TWI787919B - 多層架構之供料和分料裝置及具備該裝置之電子元件檢測設備 - Google Patents

Abstract

本發明係有關於一種多層架構之供料和分料裝置及具備該裝置之電子元件檢測設備，該多層架構之供料和分料裝置包括上層模組及下層模組，且上層模組及下層模組各自包括供料匣、出料匣、空料匣、搬運梭台、晶片移載單元及料盤移載單元。據此，藉由配置上下層疊的上層模組及下層模組，來實現供料和分料模組的立體化，可提高待測及完測電子元件之容納量，亦可擴充待測電子元件的種類以提升測試規模；另，藉由搬運梭台和晶片移載單元之搭配設置，來提升供料和分料的效率，並可減少裝置或設備的閒置時間，即可顯著提升檢測效率。

Description

多層架構之供料和分料裝置及具備該裝置之電子元件檢測設備

本發明係關於一種多層架構之供料和分料裝置及具備該裝置之電子元件檢測設備，尤指一種可自動進料、供料、以及分料之電子元件的檢測設備。

現有的半導體晶片檢測機台的配置都是採用平面化的配置，即如圖1所示，在整個設備一側配置晶片檢測區Zt，另一側則配置晶片進出料區Zc，而且還會配置至少一個用於搬運晶片的晶片取放裝置Dp。

進一步說明，晶片檢測區Zt內會設置多個晶片檢測模組11，其係用來實際進行晶片測試，例如系統級測試(System Level Testing，SLT)；而晶片進出料區Zc則包括多個可裝載晶片萃盤的容器，其包括進料匣12、良品匣13以及不良品匣14等；其中，進料匣12內所容納的晶片萃盤上都是待測晶片，在正式被進行測試之前，裝載待測晶片的晶片萃盤會被移載到一萃盤載台15。接著，晶片取放裝置Dp再從萃盤載台15上搬運待測晶片到晶片檢測模組11上進行測試。最後，當完成測試後，晶片取放裝置Dp會根據測試結果，而從晶片檢測模組11上把完測晶片移載到良品匣13或不良品匣14上的晶片萃盤。

然而，如上所述現有的晶片測試設備在測試效率上終究有其限制，由於進出料移載運轉和測試作業所耗時程間難以完全精準搭配，所以難免會出現移載裝置的等待時間或檢測模組的等待時間。再者，受限於現有機台的平面化配置，空間上的利用性較差，導致場地成本也相對較大。而且，按照現有機台的配置方式，晶片進出料區Zc包括進料匣12、良品匣13以及不良品匣14數量有限，導致時常出現進料匣12被清空，抑或良品匣13或不良品匣14滿匣，此時設備必須暫時停機更換料匣，難免影響效率。此外，現有晶片檢測機台的配置方式所能檢測的待測晶片僅限於一種，也就是說單一機台檢測單一晶片，無法在單一機台上實現多樣化測試的功效。

由此可知，一種可大幅提升檢測效率和場地空間的利用性，且可提升運作續航時間，又可實現多用途、多元測試項目之電子元件檢測設備，實為產業界、及社會大眾所殷殷期盼者。

本發明之主要目的係將電子元件檢測設備之供料和分料立體化，藉此提高待測及完測電子元件之容納量，以提升運作續航時間；亦可擴充待測物種類以提升測試規模；且可減少裝置或設備的閒置時間，即可提升檢測效率。

為達成上述目的，本發明一種多層架構之供料和分料裝置，其係包括一上層模組及一下層模組，而上層模組及下層模組係上下層疊；且上層模組及下層模組各自包括至少一供料匣、至少一出料匣、至少一空料匣、一搬運梭台、一晶片移載單元以及一料盤移載單元；其中，供料匣用於存放待測料盤，出料匣用於存放完測料盤，空料匣用於存放空料盤；又，待測料盤上放置待測電子元件，完測料盤上放置完測電子元件；搬運梭台則係可選擇地移動於一第一位置及一第二位置，且搬運梭台包括晶片容置槽；另外，晶片移載單元係用於移載待測電子元件於待測料盤與位於第一位置之搬運梭台之晶片容置槽之間，以及用於移載完測電子元件於位於第一位置之搬運梭台之晶片容置槽與完測料盤之間；料盤移載單元係用於移載待測料盤於供料匣與空料匣之間，以及用於移載完測料盤於空料匣與出料匣之間。

據此，本發明藉由配置上下層疊的上層模組及下層模組，來實現供料和分料模組的立體化，藉以提高電子元件之容納量，亦可藉此擴充成多樣化測試，讓同一設備可以測試多種待測物。再者，本發明藉由搬運梭台和晶片移載單元之搭配設置，來提升供料和分料的效率，讓搬運梭台隨時都備載有待測電子元件，以避免機台設備的閒置等待時間。此外，料盤移載單元則可移除空的待測料盤，或補充完測料盤。

進一步說明，本發明可更包括一主控制器，其可電性連接上層模組及下層模組；而主控制器可控制晶片移載單元自待測料盤取出待測電子元件並置於搬運梭台之晶片容置槽，並可控制晶片移載單元自搬運梭台之晶片容置槽取出完測電子元件並置於完測料盤；又，主控制器可控制搬運梭台移動於第一位置及第二位置之間；且主控制器可控制料盤移載單元自供料匣取出待測料盤並置於空料匣，並控制料盤移載單元自空料匣取出完測料盤並置於出料匣。

較佳的是，本發明之上層模組及下層模組可更各自包括一視覺檢測單元；主控制器可控制晶片移載單元自待測料盤取出待測電子元件並移載至視覺檢測單元，而主控制器可控制視覺檢測單元檢測待測電子元件後，將之置於搬運梭台之晶片容置槽。換言之，本發明之供料和分料裝置也可附加額外的視覺檢測單元，例如用於檢測待測或完測電子元件底面的錫球接點。

另一方面，本發明之晶片移載單元可包括一第一取放器及一第二取放器；而搬運梭台可包括一第一晶片容置槽及一第二晶片容置槽；該主控制器可控制晶片移載單元自待測料盤取出待測電子元件並置於搬運梭台之第一晶片容置槽，並可控制晶片移載單元自搬運梭台之第二晶片容置槽取出完測電子元件並置於完測料盤。也就是說，晶片移載單元在一次的移載作動循環中，可同時實現供料和分料，藉此除了可以提升效率外，又可減少能源的損耗。

為達成前述目的，本發明一種具備多層架構之供料和分料裝置之電子元件檢測設備，其主要包括前述之多層架構之供料和分料裝置、一多軸移載裝置、以及至少一晶片測試裝置；其中，多軸移載裝置係用於移載待測電子元件於位於第二位置之搬運梭台之晶片容置槽與晶片測試裝置之間，以及用於移載完測電子元件於晶片測試裝置與位於第二位置之搬運梭台之晶片容置槽之間。

而且，本發明之電子元件檢測設備可包括二晶片測試裝置，其可分設於多層架構之供料和分料裝置之二側端而形成一U形配置，而多軸移載裝置可設置於該二晶片測試裝置與多層架構之供料和分料裝置之間。除此之外，多軸移載裝置可包括一機械手臂及一直線滑移模組，而機械手臂可設置於直線滑移模組，其係用於驅使機械手臂沿著該二晶片測試裝置移動而趨近或遠離多層架構之供料和分料裝置。

除此之外，本發明之電子元件檢測設備中，每一晶片測試裝置可包括一上層測試站及一下層測試站，而上層測試站與下層測試站係上下層疊並可各自包括測試單元；且每一測試單元可包括一晶片檢測槽；而多軸移載裝置可用於移載待測電子元件於位於第二位置之搬運梭台之晶片容置槽與晶片檢測槽之間，以及用於移載完測電子元件於晶片檢測槽與位於第二位置之搬運梭台之晶片容置槽之間。簡言之，本發明除了供料和分料裝置可為多層架構之外，晶片測試裝同樣可設置為多層架構，藉此更可大幅提升測試規模和總類，更有利於空間的利用性，可大幅提高檢測效率並降低成本。

[用以實施發明的形態]

本發明多層架構之供料和分料裝置及具備該裝置之電子元件檢測設備在本實施例中被詳細描述之前，要特別注意的是，以下的說明中，類似的元件將以相同的元件符號來表示。再者，本發明之圖式僅作為示意說明，其未必按比例繪製，且所有細節也未必全部呈現於圖式中。

請同時參閱圖2、圖3以及圖4，圖2係本發明電子元件檢測設備一較佳實施例之示意圖，圖3係本發明多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之前視圖，圖4係本發明多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之俯視圖。如圖中所示，本實施例之電子元件檢測設備主要包括一多層架構之供料和分料裝置2、一多軸移載裝置7、以及二晶片測試裝置8，而二晶片測試裝置8分設於多層架構之供料和分料裝置2之二側端而形成一U形配置，且多軸移載裝置7設置於該二晶片測試裝置8與多層架構之供料和分料裝置2之間。

又如圖中所示，本實施例之多層架構之供料和分料裝置2包括一上層模組21及一下層模組22，該上層模組21及該下層模組22係上下層疊。不過，需要特別說明的是，本發明並不局限於上層模組21及下層模組22之二層配置，在本發明的其他實施態樣中亦可為三層以上之多層配置。

再者，本實施例之上層模組21及下層模組22各自包括一供料匣23、六出料匣24及一空料匣25；其中，供料匣23存放多個層疊的待測料盤231，而每一待測料盤231上裝載有多個待測電子元件IC1；而每一出料匣24內都存放至少一完測料盤241，其係用於裝載完測電子元件IC2，且六個出料匣24是按照檢測結果配置，例如不同等級的良品或不良品等，也就是說完測電子元件IC2會根據不同的檢測結果而被置入不同出料匣24；又，空料匣25存放至少一空料盤251，而空料盤251可為待測電子元件IC1都已經移載走之空的待測料盤231。

另外，圖2和圖4中顯示有一搬運梭台3，其係可選擇地移動於一第一位置P1及一第二位置P2，其中第一位置P1為位於供料和分料裝置2內側而用於裝載待測電子元件IC1和卸載完測電子元件IC2之位置；又，第二位置P2則是位於供料和分料裝置2外側，以供多軸移載裝置7取放之位置。換言之，在本實施例中，第二位置P2是移出供料和分料裝置2本體之外。另外，本實施例之搬運梭台3包括多個晶片容置槽31，其分成前後二排各6個，搬運梭台3上鄰近多軸移載裝置7的那一排皆為用於容裝待測電子元件IC1的第一晶片容置槽311，而另一排則為用於容裝完測電子元件IC2的第二晶片容置槽312。

再且，圖中顯示有一晶片移載單元4，其係用於移載電子元件，也就是用於從待測料盤231移載待測電子元件IC1至位於第一位置P1之搬運梭台3之第一晶片容置槽311，以及用於從位於該第一位置P1之該搬運梭台3之第二晶片容置槽312移載完測電子元件IC2至對應的完測料盤241。此外，本實施例之晶片移載單元4包括一第一取放器41及一第二取放器42，請見圖2；其中，第一取放器41係專用於移載待測電子元件IC1，而第二取放器42係專用於移載完測電子元件IC2。據此，晶片移載單元4在一次的移載作動循環中，可同時實現供料和分料，也就是利用第一取放器41而從待測料盤231移載待測電子元件IC1並置放於第一晶片容置槽311時，可同時利用第二取放器42吸取完測電子元件IC2並移載至對應的完測料盤241放置。

除此之外，本實施例之上層模組21和下層模組22各具備一料盤移載單元5，其係用於移載料盤；進一步說明，也就是用於將空的待測料盤231從供料匣23移放至空料匣25，以及用於從空料匣25移載空的料盤(待測料盤231)作為完測料盤241而放置於出料匣24。換言之，當某一出料匣24上的完測料盤241滿載完測電子元件IC2時，料盤移載單元5就會從空料匣25移載空的料盤而放置於該出料匣24作為完測料盤241，以便於繼續容置完測電子元件IC2。

而且，本實施例另外配置一主控制器MCU，其可以是具備處理器、記憶體、儲存媒體以及其他電腦硬體零組件之工業電腦。再者，雖然圖2中所示的主控制器MCU僅電性連接於多層架構之供料和分料裝置2，不過主控制器MCU亦可電性連接至多軸移載裝置7及晶片測試裝置8，作為整個電子元件檢測設備的主控制器，即可控制該等裝置之運作。另一方面，請繼續參閱圖2，本實施例之上層模組21和下層模組22又各具備一視覺檢測單元6，其係電性連接至主控制器MCU，而視覺檢測單元6可以是具有例如CCD(電荷耦合元件，Charge Coupled Device)或CMOS(互補式金屬氧化物半導體，Complementary Metal Oxide Semiconductor)等之攝像元件，攝像而生成影像。

請一併參閱圖2、圖5及圖6，圖5係本發明多軸移載裝置與多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之側視圖，圖6係本發明晶片測試裝置一較佳實施例之前視圖。如圖中所示，本實施例之多軸移載裝置7包括一機械手臂71、一直線滑移模組72及一取放裝置73，而機械手臂71為六軸機械手臂，其係設置於直線滑移模組72，且該直線滑移模組72係驅使機械手臂71沿著二晶片測試裝置8移動而趨近或遠離該多層架構之供料和分料裝置2；取放裝置73則設置於機械手臂71，並包括真空吸取器以用來吸取或放置電子元件。

又，在本發明的其它實施例中，取放裝置73可以另外附設其它功能元件，例如可以用於視覺檢測之CCD攝像裝置以及用於辨識元件或裝置之條碼讀取器等等。其中，多軸移載裝置7係用於將待測電子元件IC1從位於第二位置P2之搬運梭台3之晶片容置槽31移載至晶片測試裝置8，以及用於將完測電子元件IC2從晶片測試裝置8移載至位於第二位置P2之搬運梭台3之晶片容置槽31。

此外，關於晶片測試裝置8，其同樣採用多層架構，包括一上層測試站81、一中層測試站82及一下層測試站83之三層架構，但不侷限於此，亦可為雙層或四層以上的多層架構，當然也可以是平面的單層架構。進一步說明本實施例之晶片測試裝置8，其中上層測試站81、中層測試站82與下層測試站83係上下層疊並各自包括左右兩個測試單元80，且每一測試單元80包括一晶片檢測槽801以及一壓接頭802，該晶片檢測槽801係供容置待測電子元件IC1，並對待測電子元件IC1進行測試，而壓接頭802係用於壓抵該待測電子元件IC1，使其完整電性接觸晶片檢測槽801內的探針(圖中未示)。

以下說明本實施例之電子元件檢測設備的運作流程，請一併參閱圖2至圖6；首先，晶片移載單元4之第一取放器41從供料匣23內的待測料盤231吸取一待測電子元件IC1，並移動到視覺檢測單元6處，讓視覺檢測單元6檢測該待測電子元件IC1之底面錫球接點，其檢測方法可以是拍攝該待測電子元件IC1之底面的影像，並與預存於主控制器MCU的良品影像進行比對，如果二者影像不符時即判斷為不良品，此時晶片移載單元4直接將該不良品移動到對應的出料匣24，並置入完測料盤241。

另外，當待測電子元件IC1通過視覺檢測時，便將其移至第一位置P1，此時搬運梭台3亦位於第一位置P1，且此時第二晶片容置槽312內已容納有一完測電子元件IC2；接著，晶片移載單元4之第一取放器41將待測電子元件IC1置入搬運梭台3之第一晶片容置槽311，同時晶片移載單元4之第二取放器42吸取第二晶片容置槽312內的完測電子元件IC2。

再者，搬運梭台3移動至第二位置P2，同時晶片移載單元4根據該完測電子元件IC2的檢測結果移動至對應的出料匣24，並置入完測料盤241。此時，多軸移載裝置7的取放裝置73至第二位置P2吸取待測電子元件IC1，而移載至晶片測試裝置8並放置於晶片檢測槽801後，壓接頭802下壓待測電子元件IC1，且隨即進行測試作業。在本發明的其他實施例中也可以透過一個梭車(shuttle)載入；亦即，多軸移載裝置7先將待測電子元件IC1放置於梭車，而梭車移入，且壓接頭802自梭車吸取待測電子元件IC1並置入晶片檢測槽801。

當完成測試作業時，壓接頭802上升，多軸移載裝置7的取放裝置73從晶片檢測槽801吸取完測電子元件IC2，並移載至第二位置P2而將該完測電子元件IC2置入搬運梭台3的第二晶片容置槽312，藉此完成一個電子元件的進料、測試、分料作業。同樣地，在本發明的其他實施例中也可以透過一個梭車(shuttle)載出；亦即，壓接頭802先將完測電子元件IC2放置於梭車，而梭車移出，且多軸移載裝置7才自梭車吸取完測電子元件IC2後移至第二位置P2。

經實際運作測試，現有的測試設備電子元件的進料和分料作業(實際測試時間不計)須耗費10.5秒以上，然採用本實施例之配置者則可縮短時程至7秒以下，故移載效率上的提升相當顯著。

此外，特別說明，當有重測需求時，例如系統不穩定導致檢測失敗，或經測試而得到特定的檢測結果須再次測試時，該主控制器MCU控制晶片移載單元4自第二晶片容置槽312取出須重測的完測電子元件IC2，並置於第一晶片容置槽311，以讓多軸移載裝置7的取放裝置73取走進行重新測試。

最後，請再次參閱圖5以及圖6，本實施例之多層架構之供料和分料裝置2、多軸移載裝置7及二晶片測試裝置8均設置有腳輪9，其主要目的主要是為了方便安裝、移動、以及位置校準。換言之，本實施例之電子元件檢測設備更具備移動上的機動性和彈性，不管是設備安裝時、維護時、或甚至退役移除時都相當便利。

上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。

2:多層架構之供料和分料裝置 3:搬運梭台 4:晶片移載單元 5:料盤移載單元 6:視覺檢測單元 7:多軸移載裝置 8:晶片測試裝置 9:腳輪 11:晶片檢測模組 12:進料匣 13:良品匣 14:不良品匣 15:萃盤載台 21:上層模組 22:下層模組 23:供料匣 24:出料匣 25:空料匣 31:晶片容置槽 41:第一取放器 42:第二取放器 71:機械手臂 72:直線滑移模組 73:取放裝置 80:測試單元 81:上層測試站 82:中層測試站 83:下層測試站 231:待測料盤 241:完測料盤 251:空料盤 311:第一晶片容置槽 312:第二晶片容置槽 801:晶片檢測槽 802:壓接頭 Dp:晶片取放裝置 IC1:待測電子元件 IC2:完測電子元件 MCU:主控制器 P1:第一位置 P2:第二位置 Zc:晶片進出料區 Zt:晶片檢測區

圖1係習知半導體晶片檢測機台之立體示意圖。 圖2係本發明電子元件檢測設備一較佳實施例之示意圖。 圖3係本發明多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之前視圖。 圖4係本發明多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之俯視圖。 圖5係本發明多軸移載裝置與多層架構之供料和分料裝置一較佳實施例之側視圖。 圖6係本發明晶片測試裝置一較佳實施例之前視圖。

2:多層架構之供料和分料裝置

4:晶片移載單元

5:料盤移載單元

21:上層模組

22:下層模組

23:供料匣

24:出料匣

25:空料匣

Claims (10)

1. 一種多層架構之供料和分料裝置，其係包括一上層模組及一下層模組，該上層模組及該下層模組係上下層疊；該上層模組及該下層模組各自包括： 至少一供料匣、至少一出料匣以及至少一空料匣，該至少一供料匣存放至少一待測料盤，該至少一出料匣存放至少一完測料盤，該至少一空料匣存放至少一空料盤；該至少一待測料盤上放置至少一待測電子元件，該至少一完測料盤上放置至少一完測電子元件； 一搬運梭台，其係可選擇地移動於一第一位置及一第二位置，該搬運梭台包括至少一晶片容置槽； 一晶片移載單元，其係用於移載該至少一待測電子元件於該至少一待測料盤與位於該第一位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽之間，以及用於移載至少一完測電子元件於位於該第一位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽與該至少一完測料盤之間；以及 一料盤移載單元，其係用於移載至少一待測料盤於該至少一供料匣與該至少一空料匣之間，以及用於移載該至少一完測料盤於該至少一空料匣與該至少一出料匣之間。
2. 如請求項1之多層架構之供料和分料裝置，其更包括一主控制器，其係電性連接該上層模組及該下層模組；該主控制器控制該晶片移載單元自該至少一待測料盤取出該至少一待測電子元件並置於該搬運梭台之該至少一晶片容置槽，並控制該晶片移載單元自該搬運梭台之該至少一晶片容置槽取出該至少一完測電子元件並置於該至少一完測料盤；該主控制器控制該搬運梭台移動於該第一位置及該第二位置之間；該主控制器控制該料盤移載單元自該至少一供料匣取出該至少一待測料盤並置於該至少一空料匣，並控制該料盤移載單元自該至少一空料匣取出該至少一完測料盤並置於該至少一出料匣。
3. 如請求項2之多層架構之供料和分料裝置，其中，該上層模組及該下層模組更各自包括一視覺檢測單元；該主控制器控制該晶片移載單元自該至少一待測料盤取出該至少一待測電子元件並移載至該視覺檢測單元，該主控制器控制該視覺檢測單元檢測該至少一待測電子元件後，將之移載至該搬運梭台之該至少一晶片容置槽。
4. 如請求項2之多層架構之供料和分料裝置，其中，該晶片移載單元包括一第一取放器及一第二取放器；該第一取放器係自該至少一待測料盤取出該至少一待測電子元件並置於該搬運梭台之該至少一晶片容置槽；該第二取放器係自該搬運梭台之該至少一晶片容置槽取出該至少一完測電子元件並置於該至少一完測料盤。
5. 如請求項2之多層架構之供料和分料裝置，其中，該搬運梭台包括一第一晶片容置槽及一第二晶片容置槽；該主控制器控制該晶片移載單元自該至少一待測料盤取出該至少一待測電子元件並置於該搬運梭台之該第一晶片容置槽，並控制該晶片移載單元自該搬運梭台之該第二晶片容置槽取出該至少一完測電子元件並置於該至少一完測料盤。
6. 如請求項5之多層架構之供料和分料裝置，其中，當該主控制器欲對該完測電子元件進行重測時，該主控制器控制該晶片移載單元自該第二晶片容置槽取出該至少一完測電子元件並置於該第一晶片容置槽內。
7. 一種具備多層架構之供料和分料裝置之電子元件檢測設備，其包括： 如請求項1至6中任一項所述之多層架構之供料和分料裝置； 一多軸移載裝置；以及 至少一晶片測試裝置； 其中，該多軸移載裝置係用於移載該至少一待測電子元件於位於該第二位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽與該晶片測試裝置之間，以及用於移載該至少一完測電子元件於該晶片測試裝置與位於該第二位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽之間。
8. 如請求項7之電子元件檢測設備，其包括二晶片測試裝置，其分設於該多層架構之供料和分料裝置之二側端而形成一U形配置，該多軸移載裝置設置於該二晶片測試裝置與該多層架構之供料和分料裝置之間。
9. 如請求項8之電子元件檢測設備，其中，每一晶片測試裝置包括一上層測試站及一下層測試站，該上層測試站與該下層測試站係上下層疊並各自包括至少一測試單元；每一測試單元包括一晶片檢測槽；該多軸移載裝置係用於移載該至少一待測電子元件於位於該第二位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽與該晶片檢測槽之間，以及用於移載該至少一完測電子元件於該晶片檢測槽與位於該第二位置之該搬運梭台之該至少一晶片容置槽之間。
10. 如請求項8之電子元件檢測設備，其中，該多軸移載裝置包括一機械手臂及一直線滑移模組，該機械手臂係設置於該直線滑移模組，該直線滑移模組係驅使該機械手臂沿著該二晶片測試裝置移動而趨近或遠離該多層架構之供料和分料裝置。

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