TW201923002A - 紫外線硬化型接著劑組成物、其硬化物及使用紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件的製造方法 - Google Patents

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Abstract

(1)一種紫外線硬化型接著劑組成物，其係用以將至少2個光學基材貼合之樹脂組成物，含有分子內奪氫型光聚合起始劑(A)、光聚合性低聚物(B)及(甲基)丙烯酸酯單體(C)，上述樹脂組成物中之溶劑之含有比例為5重量%以下，光聚合性低聚物(B)之重量平均分子量為7000~100000之範圍，上述樹脂組成物之硬化物於450~800nm之波長區域中之光的透射率為85%以上。

Description

紫外線硬化型接著劑組成物、其硬化物及使用紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件的製造方法
本發明係關於一種用以將至少2個光學基材貼合之紫外線硬化型接著劑組成物、其硬化物及使用該紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件的製造方法。
近年來，將觸控面板貼合於液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等顯示裝置之顯示畫面而可實現畫面輸入之顯示裝置被廣泛利用。該觸控面板具有如下構造：形成有透明電極之玻璃板或樹脂製膜略微空出間隙並面對面貼合，並視需要於其觸控面之上貼合有玻璃或樹脂製之透明保護板。
於觸控面板中之形成有透明電極之玻璃板或膜與玻璃或樹脂製之透明保護板之貼合，或觸控面板與顯示體單元之貼合，具有使用雙面黏著片之技術。然而，若使用雙面黏著片，則存在容易進入氣泡之問題。作為取代雙面黏著片之技術，提出有利用具有柔軟性之紫外線硬化型接著劑組成物貼合之技術。
又，近年來智慧型手機或平板PC等顯示裝置之薄型化不斷發展。為了實現顯示裝置之薄型化，液晶顯示器或有機EL顯示器等顯示裝置、觸控感測器或保護用之玻璃板或膜必須薄型化。針對各構件之薄型化，採用各種對策，使用於構件之材料涉及多種。例如，作為形成有透明電極之膜型觸控面 板感測器用之基材，主要使用PET膜，但目前亦出現使用環烯烴聚合物或透明聚醯亞胺膜等之案例。根據成為貼合對象之光學基材之材質，習知之接著劑存在對基材之潤濕不良或接著力不足、進而導致光學基材之劣化從而導致基材產生龜裂之問題。
又，隨著光學基材之薄型化，亦要求使接著劑層之膜厚變薄。為了使接著劑層之膜厚變薄，必須以薄的膜厚將接著劑塗佈於基材。迄今為止之用以貼合光學構件之接著劑以於室溫下黏度高達數千mPa．s以上者居多，於以薄的膜厚塗佈之情形時，存在產生收縮或塗佈不均之情形，且存在限定塗佈方法之問題。
為了一面因應各種塗佈方法，一面以薄的膜厚塗佈接著劑，接著劑組成物之低黏度化是有效的。作為用以使接著劑低黏度化之普通方法，可舉使用溶劑進行稀釋之方法，但於接著劑含有溶劑等之情形時，於貼合光學基材時會導致產生氣泡或剝落。
又，作為不使用溶劑而用以進行低黏度化之方法，於專利文獻1中舉出藉由使用反應性單體進行稀釋而降低接著劑組成物黏度之方法，但完全未提及藉由使用反應性單體進行稀釋而進行低黏度化時所產生之問題。若僅利用習知技術，則隨著組成物中之反應性單體之含量增多，難以同時實現柔軟性與硬化性。存在若提高柔軟性則硬化性變差，若使硬化性變佳則會導致柔軟性或接著性降低之問題。若柔軟性或接著性低，則會發生因來自外部之應力或光學基材之變形、熱膨脹等而產生剝落的問題，若硬化性差，則會發生量產性降低之問題。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利5563483號
本發明之目的在於提供一種對光學基材之損傷少且即便以薄的膜厚亦可將至少2個光學基材貼合，進而硬化性、柔軟性及接著性良好之紫外線硬化型接著劑組成物、其硬化物及使用紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件的製造方法。
本發明人等為了解決上述課題而進行了努力研究，結果完成本發明。即，本發明係關於下述(1)~(12)。
(1)一種紫外線硬化型接著劑組成物，其係用以將至少2個光學基材貼合之樹脂組成物，且含有分子內奪氫型光聚合起始劑(A)、光聚合性低聚物(B)及(甲基)丙烯酸酯單體(C)，上述樹脂組成物中之溶劑之含有比例為5重量%以下，光聚合性低聚物(B)之重量平均分子量為7000~100000之範圍，上述樹脂組成物之硬化物於450~800nm之波長區域中之光的透射率為85%以上。
(2)如(1)所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中光聚合性低聚物(B)係胺酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)或具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中之至少1種以上之骨架的(甲基)丙烯酸酯。
(3)如(1)或(2)所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中光聚合性低聚物(B)係具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中之至少1種以上之骨架的胺酯(甲基)丙烯酸酯。
(4)如(1)至(3)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其於 25℃之黏度為1~300mPa．s。
(5)如(1)至(3)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其於25℃之黏度為1~100mPa．s。
(6)如(1)至(5)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其含有下述式(1)所表示之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-1)作為(甲基)丙烯酸酯單體(C)：X-O-R1 (1)
(式中，X表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基，R1表示碳數8~18個之烷基)。
(7)如(1)至(6)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其含有具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-2)作為(甲基)丙烯酸酯單體(C)。
(8)如(1)至(7)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中上述硬化物之25℃之斷裂伸長率為200%以上。
(9)如(1)至(8)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中上述光學基材係選自由玻璃基板、透明樹脂基板、形成有透明電極之玻璃基板、於透明基板形成有透明電極之玻璃基板或貼合有膜之基板、液晶顯示單元、電漿顯示單元及有機EL顯示單元組成之群中之1種以上的光學基材。
(10)如(1)至(9)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其係觸控面板用紫外線硬化型接著劑組成物。
(11)一種硬化物，其係對於如(1)至(10)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物照射活性能量線所獲得。
(12)一種貼合有至少2個光學基材之光學構件之製造方法，其具有下述步驟1~2：
(步驟1)對至少1個光學基材塗佈如(1)至(10)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，形成塗佈層，對該塗佈層照射紫外線，藉此獲得具有硬化物層之光學基材之步驟
(步驟2)對於在步驟1中所獲得之光學基材之硬化物層，貼合另外的光學基材或貼合藉由步驟1所獲得之另外的光學基材之硬化物層之步驟。
根據本發明，可提供一種對光學基材之損傷少且即便以薄的膜厚亦可將至少2個光學基材貼合，進而硬化性、柔軟性及接著性良好之紫外線硬化型接著劑組成物、其硬化物及使用紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件之製造方法。
1‧‧‧液晶顯示單元
2‧‧‧具有遮光部之透明基板
3‧‧‧透明基板
4‧‧‧遮光部
5‧‧‧紫外線硬化型樹脂組成物(紫外線硬化型接著劑組成物)
6‧‧‧具有未硬化部分之硬化物層
7‧‧‧樹脂硬化物層
8‧‧‧紫外線
圖1係表示本發明之製造方法第1實施形態之步驟圖。
圖2係表示本發明之製造方法第2實施形態之步驟圖。
圖3係表示本發明之製造方法第3實施形態之步驟圖。
圖4係藉由本發明而獲得之光學構件之概略圖。
首先，對本發明之紫外線硬化型接著劑組成物進行說明。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物係用以將至少2個光學基材貼合的樹脂組成物，含有分子內奪氫型光聚合起始劑(A)、光聚合性低聚物(B)及(甲基)丙烯酸酯單體(C)，樹脂組成物中之溶劑之含有比例為5重量%(wt%)以下，光聚合性低聚物(B)之重量平均分子量為7000~100000之範 圍，上述樹脂組成物之硬化物於450~800nm之波長區域中之光的透射率為85%以上。又，可含有能夠添加至使用於光學構件之紫外線硬化型接著劑組成物中之其他成分作為任意成分。
再者，所謂「能夠添加至使用於光學構件之紫外線硬化型接著劑組成物中」，意指並未含有使硬化物之透明性降低至無法使用於光學構件之程度的添加物。
再者，「(甲基)丙烯酸酯」之用語係指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯之任一者或兩者的用語。又，下述「(甲基)丙烯醯基」之用語係指丙烯醯基及甲基丙烯醯基之任一者或兩者的用語。例如，「(甲基)丙烯酸辛酯」之用語係指丙烯酸辛酯及甲基丙烯酸辛酯之任一者或兩者。
於利用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物製作硬化後之厚度成為200μm之硬化物片時，該片於450~800nm之波長區域之光的較佳平均透射率至少為85%以上，更佳為90%以上。
作為該紫外線硬化型接著劑組成物之組成比例，適合為分子內奪氫型光聚合起始劑(A)為0.1~5重量%，光聚合性低聚物(B)為5~50重量%，(甲基)丙烯酸酯單體(C)為20~94重量%，其他成分為剩餘部分。
作為本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之分子內奪氫型光聚合起始劑(A)，並無特別限定，通常只要為在銷售者，則可任意使用。藉由使用分子內奪氫型光聚合起始劑，表面硬化性會提高而可容易地成膜。因此，即便為薄膜或即便於硬化性差之樹脂中，亦可優越地形成硬化膜。並非為奪氫型起始劑或分子內奪氫型起始劑者之硬化性、接著性差，只要為分子內奪氫型起始劑，便可實現硬化性、接著性均優異之功能。
作為本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中所含有之分子內奪氫型光聚合起始劑(A)，並無特別限定，例如可列舉：苯甲醯甲酸甲酯 (Irgacure MBF；BASF製造)、氧基苯基乙酸2-[2-側氧基-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙酯與氧基苯基乙酸2-(2-羥基-乙氧基)乙酯之混合物(Irgacure 754；BASF製造)等氧基苯基系光聚合起始劑等，亦可視需要將兩種以上併用。
作為本發明之紫外線硬化型接著劑組成物所含有之光聚合起始劑，亦可含有分子內奪氫型光聚合起始劑(A)以外之光聚合起始劑，作為分子內奪氫型光聚合起始劑(A)以外之光聚合起始劑，並無特別限定，例如可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基乙氧基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦、1-羥基環己基苯基酮(Irgacure 184；BASF製造)、2-羥基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇低聚物(Esacure ONE；Lamberti製造)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(Irgacure 2959；BASF製造)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(Irgacure 127；BASF製造)、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(Irgacure 651；BASF製造)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(Darocure 1173；BASF製造)、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-N-啉基丙烷-1-酮(Irgacure 907；BASF製造)、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-N-啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-氯9-氧硫、2,4-二甲基9-氧硫、2,4-二異丙基9-氧硫、異丙基9-氧硫等。
其中，就硬化性及透明性之觀點而言，較佳使用2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中，分子內奪氫型光聚 合起始劑(A)及分子內奪氫型光聚合起始劑(A)以外之光聚合起始劑可將1種或2種以上以任意比例混合而使用。分子內奪氫型光聚合起始劑(A)於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為0.1~5重量%，較佳為0.3~3重量%。若多於5重量%，則有樹脂硬化物層之透明性變差之虞。若少於0.1重量%，則有變得硬化不良之虞。
此處，於使用分子內奪氫型光聚合起始劑(A)以外之光聚合起始劑之情形時，較佳併用醯基氧化膦化合物。作為醯基氧化膦化合物，例如可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲醯基苯基乙氧基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦等。醯基氧化膦化合物由於光吸收區域與分子內奪氫型光聚合起始劑不同，故而可吸收廣範圍之波長，因此較佳併用該醯基氧化膦化合物。
於併用之情形時，分子內奪氫型光聚合起始劑(A)：醯基氧化膦化合物之重量比較佳為20：1~1：5，更佳為10：1-1：1。
作為本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之光聚合性低聚物(B)，只要重量平均分子量為7000~100000之範圍，則並無特別限定，較佳使用胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中至少1種以上之骨架的(甲基)丙烯酸酯。其中，就接著強度之觀點而言，較佳為胺酯(甲基)丙烯酸酯，進而更佳為具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中至少1種以上之骨架的胺酯(甲基)丙烯酸酯。
此處，該光聚合性低聚物(B)之重量平均分子量較佳為7000~100000，更佳為9000~80000，尤佳為11000~70000。
重量平均分子量可使用GPC(凝膠滲透層析法)於下述條件下 進行測定。
機型：TOSOH HLC-8320GPC
管柱：SuperMultiporeHZ-M
溶離液：THF(四氫呋喃)；0.35ml/min、40℃
檢測器：RI(示差折射計)
分子量標準：聚苯乙烯
於本發明中，光聚合性低聚物(B)之含有比例於紫外線硬化型接著劑組成物中，通常為5~50重量%，較佳為5~30重量%，更佳為5~25重量%，尤佳為5~20重量%。
又，光聚合性低聚物(B)：(甲基)丙烯酸酯單體(C)之重量比較佳為1：1~1：25，更佳為4：6~1：20，進而較佳為3：7~1：20，尤佳為1：4~1：20。
藉由將光聚合性低聚物(B)與(甲基)丙烯酸酯單體(C)設為上述比率之範圍內，可獲得確保硬化性並且硬化膜之伸長率高之合適的硬化物。
上述胺酯(甲基)丙烯酸酯例如係藉由使多元醇、聚異氰酸酯及含羥基之(甲基)丙烯酸酯反應而獲得。
作為多元醇，例如可列舉：聚丁二烯二醇、氫化聚丁二烯二醇、聚異戊二烯二醇、氫化聚異戊二烯二醇、新戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1、6-己二醇等碳數1~10之伸烷基二醇；三羥甲基丙烷、新戊四醇等三醇；三環癸烷二羥甲基、雙-[羥甲基]-環己烷等具有環狀骨架之醇等；及藉由該等多元醇與多元酸(例如琥珀酸、鄰苯二甲酸、六氫鄰苯二甲酸酐、對苯二甲酸、己二酸、壬二酸、四氫鄰苯二甲酸酐等)之反應而獲得之聚酯聚醇、藉由多元醇與ε-己內酯之反應而獲得之己內酯醇、聚碳酸酯多元醇(例如藉由1,6-己二醇與碳酸二苯酯之反應而獲得之聚 碳酸酯二醇等)或聚醚多元醇(例如聚乙二醇、聚丙二醇、聚伸丁二醇、環氧乙烷改質雙酚A等)等。就接著強度與耐濕性之觀點而言，作為上述多元醇，較佳為聚丙二醇、聚丁二烯二醇、氫化聚丁二烯二醇、聚異戊二烯二醇、氫化聚異戊二烯二醇，就透明性與柔軟性之觀點而言，尤佳為重量平均分子量為2000以上之聚丙二醇、氫化聚丁二烯二醇、氫化聚異戊二烯二醇。就耐熱著色性等變色性、相溶性之觀點而言，較佳為氫化聚丁二烯二醇或聚丙二醇。另一方面，就與其他成分之相溶性之觀點而言，較佳為聚丙二醇。此時之重量平均分子量之上限並無特別限定，較佳為10000以下，更佳為5000以下。又，亦可視需要將兩種以上之多元醇併用。
作為聚異氰酸酯，例如可列舉：異佛酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、二異氰酸甲苯酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷-4,4'-二異氰酸酯或二環戊基異氰酸酯等。其中，就強韌性之觀點而言，較佳為異佛酮二異氰酸酯。
又，作為含羥基之(甲基)丙烯酸酯，例如可使用(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥丁酯等羥基C2~C4(甲基)丙烯酸烷基酯、二羥甲基環己基單(甲基)丙烯酸酯、羥基己內酯(甲基)丙烯酸酯、羥基末端聚伸烷基二醇(甲基)丙烯酸酯等。
用於獲得上述胺酯(甲基)丙烯酸酯之反應例如係以如下方式進行。即，於多元醇中，於其羥基每1當量中將聚異氰酸酯以其異氰酸酯基成為較佳為1.1~2.0當量(進而較佳為1.1~1.5當量)之方式混合，將反應溫度設為較佳為70~90℃進行反應，合成胺酯低聚物。繼而，可於胺酯低聚物之異氰酸酯基每1當量中，將(甲基)丙烯酸羥酯化合物以其羥基成為較佳為1~1.5當量之方式混合，並於70~90℃反應而獲得目標胺酯(甲基)丙烯酸酯。
作為上述胺酯(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量，較佳為 7000~100000左右，更佳為9000~80000，進而較佳為11000~70000。若重量平均分子量小於7000，則可能會損害柔軟性，若重量平均分子量大於100000，則可能會欠缺硬化性。又，分子量分佈(重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn))值較佳為1.5以上。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中，胺酯(甲基)丙烯酸酯可將1種或2種以上以任意比例混合使用。胺酯(甲基)丙烯酸酯於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為5~50重量%，較佳為5~30重量%，更佳為5~25重量%，尤佳為5~20重量%。
上述具有聚丁二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯於聚丁二烯分子之末端或側鏈具有(甲基)丙烯醯基。具有聚丁二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯可以「BAC-45」(大阪有機化學工業公司製造)之形態而取得。作為具有聚丁二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量，較佳為3000~50000，更佳為5000~30000左右。
具有聚丁二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為5~50重量%，較佳為5~30重量%，更佳為5~25重量%，尤佳為5~20重量%。
上述具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯於聚異戊二烯分子之末端或側鏈具有(甲基)丙烯醯基。具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯可以「UC-203」(Kuraray公司製造)之形態而取得。作為具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯之重量平均分子量，較佳為7000~100000，更佳為20000~50000左右。
具有聚異戊二烯骨架之(甲基)丙烯酸酯於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為5~50重量%，較佳為5~30重量%，更佳為5~25重量%，尤佳為5~20重量%。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物，亦可於無損本發明之特性之範圍內，含有重量平均分子量為7000~100000之範圍外之光聚合性低聚物。
作為本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中所含有之(甲基)丙烯酸酯單體(C)，並無特別限定，較佳可適當使用分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯。此處，所謂(甲基)丙烯酸酯單體(C)，表示除胺酯(甲基)丙烯酸酯或具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中至少1種以上之骨架的(甲基)丙烯酸酯以外的(甲基)丙烯酸酯。
作為分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體，具體而言，可列舉：(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸十三酯等具有碳數5~25之烷基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、丙烯醯嗎福林、環狀三羥甲基丙烷甲醛丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯基縮水甘油酯、三環癸烷(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、丙烯酸1-金剛烷基酯、丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯、丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸1-金剛烷酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯、乙氧化鄰苯基苯酚丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二環戊二烯氧基乙酯等具有環狀骨架之(甲基)丙烯酸酯；具有羥基之具有碳數2~7之烷基之(甲基)丙烯酸酯；乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚環氧丙烷改質(甲基)丙烯酸壬基苯酯等聚伸烷基二醇(甲基)丙烯酸酯；環氧乙烷改質 苯氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質丁氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質辛氧基化磷酸(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質(甲基)丙烯酸四糠酯等。
其中，就柔軟性與稀釋性之觀點而言，較佳含有下述式(1)所表示之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-1)。
X-O-R1 (1)
(式中，X表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基，R1表示碳數8~18個之烷基)。進而，就揮發性、反應性之觀點而言，更佳為(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯。
又，就接著性之觀點而言，較佳含有具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-2)。作為具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-2)，具體而言，可列舉：(甲基)丙烯酸四氫糠酯、丙烯醯嗎福林、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、環狀三羥甲基丙烷甲醛丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、丙烯酸1-金剛烷酯、丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯、丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊二烯氧基乙酯等。其中，就與其他材料之相溶性之觀點而言，更佳為丙烯醯嗎福林、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸異酯，就接著性之觀點而言，進而較佳為丙烯醯嗎福林、(甲基)丙烯酸二環戊酯。
又，就高溫及/或高濕之耐受性之觀點而言，較佳含有具有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體作為(甲基)丙烯酸酯單體(C)。
作為具有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉：(甲基)丙烯酸羥丁 酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯等。
此處，較佳含有2種以上之選自由上述式(1)所表示之(甲基)丙烯酸酯單體(C-1)、具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-2)及具有羥基之(甲基)丙烯酸酯組成之群中之不同分類者。又，更佳含有3種以上之不同分類者。於含有2種以上之情形時，較佳為任一(甲基)丙烯酸酯單體均於紫外線硬化型接著劑組成物中含有4~90重量%，更佳含有4~80重量%。
又，於含有2種或3種以上之情形時，上述式(1)所表示之(甲基)丙烯酸酯單體：(具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體+具有羥基之(甲基)丙烯酸酯單體)以重量比計較佳為1：2~20：1，更佳為1：1~10：1。
進而，就硬化性之觀點而言，(甲基)丙烯酸酯單體(C)較佳為丙烯酸酯單體。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物，可於無損本發明之特性之範圍內，含有分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯以外之(甲基)丙烯酸酯。例如可列舉：三環癸烷二羥甲基二(甲基)丙烯酸酯、二烷二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚伸丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧烷(alkylene oxide)改質雙酚A型二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及環氧乙烷改質磷酸二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基辛烷三(甲基)丙烯酸酯等三羥甲基C2~C10烷烴三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯等三羥甲基C2~C10烷烴聚烷氧基三(甲基)丙烯酸酯、三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]三聚異氰酸 酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等環氧烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇聚乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇聚丙氧基四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
於本發明中，於併用之情形時，為了不損及柔軟性，較佳使用1或2官能之(甲基)丙烯酸酯。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中，該等(甲基)丙烯酸酯單體(C)成分可將1種或2種以上以任意比例混合使用。(甲基)丙烯酸酯單體(C)於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為20~95重量%，較佳為25~95重量%，更佳為30~95重量%。若少於20重量%，則欠缺硬化性，若多於95重量%，則收縮增大。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物，可於無損本發明之特性之範圍內，使用(甲基)丙烯酸環氧酯。(甲基)丙烯酸環氧酯具有提高硬化性或提高硬化物之硬度或硬化速度之功能。又，作為(甲基)丙烯酸環氧酯，只要為藉由使縮水甘油醚型環氧化合物與(甲基)丙烯酸反應而獲得者，則均可使用，作為用以獲得較佳地使用之(甲基)丙烯酸環氧酯之縮水甘油醚型環氧化合物，可列舉：雙酚A或其環氧烷加成體之二縮水甘油醚、雙酚F或其環氧烷加成體之二縮水甘油醚、氫化雙酚A或其環氧烷加成體之二縮水甘油醚、氫化雙酚F或其環氧烷加成體之二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、丁二醇二縮水甘油醚、己二醇二縮水甘油醚、環己烷二甲醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚等。
(甲基)丙烯酸環氧酯係藉由使該等縮水甘油醚型環氧化合物 與(甲基)丙烯酸於如下述之條件下反應而獲得。
相對於縮水甘油醚型環氧化合物之環氧基1當量，使(甲基)丙烯酸以0.9~1.5莫耳、更佳為0.95~1.1莫耳之比率反應。反應溫度較佳為80~120℃，反應時間為10~35小時左右。為了促進反應，例如較佳使用三苯基膦、TAP、三乙醇胺、四乙基氯化銨等觸媒。又，反應中，為了防止聚合，例如亦可使用對甲氧基苯酚、甲基對苯二酚等作為聚合抑制劑。
於本發明中，作為可較佳地使用之(甲基)丙烯酸環氧酯，係自雙酚A型環氧化合物獲得之雙酚A型(甲基)丙烯酸環氧酯。作為(甲基)丙烯酸環氧酯之重量平均分子量，較佳為500~10000。
(甲基)丙烯酸環氧酯於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例通常為1~20重量%，較佳為5~15重量%。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物可含有下述柔軟化成分及下述添加劑等作為其他成分。該其他成分相對於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物總量之含有比例係自該總量中減去上述(A)成分、(B)成分及(C)成分之合計量所得之剩餘部分相對於該總量之比例。具體而言，該其他成分相對於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物總量之含有比例較佳為5~75重量%，更佳為15~75重量%，尤佳為35~65重量%左右。
再者，此處所謂軟化劑，係不具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
進而，亦可將可成為光聚合起始助劑之胺類等與上述光聚合起始劑併用。作為可使用之胺類等，可列舉：苯甲酸2-二甲基胺基乙酯、二甲基胺基苯乙酮、對二甲基胺基苯甲酸乙酯或對二甲基胺基苯甲酸異戊酯等。於使用該胺類等光聚合起始助劑之情形時，本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中之含有比例通常為0.005~5重量%，較佳為0.01~3重量%。
於本發明之紫外線硬化型接著劑組成物，可視需要使用柔軟化 成分。作為可使用之柔軟化成分之具體例，可列舉：相溶於組成物中之聚合物、低聚物、鄰苯二甲酸酯類、磷酸酯類、二醇酯類、檸檬酸酯類、脂肪族二元酸酯類、脂肪酸酯類、環氧系塑化劑、蓖麻油類、萜烯系樹脂、氫化萜烯系樹脂、松香系樹脂、氫化松香系樹脂及液狀萜烯等。作為上述低聚物、聚合物之例，可例示具有聚異戊二烯骨架、氫化聚異戊二烯骨架、聚丁二烯骨架、氫化聚丁二烯骨架或二甲苯骨架之低聚物或聚合物及其酯化物、聚丁烯等。就透明性之觀點而言，較佳為氫化萜烯系樹脂、氫化聚異戊二烯、氫化聚丁二烯、聚丁烯、液狀萜烯。進而，就接著強度及與其他材料之相溶性之觀點而言，尤佳為末端或者側鏈含有羥基之氫化萜烯系樹脂、末端或者側鏈含有羥基之氫化聚異戊二烯、末端或者側鏈含有羥基之氫化聚丁二烯等含羥基之聚合物、氫化松香系樹脂、液狀萜烯樹脂。
關於該柔軟化成分於紫外線硬化型接著劑組成物中之重量比例，於使用固體之柔軟化成分之情形時，通常為5~40重量%，較佳為10~35重量%。於使用液狀之柔軟化成分之情形時，通常為10~70重量%，較佳為20~60重量%。
紫外線硬化型接著劑組成物中之固體及液狀之柔軟化成分之合計重量比例通常為5~90重量%，較佳為10~75重量%。
亦可視需要向本發明之紫外線硬化型接著劑組成物中添加抗氧化劑、觸變性賦予劑、消泡劑、表面張力調整劑、矽烷偶合劑、聚合抑制劑、調平劑、抗靜電劑、表面潤滑劑、螢光增白劑、光穩定劑(例如受阻胺化合物等)等添加劑。
再者，關於溶劑，於本發明中，於紫外線硬化型接著劑組成物中為0重量%以上且5重量%以下。其原因在於若大量含有溶劑，則成膜變得困難，並且硬化物會產生凹部或會對硬化性造成不良影響。此處，溶劑於紫外線硬化型接著劑 組成物中較佳為0重量%以上且3重量%以下，更佳為0重量%以上且2重量%以下。
作為抗氧化劑之具體例，例如可列舉：BHT、2,4-雙-(正辛硫基)-6-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯胺基)-1,3,5-三、新戊四醇基(pentaerythrityl)-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2-硫基-二伸乙基雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇-雙[3-(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、丙酸3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)十八基酯、N,N-六亞甲基雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基-氫桂皮醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、三-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)-三聚異氰酸酯、辛基化二苯基胺、2,4-雙[(辛硫基)甲基-鄰甲酚、異辛基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、二丁基羥基甲苯等。
作為矽烷偶合劑之具體例，例如可列舉：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、N-(2-(乙烯基苄基胺基)乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷鹽酸鹽、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷等矽烷系偶合劑；(N-乙基胺基乙基胺基)鈦酸異丙酯、三異硬脂醯基鈦酸異丙酯、二(焦磷酸二辛酯)氧基乙酸鈦、四異丙基二(亞磷酸二辛基酯)鈦酸酯、新烷氧基三(p-N-(β-胺基乙基)胺基苯基)鈦酸酯等鈦系偶合劑；Zr-乙 醯丙酮鉻、Zr-甲基丙烯酸酯、Zr-丙酸酯、新烷氧基鋯酸鹽、新烷氧基三新癸醯基鋯酸鹽、新烷氧基三(十二烷醯基)苯磺醯基鋯酸鹽、新烷氧基三(伸乙基二胺基乙基)鋯酸鹽、新烷氧基三(間胺基苯基)鋯酸鹽、銨鋯碳酸酯、Al-乙醯丙酮酸鉻、Al-甲基丙烯酸酯、Al-丙酸酯等鋯或鋁系偶合劑等。
作為聚合抑制劑之具體例，可列舉對甲氧基苯酚、甲基對苯二酚等。
作為光穩定劑之具體例，例如可列舉：1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基醇、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基醇、(甲基)丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基酯(ADEKA(股)製造，LA-82)、四(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四羧酸酯、四(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-1,2,3,4-丁烷四羧酸酯、1,2,3,4-丁烷四羧酸與1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶醇及3,9-雙(2-羥基-1,1-二甲基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷之混合酯化物、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、碳酸雙(1-十一烷氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)酯、甲基丙烯酸2,2,6,6,-四甲基-4-哌啶基酯、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯、癸二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯、4-苯甲醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1-[2-[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]乙基]-4-[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯氧基]-2,2,6,6-四甲基哌啶、甲基丙烯酸1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基酯、丙二酸雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[[3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基]甲基]丁酯、癸二酸雙(2,2,6,6-四甲基-1(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氫過氧化物與辛烷之反應產物、N,N',N",N'''-四-(4,6-雙-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)胺基)-三-2-基)-4,7-二氮雜癸烷-1,10-二胺、二丁基胺/1,3,5-三/N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基- 1,6-六亞甲基二胺與N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)丁基胺之縮聚物、聚[[6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三-2,4-二基][(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基]六亞甲基[(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亞胺基]]、琥珀酸二甲酯與4-羥基-2,2,6,6-四甲基-1-哌啶乙醇之聚合物、2,2,4,4-四甲基-20-(β-月桂基氧羰基)乙基-7-氧雜-3,20-二氮雜二螺環[5．1．11．2]二十一酸-21-酮、N-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)-β-丙胺酸十二烷基酯/十四烷基酯、N-乙醯基-3-十二烷基-1-(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)吡咯啶-2,5-二酮、2,2,4,4-四甲基-7-氧雜-3,20-二氮雜二螺環[5．1．11．2]二十一酸-21-酮、2,2,4,4-四甲基-21-氧雜-3,20-二氮雜二環-[5,1,11,2]-二十一酸-20-丙酸十二烷基酯/十四烷基酯、丙二酸[(4-甲氧基苯基)-亞甲基]-雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)酯、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶醇之高級脂肪酸酯、1,3-苯二甲醯胺(1,3-benzene dicarboxamide)、N,N'-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)等受阻胺系、辛苯酮等二苯甲酮系化合物；2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚、2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯苯三唑、2-(2-羥基-3,5-二-第三戊基苯基)苯并三唑、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇之反應產物、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚等苯三唑系化合物、苯甲酸2,4-二-第三丁基苯基-3,5-二-第三丁基-4-羥酯等苯甲酸酯系、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5-[(己基)氧基]苯酚等三系化合物等，尤佳為受阻胺系化合物。
於組成物中存在各種添加劑之情形時，各種添加劑於紫外線硬 化型接著劑組成物中之重量比例為0.01~3重量%，較佳為0.01~1重量%，更佳為0.02~0.5重量%。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物可將上述各成分於常溫~80℃混合溶解而獲得，亦可視需要藉由過濾等操作將夾雜物去除。本發明之紫外線硬化型接著劑組成物較佳以25℃之黏度成為1~10000mPa．s之範圍之方式適當調節成分之調配比。關於該組成物之「25℃之黏度」，使用E型黏度計(TV-200：東機產業(股)製造)於25℃進行測定。進而，就對於基材之塗佈性之觀點而言，更佳以25℃之黏度成為1~6000mPa．s之範圍之方式適當調節成分之調配比，進而較佳為25℃之黏度為1~300mPa．s之範圍，更佳為25℃之黏度為1~100mPa．s之範圍。進而，25℃之黏度尤佳為處於1~80mPa．s之範圍內，極佳為1~60mPa．s之範圍，25℃之黏度最佳為1~30mPa．s之範圍。若黏度高於10000mPa．s，則對於基材之塗佈性變差，且若為噴出部之直徑較細之分注器或棒式塗佈法、噴墨法等則無法塗佈等，從而紫外線硬化型接著劑組成物之塗佈方法受到限定。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物於25℃之硬化物之斷裂伸長率較佳為200%以上，更佳為400%以上。「於25℃之硬化物之斷裂伸長率」係藉由使用拉伸試驗器(RTG-1210，A&D公司製造)於25℃之條件下以拉伸速度100mm/min對寬度10mm、長度30mm之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物進行拉伸而測定。詳細而言，斷裂伸長率(%)係以([斷裂時之位移長度]/[測定開始時之夾頭間之長度])×100而算出。紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物例如藉由如下方法而製備。首先，準備2片脫模膜，向其中一片滴加該組成物，並以樹脂層之厚度成為500μm之方式貼合脫模膜後，利用高壓水銀燈(80W/cm，無臭氧)照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。接下來，將樹脂硬化物切成寬度10mm、長度30mm並將2片脫模膜 剝離，藉此獲得硬化物。於斷裂伸長率低於200%之情形時，變得難以追隨基材之變形，於基材彎曲之情形或產生低溫、高溫等溫度環境之情形時產生剝落之可能性增高。
繼而，對使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件製造步驟的較佳形態進行說明。
於本發明之光學構件之製造方法中，較佳藉由下述(步驟1)~(步驟3)將至少2個光學基材貼合。再者，於判斷在(步驟2)之階段中可確保充分之接著強度之情形時，可省略(步驟3)。
(步驟1)對於至少一個光學基材塗佈上述紫外線硬化型接著劑組成物，形成塗佈層，對該塗佈層照射紫外線，藉此獲得具有硬化物層之光學基材之步驟，該硬化物層具有該塗佈層中之存在於光學基材側(塗佈層之下部側)之硬化部分(以下稱為「硬化物層之硬化部分」或簡稱為「硬化部分」)及存在於光學基材側相反側(塗佈層之上部側，通常為大氣側)之未硬化部分(以下稱為「硬化物層之未硬化部分」或簡稱為「未硬化部分」)。再者，於步驟1中，紫外線照射後之塗佈層之硬化率並無特別限定，只要在光學基材側相反側(塗佈層之上部側，通常為大氣側)之表面存在未硬化部分即可。於紫外線照射後，利用手指觸碰與光學基材側相反之側(塗佈層之上部側，通常為大氣側)而液狀成分附著於手指之情形時，可判斷具有未硬化部分。
(步驟2)對步驟1中所獲得之光學基材之硬化物層之未硬化部分，貼合另外的光學基材或貼合藉由步驟1所獲得之另外的光學基材之硬化物層之未硬化部分的步驟。
(步驟3)通過具有遮光部之光學基材對經貼合之光學基材中之具有未硬化部分之硬化物層照射紫外線，使該硬化物層硬化之步驟。
以下，以液晶顯示單元與具有遮光部之透明基板之貼合為例，並參照圖式 對經由步驟1~步驟3之本發明之光學構件之製造方法之具體實施形態進行說明。
此處，本發明之紫外線硬化型接著劑組成物於將2個以上之基板貼合時，係以液狀樹脂之狀態塗佈於至少一個基板，並以液狀樹脂狀態或具有未硬化部分之狀態塗佈於另一基板。於在將該等貼合後藉由紫外線進行硬化之情形時，可發揮尤其優異之接著效果，從而可防止空氣介於其間。因此，尤佳為於此種情形時使用。
(第1實施形態)
圖1係表示使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件製造步驟第1實施形態的步驟圖。
該方法係藉由將液晶顯示單元1與透明基板2貼合而獲得光學構件之方法。
液晶顯示單元1係指於在形成有電極之一對基板間封入有液晶材料者具備偏光板、驅動用電路、訊號輸入纜線、背光單元者。
透明基板2係玻璃板、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)板、聚碳酸酯(PC)板、脂環式聚烯烴聚合物(COP)板等透明基板。
此處，透明基板2可較佳地使用於透明基板之表面上具有黑色框狀遮光部4者，遮光部4係藉由膠帶之貼附或塗料之塗佈或印刷等而形成。再者，於本發明中，亦可應用於不具有遮光部4者，於以下之第1~3之實施形態之說明中，以具備遮光部4之情形為具體例進行說明。於不具有遮光部4之情形時，只要將「具有遮光部之透明基板」改稱為「透明基板」，便可直接視作不具有遮光部之情形之例。
(步驟1)
首先，如圖1(a)所示，將紫外線硬化型接著劑組成物塗佈於液晶顯示單元1之顯示面與具有遮光部之透明基板2形成有遮光部之面的表面。作為塗佈之 方法，可列舉：狹縫式塗佈機、輥式塗佈機、旋轉塗佈機、網版印刷法、棒式塗佈機、刮刀法、噴墨法等。此處，塗佈於液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2之表面的紫外線硬化型接著劑組成物可相同，亦可使用不同之紫外線硬化型接著劑組成物。通常較佳為兩者為相同之紫外線硬化型接著劑組成物。
各紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物之膜厚係以經貼合後之樹脂硬化物層7成為10~500μm，較佳為20~350μm，進而較佳為30~150μm之方式進行調整。此處，具有遮光部之透明基板2之表面上所存在之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物層之膜厚亦取決於該膜厚，通常較佳為與液晶顯示單元1之表面上所存在之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物層之膜厚為相同程度或厚於液晶顯示單元1之表面上所存在之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物層之膜厚。其原因在於要將下述步驟3中照射紫外線後亦未硬化而直接殘留之部分作為最小限來消除硬化不良之顧慮。
對塗佈後之紫外線硬化型接著劑組成物層5照射紫外線8，獲得具有存在於塗佈層下部側(自紫外線硬化型接著劑組成物觀察時為液晶顯示單元側或透明基板側)之硬化部分(圖中未表示)及存在於塗佈層上部側(液晶顯示單元側相反側或透明基板側相反側)(於在大氣中進行時為大氣側)之未硬化部分(圖中未表示)的硬化物層6。照射量較佳為5~2000mJ/cm2，尤佳為10~1000mJ/cm2。若照射量過少，則有最後經貼合之光學構件之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化度變得不充分之虞，若照射量過多，則有未硬化成分變少而導致液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2之貼合變得不良之虞。
於本發明中，所謂「未硬化」，表示於25℃環境下具有流動性之狀態。又，於照射紫外線後利用手指觸碰紫外線硬化型接著劑組成物層，於液狀成分附著於手指之情形時，判斷具有未硬化部分。
於藉由紫外~近紫外之紫外線照射而進行之硬化中，只要為照射紫外~近 紫外之光線之燈，則任何光源均可。例如可列舉：低壓、高壓或者超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、(脈衝)氙氣燈、LED燈或無電極燈等。
於本發明之步驟1中，照射至紫外線硬化型接著劑組成物之紫外線之波長並無特別限定，於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，200~320nm之波長區域中之最大照度之比率(照度比)較佳為30以下，尤佳為10以下。
於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，若200~320nm之波長區域中之最大照度之比率(照度比)高於30，則有最後獲得之光學構件之接著強度變差之虞。認為其原因在於若低波長下之照度高，則於步驟1中之硬化時，紫外線硬化型接著劑組成物之硬化過分進行，而導致對步驟3中之紫外線照射下之硬化時之密接性的幫助減少。
此處，以成為上述照度比率之方式照射紫外線之方法，例如有應用滿足該照度比率之條件之燈作為照射紫外~近紫外之光線之燈之方法，或即便於燈本身不滿足該照度之條件之情形時，亦可藉由在步驟1之照射時使用濾除短波長之紫外線之基材(例如短波紫外線截止濾波器、玻璃板、膜等)來以此種照度比率進行照射。作為調整紫外線之照度比率之基材，並無特別限定，例如可列舉實施有短波紫外線濾除處理之玻璃板、鈉鈣玻璃、PET膜等。再者，對石英玻璃等之表面實施凹凸處理後之衰減板等不怎麼有效。該等由於係使光散射而降低照度，故而並不適合選擇性地減小320nm以下之短波長之照度。
於步驟1中，紫外線之照射通常較佳為於大氣中自塗佈側之上部側表面(自紫外線硬化型接著劑組成物觀察時，為液晶顯示單元側相反側或透明基板側相反側)(通常大氣面)進行照射。又，亦可於製成真空後一面將硬化抑制性氣體噴霧至塗佈層之上表面，一面進行紫外線之照射。於在大氣中使紫外線 硬化型接著劑組成物硬化之情形時，與液晶顯示單元側相反之側或與透明基板側相反之側成為大氣側。再者，於欲提高步驟1中所形成之塗佈層表面之黏性之情形時，亦可於真空環境下或氮氣等不會引起硬化抑制之氣體之環境下照射紫外線。
另一方面，於省略步驟3之情形時，可較佳地於真空中或一面噴霧促進硬化之氣體(例如氮氣)一面進行硬化。藉此，即便省略步驟3，亦可進行充分之接著。
於照射紫外線時，可藉由對紫外線硬化型接著劑組成物層(塗佈層)表面吹送氧氣或臭氧來調整未硬化部分之狀態或未硬化部分之膜厚。
即，藉由對塗佈層之表面吹送氧氣或臭氧，會於其表面產生紫外線硬化型接著劑組成物之硬化之氧氣抑制，故而可使其表面之未硬化部分可靠，又，可使未硬化部分之膜厚變厚。
(步驟2)
繼而，以未硬化部分彼此對向之形式如圖1(b)所示般將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2貼合。貼合可於大氣中及真空中之任一者進行。
此處，於貼合時為了防止產生氣泡，較佳為於真空中進行貼合。
如此，若於液晶顯示單元及透明基板之各者獲得具有硬化部分及未硬化部分之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物後貼合，則可期待接著力提高。
貼合可藉由加壓、壓製等進行。
(步驟3)
繼而，如圖1(c)所示，自具有遮光部之透明基板2側對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件照射紫外線8，使紫外線硬化型接著劑組成物(塗佈層)硬化。
紫外線之照射量以累計光量計，較佳約為100~4000mJ/cm2，尤佳為200 ~3000mJ/cm2左右。關於藉由紫外~近紫外之光線照射而進行之硬化所使用之光源，只要為照射紫外~近紫外之光線之燈，則任何光源均可。例如可列舉：低壓、高壓或者超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、(脈衝)氙氣燈、LED燈或無電極燈等。
如此，可獲得如圖4所示之光學構件。
(第2實施形態)
除第1實施形態以外，亦可藉由以如下方式變化後之第2實施形態製造本發明之光學構件。再者，由於各步驟中之詳細內容與上述第1實施形態相同之情況完全合適，故而省略說明。
(步驟1)
首先，如圖2(a)所示，將紫外線硬化型接著劑組成物塗佈於具有遮光部之透明基板2上形成有遮光部4之面後，對所獲得之塗佈層(紫外線硬化型接著劑組成物層5)照射紫外線8，獲得具有存在於塗佈層下部側(自上述紫外線硬化型接著劑組成物觀察時為透明基板側)之硬化部分與存在於塗佈層上部側(透明基板側相反側)之未硬化部分的硬化物層6。
此時，照射至紫外線硬化型接著劑組成物之紫外線之波長並無特別限定，於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，200~320nm之波長區域中之最大照度之比率較佳為30以下，尤佳為10以下。於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，若200~320nm之波長區域中之最大照度之比率高於30，則有最後獲得之光學構件之接著強度變差之虞。
(步驟2)
繼而，如圖2(b)所示，以所獲得之硬化物層6之未硬化部分與液晶顯示單元1之顯示面對向之形式將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2貼合。貼合可於大氣中及真空中之任一者進行。
(步驟3)
繼而，如圖2(c)所示，自具有遮光部之透明基板2側對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件照射紫外線8，使紫外線硬化型接著劑組成物之具有未硬化部分之硬化物層6硬化。
如此，可獲得如圖4所示之光學構件。
(第3實施形態)
圖3係表示使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之光學構件製造方法第3實施形態的步驟圖。再者，由於各步驟中之詳細內容與上述第1實施形態相同之情況完全合適，故而針對相同部分省略說明。
再者，於圖中對與上述第1實施形態中之構成構件相同之構件標註相同之符號，且此處不重複其說明。
(步驟1)
首先，如圖3(a)所示，將紫外線硬化型接著劑組成物塗佈於液晶顯示單元1之表面。然後，對紫外線硬化型接著劑組成物層5照射紫外線8，獲得具有存在於塗佈層之下部側(自上述紫外線硬化型接著劑組成物觀察時為透明基板側)之硬化部分及存在於塗佈層之上部側(透明基板側相反側)之未硬化部分的硬化物層6。
此時，照射至紫外線硬化型接著劑組成物之紫外線之波長並無特別限定，於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，200~320nm之波長區域中之最大照度較佳為30以下，尤佳為10以下。於將320nm~450nm之波長區域中之之最大照度設為100時，若200~320nm之波長區域中之最大照度高於30，則會導致最後獲得之光學構件之接著強度變差。
(步驟2)
繼而，如圖3(b)所示，以所獲得之硬化物層6之未硬化部分與具有遮光 部之透明基板2上形成有遮光部之面對向之形式將液晶顯示單元1與具有遮光部之透明基板2貼合。貼合可於大氣中及真空中之任一者進行。
(步驟3)
繼而，如圖3(c)所示，自具有遮光部之透明基板2側對將透明基板2及液晶顯示單元1貼合而獲得之光學構件照射紫外線8，使紫外線硬化型接著劑組成物之具有未硬化部分之硬化物層6硬化。
如此，可獲得如圖4所示之光學構件。
上述各實施形態係以一個具體之光學基材對本發明之光學構件製造方法之若干實施態樣進行說明者。於各實施形態中，使用液晶顯示單元及具有遮光部之透明基板進行了說明，但於本發明之製造方法中，可使用下述各種構件作為光學基材來代替液晶顯示單元，關於透明基板，亦可使用下述各種構件作為光學基材。
不僅如此，作為液晶顯示單元及透明基板等光學基材，亦可進而使用另外的光學基材層(例如利用紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物層而貼合之膜或積層有其他光學基材層者)於該等各種構件。
進而，第1實施形態之項中所記載之紫外線硬化型接著劑組成物之塗佈方法、樹脂硬化物之膜厚、紫外線照射時之照射量及光源及藉由對紫外線硬化型接著劑組成物層表面吹送氧氣或氮氣或臭氧而調整未硬化部分之膜厚之方法等均不僅應用於上述實施形態，亦可應用於本發明所包含之任一製造方法。
亦包含上述液晶顯示單元在內，將可於上述第1~第3實施形態中製造之光學構件之具體態樣示於下文中。
(i)具有遮光部之光學基材係選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板及形成有遮光部與透明電極之玻璃基板組成之群中的至少一種光學基材，與其貼合之光學基材係選自由液晶顯示單元、電漿顯示單元及 有機EL單元組成之群中的至少一種顯示單元，所獲得之光學構件係具有該具有遮光部之光學基材之顯示體單元的態樣。
(ii)其中一光學基材係具有遮光部之保護基材，與其貼合之另外的光學基材係觸控面板或具有觸控面板之顯示體單元，將至少2個光學基材貼合而成之光學構件係具有具備遮光部之保護基材的觸控面板或具有觸控面板的顯示體單元之態樣。
於該情形時，於步驟1中，較佳於具有遮光部之保護基材設置有遮光部之面或觸控面板之觸控面之任一面或其兩者塗佈上述紫外線硬化型接著劑組成物。
(iii)其中一光學基材係具有遮光部之光學基材，與其貼合之另外的光學基材係顯示體單元，將至少2個光學基材貼合而成之光學構件係具備具有遮光部之光學基材的顯示體單元之態樣。
於該情形時，於步驟1中，較佳於具有遮光部之光學基材設置有遮光部之側的面或顯示體單元之顯示面的任一面或其兩者塗佈上述紫外線硬化型接著劑組成物。
作為具有遮光部之光學基材之具體例，例如可列舉具有遮光部之顯示畫面用保護板或設置有具有遮光部之保護基材的觸控面板等。
所謂具有遮光部之光學基材設置有遮光部之側的面，例如於具有遮光部之光學基材係具有遮光部之顯示畫面用保護板時，係該保護板設置有遮光部之側的面。又，於具有遮光部之光學基材係具有具備遮光部之保護基材的觸控面板時，將具有遮光部之保護基材具有遮光部之面貼合於觸控面板之觸控面。因此，所謂具有遮光部之光學基材設置有遮光部之側的面意指與該觸控面板之觸控面相反的觸控面板之基材面。
具有遮光部之光學基材之遮光部可位於光學基材之任一部位，通常以框狀 製作於透明板狀或片狀之光學基材之周圍，其寬度為0.1mm~10mm左右，較佳為1~8mm左右，更佳為1.5~5mm左右。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物可使用於藉由上述(步驟1)~(步驟2)並視需要進而藉由(步驟3)將至少2個光學基材貼合而製造光學構件之方法。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物的硬化收縮率較佳為10.0%以下，尤佳為6.0%以下。藉此，於紫外線硬化型接著劑組成物硬化時，可減少樹脂硬化物中所蓄積之內部應力，從而可有效地防止於基材與由紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物構成之層的界面產生應變。
又，於玻璃等基材較薄之情形時，於硬化收縮率較大之情形時硬化時之翹曲會增大，因此，會對顯示性能造成較大之不良影響，故而就該觀點而言，硬化收縮率亦較佳為少。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物於450nm~800nm之波長區域中之透射率較佳為85%以上，更佳為90%以上。其原因在於在該透射率未達85%之情形時，光難以透過，於使用於顯示裝置之情形時會導致目視辨認性降低。
本發明之紫外線硬化型接著劑組成物可較佳地用作用以藉由上述(步驟1)~(步驟3)將多個光學基材貼合而製造光學構件之接著劑。
作為於本發明之光學構件之製造方法中使用之光學基材，可列舉透明板、片、觸控面板及顯示體單元等。
於本發明中，所謂「光學基材」，意指表面不具有遮光部之光學基材及表面具有遮光部之光學基材兩者。於本發明之光學構件之製造方法中，較佳為所使用之多個光學基材中之至少一個為具有遮光部之光學基材。
作為使用於本發明之光學基材之材質，可使用各種材料。具體 而言，可列舉：PET、PC、PMMA、PC與PMMA之複合體、玻璃、COC、COP、聚醯亞胺、塑膠(丙烯酸樹脂等)等樹脂。作為使用於本發明之光學基材例如透明板或片，可使用將多片偏光板等膜或片積層而成之片或透明板、未積層之片或透明板及由無機玻璃製作而成之透明板(無機玻璃板及其加工品，例如透鏡、稜鏡、ITO玻璃)等。又，使用於本發明之光學基材除上述偏光板等以外，亦包含觸控面板(觸控面板輸入感測器)或下述顯示單元等由多個功能板或片構成之積層體(以下，亦稱為「功能性積層體」)。
作為可用作使用於本發明之光學基材之片，可列舉：圖標片、化妝片、保護片。作為可使用於本發明之光學構件之製造方法之板(透明板)，可列舉化妝板、保護板。作為該等片以及板之材質，可應用作為透明板之材質而列舉者。
作為可用作使用於本發明之光學基材的觸控面板表面之材質，可列舉：玻璃、PET、PC、PMMA、PC與PMMA之複合體、COC、COP。
透明板或片等板狀或片狀光學基材之厚度並無特別限制，通常為5μm左右至5cm左右，較佳為10μm左右至10mm左右，更佳為50μm~3mm左右之厚度。又，可用作使用於本發明之光學基材的光學基材可應用板狀之剛性高的基材、可彎曲或捲曲之薄型及片狀基材之任一種。
作為可利用本發明之製造方法獲得之較佳的光學構件，可舉利用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物將具有遮光部之板狀或片狀透明光學基材與上述功能性積層體貼合而成之光學構件。
又，於本發明之製造方法中，使用液晶顯示裝置等顯示單元作為其中一光學基材，使用光學功能材料作為另外的光學基材，藉此可製造附光學功能材料之顯示體單元(以下，亦稱為顯示面板)。作為上述顯示單元，例如可列舉：於玻璃貼附有偏光板之LCD、EL顯示器、EL照明、量子點顯示器、電子紙或 電漿顯示器等顯示裝置。又，作為光學功能材料，可列舉：丙烯酸板、PC板、PET板、PEN板、環烯烴板、透明聚醯亞胺樹脂等透明塑膠板、強化玻璃、觸控面板輸入感測器。
於用作貼合光學基材之接著材之情形時，為了提高目視辨認性，硬化物之折射率較佳為1.45~1.55。若為該折射率之範圍內，則可減少與被用作光學基材之基材的折射率之差，從而可抑制光之漫反射而減少光損失。
作為利用本發明之製造方法獲得之光學構件之較佳態樣，可列舉下述(i)~(vii)。
(i)一種光學構件，其係使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物將具有遮光部之光學基材與上述功能性積層體貼合而成。
(ii)如上述(i)所述之光學構件，其中，具有遮光部之光學基材係選自由具有遮光部之透明玻璃基板、具有遮光部之透明樹脂基板及形成有遮光物與透明電極之玻璃基板、形成有遮光物與透明電極之透明樹脂基板組成之群中的光學基材，功能性積層體係顯示體單元或觸控面板。
(iii)如上述(ii)所述之光學構件，其中，顯示體單元係液晶顯示體單元、電漿顯示體單元及有機EL顯示單元之任一者。
(iv)一種觸控面板(或觸控面板輸入感測器)，其係使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物將具有遮光部之板狀或片狀之光學基材貼合於觸控面板感測器而成。
(v)一種顯示面板，其係使用本發明之紫外線硬化型接著劑組成物之硬化物將具有遮光部之板狀或片狀光學基材貼合於顯示體單元之顯示畫面上而成。
(vi)如上述(v)所述之顯示面板，其中，具有遮光部之板狀或片狀光學基材係用以保護顯示體單元之顯示畫面的保護基材或觸控面板。
(vii)如上述(i)至(vi)中任一項所述之光學構件、觸控面板或顯示面板，其中，紫外線硬化型接著劑組成物係如上述(1)至(9)中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物。
藉由本發明之製造方法而獲得之含有顯示體單元與具有遮光部之光學基材的光學構件例如可組裝至電視、小型遊戲機、行動電話、電腦、可穿戴式裝置等電子機器。
實施例
以下，藉由實施例對本發明進一步具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例任何限制。
紫外線硬化型接著劑組成物之製備
以表1所示之調配比率進行加熱混合，製備組成物A~L之樹脂組成物。
A1：IRGACURE MBF(BASF公司製造)
A2：IRGACURE 754(BASF公司製造)
A'1：IRGACURE 184(BASF公司製造)
A'2：SpeedCure TPO(2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦，LAMBSON公司製造)
A'3：二苯甲酮(和光純藥工業(股)製造)
B1：胺酯丙烯酸酯(urethane acrylate)(將聚丙二醇(重量平均分子量3000)、異佛酮二異氰酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯之3成分以莫耳比1：1.3：0.7反應所得之反應物，重量平均分子量Mw22000)
B2：胺酯丙烯酸酯(將氫化聚丁二烯二醇(重量平均分子量2000)、異佛酮二異氰酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯之3成分以莫耳比1：1.2：0.4反應所得之反應物，重量平均分子量Mw65000)
B3：胺酯丙烯酸酯(將聚丙二醇(重量平均分子量2000)、異佛酮二異氰 酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯之3成分以莫耳比1：1.5：1反應所得之反應物，重量平均分子量Mw11000)
B4：UC-203(異戊二烯聚合物之順丁烯二酸酐加成物與甲基丙烯酸2-羥基乙酯之酯化物，Kuraray(股)製造，重量平均分子量Mw35000)
B'1：胺酯丙烯酸酯(將聚伸丁二醇(重量平均分子量650)、異佛酮二異氰酸酯、丙烯酸2-羥基乙酯之3成分以莫耳比1：1.8：1.7反應所得之反應物，重量平均分子量Mw2500)
C1：4HBA(丙烯酸4-羥基丁酯，大阪有機化學工業(股)製造)
C2：MIRAMER M-1144(鄰苯基苯酚(EO2莫耳)丙烯酸酯，MIWON公司製造)
C-1-1：Blemmer LA(丙烯酸月桂酯，日油(股)製造)
C-1-2：NOAA(丙烯酸正辛酯，大阪有機化學工業(股)製造)
C-1-3：IDAA(丙烯酸異癸酯，大阪有機化學工業(股)製造)
C-1-4：NK Ester S-1800A(丙烯酸異硬脂酯，新中村化學(股)製造)
C-2-1：Fancryl FA-513AS(丙烯酸雙環戊酯，日立化成(股)製造)
C-2-2：IBXA(丙烯酸異酯，大阪有機化學工業(股)製造)
C-2-3：ACMO(丙烯醯嗎福林，KJ Chemicals(股)製造)
X1：GI-2000(兩封端羥基氫化聚丁二烯，日本曹達(股)製造)
X2：PINECRYSTALKE311(氫化松香酯樹脂，荒川化學(股)製造)
使用所獲得之組成物A~L進行以下評價。
(黏度)
使用E型黏度計(TV-200：東機產業(股)製造)於25℃測定所獲得之組成物之黏度。將測定結果示於表2。
(塗佈性)
使用棒式塗佈機將所獲得之組成物以膜厚成為50μm之方式塗佈於厚100μm之PET膜，利用目視確認塗佈面之狀態。
○：塗佈面均勻
△：於塗佈面略微觀察到凸凹
×：塗佈面存在明顯之凸凹
(硬化性)
準備2片厚度1mm之載玻片，將所獲得之組成物滴加至其中1片，並以膜厚成為100μm之方式將2片載玻片貼合。利用高壓水銀燈(80W/cm、無臭氧)隔著玻璃照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。然後，將2片載玻片剝離並確認樹脂之硬化狀態。將結果示於表2。
○：保持硬化後之形狀且無流動性。
×：液狀或將載玻片剝離時產生拉絲，具有流動性。
(斷裂伸長率)
準備2片脫模膜，於其中一片滴加所獲得之組成物，並以樹脂層之厚度成為500μm之方式將脫模膜貼合後，利用高壓水銀燈(80W/cm、無臭氧)照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。然後，將樹脂硬化物切成寬度10mm、長度30mm並將2片脫模膜剝離後，使用拉伸試驗器(RTG-1210，A&D公司製造)測定樹脂硬化物之斷裂伸長率。測定條件設為25℃、拉伸速度100mm/min，以([斷裂時之位移長]/[測定開始時之夾頭間之長度])×100算出斷裂伸長率(%)。將結果示於表2。
◎：斷裂伸長率為400%以上
○：斷裂伸長率為200%以上且未達400%
×：斷裂伸長率未達200%
(基材劣化性)
將所獲得之組成物以成為厚100μm之方式塗佈於厚100μm之PET膜，並將其貼合於厚100μm之COP(環烯烴聚合物)膜後，利用高壓水銀燈(80W/cm2、無臭氧)自PET膜側照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。將所獲得之試片投入至80℃環境中200小時，並使用顯微鏡確認COP膜有無龜裂(破裂、裂縫等)。將結果示於表2。
○：COP膜無龜裂。
×：COP膜產生破裂或裂縫。
(接著性)
將所獲得之組成物以厚度成為100μm之方式塗佈於厚100μm之COP(環烯烴聚合物)膜(4邊長度各為50mm)，並將其貼合於厚100μm之PET膜(寬度60mm、長度100mm)後，利用高壓水銀燈(80W/cm、無臭氧)自PET膜側照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。將所獲得之試片以PET膜成為彎曲保持治具側(與保持治具之曲面相接之方向)之方式設置於曲率半徑R=50mm之彎曲保持治具，將試片於以R=50mm彎曲之狀態下投入至60℃環境中250小時。然後，目視確認試片有無剝落。將結果示於表2。
◎：無剝落。
○：試片之端部(距COP膜端部之距離為1mm以內)產生剝落。
×：試片之面內(距COP膜端部之距離小於1mm之內側)產生剝落。
(透明性)
準備2片塗佈有氟系脫模劑之厚度1mm之載玻片，並將所獲得之組成物(組成物A~H、J~L)以膜厚成為200μm之方式塗佈於其中1片脫模劑塗佈面。然後，將2片載玻片以各自之脫模劑塗佈面相互對向之方式貼合。利用高壓水銀燈(80W/cm、無臭氧)隔著玻璃照射累計光量2000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化。然後，將2片載玻片剝離，製作透明性測定用之硬化物。關於所獲得之硬化物之透明性，使用分光光度計(U-3310，日立高新技術(股))測定450~800nm之波長區域中之光的透射率。其結果為，450~800nm之波長區域中之光的透射率為85%以上。
進而，使用所獲得之本發明之組成物A進行以下之評價。
(耐熱、耐濕接著性)
準備厚度0.8mm之載玻片與厚度0.8mm之丙烯酸板，將所獲得之組成物A以膜厚成為200μm之方式塗佈於其中一者後，將另一者貼合於其塗佈面。利用高壓水銀燈(80W/cm、無臭氧)隔著玻璃對該樹脂組成物照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，而使該樹脂組成物硬化，製作接著性評價用樣品。將其於85℃、85%RH環境下放置250小時。於該評價用樣品中，雖以目視確認了載玻片或丙烯酸板自樹脂硬化物之剝落，但並未剝落。
(遮光部下之樹脂之硬化性)
於面積為3.5英吋之液晶顯示單元之顯示面及外周部具有遮光部(寬度5mm)之透明基板上形成有遮光部之面，將組成物A以膜厚成為50μm之方式塗佈於各個基板。繼而，使用無電極紫外線燈(Heraeus Noblelight Fusion UV公司製造，D BULB)自大氣側通過屏蔽320nm以下之波長之光的紫外線截止濾波器對所獲得之塗佈層照射累計光量500mJ/cm2之紫外線，形成具有硬化部分及存在於大氣之未硬化部分的硬化物層。再者，此時照射至組成物之紫外線於將320nm~450nm之波長區域中之最大照度設為100時，200~320nm之波長 區域中之最大照度之比率為3。然後，以未硬化部分對向之形式將液晶顯示單元與具有遮光部之透明基板貼合。最後，利用超高壓水銀燈(TOSCURE752，哈利盛東芝照明公司製造)自具有遮光部之玻璃基板側照射累計光量3000mJ/cm2之紫外線，藉此使樹脂硬化物層硬化而製作光學構件。自所獲得之光學構件將透明基板卸除並利用甲基環己烷將遮光部分之樹脂硬化物層沖洗後，確認硬化狀態。並不存在未硬化之樹脂組成物被去除之痕跡，遮光部之樹脂充分硬化。
(柔軟性)
藉由依據JIS K7215之方法，使用Durometer硬度計(E型)測定Durometer E硬度，並對柔軟性進行評價。更具體而言，將所獲得之組成物A以膜厚成為1cm之方式流入至圓柱狀之模具中，照射紫外線而使該樹脂組成物充分地硬化。利用Durometer硬度計(E型)測定所獲得之硬化物之硬度。其結果為測定值未達10，柔軟性優異。
雖參照特定態樣對本發明詳細地進行了說明，但該行業者明白可於不脫離本發明之精神與範圍之情況下進行各種變更及修正。
再者，本案基於在2017年10月4日提出申請之日本專利申請(特願2017-193940)及於2017年10月20日提出申請之日本專利申請(特願2017-203051)，其整體內容係藉由引用而被援用。又，引用至本文中之所有參照係整體被載入。

Claims (12)

  1. 一種紫外線硬化型接著劑組成物，其係用以將至少2個光學基材貼合之樹脂組成物，含有分子內奪氫型光聚合起始劑(A)、光聚合性低聚物(B)及(甲基)丙烯酸酯單體(C)，該樹脂組成物中之溶劑之含有比例為5重量%以下，光聚合性低聚物(B)之重量平均分子量為7000~100000之範圍，該樹脂組成物之硬化物於450~800nm之波長區域中之光的透射率為85%以上。
  2. 如請求項1所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中，光聚合性低聚物(B)係胺酯(甲基)丙烯酸酯(urethane(meth)acrylate)或具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中之至少1種以上之骨架的(甲基)丙烯酸酯。
  3. 如請求項1或2所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中，光聚合性低聚物(B)係具有選自由聚丙烯、聚丁二烯、氫化聚丁二烯、聚異戊二烯及氫化聚異戊二烯組成之群中之至少1種以上之骨架的胺酯(甲基)丙烯酸酯。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其於25℃之黏度為1~300mPa．s。
  5. 如請求項1至3中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其於25℃之黏度為1~100mPa．s。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其含有下述式(1)所表示之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-1)作為(甲基)丙烯酸酯單體(C)：X-O-R 1 (1) (式中，X表示丙烯醯基或甲基丙烯醯基，R 1表示碳數8~18個之烷基)。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其含有具有脂環或雜環之單官能(甲基)丙烯酸酯單體(C-2)作為(甲基)丙烯酸酯單體(C)。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中，該硬化物之25℃之斷裂伸長率為200%以上。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其中，該光學基材係選自由玻璃基板、透明樹脂基板、形成有透明電極之玻璃基板、於透明基板形成有透明電極之玻璃基板或貼合有膜之基板、液晶顯示單元、電漿顯示單元及有機EL顯示單元組成之群中之1種以上的光學基材。
  10. 如請求項1至9中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，其係觸控面板用紫外線硬化型接著劑組成物。
  11. 一種硬化物，其係對請求項1至10中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物照射活性能量線所獲得。
  12. 一種貼合有至少2個光學基材之光學構件之製造方法，其具有下述步驟1~2：(步驟1)對至少1個光學基材塗佈請求項1至10中任一項所述之紫外線硬化型接著劑組成物，形成塗佈層，對該塗佈層照射紫外線，藉此獲得具有硬化物層之光學基材之步驟(步驟2)對於在步驟1中所獲得之光學基材之硬化物層，貼合另外的光學基材或貼合藉由步驟1所獲得之另外的光學基材之硬化物層之步驟。
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