TWI791446B - 組成物 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種具耐熱性、接著性及剝離性的組成物,為包含以下(A)~(E)成分的組成物:(A)成分為數目平均分子量小於1000的單官能(甲基)丙烯酸酯;(B)成分為數目平均分子量小於1000以下的多官能(甲基)丙烯酸酯;(C)成分為自由基聚合起始劑;(D)成分為離型性賦予化合物;以及(E)成分為多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,另外本發明也提供一種由該組成物組成的半導體製造用暫時固定接著劑。

Description

組成物
本發明涉及一種組成物。
3維半導體封裝是為了實現進一步的高密度、大容量化而變得不可或缺。所謂3維半導體封裝技術是一種將一個半導體晶片薄型化,並更將該半導體晶片進行多層層積的半導體製作技術。為了實現此技術,必須將形成有半導體電路的基板藉由研削未形成電路的一面(稱為「背面」)來薄型化,且更在背面進行形成電極的製程。以往的習知技術,於研削矽基板的背面的製程中,在研削面的相對側上貼有背面保護膠帶,以防止研削時晶圓的破損。然而,該膠帶是把有機樹脂膜用於基材上,具柔軟性但強度及耐熱性卻相當不足,並不適合進行電極形成製程或者是在背面的配線層形成製程。
因此,提出一種系統,其經由接著劑而將半導體基板接合至矽、玻璃等的支撐體,藉此對背面研削、背面電極形成的製程可提昇耐受性。此時重點在於:基板接合至支撐體時設置的接著劑層。此接著劑能夠將基板毫無間隙地接合至支撐體,必須具有耐受後續製程的足夠耐久性,也必須在最後能夠將薄型化晶圓從支撐體簡便地剝離。
以接著劑的必要特性而言,舉例有適於塗佈的黏度、在薄化矽支撐體時可耐受研削及研磨的剪切接著力、耐受絕緣膜形成製程或迴焊製程的耐熱性、以及耐受薄型化或光阻製程的耐藥品性、能夠將晶圓從支撐體簡便剝離的易剝離性以及易洗淨性。
以接著劑及其剝離方法而言,提出將高強度的光照射在含有光吸收性物質的接著劑上,藉由分解接著劑而從支撐體剝離接著劑層的技術 (專利文獻1),或是把熱熔性的碳氫系化合物用作接著劑,在加熱熔融的狀態下進行接合及剝離的技術(專利文獻2)。前者技術必須要有雷射等的昂貴裝置,且也存在處理每一片基板的時間拉長等的問題。此外,後者的技術只用加熱來控制所以簡便,相反地,在超過200℃的高溫下的熱安定性卻相當不足,因此能夠適用的技術範圍小。
習知技術揭露了一種接著體的解體方法,包含具1個以上(甲基)丙烯醯基之一種或兩種以上的(甲基)丙烯酸酯而成的接著劑組成物,而與基材彼此貼合,對於藉由使該接著劑組成物固化而形成的接著體,包含了照射中心波長為172nm或193nm的準分子光的製程,且至少一側的基材對於該準分子光具有穿透性(專利文獻3)。然而,涉及此先前技術的剝離方法必須使用高能量的準分子光,在實施時存在對設備等的要求高的問題。
習知技術揭露了一種添加氟化合物的丙烯酸系接著劑(專利文獻4~5)。然而,專利文獻4~5並未記載關於離型性賦予化合物。專利文獻4~5限定氟化合物為自由基聚合性單體或寡聚體,並未記載關於具非自由基聚合性的氟化合物及特定分子量的(甲基)丙烯酸酯。
習知技術揭露了一種光固化性樹脂組成物,其特徵在於包含一種以上的聚丙烯酸單體、聚合起始劑及氟系界面活性劑,且在大氣中的表面張力在28mN/m以下(專利文獻6)。然而,並沒有關於分子量的記載。
習知技術揭露了一種接著劑組成物,藉由加熱處理以降低接著力,且接著性成分中含有反應性丙烯酸系樹脂及胺甲酸乙酯系樹脂(專利文獻7)。然而,熱剝離為利用有機系熱膨脹顆粒的方法,未有使用光固化性樹脂的記載。
習知技術揭露了一種剝離材組成物,能夠在抑制重剝離化(重剝離化者需重剝離力)的同時,亦即在減少剝離所需的剝離力的同時,也容易控制剝離力,且包含了氟系單體含在組成成分裡的丙烯酸聚合體。然而,專利文獻8未記載有關於加熱後剝離力的技術。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開第2004-64040號公報
[專利文獻2]日本特開第2006-328104號公報
[專利文獻3]國際公開第2011/158654號
[專利文獻4]日本特開第2014-130853號公報
[專利文獻5]美國專利申請公開第2013/0084459號說明書
[專利文獻6]日本特開第2015-54929號公報
[專利文獻7]日本特開第2003-171648號公報
[專利文獻8]日本特開第2016-79238號公報
本發明例如為了解決耐熱性、接著性及剝離性等問題而進行各種研究,其結果完成了本發明。
即,本發明如以下所提供。
(1)一種組成物,包含以下(A)~(E)成分:(A)成分,數目平均分子量小於1000的單官能(甲基)丙烯酸酯;(B)成分,數目平均分子量小於1000的多官能(甲基)丙烯酸酯;(C)成分,自由基聚合起始劑;(D)成分,離型性賦予化合物;以及(E)成分,多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
(2)如(1)所述之組合物,其中,(E)成分的重量平均分子量在40000以下。
(3)如(1)或(2)所述之組合物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)成分合計為100質量份,(E)成分的含有量為35~90質量份。
(4)如(1)至(3)任一項中所述之組合物,其中,(D)成分為非自由基聚合性化合物。
(5)如(1)至(4)任一項中所述之組合物,其中,(D)成分為自氟系化合物、矽氧系化合物以及烯烴系化合物中選出的一種以上。
(6)如(5)所述之組合物,其中,(D)成分的烯烴系化合物為自聚乙烯聚合體、聚丙烯聚合體以及乙烯-丙烯共聚體中選出的一種以上。
(7)如(1)至(6)任一項中所述之組合物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)該成分合計為100質量份,(D)成分的含有量為0.01~5質量份。
(8)如(1)至(7)任一項中所述之組合物,其中,(D)成分在常溫下為液狀。
(9)如(1)至(8)任一項中所述之組合物,其中,(A)成分為自具環氧烷鏈的苯氧基聚烷二醇單(甲基)丙烯酸酯、具直鏈或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷酯、具脂環式烷基的單官能(甲基)丙烯酸酯以及具1個(甲基)丙烯醯基的矽氧化物中選出的一種以上。
(10)如(1)至(9)任一項中所述之組合物,其中,(B)成分為自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯以及新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中選出的一種以上。
(11)如(1)至(10)任一項中所述之組合物,其中,(C)成分為自由基光聚合起始劑。
(12)如(1)至(11)任一項中所述之組合物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)成分合計為100質量份,該成分(C)的含有量為0.1~4質量份。
(13)如(1)至(12)任一項中所述之組合物,其中,該組合物更包含抗氧化劑。
(14)一種組成物,包含以下(A)~(E)成分:(A)成分,數量平均分子量小於1000的單官能(甲基)丙烯酸酯;(B)成分,數量平均分子量小於1000的多官能(甲基)丙烯酸酯;(C)成分,自由基聚合起始劑;(D)成分,在常溫下為液狀,且為非自由基聚合性的離型性賦予化合物;以及;(E)成分,重量平均分子量在40000以下的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
(15)一種半導體製造用樹脂組成物,由(1)至(14)任一項中所述之組合物組成。
(16)一種接著劑,由(1)至(14)任一項中所述之組合物組成。
(17)一種固化體,係固化(1)至(14)任一項中所述之組合物而得到。
(18)一種半導體製造用暫時固定接著劑,由(1)至(14)任一項中所述之組合物組成。
(19)一種接著體,為使用(18)所述之半導體製造用暫時固定接著劑來接著基材的接著體。
(20)一種薄型化晶圓的製造方法,為使用(18)所述之半導體製造用暫時固定接著劑的薄型化晶圓的製造方法。
本發明例如具有耐熱性、接著性及剝離性。
在本說明書中,除非另有說明,數值範圍則包含其上限及下限的數值。
以下對本發明進行說明。多官能(甲基)丙烯酸酯是指具2個以上(甲基)丙烯醯基的化合物。單官能(甲基)丙烯酸酯是指具1個(甲基)丙烯醯基的化合物。
(A)單官能(甲基)丙烯酸酯的數量平均分子量小於1000,較佳在900以下,更佳在800以下,最佳在700以下。單官能(甲基)丙烯酸酯較佳為單體。
重量平均分子或數量平均分子是用四氫呋喃作為溶劑,使用GPC等系統,並在下述的條件下,以市售的標準聚苯乙烯來作出得到檢量線:
流速:1.0mL/min
設定溫度:40℃
管柱組成:東曹公司製「TSK guardcolumn MP(×L)」6.0mmID×4.0cm 1管、以及東曹公司製「TSK-GEL MULTIPOREHXL-M」7.8mmID×30.0cm(理論板數16000)2管,合計3管(整體的理論板數為32000),樣品注入量:100μL(試液濃度1mg/mL)。
送液壓力:39kg/cm2
檢測器:RI檢測器
在(A)當中,較佳為自(A-1)具環氧烷鏈的苯氧基聚烷二醇單(甲基)丙烯酸酯、(A-2)具直鏈狀或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷酯、(A-3)具脂環式烷基的單官能(甲基)丙烯酸酯以及(A-4)具1個(甲基)丙烯醯基的矽氧化物中選出的一種以上。
(A-1)具環氧烷鏈的苯氧基聚烷二醇單(甲基)丙烯酸酯較佳為下述式(1)的(甲基)丙烯酸酯。
Figure 106122102-A0202-12-0006-2
(R1及R3為氫原子或烷基;R2為伸烷基;n為正數。)
R1較佳為氫原子或甲基,更佳為氫原子。R2較佳為碳數在2~3的伸烷基,更佳為碳數在2的乙烯基。R3較佳為氫原子或碳數在1~20的烷基,更佳為碳數在1~20的烷基,最佳為碳數在9的壬基。n較佳為1~15,更佳為1~3,最佳為1。可以使用一種以上的這些(甲基)丙烯酸酯。
以R3為壬基的(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有壬基酚環氧乙烷改性的(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(環氧乙烷4莫耳改性)的(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(環氧乙烷8莫耳改性)的(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(環氧丙烷2.5莫耳改性)的(甲基)丙烯酸酯等。
(A-2)具直鏈狀或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸酯較佳為下述式(2)的(甲基)丙烯酸酯。
CH2=CR5-COO-R4 式(2)
(R4及R5為烷基。)
R4較佳為碳數在4~22的烷基、更佳為碳數在8~20的烷基、再更佳為碳數在10~18的烷基、又更佳為碳數在12~18的烷基、最佳為碳數在18的烷基。可以使用一種以上的這些(甲基)丙烯酸酯。R5較佳為氫原子或甲基,更佳為氫原子。
以具碳數在4~22的烷基的(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸硬酯、(甲基)丙烯酸異硬酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸十四酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸十七酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸十九酯及(甲基)丙烯酸二十酯等之具直鏈或支鏈烷基的(甲基)丙烯酸酯。在這些當中,較佳為(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬酯及(甲基)丙烯酸異硬酯,更佳為(甲基)丙烯酸異硬酯。
以(A-3)具脂環式烷基的單官能(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸異龍腦酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸-1-(1-金剛烷基)-1-甲基乙酯。在這些當中,就耐熱性的特點而言,較佳為(甲基)丙烯酸-1-金剛烷酯。
(A-4)具1個(甲基)丙烯醯基的矽氧化物為在分子內具有(甲基)丙烯醯基的聚有機矽氧烷。上述矽氧化物的基礎聚合體組成的矽氧化物為主鏈由矽氧烷鍵結而成的聚矽氧烷尤佳,例如,舉例有全部的側鏈及末端由甲基組成的二甲基矽氧化物、側鏈的一部分上含有苯基的甲基苯基矽氧化物以及側鏈的一部分為氫的甲基氫矽氧化物等。在這些當中,較佳為二甲基矽氧化物。引入(甲基)丙烯醯基的位置沒有特別限制,可在主鏈的一個末端(一末端型) 上,也可在側鏈上(側鏈型)。在這些當中,較佳為在一個末端上具(甲基)丙烯醯基的聚有機矽氧烷。
(A)單官能(甲基)丙烯酸酯的含有量在(A)、(B)及(E)合計為100質量份中,較佳為9~65質量份,更佳為9~60質量份,再更佳為13~50質量份,最佳為16~45質量份。若在9質量份以上則減少固化收縮,若在65質量份以下則沒有耐熱性及剝離性降低的顧慮。
(B)多官能(甲基)丙烯酸酯的數量平均分子量小於1000,較佳在900以下,更佳在800以下,最佳在700以上。以(B)多官能(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有2官能(甲基)丙烯酸酯、3官能(甲基)丙烯酸酯以及4官能以上的(甲基)丙烯酸酯等。
(B)多官能(甲基)丙烯酸酯較佳為排除(E)成分的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
以2官能(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有1,3-金剛烷基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性的新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基))丙烯醯氧基丙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基四乙氧基苯基)丙烷、二羥甲基-三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯以及異氰脲酸環氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸酯等。
以3官能(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有異氰脲酸環氧乙烷改性的三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯以及三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]異氰脲酸酯等。
以4官能以上的(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇乙氧基(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯以及二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
在這些當中,較佳為自1,3-金剛烷基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性的三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯中選出的一種以上,更佳為自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯以及新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中選出的一種以上,最佳為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯以及二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯中選出的一種以上。
(B)多官能(甲基)丙烯酸酯的含有量在(A)、(B)及(E)合計為100質量份中,較佳為1~30的質量份,更佳為2~20的質量份,最佳為4~15的質量份。若在1質量份以上則不會有耐熱性降低的顧慮,若在30質量份以下則減少固化收縮。
(C)自由基聚合起始劑較佳為自由基光聚合起始劑。自由基光聚合起始劑就耐熱性及低釋氣性的特點而言,較佳為2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苯甲基]-苯基}-2-甲基-丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉苯基)丁酮-1、2-二甲胺基-2-(4-甲基-苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、氧基-苯基-乙酸2-[2-氧代-2-苯基-乙醯氧基-乙氧基]-乙酯以及氧基-苯基-乙酸2-[2-羥基-乙氧基]-乙酯所組成的群組中的一種以上,較佳為自2-苯甲基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉苯基)丁酮-1、2-二甲胺基-2-(4-甲基-苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮中選出的一種以上,更佳為自2-二甲胺基-2-(4-甲基-苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化磷、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦中選出的一種以上,最佳為2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮。
(C)自由基聚合起始劑的含有量以固化性、低釋氣性及耐熱性等的特性而言,對於(A)、(B)及(E)合計為100質量份,較佳為0.1~4質量份,更佳為0.5~4質量份,再更佳為0.7~2.5質量份。自由基聚合起始劑的含有量在0.1質量份以上的話能得到足夠的固化性,在4質量份以下則有優異的低釋氣性及耐熱性。
(D)離型性賦予化合物例如是指賦予離型性的化合物。在特定的實施態樣中,(D)成分較佳在常溫下為液狀,或者為非自由基聚合性化合物,更佳在常溫下為液狀並且為非自由基聚合性化合物。再者,常溫為JIS 8703:1983所定義的溫度,指的是20±15℃的範圍。藉由(D)成分具有在旋轉塗佈時不會產生塗佈不均勻的特性(例如在常溫下為液狀等),可提高組成物的透明性、可適當進行UV固化、並且可提高塗佈組成物時的表面平滑性。(D)離型性賦予化合物較佳為自氟系化合物、矽氧系化合物以及烯烴系化合物中選出的一種以上,更佳為氟系化合物及矽氧系化合物,最佳為合併使用氟系化合物及矽氧系化合物。
(D-1)氟系化合物是指具有氟的化合物。以氟系化合物而言,舉例有氟系界面活性劑以及氟系高分子等。在這些當中,較佳為氟系界面活性劑。氟系界面活性劑較佳為具全氟烷基的界面活性劑。具全氟烷基的界面活性劑較佳為自具全氟烷基的氟系寡聚體(例如DIC公司製的「F-553」)、具全氟烷基的非自由基聚合性化合物的氟化合物(例如,3M公司製的「FC-4430」以及「FC-4432」、AGC清美化學公司製的「S-386」)中選出的一種以上,更佳為具全氟烷基的非自由基聚合性化合物的氟系化合物。在具全氟烷基的非自由基聚合性化合物的氟系化合物當中,較佳為全氟烷基磺酸及/或其鹽類(例如,3M公司製的「FC-4430」)。
(D-2)為非自由基聚合性化合物的矽氧系化合物較佳為矽氧烷化合物。非自由基聚合化合物較佳為自非改性矽油(非改性聚二甲基矽氧烷等,例如,信越化學公司製的「KF-96-100cs」、「KF-96-1000cs」以及「KF-96H-10000cs」)、以非自由基聚合性的官能基來改性的非反應性改性矽氧化物(例如,信越化學公司製的聚醚改性矽油「X-22-2516」(聚醚-長鏈烷-芳香烷改性類型)、「X-22-4515」、信越化學公司製的氟化烷改性矽油 「FL-100-1000cs」、摩曼帝夫特性材料日本有限公司製的聚醚改性矽油「TSF4446」、「TSF4460」、「TSF4550以及「TSF4452」)中選出的一種以上,更佳為以非自由基聚合性的官能基來改性的非反應性改性矽氧化物。在以非自由基聚合性的官能基來改性的非反應性改性矽氧化物當中,較佳為自聚醚改性矽油中選出的一種以上。矽氧系化合物可使用具20~20000mm2/s的黏度的化合物。
(D-3)非自由基聚合性烯烴系化合物較佳為數量平均分子量在1000~10000的化合物。在非自由基聚合性烯烴系化合物當中,較佳為自聚乙烯聚合體、聚丙烯聚合體以及乙烯-丙烯共聚合體中選出的一種以上,更佳為乙烯-丙烯共聚合體。以乙烯-丙烯共聚合體而言,舉例有三井化學公司製的「LUCANT HC-600」(黏度:14000mPa.s)以及三井化學公司製的「LUCANT HC-2000」(黏度:89000mPa.s)等。乙烯-丙烯共聚合體的黏度較佳為1000~100000mPa.S。
(D)離型性賦予化合物的含有量,對於(A)、(B)及(E)合計為100質量份,較佳為0.01~5質量份。關於氟系化合物,更佳為0.01~2質量份,最佳為0.05~1質量份。關於矽氧系化合物及烯烴系化合物,更佳為0.05~3質量份。0.01質量份以上的話可確保剝離性,5質量份以下的話則可得到良好的接著性,也不會發生未固化。
(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(以下稱為胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯)為具胺基甲酸乙酯鍵結的(甲基)丙烯酸酯。(E)成分的重量平均分子量較佳為40000以下,更佳為300以上40000以下,再更佳為500以上30000以下,最佳為1000以上30000以下。藉由(E)成分具有這樣的重量平均分子量,能夠減少或消除組成物表面的黏性,提高組成物的剝離性,並且賦予組成物耐熱性。
(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯較佳排除(B)成分的多官能(甲基)丙烯酸酯。(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯較佳為一個分子中具有2個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的胺基甲酸乙酯鍵結的化合物。胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯例如可藉由將多元醇化合物(之後,以X表示)與有機聚異氰酸酯化合物(之後,以Y表示)以及(甲基)丙烯酸酯(之後,以Z表示) 進行反應(例如縮合聚合反應),或者將Y與Z進行反應來得到。在此,(甲基)丙烯酸酯是指包含(甲基)丙烯酸。胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯例如藉由讓多元醇化合物(X)與有機聚異氰酸酯化合物(Y)反應之後,將(甲基)丙烯醯基引入剩餘的羥基而得到。
胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的製法例如記載於日本特開平第7-25957號公報、日本特開第2002-173515號公報、日本特開平第7-292048號公報以及日本特開第2000-351819號公報等。
以多元醇化合物而言,只要是多羥基醇類,任何的化合物皆可,例如舉例有丁四醇、聚醚多元醇、聚酯多元醇,聚碳酸酯多元醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、2,2-丁基乙基-1,3-丙二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇、氫化雙酚A、聚己內酯、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷,聚三羥甲基丙烷,聚新戊四醇、山梨醇、甘露醇、甘油、聚甘油、聚丁二烯多元醇以及氫化聚丁二烯多元醇等。聚丁二烯多元醇是指具有2個以上的羥基的聚丁二烯,例如,是指在兩個末端具有羥基的聚丁二烯。氫化聚丁二烯多元醇是指具2個以上的羥基的氫化聚丁二烯,例如,是指在兩個末端具有羥基的氫化聚丁二烯。
以聚醚多元醇而言,舉例有具二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇以及聚四亞甲基二醇等的聚烷二醇、聚環氧乙烷、聚環氧丙烷以及環氧乙烷/環氧丙烷的嵌段或隨機共聚合的至少一種結構的聚酯多元醇等。
以聚酯多元醇而言,舉例有多羥基醇類或者聚醚多元醇與多元酸其縮合物的聚酯多元醇。用於聚酯多元醇的製造,以多羥基醇類或聚醚多元醇而言,舉例有上述的化合物。以多元酸而言,舉例有馬來酸酐、馬來酸、富馬酸、伊康酸酐、伊康酸、己二酸以及間苯二甲酸等。
以有機聚異氰酸酯化合物(Y)而言,不需要特別限定,例如可以使用芳香族系、脂肪族系、環式脂肪族系以及脂環式系等的聚異氰酸酯,其中也較佳使用甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯(H-MDI)、聚苯基甲烷聚異氰酸酯(粗MDI)、改性二苯基 甲烷二異氰酸酯(改性MDI)、氫化二甲苯二異氰酸(H-XDI)、二甲苯二異氰酸酯(XDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HMDI)、三甲基六亞甲基二異氰酸酯(TMXDI)、四甲基二甲苯二異氰酸酯(m-TMXDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、降冰片烯二異氰酸酯(NBDI)以及1,3-雙(異氰酸甲基)環己烷(H6XDI)等的聚異氰酸酯或這些聚異氰酸酯的三聚體化合物,以及這些聚異氰酸酯與多元醇的反應產物。在這些當中,較佳為甲苯二異氰酸酯(TDI)、氫化二甲苯二異氰酸(H-XDI)以及異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)所組成的群組中的一種以上,更佳為異佛爾酮二異氰酸酯。
(甲基)丙烯酸酯(Z)是指引入(甲基)丙烯醯基的化合物。以引入(甲基)丙烯醯基的化合物而言,例如舉例有(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯醯氯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯以及(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯等的(甲基)丙烯酸羥基烷酯、2-羥乙基(甲基)丙烯醯基磷酸酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥丙基鄰苯二甲酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯等。在這些當中,較佳為(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯醯氯以及(甲基)丙烯酸羥烷酯所組成的群組中的一種以上。
以胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有聚酯型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及1,2-聚丁二烯末端胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
聚酯型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯在分子的末端或側鏈上具有2個以上的(甲基)丙烯醯基,並且在分子內具有聚酯結構。以聚酯型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有日本合成化學公司製的「UV-3000B」以及共榮社化學公司製的「UF-C02」等。
聚醚型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯在分子的末端或側鏈上具有2個以上的(甲基)丙烯醯基,並且在分子內具有聚醚結構。以具聚醚結構的化合物而言,舉例有聚醚多元醇化合物。以聚醚多元醇化合物而言,舉例有上述的聚醚多元醇等。在聚醚多元醇當中,較佳為聚烷二醇。在聚烷二醇當中,較佳為聚丙二醇以及伸丁二醇。以聚醚型胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言, 舉例有日本合成化學公司製的「UV-3700B」、根上工業公司製的「UN-6200」、共榮社化學公司製的「UF-07DF」以及新中村化學公司製的「UA-160TM」等。
以1,2-聚丁二烯末端胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有多元醇化合物(X)為聚丁二烯多元醇的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。以1,2-聚丁二烯末端胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有日本曹達公司製的「TE-2000」等。
以多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有2官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。以多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有2官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、3官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、4官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及6官能以上的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。例如,多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯是指具2個以上(甲基)丙烯酸基的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,2官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯是指具2個(甲基)丙烯酸基的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,6官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯是指具6個(甲基)丙烯酸基的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,10官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯是指具10個(甲基)丙烯酸基的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
在這些當中,較佳為2~3官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯所組成的群組中的一種以上,更佳為合併使用2~3官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。在2~3官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯當中,較佳為2官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。在4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯當中,較佳為6~10官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,更佳為6官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及10官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯所組成的群組中的一種以上。
在合併使用2~3官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的情況下,其含有的比例在2~3官能的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯以及4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯合計為100質量份中,以質量比表示,2~3官能 的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯:4官能以上的多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯=20~95:80~5為較佳,更佳為50~90:50~10,最佳為65~85:35~15。
以多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言,舉例有2官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(例如,根上工業公司製的聚酯型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UN-7700」、聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UN-6200」以及「UN-6202」、聚碳酸酯型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UN-900PEP」以及「UN-9200A」、共榮社化學公司製的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UF-07DF」以及「UF-C012」、新中村化學公司製的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UA-160TM」)、6官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(例如,根上工業公司製的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「UN-3320HA」)以及10官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯(例如,新中村化學公司製的胺基甲酸乙酯丙烯酸酯「U-10PA」)等。
(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯的含有量在(A)、(B)以及(E)合計為100質量份中,較佳為35~90質量份,更佳為40~85質量份,最佳為45~80質量份。35質量份以上的話則黏性消失,90質量份以下的話則不會有黏度變的過高而降低操作性的顧慮。
本發明的組成物為了維持暴露於高溫之後的剝離性,可使用抗氧化劑。以抗氧化劑而言,舉例有甲氫醌、氫醌、2,2-亞甲基-雙(4-甲基-6-三級丁基苯酚)、兒茶酚、氫醌單甲醚、單三級丁基氫醌、2,5-二三級丁基氫醌、對苯醌、2,5-二苯基對苯醌、2,5-二三級丁基對苯醌、苦味酸、檸檬酸、酚噻嗪、三級丁基兒茶酚、2-丁基-4-羥基茴香醚、2,6-二三級丁基對甲酚以及4-[[4,6-雙(辛硫基)-1,3,5-三嗪-2-基]胺基]-2,6-二三級丁基苯酚等。在這些當中,較佳為4-[[4,6-雙(辛硫基)-1,3,5-三嗪-2-基]胺基]-2,6-二三級丁基苯酚。
抗氧化劑的含有量,對於(A)、(B)以及(E)合計為100質量份,較佳為0.001~3質量份。0.001質量份以上的話則可確保維持暴露於高溫之後的剝離性,3質量份以下的話則可得到良好的接著性,也不會未固化。
本發明的組成物為了確保耐熱性,較佳不包含讓分子量變小的關聯成分(硫醇化合物)。
本發明的組成物能夠作為接著劑使用。本發明的組成物能夠作為暫時固定用接著劑使用。
使用本發明的組成物與基材彼此接著的時候,較佳照射可見光線或紫外線,以使位於波長365nm的能量在1~10000mJ/cm2的範圍。能量在1mJ/cm2以上則可得到足夠的接著性,10000mJ/cm2以下則具有優異的生產性,且難以產生來自自由基聚合起始劑(特別是自由基光聚合起始劑)的分解產物,也抑制釋氣的產生。就生產性、接著性、釋氣性以及易剝離性的特點而言,較佳在2000~7000mJ/cm2的範圍。
對於藉由本發明的組成物所接著的基材,雖然沒有特別限制,但較佳至少一側的基材是半導體。以半導體而言,舉例有矽、鍺、鎵-砷、鎵-磷以及鎵-砷-鋁等。在半導體當中,較佳為矽。在半導體當中,較佳為晶圓。
對於藉由本發明的組成物所接著的基材,雖然沒有特別限制,但較佳至少一側的基材是光穿透的透明基材。以透明基材而言,舉例有水晶、玻璃、石英和氟化鈣等的無機基材以及塑料等的有機材料等。在這些當中,以泛用性以及可取得較大效果的特性而言,較佳為自玻璃以及石英中選出的一種以上。
本發明的組成物在一實施型態中為光固化型,其固化體能夠具有優異的耐熱性以及剝離性。本發明的組成物的固化體在一實施型態中,因為即使暴露在高溫下也僅有少量釋氣量,且也剝離容易,因此適於各種的光學元件和光學設備、電子元件的接合、密封及塗佈。舉例能夠用於暫時固定劑、接著劑、保護片、低雙折射性光學膜以及層間應力緩衝劑等,特別適合於例如半導體製造製程、SAW設備加工製程以及LED加工製程的需要有耐溶劑性、耐熱性以及接著力等多重耐久性的用途。
本發明的組成物的固化體以耐熱性的特點而言,較佳在350℃以下,更佳在300℃以下,最佳在250℃以下能夠使用。本發明的組成物的固化體以剝離性的特點而言,較佳在60℃以上,更佳在100℃以上,再更佳在150℃以上,最佳在200℃以上能夠使用。以本發明的組成物所接著的接著體因為具有很高的剪切黏著力,因此能夠耐受薄化工程等,能夠在經過絕緣膜 形成等的加熱製程之後容易剝離。以本發明的組成物接著的接著體,特別適於製造薄型化晶圓時使用。
進一步在本發明的一實施型態中,可以藉由施加外力於用接著劑接著基材的接著體來剝離接著體。例如,可以藉由插入片材、線材以及刀片等來剝離。
[實施例]
以下,提出實驗例對本發明作更詳細地說明,但本發明並不限於這些實驗例。
(實驗例)
除非另有說明,都是在23℃、濕度50%下進行實驗。配置並評價表1~表4顯示的組成的固化性樹脂組成物。
以實驗例中記載的固化性樹脂組成物中的各成分而言,選擇以下的化合物。
以(A)數量平均分子量小於1000的單官能(甲基)丙烯酸酯而言,選擇以下的化合物。
(A-1)壬基酚環氧乙烷改性丙烯酸酯(東亞合成公司製的「M-111」),結構在式(1)中R1為氫原子,R2為乙烯基,R3為壬基,n為1;(A-2)丙烯酸異硬酯(大阪有機化學公司製的「ISTA」);(A-3)甲基丙烯酸-1-金剛烷酯(大阪有機化學公司製的「ADMA」)。
以(B)數量平均分子量小於1000的多官能(甲基)丙烯酸酯而言,選擇以下的化合物。
(B-1)三羥基丙烷三甲基丙烯酸酯(新中村化學公司製的「TMPTM」);(B-2)三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(新中村化學公司製的「A-DCP」);(B-3)新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯;(B-4)二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
以(C)自由基聚合起始劑而言,選擇以下的化合物(自由基光聚合起始劑)。
(C-1)2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮(BASF公司製的「Irgacure651」,以下簡稱為「I-651」);(C-2)2-二甲胺基-2-(4-甲基-苯甲基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮(BASF公司製的「Irgacure379」,以下簡稱為「I-379」);(C-3)雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(BASF公司製的「Irgacure819」,以下簡稱為「I-819」)。
以(D)離型性賦予化合物而言,選擇以下的化合物。
(D-1)含有全氟烷基的寡聚體(3M公司製的「FC-4430」、2-[N-全氟丁基磺醯基-N-甲基胺基]乙基=丙烯酸酯-聚(氧亞烷基二醇)=單丙烯酸酯-聚(氧亞烷基二醇)=二丙烯酸酯的共聚物);(D-2)含氟的寡聚體(DIC公司製的「F-553」,含有全氟烷基);(D-3)長鏈烷-芳香烷-聚醚改性的有機矽氧烷(信越化學公司製的「X-22-2516」,黏度:70mm2/s);(D-4)聚醚改性的有機矽氧烷(信越化學公司製的「X-22-4515」,黏度4000mm2/s);(D-5)聚醚改性的有機矽氧烷(摩曼帝夫特性材料日本有限公司製的聚醚改性矽油「TSF4446」,黏度1400mm2/s);(D-6)乙烯-丙烯共聚體(三井化學公司製的「LUCANT HC-600」,黏度:14000mPa.s,數量平均分子量2700,以下簡稱為「HC-600」);(D-7)乙烯-丙烯共聚體(三井化學公司製的「LUCANT HC-2000」,黏度:89000mPa.s,數量平均分子量7700,以下簡稱為「HC-2000」)。
以(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯而言選擇以下的化合物。
(E-1)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯A(重量平均分子量為1500且為多官能丙烯酸酯與異氰酸酯的縮合反應產物的多官能胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多官能丙烯酸酯為新戊四醇三丙烯酸酯,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI;6官能);(E-2)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯B(重量平均分子量為1000且為多官能丙烯酸酯與異氰酸酯的縮合反應產物的多官能胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多官能機丙烯酸酯為二新戊四醇五丙烯酸酯,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI;10官能); (E-3)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯C(重量平均分子量為6000的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為聚丙二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-4)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯D(重量平均分子量為11000的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為聚丙二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-5)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯E(重量平均分子量為5200的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為伸丁二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-6)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯F(重量平均分子量為8500的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為伸丁二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-7)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯G(重量平均分子量為25000的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為伸丁二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-8)胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯H(重量平均分子量為13000的聚酯型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為1,4-丁二醇以及乙二醇與己二酸的縮合聚合體所組成的聚酯多元醇,有機聚異氰酸酯化合物為TDI,甲基丙烯酸酯為甲基丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-9)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯I(重量平均分子量為15000的聚碳酸酯型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為聚碳酸酯二醇,有機聚異氰酸酯化合物為IPDI,丙烯酸酯為丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-10)胺基甲酸乙酯甲基丙烯酸酯J(重量平均分子量為5000的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為聚丙二醇,有機聚異氰酸酯化合物為TDI,甲基丙烯酸酯為甲基丙烯酸-2-羥基乙酯;2官能);(E-11)胺基甲酸乙酯丙烯酸酯K(重量平均分子量為38000的聚醚型胺基甲酸乙酯丙烯酸酯,多元醇化合物為伸丁二醇,有機聚異氰酸酯化合物為H-XDI,丙烯酸酯為丙烯酸-4-羥基丁酯;2官能)。
以抗氧化劑而言,選擇以下的化合物。
4-[[4,6-雙(辛硫基)-1,3,5-三嗪-2-基]胺基]-2,6-二-三級丁基苯酚(BASF公司製的「IRGANOX565」,以下簡稱為「IRGANOX565」)。
固化體的加熱質量減少率(表格的「固化體的1%加熱質量減少溫度」):製作的樹脂組成物夾在PET膜內。藉由不可見光,以波長365nm累積光量為5000mJ/cm2的條件使樹脂組成物固化,進而製作固化體。將10mg所得的固化體藉由Bruker AXS公司製的示差熱-熱質量同時量測裝置「TG-DTA2000SA」,於氮氣流下以10℃/分的升溫速度從30℃升溫至350℃,以量測所得的固化體加熱質量減少率。示出固化體的1%加熱質量減少溫度。就半導體製造的高溫製程適合性而言,加熱質量減少率為1質量%的溫度在200℃以上為較佳。
拉伸剪切接著強度「表格的「接著強度」:使用作為被接著體的矽晶圓試驗片(25mm×75mm×厚度0.725mm)以及玻璃晶圓試驗片(25mm×75mm×厚度0.7mm),藉由接著部分為25mm×20mm而製作出的樹脂組合物來貼合2片載玻片,再藉由不可見光,以波長365nm累積光量為5000mJ/cm2的條件使其固化,進而製作拉伸剪切接著強度試驗片。製作出的試驗片依照JIS K 6850,使用萬能試驗機,並在溫度23℃、濕度50%的環境下,以10mm/min的拉伸速度量測拉伸剪切接著強度。
剝離-解體試驗(表格的「剝離力」):利用製作出的樹脂組成物,將4吋矽晶圓(直徑10mm×厚度0.47mm)與4吋玻璃晶圓(直徑10mm×厚度0.7mm)貼合,再藉由不可見光,以波長365nm累積光量為5000mJ/cm2的條件使其固化,進而製作剝離-解體試驗片。樹脂組成物塗佈在貼合面的整面上。不可見光自4吋玻璃晶圓表面照射。在所得到的試驗體之間插入PET片體(sheet)或片材(blade),接著使用切割膠帶將試驗體以玻璃晶圓面朝上而真空吸附在多孔吸盤,吸盤吸在玻璃晶圓上向上拉伸,量測玻璃晶圓從矽晶圓分離時的剝離力。加熱後的剝離力評價用的試驗片是將照射不可見光後的接著體進行210℃、1小時真空加熱處理而製成的試驗片當作試驗體。評價照射不可見光後(加熱前)的剝離力以及加熱後的剝離力。剝離力愈小則剝離性愈佳。
黏性(表格的「黏性」):將剝離-解體試驗中所剝離的樹脂組成物的固化體之表面黏性加以評價。具有黏性記作「有」,沒有黏性記作「無」。
Figure 106122102-A0202-12-0021-4
Figure 106122102-A0202-12-0022-5
Figure 106122102-A0202-12-0023-6
Figure 106122102-A0202-12-0024-7
由表1~表4知道本發明的樹脂組成物有優異的接著性、耐熱性以及剝離性。如果不使用(A),則不具耐熱性。如果不使用(B),則不具耐熱性以及剝離性。如果不使用(D),則不具剝離性。如果不使用(E)則黏性大增,不具剝離性也不具耐熱性(比較例)。
本發明例如在當作半導體製造用暫時固定接著劑使用的情況下,具有耐熱性及接著性。
由於本發明藉由使用(E)成分來保持柔軟性的同時也降低表面的黏性,因此晶圓不會破損,且能夠提高剝離速度,以預期提高生產性。
本發明藉由使用(E)成分,由於彈性模數提高,能夠接著劑不破裂地剝離,因此接著劑殘膠渣難以顆粒化,而能夠減化後續的洗淨製程。進一步,由於現今的特徵是藉由加熱來增加接著力,因此藉由經過在剝離製程之前所進行的絕緣膜形成製程等的加熱工程來增加接著力,其結果是有剝離性降低的問題。本發明的樹脂組成物由於在加熱前具有較高的接著性,且藉由加熱降低接著性,因此即使加熱後也容易剝離。即,本發明的樹脂組成物在減少晶圓加工時的破損的同時,也減少剝離時的晶圓的破損,於是明顯有助於提高產品的品質。
[產業利用可能性]
例如,本發明藉由使用(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯來提高剝離性。本發明藉由使用(E)多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯,由於表面的黏性小,因此剝離時間縮短,而能夠提高生產性。
本發明的組成物,由於在各種的電子元件、光學元件以及光學設備的製造上,照射紫外線或可見光可以容易地來展現強的接著性,因此有著優異的操作性以及生產性。本發明的組成物的固化體,進一步在所謂200℃的高溫下也有著極少的釋氣量。因此,使用本發明的組成物而接著的各種的電子元件、光學元件以及光學設備,即使在應用超過200℃的高溫下的氣相沉積處理以及高溫下的烤漆的情況下也能夠適用。
除了IC或電阻、逆變器等的電子元件以外,也正應用於在影像感測器等的光學元件或在電路基板的表面安裝。在那些情況是經過高溫的迴焊。近年來,特別是隨著焊接的無鉛化,迴焊的溫度條件變得更嚴苛。在這樣的生產製程中,為了提高光學元件及光學設備的品質,或是為了提高生產性及生產良率,則要求組成物的使用地方需相當耐受高溫加熱處理。使用本發明的組成物所製造的光學元件及光學設備由於能夠相當耐受前述的高溫加熱處理,因此有產業上的極大用處。
Figure 106122102-A0202-11-0002-1

Claims (16)

  1. 一種組成物,包含以下(A)~(E)成分:(A)成分,數目平均分子量小於1000的單官能(甲基)丙烯酸酯;(B)成分,數目平均分子量小於1000的多官能(甲基)丙烯酸酯;(C)成分,自由基聚合起始劑;(D)成分,在常溫下為液狀,且為非自由基聚合性的自氟化合物以及烯烴系化合物所組成的群組中選出的一種以上的離型性賦予化合物;以及(E)成分,多官能胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之組成物,其中,(E)成分的重量平均分子量在40000以下。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)成分合計為100質量份,(E)成分的含有量為35~90質量份。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之組成物,其中,(D)成分的烯烴系化合物為自聚乙烯聚合體、聚丙烯聚合體以及乙烯-丙烯共聚體中選出的一種以上。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)該成分合計為100質量份,(D)成分的含有量為0.01~5質量份。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,(A)成分為自具環氧烷鏈的苯氧基聚烷二醇單(甲基)丙烯酸酯、具直鏈或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷酯、具脂環式烷基的單官能(甲基)丙烯酸酯以及具1個(甲基)丙烯醯基的矽氧化物中選出的一種以上。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,(B)成分為自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯以及新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中選出的一種以上。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,(C)成分為自由基光聚合起始劑。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,對於(A)成分、(B)成分以及(E)成分合計為100質量份,該成分(C)的含有量為0.1~4質量份。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物,其中,該組成物更包含抗氧化劑。
  11. 一種半導體製造用樹脂組成物,由申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述之組成物組成。
  12. 一種接著劑,由申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述之組成物組成。
  13. 一種固化體,由固化申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述之組成物來得到。
  14. 一種半導體製造用暫時固定接著劑,由申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述之組成物組成。
  15. 一種接著體,為使用申請專利範圍第14項所述之半導體製造用暫時固定接著劑來接著基材的接著體。
  16. 一種薄型化晶圓的製造方法,為使用申請專利範圍第14項所述之半導體製造用暫時固定接著劑的薄型化晶圓的製造方法。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3330338B1 (en) * 2016-12-05 2020-02-26 Henkel AG & Co. KGaA Liquid adhesive composition, adhesive sheet, and adhesive bonding method
JP7072469B2 (ja) * 2018-08-23 2022-05-20 デンカ株式会社 組成物
JP7295440B2 (ja) * 2018-09-04 2023-06-21 株式会社スリーボンド 硬化性樹脂組成物および硬化物
JP7146557B2 (ja) * 2018-10-15 2022-10-04 アイカ工業株式会社 紫外線硬化樹脂組成物
WO2020100832A1 (ja) * 2018-11-15 2020-05-22 デンカ株式会社 組成物
JP7338299B2 (ja) * 2019-07-30 2023-09-05 株式会社レゾナック 光硬化性粘着剤組成物および粘着シート

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262175A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Denki Kagaku Kogyo Kk 組成物及びそれを用いた部材の仮固定方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3650432B2 (ja) * 1995-05-15 2005-05-18 三菱レイヨン株式会社 アクリル系シラップ組成物およびそれを用いた防水層または目地部形成用組成物
JP2006117826A (ja) * 2004-10-22 2006-05-11 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化型樹脂組成物及びそれを貼着した部品
JP4760069B2 (ja) * 2005-03-16 2011-08-31 日立化成工業株式会社 接着剤組成物、回路接続用接着剤組成物及びそれを用いた回路接続構造体、半導体装置
US8313604B2 (en) * 2005-07-04 2012-11-20 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Curable composition and temporary fixation method of member using it
JP4916681B2 (ja) * 2005-07-04 2012-04-18 電気化学工業株式会社 仮固定方法用光硬化性接着剤及びそれを用いる部材の仮固定方法
US20080289750A1 (en) * 2006-01-13 2008-11-27 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Curable Resin Composition, Surface Protection Method, Temporary Fixation Method, and Separation Method
JP5052792B2 (ja) * 2006-01-13 2012-10-17 電気化学工業株式会社 樹脂組成物及びそれを用いる被加工部材の仮固定方法と表面保護方法
JP2007314715A (ja) * 2006-05-29 2007-12-06 Denki Kagaku Kogyo Kk 樹脂組成物および光硬化注型成形方法
JP2010073811A (ja) * 2008-09-17 2010-04-02 Fujifilm Corp ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物、並びに、液晶表示装置用部材
JP2011140568A (ja) * 2010-01-07 2011-07-21 Jsr Corp 液状硬化性樹脂組成物
JP2011153187A (ja) * 2010-01-26 2011-08-11 Kyocera Chemical Corp 樹脂組成物およびフォトカプラーデバイス
JPWO2014069266A1 (ja) * 2012-10-29 2016-09-08 第一工業製薬株式会社 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ
JP6170672B2 (ja) * 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法
US10196469B2 (en) * 2013-09-11 2019-02-05 Sanyo Chemical Industries, Ltd. Active energy ray curable resin composition, and cured product
WO2016171221A1 (ja) * 2015-04-22 2016-10-27 デンカ株式会社 組成物
JP6742139B2 (ja) * 2015-04-22 2020-08-19 デンカ株式会社 組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007262175A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Denki Kagaku Kogyo Kk 組成物及びそれを用いた部材の仮固定方法

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