TWI785496B - 發光模組及面狀光源 - Google Patents

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TWI785496B
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橋本啓
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日商日亞化學工業股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種可減少發光區域內之亮度不均之發光模組及面狀光源。 發光模組100具備導光構件20及光源30。導光構件20具有：劃分槽21，其劃分發光區域R；光源配置部22，其設置於發光區域R內；以及光調整孔23，其於俯視時設置於劃分槽21與光源配置部22之間。光源30配置於光源配置部22內。於俯視時，光調整孔23不配置於第1直線L1上。光調整孔23具有：第1側面23a，其位於光源30側；以及第2側面23b，其位於第1側面23a之相反側。第1側面23a具有第1區域23c。第1區域23c之法線N1相對於第2直線L2傾斜。

Description

發光模組及面狀光源
實施方式係關於一種發光模組及面狀光源。
先前以來，使用利用光源及導光構件之面狀光源，作為液晶顯示器之背光。關於面狀光源，開發有以下技術：將發光面劃分為複數個發光區域，針對每個發光區域控制亮度。要求於各發光區域內儘量減少亮度不均。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-59786號公報
實施方式之目的在於提供一種可減少發光區域內之亮度不均之發光模組及面狀光源。
實施方式之發光模組具備導光構件及光源。上述導光構件具有：劃分槽，其劃分發光區域；光源配置部，其設置於上述發光區域內；以及光調整孔，其於俯視時設置於上述劃分槽與上述光源配置部之間。上述光源配置於上述光源配置部內。於俯視時，上述光調整孔不配置於將上述劃分槽中之最遠離上述光源之中心之部分與上述光源之中心連接的第1直線上。上述光調整孔具有：第1側面，其位於上述光源側；以及第2側面，其位於上述第1側面之相反側。上述第1側面具有第1區域。上述第1區域之法線相對於將上述劃分槽中之最接近上述光源之中心之部分與上述光源之中心連接的第2直線傾斜。
實施方式之面狀光源具備上述發光模組及配線基板。上述導光構件設置於上述配線基板上。上述光源載置於上述配線基板。
根據實施方式，可實現能減少發光區域內之亮度不均之發光模組及面狀光源。
1:面狀光源
2:面狀光源
3:面狀光源
4:面狀光源
5:面狀光源
6:面狀光源
7:面狀光源
8:面狀光源
11:面狀光源
12:面狀光源
13:面狀光源
14:面狀光源
20:導光構件
20a:上表面
20b:下表面
21:劃分槽
21a:劃分構件
21b:劃分槽中之最遠離光源之中心的部分
21c:劃分槽中之最接近光源之中心的部分
21h:堵塞部
22:光源配置部
23:光調整孔
23a:第1側面
23b:第2側面
23c:第1區域
23d:第2區域
23e:光學構件
23h:堵塞部
25:第1透光性構件
26:第1光調整構件
27:第1光反射性構件
28:光調整孔
28a:第1側面
28b:第2側面
29:固定構件
30:光源
30A:光源
30B:光源
30C:光源
30D:光源
30E:光源
30F:光源
30c:光源之中心
31:發光元件
31a:第1面
31b:第2面
31c:側面
33:被覆構件
34:第2透光性構件
35:第2光調整構件
36:遮光層
37:透光層
38:遮光膜
40:接合構件
100:發光模組
116:發光模組
120:配線
121:凹部
200:配線基板
201:母材
202:配線層
203:連接層
205:接著片材
206:光反射性片材
210:外部電極構件
L1:第1直線
L2:第2直線
N1:法線
N2:法線
R:發光區域
T:光之軌跡
圖1係表示第1實施方式之面狀光源之模式俯視圖。
圖2係表示第1實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖3係表示第1實施方式之面狀光源之模式剖視圖，係圖1所示之III- III線之模式剖視圖。
圖4係表示第2實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖5係表示第3實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖6係表示第4實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖7係表示第5實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖8係表示第6實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖9係表示第7實施方式之面狀光源之1個發光區域之模式俯視圖。
圖10係表示第8實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
圖11係表示第1變化例之面狀光源之模式剖視圖。
圖12係表示第2變化例之面狀光源之模式剖視圖。
圖13係表示第3變化例之面狀光源之模式剖視圖。
圖14係表示第4變化例之面狀光源之模式剖視圖。
圖15係表示第5變化例之面狀光源之模式剖視圖。
圖16係表示第6變化例之發光模組之模式剖視圖。
圖17A係表示第7變化例中之光源之模式剖視圖。
圖17B係表示第8變化例中之光源之模式剖視圖。
圖17C係表示第9變化例中之光源之模式剖視圖。
圖18A係表示第10變化例中之光源之模式剖視圖。
圖18B係表示第11變化例中之光源之模式剖視圖。
圖18C係表示第12變化例中之光源之模式剖視圖。
<第1實施方式>
首先，對第1實施方式進行說明。
圖1係表示本實施方式之面狀光源之俯視圖。
圖2係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
圖3係表示本實施方式之面狀光源之剖視圖，係圖1所示之III-III線之剖視圖。
如圖1~圖3所示，於本實施方式之面狀光源1中，設置有配線基板200，於配線基板200上設置有發光模組100。於發光模組100中，設置有導光構件20及光源30。導光構件20設置於配線基板200上，光源30載置於配線基板200。
配線基板200中，於絕緣性之母材201內，設置有配線層202及將配線層202與光源30電性地連接之連接層203。於圖3中，配線層202僅表示了1層，但配線層202亦可設置複數層。於配線基板200與導光構件20之間，設置有接著片材205及光反射性片材206。接著片材205將配線基板200與光反射性片材206接著。光反射性片材206將自光源30出射之光之一部分反射。
光反射性片材206可使用包含多數個氣泡之樹脂片材(例如發泡樹脂片材)、包含光擴散材之樹脂片材等。作為該等用於光反射性片材206之樹脂，例如，可使用丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂或聚酯樹脂等熱塑性樹脂、或者環氧樹脂或聚矽氧樹脂等熱硬化性樹脂。又，作為光擴散材，可使用氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、 氧化鋅或玻璃等公知之材料。
但是，亦可於配線基板200之上表面進而設置相對於自光源30出射之光具有光反射性之光反射層，於該情形時，接著片材205接著於光反射層。又，光反射層亦可設置於下述導光構件20與光反射性片材206之間，例如設置於光反射性片材206之上表面。藉此，藉由光反射層使自光源30出射並於導光構件20內傳播之光之一部分散射，可容易自導光構件20之上表面取出。此種光反射層之形狀可為膜狀，亦可為點狀。又，光反射層於俯視時可延伸至下述導光構件20之光源配置部22內。較佳為，光反射層延伸到於俯視時與光源30重疊之位置，即光源30與配線基板200之間。藉此，可減少自光源30出射光之一部分由配線基板200吸收，而使光源30周圍之亮度降低這樣的情況。
作為光反射層，例如，可使用包含包括氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等公知之材料之光擴散材之樹脂。又，作為用於光反射層之樹脂，與用於光反射性片材206之樹脂相同地，例如，可使用熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂等。又，作為用於光反射層之樹脂，亦可使用紫外線硬化性樹脂。
導光構件20包括透光性材料，其形狀例如為板狀。作為用於導光構件20之材料，例如，可使用丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂或聚酯樹脂等熱塑性樹脂、環氧樹脂或聚矽氧樹脂等熱硬化性樹脂、或者玻璃等。於導光構件20形成有：劃分槽 21，其劃分發光區域R；光源配置部22，其設置於各發光區域R內；以及光調整孔23，其於俯視時設置於劃分槽21與光源配置部22之間。又，導光構件20之厚度例如較佳為200μm以上800μm以下。
於本說明書中，為了方便說明，採用XYZ正交座標系統。將配線基板200與導光構件20之排列方向設為「Z方向」，將發光區域R之排列方向設為「X方向」及「Y方向」。又，將Z方向中自配線基板200朝向導光構件20之方向亦稱為「上方向」，將其相反方向亦稱為「下方向」，但該表達亦係方便而定，與重力之方向無關。又，將自上方向側觀察之情況稱為「俯視」。
於俯視時，劃分槽21之形狀係沿X方向及Y方向延伸之格子狀，且包圍各發光區域R。再者，劃分槽21之形狀並不限定於格子狀，只要可將複數個發光區域R以實用上充分之程度光學地劃分即可。例如，亦可不於格子之交點部分設置劃分槽，光自與無該劃分槽之部分鄰接之各發光區域R集中，故而可避免發光區域R之角部周邊變暗。以下，對1個發光區域R進行說明，但關於其他發光區域R亦相同。
劃分槽21之寬度例如可設為發光區域R之寬度之5%以下左右。但是，於在劃分槽21內配置下述劃分構件21a之情形時，較佳為劃分槽21之寬度設為如容易配置劃分構件21a之寬度。又，劃分槽21可於導光構件20之厚度方向(Z方向)上占任意之比率。例如，於欲抑制向鄰接之發光區域R漏光之情形時，劃分槽21較佳為占導光構件20之厚度之50%以上，進而較 佳為70%以上，特佳為90%以上。
如於下述變化例中所說明，劃分槽21可形成於導光構件20之上表面20a，亦可形成於下表面20b，亦可於Z方向貫通導光構件20，亦可為貫通槽之一部分被堵塞之形狀，亦可為不到達導光構件20之上表面20a及下表面20b之中空狀。中空狀之劃分槽21例如可藉由使用透光性之接著片材將於上表面形成有槽之導光板與於下表面形成有槽之導光板貼合而形成。此種接著片材較佳為使用與導光構件20相同之材料，以減少層間之界面之產生。於本實施方式中，例如，劃分槽21形成於導光構件20之上表面20a。
又，劃分槽21之內部亦可為空氣層，亦可配置有包含光反射性材料之劃分構件21a。光反射性材料例如可使用包含光擴散材之樹脂或金屬。作為用於光反射性材料之樹脂，可使用丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂或聚酯樹脂等熱塑性樹脂、或者環氧樹脂或聚矽氧樹脂等熱硬化性樹脂。又，作為光擴散材，可使用氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等公知之材料。又，作為用於光反射性材料之金屬，例如，可使用鉑(Pt)、銀(Ag)、銠(Rh)或鋁(Al)。劃分構件21a亦可沿著劃分槽21之內面而層狀地形成，亦可填埋劃分槽21內之整體或一部分。劃分構件21a之上部亦可較導光構件20之上表面20a更向上方突出。於本實施方式中，例如，於劃分槽21之內面上設置有層狀之劃分構件21a。
光源配置部22係用以配置光源30之空間。即，光源30配置於光源配 置部22內。如下述變化例中所說明，光源配置部22亦可為於Z方向貫通導光構件20之貫通孔，亦可為形成於導光構件20之下表面20b之凹部。又，本實施方式中之光源配置部22於俯視時為圓形，但是例如亦可為橢圓形，亦可為三角形、四邊形、六邊形或八邊形等多邊形。
於本實施方式中，例如，光源配置部22為貫通孔。而且，於光源配置部22內，以覆蓋光源30之方式，填埋有第1透光性構件25。第1透光性構件25例如可使用具有透光性之樹脂材料。作為樹脂材料，與導光構件20相同地，可使用熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂等。
於第1透光性構件25上，設置有第1光調整構件26。第1光調整構件26將自光源30出射且透過第1透光性構件25之光之一部分反射，並使另一部分透過。第1光調整構件26例如亦可由包含光擴散材之樹脂材料形成，亦可由金屬材料形成。例如，作為樹脂材料，可使用聚矽氧樹脂、環氧樹脂或將該等混合而成之樹脂等。又，作為光擴散材，可使用氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等公知之材料。又，第1光調整構件26可使用介電體多層膜。於本實施方式中，例如，第1光調整構件26設置為膜狀，但亦可設置為點狀。又，本實施方式中之第1光調整構件26於俯視時覆蓋第1透光性構件25之上表面整體，但亦可使第1透光性構件25之上表面之一部分自第1光調整構件26露出。
另一方面，於光源配置部22之底部，即第1透光性構件25之下方，設置有膜狀之第1光反射性構件27。第1光反射性構件27係由與劃分構件21a 中所包含之光反射性材料相同地，例如包含光擴散材之樹脂材料或金屬材料等可反射光之材料形成。
再者，亦可代替第1光反射性構件27，將配線基板200上之光反射性片材206於俯視時延伸至導光構件20之光源配置部22內。於該情形時，較佳為，使光反射性片材206延伸到於俯視時與光源30重疊之位置，即光源30與配線基板200之間。藉此，可抑制自光源30出射之光之一部分由配線基板200吸收，可減少光源30周圍之亮度降低。
光源30可為發光元件單體，亦可於發光元件組合有波長轉換構件等光學構件而成之構造體。如下述變化例中所說明，光源30之構成可採用各種態樣。
於本實施方式中，光源30包含發光元件31、被覆構件33、第2透光性構件34、以及第2光調整構件35。發光元件31至少具有半導體構造體及正負一對電極。發光元件31例如係發光二極體(Light Emitting Diode：LED)，例如，出射藍色之光。作為半導體構造體，例如可包含InxAlyGa1-x-yN(0≦x，0≦y，x+y≦1)。發光元件31具有配置有正負一對電極之第1面31a、及與第1面31a為相反側之第2面31b。
於發光元件31之半導體構造體中，例如，藉由至少積層p型半導體層、發光層、n型半導體層，而實現發光二極體構造。作為發光層之構造，可為雙異質構造、單一量子井構造(SQW)般具有單一活性層之構造， 亦可為如多重量子井構造(MQW)般具有一批活性層群之構造。發光層能夠發出可見光或紫外光。例如，作為可見光，可列舉至少自藍色至紅色之光。作為包含此種發光層之半導體構造體，例如，可包含InxAlyGa1-x-yN(0≦x，0≦y，x+y≦1)。
又，發光元件31之半導體構造體可包含2個以上之發光層。例如，半導體構造體可為於n型半導體層與p型半導體層之間包含2個以上之發光層之構造，亦可為將n型半導體層、發光層及p型半導體層依次積層而成之構造重複2次以上之構造。2個以上之發光層例如可包含發光色不同之發光層，亦可包含發光色相同之發光層。再者，所謂發光色相同，只要係使用上視為相同之發光色之範圍即可，例如，各發光色之主波長亦可具有數nm左右之不均。作為發光色之組合可適當選擇，例如，作為包含2個發光層之情形時之組合，可列舉藍色光與藍色光、綠色光與綠色光、紅色光與紅色光、紫外光與紫外光、藍色光與綠色光、藍色光與紅色光、或綠色光與紅色光等之組合。
被覆構件33之材料例如為包含光擴散材之樹脂材料，且其配置於發光元件31之下部之周圍。具體而言，被覆構件33可使用包含氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等之聚矽氧樹脂或者環氧樹脂等作為光擴散材。於面狀光源1例如設置有焊料等接合構件40。接合構件40將發光元件31之正負一對電極連接於配線基板200之連接層203，但亦可不經由連接層203而連接於配線層202。
第2透光性構件34配置於發光元件31之上部之周圍及發光元件31之上方。第2透光性構件34包括透光性之樹脂材料，可包含螢光體，亦可不包含螢光體。作為用於第2透光性構件34之樹脂材料，例如，可使用環氧樹脂、聚矽氧樹脂或將該等混合而成之樹脂等。於第2透光性構件34包含螢光體之情形時，第2透光性構件34成為波長轉換層。
作為螢光體，可使用釔鋁石榴石系螢光體(例如，Y3(Al,Ga)5O12：Ce)、鎦鋁石榴石系螢光體(例如，Lu3(Al,Ga)5O12：Ce)、鋱鋁石榴石系螢光體(例如，Tb3(Al,Ga)5O12：Ce)、β賽隆螢光體(例如，(Si,Al)3(O,N)4：Eu)，α賽隆螢光體(例如，Mz(Si,Al)12(O,N)16(其中，0<z≦2，M係除了Li、Mg、Ca、Y、及La與Ce以外之鑭系元素))、CASN系螢光體(例如，CaAlSiN3：Eu)或SCASN系螢光體(例如，(Sr,Ca)AlSiN3：Eu)等氮化物系螢光體、KSF系螢光體(例如，K2SiF6：Mn)或MGF系螢光體(例如，3.5MgO‧0.5MgF2‧GeO2：Mn)等氟化物系螢光體、或者量子點螢光體等。
又，第2透光性構件34亦可包含複數種螢光體，例如，藉由包含吸收藍色之光而放射黃色之光的螢光體與吸收藍色之光而放射紅色之光的螢光體，可自光源30出射例如白色之光。又，第2透光性構件34亦可以不遮光之程度包含光擴散材。可對第2透光性構件34中含有之光擴散材之含有率進行調整，以使第2透光性構件34相對於自發光元件31出射之光之透過率為50%以上99%以下，較佳為70%以上90%以下。作為光擴散材，例如，可使用氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等。
第2光調整構件35配置於第2透光性構件34之上表面。第2光調整構件35與第1光調整構件26相同地，例如，由包含光擴散材之樹脂材料或金屬材料等反射光之材料形成。第2光調整構件35將自第2透光性構件34入射之光之一部分反射，並使另一部分透過。於第2光調整構件35相對於自發光元件31出射之光之透過率充分低之情形時，例如為1%以上50%以下，較佳為3%以上30%以下之情形時，第2光調整構件35成為遮光膜，可避免光源30正上方之亮度變得過高。
光調整孔23亦與劃分槽21相同地，形成於導光構件20之上表面20a，亦可形成於下表面20b，亦可於Z方向貫通導光構件20，亦可為貫通槽之一部分被堵塞之形狀，亦可為不到達導光構件20之上表面20a及下表面20b之中空狀。於本實施方式中，例如，光調整孔23形成於導光構件20之上表面20a。即，光調整孔23到達導光構件20之上表面20a，與導光構件20之下表面20b相離。
於本說明書中，所謂「孔」，係指凹部及貫通孔之總稱。即，「孔」包含不貫通形成有其之本體(例如，導光構件20)之凹部、及貫通形成有其之本體之貫通孔兩者。又，「孔」之形狀並不限定。即，包含如於俯視時沿一方向延伸之槽般縱橫比較高之形狀、如於俯視時圓或多邊形般縱橫比較低之形狀、及其中間之規則或不規則的形狀之所有形狀。進而，「孔」之內部之構造亦任意。即，「孔」包含內部為空氣層者、有意地設置有某些構件者、及意料之外之物質侵入者。
光調整孔23可於導光構件20之厚度方向占任意之比率。例如，於欲增加自光源30出射之光中射向發光區域R之角部之光的情形時，光調整孔23較佳為占導光構件20之厚度之15%以上，進而較佳為25%以上，特佳為50%以上。
光調整孔23之內部可為空氣層，亦可配置有透光性材料或光反射性材料。於配置有透光性材料之情形時，較佳為其折射率較導光構件20之折射率低。作為用於透光性材料或光反射性材料之樹脂，可列舉丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂或聚酯樹脂等熱塑性樹脂、或者環氧樹脂或聚矽氧樹脂等熱硬化性樹脂。又，可使透光性材料或光反射性材料含有光擴散材。作為光擴散材，可使用氧化鈦、氧化矽、氧化鋁、氧化鋅或玻璃等公知之材料。又，作為用於光反射性材料之金屬，例如，可使用鉑(Pt)、銀(Ag)、銠(Rh)或鋁(Al)。透光性材料或光反射性材料可沿著光調整孔23之內面而層狀地設置，亦可填埋至光調整孔23之內部。於本實施方式中，例如，光調整孔23之內部為空氣層。因此，光調整孔23之內部之折射率較導光構件20之折射率低。
其次，對光調整孔23之平面配置進行說明。
以下，為了方便說明，於發光區域R內設定假想的第1直線L1及第2直線L2。第1直線L1係於俯視時將光源30之中心30c與劃分槽21中之最遠離光源30之中心30c之部分21b連接的直線。第2直線L2係於俯視時將光源30之中心30c與劃分槽21中之最接近光源30之中心30c之部分21c連接的直 線。
再者，所謂「光源之中心」，係指俯視時之光源30之幾何學上之重心，例如，於光源30之形狀為矩形之情形時，中心30c係光源30之對角線之交點。所謂「劃分槽中之最遠離光源之中心之部分21b」，係指包圍該光源30之劃分槽21中最遠離光源30之中心30c的部分，不考慮僅包圍其他光源30之劃分槽21。於發光區域R之形狀為矩形之情形時，最遠之部分21b係劃分槽21之角部。於俯視時，發光區域R之形狀為矩形，且光源30之中心30c與發光區域R之中心一致之情形時，第1直線L1及第2直線L2各存在4條。
而且，光調整孔23不配置於第1直線L1上。於本實施方式中，光調整孔23與第2直線L2交叉。發光區域R之形狀於俯視時為矩形，光調整孔23分別設置於光源30與發光區域R之各邊之間。
於俯視時，各光調整孔23之形狀為V字形，屈曲部分朝向光源30突出。光調整孔23具有位於光源30側之第1側面23a、及位於第1側面23a之相反側之第2側面23b。第1側面23a具有第1區域23c及第2區域23d。第2區域23d相對於第1區域23c傾斜。第1區域23c之法線N1及第2區域23d之法線N2分別相對於第2直線L2傾斜。第2區域23d相對於第2直線L2傾斜之方向係第1區域23c相對於第2直線L2傾斜之方向的相反側。例如，光調整孔23之形狀係以第2直線L2為對稱軸之線對稱。
又，此種光調整槽23之寬度例如可設為發光區域R之寬度之1%以上5%以下，進而較佳為1.5%以上3%以下左右。但是，於在光調整槽23內配置下述透光性材料或光反射性材料之情形時，較佳為光調整槽23之寬度設為如容易配置其等之寬度。所謂此處所言之光調整槽23之寬度，係指於俯視時將第1側面23a與第2側面23b連接之最短距離。
其次，對本實施方式之面狀光源之動作進行說明。
於圖2中，表示了光之軌跡T之幾個例子。
若經由配線基板200對光源30供給電力，則光源30發光。自光源30出射之光經由第1透光性構件25導入至導光構件20內，並一面於導光構件20之上表面20a與下表面20b反射，一面於導光構件20內傳播。
於導光構件20內傳播之光之一部分到達光調整孔23。由於光調整孔23之內部之折射率較導光構件20之折射率低，故而根據入射至第1側面23a之第1區域23c及第2區域23d之角度，光會於第1區域23c及第2區域23d全反射。全反射之光之一部分射向發光區域R之角部。藉此，假設無光調整孔23，則應通過該區域之光藉由光調整孔23而全反射，射向發光區域R之角部。其結果，發光區域R之角部之亮度增加，減少發光區域R內之亮度不均。而且，若光到達劃分槽21，則藉由劃分槽21而阻止其之進一步傳播。因此，光漏泄至相鄰之發光區域R之情況得到抑制。
其次，對本實施方式之效果進行說明。
於本實施方式中，於導光構件20形成有劃分槽21，將發光模組100之 發光面劃分為複數個發光區域R。又，於發光區域R內形成有光源配置部22，於此處配置有光源30。自光源30出射之光之大部分於到達劃分槽21之期間，自導光構件20之上表面20a向外部出射。因此，自光源30出射之光之大部分自該光源30所處之發光區域R向發光模組100外出射。藉此，可針對每個發光區域R控制發光強度。其結果，於使用本實施方式之面狀光源作為例如液晶顯示器之光源時，能夠實現對比度較高之圖像顯示。
又，於本實施方式中，於導光構件20形成有光調整孔23，可藉由光調整孔23而使光全反射。由於發光區域R之角部遠離光源30，故而假設未設置光調整孔23，則發光區域R之角部容易變暗。
因此，本實施方式中，於遠離第1直線L1之位置，例如於與第2直線L2交叉之位置，形成光調整孔23。藉此，於第2直線L2之附近傳播之光之一部分藉由光調整孔23而全反射，射向第1直線L1之附近。藉此，發光區域R之角部變明亮，可減少發光區域R內之亮度不均。
<第2實施方式>
其次，對第2實施方式進行說明。
圖4係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖4所示，於本實施方式之面狀光源2中，光調整孔23之第1側面23a與光源配置部22相接。光調整孔23之第2側面23b遠離劃分槽21。藉此，亦可獲得與第1實施方式相同之效果。尤其於本實施方式中，由於光 調整孔23配置於光源30之附近，故而可增加全反射至發光區域R之角部之來自光源30之光。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
<第3實施方式>
其次，對第3實施方式進行說明。
圖5係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖5所示，於本實施方式之面狀光源3中，光調整孔23之第1側面23a及第2側面23b與劃分槽21相接。光調整孔23之第1側面23a遠離光源配置部22。藉此，亦可獲得與第1實施方式相同之效果。尤其於本實施方式中，由於光調整孔23配置於劃分槽21之附近，故而可增加亦全反射至發光區域R之角部及其周邊部之來自光源30之光。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
如第2及第3實施方式中所例示，可結合所期望之配光特性，任意地調整光源配置部22與光調整孔23之距離及光調整孔23與劃分槽21之距離之比。光調整孔23亦可配置於光源配置部22與劃分槽21之中央部分，亦可偏向光源配置部22側或劃分槽21側之任一側，亦可與光源配置部22及劃分槽21之一者或兩者相接。
<第4實施方式>
其次，對第4實施方式進行說明。
圖6係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖6所示，於本實施方式之面狀光源4中，於俯視時，光調整孔23之形狀為短條狀。光調整孔23之位置及方向係以使自光源30出射之光之至少一部分於第1側面23a全反射且射向發光區域R之角部之方式配置。例如，光調整孔23之第1側面23a相對於X方向及Y方向傾斜。
又，光調整孔23不配置於第2直線L2上，而配置於由第1直線L1、第2直線L2及劃分槽21包圍之區域內。例如，隔著第2直線L2而相鄰之一對光調整孔23配置於以第2直線L2為對稱軸之線對稱之位置。藉此，藉由使來自光源30之光全反射至發光區域R之角部，並且使來自光源30之光之一部分沿著第2直線L2上傳播，可避免由光調整孔23之第2側面23b與劃分槽21包圍之區域變得過暗。又，隔著第1直線L1而相鄰之一對光調整孔23配置於以第1直線L1為對稱軸之線對稱之位置。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
<第5實施方式>
其次，對第5實施方式進行說明。
圖7係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖7所示，於本實施方式之面狀光源5中，於俯視時，光調整孔23之形狀為三角形。即，光調整孔23之第1區域23c、第2區域23d、及第2側面23b形成三角形。光調整孔23遠離第1直線L1，且與第2直線L2交叉。與 第1實施方式相同地，光調整孔23之內部亦可為空氣層，亦可配置有透光性材料或光反射性材料。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
<第6實施方式>
其次，對第6實施方式進行說明。
圖8係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖8所示，於本實施方式之面狀光源6中，光調整孔23之第1側面23a朝向光調整孔23之外部凸狀地彎曲。例如，第1側面23a朝向光源30凸狀地彎曲。此種第1側面23a之曲率例如較佳為0.08以上0.35以下，進而較佳為0.1以上0.2以下。各光調整孔23之形狀係以第2直線L2為對稱軸之非線對稱。再者，各光調整孔23之形狀亦可為以第2直線L2為對稱軸之線對稱。
藉此，自光源30出射之光中以小於臨界角之入射角入射至光調整孔23之第1側面23a之光透過光調整孔23，但以大於臨界角之入射角入射至第1側面23a之光藉由第1側面23a而全反射並射向發光區域R之角部附近。此時，若第1側面23a朝向光源30凸狀地彎曲，則全反射之光擴散。
於本實施方式中，可使沿著第2直線L2傳播之光藉由光調整孔23之第1側面23a而全反射。又，藉由使到達光調整孔23之光之一部分透過，可避免自光源30觀察時位於光調整孔23背後之區域變得過暗。進而，由於 第1側面23a朝向光源30凸狀地彎曲，故而可藉由全反射而使光擴散。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
<第7實施方式>
其次，對第7實施方式進行說明。
圖9係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖9所示，於本實施方式之面狀光源7中，除了第1實施方式之面狀光源1之構成以外，還於導光構件20之上表面20a形成有光調整孔28。光調整孔28之內部之折射率較導光構件20之折射率低。光調整孔28之內部例如為空氣層。於俯視時，光調整孔28處於與第1直線L1交叉之位置。又，於俯視時，光調整孔28之形狀為凹透鏡狀。
例如，於俯視時，光調整孔28之形狀可設為平凹透鏡狀。於圖9所示之例子中，光調整孔28之位於接近光源30之側之第1側面28a平坦，位於接近發光區域R之角部之側之第2側面28b朝向光調整孔28之內側凹狀地彎曲。再者，亦可與此相反，第1側面28a朝向光調整孔28之內側凹狀地彎曲，第2側面28b平坦。又，於俯視時，光調整孔28之形狀亦可為雙凹透鏡狀。即，第1側面28a及第2側面28b之兩者亦可朝向光調整孔28之內側凹狀地彎曲。
進而，於俯視時，光調整孔28之形狀亦可為凹彎月形透鏡狀。即，亦可使第1側面28a朝向光源30凸狀地彎曲，使第2側面28b朝向光調整孔 28之內側凹狀地彎曲。於該情形時，第1側面28a之曲率小於第2側面28b之曲率。亦可與此相反，第2側面28a朝向發光區域R之角部凸狀地彎曲，第1側面28a朝向光調整孔28之內側凹狀地彎曲。於該情形時，第2側面28b之曲率小於第1側面28a之曲率。
於本實施方式中，自光源30出射且到達光調整孔23之光之至少一部分於光調整孔23之第1側面23a全反射。藉此，傳播至第2直線L2之附近之光之一部分射向第1直線L1之附近。
另一方面，自光源30出射且到達光調整孔28之光之至少一部分藉由透過光調整孔28內而折射。此時，光調整孔28之內部之折射率較導光構件20之折射率低，且光調整孔28之形狀為凹透鏡狀，故而產生類似於通常之凸透鏡之光學作用，通過光調整孔28之光彙聚。藉此，透過光調整孔28之光朝向劃分槽21中之最遠離光源30之中心30c的部分21b彙聚。
如此一來，可使發光區域R之角部更明亮，更加減少發光區域R內之亮度不均。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
<第8實施方式>
其次，對第8實施方式進行說明。
圖10係表示本實施方式之面狀光源之1個發光區域之俯視圖。
如圖10所示，於本實施方式之面狀光源8中，於各發光區域R設置有複數個光源30。於圖10所示之例子中，於各發光區域R設置有4個光源30，且沿著X方向及Y方向而排列為2列2行之矩陣狀。於面狀光源8中，於導光構件20之下表面形成有4個光源配置部22，於各光源配置部22內配置有1個光源30。
又，於導光構件20之上表面20a形成有8個光調整孔23。光調整孔23不配置於將各光源30之中心30c與劃分槽21中之最遠離中心30c之部分21b連接的第1直線L1上。光調整孔23可介置於將光源30之中心30c與劃分槽21中之最接近中心30c之部分21c連接的第2直線L2。如圖10所示，較佳為不於光源配置部22間配置光調整孔23。
根據本實施方式，藉由於各發光區域R內配置複數個光源30，可更加減少發光區域R內之亮度不均。本實施方式中之上述以外之構成、動作及效果與第1實施方式相同。
以下，對上述各實施方式中共通之變化例進行說明。
下述第1~第5變化例係關於劃分槽21、光源配置部22及光調整孔23之上下方向之形狀之變化例。第6變化例係未設置配線基板200之例子。第7~第12變化例係關於光源30之變化例。表示以下之變化例之圖係模式性的圖，適當進行了省略或簡化。上述各實施方式及下述各變化例可任意地組合實施。
<第1變化例>
圖11係表示本變化例之面狀光源之剖視圖。
如圖11所示，於本變化例之面狀光源11中，劃分槽21及光調整孔23形成於導光構件20之上表面20a。即，劃分槽21及光調整孔23到達導光構件20之上表面20a，遠離下表面20b。
於劃分槽21內，填充包含光反射性材料之劃分構件21a，整個劃分槽21內由劃分構件21a填埋。於光調整孔23內，填充包含透光性材料或光反射性材料之光學構件23e，整個光調整孔23內由光學構件23e填埋。劃分構件21a之上端及光學構件23e之上端位於較導光構件20之上表面20a靠上方。光源配置部22係形成於導光構件20之下表面20b之凹部。於光源配置部22內，亦可填埋第1透光性構件25，亦可為空氣層。又，於本變化例中，對於劃分槽21及光調整孔23之各者，表示了內側面之間隔越朝向上方越寬之例子，但並不限定於此。劃分槽21及光調整孔23之內側面之間隔分別亦可越朝向下方越寬，內側面亦可與Z方向大致平行。
<第2變化例>
圖12係表示本變化例之面狀光源之剖視圖。
如圖12所示，於本變化例之面狀光源12中，劃分槽21及光調整孔23形成於導光構件20之下表面20b。即，劃分槽21及光調整孔23遠離導光構件20之上表面20a，到達下表面20b。劃分槽21內及光調整孔23內成為空氣層。光源配置部22係形成於導光構件20之下表面20b之凹部。於光源配置部22內，亦可填埋第1透光性構件25，亦可為空氣層。圖12表示了劃分 槽21及光調整孔23之內側面與Z方向大致平行之例子，但並不限定於此。劃分槽21之內側面之間隔及光調整孔23之內側面之間隔分別亦可越朝向上方越寬，亦可越朝向下方越寬。
<第3變化例>
圖13係表示本變化例之面狀光源之剖視圖。
如圖13所示，於本變化例之面狀光源13中，劃分槽21及光調整孔23於上下方向(Z方向)貫通導光構件20。即，劃分槽21及光調整孔23到達導光構件20之上表面20a及下表面20b之兩者。劃分槽21內及光調整孔23內成為空氣層。劃分槽21及光調整孔23亦可一部分被堵塞。光源配置部22亦於上下方向(Z方向)貫通導光構件20。於光源配置部22內填埋有第1透光性構件25。於第1透光性構件25上設置有第1光調整構件26。再者，亦可不設置第1透光性構件25及第1光調整構件26，亦可設置第1透光性構件25而不設置第1光調整構件26。圖13表示了於Z方向貫通導光構件20之劃分槽21及光調整孔23之內側面分別與Z方向大致平行之例子，但並不限定於此。劃分槽21之內側面之間隔及光調整孔23之內側面之間隔分別亦可越朝向上方越寬，亦可越朝向下方越寬。
<第4變化例>
圖14係表示本變化例之面狀光源之剖視圖。
如圖14所示，於本變化例之面狀光源14中，劃分槽21及光調整孔23形成於導光構件20之上表面20a。而且，劃分槽21之Z方向上之一部分被堵塞，形成有堵塞部21h。又，光調整孔23之Z方向上之一部分被堵塞， 形成有堵塞部23h。於堵塞部21h及23h中，槽之兩側面彼此接觸，或槽之兩側面間之距離較其他部分短。
亦可僅形成堵塞部21h及堵塞部23h中之任一者。又，堵塞部21h亦可遍及劃分槽21延伸之方向(X方向及Y方向)之全長而形成，亦可僅形成於劃分槽21延伸之方向之一部分。同樣地，堵塞部23h亦可遍及光調整孔23延伸之方向(與XY平面平行之方向)之全長而形成，亦可僅形成於光調整孔23延伸之方向之一部分。進而，堵塞部21h及堵塞部23h之Z方向上之位置為任意。
<第5變化例>
圖15係表示本變化例之面狀光源之剖視圖。
如圖15所示，於本變化例之面狀光源15中，劃分槽21及光調整孔23形成於導光構件20之內部。即，劃分槽21及光調整孔23遠離導光構件20之上表面20a及下表面20b之兩者。劃分槽21內及光調整孔23內成為空氣層。光源配置部22於上下方向(Z方向)貫通導光構件20。
此種導光構件20可藉由將於上表面形成有成為劃分槽21之下部之凹部、成為光調整孔23之下部之凹部、及成為光源配置部22之下部之貫通孔的下部導光板，與於下表面形成有成為劃分槽21之上部之凹部、成為光調整孔23之上部之凹部、及成為光源配置部22之上部之貫通孔的上部導光板貼合而形成。於光源配置部22內，填埋第1透光性構件25。於第1透光性構件25上，設置有第1光調整構件26。
<第6變化例>
圖16係表示本變化例之發光模組之剖視圖。
如圖16所示，於本變化例之發光模組116中，未設置配線基板200。於導光構件20中，光源配置部22係形成於導光構件20之下表面20b之凹部。光源30配置於光源配置部22內，於光源配置部22內之光源30與導光構件20之間之空間內填充有固定構件29。固定構件29例如包括透光性之樹脂材料。光源30經由固定構件29而固定於導光構件20。
劃分槽21形成於導光構件20之下表面20b，於內部設置有劃分構件21a。劃分構件21a到達光源配置部22。於劃分構件21a之下表面設置有一對配線120。一對配線120經由一對外部電極構件210而電性地連接於光源30之發光元件31之正負一對電極。光調整孔23形成於導光構件20之上表面20a。於導光構件20之上表面20a中之包含光源配置部22之正上方區域的區域，形成有凹部121。於凹部121內，可設置第1光調整構件26，亦可不設置第1光調整構件26。
本變化例之發光模組116藉由搭載於外部基板(未圖示)，而構成面狀光源。而且，自外部基板對光源30供給電力。
<第7變化例>
圖17A係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖17A所示，於本變化例中之光源30A中，設置有發光元件31、被覆構件33、第2透光性構件34。一對外部電極構件210連接於設置在發光元件31之第1面31a之正負一對電極。被覆構件33配置於發光元件31之第1面31a之下方且外部電極構件210之周圍。第2透光性構件34覆蓋發光元件31之側面31c及第2面31b。第2透光性構件34可設為包含螢光體之波長轉換層。
<第8變化例>
圖17B係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖17B所示，本變化例中之光源30B與第7變化例之光源30A相比，於以下方面不同：被覆構件33覆蓋發光元件31之側面31c；第2透光性構件34配置於發光元件31之第2面31b上；以及於第2透光性構件34上設置有第2光調整構件35。於第2光調整構件35之透過率充分低之情形時，第2光調整構件35成為遮光膜。
<第9變化例>
圖17C係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖17C所示，本變化例中之光源30C與第8變化例之光源30B相比，於未設置第2光調整構件35之方面不同。
<第10變化例>
圖18A係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖18A所示，本變化例中之光源30D與第7變化例之光源30A相 比，於未設置被覆構件33及第2透光性構件34之方面、以及設置有遮光層36之方面不同。遮光層36設置於發光元件31之第2面31b上。遮光層36例如係金屬層或分佈布拉格反射膜(Distributed Bragg Reflector：DBR)。遮光層36亦可為包含光擴散材之樹脂。
<第11變化例>
圖18B係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖18B所示，本變化例中之光源30E與第7變化例之光源30A相比，於代替第2透光性構件34而設置有透光層37之方面、以及設置有遮光膜38之方面不同。透光層37例如包括透明之樹脂材料。透光層37例如實質上不包含螢光體。透光層37亦可包含光擴散材。遮光膜38設置於透光層37上。遮光膜38例如係金屬層或分佈布拉格反射膜。遮光膜38亦可為包含光擴散材之樹脂。
<第12變化例>
圖18C係表示本變化例中之光源之剖視圖。
如圖18C所示，本變化例中之光源30F與第11變化例之光源30E相比，於被覆構件33覆蓋發光元件31之側面31c之方面、以及透光層37配置於發光元件31之第2面31b上之方面不同。
再者，於上述各實施方式及變化例中，表示了導光構件20為板狀之例子，但並不限定於此，導光構件20亦可為以被覆光源30之方式形成之層狀。又，導光構件20可為積層有複數個層者，亦可為設置於每個發光區 域R之塊狀者。又，光源30亦可包含複數個發光元件。進而，發光區域R之形狀並不限定為矩形，例如，亦可為三角形或六邊形等矩形以外之多邊形。
1:面狀光源
20:導光構件
21:劃分槽
21a:劃分構件
21b:劃分槽中之最遠離光源之中心的部分
21c:劃分槽中之最接近光源之中心的部分
22:光源配置部
23:光調整孔
23a:第1側面
23b:第2側面
23c:第1區域
23d:第2區域
26:第1光調整構件
30:光源
30c:光源之中心
L1:第1直線
L2:第2直線
N1:法線
N2:法線
R:發光區域
T:光之軌跡

Claims (23)

  1. 一種發光模組，其具備：導光構件，其具有劃分發光區域之劃分槽、設置於上述發光區域內之光源配置部、及於俯視時設置於上述劃分槽與上述光源配置部之間之光調整孔；光源，其配置於上述光源配置部內；第1光反射性材料；以及第2光反射性材料；且於俯視時，上述光調整孔不配置於將上述劃分槽中之最遠離上述光源之中心之部分與上述光源之中心連接的第1直線上，上述光調整孔具有：第1側面，其位於上述光源側；以及第2側面，其位於上述第1側面之相反側；上述第1側面具有第1區域，上述第1區域之法線相對於將上述劃分槽中之最接近上述光源之中心之部分與上述光源之中心連接的第2直線傾斜，上述劃分槽具有第1面及第2面，上述第1光反射性材料配置於上述第1面上，上述第2光反射性材料配置於上述第2面上。
  2. 如請求項1之發光模組，其中上述光調整孔之內部之折射率低於上述導光構件之折射率，自上述光源出射之光於上述第1區域中全反射。
  3. 如請求項1之發光模組，其中上述光調整孔之內部為空氣層。
  4. 如請求項1之發光模組，其中上述光調整孔處於與上述第2直線交叉之位置。
  5. 如請求項1之發光模組，其中於俯視時，上述發光區域之形狀為矩形，上述光調整孔分別設置於上述光源與上述發光區域之各邊之間。
  6. 如請求項1之發光模組，其中上述第1側面進而具有相當於上述第1區域傾斜之第2區域，上述第2區域之法線相對於上述第2直線傾斜。
  7. 如請求項6之發光模組，其中自上述光源出射之光於上述第2區域中全反射。
  8. 如請求項6之發光模組，其中上述第2區域相對於上述第2直線傾斜之方向為上述第1區域相對於上述第2直線傾斜之方向的相反側。
  9. 如請求項6之發光模組，其中於俯視時，上述第1區域、上述第2區域及上述第2側面形成三角形。
  10. 如請求項1之發光模組，其中上述第1區域於俯視時處於由上述第1直線、上述第2直線及上述劃分槽包圍之區域內。
  11. 如請求項1之發光模組，其中上述第1側面朝向上述光調整孔之外部凸狀地彎曲。
  12. 如請求項1之發光模組，其中上述光調整孔到達上述導光構件之上表面，遠離上述導光構件之下表面。
  13. 如請求項1之發光模組，其中上述光調整孔於上下方向貫通上述導光構件。
  14. 如請求項1之發光模組，其進而具備光調整構件，該光調整構件設置於上述導光構件之上表面中之上述光源配置部之正上方區域，且將自上述光源出射之光之一部分反射，並使另一部分透過。
  15. 如請求項1之發光模組，其中上述光源具有發光元件，上述發光元件具有：第1面，其具有正負一對電極；以及第2面，與上述第1面為相反側。
  16. 如請求項15之發光模組，其中上述發光元件進而具有配置於上述第2面上之遮光層。
  17. 如請求項15之發光模組，其中上述光源進而具有：透光層，其至少配置於上述發光元件之上述第2面上；以及遮光膜，其設置於上述透光層上。
  18. 如請求項15之發光模組，其中上述光源進而具有波長轉換層，該波長轉換層至少配置於上述發光元件之上述第2面上。
  19. 如請求項18之發光模組，其中上述光源進而具有設置於上述波長轉換層上之遮光膜。
  20. 如請求項1之發光模組，其中上述劃分槽之上述第1面與上述第2面之間的距離係越往上越增加。
  21. 如請求項1之發光模組，其中：於俯視時，上述發光區域之形狀為四角形，上述光調整孔設有4個，上述第1直線係以連接上述光源之中心與上述發光區域之各角的方式設有4根，各上述光調整孔之上述第1側面，相對於各上述第1直線朝相同方向彎曲。
  22. 一種發光模組，其具備：導光構件，其具有劃分發光區域之劃分槽、設置於上述發光區域內 之光源配置部、及於俯視時設置於上述劃分槽與上述光源配置部之間之第1及第2光調整孔；光源，其配置於上述光源配置部內；第1光反射性材料；以及第2光反射性材料；且上述第2光調整孔之內部之折射率低於上述導光構件之折射率，於俯視時，上述發光區域之形狀為矩形，於俯視時，上述第1光調整孔不配置於將上述光源之中心與上述發光區域之角部連接之第1直線上，自上述光源出射之光於上述第1光調整孔之側面處全反射，於俯視時，上述第2光調整孔處於與上述第1直線交叉之位置，自上述光源出射之光於上述第2光調整孔處折射；上述劃分槽具有第1面及第2面，上述第1光反射性材料配置於上述第1面上，上述第2光反射性材料配置於上述第2面上。
  23. 一種面狀光源，其具備：如請求項1至22中任一項之發光模組；以及配線基板；上述導光構件設置於上述配線基板上，上述光源載置於上述配線基板。
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