TWI798886B - 配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件 - Google Patents

配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件 Download PDF

Info

Publication number
TWI798886B
TWI798886B TW110139048A TW110139048A TWI798886B TW I798886 B TWI798886 B TW I798886B TW 110139048 A TW110139048 A TW 110139048A TW 110139048 A TW110139048 A TW 110139048A TW I798886 B TWI798886 B TW I798886B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substituted
unsubstituted
carbon atoms
compound
group
Prior art date
Application number
TW110139048A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202222815A (zh
Inventor
孫善京
喜武 李度亦
安俊炫
李浩勇
Original Assignee
南韓商Lg化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 南韓商Lg化學股份有限公司 filed Critical 南韓商Lg化學股份有限公司
Publication of TW202222815A publication Critical patent/TW202222815A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI798886B publication Critical patent/TWI798886B/zh

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/06Cobalt compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/06Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C07D231/22One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/18One oxygen or sulfur atom
    • C07D231/20One oxygen atom attached in position 3 or 5
    • C07D231/22One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D231/24One oxygen atom attached in position 3 or 5 with aryl radicals attached to ring nitrogen atoms having sulfone or sulfonic acid radicals in the molecule
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/10Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D409/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/10Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F11/00Compounds containing elements of Groups 6 or 16 of the Periodic Table
    • C07F11/005Compounds containing elements of Groups 6 or 16 of the Periodic Table compounds without a metal-carbon linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/06Cobalt compounds
    • C07F15/065Cobalt compounds without a metal-carbon linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/54Quaternary phosphonium compounds
    • C07F9/5407Acyclic saturated phosphonium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • C09B57/10Metal complexes of organic compounds not being dyes in uncomplexed form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/408Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1029Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
    • C09K2211/1033Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1029Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
    • C09K2211/104Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with other heteroatoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1044Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/18Metal complexes
    • C09K2211/187Metal complexes of the iron group metals, i.e. Fe, Co or Ni

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

本揭露是有關於一種配位化合物以及一種包括所述配位 化合物的光吸收劑,以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件。所述配位化合物,包括由An-表示的化合物,其中,A由化學式A表示,且n為1或2。在化學式A中,各取代基的定義與實施方式中所定義的相同。

Description

配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所 述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件
本揭露主張於2020年10月22日向韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2020-0137608號的優先權及權益,所述韓國專利申請案的全部內容併入本案供參考。
本揭露是有關於一種配位化合物以及一種包括所述配位化合物的光吸收劑。
電子元件中所包括的顯示裝置通常使用具有特定波長的光的組合來體現影像,所述具有特定波長的光為紅色(red,R)、綠色(green,G)及藍色(blue,B)。此時,在室內的情形中,由於不存在具有高能量的外部光,因此顯示裝置的可視性(visibility)是合意的。
然而,在室外的情形中,由於例如太陽光等具有高能量 的外部光,在裝置表面、裝置中的電極或類似物上發生強烈的光反射,且顯示器中發射的光量減少,此導致顯著降低顯示器的對比率(contrast ratio)及可視性的問題。
為解決由外部光反射導致的降低顯示器的對比率及可視性的問題,已嘗試藉由設計成在顯示器內部包括吸收外部光的區來降低反射光。舉例而言,有機發光元件(organic light emitting device,OLED)在元件中包括偏振板(polarizing plate),以便減少由外部光導致的反射光。電子元件中所包括的偏振板藉由控制所吸收的外部光的量來改善表面反射、電極反射及影像發射亮度。
然而,在電子元件中使用偏振板來控制外部光的量具有無法靈活調節發射顏色的色調、增加材料成本以及無法靈活設計元件結構的問題。
現有技術文獻
專利文獻
(專利文獻1) 日本專利申請特許公開案第2012-211305號
本揭露提供一種新穎的配位化合物。
本揭露提供一種包括所述配位化合物的光吸收劑。
本揭露提供一種包含所述光吸收劑的黏合膜。
本揭露提供一種包含所述光吸收劑的光學膜。
本揭露提供一種包含所述光吸收劑的電子元件。
本揭露的一個實施例提供一種配位化合物,其中,在由An-表示的化合物中,A由以下化學式A表示,且n為1或2。
Figure 110139048-A0305-02-0005-2
在化學式A中,M是Cr離子或Co離子,X是O或O-C=O,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;或者經取代或未經取代的雜芳基,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的伸芳基;或者經取代或未經取代的伸雜芳基,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基; 硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;經取代或未經取代的苯乙烯基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,並且R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
本揭露的另一實施例提供一種包括所述配位化合物的光吸收劑。
本揭露的又一實施例提供一種包含所述光吸收劑的黏合膜。
本揭露的又一實施例提供一種包含所述光吸收劑的光學膜。
本揭露的又一實施例提供一種包含所述光吸收劑的電子元件。
根據本揭露的一個實施例的配位化合物用作光吸收劑。
根據本揭露的一個實施例的配位化合物或包括所述配位化合物的光吸收劑用於膜中以增強藍色亮度透射率(blue luminance transmittance)。
根據本揭露的一個實施例的配位化合物或包括所述配位化合物的光吸收劑會改善反射顏色。
1:基底
2:黏合膜
3:黏結劑樹脂膜
10:光學膜
圖1示出根據本揭露的一個實施例的黏合膜。
圖2示出根據本揭露的一個實施例的光學膜。
在下文中,將更詳細地闡述本揭露。
在本揭露中,對特定部分「包含」特定成分的說明意指能夠更包含其他成分,且除非特別相反地陳述,否則不排除其他成分。
在本揭露中,對特定構件(層)放置於另一構件(層)「上」的說明不僅包括所述特定構件(層)與所述另一構件接觸的情形,而且包括在所述兩個構件(層)之間存在又一構件(層)的情形。
在本揭露中,「層」具有與此項技術中主要使用的「膜」 相容的含義,且意指覆蓋目標區域的塗層。「層」的大小不受限制,且每一「層」可具有相同或不同的大小。根據一個實施例,「層」的大小可與整個元件相同,可對應於特定功能區域的大小,或者可小至單一子畫素。
除非本揭露中另有定義,否則本揭露中所使用的所有技術用語及科學用語具有與熟習此項技術者所通常理解的用語相同的含義。儘管與本揭露中所闡述的方法及材料相似或等效的方法及材料可用於實施或實驗本揭露的實施例,然而適合的方法及材料將在稍後闡述。本揭露中所提及的所有出版物、專利申請案、專利及其他參考文獻作為整體併入本揭露中供參考,且當衝突時,除非提及具體的章節,否則包括定義的本揭露具有優先權。此外,材料、方法及實例僅用於例示目的,且並不限制本揭露。
本揭露的一個實施例提供一種配位化合物,其中,在由An-表示的化合物中,A由以下化學式A表示,且n為1或2。
[化學式A]
Figure 110139048-A0305-02-0009-3
在化學式A中,M是Cr離子或Co離子,X是O或O-C=O,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;或者經取代或未經取代的雜芳基,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的伸芳基;或者經取代或未經取代的伸雜芳基,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經 取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;經取代或未經取代的苯乙烯基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,並且R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
有機發光元件(OLED)面板一般具有高反射率,此歸因於其包括反射電極作為基本構造的特性。降低OLED面板的反射率的一種方式是在光學膜中使用吸收可見光的光吸收劑。根據本揭露的配位化合物吸收可見光並用作光吸收劑。另外,在膜中使用包含根據本揭露的配位化合物的光吸收劑,以達成增強藍色亮度透射率或改善反射顏色的優點。
具體而言,當在OLED中使用根據本揭露的一個實施例的上述配位化合物或上述光吸收劑時,可在不使用圓偏振板的情況下高效地抑制外部光反射。不在OLED中使用圓偏振板具有節省材料成本及恰當維持OLED的靈活性的優點。
另外,藉由包括亞胺鍵(C=N)而非偶氮鍵(N=N)的由化學式A表示的結構,存在於450奈米或大於450奈米的區中的最大吸收波長可被縮短,且被調節成具有在380奈米與450奈米之間的目標最大吸收波長。
當由化學式A表示的結構的M鍵合至N及O而非鍵合至X的O或O-C=O時,且特別是當M是Co離子時,在320奈米至340奈米的短波長區中體現出最大吸收波長,且當M是Cu離子時,在具有非常寬的形狀的500奈米至560奈米之間體現出最大吸收波長,且作為藍色截止染料(blue-cut dye)的實際效果不顯著。
在本揭露中,「錯合物」亦稱為配位化合物或錯合物化合物,且意指藉由配位子孤對電子與具有諸多空軌道的中心金屬離子的配位鍵合而形成的化合物。
本揭露中的取代基的實例闡述如下,然而,所述取代基不限於此。
在本揭露中,用語「取代」意指與被改變為另一取代基的化合物的碳原子鍵合的氫原子,且取代位置不受限制,只要其是氫原子被取代的位置,即取代基能夠進行取代的位置即可,且當二或更多個取代基進行取代時,所述二或更多個取代基可彼此相同或不同。
在本揭露中,用語「經取代或未經取代的」意指經選自由氘;鹵素基;腈基(-CN);硝基(-NO2);羥基;-COOH;醯亞胺基;醯胺基;烷基硫氧基;芳基硫氧基;烷基磺酸氧基;芳基磺酸氧基;烯基;矽烷基;硼基;芳基膦基;氧化膦基;烷氧基;芳氧基;-CO2R;-COR;-OCOR;-SO2R;烷基;環烷基;芳基;雜環基;胺基;苯乙烯基;以及雜芳基組成的群組的一個、兩個或更 多個取代基取代,或者經連結以上所示取代基之中的二或更多個取代基的取代基取代,或者不具有取代基。在本文中,R是氫;烷基;環烷基;芳基;或者雜芳基。
取代基的實例闡述如下,然而,所述取代基不限於此。
在本揭露中,「氘」指代氫的穩定同位素,其所具有的質量為最常見同位素的質量的近似兩倍,即質量為近似2個原子質量單位。
在本揭露中,鹵素基的實例可包括氟、氯、溴或碘。
在本揭露中,烷基可為直鏈或支鏈的,且儘管並無特別限制,然而碳原子的數目較佳為1至30;1至20;1至10;或者1至5。其具體實例可包括甲基、乙基、丙基、正丙基、異丙基、丁基、正丁基、異丁基、第三丁基、第二丁基、1-甲基丁基、1-乙基丁基、戊基、正戊基、異戊基、新戊基、第三戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、環戊基甲基、環己基甲基、辛基、正辛基、第三辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基丙基、1,1-二甲基丙基、異己基、4-甲基己基、5-甲基己基及類似物,但不限於此。作為參考,在本揭露中,丙基包括異丙基。另外,在本揭露中,丁基包括第三丁基。
在本揭露中,除伸烷基是二價基團以外,以上提供的關於烷基的說明應用於伸烷基。
在本揭露中,環烷基並無特別限制,且儘管並不特別限 於此,然而碳原子的數目較佳為3至60;3至30;或者3至20。環烷基的具體實例可包括環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,除伸環烷基是二價基團以外,以上提供的關於環烷基的說明應用於伸環烷基。
在本揭露中,芳基意指單價芳族烴或芳族烴衍生物的單價基團。在本揭露中,芳族烴意指包括其中π電子完全共軛的平面環(planar ring)的化合物,且衍生自芳族烴的基團意指其中芳族烴或環狀脂族烴與芳族烴稠合的結構。另外,在本揭露中,芳基包括其中二或更多種芳族烴或芳族烴衍生物彼此連結的單價基團。芳基並無特別限制,但較佳具有6至60;6至50;6至30;6至25;6至20;6至18;6至15;6至13;或者6至12個碳原子,且可為單環芳基或多環芳基。
單環芳基並無特別限制,但較佳具有6至60;6至54;6至48;6至42;6至36;6至30;6至24;6至18;或者6至12個碳原子。其具體實例可包括苯基、聯苯基、三聯苯基及類似物,但不限於此。
多環芳基並無特別限制,但較佳具有6至60個碳原子;6至45個碳原子;6至30個碳原子;6至25;6至22;6至20;6至18;6至16;6至15;6至14;6至13;6至12;或者6至10個碳原子。其實例可包括萘基、蒽基、菲基、芘基、苝基、三伸苯基、
Figure 110139048-A0305-02-0013-138
基、芴基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,雜芳基意指單價芳族雜環。在本文中,芳族雜環意指芳族環或芳族環衍生物的單價基團,且意指包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一或多者作為雜原子的基團。芳族環衍生物包括其中芳族環或脂族環與芳族環稠合的所有結構。另外,在本揭露中,雜芳基包括其中包括雜原子的二或更多個芳族環或包括雜原子的芳族環衍生物彼此連結的單價基團。雜芳基較佳具有2至60;2至50;2至30;2至20;2至18;或者2至13個碳原子。雜芳基的實例可包括噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、噁唑基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基、三唑基、吖啶基、噠嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹噁啉基、異喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯並噁唑基、苯並咪唑基、苯並噻唑基、苯並咔唑基、苯並噻吩基、二苯並噻吩基、苯並呋喃基、啡啉基、二苯並呋喃基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,雜芳基可為單環或多環的,且可為芳族的、脂族的或者芳族與脂族的稠環。
在本揭露中,雜環基是脂族環或脂族環衍生物的單價基團,且意指包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一或多者作為雜原子的基團。
在本揭露中,脂族環是並非芳族或脂族雜環的烴環,且作為烴環的實例,可包括上述環烷基的實例,且作為脂族雜環的實例,可包括嗎啉,然而,烴環及脂族雜環不限於此。
在本揭露中,關於芳基或雜芳基的說明可應用於芳族環。
在本揭露中,醯亞胺基意指為-C(O)NRxC(O)Ry的結構。具體而言,Rx及Ry可各自獨立地是氫,或者是如本揭露中所定義的經取代或未經取代的烷基、環烷基、烯基、雜環基、芳基或雜芳基。具體而言,醯亞胺基的碳原子的數目並無特別限制,但較佳為1至25。
在本揭露中,醯胺基可由-CONRoRp表示,且作為Ro及Rp,各自獨立地應用以上提供的關於氫;烷基;環烷基;芳基;或者雜芳基的說明。
在本揭露中,烷基硫氧基可由-ORs1表示,且以上提供的關於烷基的說明可應用於Rs1。
在本揭露中,芳基硫氧基可由-ORs2表示,且以上提供的關於芳基的說明可應用於Rs2。
在本揭露中,烷氧基可由-ORx表示,且以上提供的關於烷基的說明可應用於Rx。
在本揭露中,芳氧基可由-ORy表示,且以上提供的關於芳基的說明可應用於Ry。
在本揭露中,烷基磺酸氧基可由-SORs3表示,且以上提供的關於烷基的說明可應用於Rs3。
在本揭露中,芳基磺酸氧基可由-SORs4表示,且以上提供的關於芳基的說明可應用於Rs3。
在本揭露中,烯基指代包括一或多個雙鍵的直鏈或支鏈型不飽和烴。具體而言,烯基可為直鏈或支鏈的,且儘管並無特別 限制,然而碳原子的數目較佳為2至40。根據一個實施例,烯基的碳原子的數目為2至20。根據另一實施例,烯基的碳原子的數目為2至10。根據另一實施例,烯基的碳原子的數目為2至6。其具體實例可包括乙烯基、1-丙烯基、異丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯基-1-基、2-苯基乙烯基-1-基、2,2-二苯基乙烯基-1-基、2-苯基-2-(萘基-1-基)乙烯基-1-基、2,2-雙(二苯基-1-基)乙烯基-1-基、二苯乙烯基、苯乙烯基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,矽烷基可由-Si(Ri)3表示,且作為Ri,可應用以上提供的關於烷基;烯基;或者芳基的說明。其實例可包括三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、乙烯基二甲基矽烷基、丙基二甲基矽烷基、三苯基矽烷基、二苯基矽烷基、苯基矽烷基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,硼基可由-B(Rb)3表示,且作為Rb,可應用以上提供的關於烷基或芳基的說明。其具體實例可包括三甲基硼基、三乙基硼基、第三丁基二甲基硼基、三苯基硼基、苯基硼基及類似物,但不限於此。
在本揭露中,芳基膦基意指為-PRaRbRc的結構。Ra、Rb及Rc可各自獨立地是氫,或者是如本揭露中所定義的烷基、環烷基、烯基、雜環基、芳基或雜芳基。
在本揭露中,氧化膦基意指為-P(=0)RaRbRc的結構。具 體而言,Ra、Rb及Rc可各自獨立地是氫,或者是如本揭露中所定義的烷基、環烷基、烯基、雜環基、芳基或雜芳基。
在本揭露中,胺基意指為-N(Rn)2的結構。Rn可為氫;烷基;環烷基;芳基;或者雜芳基,且作為烷基、環烷基、芳基及雜芳基,可應用以上在本揭露中提供的說明。
在本揭露中,苯乙烯基意指苯乙烯(CHCH=CH2)的任意一或多個氫用作鍵合位置。
在本揭露中,「相鄰基團」可意指取代與被對應取代基取代的原子直接連結的原子的取代基、空間位置最靠近對應取代基的取代基、或者取代被對應取代基取代的原子的另一取代基。舉例而言,取代苯環鄰位的兩個取代基以及取代脂族環中相同碳的兩個取代基可解釋為彼此「相鄰」的基團。
在本揭露中,「彼此鍵合以形成芳族環的相鄰取代基」可意指彼此鍵合以形成上述芳基或雜芳基的相鄰取代基。
在本揭露中,「彼此鍵合以形成脂族環的相鄰取代基」可意指彼此鍵合以形成上述環烷基或雜環基的兩個相鄰取代基。
在本揭露的一個實施例中,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基;或者經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基;或者經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基;或者經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的苯基。
在本揭露的一個實施例中,Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是未經取代或經硝基、腈基、磺酸基、-COOH、氯、氟、甲基、三氟甲基、乙基、異丙基、第三丁基、甲氧基、乙氧基、-OCF3、-COOCH2CH3、-COOCH3、環己基、苯基、經正丙基取代的苯基、吡啶基或噻唑基取代的苯基。
在本揭露的一個實施例中,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的伸芳基;或者經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的伸雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的伸芳基;或者經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的伸雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的伸芳基;或者經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的伸雜芳基。
在本揭露的一個實施例中,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的伸苯基;或者經取代或未經取代的二價吡啶基。
在本揭露的一個實施例中,Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經氟、氯、溴、硝基、腈基、磺酸基、甲基、三氟甲基、第三丁基、甲氧基、環己基、苯基、經甲基取代的苯基、經甲氧基取代的苯基、噻吩基、吡啶基、-COCH3、-COOCH3或-SO2CH3的伸苯基;具有彼此鍵合以形成苯環的相鄰取代基的伸苯基;未經取代的伸苯基;或者未經取代的二價吡啶基。
在本揭露的一個實施例中,M是Co2+;Co3+;Cr2+;或者Cr3+
在本揭露的一個實施例中,M是Co2+
在本揭露的一個實施例中,M是Co3+
在本揭露的一個實施例中,M是Cr2+
在本揭露的一個實施例中,M是Cr3+
在本揭露的一個實施例中,X是O。
在本揭露的一個實施例中,X是O-C=O。
在本揭露的一個實施例中,當X是O-C=O時,基於化學式A中的M,鍵合以M-O-(C=O)-Ar1或M-O-(C=O)-Ar2的次序發生。
根據本揭露的一個實施例,化學式A由以下化學式A-1表示。
Figure 110139048-A0305-02-0020-4
在化學式A-1中,M、X、R6及R16具有與化學式A中相同的定義,R1至R5、R7至R15及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代 的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環或者經取代或未經取代的脂族環,並且R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜環基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基硫氧基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基硫氧基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基磺酸氧基;經取代或 未經取代的具有2至30個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的矽烷基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的硼基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基膦基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的脂族環,且R100至R106彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜環基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基硫氧基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基硫氧基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基磺酸氧基;經取代或 未經取代的具有2至20個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的矽烷基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的硼基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基膦基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的脂族環,且R100至R107彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜環基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基硫氧基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基硫氧基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基磺酸氧基;經取代或 未經取代的具有2至10個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的矽烷基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的硼基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基膦基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的脂族環,且R100至R106彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2 至30個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳族環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳族環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳族 環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;氯;氟;溴;經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;經取代或未經取代的丙基;經取代或未經取代的丁基;經取代或未經取代的環己基;經取代或未經取代的乙烯基;經取代或未經取代的苯基;經取代或未經取代的聯苯基;經取代或未經取代的苯並噁唑基;經取代或未經取代的吡啶基;經取代或未經取代的噻吩基;經取代或未經取代的呋喃基;經取代或未經取代的噻唑基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的苯環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;氯;氟;溴;甲基;三氟甲基;乙基;異丙基;第三丁基;環己基;經被硝基、異丙基或第三丁基取代的苯基取代的乙烯基;經硝基、腈基、-COOH、氟、甲氧基、-OCF3、-COOCH2CH3、甲基、正丙基、環己基或吡啶基取代的苯基;聯苯基;苯並噁唑基;吡啶基;噻吩基;呋喃基;噻唑基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成苯環。
在本揭露的一個實施例中,R1至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氯;氟;硝基;甲基;三氟甲基;異丙基;第三丁基;苯基;-OR100;-CO2R101;或者-SO2R106,或者相鄰的取代 基彼此鍵合以形成苯環。
在本揭露的一個實施例中,R8與R9、R19與R18、R9與R10或者R19與R20各自彼此鍵合以形成經取代或未經取代的苯環。
在本揭露的一個實施例中,R8與R9、R19與R18、R9與R10或者R19與R20各自彼此鍵合以形成苯環。
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的烷基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;或者-NH2
在本揭露的一個實施例中,R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是甲基;氟甲基;乙基;或者-NH2
在本揭露的一個實施例中,R100是甲基;三氟甲基;或者乙基。
在本揭露的一個實施例中,R101是甲基;或者乙基。
在本揭露的一個實施例中,R102是甲基。
在本揭露的一個實施例中,R106是甲基;或者-NH2
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環或者經取代或未經取代的脂族環,且R100至R106彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;-COOH; 經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;未經取代或經烷基取代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;-COOH;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;未經取代或經烷基取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;-COOH;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;未經取代或經烷基取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;腈基;硝基;-COOH;經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;經取代或未經取代的丙基;經取代或未經取代的第三丁基;經取代或未經取代的環己基;經取代或未經取代的苯基;經取代或未經取代的吡啶基;經取代或未經取代的噻唑基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;或者經取代或未經取代的乙基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;腈基;硝基;-COOH;未經取代或經鹵素基取代的甲基;乙基;丙基;第三丁基;環己基;未經取代或經烷基取代的苯基;吡啶基;噻唑基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是未經取代或經鹵素基取代的甲基;或者乙基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;腈基;硝基;-COOH;未經取代或經氯基取代的甲基;乙基;丙基;第三丁基;環己基;未經取代或經丙基取代的苯基;吡啶基;噻唑基;-OR100;或者-CO2R101,且R100與R101彼此相同或不同且各自獨立地是未經取代或經氯基取代的甲基;或者乙基。
根據本揭露的一個實施例,R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;腈基;硝基;- COOH;未經取代或經氯基取代的甲基;乙基;異丙基;第三丁基;環己基;未經取代或經丙基取代的苯基;吡啶基;噻唑基;-OCH3;-OCF3;-OC2H5;-CO2CH3;或者-CO2C2H5
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環或者經取代或未經取代的脂族環,且R100至R106彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基;未經取代或經-OR100或烷基取 代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環,R100、R101及R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基,且R106是經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;或者-NH2
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基;未經取代或經-OR100或烷基取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環,R100、R101及R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基,且R106是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;或者-NH2
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;未經取代或經-OR100或烷基取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106, 或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環,R100、R101及R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基,且R106是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者-NH2
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;溴基;腈基;硝基;經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的丙基;經取代或未經取代的第三丁基;經取代或未經取代的環己基;經取代或未經取代的苯基;經取代或未經取代的噻吩基;經取代或未經取代的吡啶基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的苯環,R100、R101及R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;或者經取代或未經取代的乙基,且R106是經取代或未經取代的甲基;或者-NH2
根據本揭露的一個實施例,R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;氟基;氯基;溴基;腈基;硝基;未經取代或經氟基取代的甲基;異丙基;第三丁基;環己基;未經取代或經-OCH3或烷基取代的苯基;噻吩基;吡啶基;-OCH3;-CO2CH3;-CO2C2H5;-SO2CH3或者-SO2NH2,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成苯環。
根據本揭露的一個實施例,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯 亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;經取代或未經取代的苯乙烯基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,且R100至R106彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同, 且各自獨立地是腈基;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至20個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的烯基;經取代或未經取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;經取代或未經取代的丙基;經取代或未經取代的乙烯基;經取代或未經取代的苯基;經取代或未經取代的吡啶基;經取代或未經取代的苯並噁唑基;-OR100;或者-CO2R101
根據本揭露的一個實施例,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;未經取代或經氟基取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;經取代或未經取代的異丙基;未經取代或經選自由鹵素基、腈基、硝基、-COOH、烷基、-OR100及-CO2R101組成的群組的一或多個取代基取代的苯基;經取代或未經取代的苯並噁唑基;經取代或未經取代的吡啶基;未經取代或經烷基或硝基取代的苯乙烯基;-OR100;或者-CO2R101,且R101與R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;或者經取代或未經取 代的乙基。
在本揭露的一個實施例中,R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;甲基;乙基;異丙基;經被硝基、異丙基或第三丁基取代的苯基取代的乙烯基;未經取代或經硝基、氟、腈基、-COOH、甲基、甲氧基、-OCF3或-COOCH2CH3取代的苯基;吡啶基;苯並噁唑基;-OR100;或者-CO2R101,且R101與R102彼此相同或不同且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;或者經取代或未經取代的乙基。
在本揭露的一個實施例中,化學式A是選自由以下材料組成的群組的任一者。
Figure 110139048-A0305-02-0036-5
Figure 110139048-A0305-02-0037-6
Figure 110139048-A0305-02-0038-7
Figure 110139048-A0305-02-0039-8
Figure 110139048-A0305-02-0040-9
Figure 110139048-A0305-02-0041-10
Figure 110139048-A0305-02-0042-11
在所述材料中,Me意指甲基,且Et意指乙基。
根據本揭露的一個實施例,配位化合物更包含(B+)m。
根據本揭露的一個實施例,B+是H+;Na+;K+;P+ReRfRgRh;N+RiRjRkRl;S+RmRnRo;或者陽離子雜環,且Re至Ro彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;或者經取代或未經取代的環烷基。
根據本揭露的一個實施例,陽離子雜環是選自由以下結構式B1至結構式B4組成的群組的任一者。
[結構式B1]
Figure 110139048-A0305-02-0043-12
Figure 110139048-A0305-02-0043-13
Figure 110139048-A0305-02-0043-14
Figure 110139048-A0305-02-0043-15
在結構式B1至結構式B4中,RB11與RB12彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有4至30個碳原子的雜環,且RB13與RB14彼此相同或不同且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,RB21與RB22彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至30 個碳原子的雜環,且RB23至RB25彼此相同或不同且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,RB31與RB32彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜環,且RB33至RB35彼此相同或不同且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,並且RB41是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,RB42是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,且n42是1至8的整數。
根據本揭露的另一實施例,B+是H+;Na+;K+;鏻陽離子;銨陽離子;鋶陽離子;或者陽離子雜環,且m是為1或2的整數。
在本揭露的另一實施例中,B是鹼金屬;NR4或者PR'4,且R與R'彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的脂族環。
在本揭露的一個實施例中,B是氫。
在本揭露的一個實施例中,B是鹼金屬。
鹼金屬意指週期表的第1族中除氫以外的化學元素,且其實例可包括鋰、鈉、鉀、銣、銫或鈁。
在本揭露的一個實施例中,B是Na或K。
在本揭露的一個實施例中,B是NR4
在本揭露的一個實施例中,B是PR'4
在本揭露的一個實施例中,R與R'彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至30個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至30個碳原子的芳族雜環或者經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的脂族雜環。
在本揭露的一個實施例中,R與R'彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至20個碳原子的芳族雜環或者經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的脂族雜環。
在本揭露的一個實施例中,R與R'彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有6至12 個碳原子的芳族雜環或者經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的脂族雜環。
在本揭露的一個實施例中,B是NR4或者BR'4,且R與R'彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的脂族環。
在本揭露的一個實施例中,B是鹼金屬;NR4或者PR'4,且R與R'彼此相同或不同且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基,或者二或更多個R彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的芳族環或者經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的脂族環。
在本揭露的一個實施例中,R是氫;經取代或未經取代的丁基;經取代或未經取代的己基;經取代或未經取代的癸基;經取代或未經取代的十二烷基;或者經取代或未經取代的環己基,或者彼此鍵合以形成由以下化學式N-1表示的化合物;或者由以下化學式N-2表示的化合物。
[化學式N-1]
Figure 110139048-A0305-02-0047-16
Figure 110139048-A0305-02-0047-17
在化學式N-1及化學式N-2中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;或者經取代或未經取代的烷基。
在本揭露的一個實施例中,R是氫;正丁基;正己基;經乙基取代的己基;正癸基;正十二烷基;或者環己基,或者彼此鍵合以形成由化學式N-1表示的化合物;或者由化學式N-2表示的化合物。
在本揭露的一個實施例中,R是氫;正丁基;正己基;或者經乙基取代的己基,或者彼此鍵合以形成由化學式N-1表示的化合物;或者由化學式N-2表示的化合物。
經乙基取代的己基可為2-乙基己基。
在本揭露的一個實施例中,R'是經取代或未經取代的丁基。
在本揭露的一個實施例中,R'是正丁基。
在本揭露的一個實施例中,B是NR4,NR4是NH4;NHR"3;NH2R"2;NR"4;由以下化學式N-1表示的化合物;或者由以下化學式N-2表示的化合物,且R"是經取代或未經取代的具有1至20個碳原子的烷基;或者經取代或未經取代的具有3至20個碳原子的環烷基。
Figure 110139048-A0305-02-0048-19
Figure 110139048-A0305-02-0048-18
在化學式N-1及化學式N-2中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;或者經取代或未經取代的烷基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;或者經取代或未經取代的具有1至30個碳原子的烷基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;或者經取代或未經取代的具有1至20個碳原 子的烷基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;或者經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;或者經取代或未經取代的丁基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1至Rn4彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;甲基;乙基;或者正丁基。
在本揭露的一個實施例中,Rn1是正丁基。
在本揭露的一個實施例中,Rn2是甲基。
在本揭露的一個實施例中,Rn3及Rn4是氫;或者乙基。
根據本揭露的一個實施例,更包含(B+)m的化合物是選自由以下化合物組成的群組的任一者。
Figure 110139048-A0305-02-0050-20
Figure 110139048-A0305-02-0051-21
Figure 110139048-A0305-02-0052-22
Figure 110139048-A0305-02-0053-23
Figure 110139048-A0305-02-0054-24
Figure 110139048-A0305-02-0055-25
Figure 110139048-A0305-02-0056-26
Figure 110139048-A0305-02-0057-27
Figure 110139048-A0305-02-0058-28
根據本揭露的一個實施例,上述配位化合物用作光吸收劑。
本揭露的另一實施例提供一種包括上述配位化合物的光吸收劑。
根據本揭露的一個實施例,所述光吸收劑可更包括溶劑。
作為溶劑,可使用與本揭露相關的技術中已知能夠自上述配位化合物形成光吸收劑的材料,而無特別限制。舉例而言,所述溶劑可為選自由酯、醚、酮、芳族烴及亞碸組成的群組的一或多種類型的化合物。
酯系溶劑的實例可包括乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、ε-己內酯、δ-戊內酯、氧乙酸烷基酯(實例:氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯(例如,甲氧乙酸甲酯、甲氧乙酸乙酯、甲氧乙酸丁酯、乙氧乙酸甲酯、甲氧乙酸乙酯或類似物))、3-氧丙酸烷基酯(實例: 3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯或類似物(例如,3-甲氧丙酸甲酯、3-甲氧丙酸乙酯、3-乙氧丙酸甲酯、3-乙氧丙酸乙酯或類似物))、2-氧丙酸烷基酯(實例:2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯或類似物(例如,2-甲氧丙酸甲酯、2-甲氧丙酸乙酯、2-甲氧丙酸丙酯、2-乙氧丙酸甲酯、2-乙氧丙酸乙酯))、2-氧-2-甲基丙酸甲酯及2-氧-2-甲基丙酸乙酯(例如,2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯或類似物)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯丙酸甲酯、乙醯丙酸乙酯、2-氧丁酸甲酯(methyl 2-oxobutanoate)、2-氧丁酸2-乙酯及類似物。
醚系溶劑的實例可包括二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙酸甲酯賽路蘇、乙酸乙酯賽路蘇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯及類似物。
酮系溶劑的實例可包括甲基乙基酮(methyl ethyl ketone,MEK)、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮、N-甲基-2-吡咯啶酮及類似物。
芳族烴系溶劑的實例可包括甲苯、二甲苯、苯甲醚、檸檬烯及類似物。
亞碸系溶劑的實例可包括二甲基亞碸及類似物。
所述溶劑如以上所例示,然而,所述溶劑不限於以上所例示的溶劑,且可使用能夠溶解或分散本揭露的由化學式A表示 的配位化合物的任何溶劑。另外,所述溶劑可作為一種類型單獨使用,或者作為二或更多種類型的溶劑的混合物使用。
根據本揭露的一個實施例,由化學式A表示的配位化合物具有有機金屬錯合物結構,且採用所述配位化合物的光吸收劑具有增強藍色亮度透射率或改善反射顏色的優點。
根據本揭露的一個實施例,光吸收劑可吸收選自350奈米至450奈米且更佳地選自380奈米至450奈米之中的波長的至少部分,然而,所述波長不限於此。
本揭露的一個實施例提供一種包含上述配位化合物的黏合劑組成物。作為一個實例,所述黏合劑組成物是上述光吸收劑。作為另一實例,所述黏合劑組成物包含上述光吸收劑及其他添加劑。
本揭露的一個實施例提供一種黏合劑組成物,所述黏合劑組成物包含選自由黏結劑樹脂、交聯劑、偶聯劑、抗氧化劑、抗靜電劑、光穩定劑及觸媒組成的群組的至少一者。
根據本揭露的一個實施例,交聯劑引發鹼可溶性聚醯亞胺(polyimide,PI)樹脂或其他添加劑組分之間的交聯反應,以增加所生產膜的耐熱性及耐化學性。在本文中,包含例如丙烯酸基或異氰酸酯基等官能基的化合物可用作交聯劑。另外,交聯劑可為例如熱交聯劑,且作為此種熱交聯劑,可使用包含例如羥甲基或環氧基等熱反應性官能基的化合物。作為具體實例,可使用此項技術中一般使用的交聯劑,例如DML-PC、DML-PEP、DML-OC、DML- OEP、DML-34X、DML-PTBP、DML-PCHP、DML-OCHP、DML-PFP、DML-PSBP、DML-POP、DML-MBOC、DML-MBPC、DML-MTrisPC、DML-BisOC-Z、DML-BisOCHP-Z、DML-BPC、DML-BisOC-P、DMOM-PC、DMOM-PTBP、DMOM-MBPC、TriML-P、TriML-35XL、TML-HQ、TML-BP、TML-pp-BPF、TML-BPE、TML-BPA、TML-BPAF、TML-BPAP、TMOM-BP、TMOM-BPE、TMOM-BPA、TMOM-BPAF、TMOM-BPAP、HML-TPPHBA、HML-TPHAP、HMOM-TPPHBA、HMOM-TPHAP(以上為商品名,由本州化學工業有限公司(Honshu Chemical Industry Co.,Ltd.)製造)、「尼卡萊克(NIKALAC)」(註冊商標)MX-290、「尼卡萊克」(註冊商標)MX-280、「尼卡萊克」(註冊商標)MX-270、「尼卡萊克」(註冊商標)MX-279、「尼卡萊克」(註冊商標)MW-100LM、「尼卡萊克」(註冊商標)MX-750LM(以上為商品名,由三和化學有限公司(Sanwa Chemical Co.,Ltd.)製造)及T39M(索肯化學及工程有限公司(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.))。
根據本揭露的一個實施例,偶聯劑可為矽烷系偶聯劑,但不限於此,且可恰當地採用此項技術中已知的偶聯劑。
根據本揭露的一個實施例,抗氧化劑可起到防止在聚合物膜形成期間產生自由基的鏈式反應的作用。在本文中,作為抗氧化劑,可包括酚系抗氧化劑或類似物,且可使用作為此項技術中一般使用的抗氧化劑的2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基酚)、2,6-二第三丁基酚或類似物,然而,抗氧化劑不限於此。根據本揭露的較佳 實施例,吉諾克斯(Kinox)-80(漢農化學公司(Hannong Chemicals Inc.))可用作抗氧化劑,然而,抗氧化劑不限於此。
根據本揭露的一個實施例,抗靜電劑包含於黏合劑組成物中以起到提供抗靜電效能的作用,且可使用所有已知的抗靜電劑。抗靜電劑的實例可包括離子化合物。離子化合物的實例可包括金屬鹽或有機鹽。金屬鹽離子化合物的實例可包括鹼金屬陽離子或鹼土金屬陽離子。陽離子的實例可包括鋰離子(Li+)、鈉離子(Na+)、鉀離子(K+)、銣離子(Rb+)、銫離子(Cs+)、鈹離子(Be2+)、鎂離子(Mg2+)、鈣離子(Ca2+)、鍶離子(Sr2+)及鋇離子(Ba2+)中的一種、兩種或更多種類型,且舉例而言,可使用鋰離子、鈉離子、鉀離子、鎂離子、鈣離子及鋇離子中的一或多種類型,或者慮及離子穩定性及遷移率,可使用鋰離子。金屬鹽中所包括的陰離子的實例可包括PF6 -、AsF-、NO2 -、氟化物(F-)、氯化物(Cl-)、溴化物(Br-)、碘化物(I-)、高氯酸鹽(ClO4 -)、氫氧化物(OH-)、碳酸鹽(CO3 2-)、硝酸鹽(NO3 -)、三氟甲磺酸酯(CF3SO3 -)、磺酸鹽(SO4 -)、六氟磷酸鹽(PF6 -)、甲苯磺酸酯(CH3(C6H4)SO3 -)、對甲苯磺酸酯(CH3C6H4SO3 -)、四硼酸酯(B4O7 2-)、羧基苯磺酸酯(COOH(C6H4)SO3 -)、三氟甲磺酸酯(CF3SO2 -)、苯甲酸酯(C6H5COO-)、乙酸酯(CH3COO-)、三氟乙酸酯(CF3COO-)、四氟硼酸酯(BF4 -)、四苄基硼酸酯(B(C6H5)4 -)、三五氟乙基三氟磷酸酯(P(C2F5)3F3 -)或類似物。根據本揭露的較佳的一個實施例,FC-4400(3M公司(3M Corporation))可用作抗靜電劑,然而, 所述抗靜電劑不限於此。
根據本揭露的一個實施例,光穩定劑是如下一種材料,且可使用已知的光穩定劑:即使當在高溫條件下黏合劑無人看管時亦不會集塊,且藉此藉由防止鍵合位點被熱量分解並產生自由基的問題來顯著改善黏合劑組成物的儲存穩定性,而不會引起使下文欲闡述的抗靜電劑在集塊團簇中的濃度增加的現象。根據本揭露的較佳的一個實施例,受阻胺化合物可用作光穩定劑,且具體而言,可使用迪努文(Tinuvin)123(巴斯夫公司(BASF Corporation)),然而,所述光穩定劑不限於此。
根據本揭露的一個實施例,觸媒是一種控制製備根據本揭露的一個實施例的黏合劑組成物的反應速率的材料。根據本揭露的一個實施例,二丁基錫二月桂酸酯(西格瑪-阿德利奇(Sigma-Aldrich))可用作觸媒,然而,所述觸媒不限於此。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.1重量份至0.5重量份的由化學式A表示的配位化合物。
較佳地,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.2重量份至0.4重量份的由化學式A表示的配位化合物。更佳地,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.25重量份至0.35重量份的由化學式A表示的配位化合物。
當由化學式A表示的配位化合物以上述含量包含於黏 合劑組成物中時,獲得極佳的耐光性、耐熱性及耐濕性。當包含小於0.2重量份的由化學式A表示的配位化合物時,可能無法預期足夠的耐光性效果,且包含大於0.4重量份的由化學式A表示的配位化合物可能導致染料沈澱於薄膜上的問題。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含90重量份至99重量份的黏結劑樹脂,包含0.05重量份至0.5重量份的交聯劑,包含0.05重量份至0.5重量份的偶聯劑,包含0.2重量份至0.8重量份的抗氧化劑,包含0.5重量份至2.5重量份的抗靜電劑,包含1重量份至4重量份的光穩定劑,且包含0.001重量份至0.02重量份的觸媒。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含93重量份至97重量份的黏結劑樹脂。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.3重量份至0.4重量份的交聯劑。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.1重量份至0.3重量份的偶聯劑。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.4重量份至0.6重量份的抗氧化劑。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.1重量份至2重量份的抗靜電劑。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含1.5重量份至3.5重量份的光穩定劑。
在本揭露的一個實施例中,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,包含0.008重量份至0.02重量份的觸媒。
當黏結劑樹脂、交聯劑、偶聯劑、抗氧化劑、抗靜電劑、光穩定劑或觸媒以上述含量包含於黏合劑組成物中時,可使用黏合劑組成物製備具有均勻厚度的膜。
根據本揭露的一個實施例,黏合劑組成物可更包含溶劑。作為所述溶劑,可使用以上在光吸收劑中闡述的溶劑。
所述溶劑不限於以上所例示的溶劑,且可使用能夠溶解或分散本揭露的由化學式A表示的配位化合物的任何溶劑。
根據本揭露的較佳的一個實施例,黏合劑組成物中所包含的溶劑是乙酸乙酯或甲基乙基酮。
另外,溶劑可作為一種類型單獨使用,或者作為二或更多種類型的溶劑的混合物使用。舉例而言,根據本揭露的一個實施例,黏合劑組成物中所包含的溶劑是乙酸乙酯或甲基乙基酮的混合溶液。在本文中,混合溶液的溶劑可以1:3至3:1的比率混合及使用,然而,此僅為實例,且混合比率不限於所述實例。
根據本揭露的較佳的一個實施例,甲基乙基酮(MEK)可用作溶劑,然而,所述溶劑不限於此。
根據本揭露的一個實施例,以100重量份的黏合劑組成 物的總重量計,可包含10重量份至50重量份或20重量份至40重量份的溶劑。根據本揭露的較佳的一個實施例,以黏合劑組成物的總重量份計,可包含20重量份至30重量份的溶劑,然而,所述含量不限於此。
當所述溶劑以上述範圍包含於黏合劑組成物中時,不考慮染料或類似物的沈澱,且可容易地辨識包含黏合劑組成物的黏合膜的效能。
在本揭露的一個實施例中,黏合劑組成物可更包含黏結劑樹脂。
作為所述黏結劑樹脂,可使用此項技術中常用的已知材料,只要其是提供黏合性且可用於顯示器的膜中的材料即可。黏結劑樹脂的實例可包括丙烯酸系聚合物、丙烯酸酯系共聚物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醚、環氧樹脂及類似物,但不限於此。
根據本揭露的一個實施例,黏結劑樹脂可為丙烯酸酯系樹脂。丙烯酸酯系樹脂可為丙烯酸酯系聚合物或丙烯酸酯系共聚物。丙烯酸酯系共聚物的實例可包括丙烯酸丁酯/丙烯酸羥乙酯,但不限於此。
根據本揭露的較佳實施例,樂喜金星(Lucky-Goldstar,LG)化學(LG Chem.)的AD-701可用作黏結劑樹脂,然而,所述黏結劑樹脂不限於此。
根據本揭露的一個實施例,以100重量份的黏合劑組成 物固體含量的總重量計,可包含93重量份至97重量份或者94重量份至96重量份的黏結劑樹脂。根據本揭露的較佳的一個實施例,以100重量份的黏合劑組成物固體含量的總重量計,可包含95重量份至96重量份的黏結劑樹脂。
當黏結劑樹脂以上述範圍包含於黏合劑組成物中時,包含黏合劑組成物的黏合膜的黏合性得到維持,且可自所述黏合劑組成物製備具有均勻厚度的黏合膜。
在本揭露中,「黏合劑組成物固體含量」意指自包含由化學式A表示的配位化合物的黏合劑組成物排除溶劑。
根據本揭露的另一實施例,為化學式A的配位化合物可與其他類型的染料一起使用。作為可與為化學式A的配位化合物一起使用的染料,可使用此項技術中常用的染料。作為可與為化學式A的配位化合物一起使用的染料的具體實例,可自由以下組成的群組選擇一或多種類型:金屬錯合物系化合物;偶氮系化合物;金屬偶氮系化合物;喹酞酮系化合物;異吲哚啉系化合物;次甲基系化合物;酞菁系化合物;金屬酞菁系化合物;卟啉系化合物;金屬卟啉系化合物;四氮雜卟啉系化合物;金屬四氮雜卟啉系化合物;菁系化合物;呫噸系化合物;金屬二吡咯甲烷系化合物;硼二吡咯甲烷系化合物;金屬二吡咯甲烷系化合物;蒽醌系化合物;二酮吡咯並吡咯系化合物;三芳基甲烷系化合物;以及苝系化合物。然而,所述染料不限於此。
本揭露的一個實施例提供一種包含光吸收劑的黏合膜。
根據本揭露的一個實施例,包含光吸收劑的所述黏合膜可原樣包括所述光吸收劑。
根據本揭露的另一實施例,包含光吸收劑的所述黏合膜可包含處於藉由乾燥而被移除溶劑的狀態的所述光吸收劑。
本揭露的另一實施例提供一種包含所述黏合劑組成物的黏合膜。
根據本揭露的一個實施例,所述黏合膜可用作顯示器、電子元件或類似物中所使用的光學膜。所述光學膜可用作延遲膜、減反射膜、防眩光膜、紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光學補償膜、亮度增強膜或類似物。
根據本揭露的一個實施例,包含黏合劑組成物的所述黏合膜可原樣包含所述黏合劑組成物。
根據本揭露的另一實施例,包含黏合劑組成物的所述黏合膜可包含處於藉由乾燥而被移除溶劑的狀態的所述黏合劑組成物。
根據本揭露的又一實施例,包含黏合劑組成物的所述黏合膜可包含所述黏合劑組成物的固化材料。
在本揭露的一個實施例中,所述黏合膜的最大吸收波長為380奈米至450奈米中的至少一者的波長。
在本揭露的又一實施例中,所述黏合膜的最大吸收波長為380奈米至440奈米中的至少一者的波長。
當所述黏合膜具有380奈米至450奈米中的至少一者的 波長作為最大吸收波長時,相較於現有的藍光阻擋膜而言,藉由吸收更長的波長區,可最小化藍色亮度的降低,且可最大化效率。
本揭露的一個實施例提供一種包含所述光吸收劑的光學膜。
根據本揭露的一個實施例,所述光學膜包括黏合膜及黏結劑樹脂膜。
根據本揭露的一個實施例,所述黏合膜包含所述光吸收劑。
根據本揭露的一個實施例,所述光學膜包括黏合膜及黏結劑樹脂膜,且所述黏合膜包含所述光吸收劑。
本揭露的另一實施例提供一種包括所述黏合膜及其他膜的光學膜。
所述其他膜的實例可包括釋放膜(release film)、減反射膜、黏結劑樹脂膜及類似物。
具體而言,本揭露的一個實施例提供一種包括黏合膜及黏結劑樹脂膜的光學膜。
根據需要,所述光學膜可更包括基底(base)。
圖2示出根據本揭露的一個實施例的光學膜(10),其中基底(1);黏合膜(2);以及黏結劑樹脂膜(3)被連續地疊層。
在本揭露中,透射率意指對光的透射率。
在本揭露中,藉由以下方式獲得對光的透射率的改變:在將不包含由化學式A表示的配位化合物的光學膜的透射率用作 100%的同時,量測包含由化學式A表示的配位化合物的光學膜的透射率並量測改變的值。
具體而言,可藉由以下計算公式來計算所述改變的值。
△T(%)={(在製備光學膜之後立即量測的透射率-在將光學膜暴露至耐光性、耐熱性及耐濕性中的每一條件之後重新量測的透射率)/在製備光學膜之後立即量測的透射率}×100
根據本揭露的一個實施例,黏合膜用於顯示器、電子元件或類似物中,而非用於偏振板中,相較於包括偏振板的光學膜而言,此會更有效地減小針對每一波長的透射率的變化。另外,黏合膜包括包含為化學式A的配位化合物的黏合劑組成物,相較於包含其他組成物的光學膜而言,此會更有效地減少針對每一波長的透射率的變化。據以,可靈活地調節發射顏色的色調。
根據本揭露的一個實施例,包含所述黏合劑組成物的所述黏合膜可具有其中黏合劑組成物疊層及/或塗佈於基底的一個表面上的形式。
根據本揭露的一個實施例,所述基底可選自由聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚酯、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚醯亞胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate,PEN)、聚醚醚酮(polyether ether ketone,PEEK)、聚芳酯(polyarylate,PAR)、多環烯烴(polycyclicolefin,PCO)、聚降冰片烯、聚醚碸(polyethersulphone,PES)及環烯烴聚合物(cycloolefin polymer,COP)組成的群組。
另外,所述基底較佳是透明的。本文中所指的透明的基底意指波長範圍為400奈米至700奈米的可見光的透光率(light transmittance)為80%或大於80%。當所述基底具有在上述範圍中的透光率時,疊層黏合膜可被薄膜化。
根據本揭露的一個實施例,包含所述黏合劑組成物的所述黏合膜所具有的厚度為10微米至40微米;15微米至30微米;或者20微米至25微米。根據本揭露的較佳的一個實施例,包含所述黏合劑組成物的所述黏合膜所具有的厚度為22微米至23微米。
根據本揭露的一個實施例,可藉由使用棒式塗佈機(bar coater)將黏合劑組成物塗佈於基底上來製備所述黏合膜。作為具體實例,圖1示出根據本揭露的一個實施例的基底(1)及黏合膜(2)被連續地疊層的情形。
根據本揭露的一個實施例,在除基底的上面疊層及/或塗佈有所述黏合劑組成物的所述一個表面以外的另一表面上可包括釋放膜。
作為所述釋放膜,可使用疏水膜。釋放膜指代:作為用於保護非常薄的黏合膜的膜的貼合至所述黏合膜的一個表面的透明層,且可使用具有極佳的機械強度、熱穩定性、濕氣屏蔽性質、各向同性及類似性質的膜。舉例而言,作為所述釋放膜,可使用乙酸酯系(例如三乙醯纖維素(triacetyl cellulose,TAC))、聚酯系、聚醚碸系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚烯烴系、環烯 烴系、聚胺基甲酸酯系及丙烯酸系樹脂膜以及類似物,且可使用可商業購得的經矽酮處置的釋放膜。然而,所述釋放膜不限於該些實例。
根據本揭露的一個實施例,減反射膜藉由調節自外部光源產生的光反射的程度來起到改善反射色感(reflected color sense)的作用。
根據本揭露的一個實施例,減反射膜所具有的最低反射波長為550奈米或小於550奈米;或者530奈米或小於530奈米。根據本揭露的較佳的一個實施例,減反射膜具有500奈米或小於500奈米的最低反射波長。
可恰當地選擇減反射膜的材料,以滿足最低反射波長的性質。舉例而言,減反射膜可包括低折射率層。舉例而言,隨著低折射率層的厚度增加,減反射膜的最低反射波長傾向於移動至較長的波長,且隨著低折射率層的厚度減少,傾向於移動至較短的波長。舉例而言,隨著低折射材料的折射率降低,減反射膜的最低反射率傾向於降低。
低折射率層可包含低折射材料。在一個實例中,低折射材料可為低折射無機粒子。在另一實例中,低折射無機粒子可為二氧化矽系粒子。二氧化矽系粒子的實例可包括中空二氧化矽(hollow silica)、中孔二氧化矽(mesoporous silica)及類似物,但不限於此。在另一實例中,氟化鎂(MgF2)可用作低折射無機粒子。
根據本揭露的一個實施例,黏結劑樹脂膜可包括三乙酸纖維素(cellulose triacetate,TAC)膜或類似物,但不限於此,且可使用此項技術中常用的已知黏結劑樹脂膜。
黏結劑樹脂膜所具有的厚度為20微米至60微米;30微米至50微米;或者35微米至45微米。
在本揭露的一個實施例中,黏合膜可設置於基底上,且黏結劑樹脂膜可進一步設置於與黏合膜和基底在其上彼此接觸的表面相對的表面上。
本揭露的一個實施例提供一種包含上述光吸收劑的電子元件。
本揭露的一個實施例提供一種包括所述黏合膜的電子元件。
根據本揭露的一個實施例,所述電子元件包括黏合膜,且所述黏合膜包含所述光吸收劑。
所述電子元件可包括半導體元件的層間絕緣膜、彩色濾光片、黑色基質、外塗物(overcoat)、管柱間隔件、鈍化膜、緩衝塗佈膜、用於多層印刷基板的絕緣膜、可撓覆銅板的覆蓋塗物、緩衝塗佈膜、用於多層印刷基板的絕緣膜阻焊膜、OLED的絕緣膜、液晶顯示裝置的薄膜電晶體的保護膜、有機電致發光(electroluminescence,EL)元件的電極保護膜及半導體保護膜、OLED絕緣膜、LCD絕緣膜、半導體絕緣膜、顯示裝置及類似物中的所有者,但不限於此。
本揭露的一個實施例提供一種包含所述光吸收劑的顯示裝置。
本揭露的另一實施例提供一種包括所述黏合膜的顯示裝置。
本揭露的一個實施例提供一種包含所述光吸收劑的有機發光顯示裝置。
本揭露的另一實施例提供一種包括所述黏合膜的有機發光顯示裝置。
本揭露的一個實施例提供一種有機發光顯示裝置,所述有機發光顯示裝置包括:黏合膜,包含上述黏合劑組成物;基板,設置於黏合膜的一個表面上;以及有機發光層,設置於與和基板的黏合膜接觸的表面相對的表面上。
在下文中,將參照實例詳細闡述本揭露,以便具體闡述本揭露。然而,根據本揭露的實例可被修改為各種不同的形式,且本揭露的範圍不應被解釋為受限於以下闡述的實例。提供本揭露的實例是為了向此項技術中具有通常知識者更全面地闡述本揭露。
<合成例>
可例如使用如以下反應式1的製備方法來製備由化學式A表示的配位化合物。所述製備方法可在稍後欲闡述的製備例中更具體地說明。
[反應式1]
Figure 110139048-A0305-02-0075-29
1)化合物B的合成
將磷醯氯(1.2當量)稀釋於過量的二甲基甲醯胺(dimethylformamide,DMF)溶劑中,並在將溫度維持在0℃的同時在氮氣下攪拌達30分鐘。當溫度充分穩定時,向其緩慢添加化合物A(1當量),並在將反應溫度升高至80℃之後,使混合物在氮氣下充分反應。在藉由薄層層析術(thin layer chromatography,TLC)辨識出反應完成之後,將反應溫度降低至室溫,並將結果引入至所製備的冰水並充分攪拌。在此之後,藉由真空過濾得到所生產的固體化合物,並使用氯仿及水進行了萃取。將無水硫酸鎂引入至經萃取的有機層以移除水,並將結果濃縮並用氯仿及乙醇重結晶以獲得產物。
2)化合物D的合成
將所得到的化合物B(1當量)與合成的或可商業購得的化合物C(1.2當量)一起稀釋於甲苯溶液中,並在加熱至120℃的溫度以進行反應的同時在氮氣下攪拌混合物。在反應完成之後,將溫度降低至室溫,並在用乙醇及己烷充分洗滌的同時真空過濾所形成的固體產物以獲得產物。藉由烘箱乾燥自所得到的化合物D充分移除了溶劑。
製備例:化合物的製備
製備例1:化合物P1的合成
Figure 110139048-A0305-02-0076-30
將使用反應式1的方法合成的化合物D1-a(100毫克,1當量)稀釋於乙醇(5毫升)中,並在氮氣下在加熱的同時攪拌。在此之後,向其添加溶解於水(5毫升)中的乙酸鈷四水合物(42.5毫克,0.5當量),並進一步向其引入氫氧化鈉(10毫克,2當量)以進行反應。在反應完成之後,濃縮結果,並使用氯仿及水進行了萃取。使用無水硫酸鎂自藉由萃取得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。使用氯仿及乙醇重結晶經濃縮的產物,以得到化合物P1(86毫克,收率:72%)。
針對C34H26CoN6Na2O4(M+)計算的高解析度(high resolution,HR)液相層析術(liquid chromatography,LC)/質譜(mass spectrometry,MS)/MS質荷比(mass-to-charge ratio,m/z):687.1143;實測值:687.1143
製備例2:化合物P2的合成
Figure 110139048-A0305-02-0077-31
除使用D1-b(200毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P2(156毫克,收率:67%)。
針對C36H30CoN6Na2O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:715.1456;實測值:715.1455
製備例3:化合物P3的合成
Figure 110139048-A0305-02-0077-32
除使用D1-c(150毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P3(100毫克,收率:58%)。
針對C36H30CoN6Na2O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:747.1354;實測值:747.1354
製備例4:化合物P4的合成
Figure 110139048-A0305-02-0078-33
除使用D1-d(150毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P4(122毫克,收率:71%)。
針對C34H24CoN8Na2O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:777.0844;實測值:777.0844
製備例5:化合物P5的合成
Figure 110139048-A0305-02-0078-34
除使用D1-e(200毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P5(103毫克,收率:45%)。
針對C34H24ClCoN8Na2O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:755.0358;實測值:755.0358
製備例6:化合物P6的合成
Figure 110139048-A0305-02-0079-35
除使用D2-a(200毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P6(142毫克,收率:59%)。
針對C38H34CoK2N6O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:775.1248;實測值:775.1248
製備例7:化合物P7的合成
Figure 110139048-A0305-02-0079-36
除使用D2-b(200毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P7(171毫克,收率:72%)。
針對C44H30CoK2N6O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:843.8918;實測值:843.8918
製備例8:化合物P8的合成
Figure 110139048-A0305-02-0080-37
除使用D2-c(200毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P8(146毫克,收率:62%)。
針對C40H36Cl2CoK2N6O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:871.0781;實測值:871.0781
製備例9:化合物P9的合成
Figure 110139048-A0305-02-0080-38
除使用D2-d(200毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P9(137毫克,收率:58%)。
針對C46H34CoK2N6O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z: 871.1248;實測值:871.1248
製備例10:化合物P10的合成
Figure 110139048-A0305-02-0081-39
除使用D3-a(300毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P10(146毫克,收率:42%)。
針對C36H30CoN6Na2O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:747.5847;實測值:747.5846
製備例11:化合物P11的合成
Figure 110139048-A0305-02-0081-40
除使用D3-b(200毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P11(110毫克,收率:48%)。
針對C36H28Cl2CoN6Na2O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:815.4687;實測值:815.4687
製備例12:化合物P12的合成
Figure 110139048-A0305-02-0082-41
除使用D3-c(250毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P12(189毫克,收率:67%)。
針對C38H28CoN8Na2O12(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:893.09542;實測值:893.0954
製備例13:化合物P13的合成
Figure 110139048-A0305-02-0082-42
除使用D3-d(200毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P13(117毫克,收率:52%)。
針對C36H28CoN8Na2O12S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:933.0395;實測值:933.0395
製備例14:化合物P14的合成
Figure 110139048-A0305-02-0083-43
除使用D3-e(200毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P14(191毫克,收率:81%)。
針對C38H32CoK2N8O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:865.0949;實測值:865.0949
製備例15:化合物P15的合成
Figure 110139048-A0305-02-0083-44
除使用D3-f(300毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(69.8毫克,2當量)代替氫氧化鈉以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P15(258毫克,收率:74%)。
針對C40H34CoK2N6O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:940.9972;實測值:940.9972
製備例16:化合物P16的合成
Figure 110139048-A0305-02-0084-45
將使用反應式1的方法合成的化合物D1-a(500毫克,1當量)稀釋於乙醇(10毫升)中,並在向其添加溶解於水(10毫升)中的碳酸鉀(471毫克,2當量)之後,在氮氣下在加熱的同時攪拌混合物。在此之後,向其添加三(乙醯丙酮)鈷(III)(0.304克,0.5當量),且反應繼續進行,直至反應物D1-a在薄層層析術(TLC)中不可見為止。在自完成反應的材料濃縮溶劑之後,向其添加二氯甲烷溶劑(20毫升),然後向其引入四正丁基銨碘(0.378克,0.6當量),並在室溫下攪拌結果。在反應完成之後,藉由向其添加水對結果進行了萃取。使用無水硫酸鎂自藉由其得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。將經濃縮的產物稀釋於乙醇中,且然後向其添加水以得到化合物P16(407毫克,收率:54%)。
針對C50H62CoN7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:883.4195;實測值:883.4194
製備例17:化合物P17的合成
Figure 110139048-A0305-02-0085-46
除使用D2-b(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P17(440毫克,收率:62%)。
針對C60H66CoN7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1007.4508;實測值:1007.4508
製備例18:化合物P18的合成
Figure 110139048-A0305-02-0085-47
除使用D3-g(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P18(336毫克,收率:48%)。
針對C52H66CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1039.3746;實測值:1039.3746
製備例19:化合物P19的合成
Figure 110139048-A0305-02-0086-48
除使用D3-h(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P19(376毫克,收率:55%)。
針對C52H64Cl2CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1107.2967;實測值:1107.2967
製備例20:化合物P20的合成
Figure 110139048-A0305-02-0086-49
除使用D3-i(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P20(270毫克,收率:39%)。
針對C54H70CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1067.4059;實測值:1067.4058
製備例21:化合物P21的合成
Figure 110139048-A0305-02-0087-50
除使用D3-j(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P21(331毫克,收率:46%)。
針對C50H60CoN9O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:973.3897;實測值:973.3897
製備例22:化合物P22的合成
Figure 110139048-A0305-02-0087-51
除使用D3-e(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P22(492毫克,收率:70%)。
針對C54H68CoN9O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1029.4523;實測值:1029.4253
製備例23:化合物P23的合成
Figure 110139048-A0305-02-0088-52
除使用D3-k(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P23(461毫克,收率:64%)。
針對C50H60CoN9O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:973.3897;實測值:973.3897
製備例24:化合物P24的合成
Figure 110139048-A0305-02-0088-53
將使用反應式1的方法合成的化合物D3-g(400毫克,1當量)溶解於乙醇(10毫升)中,並在向其添加三丁基胺(tributylamine,TBA)(0.31毫升,2當量)及三(乙醯丙酮)鈷(III)(0.192克,0.5當量)之後,在氮氣下在加熱的同時攪拌混合物。在反應完成之後,對結果進行了濃縮,並使用氯仿及水進行了萃取。使用無水硫酸鎂自藉由萃取得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。使用乙醇及水自經濃縮的產物得到了 化合物P24(302毫克,收率:57%)。
針對C48H58CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:983.3120;實測值:983.3121
製備例25:化合物P25的合成
Figure 110139048-A0305-02-0089-54
除使用D3-1(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P25(457毫克,收率:68%)。
針對C50H58CoN7O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:943.3680;實測值:943.3679
製備例26:化合物P26的合成
Figure 110139048-A0305-02-0089-55
除使用D3-n(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P26(427毫克,收率:65%)。
針對C46H50CoN11O12(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1007.2972;實測值:1007.2972
製備例27:化合物P27的合成
Figure 110139048-A0305-02-0090-56
除使用雙(2-乙基己基)胺(0.3毫升,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P27(269毫克,收率:48%)。
針對C52H66CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1038.3746;實測值:1038.3746
製備例28:化合物P28的合成
Figure 110139048-A0305-02-0090-57
除使用二己基胺(0.38毫升,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P28(371毫克,收率:56%)。
針對C48H58CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z: 983.3120;實測值:983.3121
製備例29:化合物P29的合成
Figure 110139048-A0305-02-0091-58
除使用二環己基胺(490毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P29(382毫克,收率:58%)。
針對C48H54CoN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:979.2807;實測值:979.2807
製備例30:化合物P30的合成
Figure 110139048-A0305-02-0091-59
除使用D3-n(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(470毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P30(420毫克,收率:65%)。
針對C46H46CoN11O12(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z: 1003.2659;實測值:1003.2659
製備例31:化合物P31的合成
Figure 110139048-A0305-02-0092-60
除使用D3-o(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(487毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P31(468毫克,收率:71%)。
針對C46H46CoN11O12(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:981.2178;實測值:981.2179
製備例32:化合物P32的合成
Figure 110139048-A0305-02-0092-61
除使用D3-p(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(553毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P32(354毫克,收率:52%)。
針對C46H46Cl2CoN7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z: 891.2477;實測值:891.2477
製備例33:化合物P33的合成
Figure 110139048-A0305-02-0093-62
除使用D3-q(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(583毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P33(317毫克,收率:46%)。
針對C46H48CoF2N7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:859.3068;實測值:859.3068
製備例34:化合物P34的合成
Figure 110139048-A0305-02-0093-63
除與製備例24中所使用的D3-g(500毫克,1當量)一起、代替三丁基胺(TBA)使用嗎啉(235毫克,2當量)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P34(334毫克,收率:56%)。
針對C40H40CoN7O9S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:885.1661;實測值:885.1661
製備例35:化合物P35的合成
Figure 110139048-A0305-02-0094-64
除與製備例24中所使用的D3-g(500毫克,1當量)一起、代替三丁基胺(TBA)使用N-乙基嗎啉(310毫克,2當量)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P35(455毫克,收率:74%)。
針對C42H44CoN7O9S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:913.1974;實測值:913.1973
製備例36:化合物P36的合成
Figure 110139048-A0305-02-0094-65
將使用反應式1的方法合成的化合物D3-g(400毫克,1當量)溶解於乙醇(10毫升)中,並向其添加溶解於水(10毫升)中的碳酸鉀(372毫克,2當量)。在充分攪拌溶液之後,向其 添加三(乙醯丙酮)鈷(III)(0.192毫克,0.5當量)及1-丁基-3-甲基咪唑鎓氯化物(140毫克,0.6當量),並在氮氣下在加熱的同時攪拌混合物。在反應完成之後,對結果進行了濃縮,並使用氯仿及水進行了萃取。使用無水硫酸鎂自藉由萃取得到的有機層移除了水,然後使用無水硫酸鎂自藉由真空蒸餾得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。使用乙醇及水自經濃縮的產物得到化合物P36(183毫克,收率:29%)。
針對C44H43CoN8O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:934.1972;實測值:934.1972
製備例37:化合物P37的合成
Figure 110139048-A0305-02-0095-66
除使用正丁基溴化膦(0.303毫克,0.6當量)代替四正丁基銨碘以外,以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P37(369毫克,收率:48%)。
針對C50H62CoN6O4P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:900.3902;實測值:900.3903
製備例38:化合物P38的合成
Figure 110139048-A0305-02-0096-67
除使用D3-g(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例37中相同的方式進行反應,得到了化合物P38(278毫克,收率:39%)。
針對C52H66CoN6O8PS2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1056.3453;實測值:1056.3453
製備例39:化合物P39的合成
Figure 110139048-A0305-02-0096-68
除使用D3-1(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例37中相同的方式進行反應,得到了化合物P39(391毫克,收率:54%)。
針對C54H66CoN6O8P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1016.4012;實測值:1016.4012
製備例40:化合物P40的合成
Figure 110139048-A0305-02-0097-69
除使用D2-d(400毫克,1當量)代替D3-g,且使用三丁基膦(0.438毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P40(351毫克,收率:65%)。
針對C58H58CoN6O4P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:996.3902;實測值:996.3902
製備例41:化合物P41的合成
Figure 110139048-A0305-02-0097-70
將使用反應式1的方法合成的化合物D1-a(500毫克,1當量)稀釋於乙醇(10毫升)中,並在向其添加溶解於水(10毫升)中的碳酸鉀(471毫克,2當量)之後,在氮氣下在加熱的同時攪拌混合物。在此之後,向其添加氫氧化鉻乙酸酯(193毫克,0.5當量),且反應繼續進行,直至反應物D1-a在薄層層析術(TLC)中不可見為止。在自完成反應的材料濃縮溶劑之後,向其添加二氯 甲烷溶劑(20毫升),然後向其引入四正丁基銨碘(378毫克,0.6當量),並在室溫下攪拌結果。在反應完成之後,藉由向其添加水對結果進行了萃取,且使用無水硫酸鎂自藉由其得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。將經濃縮的產物稀釋於乙醇中,且然後向其添加水以得到化合物P41(389毫克,收率:52%)。
針對C50H62CrN7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:876.4268;實測值:876.4268
製備例42:化合物P42的合成
Figure 110139048-A0305-02-0098-71
除使用D1-d(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P42(443毫克,收率:62%)。
針對C50H60CrN9O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:966.3970;實測值:966.3971
製備例43:化合物P43的合成
Figure 110139048-A0305-02-0099-72
除使用D1-f(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P43(398毫克,收率:54%)。
針對C52H66CrN7O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:904.4581;實測值:904.4581
製備例44:化合物P44的合成
Figure 110139048-A0305-02-0099-73
除使用D3-i(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P44(399毫克,收率:58%)。
針對C54H70CrN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1060.4132;實測值:1060.4133
製備例45:化合物P45的合成
Figure 110139048-A0305-02-0100-74
將使用反應式1的方法合成的化合物D3-g(400毫克,1當量)溶解於乙醇(10毫升)中,並向其添加三丁基胺(499毫克,2當量)及氫氧化鉻乙酸酯(406毫克,0.5當量),並在氮氣下在加熱的同時攪拌混合物。在反應完成之後,對結果進行了濃縮,並使用氯仿及水進行了萃取。使用無水硫酸鎂自藉由萃取得到的有機層移除了水,並藉由真空蒸餾對結果進行了濃縮。使用乙醇及水自經濃縮的產物得到化合物P45(401毫克,收率:61%)。
針對C48H58CrN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:976.3193;實測值:976.3193
製備例46:化合物P46的合成
Figure 110139048-A0305-02-0100-75
除使用D3-1(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例45中相同的方式進行反應,得到了化合物P46(387毫克,收率:58%)。
針對C50H58CrN7O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:936.3752;實測值:936.3751
製備例47:化合物P47的合成
Figure 110139048-A0305-02-0101-76
除使用二環己基胺(488毫克,2當量)代替三丁基胺以外,藉由以與製備例45中相同的方式進行反應,得到了化合物P47(360毫克,收率:55%)。
針對C48H54CrN7O8S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:972.2880;實測值:972.2881
製備例48:化合物P48的合成
Figure 110139048-A0305-02-0101-77
除使用N-乙基嗎啉(310毫克,2當量)代替三丁基胺以外,藉由以與製備例45中相同的方式進行反應,得到了化合物P48(433毫克,收率:71%)。
針對C42H44CrN7O9S2(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z: 906.2047;實測值:906.2047
製備例49:化合物P49的合成
Figure 110139048-A0305-02-0102-78
除使用正四丁基溴化膦(471毫克,0.6當量)代替正四丁基銨碘以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P49(488毫克,收率:64%)。
針對C50H62CrN6O4P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:893.3975;實測值:893.3975
製備例50:化合物P50的合成
Figure 110139048-A0305-02-0102-79
除使用D1-g(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例49中相同的方式進行反應,得到了化合物P50(406毫克,收率:55%)。
針對C51H63CrN6O4P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:906.4054;實測值:906.4054
製備例51:化合物P51的合成
Figure 110139048-A0305-02-0103-80
除使用D4-a(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P51(276毫克,收率:48%)。
針對C38H30CoN6Na2O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:771.1354;實測值:771.1354
製備例52:化合物P52的合成
Figure 110139048-A0305-02-0103-81
除使用D4-c(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P52(296毫克,收率:52%)。
針對C36H24CoN8Na2O10(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:833.0743;實測值:833.0743
製備例53:化合物P53的合成
Figure 110139048-A0305-02-0104-82
除使用D4-f(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P53(224毫克,收率:39%)。
針對C36H24CoF2N6Na2O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:779.0853;實測值:779.0853
製備例54:化合物P54的合成
Figure 110139048-A0305-02-0104-83
除使用D4-m(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P54(339毫克,收率:62%)。
針對C44H30CoN6Na2O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:843.1354;實測值:843.1354
製備例55:化合物P55的合成
Figure 110139048-A0305-02-0105-84
除使用D4-p(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(151毫克,2當量)代替氫氧化鈉(NaOH)以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P55(342毫克,收率:58%)。
針對C38H28Cl2CoK2N6O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:871.0054;實測值:871.0054
製備例56:化合物P56的合成
Figure 110139048-A0305-02-0105-85
除使用D4-t(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用氫氧化鉀(130毫克,2當量)代替氫氧化鈉(NaOH)以外,藉由以與製備例1中相同的方式進行反應,得到了化合物P56(259毫克,收率:49%)。
針對C36H22Cl4CoK2N6O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:910.8961;實測值:910.8960
製備例57:化合物P57的合成
Figure 110139048-A0305-02-0106-86
除使用D4-b(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P57(385毫克,收率:54%)。
針對C56H70CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:995.4714;實測值:995.4714
製備例58:化合物P58的合成
Figure 110139048-A0305-02-0106-87
除使用D4-g(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P58(440毫克,收率:62%)。
針對C52H60Cl2CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1007.3309;實測值:1007.3308
製備例59:化合物P59的合成
Figure 110139048-A0305-02-0107-88
除使用D4-h(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P59(359毫克,收率:52%)。
針對C52H58Cl4CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1077.2500;實測值:1077.2501
製備例60:化合物P60的合成
Figure 110139048-A0305-02-0107-89
除使用D4-1(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P60(251毫克,收率:37%)。
針對C52H60CoN9O10(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1029.3790;實測值:1029.3789
製備例61:化合物P61的合成
Figure 110139048-A0305-02-0108-90
除使用D4-e(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P61(298毫克,收率:45%)。
針對C50H55Cl2CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:979.2996;實測值:979.2996
製備例62:化合物P62的合成
Figure 110139048-A0305-02-0108-91
除使用D4-j(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P62(450毫克,收率:68%)。
針對C56H58CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:983.3775;實測值:983.3774
製備例63:化合物P63的合成
Figure 110139048-A0305-02-0109-92
除使用D4-n(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P63(469毫克,收率:72%)。
針對C52H60Cl2CoN7O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1039.3207;實測值:1039.3207
製備例64:化合物P64的合成
Figure 110139048-A0305-02-0109-93
除使用D4-d(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(516毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P64(388毫克,收率:58%)。
針對C50H54CoN7O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:939.3360;實測值:939.3360
製備例65:化合物P65的合成
Figure 110139048-A0305-02-0110-94
除使用D4-k(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(519毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P65(403毫克,收率:62%)。
針對C50H54CoN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:907.3462;實測值:907.3462
製備例66:化合物P66的合成
Figure 110139048-A0305-02-0110-95
除使用D4-u(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用N-乙基嗎啉(292毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P66(268毫克,收率:44%)。
針對C46H46CoN9O11(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:959.2600;實測值:959.2601
製備例67:化合物P67的合成
Figure 110139048-A0305-02-0111-96
除使用D4-v(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用N-乙基嗎啉(255毫克,2當量)代替三丁基胺(TBA)以外,藉由以與製備例24中相同的方式進行反應,得到了化合物P67(351毫克,收率:59%)。
針對C54H42CoF6N7O7(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1073.2376;實測值:1073.2376
製備例68:化合物P68的合成
Figure 110139048-A0305-02-0111-97
除使用D4-n(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用正四丁基溴化膦(130毫克,0.6當量)代替正四丁基銨碘以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P68(502毫克,收率:72%)。
針對C56H68Cl2CoN6O8P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1112.3540;實測值:1112.3541
製備例69:化合物P69的合成
Figure 110139048-A0305-02-0112-98
除使用D4-r(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用正四丁基溴化膦(130毫克,0.6當量)代替正四丁基銨碘以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P69(405毫克,收率:72%)。
針對C64H70CoN6O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1108.4421;實測值:1108.4421
製備例70:化合物P70的合成
Figure 110139048-A0305-02-0112-99
除使用D4-w(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用正四丁基溴化膦(122毫克,0.6當量)代替正四丁基銨碘以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了化合物P70(267毫克,收率:39%)。
針對C58H72CoN8O12P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1162.4334;實測值:1162.4334
製備例71:化合物P71的合成
Figure 110139048-A0305-02-0113-100
除使用D4-a(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P71(322毫克,收率:45%)。
針對C54H66CrN7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:960.4474;實測值:960.4474
製備例72:化合物P72的合成
Figure 110139048-A0305-02-0113-101
除使用D4-i(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P72(378毫克,收率:55%)。
針對C54H60CrF6N7O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1068.3909;實測值:1068.3909
製備例73:化合物P73的合成
Figure 110139048-A0305-02-0114-102
除使用D4-o(500毫克,1當量)代替D3-g以外,藉由以與製備例45中相同的方式進行反應,得到了化合物P73(402毫克,收率:61%)。
針對C50H56CrF2N7O8(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:972.3558;實測值:972.3558
製備例74:化合物P74的合成
Figure 110139048-A0305-02-0114-103
除使用D4-q(500毫克,1當量)代替D3-g,且使用二環己基胺(465毫克,2當量)代替三丁基胺以外,藉由以與製備例45中相同的方式進行反應,得到了化合物P74(330毫克,收率:51%)。
針對C66H74CrN6O6P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1129.4807;實測值:1129.4807
製備例75:化合物P75的合成
Figure 110139048-A0305-02-0115-104
除使用D4-s(500毫克,1當量)代替D1-a,且使用正四丁基溴化膦(269毫克,0.6當量)代替正四丁基銨碘以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P75(261毫克,收率:38%)。
針對C66H74CrN6O6P(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:1129.4807;實測值:1129.4807
製備例76:比較化合物P76的合成
Figure 110139048-A0305-02-0115-105
除使用A1(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了比較化合物P76(565毫克,收率:75%)。
針對C48H46CoN9O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:885.4100;實測值:885.4100
製備例77:比較化合物P77的合成
Figure 110139048-A0305-02-0116-106
除使用A2(500毫克,1當量)代替D1-a以外,藉由以與製備例16中相同的方式進行反應,得到了比較化合物P77(482毫克,收率:66%)。
針對C50H60CoN9O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:941.3999;實測值:941.3999
製備例78:比較化合物P78的合成
Figure 110139048-A0305-02-0116-107
除使用A1代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了比較化合物P78(336毫克,收率:45%)。
針對C48H60CrN9O4(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:878.4173;實測值:878.4173
製備例79:比較化合物P79的合成
Figure 110139048-A0305-02-0117-108
除使用A2代替D1-a以外,藉由以與製備例41中相同的方式進行反應,得到了化合物P79(370毫克,收率:51%)。
針對C50H60CrN9O6(M+)計算的HR LC/MS/MS m/z:934.4072;實測值:934.4072
<實驗例>
實例1
以100重量份的黏合劑組成物中排除溶劑的固體含量計,添加了95.4重量份的黏合劑材料(AD-701固體含量,LG化學)、0.29重量份的化合物P1、0.1重量份的異氰酸酯系交聯劑(T39M,索肯化學及工程有限公司)、0.2重量份的矽烷系偶聯劑(T-789J,索肯化學及工程有限公司)、0.5重量份的抗氧化劑(吉諾克斯-80,漢農化學公司)、1.5重量份的抗靜電劑(FC-4400,3M公司)、2重量份的受阻胺光穩定劑(迪努文123,巴斯夫公司)及0.001重量份的觸媒(二月桂酸二丁基錫,西格瑪-阿德利奇),且以黏合劑組成物的總重量份計,添加了25重量份的溶劑(甲基乙基酮,MEK)。使用刀棒塗佈裝置(KP-3000,基帕耶工程及技術有限公司(Kipae E&T Co.,Ltd.))將藉由使用搖動器(SKC 6100,傑奧 科技(JEIO Tech.))混合該些材料而獲得的黏合劑組成物塗佈於釋放層(PET)上至22微米至23微米的厚度,以製備黏合膜。在塗佈之後,移除了釋放層,且藉由疊層將黏合膜及黏結劑樹脂膜(TAC:三乙酸纖維素)連續地疊層於玻璃上以製備樣品。黏結劑樹脂膜(TAC:三乙酸纖維素)用於使用包括包含化合物P1的黏合劑組成物的黏合膜製備所述樣品,且不影響所述黏合膜的量測性質。
黏合劑組成物及黏合膜的最大吸收波長λmax(奈米)是各自使用紫外線-可見光(ultraviolet-visible,UV-vis)裝置(島津(Shimazu)UV-3600)而量測。另外,為辨識作為光吸收劑的波長適合度,藉由細分最大吸收波長範圍而對作為光吸收劑的適合度進行了辨識,且結果闡述於表1中。
[作為光吸收劑的波長適合度]
最大吸收波長為380奈米至420奈米:o
最大吸收波長為421奈米至450奈米:△
最大吸收波長大於450奈米:x
實例2
除使用化合物P5代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例3
除使用化合物P6代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例4
除使用化合物P7代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例5
除使用化合物P10代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例6
除使用化合物P16代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例7
除使用化合物P17代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例8
除使用化合物P18代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例9
除使用化合物P19代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例10
除使用化合物P20代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例11
除使用化合物P21代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例12
除使用化合物P22代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例13
除使用化合物P24代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例14
除使用化合物P25代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例15
除使用化合物P26代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例16
除使用化合物P27代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例17
除使用化合物P28代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例18
除使用化合物P29代替化合物P1以外,在與實例1中 相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例19
除使用化合物P30代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例20
除使用化合物P31代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例21
除使用化合物P32代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例22
除使用化合物P33代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例23
除使用化合物P34代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例24
除使用化合物P35代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例25
除使用化合物P36代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例26
除使用化合物P37代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例27
除使用化合物P38代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例28
除使用化合物P41代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例29
除使用化合物P43代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例30
除使用化合物P44代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例31
除使用化合物P45代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例32
除使用化合物P46代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例33
除使用化合物P49代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例34
除使用化合物P52代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例35
除使用化合物P54代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例36
除使用化合物P59代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例37
除使用化合物P60代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
實例38
除使用化合物P71代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
比較實驗例1
除使用比較化合物P76代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
比較實驗例2
除使用比較化合物P77代替化合物P1以外,在與實例 1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
比較實驗例3
除使用比較化合物P78代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
比較實驗例4
除使用比較化合物P79代替化合物P1以外,在與實例1中相同的條件下進行了實驗,且結果闡述於下表1中。
Figure 110139048-A0305-02-0124-109
Figure 110139048-A0305-02-0125-110
自表1的實驗結果看出,辨識出:相較於不包含所述配位化合物的膜而言,根據本揭露的一個實施例的包含所述配位化合物的黏合膜具有極佳的波長適合度。具體而言,當根據本揭露的所述實例的黏合膜具有為380奈米至450奈米中的至少一者的波長作為最大吸收波長(λmax)時,與具有為大於470奈米的最大吸收波長(λmax)的根據比較例的黏合膜不同,相較於現有的藍 光阻擋膜而言,藉由吸收較長的波長區,可最小化藍色亮度的降低,且可最大化效率。
Figure 110139048-A0305-02-0002-1
1:基底
2:黏合膜

Claims (17)

  1. 一種包括配位化合物的光吸收劑,包括由An-表示的化合物,其中,在由An-表示的所述化合物中,A由以下化學式A表示,且n為1或2:
    Figure 110139048-A0305-02-0127-111
    在化學式A中,M是Cr離子或Co離子;X是O或O-C=O;Rw1與Rw2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;或者經取代或未經取代的雜芳基;Ar1與Ar2彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的伸芳基;或者經取代或未經取代的伸雜芳基;R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基; 硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;經取代或未經取代的苯乙烯基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106;並且R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
  2. 如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中化學式A由以下化學式A-1表示:[化學式A-1]
    Figure 110139048-A0305-02-0129-112
    在化學式A-1中,M、X、R6及R16具有與化學式A中相同的定義;R1至R5、R7至R15及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;腈基;硝基;羥基;-COOH;鹵素基;醯亞胺基;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的雜環基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;經取代或未經取代的烷基硫氧基;經取代或未經取代的芳基硫氧基;經取代或未經取代的烷基磺酸氧基;經取代或未經取代的芳基磺酸氧基;經取代或未經取代的烯基;經取代或未經取代的矽烷基;經取代或未經取代的硼基;經取代或未經取代的芳基膦基;經取代或未經取代的氧化膦基;-OR100;-CO2R101;-COR102;-OCOR103;-CONR104R105;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環或者經取代或未經取代的 脂族環;並且R100至R106彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;經取代或未經取代的環烷基;經取代或未經取代的芳基;經取代或未經取代的雜芳基;或者經取代或未經取代的胺基。
  3. 如請求項2所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中R1至R5及R11至R15彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;-COOH;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;未經取代或經烷基取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;或者-CO2R101;並且R100與R101彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基。
  4. 如請求項2所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中R7至R10及R17至R20彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;氘;鹵素基;腈基;硝基;經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;經取代或未經取代的具有3至10個碳原子的環烷基;未經取代或經-OR100或烷基取代的具有6至10個碳原子的芳基;經取代或未經取代的具有2至10個碳原子的雜芳基;-OR100;-CO2R101;-COR102;或者-SO2R106,或者相鄰的取代基彼此鍵合以形成經取代或未經取代的芳族環; R100、R101及R102彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;並且R106是經取代或未經取代的具有1至10個碳原子的烷基;或者-NH2
  5. 如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中R6與R16彼此相同或不同,且各自獨立地是腈基;未經取代或經氟基取代的甲基;經取代或未經取代的乙基;經取代或未經取代的異丙基;未經取代或經選自由鹵素基、腈基、硝基、-COOH、烷基、-OR100及-CO2R101組成的群組的一或多個取代基取代的苯基;經取代或未經取代的苯並噁唑基;經取代或未經取代的吡啶基;未經取代或經烷基或硝基取代的苯乙烯基;-OR100;或者-CO2R101;並且R101與R102彼此相同或不同,且各自獨立地是經取代或未經取代的甲基;或者經取代或未經取代的乙基。
  6. 如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中M是Co2+;Co3+;Cr2+;或者Cr3+
  7. 如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑,更包含(B+)m,其中B+是H+;Na+;K+;鏻陽離子;銨陽離子;鋶陽離子;或者陽離子雜環,且m是為1或2的整數。
  8. 如請求項7所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中B+是H+;Na+;K+;P+ReRfRgRh;N+RiRjRkRl;S+RmRnRo;或者陽離子雜環;並且 Re至Ro彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;經取代或未經取代的烷基;或者經取代或未經取代的環烷基。
  9. 如請求項7所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中所述陽離子雜環是選自由以下結構式B1至結構式B4組成的群組的任一者:
    Figure 110139048-A0305-02-0132-113
    Figure 110139048-A0305-02-0132-114
    Figure 110139048-A0305-02-0132-115
    [結構式B4]
    Figure 110139048-A0305-02-0133-116
    在結構式B1至結構式B4中,RB11與RB12彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有4至30個碳原子的雜環,且RB13與RB14彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基;RB21與RB22彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜環,且RB23至RB25彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基;RB31與RB32彼此鍵合以形成經取代或未經取代的具有2至30個碳原子的雜環,且RB33至RB35彼此相同或不同,且各自獨立地是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基;並且RB41是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜原子的取代基,RB42是氫;具有1至30個碳原子的烴基;或者包括選自由N、O、P、S、Si及Se組成的群組的一個、兩個或更多個雜 原子的取代基,且n42是1至8的整數。
  10. 如請求項7所述的包括配位化合物的光吸收劑,其中(B+)m是選自由以下化合物組成的群組的任一者:
    Figure 110139048-A0305-02-0134-117
    Figure 110139048-A0305-02-0135-118
    Figure 110139048-A0305-02-0136-119
    Figure 110139048-A0305-02-0137-120
    Figure 110139048-A0305-02-0138-122
    Figure 110139048-A0305-02-0139-123
    Figure 110139048-A0305-02-0140-125
    Figure 110139048-A0305-02-0141-126
    Figure 110139048-A0305-02-0142-127
  11. 如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑,所述光吸收劑吸收選自350奈米至450奈米之中的波長的至少部分。
  12. 一種選自由以下材料組成的群組的任一者的配位化合物:
    Figure 110139048-A0305-02-0142-128
    Figure 110139048-A0305-02-0143-131
    Figure 110139048-A0305-02-0144-132
    Figure 110139048-A0305-02-0145-133
    Figure 110139048-A0305-02-0146-134
    Figure 110139048-A0305-02-0147-135
    Figure 110139048-A0305-02-0148-136
    Figure 110139048-A0305-02-0149-137
    在所述材料中,Me意指甲基,且Et意指乙基。
  13. 一種包含如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑的黏合膜。
  14. 一種包含如請求項1所述的包括配位化合物的光吸收劑的光學膜。
  15. 如請求項14所述的光學膜,包括:黏合膜;以及黏結劑樹脂膜,其中所述黏合膜包含所述光吸收劑。
  16. 一種包含如請求項1所述的包括配位化合物的光吸 收劑的電子元件。
  17. 如請求項16所述的電子元件,包括黏合膜,其中所述黏合膜包含所述光吸收劑。
TW110139048A 2020-10-22 2021-10-21 配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件 TWI798886B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20200137608 2020-10-22
KR10-2020-0137608 2020-10-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202222815A TW202222815A (zh) 2022-06-16
TWI798886B true TWI798886B (zh) 2023-04-11

Family

ID=81290938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110139048A TWI798886B (zh) 2020-10-22 2021-10-21 配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20230383149A1 (zh)
EP (1) EP4234564A4 (zh)
JP (1) JP7548481B2 (zh)
KR (1) KR102660172B1 (zh)
CN (1) CN116490586A (zh)
TW (1) TWI798886B (zh)
WO (1) WO2022086250A1 (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2735286A1 (de) * 1977-08-05 1979-02-22 Basf Ag Metallkomplexfarbstoffe
JP5952013B2 (ja) 2011-03-23 2016-07-13 三菱樹脂株式会社 画像表示装置用透明両面粘着シートおよび画像表示装置
JP2016160412A (ja) 2015-03-05 2016-09-05 日本化薬株式会社 アゾ化合物
CN115745970A (zh) * 2018-12-10 2023-03-07 江苏裕事达新材料科技有限责任公司 一种多环化合物、制备方法以及膜
KR102316765B1 (ko) 2019-05-31 2021-10-22 삼성중공업 주식회사 벨로우즈 파이프의 길이조절 장치

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
期刊 Nisheeth C.Desai, Jiten A.Chudasama, Bonny Y.Patel, Krunalsinh A.Jadeja, Tushar J.Karkar, Jignasu P.Mehta, and Dinesh R.Godhani Catalysis by the entangled complexes in matrix structure of zeolite-Y over α-pinene Microporous and Mesoporous Materials Volume 242 ELSEVIER Available online 17 January 2017 245-255

Also Published As

Publication number Publication date
EP4234564A4 (en) 2024-05-08
JP7548481B2 (ja) 2024-09-10
US20230383149A1 (en) 2023-11-30
KR102660172B1 (ko) 2024-04-24
CN116490586A (zh) 2023-07-25
WO2022086250A1 (ko) 2022-04-28
KR20220053502A (ko) 2022-04-29
TW202222815A (zh) 2022-06-16
JP2023544759A (ja) 2023-10-25
EP4234564A1 (en) 2023-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI823062B (zh) 化合物以及包括其之光學膜、形成光學膜的組合物以及顯示裝置
WO2019216266A1 (ja) 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法
CN112470045B (zh) 滤光片及显示装置
TWI798886B (zh) 配位化合物以及包括其之光吸收劑以及包括所述光吸收劑的黏合膜、光學膜及電子元件
KR100845726B1 (ko) 영상 디스플레이 장치용 필터
US11214580B2 (en) Compound, color conversion film comprising same, back-light unit, and display device
WO2019230570A1 (ja) 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置
KR20220111628A (ko) 피라졸 유도체 화합물, 이를 포함하는 점착 조성물 및 이를 포함하는 점착 필름
KR20220163605A (ko) 점착제 조성물, 점착 필름, 광학 필름 및 전자 소자
TWI823246B (zh) 吡唑衍生化合物、含彼之黏著劑組成物及含彼之黏著膜
JP2018028605A (ja) 光学フィルタ用組成物および光学フィルタ
TW202426594A (zh) 化合物、包括其之黏著劑組成物、黏著膜以及電子元件
CN116802249A (zh) 吡唑衍生物化合物、包含该化合物的粘合剂组合物和包含该粘合剂组合物的粘合剂膜
KR20220134988A (ko) 배위 화합물, 이를 포함하는 점착 조성물 및 이를 포함하는 점착 필름
JP6530935B2 (ja) 近赤外線カットフィルター
CN114222773B (zh) 组合物、固化物、光学滤波器及固化物的制造方法
TWI834953B (zh) 化合物、包括其之組合物、光學膜以及顯示裝置
JP7313217B2 (ja) 化合物及びその製造方法
CN114981278B (zh) 化合物和包含其的光学膜
KR20240130442A (ko) 흑색 안료 조성물, 및 이를 이용한 코팅 조성물, 코팅층, 광학 장치 및 전자 장치
JP2002226827A (ja) 近赤外線吸収化合物、それを用いた近赤外線吸収フィルターおよび当該フィルターを利用した近赤外線除去方法
KR20220163680A (ko) 근적외선 흡수 특성을 갖는 프탈로시아닌계 화합물 및 이를 포함하는 근적외선 흡수 코팅 조성물
KR20140087701A (ko) 신규 비스-디피리네이토계 구리 착물 유도체, 이를 포함하는 안료 분산액 조성물, 및 이를 이용한 컬러필터