TWI795826B - X射線檢查裝置 - Google Patents
X射線檢查裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI795826B TWI795826B TW110123743A TW110123743A TWI795826B TW I795826 B TWI795826 B TW I795826B TW 110123743 A TW110123743 A TW 110123743A TW 110123743 A TW110123743 A TW 110123743A TW I795826 B TWI795826 B TW I795826B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- imaging
- unit
- time
- inspection
- ray
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/046—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using tomography, e.g. computed tomography [CT]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/03—Investigating materials by wave or particle radiation by transmission
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/306—Accessories, mechanical or electrical features computer control
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/40—Imaging
- G01N2223/401—Imaging image processing
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
一種X射線檢查裝置,藉由使用X射線進行拍攝來對檢查對象進行檢查,其包括:X射線發生器,產生照射至所述檢查對象的X射線;X射線檢測器,對透射所述檢查對象的X射線進行檢測;設定接受部,接受與所述攝像有關的條件即攝像條件的設定;所需時間推定部,對包含使用X射線的所述檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間且為針對所設定的所述攝像條件的所需時間進行推定;以及所需時間顯示部,顯示所述所需時間。
Description
本發明是有關於一種使用X射線的透射或電腦斷層掃描(Computer Tomography,CT)的X射線檢查裝置。
先前,在使用X射線的CT的X射線檢查裝置(以下稱為「X射線CT裝置」中,使用多個(例如15張~500張左右)投影資料進行重構處理來獲取CT圖像(參照專利文獻1)。在藉由X射線CT裝置進行CT攝像的情況下,若單純地計算15張與500張的攝像時間則相差30倍以上。
尤其是在檢查裝置中,攝像時間與節拍時間(自向作為檢查對象的檢查裝置搬入至搬出的時間)有關。所述節拍時間在檢查裝置中是重要的因素。例如,其原因在於若為以經過由X射線檢查裝置執行的檢查步驟來將製品出貨的方式構成的生產線,則根據由X射線檢查裝置每天能夠檢查的數量,每天的出貨數量會受到限制。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第6519663號公報
[發明所欲解決之課題]
但是,先前,在決定基於X射線的攝像條件時,未實現在考慮到節拍時間的同時決定適當的攝像條件。
本發明是鑑於所述問題而成者,其目的在於提供一種藉由顯示包含攝像的規定處理所需的時間,而可在考慮到處理所需的時間的同時決定適當的攝像條件的X射線檢查裝置。
[解決課題之手段]
用於解決所述課題的本發明為一種藉由使用X射線進行拍攝來對檢查對象進行檢查的X射線檢查裝置,其包括:
X射線發生器,產生照射至所述檢查對象的X射線;
X射線檢測器,對透射所述檢查對象的X射線進行檢測;
設定接受部,接受與所述攝像有關的條件即攝像條件的設定;
所需時間推定部,對包含使用X射線的所述檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間且為針對所設定的所述攝像條件的所需時間進行推定;以及
所需時間顯示部,顯示所述所需時間。
根據本發明,在使用設定接受部對利用X射線拍攝檢查對象時的攝像條件進行設定時,藉由所需時間推定部對包含使用X射線的檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間且為針對所設定的攝像條件的所需時間進行推定,並顯示於所需時間顯示部,因此可在考慮到處理所需的時間的同時決定適當的攝像條件。
另外,在本發明中,包括:
單位攝像區域設定部,對與所述X射線檢測器的視場對應的所述檢查對象的區域即單位攝像區域進行設定,
所述設定接受部針對所述檢查對象中包含的被檢查物,接受所述攝像條件的設定,
所述單位攝像區域設定部根據對所述被檢查物設定的所述攝像條件,設定所述單位攝像區域,
所述攝像條件包含對所述單位攝像區域照射在所述X射線發生器中產生的X射線的時間即曝光時間、及拍攝所述單位攝像區域的次數即攝像次數,
所述所需時間可包含所述曝光時間乘以所述攝像次數而得的拍攝所述單位攝像區域的時間。
如此,根據與檢查對象中包含的被檢查物相應設定的攝像條件,設定與X射線檢測器的視場對應的檢查對象的區域即單位攝像區域。然後,推定並顯示曝光時間乘以攝像次數而得的包含對單位攝像區域進行拍攝的時間的所需時間。即,推定並顯示如下的所需時間,所述所需時間包含針對檢查對象的檢查所包含的規定處理中的、特別是在使用X射線CT的檢查中作為主要處理的自不同角度對單位攝像區域進行多個攝像所需的時間,因此可在更準確地考慮到處理所需的時間的同時決定適當的攝像條件。
另外,在本發明中,
所述所需時間包含:針對所有所述單位攝像區域,所述曝光時間乘以所述攝像次數而得的拍攝所述單位攝像區域的時間的和,
所述單位攝像區域設定部可根據所述被檢查物以所述單位攝像區域的數量變少的方式設定所述單位攝像區域。
如此,即便在對被檢查對象設定多個單位攝像區域的情況下,亦可在針對檢查對象的檢查所包含的規定處理中的特別是使用X射線CT的檢查中,推定並顯示包含作為主要處理的自不同角度對單位攝像區域進行多個攝像所需的時間的針對所有單位攝像區域的和的所需時間。進而,由於單位攝像區域是以根據被檢查物而單位攝像區域的數量變少的方式設定,因此可在不延長處理所需的時間的情況下,在更準確地考慮的同時決定適當的攝像條件。
另外,在本發明中,
所述所需時間可包含用於將所述檢查對象定位於規定位置的時間,所述規定位置用於檢查。
據此,可在考慮亦包含將檢查對象定位於用於檢查的規定位置的處理所需的時間在內的同時決定適當的攝像條件。
另外,在本發明中,
所述所需時間可包含將所述檢查對象搬入至所述X射線檢查裝置內的時間及自所述X射線檢查裝置內搬出的時間。
據此,可在亦將檢查對象搬入至X射線檢查裝置內的處理及自所述X射線檢查裝置內搬出的處理所需的時間包含在內進行考慮的同時決定適當的攝像條件。
[發明的效果]
根據本發明,可提供一種藉由顯示包含攝像的規定處理所需的時間,可在考慮到處理所需的時間的同時決定適當的攝像條件的X射線檢查裝置。
〔適用例〕
以下,參照圖式對本發明的適用例進行說明。
圖1是適用本發明的X射線檢查裝置1的功能框圖,圖2是說明X射線檢查裝置1中的檢查時間顯示處理的程序的流程圖。
在X射線檢查裝置1中,首先,使用者藉由攝像條件設定UI 131選擇應設定(變更)攝像條件的被檢查物(步驟S1)。此處,所謂被檢查物,是指基板等檢查對象中包含的零件或區域。
接著,使用者藉由攝像條件設定UI 131設定或變更針對所選擇的被檢查物的攝像條件(步驟S2)。
當如此設定(變更)攝像條件時,藉由視角分配部122分配與所選擇的被檢查物對應的視角(步驟S3)。所謂視角,是指X射線檢測器112拍攝自X射線發生器111照射的X射線所透射的檢查對象時的視場。視角分配部122以根據所選擇的被檢查物而所分配的視角的數量更少,理想的是最小的方式分配視角。例如,在圖4所示的攝像條件設定UI 131中,在檢查對象顯示區域1311,作為所選擇的被檢查物,利用四邊形的粗線框顯示出B零件1311b及E零件1311e。而且,如圖5的零件一覽顯示部1314所示,藉由針對B零件及E零件均將攝像條件中的解析度自30變更為25,將投影張數自64張變更為256張,從而對B零件1311b分配視角13113,對E零件分配視角13111。
接著,檢查時間推定部123推定檢查時間,即計算推定檢查時間(步驟S4)。檢查時間是至少包含使用X射線的檢查對象的攝像的規定處理所需的時間,能夠進行各種計算方法。此處,檢查時間推定部123將推定檢查時間計算為69.4秒。
在步驟S4中計算出的推定檢查時間被發送並顯示於檢查時間顯示UI 132(步驟S5),檢查時間顯示處理結束。例如,在圖5所示的攝像條件設定UI 131中,在詳細資訊顯示部1313的推定檢查時間顯示部1313e顯示為69.4秒。
如此,根據本發明,藉由推定與攝像條件對應的檢查時間並實時顯示,使用者可在考慮到檢查時間的同時決定適當的攝像條件。
〔實施例1〕
以下,使用圖式對本發明的實施例1的X射線檢查裝置1進行更詳細的說明。但是,本實施形態中所記載的裝置的結構應根據各種條件適宜變更。即,並不旨在將本發明的範圍限定於以下的實施形態。
<裝置結構>
圖1是表示X射線檢查裝置1的概略結構的功能框圖。此處,對使用X射線的CT圖像的X射線檢查裝置進行說明。
X射線檢查裝置1是自多個攝像位置對檢查對象物進行拍攝來獲取三維資料的裝置,主要包含攝像部11、運算部12、UI部13、檢查對象搬送部14及匯流排15而構成。匯流排15是連接各部來收發資料的傳輸路徑。作為檢查對象,例如可列舉基板,但並不限於此。
攝像部11包含X射線發生器111、X射線檢測器112、平台113、定位部114及攝像條件記憶部115。
X射線發生器111是對檢查對象照射X射線的裝置。
X射線檢測器112是對自X射線發生器111輸出、且透射檢查對象的X射線進行檢測並加以圖像化的二維X射線檢測器,例如可使用影像增強器(Image Intensifier,I.I.)管或平板探測器(Flat Panel Detector,FPD)。
平台113是為了自多個攝像位置拍攝檢查對象而變更X射線發生器111、X射線檢測器112及檢查對象的全部或一部分的X方向、Y方向及Z方向的相對位置的機構。
定位部114是用於將檢查對象定位於規定位置的設備,所述規定位置用於檢查,且包含用於檢測檢查對象在XY平面內的位置的電荷耦合元件(charge coupled device,CCD)相機、檢測與所述XY平面正交的Z方向的位置的位移感測器、以及對該些檢測結果進行處理,並將檢查對象定位於規定位置的機構。
攝像條件記憶部115是記憶體(例如包含後述的輔助記憶部)的規定區域,將攝像條件與在所述攝像條件下進行檢查時的檢查時間相關聯地予以記憶。
運算部12包含檢查對象資訊記憶部121、視角分配部122、檢查時間推定部123。運算部12是進行X射線CT的計算或檢查處理等各種運算的裝置,可包含特定應用積體電路(Application Specific Integrated Circuit,ASIC)或現場可程式閘陣列(Field Programmable Gate Array,FPGA)般的邏輯電路。另外,可使用被稱為中央處理單元(Central Processing Unit,CPU)(中央運算處理裝置)的一般的通用運算裝置、主記憶部及輔助記憶部。作為主記憶部可使用隨機存取記憶體(Random Access Memory,RAM)等記憶體。輔助記憶部可使用唯讀記憶體(Read-Only Memory,ROM)、硬磁碟驅動機(Hard Disk Drive,HDD)或固態硬碟(Solid State Disk,SSD)等。
檢查對象資訊記憶部121是記憶體(例如包含輔助記憶部)的規定區域,根據檢查對象的電腦輔助設計(computer-aided design,CAD)資料或檢查對象的樣本來記憶與檢查對象、其中包含的被檢查物(零件或區域)以及該些的形狀及配置(位置關係)有關的資訊。
視角分配部122是根據能夠針對每個被檢查物設定的攝像條件,分配與利用X射線檢測器112拍攝檢查對象時的視場對應的區域即視角的功能部。視角分配部122根據對被檢查物設定的攝像條件,在對檢查對象分配多個視角的情況下,以視角的數量更少、理想的是最小的方式進行分配。此處,視角對應於本發明的單位攝像區域,視角分配部對應於本發明的單位攝像區域設定部。
檢查時間推定部123是基於所設定的攝像條件及與其相應分配的視角,推定檢查對象的檢查時間的功能部。此處,檢查時間是包含使用X射線的檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間的例子,與本發明的所需時間對應。所述檢查時間可設為針對由藉由X射線檢測器112拍攝被定位於X射線檢查裝置1的規定位置的檢查對象而得的圖像重構的三維資料,獲取所期望的位置(區域)的檢查用圖像,並進行被檢查物的檢查的時間。檢查時間亦可更包含藉由所述定位部114對搬入至X射線檢查裝置1內的檢查對象進行定位所需的時間。另外,檢查時間亦可更包含將檢查對象搬入至X射線檢查裝置1內,並將檢查結束的檢查對象自X射線檢查裝置1內搬出所需的時間。此時,檢查時間推定部123對應於本發明的所需時間推定部。
UI部13包含攝像條件設定UI 131、檢查時間顯示UI 132。UI部13是在使用者與X射線檢查裝置1之間進行各種資訊的授受的介面,例如可顯示於兼作輸入輸出部的觸控面板顯示器,亦可顯示於獨立構成的顯示器等輸出部,並接受利用滑鼠、鍵盤等輸入部的輸入。
攝像條件設定UI 131是接受檢查對象中包含的每個被檢查物的攝像條件的輸入的使用者介面,例如包含圖3所示的使用者介面。
檢查時間顯示UI 132是顯示由檢查時間推定部123推定的檢查時間的使用者介面。檢查時間顯示UI 132對應於本發明的所需時間顯示部。
檢查對象輸送部14是將檢查對象搬入至X射線檢查裝置1內,並且將檢查結束的檢查對象搬出至X射線檢查裝置1外的機構,例如包含輸送機等。
<檢查時間顯示處理>
接著,對檢查時間顯示處理的程序進行說明。
圖3~圖5表示在X射線檢查裝置1的顯示器顯示的攝像條件設定UI 131的例子。此處,圖3~圖5亦是檢查時間顯示UI 132的例子。
在對參照圖2所示的流程圖的檢查時間顯示處理的程序進行說明之前,參照圖3,對攝像條件設定UI 131的結構進行說明。
在畫面左上部配置有四邊形狀的檢查對象顯示區域1311。在所述檢查對象顯示區域1311,顯示有表示檢查對象的規定區域的圖像。顯示於檢查對象顯示區域1311的規定區域可為檢查對象的全部,亦可為一部分。此處,示出自高度方向(Z方向)觀察作為檢查對象的基板的規定區域的狀態。在檢查對象顯示區域1311中顯示的可為檢查對象的CAD資料或基於此生成的圖像,亦可為拍攝作為檢查對象的樣本而得的圖像。
另外,在檢查對象顯示區域1311,亦顯示安裝於作為檢查對象的基板的電子零件等被檢查物、或形成於基板上的基準標記等。在攝像條件設定UI 131的說明中,將被檢查物與基準標記合稱為零件。此處,在檢查對象顯示區域1311,顯示有A零件1311a、B零件1311b、C零件1311c、D零件1311d、E零件1311e、F零件1311f、G零件1311g、H零件1311h。此處,A零件1311a、B零件1311b、E零件1311e、F零件1311f、G零件1311g、H零件1311h是電子零件等被檢查物,C零件1311c、D零件1311d是由定位部114的CCD相機拍攝的基準標記。
另外,將藉由X射線拍攝作為檢查對象的基板時的X射線檢測器112的視場即視角13111、視角13112顯示為四邊形的框。視角13111包含A零件1311a、B零件1311b及E零件1311e,視角13112包含F零件1311f、G零件1311g及H零件1311h。
在攝像條件設定UI 131的畫面右上部配置有攝像條件設定部1312。攝像條件設定部1312配置有用於設定攝像張數的下拉項目表(pull down menu)1312a、用於設定解析度(μm)的下拉項目表1312b、用於設定照射角度(°)的下拉項目表1312c、用於設定管電壓(kV)的下拉項目表1312d、用於設定管電流(μA)的下拉項目表1312e、用於設定曝光時間(msec)的下拉項目表1312f。此處,作為預設(default)的數值,選擇了攝像張數64張、解析度30 μm、照射角度45°、管電壓100 kV、管電流295 μA、曝光時間85 msec。
在攝像條件設定UI 131的畫面右中部配置有詳細資訊顯示部1313。在詳細資訊顯示部1313包含總零件數顯示部1313a、總畫面數顯示部1313b、CCD畫面數顯示部1313c、X射線畫面數顯示部1313d、推定檢查時間顯示部1313e。總零件數顯示部1313a顯示在檢查對象顯示區域1311顯示的檢查對象中包含的零件的數量。此處,如上所述,由於在檢查對象中包含A零件1311a~H零件1311h此八個零件,因此作為總零件數而顯示8。總畫面數表示X射線檢測器112的視角的數量即X射線畫面數、與定位部114中所含的CCD相機的視角的數量即CCD畫面數的合計。X射線畫面數如在檢查對象顯示區域1311所顯示般,為視角13111與視角13112此兩個,CCD畫面數為針對C零件1311c、D零件1311d的視角此兩個,因此作為總畫面數而顯示4。X射線畫面數顯示部1313d顯示如上所述的X射線畫面數,CCD畫面數顯示部1313c顯示如上所述的CCD畫面數。
推定檢查時間顯示部1313e是圖1中的檢查時間顯示UI 132。顯示由檢查時間推定部123推定的檢查時間。此處,作為基於上文所述的攝像條件、X射線畫面數及CCD畫面數推定的檢查時間而顯示31.2秒。
在攝像條件設定UI 131的畫面下部,配置有零件一覽顯示部1314。此處,對於在檢查對象顯示區域1311顯示的零件即A零件~H零件的各個,顯示所述零件存在的面、作為攝像條件的照射角度、解析度、投影張數、管電壓、管電流及曝光時間。對於作為基準標記的C零件及D零件,由於能夠設定的攝像條件僅有解析度,因此對於照射角度等其他攝像條件並未顯示值。
在攝像條件設定UI 131的畫面右上角,配置有確定按鈕1315及取消按鈕1316。在確認到推定檢查時間的顯示的使用者判斷為檢查時間適當的情況下,可藉由將游標對準確定按鈕1315並左鍵點擊滑鼠等來確定經設定或變更的攝像條件。在使用者判斷為檢查時間不適當的情況下,藉由選擇取消按鈕1316來變更攝像條件。此時,亦可自被檢查物的選擇重新開始。
在攝像條件設定UI 131的畫面中央上端配置有基板表面顯示1317及基板背面顯示1318。於在檢查對象顯示區域1311顯示有作為檢查對象的基板的表面的情況下,主動地顯示基板表面顯示1317,在顯示有基板的背面的情況下,主動地顯示基板背面顯示1318。此處,在檢查對象顯示區域1311顯示基板的表面,主動地顯示基板表面顯示1317。
以下,返回圖2的流程圖,對檢查時間顯示處理的程序進行說明。
當檢查時間顯示處理開始時,使用者選擇被檢查物(步驟S1)。具體而言,在圖3所示的攝像條件設定UI 131中,使用者藉由將畫面上顯示的游標移動至檢查對象顯示區域1311的B零件1311b的位置,並左鍵點擊滑鼠等的操作來選擇B零件1311b。進而,以同樣的方式選擇E零件1311e。如此,當選擇B零件1311b及E零件1311e時,如圖4所示,以粗線顯示所選擇的零件。所選擇的零件的顯示態樣的變更並不限於此,可適宜採用變更顯示顏色等方法。另外,當選擇了零件時,如圖4所示,在零件一覽顯示部1314中,所選擇的零件的列的顯示顏色被變更。此處,B零件1311b及E零件1311e的列以灰色顯示。所選擇的零件的顯示態樣的變更並不限於此,可適宜採用反轉顯示等方法。
接著,使用者設定或變更X射線攝像條件(步驟S2)。具體而言,在圖4所示的狀態的攝像條件設定UI 131中,使用者變更X射線攝像條件。經變更的攝像條件與在步驟S1中選擇的被檢查物相關聯地記憶於攝像條件記憶部115中。X射線攝像條件的變更是選擇配置於攝像條件設定部1312的下拉項目表1312a~下拉項目表1312f中的用於設定應變更的攝像條件的下拉項目表,並變更數值。此處,在選擇了檢查對象顯示區域1311的B零件1311b的狀態下,將攝像條件設定部1312的投影張數自64變更為256,將解析度自30變更為25。對於檢查對象顯示區域1311的E零件1311e,亦將投影張數自64變更為256,將解析度自30變更為25。圖5示出如此藉由攝像條件設定部1312變更投影張數與解析度的狀態。對應於所述攝像條件的變更,在零件一覽顯示部1314的B零件及E零件的列中,解析度被變更為25,投影張數被變更為256。
如上所述,當設定或變更攝像條件時,與此對應地由視角分配部122分配視角(步驟S3)。如圖5所示,與攝像條件的變更對應地,在檢查對象顯示區域1311中,除了包含E零件1311e的視角13111、與包含F零件1311f、G零件1311g及H零件1311h的視角13112以外,亦新分配了包含B零件1311b及A零件1311a的視角13113。另外,在詳細資訊顯示部1313的X射線畫面數顯示部1313d顯示3。此時,視角分配部122在對檢查對象分配多個視角的情況下,以視角的數量更少,理想的是最小的方式分配視角。如此,由於檢查時拍攝的視角的數量變少,因此可縮短攝像時間及檢查時間。
接著,基於在步驟S2中設定或變更的攝像條件及在步驟S3中分配的視角,檢查時間推定部123推定檢查時間,即計算推定檢查時間(步驟S4)。
在檢查時間推定部123中推定的檢查時間是至少包含使用X射線的檢查對象的攝像的規定處理所需的時間,能夠進行各種計算方法。例如,檢查時間包含曝光時間乘以攝像次數而得的視角的攝像時間。另外,檢查時間亦可包含:針對所拍攝的所有視角,曝光時間乘以攝像次數而得的視角的攝像時間的和。檢查時間亦可包含對如此計算出的時間加上攝像部11自一個視角向下一個視角移動的時間而得的時間。另外,在檢查時間中亦可包含由定位部114進行的檢查對象的定位所需的時間,例如由CCD相機進行的攝像時間或由位移感測器進行的檢測時間。另外,亦可包含藉由檢查對象搬送部14將檢查對象搬入至X射線檢查裝置1內所需的搬入時間、及自X射線檢查裝置1內搬出所需的搬出時間。
另外,所述視角間的移動、由定位部114進行的定位、由檢查對象搬送部14進行的檢查對象的搬入及搬出是本發明的規定處理的例子。
在圖5所示的例子中,針對B零件1311b及E零件1311e的攝像條件中的解析度自30變更為25,投影張數自64變更為256。對於如此變更的攝像條件,檢查時間推定部123將推定檢查時間計算為69.4秒。
詳細而言,在圖5所示的例子中,對於B零件1311b,由於投影張數為256張,因此自不同的角度對視角13113所示的視角拍攝256次。由於各攝像時的X射線的曝光時間為85 msec,因此B零件的攝像時間為曝光時間乘以攝像次數而得的85(msec)×256/1000=21.8秒。同樣地,對於E零件1311e,由於投影張數為256張,因此自不同的角度對視角13111所示的視角拍攝256次。由於各攝像時的X射線的曝光時間為85 msec,因此E零件1311e的攝像時間為曝光時間乘以攝像次數而得的85(msec)×256/1000=21.8秒。在圖4所示的例子中,對於包含B零件1311b及E零件1311e的視角13111,由於以X射線的曝光時間85 msec自不同的角度拍攝64次,因此攝像時間為85(msec)×64/1000=5.4秒。因此,關於視角13111,因攝像條件自圖4所示的例子向圖5所示的例子變更而產生的、攝像時間的增量為21.8-5.4=16.4秒。若對新分配的視角13113加上所述攝像時間21.8秒,則因攝像條件自圖4所示的例子如圖5所示的例子般變更而產生的、攝像時間的增量為38.2秒。因此,攝像條件變更後的推定檢查時間為自攝像條件變更前的推定檢查時間31.2秒增加了38.2秒而得的69.4秒。
如上所述計算出的推定檢查時間被發送至檢查時間顯示UI 132,並顯示於推定檢查時間顯示部1313e(步驟S5),檢查時間顯示處理結束。
如此,藉由推定與攝像條件對應的檢查時間並實時顯示,使用者可在考慮到檢查時間的同時決定適當的攝像條件。
此外,以下為了能夠對本發明的構成要件與實施例的結構進行對比,而對本發明的構成要件附加圖示的符號進行記載。
<發明1>
一種X射線檢查裝置1,藉由使用X射線進行拍攝來對檢查對象進行檢查,其特徵在於包括:
X射線發生器111,產生照射至所述檢查對象的X射線;
X射線檢測器112,檢測透射所述檢查對象的X射線;
設定接受部131,接受與所述攝像有關的條件即攝像條件的設定;
所需時間推定部123,對包含使用X射線的所述檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間且為針對所設定的所述攝像條件的所需時間進行推定;以及
所需時間顯示部132,顯示所述所需時間。
1:X射線檢查裝置
11:攝像部
12:運算部
13:UI部
14:檢查對象搬送部
15:匯流排
111:X射線發生器
112:X射線檢測器
113:平台
114:定位部
115:攝像條件記憶部
121:檢查對象資訊記憶部
122:視角分配部
123:檢查時間推定部(所需時間推定部)
131:攝像條件設定UI(設定接受部)
132:檢查時間顯示UI(所需時間顯示部)
1311:檢查對象顯示區域
1311a:A零件
1311b:B零件
1311c:C零件
1311d:D零件
1311e:E零件
1311f:F零件
1311g:G零件
1311h:H零件
1312:攝像條件設定部
1312a、1312b、1312c、1312d、1312e、1312f:下拉項目表
1313:詳細資訊顯示部
1313a:總零件數顯示部
1313b:總畫面數顯示部
1313c:CCD畫面數顯示部
1313d:X射線畫面數顯示部
1313e:推定檢查時間顯示部
1314:零件一覽顯示部
1315:確定按鈕
1316:取消按鈕
1317:基板表面顯示
1318:基板背面顯示
13111、13112、13113:視角
S1~S5:步驟
圖1是本發明的實施例1的X射線檢查裝置的功能框圖。
圖2是說明本發明的實施例1的X射線檢查裝置的檢查時間顯示處理的程序的流程圖。
圖3是例示本發明的實施例1的攝像條件設定使用者介面(User Interface,UI)的圖。
圖4是表示本發明的實施例1的攝像條件設定UI的轉變的圖。
圖5是表示本發明的實施例1的攝像條件設定UI的另一轉換的圖。
1:X射線檢查裝置
11:攝像部
12:運算部
13:UI部
14:檢查對象搬送部
15:匯流排
111:X射線發生器
112:X射線檢測器
113:平台
114:定位部
115:攝像條件記憶部
121:檢查對象資訊記憶部
122:視角分配部
123:檢查時間推定部(所需時間推定部)
131:攝像條件設定UI(設定接受部)
132:檢查時間顯示UI(所需時間顯示部)
Claims (5)
- 一種X射線檢查裝置,藉由使用X射線進行拍攝來對檢查對象進行檢查,其包括:X射線發生器,產生照射至所述檢查對象的X射線;X射線檢測器,對透射所述檢查對象的X射線進行檢測;設定接受部,接受與攝像有關的條件即攝像條件的設定;所需時間推定部,對包含使用X射線的所述檢查對象的攝像的規定處理所需的所需時間且為針對所設定的所述攝像條件的所需時間進行推定;以及所需時間顯示部,顯示所述所需時間。
- 如請求項1所述的X射線檢查裝置,包括:單位攝像區域設定部,對與所述X射線檢測器的視場對應的所述檢查對象的區域即單位攝像區域進行設定,所述設定接受部針對所述檢查對象中包含的被檢查物,接受所述攝像條件的設定,所述單位攝像區域設定部根據對所述被檢查物設定的所述攝像條件,設定所述單位攝像區域,所述攝像條件包含對所述單位攝像區域照射在所述X射線發生器中產生的X射線的時間即曝光時間、及拍攝所述單位攝像區域的次數即攝像次數,所述所需時間包含所述曝光時間乘以所述攝像次數而得的拍攝所述單位攝像區域的時間。
- 如請求項2所述的X射線檢查裝置,其中,所述所需時間包含:針對所有所述單位攝像區域,所述曝光時間乘以所述攝像次數而得的拍攝所述單位攝像區域的時間的和,所述單位攝像區域設定部根據所述被檢查物以所述單位攝像區域的數量變少的方式設定所述單位攝像區域。
- 如請求項2或請求項3所述的X射線檢查裝置,其中,所述所需時間包含用於將所述檢查對象定位於規定位置的時間,所述規定位置用於檢查。
- 如請求項2或請求項3所述的X射線檢查裝置,其中,所述所需時間包含將所述檢查對象搬入至所述X射線檢查裝置內的時間及自所述X射線檢查裝置內搬出的時間。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020-115581 | 2020-07-03 | ||
JP2020115581A JP7501167B2 (ja) | 2020-07-03 | 2020-07-03 | X線検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202202833A TW202202833A (zh) | 2022-01-16 |
TWI795826B true TWI795826B (zh) | 2023-03-11 |
Family
ID=79010738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110123743A TWI795826B (zh) | 2020-07-03 | 2021-06-29 | X射線檢查裝置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7501167B2 (zh) |
CN (1) | CN113884518A (zh) |
DE (1) | DE102021003441A1 (zh) |
TW (1) | TWI795826B (zh) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102192918A (zh) * | 2010-03-15 | 2011-09-21 | 欧姆龙株式会社 | X射线检查装置及x射线检查方法 |
CN104995690A (zh) * | 2013-02-15 | 2015-10-21 | 卡尔蔡司X射线显微镜公司 | 多能量x射线显微镜数据采集及图像重建系统及方法 |
WO2019214710A1 (zh) * | 2018-05-10 | 2019-11-14 | 同方威视技术股份有限公司 | 双束扫描x射线发生器、透射检查设备、人体透视复合检查系统以及检查方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005283180A (ja) | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Hitachi Ltd | X線ct撮像方法及びx線ct装置並びにx線ct用撮像装置 |
JP2007127490A (ja) | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Shimadzu Corp | X線検査装置 |
JP5082776B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2012-11-28 | オムロン株式会社 | 画像処理装置 |
TWI394490B (zh) * | 2008-09-10 | 2013-04-21 | Omron Tateisi Electronics Co | X射線檢查裝置及x射線檢查方法 |
JP5582841B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-09-03 | 株式会社サキコーポレーション | 被検査体の放射線検査装置、放射線検査方法およびプログラム |
JP5549407B2 (ja) * | 2010-06-17 | 2014-07-16 | 株式会社島津製作所 | X線検査装置 |
DE102011102334A1 (de) | 2011-05-24 | 2012-11-29 | Yxlon International Gmbh | Röntgendurchleuchtungsverfahren zur Erstellung von zwei Röntgendurchleuchtungsbildern |
IL287733B2 (en) | 2011-07-08 | 2023-04-01 | Fastcap Systems Corp | A device for storing energy at high temperatures |
JP2013190361A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Omron Corp | X線検査装置およびその制御方法 |
JP6306937B2 (ja) | 2014-05-14 | 2018-04-04 | 株式会社サキコーポレーション | 検査装置 |
EP3372992A4 (en) | 2015-11-05 | 2018-12-26 | Shimadzu Corporation | Display device and x-ray ct device |
JP6468270B2 (ja) | 2016-10-13 | 2019-02-13 | オムロン株式会社 | 被曝量管理装置及び被曝量管理方法 |
JP7257761B2 (ja) | 2018-09-13 | 2023-04-14 | 東芝Itコントロールシステム株式会社 | 放射線検査装置 |
-
2020
- 2020-07-03 JP JP2020115581A patent/JP7501167B2/ja active Active
-
2021
- 2021-06-29 TW TW110123743A patent/TWI795826B/zh active
- 2021-06-30 CN CN202110737864.1A patent/CN113884518A/zh active Pending
- 2021-07-02 DE DE102021003441.4A patent/DE102021003441A1/de active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102192918A (zh) * | 2010-03-15 | 2011-09-21 | 欧姆龙株式会社 | X射线检查装置及x射线检查方法 |
CN104995690A (zh) * | 2013-02-15 | 2015-10-21 | 卡尔蔡司X射线显微镜公司 | 多能量x射线显微镜数据采集及图像重建系统及方法 |
WO2019214710A1 (zh) * | 2018-05-10 | 2019-11-14 | 同方威视技术股份有限公司 | 双束扫描x射线发生器、透射检查设备、人体透视复合检查系统以及检查方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7501167B2 (ja) | 2024-06-18 |
CN113884518A (zh) | 2022-01-04 |
DE102021003441A1 (de) | 2022-01-05 |
TW202202833A (zh) | 2022-01-16 |
JP2022013190A (ja) | 2022-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4551919B2 (ja) | 断層撮影の検査システムおよびその方法 | |
US20150369757A1 (en) | Method and apparatus for generating a three-dimensional model of a region of interest using an imaging system | |
JP5444718B2 (ja) | 検査方法、検査装置および検査用プログラム | |
CN107843606B (zh) | X线检查装置及其控制方法、记录介质 | |
JP2009198440A (ja) | 補正パターン画像生成装置、パターン検査装置および補正パターン画像生成方法 | |
US9157874B2 (en) | System and method for automated x-ray inspection | |
JP2011075470A (ja) | 画像処理プログラム、画像処理方法および画像処理装置 | |
CN113397577B (zh) | 动态品质管理装置及其方法、计算机可读取记录介质 | |
TWI795826B (zh) | X射線檢查裝置 | |
JP2019023664A (ja) | X線検査の処理装置およびx線検査方法 | |
JP4650076B2 (ja) | 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法 | |
JP2009162596A (ja) | 画像確認作業の支援方法およびこの方法を用いたx線利用の基板検査装置 | |
Chae et al. | Geometric calibration of a computed laminography system for high‐magnification nondestructive test imaging | |
JP2017058190A (ja) | 参照画像作成用の基準データ作成方法及びパターン検査装置 | |
US11166694B2 (en) | Positioning support apparatus, radiographic imaging system, and storage medium | |
JP4772815B2 (ja) | 補正パターン画像生成装置、パターン検査装置および補正パターン画像生成方法 | |
TWI802270B (zh) | 檢查系統、檢查管理裝置、檢查程式生成方法、及程式 | |
JP2009276133A (ja) | X線撮影装置 | |
WO2024117099A1 (ja) | 検査装置 | |
JP2007121082A (ja) | X線画像出力装置、x線画像出力方法およびx線画像出力プログラム | |
US20240062401A1 (en) | Measurement system, inspection system, measurement device, measurement method, inspection method, and program | |
JP4006434B2 (ja) | 半導体パッケージの検査システムおよびプログラム | |
WO2021181792A1 (ja) | 検査システム、検査方法及びプログラム | |
Voigt et al. | Evaluation of Influences on Accuracy of Radiographic Measurements of Solder Joint Volume | |
WO2018003018A1 (ja) | X線検査方法及び装置 |