TWI786715B - 發光模組及面狀光源 - Google Patents

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TWI786715B TW110125251A TW110125251A TWI786715B TW I786715 B TWI786715 B TW I786715B TW 110125251 A TW110125251 A TW 110125251A TW 110125251 A TW110125251 A TW 110125251A TW I786715 B TWI786715 B TW I786715B
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Abstract

本發明提供一種可一面謀求薄型化，一面使導光板之下表面側之反射率提高之發光模組及面狀光源。 發光模組具備：光源；導光板，其導引來自上述光源之光，具備上表面及上述上表面之相反側之下表面；第1光反射性構件，其配置於上述導光板之上述下表面側；及第2光反射性構件，其配置於上述第1光反射性構件之下表面側。上述第1光反射性構件包含第1樹脂構件、及相較上述第1樹脂構件之折射率低之第1反射體。上述第2光反射性構件包含第2樹脂構件、及相較上述第2樹脂構件之折射率高之第2反射體。

Description

發光模組及面狀光源
本發明係關於一種發光模組及面狀光源。
將發光二極體等發光元件與導光板組合而成之發光模組例如廣泛用於液晶顯示器之背光源等面狀光源。例如，專利文獻1(日本專利特開2019-61929號公報)中揭示有一種背光源裝置，該背光源裝置具備設置有反射片及複數個發光二極體之LED(Light Emitting Diode，發光二極體)基板、及與LED基板對向之擴散板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2019-61929號公報
本發明之目的在於提供一種可一面謀求薄型化，一面使導光板之下 表面側之反射率提高之發光模組及面狀光源。
根據本發明之一態樣，發光模組具備：光源；導光板，其導引來自上述光源之光，具備上表面及上述上表面之相反側之下表面；第1光反射性構件，其配置於上述導光板之上述下表面側；及第2光反射性構件，其配置於上述第1光反射性構件之下表面側。上述第1光反射性構件包含第1樹脂構件、及相較上述第1樹脂構件之折射率低之第1反射體。上述第2光反射性構件包含第2樹脂構件、及相較上述第2樹脂構件之折射率高之第2反射體。
根據本發明，可提供一種可一面謀求薄型化，一面使導光板之下表面側之反射率提高之發光模組及面狀光源。
10:導光板
11:上表面
12:下表面
13:貫通孔
14:區隔槽
17:端面
20:光源
20a:光出射面
21:發光元件
22:半導體積層體
23:電極
24:被覆構件
25:第2透光性構件
26:第2光調整構件
41:第1光反射性構件
41a:第1樹脂構件
41b:第1反射體
42:第2光反射性構件
42a:第2樹脂構件
42b:第2反射體
43:第3光反射性構件
44:光反射性構件
45:光反射性構件
46:第1光調整構件
50:絕緣基材
51:第2絕緣層
52:第1絕緣層
53:第1配線層
54:第2配線層
55:絕緣基材
56:配線層
60:導電構件
61:第1導電部
62:第2導電部
71:接著構件
80:第1透光性構件
81:透光性構件
82:透光性構件
83:螢光體
90:第1光調整構件
100:發光模組
200:配線基板
200':構造體
210:配線基板
220:配線基板
300:面狀光源
301:發光區域
400:構造體
401:孔
500:殼體
501:底壁
圖1係本發明之一實施方式之面狀光源之模式俯視圖。
圖2係圖1之II-II線之模式剖視圖。
圖3A係本發明之一實施方式之第1光反射性構件之模式剖視圖。
圖3B係本發明之一實施方式之第2光反射性構件之模式剖視圖。
圖4A係本發明之一實施方式之光源之模式剖視圖。
圖4B係本發明之另一實施方式之光源之模式剖視圖。
圖4C係本發明之另一實施方式之光源之模式剖視圖。
圖5係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖6係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖7係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖8係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖9係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖10係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖11係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖12係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖13係表示本發明之一實施方式之面狀光源之製造方法之模式剖視圖。
圖14係本發明之另一實施方式之面狀光源之一部分之模式剖視圖。
圖15係本發明之另一實施方式之面狀光源之一部分之模式剖視圖。
圖16係表示3個試驗樣品之於每一波長下之反射率之測定結果之曲線圖。
以下，參照圖式對實施方式進行說明。各圖式係模式性表示實施方式者，故有時將各構件之尺度、間隔或位置關係等誇大、將構件之一部分圖示省略、或使用僅表示切斷面之剖面圖作為剖視圖。再者，各圖式中，對於相同構成標註相同符號。
圖1係本發明之一實施方式之面狀光源300之模式俯視圖。圖1表示觀察面狀光源300之發光面之俯視。圖1中，將相對於面狀光源300之發光面平行、且彼此垂直之2方向設為X方向及Y方向。面狀光源300例如具有四邊形之外形，該四邊形具有沿X方向延伸之2邊、及沿Y方向延伸之2邊。
面狀光源300可具備1個或複數個光源20。於面狀光源300具備複數個光源20之情形時，各光源20之間由區隔槽14區隔。將由該區隔槽14區隔之1個區域設為發光區域301。1個發光區域301例如可作為區域調光之驅動單位。又，於由區隔槽14區隔之1個發光區域301亦可配置複數個光源20。
圖1中，例示有具備被區隔成2列3行之6個發光區域301之面狀光源300。再者，構成面狀光源300之發光區域301之數量並不限於圖1所示之數量。又，面狀光源300亦可具備1個光源20，該情形時，1個面狀光源300具備1個發光區域301。又，亦可藉由排列複數個面狀光源300而製成更大面積之面狀光源裝置。
圖2係圖1之II-II線之模式剖視圖。面狀光源300具備發光模組100、及配線基板200。
發光模組100具備導光板10、光源20、第1光反射性構件41、第2光反射性構件42、第3光反射性構件43、第1透光性構件80、及第1光調整構件90。
來自光源20之光由導光板10導引，導光板10具有對光源20發出之光之透光性。光源20具有發光元件21。光源20發出之光至少包含發光元件21發出之光。例如，於光源20包含螢光體之情形時，光源20發出之光中亦包含螢光體發出之光。導光板10相對於來自光源20之光之透過率例如較佳為80%以上，更佳為90%以上。
作為導光板10之材料，例如可使用丙烯酸、聚碳酸酯、環狀聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯、或聚酯等熱塑性樹脂、環氧、或聚矽氧等熱固性樹脂、或玻璃等。
導光板10具有成為面狀光源300之發光面之上表面11、及上表面11之相反側之下表面12。又，導光板10具有孔部。於圖2所示之例中，孔部係自上表面11貫通至下表面12之貫通孔13。
導光板10之厚度例如較佳為200μm以上800μm以下。導光板10於其厚度方向上，可由單層構成，亦可由複數個層之積層體構成。於導光板10 由積層體構成之情形時，亦可於各層之間配置透光性之接著構件。積層體之各層亦可使用不同種類之主材。作為接著構件之材料，例如可使用丙烯酸、聚碳酸酯、環狀聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二酯或聚酯等熱塑性樹脂、或環氧或聚矽氧等熱固性樹脂。
如圖1所示，貫通孔13於俯視下例如可設為圓形。又，貫通孔13於俯視下，例如可設為橢圓、或三角形、四邊形、六邊形或八邊形等多邊形。
導光板10上形成有區隔槽14，該區隔槽14於俯視下包圍至少1個光源20。如圖1所示，導光板10較佳為具備格子狀之區隔槽14，該區隔槽14由沿X方向以直線狀延伸之區隔槽14、及沿Y方向延伸之區隔槽14所構成。
圖2中，例示有自導光板10之上表面11貫通至下表面12、且到達第1光反射性構件41之區隔槽14。區隔槽14亦可為於導光板10之上表面11側具有開口、且底未到達下表面12之有底槽。該情形時，區隔槽14之底越接近下表面12越佳。或，區隔槽14亦可為於下表面12側具有開口、且底未到達上表面11之有底槽。
於區隔槽14內，可配置第3光反射性構件43。圖2中，第3光反射性構件43以其上表面成為平坦之面之方式填充至區隔槽14內，但例如第3光反射性構件43之上表面亦可為凹狀或凸狀之曲面。又，第3光反射性構件43亦可以層狀覆蓋區隔槽14之內側面之至少一部分，且於區隔槽14內之一部分形成有空間。作為此種第3光反射性構件43，例如可使用包含光擴散 劑之樹脂構件。作為光擴散劑，可列舉例如TiO2之粒子。此外，作為光擴散劑，可列舉Nb2O5、BaTiO3、Ta2O5、Zr2O3、ZnO、Y2O3、Al2O3、MgO或BaSO4等粒子。又，作為第3光反射性構件43，例如亦可使用Al或Ag等金屬構件。又，區隔槽14內整體亦可為空氣。
又，於導光板10之上表面11，為了減少亮度不均，例如於亮度較低之區域亦可具有凸部及/或凹部。
第3光反射性構件43抑制鄰接之發光區域301間之導光。例如，限制自發光狀態之發光區域301朝非發光狀態之發光區域301之導光。藉此，能夠進行將各個發光區域301作為驅動單位之區域調光。
於導光板10之下表面12側配置有第1光反射性構件41。第1光反射性構件41例如藉由接著構件71而接著於導光板10之下表面12。接著構件71可列舉例如環氧樹脂、丙烯酸樹脂或烯烴樹脂等。
於第1光反射性構件41之下表面側配置有第2光反射性構件42。例如，第2光反射性構件42接著於第1光反射性構件41之下表面。
第1光反射性構件41以隔著接著構件71而與自導光板10之下表面12至光源20之下表面相對向之方式配置。即，第1光反射性構件41將導光板10之貫通孔13之下表面12側之開口堵塞。第2光反射性構件42以與第1光反射性構件41之下表面整體相對向之方式配置。第2光反射性構件42亦可以 與第1光反射性構件41之下表面之一部分相對向之方式配置。例如，第2光反射性構件42較佳為於發光區域301內配置於如下部分(例如俯視下之與發光區域301之角部對應之部分)，該部分因距光源20之距離相對較遠而有亮度變低之傾向。
第1光反射性構件41及第2光反射性構件42配置於配線基板200、與導光板10之下表面12之間。
第2光反射性構件42之厚度可相較第1光反射性構件41之厚度薄。例如，第1光反射性構件41之厚度為20μm以上300μm以下，較佳為40μm以上250μm以下。又，第2光反射性構件42之厚度為10μm以上150μm以下，較佳為20μm以上100μm以下。
圖3A係第1光反射性構件41之模式剖視圖。
第1光反射性構件41包含第1樹脂構件41a、及相較第1樹脂構件41a之折射率低之第1反射體41b。第1樹脂構件41a具有對光源20發出之光之透光性，例如為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂、烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂或環氧樹脂等樹脂構件。第1反射體41b例如為氣泡。此外，例如可使用氧化矽、中空氧化矽、CaF2或MgF2等作為第1反射體41b。
圖3B係第2光反射性構件42之模式剖視圖。
第2光反射性構件42包含第2樹脂構件42a、及相較第2樹脂構件42a之折射率高之第2反射體42b。第2樹脂構件42a相較第1光反射性構件41之第1樹脂構件41a之折射率低。第2樹脂構件42a具有對光源20發出之光之透光性，例如為丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂或環氧樹脂等樹脂構件。第2反射體42b例如為TiO2粒子。此外，例如可使用Nb2O5、BaTiO3、Ta2O5、Zr2O3、ZnO、Y2O3、Al2O3、MgO或BaSO4等粒子作為第2反射體42b。
又，第2光反射性構件42較佳為相對於25℃至100℃之溫度變化而彈性模數之變化較小之構件。例如，第2光反射性構件42之彈性模數之變化較佳為，相對於25℃時之彈性模數，60℃時之彈性模數為60%以下，100℃時之彈性模數為80%以下。尤其100℃時之第2光反射性構件42之彈性模數較佳為10000Pa以上50000Pa以下，更佳為20000Pa以上40000Pa以下。藉此，可抑制因使配置於例如圖12所示之孔401內之導電膏硬化時的加熱而導致第2光反射性構件42相對於第1光反射性構件41之位置偏移，從而可抑制於硬化之導電膏(第1導電部61)產生裂縫。
再者，本實施方式之第1樹脂構件41a、第1反射體41b、第2樹脂構件42a或第2反射體42b之折射率例如可藉由阿貝折射計等測定，或根據藉由傅立葉轉換紅外線光譜分析等所鑑定之組成而推斷。又，第1樹脂構件41a或第2樹脂構件42a之折射率例如亦可藉由以下方法推斷，即，將第1樹脂構件41a或第2樹脂構件42a配置於具有特定之折射率之液體(以下，稱為折 射液)內，利用光學顯微鏡觀察有無第1樹脂構件41a或第2樹脂構件42a與折射液之界面。即，於未觀察到(或難以觀察到)與折射液之界面情形時，可推斷第1樹脂構件41a或第2樹脂構件42a之折射率接近於折射液之折射率。又，於第1樹脂構件41a、第1反射體41b、第2樹脂構件42a或第2反射體42b為市售品之情形時，可使用目錄值作為其等之折射率。
光源20隔著接著構件71配置於導光板10之貫通孔13內之第1光反射性構件41上。
圖4A係光源20之一例之模式剖視圖。
光源20可為發光元件單體，亦可具有將波長轉換構件等光學構件組合於發光元件之構造。本實施方式中，如圖4A所示，光源20包含發光元件21、電極23、被覆構件24、第2透光性構件25、及第2光調整構件26。又，根據所需之配光，光源20亦可不包含第2光調整構件26。例如，可於第2透光性構件25上不配置第2光調整構件26，換言之可由第2透光性構件25之上表面構成光源20之上表面。
發光元件21包含半導體積層體22。半導體積層體22例如包含藍寶石或氮化鎵等支持基板、配置於支持基板上之n型半導體層及p型半導體層、夾隔於n型半導體層與p型半導體層間之發光層、及分別與n型半導體層及p型半導體層電性連接之n側電極及p側電極。再者，半導體積層體22亦可使用去除了支持基板者。又，作為發光層之構造，為雙異質構造，可為如 單一量子井構造(SQW，Single Quantum Well)般具有單一之活性層之構造，亦可為如多重量子井構造(MQW，multiple quantum well)般具有歸攏到一起之活性層群之構造。發光層能夠發出可見光或紫外線光。發光層能夠發出作為可見光之藍色光至紅色光。作為包含此種發光層之半導體積層體22，例如可包含InxAlyGa1-x-yN(0≦x，0≦y，x+y≦1)。半導體積層體22可至少包含1個上述能夠發光之發光層。例如，半導體積層體22可為於n型半導體層與p型半導體層之間包含1個以上之發光層之構造，亦可為將依序包含n型半導體層、發光層、及p型半導體層之構造重複複數次之構造。於半導體積層體22中包含複數個發光層之情形時，可包含發光峰值波長不同之發光層，亦可包含發光峰值波長相同之發光層。再者，所謂發光峰值波長相同，亦可具有數nm左右之不均。作為發光峰值波長之組合，可適當選擇。例如，於半導體積層體22包含2個發光層之情形時，可藉由藍色光與藍色光、綠色光與綠色光、紅色光與紅色光、紫外線光與紫外線光、藍色光與綠色光、藍色光與紅色光、或綠色光與紅色光等之組合而選擇發光層。又，各發光層可包含發光峰值波長不同之複數個活性層，亦可包含發光峰值波長相同之複數個活性層。
第2透光性構件25覆蓋發光元件21之上表面及側面。第2透光性構件25保護發光元件21，並且根據添加至第2透光性構件25之粒子而具備波長轉換及光擴散等功能。具體而言，第2透光性構件25包含透光性樹脂，亦可進而包含螢光體。作為透光性樹脂，例如可使用聚矽氧樹脂或環氧樹脂等。又，作為螢光體，可使用釔鋁石榴石系螢光體(例如Y3(Al,Ga)5O12：Ce)、鎦鋁石榴石系螢光體(例如Lu3(Al,Ga)5O12：Ce)、鋱 鋁石榴石系螢光體(例如Tb3(Al,Ga)5O12：Ce)、CCA系螢光體(例如Ca10(PO4)6C12：Eu)、SAE系螢光體(例如Sr4Al14O25：Eu)、氯矽酸鹽系螢光體(例如Ca8MgSi4O16C12：Eu)、β賽隆系螢光體(例如(Si,Al)3(O,N)4：Eu)、α賽隆系螢光體(例如Mz(Si,Al)12(O,N)16：Eu(此處，0<z≦2，M為Li、Mg、Ca、Y、及除La與Ce之鑭元素))、SLA系螢光體(例如SrLiAl3N4：Eu)、CASN系螢光體(例如CaAlSiN3：Eu)或SCASN系螢光體(例如(Sr,Ca)AlSiN3：Eu)等氮化物系螢光體、KSF系螢光體(例如K2SiF6：Mn)、KSAF系螢光體(例如K2(Si,Al)F6：Mn)或MGF系螢光體(例如3.5MgO、0.5MgF2、GeO2：Mn)等氟化物系螢光體、具有鈣鈦礦構造之螢光體(例如CsPb(F,Cl,Br,I)3)、或量子點螢光體(例如CdSe、InP、AgInS2或AgInSe2)等。作為添加至第2透光性構件25之螢光體，可使用1種螢光體，亦可使用複數種螢光體。
被覆構件24至少配置於發光元件21之下表面。被覆構件24以與發光元件21電性連接之電極23之表面(圖4A之下表面)自被覆構件24露出之方式配置。被覆構件24亦可配置於覆蓋發光元件21之側面之第2透光性構件25之下表面。
被覆構件24具有對光源20發出之光之反射性。被覆構件24例如為包含光擴散劑之樹脂構件。具體而言，被覆構件24為包含含有TiO2、SiO2、Al2O3、ZnO或玻璃等粒子之光擴散劑之聚矽氧樹脂、環氧樹脂或丙烯酸樹脂。又，被覆構件24亦可為無機構件。
第2光調整構件26配置於第2透光性構件25之上表面，控制自第2透光性構件25之上表面出射之光之量、出射方向。第2光調整構件26具有對光源20發出之光之反射性及透光性。自第2透光性構件25之上表面出射之光之一部分藉由第2光調整構件26反射，另一部分透過第2光調整構件26。第2光調整構件26之透過率例如較佳為1%以上50%以下，更佳為3%以上30%以下。藉此，使光源20正上方之亮度降低，使面狀光源300之亮度之面內不均降低。第2光調整構件26可藉由透光性樹脂、及包含於透光性樹脂中之光擴散劑等構成。透光性樹脂例如為聚矽氧樹脂、環氧樹脂或丙烯酸樹脂。光擴散劑可列舉例如TiO2、SiO2、Al2O3、ZnO或玻璃等粒子。第2光調整構件26例如可為Al或Ag等金屬構件、或介電多層膜。又，第2光調整構件26亦可為無機構件。
又，亦可將含有上述螢光體之片狀之波長轉換構件(以下，稱為波長轉換片)配置於面狀光源300上。波長轉換片吸收來自光源20之藍色光之一部分而發出黃色光、綠色光及/或紅色光，從而製成出射白色光之面狀光源。例如，可將能夠進行藍色發光之光源、與含有能夠進行黃色發光之螢光體之波長轉換片組合而獲得白色光。又，此外，亦可將能夠進行藍色發光之光源、與含有紅色螢光體及綠色螢光體之波長轉換片組合。又，亦可將能夠進行藍色發光之光源、與複數個波長轉換片組合。作為複數個波長轉換片，例如可選擇含有能夠進行紅色發光之螢光體之波長轉換片、與含有能夠進行綠色發光之螢光體之波長轉換片。又，亦可將具有能夠進行藍色發光之發光元件、及含有能夠進行紅色發光之螢光體之透光性構件之光源、與含有能夠進行綠色發光之螢光體之波長轉換片加以組合。
如圖2所示，於導光板10之貫通孔13內配置有第1透光性構件80。第1透光性構件80具有對光源20發出之光之透光性，例如可使用與導光板10之材料相同之樹脂、或與導光板10之材料之折射率差較小之樹脂。
第1透光性構件80配置於光源20之側面、與貫通孔13之側面之間。此時，較佳為以於光源20之側面與第1透光性構件80之間、及貫通孔13之側面與第1透光性構件80之間不形成空氣層等空間之方式配置第1透光性構件80。藉此，可將來自光源20之光容易地導引至導光板10內。
第1透光性構件80覆蓋光源20之上表面(該例中，第2光調整構件26之上表面)。第1透光性構件80之上表面可設為平坦之面。又，第1透光性構件80之上表面可設為凹狀或凸狀之曲面。
配線基板200具備絕緣基材50、配置於絕緣基材50之一面之第1配線層53、配置於絕緣基材50之另一面之第2配線層54、及導電構件60。
配線基板200可進而具備第1絕緣層52與第2絕緣層51。第1絕緣層52被覆絕緣基材50之配置有第1配線層53之面之一部分、及第1配線層53之一部分。第2絕緣層51被覆絕緣基材50之配置有第2配線層54之面、及第2配線層54。第2光反射性構件42配置於第2絕緣層51上。
導電構件60包含第1導電部61及第2導電部62。第1導電部61貫通接 著構件71、第1光反射性構件41、第2光反射性構件42、第2絕緣層51及絕緣基材50。第1導電部61於面狀光源300之厚度方向上位於重疊於光源20之電極23之下的位置，且與電極23連接。
第2導電部62配置於絕緣基材50之自第1絕緣層52露出之面，且覆蓋第1配線層53之一部分。第2導電部62與第1導電部61及第1配線層53連接。因此，光源20之電極23經由導電構件60之第1導電部61及第2導電部62而與第2配線層54電性連接。
第1配線層53與第2配線層54於面狀光源300之除圖2所示之剖面部分以外之部分彼此電性連接。例如，第1配線層53與第2配線層54藉由貫通絕緣基材50之配線而連接。
絕緣基材50、第1絕緣層52及第2絕緣層51例如可包含聚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二酯或聚對苯二甲酸乙二酯等樹脂。第1配線層53及第2配線層54例如可包含銅或鋁等金屬。導電構件60例如係於黏合劑樹脂中分散有導電性填料之導電膏。導電構件60例如可包含銅或銀等金屬作為填料。填料為粒子狀或薄片狀。
第1光調整構件90至少配置於第1透光性構件80上。第1光調整構件90具有對光源20發出之光之反射性及透光性。第1光調整構件90可藉由透光性樹脂、及分散而包含於透光性樹脂中之光擴散劑等構成。透光性樹脂例如係聚矽氧樹脂、環氧樹脂或丙烯酸樹脂。光擴散劑可列舉例如TiO2、 SiO2、Al2O3、ZnO或玻璃等粒子。又，第1光調整構件90亦可為無機構件。又，第1光調整構件90可以覆蓋第1透光性構件80之上表面之全部或一部分之方式配置。
如圖1所示，第1光調整構件90配置於俯視下與光源20重疊之位置。於圖1所示之例中，第1光調整構件90係相較俯視為四邊形之光源20大之四邊形。第1光調整構件90於俯視下可為圓形、三角形、六邊形或八邊形等形狀。如圖2所示，第1光調整構件90亦可延伸至第1透光性構件80之上表面、及其周邊之導光板10之上表面11上。
又，第1光調整構件90除配置於俯視下與光源20重疊之位置外，為了減少亮度不均而亦可散佈於導光板10之上表面11中之亮度較高之區域。例如，第1光調整構件90可散佈於區隔槽14之附近，更具體而言沿著區隔槽14散佈。
於第1光調整構件90、與光源20之第2光調整構件26之間配置有第1透光性構件80之一部分。第1透光性構件80對光源20發出之光之透過率高於第2光調整構件26及第1光調整構件90。第1透光性構件80對光源20發出之光之透過率於100%以下之範圍，可為第2光調整構件26之透過率及第1光調整構件90之透過率之2倍以上100倍以下。
第2光調整構件26使光源20之朝正上方出射之光之一部分反射，且使另一部分透過。藉此，於面狀光源300之各發光區域301，可抑制光源20 之正上方區域之亮度過分地高於其他區域之亮度。亦即，可降低從由區隔槽14區隔之1個發光區域301出射之光之亮度不均。第1光調整構件90之厚度較佳為0.005mm以上0.2mm以下，更佳為0.01mm以上0.075mm以下。又，作為第1光調整構件90之反射率，較佳為設定為低於光源20之第2光調整構件26之反射率，對於來自光源20之光，例如較佳為20%以上90%以下，更佳為30%以上85%以下。
又，圖2所示之例中，於第2光調整構件26與第1光調整構件90之間，介置有相較該等第2光調整構件26及第1光調整構件90之透過率高之第1透光性構件80之一部分。將自光源20出射之光、或經由光源20之周邊之第1光反射性構件41反射之光等導引至第2光調整構件26與第1光調整構件90之間之第1透光性構件80。藉此，光源20之正上方區域不會過亮，且不會過暗，結果可降低發光區域301之發光面內之亮度不均。
配置於導光板10之下表面12側之第1光反射性構件41，使於導光板10內導引且朝下表面12側之光向面狀光源300之發光面即上表面11側反射，從而使自上表面11提取之光之亮度提高。
於第1光反射性構件41與上表面11之間之區域，來自光源20之光一面反覆於第1光反射性構件41與上表面11全反射，一面於導光板10內被朝區隔槽14導引。朝向上表面11之光之一部分被自上表面11提取至導光板10之外部。
如以上參照圖3A所述，第1光反射性構件41包含透光性之第1樹脂構件41a、及相較第1樹脂構件41a之折射率低之第1反射體41b。因此，入射至第1樹脂構件41a中之光容易於第1樹脂構件41a與第1反射體41b之界面全反射。利用此種第1光反射性構件41中之全反射，可容易將光自光源20導引至更遠之區域。即便光源20、與各發光區域301之端部(區隔槽14)間之距離變長，亦容易將光導引至發光區域301之全部區域。由此可減少發光面(上表面11)內之亮度不均。又，使得配置於導光板10之光源20之數量減少。
較佳為第1樹脂構件41a與第1反射體41b之折射率差較大，作為第1反射體41b，特佳為氣泡(空氣)。
第1光反射性構件41越厚，則抑制透過第1光反射性構件41而朝發光模組100之下方洩漏之光之效果越高。朝發光模組100之下方洩漏之光未被自上表面11提取而成為損失。但是，加厚第1光反射性構件41會妨礙發光模組100之薄型化。
因此，本實施方式中，於第1光反射性構件41之下表面側配置有第2光反射性構件42。如上述參照圖3B所述，第2光反射性構件42包含透光性之第2樹脂構件42a、及相較第2樹脂構件42a之折射率高之第2反射體42b。入射至第2樹脂構件42a中之光於第2反射體42b散射反射，可抑制光朝發光模組100之下方洩漏。即，藉由將反射特性不同之第1光反射性構件41與第2光反射性構件42組合，可一面確保導光板10內之導光性，一面 抑制朝發光模組100之下方洩漏之光，從而可提高自上表面11之光提取效率。
又，藉由抑制朝發光模組100之下方洩漏之光，而可抑制配線基板200之劣化。
較佳為第2樹脂構件42a與第2反射體42b之折射率差較大，作為第2反射體42b，特佳為氧化鈦。
又，較佳為第2光反射性構件42之第2樹脂構件42a之折射率低於第1光反射性構件41之第1樹脂構件41a之折射率。藉此，光自第1樹脂構件41a入射至第2樹脂構件42a時，容易於第1樹脂構件41a與第2樹脂構件42a之界面全反射，從而可進一步抑制朝發光模組100之下方洩漏之光。又，若第2樹脂構件42a之折射率較低，則由此與折射率較高之第2反射體42b之折射率差變大，從而更容易散射反射。
第1光反射性構件41主要負責於導光板10內導引光，只要第2光反射性構件42可抑制光朝下方洩漏即可，故第2光反射性構件42之厚度亦可相較第1光反射性構件41之厚度薄。
圖16係表示3個試驗樣品之於每一波長下之反射率之測定結果之曲線圖。
實線表示對第1試驗樣品之測定結果。第1試驗樣品具有以下構造，即，將含有氣泡之PET樹脂層隔著含有TiO2粒子之丙烯酸樹脂層積層於玻璃基板上。第1試驗樣品係包含玻璃基板、含有TiO2粒子之丙烯酸樹脂層、及含有氣泡之PET樹脂層之3層積層體。含有氣泡之PET樹脂層對應於本實施方式之第1光反射性構件，含有TiO2粒子之丙烯酸樹脂層對應於本實施方式之第2光反射性構件。含有氣泡之PET樹脂層之厚度為50μm，含有TiO2粒子之丙烯酸樹脂層之厚度為40μm。
虛線表示對第2試驗樣品之測定結果。第2試驗樣品具有以下構造，即，將含有氣泡之PET樹脂層隔著不含有TiO2粒子等光擴散劑之丙烯酸樹脂層積層於玻璃基板上。第2試驗樣品係包含玻璃基板、不含有光擴散劑之丙烯酸樹脂層、及含有氣泡之PET樹脂層之3層積層體。第2試驗樣品之含有氣泡之PET樹脂層之厚度為188μm，相較第1試驗樣品之含有氣泡之PET樹脂層之厚度厚。第2試驗樣品之不含有光擴散劑之丙烯酸樹脂層之厚度為25μm。
點線表示對第3試驗樣品之測定結果。第3試驗樣品係與第2試驗樣品相同之3層積層體，僅含有氣泡之PET樹脂層之厚度與第2試驗樣品不同。第3試驗樣品之含有氣泡之PET樹脂層之厚度與第1試驗樣品之含有氣泡之PET樹脂層之厚度同為50μm。
第1試驗樣品之玻璃基板上之2層之合計厚度相較第2試驗樣品之玻璃基板上之2層之合計厚度薄。進而，第1試驗樣品之玻璃基板上之2層之合 計厚度相較第2試驗樣品之含有氣泡之PET樹脂層之1層之厚度薄。再者，第1、第2、及第3試驗樣品中玻璃基板之厚度相同。又，第1、第2、及第3試驗樣品係使用村上色彩技術研究所之高速分光光度計CMS-35SP，自含有氣泡之PET樹脂層側測定每一波長之反射率。
根據圖16之測定結果，與本實施方式之構成對應之第1試驗樣品中，儘管使含有氣泡之PET樹脂層之厚度相較第2試驗樣品薄，但藉由於含有氣泡之PET樹脂層下形成含有TiO2粒子之丙烯酸樹脂層，而可於約430nm以上650nm以下之波段，獲得與第2試驗樣品相等、或高於第2試驗樣品之反射率。
相對於第3試驗樣品中越為長波長側之光則反射率越降低，第1試驗樣品中，即便為長波長側，反射率之降低亦較少。
例如，藉由能夠進行藍色發光之發光元件、黃色螢光體、及紅色螢光體之組合而欲獲得能夠進行白色發光之光源之情形時，第1試驗樣品相較第3試驗樣品可增加反射之黃色光及紅色光。因此，第1試驗樣品中，以相較第3試驗樣品少之螢光體量而可獲得與第3試驗樣品相同之白色光，故可削減螢光體所花費之成本。又，例如，於將包含能夠發出藍色光之發光層、及相較其為長波長之例如能夠發出綠色光之發光層之1個發光元件用於光源之情形時，第1試驗樣品相較第3試驗樣品可增加反射之綠色光。因此，於第1試驗樣品中，可抑制綠色光之光量相對於藍色光變少，故可降低作為面狀光源時之色不均。
若將圖1中之X方向設為列方向，將Y方向設為行方向，則圖1所示之 面狀光源300具備被區隔成2列3行之6個發光區域301。於上述第1試驗樣品之條件下試製之具備區隔成5行5列之25個發光區域之面狀光源、與於上述第3試驗樣品之條件下試製之具備同樣區隔成5行5列之25個發光區域之面狀光源下測定亮度並加以比較。由此獲得以下之結果，即，於第1試驗樣品之條件下試製之面狀光源之亮度，較於第3試驗樣品之條件下試製之面狀光源之亮度高約7.7%左右。根據圖16所示之反射率之測定結果可知，第1試驗樣品與第3試驗樣品之反射率之差為1~2%左右，但若成為面狀光源，則該反射率之差成為更大之亮度之差而造成影響。
根據本實施方式，可一面謀求發光模組100之薄型化，一面使導光板10之下表面12側之反射率提高。藉此，可提高自導光板10之上表面11之光提取效率。
第1光反射性構件41以與自導光板10之下表面12至光源20之下表面相對向之方式配置，第2光反射性構件42以與第1光反射性構件41之下表面整體相對向之方式配置。即，於配置有光源20之貫通孔13之底面亦配置有第1光反射性構件41及第2光反射性構件42。藉此，可減少光源20之下方及附近區域之光吸收。
其次，參照圖5~圖13，對面狀光源300之製造方法進行說明。
實施方式之面狀光源300之製造方法具有準備圖5所示之構造體200'之步驟。構造體200'係於上述配線基板200上形成導電構件60之前之構造 體。
如圖6所示，於構造體200'上配置積層片40而形成構造體400。積層片40包含配置於構造體200'之第2絕緣層51上之第2光反射性構件42、配置於第2光反射性構件42上之第1光反射性構件41、及配置於第1光反射性構件41上之接著構件71。
如圖7所示，於構造體400上形成孔401。孔401貫通接著構件71、第1光反射性構件41、第2光反射性構件42、第2絕緣層51、及絕緣基材50。例如，利用鑽孔器形成孔401。或亦可利用打孔加工、雷射加工而形成孔401。又，亦可購買分別形成有孔之接著構件71、第1光反射性構件41、第2光反射性構件42、第2絕緣層51、及絕緣基材50(於絕緣基材50上貼合有第1絕緣層52、第1配線層53、及第2配線層54)，藉由將其等貼合而形成連續貫通接著構件71、第1光反射性構件41、第2光反射性構件42、第2絕緣層51、及絕緣基材50之孔401。或亦可購買預先形成有孔401之構造體400而進行準備。
如圖8所示，於形成有孔401之構造體400上配置導光板10。導光板10之下表面12接著於接著構件71。於導光板10上形成有貫通孔13，貫通孔13位於與孔401重疊之位置。
如圖9所示，於貫通孔13內配置光源20。作為光源20之下表面之被覆構件24之下表面接著於在貫通孔13內露出之第1光反射性構件41之上表 面。光源20之電極23定位於孔401。電極23之下表面之至少一部分於孔401露出。
於配置光源20之後，如圖10所示，於貫通孔13內形成透光性構件81。透光性構件81形成於光源20之側面、與貫通孔13之內側面之間。例如，將液狀之透光性樹脂供給至貫通孔13內之後，使其硬化，藉此形成透光性構件81。再者，作為使透光性樹脂硬化時加熱之溫度，較佳為30℃以上150℃以下，更佳為40℃以上130℃以下。光源20之側面由透光性構件81覆蓋，光源20之上表面於貫通孔13內自透光性構件81露出。
於貫通孔13內形成透光性構件81之後，如圖11所示，於導光板10形成區隔槽14。圖11所示之例中，區隔槽14貫通導光板10而到達構造體400之一部分。例如，藉由切削加工而形成區隔槽14。光源20之側面與貫通孔13之內側面之間之間隙由透光性構件81填埋，故可防止區隔槽14之切削屑進入至該間隙。
形成區隔槽14之後，於孔401內形成第1導電部61。如圖12所示，於構造體400位於相較導光板10及光源20更靠上之狀態下，對孔401內供給例如導電膏。藉由使導電膏硬化而形成與光源20之電極23連接之第1導電部61。進而，於絕緣基材50之形成有第1配線層53之面上，以連接於第1配線層53與第1導電部61之方式形成第2導電部62。例如，將導電膏供給至絕緣基材50之面上之後，使其硬化，藉此形成第2導電部62。例如，將第1導電部61與第2導電部62於相同步驟形成為一體。此時，光源20連接 於接著構件71，故導電膏不會進入至光源20之下表面與接著構件71之間。藉此，可防止電極23間通過導電膏短路。
形成導電構件60之後，於貫通孔13內之光源20上及透光性構件81上，形成圖13所示之透光性構件82。藉此，貫通孔13藉由包含透光性構件81與透光性構件82之第1透光性構件80填埋。
例如，將液狀之透光性樹脂供給至貫通孔13內之後，使其硬化，藉此形成透光性構件82。此時，能夠使螢光體83分散於透光性樹脂中而進行色調修正。
例如，於圖12之狀態下，通過導電構件60將電流供給至發光元件21，使發光元件21發光。第2透光性構件25中包含之螢光體由該發光元件21發出之光激發而發光。即，光源20發出之光色係發光元件21發出之光色、與螢光體發出之光色之混色，測定該光源20之光之色度。根據該色度之測定結果，藉由將適量之螢光體83混入至透光性構件82中而能夠修正成目標之色度。再者，於圖10所示之步驟中於貫通孔13內形成透光性構件81時，亦可將色度修正用之螢光體混入至透光性構件81中。
由第1透光性構件80填埋貫通孔13內之後，如圖2所示，於區隔槽14內形成第3光反射性構件43。進而，於第1透光性構件80上形成第1光調整構件90。第3光反射性構件43及第1光調整構件90可由相同材料同時形成。第3光反射性構件43及第1光調整構件90例如可利用印刷、噴墨而形 成。
圖4B係光源之另一例之模式剖視圖。
由被覆構件24覆蓋發光元件21之半導體積層體22之側面及下表面。於半導體積層體22之上表面上配置有第2透光性構件25。於覆蓋半導體積層體22之側面之被覆構件24上亦配置有第2透光性構件25。於第2透光性構件25上配置有第2光調整構件26。再者，根據所需之配光，於第2透光性構件25上亦可不配置第2光調整構件26。
圖4C係光源之又一例之模式剖視圖。
圖4C所示之光源不包含上述之第2透光性構件25及被覆構件24，而包含發光元件21、及配置於發光元件21之上表面之第2光調整構件26。再者，根據所需之配光，於發光元件21之上表面亦可不配置第2光調整構件26。
圖14係本發明之另一實施方式之面狀光源之一部分之模式剖視圖。圖14表示面狀光源之配置有光源20之部分及其周邊部分之剖面。
導光板10具備於下表面12側開口之剖面凹形狀之有底之孔部15。孔部15於本實施方式中為圓錐台狀之空間，例如亦可設為四角錐台狀或六角錐台狀等多角錐台狀之空間。光源20配置於此種孔部15內。於孔部15之 內側面、與光源20之側面之間配置有光反射性構件45。光反射性構件45例如係包含光擴散劑之樹脂構件。
於導光板10之上表面11側之與孔部15對向之位置形成有凹部16。凹部16可列舉例如圓錐狀、四角錐狀、六角錐狀等多角錐形等之凹部、或圓錐台狀、四角錐台狀或六角錐台狀等多角錐台狀之凹部等。又，於該凹部16配置有第1光調整構件46。第1光調整構件46與上述第1光調整構件90同樣地構成。
與上述實施方式同樣地，於導光板10之下表面12側配置有第1光反射性構件41，於第1光反射性構件41之下表面側配置有第2光反射性構件42。
於導光板10之下表面12之光源20之周邊區域、及光反射性構件45之下表面配置有光反射性構件44。光反射性構件44例如係包含光擴散劑之樹脂構件。
光源20之電極23連接於配線基板210之配線層56。配線基板210包含絕緣基材55、及形成於絕緣基材55上之配線層56。第1光反射性構件41與第2光反射性構件42配置於配線基板210、與導光板10之下表面12之間。
圖14所示之面狀光源中，亦藉由將反射特性不同之第1光反射性構件41與第2光反射性構件42組合，而可一面確保導光板10內之導光性，一面 抑制朝導光板10之下方洩漏之光，提高自上表面11之光提取效率。
圖15係本發明之又一實施方式之面狀光源之一部分之模式剖視圖。
該面狀光源係邊緣類型之面狀光源，光源20與導光板10之端面17對向配置。導光板10之端面17係來自光源20之光入射之光入射面，光源20之光出射面20a與導光板10之端面17對向。
光源20與導光板10配置於殼體500內。於光源20與殼體500之底壁501之間配置有配線基板220，光源20安裝於配線基板220上。
導光板10之下表面12與殼體500之底壁501對向，於導光板10之下表面12與殼體500之底壁501之間，配置有上述第1光反射性構件41與第2光反射性構件42。於導光板10之下表面12側配置有第1光反射性構件41，於第1光反射性構件41之下表面側配置有第2光反射性構件42。
圖15所示之面狀光源中，亦藉由將反射特性不同之第1光反射性構件41與第2光反射性構件42組合，而可一面確保導光板10內之導光性，一面抑制朝導光板10之下方洩漏之光，提高自上表面11之光提取效率。
以上說明之各實施方式中，可將相較第1光反射性構件41之反射率高之第2光反射性構件42配置於第1光反射性構件41之下表面側，例如亦可將金屬膜、介電多層膜等用作第2光反射性構件42。
又，亦可使用空氣層作為相當於導光板10之導光構件。
上述面狀光源300之製造方法中，於圖7所示之構造體400之孔401內形成第1導電部61之後，亦可於構造體400上配置導光板10，進而於導光板10之貫通孔13內配置光源20。之後，繼續進行於貫通孔13內形成透光性構件81之步驟、於導光板10形成區隔槽14之步驟、及形成第2導電部62之步驟等。
又，上述面狀光源300之製造方法中，於圖9所示之構造體400之孔401內形成第1導電部61之後，亦可以覆蓋光源20之方式於貫通孔13內配置第1透光性構件80。該情形時，於導光板10形成區隔槽14之步驟例如可於在圖8所示之構造體400上配置導光板之後，且於圖9所示之導光板10之貫通孔13內配置光源20之前進行。第1透光性構件80可由複數個透光性構件81、82構成，亦可由單層之透光性構件構成。再者，單層之透光性構件例如可含有上述螢光體或光擴散劑等。
以上，一面參照具體例一面對本發明之實施方式進行了說明。但是，本發明並非限定於該等具體例。本領域技術人員於本發明之上述實施方式之基礎上可進行適當設計變更而實施之所有形態只要包含本發明之主旨，則亦屬於本發明之範圍。此外，於本發明之思想範疇，只要為本領域技術人員，則可想到各種變更例及修正例，該等變更例及修正例亦屬於本發明之範圍。
10:導光板
11:上表面
12:下表面
13:貫通孔
14:區隔槽
20:光源
21:發光元件
22:半導體積層體
23:電極
24:被覆構件
25:第2透光性構件
26:第2光調整構件
41:第1光反射性構件
42:第2光反射性構件
43:第3光反射性構件
50:絕緣基材
51:第2絕緣層
52:第1絕緣層
53:第1配線層
54:第2配線層
60:導電構件
61:第1導電部
62:第2導電部
71:接著構件
80:第1透光性構件
83:螢光體
90:第1光調整構件
100:發光模組
200:配線基板
300:面狀光源

Claims (13)

  1. 一種發光模組，其具備： 光源； 導光板，其導引來自上述光源之光，具備上表面及上述上表面之相反側之下表面； 第1光反射性構件，其配置於上述導光板之上述下表面側；及 第2光反射性構件，其配置於上述第1光反射性構件之下表面側；且 上述第1光反射性構件包含第1樹脂構件、及相較上述第1樹脂構件之折射率低之第1反射體， 上述第2光反射性構件包含第2樹脂構件、及相較上述第2樹脂構件之折射率高之第2反射體。
  2. 如請求項1之發光模組，其中上述第1反射體為氣泡。
  3. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第2反射體為氧化鈦。
  4. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第2樹脂構件相較上述第1樹脂構件之折射率低。
  5. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第1樹脂構件為聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂或環氧樹脂。
  6. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第2樹脂構件為丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂或環氧樹脂。
  7. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第2光反射性構件之厚度相較上述第1光反射性構件之厚度薄。
  8. 如請求項1或2之發光模組，其中上述第1光反射性構件係以與自上述導光板之上述下表面至上述光源之下表面相對向之方式配置。
  9. 如請求項8之發光模組，其中上述第2光反射性構件係以與上述第1光反射性構件之上述下表面整體相對向之方式配置。
  10. 如請求項1或2之發光模組，其中上述導光板具備孔部， 上述光源配置於上述孔部內。
  11. 如請求項10之發光模組，其中上述孔部係於上述導光板之上述下表面側形成開口之有底之孔部。
  12. 如請求項10之發光模組，其中上述孔部係自上述導光板之上述上表面貫通至上述下表面之貫通孔。
  13. 一種面狀光源，其具備： 如請求項1之發光模組；及 配線基板；且 上述第1光反射性構件及上述第2光反射性構件配置於上述配線基板、與上述導光板之上述下表面之間。
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