TWI790790B

TWI790790B - 光刻系統的掃描方法和光刻系統

Info

Publication number: TWI790790B
Application number: TW110139591A
Authority: TW
Inventors: 陳國軍; 吳景舟; 迪馬
Original assignee: 大陸商江蘇迪盛智能科技有限公司
Priority date: 2021-01-07
Filing date: 2021-10-26
Publication date: 2023-01-21
Also published as: JP2024502160A; WO2022148037A1; TW202227903A

Abstract

本發明公開了一種光刻系統的掃描方法和光刻系統，涉及光刻技術領域，所述方法應用於光刻系統，所述光刻系統包括機台、工作台和數字微鏡器件DMD，所述DMD設置在所述機台上，所述工作台用於設置被光刻對象，所述方法包括：控制運動主體進行運動，以使所述DMD與所述被光刻對象同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD、所述機台和所述工作台。避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD成本較高的問題，達到了可以通過調整運動主體的運動速度進而方便快捷的實現清晰度調整的效果。

Description

光刻系統的掃描方法和光刻系統

本發明涉及光刻技術領域，尤其涉及光刻系統的掃描方法和光刻系統。

光刻是指利用光學複製的方法把圖形印製在光敏記錄材料上，然後通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來製作電子電路的技術。

DMD（Digital Micromirror Device，數字微鏡器件）無掩膜光刻技術是從傳統光學光刻技術衍生出的一種新技術，因為其曝光成像的方式與傳統投影光刻基本相似，區別在於使用數字DMD代替傳統的掩膜，其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中，根據圖像中的黑白像素的分佈來改變DMD芯片微鏡的轉角，並通過准直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面，通過控制樣品台的移動實現大面積的微結構製備。相對於傳統的光刻設備，DMD無掩膜光刻機無需掩膜，節約了生產成本和週期。

然而現有方案中，為了增加DMD的掃描清晰度，通常將DMD中的各微鏡錯開設置，然而在該方案中如果需要更改清晰度，只能更換不同參數的DMD，成本較高。

有鑑於此，吾等發明人乃潛心進一步研究，並著手進行研發及改良，期以一較佳發明以解決上述問題，且在經過不斷試驗及修改後而有本發明之問世。

本發明的目的在於提供光刻系統的掃描方法和光刻系統，進而解決現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD更換成本較高的問題。

本發明的目的採用以下技術方案實現：

第一方面，提供了一種光刻系統的掃描方法，應用於光刻系統，所述光刻系統包括機台、工作台和數字微鏡器件DMD，所述DMD設置在所述機台上，所述工作台用於設置被光刻對象，所述方法包括：

控制運動主體進行運動，以使所述DMD與所述被光刻對象同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD、所述機台和所述工作台。

通過提供一種應用於光刻系統的掃描方法，該方法包括控制運動主體進行運動，以使所述DMD與所述被光刻對象同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD、所述機台和所述工作台。也即通過控制運動主體運動以實現DMD和被光刻對象傾斜，避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD成本較高的問題，達到了可以通過調整運動主體的運動速度進而方便快捷的實現清晰度調整的效果。

在一些實施例中，所述DMD包括多個微鏡，每個所述微鏡的形狀是矩形，將所述微鏡的第一邊的長度記為m，將所述微鏡的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，將所述DMD與所述被光刻對象之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角記為θ；所述方法進一步包括：根據m、n和p，確定θ。

在一些實施例中，p和θ之間的關係滿足：p=(n×tanθ+m)×cosθ。

通過計算θ，進而控制運動主體按照計算得到的θ進行運動，達到了可以準確控制DMD掃描的清晰度的效果。

在一些實施例中，所述DMD與所述被光刻對象在第一方向上的相對速度是V ₁，在第二方向上的相對速度是V ₂；所述方法進一步包括：根據θ，確定V ₁和V ₂。

在一些實施例中，V ₂/V ₁=tanθ。

通過根據計算得到的θ進而確定運動主體在第一方向的相對運動速度以及在第二方向的相對運動速度，達到了可以通過控制運動主體的運動速度的方式來實現控制DMD的掃描清晰度，進而降低在調整DMD的掃描清晰度時的成本的效果。

在一些實施例中，所述DMD固定設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述機台同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第一方向上進行運動，同時控制所述工作台在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第二方向上進行運動，同時控制所述工作台在第一方向上進行運動。

通過上述多種控制方式實現運動主體的運動控制，達到了可以根據不同應用場景適當選擇，提高了實際掃描的靈活度，擴大應用範圍的效果。

在一些實施例中，所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述機台在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD在第一方向上進行運動。

在一些實施例中，所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述工作台在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD在第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD在第一方向上進行運動。

在一些實施例中，所述DMD包括在高度方向上疊加設置的k個DMD，k為大於1的整數。

通過在高度方向上疊加設置k個DMD，達到了在掃描過程中DMD的掃描精度。

在一些實施例中，所述方法進一步包括：獲取至少兩種光刻配置方案的評價參數，所述評價參數包括硬件配置參數、工藝成本以及工時中的至少一種；以及根據每種光刻配置方案的評價參數進行光刻配置推薦。

通過計算多種光刻配置方案的評價參數，進而根據計算得到的評價參數來推薦光刻配置方案，達到了可以為用戶提供建議，幫助用戶選擇適合自身使用需求的方案的效果。

在一些實施例中，其中所述獲取至少兩種光刻配置方案的評價參數包括：對於所述至少兩種光刻配置方案中的每種光刻配置方案，將所述光刻配置方案的配置參數輸入至目標神經網絡，所述目標神經網絡的輸出即為所述光刻配置方案的評價參數，所述目標神經網絡為根據樣本光刻配置方案的配置參數以及每個樣本光刻配置方案的評價參數預先訓練得到的網絡。

通過使用訓練後的目標神經網絡來獲取評價參數，達到了可以提高評價參數的獲取準確率以及獲取效率的效果。

在一些實施例中，所述方法進一步包括：將所述DMD所在平面與所述被光刻對象所在平面之間的角度設置為預設角度γ。

通過將DMD所在平面與被光刻對象所在平面之間的角度設置為預設角度，避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD成本較高的問題，達到了可以通過調整DMD所在平面與被光刻對象所在平面之間的角度方便快捷的實現清晰度調整的效果。

第二方面，提供了一種光刻系統，所述系統包括：數字微鏡器件DMD；用於設置所述DMD的機台；用於設置被光刻對象的工作台；用於存儲一條或多條程序指令的存儲器；以及處理器，所述處理器能夠讀取所述一條或多條程序指令，所述處理器通過加載並執行所述一條或多條程序指令以實現上述任一項方法。

第三方面，提供了一種光刻系統，所述系統包括：機台、工作台和數字微鏡器件DMD，所述DMD設置在所述機台上，所述工作台用於設置被光刻對象，所述DMD所在平面與所述被光刻對象所在平面之間的角度為預設角度γ。

在一些實施例中，所述DMD包括多個微鏡，每個所述微鏡的形狀是矩形，將所述微鏡的第一邊的長度記為m，將所述微鏡的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述預設角度γ由所述m、所述n和所述p確定。

在一些實施例中，k=2。

在一些實施例中，所述DMD與所述被光刻對象在第一方向和第二方向上相對運動。

通過控制DMD和被光刻對象在第一方向和第二方向上相對運動，避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD成本較高的問題，達到了可以通過調整運動主體的運動速度進而方便快捷的實現清晰度調整的效果。

在一些實施例中，DMD固定設置在所述機台上；所述機台同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，所述工作台同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，所述機台在所述第一方向上運動，同時所述工作台在所述第二方向上運動；或者，所述機台在所述第二方向上運動，同時所述工作台在所述第一方向上運動。

通過上述多種控制方式實現DMD和被光刻對象在第一方向和第二方向上的相對運動，達到了可以根據不同應用場景適當選擇，提高了實際掃描的靈活度，擴大應用範圍的效果。

在一些實施例中，所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述機台在所述第一方向上運動，同時所述DMD在所述第二方向上運動；或者，所述機台在所述第二方向上運動，同時所述DMD在所述第一方向上運動。

在一些實施例中，所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述工作台在所述第一方向上運動，同時所述DMD在所述第二方向上運動；或者，所述工作台在所述第二方向上運動，同時所述DMD在所述第一方向上運動。

在一些實施例中，所述DMD包括多個微鏡，每個所述微鏡的形狀是矩形，將所述微鏡的第一邊的長度記為m，將所述微鏡的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述DMD與所述被光刻對象之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角θ由所述m、所述n、所述p和所述γ確定。

關於吾等發明人之技術手段，茲舉數種較佳實施例配合圖式於下文進行詳細說明，俾供鈞上深入瞭解並認同本發明。

下面，結合附圖以及具體實施方式，對本發明做進一步描述，需要說明的是，在不相衝突的前提下，以下描述的各實施例之間或各技術特徵之間可以任意組合形成新的實施例。

為了便於描述，首先對本發明所涉及的實施環境做簡單介紹。

請參考圖1或者圖7，本發明提供的光刻系統包括機台11、工作台12和DMD13，所述DMD13設置在所述機台11上，所述工作台12用於設置被光刻對象100。機台11和工作台12均可以通過機械臂控制進而實現運動，並且，可以通過控制機台11運動進而實現DMD13跟隨機台11一起運動，類似的，通過控制工作台12運動可以相應的實現被光刻對象100的運動。上述僅以控制機台11和工作台12運動來舉例說明，實際實現時，機台11上的DMD13還可以通過機械臂直接控制來實現運動，類似的，被光刻對象100也可以直接連接機械臂，進而通過控制機械臂運動來實現被光刻對象100的運動。

在一些實施例中，如圖1或者圖7所示，所述光刻系統中還可以包括其他器件，比如包括DMD控制器14、工作台控制器15、圖像生成器16。其中，光源發出的光經過DMD13處理後發送到被光刻對象100；DMD控制器14用於控制DMD13，並且此處所述的控制DMD13包括控制放置DMD13的機台11，或者，在DMD13也可以運動時，DMD控制器14同時用於控制放置DMD13的機台11以及DMD13；類似的，工作台控制器15用於控制工作台12。圖像生成器16用於根據DMD13的掃描生成圖像，並且在生成圖像之後可以發送至其他設備進行處理，在此不再贅述。

DMD13包括多個微鏡131，每個微鏡131的形狀為矩形，多個微鏡131組成的DMD13為尺寸更大的矩形，比如，請參考圖2，其示出了DMD13的一種可能的結構示意圖。實際實現時，DMD13中的微鏡131的個數可以根據實際需求設置，比如，為3*5的微鏡矩陣，又比如，為5*8的微鏡矩陣等等，本實施例對此並不做限定。

以控制機台11的機械臂為拖鏈17來舉例說明，請參考圖3，其示出了一種可能的光刻系統的結構示意圖。

請參考圖4，其示出了本發明一個實施例提供的光刻系統的掃描方法的方法流程圖，所述方法應用於圖1所示的光刻系統中，如圖4所示，所述方法包括：

步驟401，控制運動主體進行運動，以使所述DMD13與所述被光刻對象100同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD13、所述機台11和所述工作台12。

實際實現時，DMD13在光刻掃描過程中，DMD13沿著第一方向掃描一條帶，之後DMD13沿著第二方向步進一個DMD尺寸，繼續沿著第一方向的反向掃描一條帶，再沿著第二方向的反向步進一個DMD尺寸之後繼續掃描，以此循環，直至全部掃描結束。也即，在本實施例中，第一方向可以為DMD13掃描的主掃描方向，第二方向為DMD13掃描的副掃描方向，副掃描方向為DMD13步進的方向。以下除特殊說明外，均以第一方向為主掃描方向，第二方向為副掃描方向來舉例說明。

在一些實施例中，為了能準確控制運動主體的運動，在本步驟之前，先確定DMD13與被光刻對象100之間的相對運動方向與第一方向形成的夾角θ，θ為銳角，請參考圖5，其示出了一種可能的示意圖。其中，確定夾角θ的步驟包括：

根據m、n和p，確定θ。其中，m為DMD13中微鏡131的第一邊的長度，n為DMD13中微鏡131的第二邊的長度，p為目標長度。

在一些實施例中，p和θ之間的關係滿足：p=(n×tanθ+m)×cosθ。

在確定得到θ之後，即可根據θ確定運動主體在第一方向上的運動速度V ₁以及在第二方向上相對運動的運動速度V ₂。確定得到的V ₂/V ₁=tanθ。

在確定得到V ₁和V ₂之後，即可控制運動主體進行運動，在一些實施例中，本步驟（即控制運動主體進行運動）可以包括如下可能的實現方式：

第一種：當DMD13固定設置在機台11上時，本步驟包括：

控制所述機台11同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，

控制所述工作台12同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，

控制所述機台11在第一方向上進行運動，同時控制所述工作台12在第二方向上進行運動；或者，

控制所述機台11在第二方向上進行運動，同時控制所述工作台12在第一方向上進行運動。

第二種，當所述DMD13非固定地設置在所述機台11上時，本步驟包括：

控制所述機台11在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第二方向上進行運動；或者，

控制所述機台11在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第一方向上進行運動。

第三種，當所述DMD13非固定地設置在所述機台11上時，本步驟包括：

控制所述工作台12在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第二方向上進行運動；或者，

控制所述工作台12在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第一方向上進行運動。

以上僅以通過上述控制方式控制運動主體運動來舉例說明，實際實現時，還可能包括更多的實現方式，僅需滿足V ₂/V ₁=tanθ即可，本實施例對其具體運動方式並不做限定。

請參考圖6，其示出了運動主體運動之後，DMD13光刻掃描的掃描示意圖。

在上述掃描方法中，當需要調整掃描的清晰度時，即可通過調整θ角，也即調整V ₂和V ₁的比值來實現，本實施例在此不再多做贅述。

請參考[表1]，其示出了當m=10.8微米、n=6微米時，隨著θ的變化，p值和（p-m）的值隨之變化的情況。

[表1]

m( 微米 )	n （微米）	θ( 度 )	p=(n×tanθ+m)×cosθ （微米）	p-m （微米）
10.8	6	1	10.90307	0.10307
10.8	6	2	11.00282	0.202818
10.8	6	3	11.09921	0.299215
10.8	6	4	11.19223	0.392231
10.8	6	5	11.28184	0.481837
10.8	6	6	11.36801	0.568007
10.8	6	7	11.45071	0.650714
10.8	6	8	11.52993	0.729934
10.8	6	9	11.60564	0.805641
10.8	6	10	11.67781	0.877813
10.8	6	11	11.74643	0.946428
10.8	6	12	11.81146	1.011464
10.8	6	13	11.8729	1.072903
10.8	6	14	11.93073	1.130725
10.8	6	15	11.98491	1.184913

請參考[表2]，其示出了當m=10.8微米、n=1微米時，隨著θ的變化，p值和（p-m）的值隨之變化的情況。

[表2]

m( 微米 )	n （微米）	θ( 度 )	p=(n×tanθ+m)×cosθ （微米）	p-m （微米）
10.8	1	1	10.81581	0.015808
10.8	1	2	10.82832	0.02832
10.8	1	3	10.83753	0.037535
10.8	1	4	10.84345	0.043448
10.8	1	5	10.84606	0.046058
10.8	1	6	10.84536	0.045365
10.8	1	7	10.84137	0.041368
10.8	1	8	10.83407	0.034068
10.8	1	9	10.82347	0.023469
10.8	1	10	10.80957	0.009572
10.8	1	11	10.79238	-0.00762
10.8	1	12	10.77191	-0.02809
10.8	1	13	10.74815	-0.05185
10.8	1	14	10.72112	-0.07888
10.8	1	15	10.69082	-0.10918

由此可見，隨著m、n、θ的取值不同，p和m之間的大小關係會發生變化，p可能大於m，也可以小於或者等於m，即，採用本實施例提供的方法，其目標長度可以小於微鏡131的第一邊的長度。

綜上所述，通過提供一種應用於光刻系統的掃描方法，該方法包括控制運動主體進行運動，以使所述DMD13與所述被光刻對象100同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD13、所述機台11和所述工作台12。也即通過控制運動主體運動以實現DMD13和被光刻對象100傾斜，避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD13成本較高的問題，達到了可以通過調整運動主體的運動速度進而方便快捷的實現清晰度調整的效果。

在上述實施例中，DMD13可以有一個，也可以包括在高度方向上疊加設置的k個，k為大於1的整數。高度方向是指被光刻對象100和DMD13的設置方向，也即DMD13處於被光刻對象100的上方，在DMD13包括k個時，k個DMD13可以按照相同的方向疊加。通常情況下k為2，且2個DMD13疊加後交疊部分的寬度根據每個DMD13的寬度以及被光刻對象100的寬度決定，並且根據不同的應用場景疊加的寬度也有所不同，本實施例對此並不做限定。

通過疊加k個DMD13，進而通過疊加後的DMD13進行掃描，提高了DMD13的掃描精度。

此外，實際使用時實現同樣的光刻效果，光刻系統的配置可以有多種，在本實施例中，上述方法還可以包括：

第一，獲取至少兩種光刻配置方案的評價參數，所述評價參數包括硬件配置參數、工藝成本以及工時中的至少一種；

在一些實施例中，光刻配置方案可以包括多種配置參數，可以根據配置參數與評價參數之間的對應關係來確定每種光刻配置方案的評價參數。其中，配置參數和評價參數之間的對應關係可以為根據大數據預先設置的對應關係。

作為另一種可能的實現方式，還可以通過神經網絡來獲取每種光刻配置方案的評價參數，此時，本步驟可以包括：

對於所述至少兩種光刻配置方案中的每種光刻配置方案，將所述光刻配置方案的配置參數輸入至目標神經網絡，所述目標神經網絡的輸出即為所述光刻配置方案的評價參數，所述目標神經網絡為根據樣本光刻配置方案的配置參數以及每個樣本光刻配置方案的評價參數預先訓練得到的網絡。

光刻配置方案的配置參數可以包括，DMD13的個數、DMD13的精度、DMD13的尺寸中的至少一種。

第二，根據每種光刻配置方案的評價參數進行光刻配置推薦。

在獲取到每種方案的評價參數之後，即可根據評價參數進行光刻配置推薦。在一些實施例中，用戶在使用光刻系統之前，可以設置自己的使用需求，光刻系統根據用設置的使用需求進行推薦。比如，用戶需要清晰度最高，則可以根據各種方案的評價參數推薦清晰度最高的光刻配置方案；又比如，需要成本最低，則可以根據各種方案的評價參數推薦成本最低的光刻配置方案，在此不再贅述。

請參考圖7，在一些實施例中，所述方法可以進一步包括：將所述DMD13所在平面與所述被光刻對象100所在平面之間的角度設置為預設角度γ。

通過將DMD13所在平面與被光刻對象100所在平面之間的角度設置為預設角度，避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD13成本較高的問題，達到了可以通過調整DMD13所在平面與被光刻對象100所在平面之間的角度方便快捷的實現清晰度調整的效果。

在一些實施例中，所述DMD13可以包括多個微鏡131，每個所述微鏡131的形狀是矩形，將所述微鏡131的第一邊的長度記為m，將所述微鏡131的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述預設角度γ由所述m、所述n和所述p確定。

在一些實施例中，所述DMD13可以包括在高度方向上疊加設置的k個DMD13，k為大於1的整數。

在一些實施例中，k=2。

在一些實施例中，所述DMD13與所述被光刻對象100可以在第一方向和第二方向上相對運動。

在一些實施例中，DMD13可以固定設置在所述機台11上；所述機台11同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，所述工作台12同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，所述機台11在所述第一方向上運動，同時所述工作台12在所述第二方向上運動；或者，所述機台11在所述第二方向上運動，同時所述工作台12在所述第一方向上運動。

在一些實施例中，所述DMD13可以非固定地設置在所述機台11上；所述機台11在所述第一方向上運動，同時所述DMD13在所述第二方向上運動；或者，所述機台11在所述第二方向上運動，同時所述DMD13在所述第一方向上運動。

在一些實施例中，所述DMD13可以非固定地設置在所述機台11上；所述工作台12在所述第一方向上運動，同時所述DMD13在所述第二方向上運動；或者，所述工作台12在所述第二方向上運動，同時所述DMD13在所述第一方向上運動。

請參考圖1或者圖7，本發明還提供了一種光刻系統，所述系統包括：數字微鏡131器件DMD13；用於設置所述DMD13的機台11；用於設置被光刻對象100的工作台12；用於存儲一條或多條程序指令的存儲器；以及處理器，所述處理器能夠讀取所述一條或多條程序指令，所述處理器通過加載並執行所述一條或多條程序指令以實現上述任一項方法。

在一些實施例中，所述處理器被配置成：控制運動主體進行運動，以使所述DMD13與所述被光刻對象100同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD13、所述機台11和所述工作台12。

在一些實施例中，所述DMD13包括多個微鏡131，每個所述微鏡131的形狀是矩形，將所述微鏡131的第一邊的長度記為m，將所述微鏡131的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，將所述DMD13與所述被光刻對象100之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角記為θ；所述處理器被進一步配置成根據m、n和p，確定θ。

在一些實施例中，p和θ之間的關係滿足：p=(n×tanθ+m)×cosθ。

在一些實施例中，所述DMD13與所述被光刻對象100在第一方向上的相對速度是V ₁，在第二方向上的相對速度是V ₂；所述處理器被進一步配置成根據θ，確定V ₁和V ₂。

在一些實施例中，V ₂/V ₁=tanθ。

在一些實施例中，所述DMD13固定設置在所述機台11上；所述處理器被進一步配置成：控制所述機台11同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台12同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述機台11在第一方向上進行運動，同時控制所述工作台12在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台11在第二方向上進行運動，同時控制所述工作台12在第一方向上進行運動。

在一些實施例中，所述DMD13非固定地設置在所述機台11上；所述處理器被進一步配置成：控制所述機台11在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台11在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第一方向上進行運動。

在一些實施例中，所述DMD13非固定地設置在所述機台11上；所述處理器被進一步配置成：控制所述工作台12在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台12在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD13在第一方向上進行運動。

在一些實施例中，所述DMD13包括在高度方向上疊加設置的k個DMD13，k為大於1的整數。

在一些實施例中，所述處理器被進一步配置成：獲取至少兩種光刻配置方案的評價參數，所述評價參數包括硬件配置參數、工藝成本以及工時中的至少一種；以及根據每種光刻配置方案的評價參數進行光刻配置推薦。

在一些實施例中，所述處理器被進一步配置成：對於所述至少兩種光刻配置方案中的每種光刻配置方案，將所述光刻配置方案的配置參數輸入至目標神經網絡，所述目標神經網絡的輸出即為所述光刻配置方案的評價參數，所述目標神經網絡為根據樣本光刻配置方案的配置參數以及每個樣本光刻配置方案的評價參數預先訓練得到的網絡。

在一些實施例中，所述處理器被進一步配置成：將所述DMD13所在平面與所述被光刻對象100所在平面之間的角度設置為預設角度γ。

在一些實施例中，所述DMD13包括多個微鏡131，每個所述微鏡131的形狀是矩形，將所述微鏡131的第一邊的長度記為m，將所述微鏡131的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述預設角度γ由所述m、所述n和所述p確定。

在一些實施例中，所述DMD13包括多個微鏡131，每個所述微鏡131的形狀是矩形，將所述微鏡131的第一邊的長度記為m，將所述微鏡131的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述DMD13與所述被光刻對象100之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角θ由所述m、所述n、所述p和所述γ確定。

請參考圖7，本發明實施例還提供了一種光刻系統，所述系統包括：機台11、工作台12和數字微鏡器件DMD13，所述DMD13設置在所述機台11上，所述工作台12用於設置被光刻對象100，所述DMD13所在平面與所述被光刻對象100所在平面之間的角度為預設角度γ。

在上述光刻系統中，DMD13所在的平面與被光刻對象100所在平面之間的角度為預設角度γ。γ為預先設定的角度，並且，根據實際需求γ可以設置為不同的值，在此不做贅述。

DMD13包括多個微鏡131，每個微鏡131的形狀為矩形，多個微鏡131組成的DMD13為尺寸更大的矩形，比如，請參考圖2，其示出了DMD13的一種可能的結構示意圖。實際實現時，DMD13中的微鏡131的個數可以根據實際需求設置，比如，為3×5的微鏡矩陣，又比如，為5×8的微鏡矩陣等等，本實施例對此並不做限定。

將所述微鏡131的第一邊的長度記為m，將所述微鏡131的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，所述預設角度γ由所述m、所述n和所述p確定，其具體對應關係本發明並不做限定。

在將DMD13所在平面和被光刻對象100所在平面之間的角度設置為預設角度之後，可以根據實際應用需求調整光源的角度和位置，本實施例在此並不做限定。

實際實現時，DMD13在光刻掃描過程中，DMD13沿著第一方向掃描一條帶，之後DMD13沿著第二方向步進一個DMD13尺寸，繼續沿著第一方向的反向掃描一條帶，再沿著第二方向的反向步進一個DMD13尺寸之後繼續掃描，以此循環，直至全部掃描結束。也即，在本實施例中，第一方向可以為DMD13掃描的主掃描方向，第二方向為DMD13掃描的副掃描方向，副掃描方向為DMD13步進的方向。以下除特殊說明外，均以第一方向為主掃描方向，第二方向為副掃描方向來舉例說明。

在上述實施例中，DMD13和被光刻對象100在第一方向和第二方向上相對運動，其相對運動方式可以包括如下幾種可能的實現方式：

第一種，在DMD13固定設置在機台11上時，運動方式包括：

所述機台11同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，

所述工作台12同時在所述第一方向和所述第二方向上運動；或者，

所述機台11在所述第一方向上運動，同時所述工作台12在所述第二方向上運動；或者，

所述機台11在所述第二方向上運動，同時所述工作台12在所述第一方向上運動。

第二種，在所述DMD13非固定地設置在所述機台11上，相對運動方式包括：

所述機台11在所述第一方向上運動，同時所述DMD13在所述第二方向上運動；或者，

所述機台11在所述第二方向上運動，同時所述DMD13在所述第一方向上運動。

第三種，在所述DMD13非固定地設置在所述機台11上，相對運動方式包括：

所述工作台12在所述第一方向上運動，同時所述DMD13在所述第二方向上運動；或者，

所述工作台12在所述第二方向上運動，同時所述DMD13在所述第一方向上運動。

以上僅以通過上述控制方式控制運動主體運動來舉例說明，實際實現時，還可能包括更多的實現方式，本實施例對其具體運動方式並不做限定。

在一種可能的實施方式中，DMD13與所述被光刻對象100之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角θ由所述m、所述n、所述p和所述γ確定。並且，在確定得到θ之後，即可根據確定運動主體在第一方向上的運動速度V ₁以及在第二方向上相對運動的運動速度V ₂，請參考圖5，其示出了一種可能的光刻掃描方式。確定得到的V ₂/V ₁=tanθ。

另外，請參考圖6，其示出了DMD13和被光刻對象100發生相對運動之後，DMD13光刻掃描的掃描示意圖。

綜上所述，通過提供一種包括機台11、工作台12和數字微鏡器件DMD13的光刻系統，所述DMD13設置在所述機台11上，所述工作台12用於設置被光刻對象100，所述DMD13所在平面與所述被光刻對象100所在平面之間的角度為預設角度γ。避免了現有方案中在需要更改清晰度時需要更換不同參數的DMD13成本較高的問題，達到了可以通過調整DMD13所在平面與被光刻對象100所在平面之間的角度方便快捷的實現清晰度調整的效果。

此外，實際使用時實現同樣的光刻效果，光刻系統的配置可以有多種，在本實施例中，上述光刻系統還可以實現如下功能：

可選的，光刻配置方案可以包括多種配置參數，可以根據配置參數與評價參數之間的對應關係來確定每種光刻配置方案的評價參數。其中，配置參數和評價參數之間的對應關係可以為根據大數據預先設置的對應關係。

在獲取到每種方案的評價參數之後，即可根據評價參數進行光刻配置推薦。可選的，用戶在使用光刻系統之前，可以設置自己的使用需求，光刻系統根據用設置的使用需求進行推薦。比如，用戶需要清晰度最高，則可以根據各種方案的評價參數推薦清晰度最高的光刻配置方案；又比如，需要成本最低，則可以根據各種方案的評價參數推薦成本最低的光刻配置方案，在此不再贅述。

本發明從使用目的上，效能上，進步及新穎性等觀點進行闡述，其設置有的實用進步性，已符合專利法所強調的功能增進及使用要件，本發明以上的說明及附圖，僅為本發明的較佳實施例而已，並非以此局限本發明，因此，凡一切與本發明構造，裝置，特徵等近似、雷同的，即凡依本發明專利申請範圍所作的等同替換或修飾等，皆應屬本發明的專利申請保護的範圍之內。

綜上所述，本發明所揭露之技術手段確能有效解決習知等問題，並達致預期之目的與功效，且申請前未見諸於刊物、未曾公開使用且具長遠進步性，誠屬專利法所稱之發明無誤，爰依法提出申請，懇祈鈞上惠予詳審並賜准發明專利，至感德馨。

惟以上所述者，僅為本發明之數種較佳實施例，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明書內容所作之等效變化與修飾，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

〔本發明〕 100:被光刻對象 11:機台 12:工作台 13:DMD 131:微鏡 14:DMD控制器 15:工作台控制器 16:圖像生成器 17:拖鏈 401:步驟

[圖1]是本發明實施例提供的一種光刻系統的系統示意圖; [圖2]是本發明實施例提供的DMD的結構示意圖; [圖3]是本發明實施例提供的光刻系統的另一種可能的結構示意圖; [圖4]為本發明實施例提供的光刻系統的掃描方法的方法流程圖; [圖5]為本發明實施例提供的光刻系統在掃描過程中的掃描示意圖; [圖6]為本發明實施例提供的光刻系統在掃描過程中的另一掃描示意圖; [圖7]是本發明實施例提供的另一種光刻系統的系統示意圖。

401:步驟

Claims

一種光刻系統的掃描方法，應用於光刻系統，所述光刻系統包括機台、工作台和數字微鏡器件DMD，所述DMD設置在所述機台上，所述工作台用於設置被光刻對象，所述DMD包括多個微鏡，每個所述微鏡的形狀是矩形，所述方法包括：控制運動主體進行運動，以使所述DMD與所述被光刻對象同時發生第一方向和第二方向上的相對運動，所述第一方向和所述第二方向分別平行於每個所述微鏡的兩個鄰邊，所述運動主體包括以下至少一種：所述DMD、所述機台和所述工作台。
如請求項1所述之方法，其中，將所述微鏡的第一邊的長度記為m，將所述微鏡的第二邊的長度記為n，將目標長度記為p，將所述DMD與所述被光刻對象之間的相對運動方向與所述第一方向形成的銳角夾角記為θ；所述方法進一步包括：根據m、n和p，確定θ。
如請求項2所述之方法，其中p和θ之間的關係滿足：p=(n×tanθ+m)×cosθ。
如請求項2所述之方法，其中所述DMD與所述被光刻對象在第一方向上的相對速度是V₁，在第二方向上的相對速度是V₂；所述方法進一步包括：根據θ，確定V₁和V₂。
如請求項4所述之方法，其中V₂/V₁=tanθ。
如請求項1所述之方法，其中所述DMD固定設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述機台同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台同時在第一方向和第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第一方向上進行運動，同時控制所述工作台在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第二方向上進行運動，同時控制所述工作台在第一方向上進行運動。
如請求項1所述之方法，其中所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述機台在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD在第二方向上進行運動；或者，控制所述機台在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD在第一方向上進行運動。
如請求項1所述之方法，其中所述DMD非固定地設置在所述機台上；所述控制運動主體進行運動包括：控制所述工作台在第一方向上進行運動，同時控制所述DMD在第二方向上進行運動；或者，控制所述工作台在第二方向上進行運動，同時控制所述DMD在第一方向上進行運動。
如請求項1所述之方法，進一步包括：將所述DMD所在平面與所述被光刻對象所在平面之間的角度設置為預設角度γ。
一種光刻系統，所述系統包括：數字微鏡器件DMD；用於設置所述DMD的機台；用於設置被光刻對象的工作台；用於存儲一條或多條程序指令的存儲器；以及處理器，所述處理器通過加載並執行所述一條或多條程序指令以實現如請求項1至9項中任一項所述之方法。