質5彼此之表面間之最短距離
圖1(a)係表示適用於本發明之方法之裝置之一例的示意圖,圖1(b)係表示適用於本發明之方法之裝置之另一例的示意圖。
圖2係表示施加電位差之前之平衡到達S濃度[S]
e0對施加電流密度J
a與平衡到達S濃度[S]
ea之關係所產生之影響之曲線圖。
圖3係表示渣-鐵液間之S之總質傳係數k與施加電流密度J
a之關係之曲線圖。
1:容器
2:耐火物(絕緣性)
3:鐵液
4:渣
5:導電性物質
6:導線
7:直流穩定化電源
L1:自浸漬於渣4側之導電性物質5之末端至渣-鐵液界面為止之最短距離
L2:渣4內之導電性物質5彼此之表面間之最短距離
Claims (3)
- 一種熔融金屬之脫硫方法,其使用直流電源,將與熔融金屬相接之電極作為負極,將僅與熔渣相接之電極作為正極,經由兩電極而對上述熔渣與上述熔融金屬之間賦予電位差,上述熔融金屬之脫硫方法之特徵在於:根據施加電位差之前之平衡到達S濃度[S] e0,以施加電位差時之平衡到達S濃度[S] ea成為目標S濃度[S] ft以下之方式決定施加電流密度J a。
- 如請求項1之熔融金屬之脫硫方法,其中,上述熔融金屬為鐵液,於決定上述施加電流密度J a(A/m 2)時,包括下述程序: 程序1,其基於由施加電位差之前之平衡到達S濃度[S] e0(mass ppm)所求得之表1中所記載之係數,使用下述式(1)及式(2)來決定A值及B值;及 程序2,其根據程序1中所決定之A值及B值,使用下述式(3)來計算施加電位差時之平衡到達S濃度[S] ea(mass ppm),以所算出之平衡到達S濃度[S] ea成為目標S濃度[S] ft(mass ppm)以下之方式決定上述施加電流密度J a; [表1]
No. [S] e0 A0 A1 A2 A3 B0 B1 B2 B3 mass ppm ×10 - 2 ×10 -4 ×10 - 7 ×10 - 10 ×10 - 1 ×10 -4 ×10 - 7 ×10 - 11 1 超過10 6.4408 3.6497 3.8200 1.8218 1.1981 2.3088 1.4831 5.2189 2 超過6且為10以下 7.4338 3.1714 2.9497 1.3469 1.2493 2.1868 1.3061 4.3146 3 超過5且為6以下 8.1965 2.8943 2.4923 1.1083 1.2833 2.2380 1.5197 5.8263 4 超過4且為5以下 10.012 2.4337 1.8788 8.3450 1.4139 2.0718 1.4623 6.2218 5 4以下 14.236 1.6594 0.91710 4.0404 1.7774 1.4833 0.79567 3.4848 。 - 如請求項2之熔融金屬之脫硫方法,其將上述施加電流密度J a設為1000 A/m 2以下。
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