TWI766359B - 電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組暨電子零件內藏封裝基板之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於，減薄電子零件內藏封裝基板之厚度，該電子零件內藏封裝基板係於基板之內部埋設有電子零件及薄膜電容器。 本發明之解決手段為，一種電子零件內藏封裝基板100，其具備：配線層L3，其形成於絕緣層112之一表面；控制器晶片150及薄膜電容器160，其搭載於絕緣層112之另一表面；絕緣層113，其埋設控制器晶片150及薄膜電容器160；及配線層L2，其形成於絕緣層113之表面。控制器晶片150及薄膜電容器160係搭載於絕緣層112之不同之表面。藉此，由於不需要增加絕緣層及配線層之層數，因此可減薄基板整體之厚度。

Description

電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組暨電子零件內藏封裝基板之製造方法

本發明係關於一種電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組，尤其是關於一種在基板之內部埋設有電子零件及薄膜電容器之電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組。此外，本發明關於一種如此之電子零件內藏封裝基板之製造方法。

作為埋設有薄膜電容器之基板，已知一種專利文獻1記載之電容器內藏基板。專利文獻1記載之電容器內藏基板係於一外表面搭載半導體IC之類型之基板，且藉由將埋設於基板之薄膜電容器連接於半導體IC之電源線及接地線，以圖電源之穩定化。 [先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2015-053350號公報

(發明所欲解決之問題)

然而，當欲將半導體IC埋設於基板之內部以進一步增強專利文獻1記載之電容器內藏基板之功能時，由於絕緣層及配線層之層數增加，因此存在整體之厚度變厚的問題。

因此，本發明之目的在於，於電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組中，減薄整體之厚度，其中，該電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組係於基板之內部埋設有電子零件及薄膜電容器。此外，本發明之目的在於提供一種如此之電子零件內藏封裝基板之製造方法。 (解決問題之技術手段)

本發明之電子零件內藏封裝基板之特徵在於，其具備：第一絕緣層；第一配線層，其形成於第一絕緣層之一表面；電子零件，其搭載於第一絕緣層之另一表面之第一區域；薄膜電容器，其搭載於第一絕緣層之另一表面之第二區域；第二絕緣層，其以埋設電子零件及薄膜電容器之方式，使一表面覆蓋第一絕緣層之另一表面；及第二配線層，其形成於第二絕緣層之另一表面。

根據本發明，由於電子零件及薄膜電容器搭載於第一絕緣層之不同之表面，因此不需要增加絕緣層及配線層之層數。藉此，可減薄基板整體之厚度。

於本發明中，第一區域係由第二區域包圍，藉此，俯視時電子零件也可被薄膜電容器包圍。根據此構成，可有效地利用第一絕緣層之表面上之未搭載電子零件的剩餘區域。而且，由於電子零件係由薄膜電容器包圍，因此，薄膜電容器還對電子零件產生屏蔽之作用，因而電子零件不容易接收來自外部之雜訊。

本發明之電子零件內藏封裝基板，也可進一步具備通孔導體，其貫通第一及第二絕緣層而設置，且相互連接第一配線層與第二配線層；第一絕緣層之另一表面進一步具有不搭載電子零件亦不搭載薄膜電容器的第三區域，通孔導體係通過第三區域者。根據此構成，可不與薄膜電容器干涉地配置通孔導體。於此情況下，第三區域係被第二區域包圍，藉此，俯視時通孔導體也可被薄膜電容器包圍。根據此構成，可將通孔導體配置於任意之位置。

本發明之電子零件內藏封裝基板，也可進一步具備：感測器晶片搭載區域，其設於一外表面，且用以搭載感測器晶片；及貫通孔，其設於俯視時與感測器晶片搭載區域重疊之位置，且自一外表面跨及至另一外表面而貫通；第一絕緣層之另一表面進一步具有供貫通孔通過之第四區域。根據此構成，可使空氣自電子零件內藏封裝基板之另一外表面朝一外表面流通。

於本發明中，亦可為，薄膜電容器包含：第一電極層，其與第一絕緣層之另一表面接合；第二電極層，其與第二絕緣層之一表面接合；及電容絕緣膜，其被第一電極層與第二電極層夾持；第一及第二電極層係表面經粗面化。根據此構成，可提高薄膜電容器與第一及第二絕緣層之間的密接性。

於本發明中，薄膜電容器也可較電子零件薄。根據此構成，由於可減薄位於電子零件與第二配線層之間的第二絕緣層之厚度，因此可提高連接電子零件與第二配線層之通孔導體之加工精度。

於本發明中，薄膜電容器之側面也可不露出地被第二絕緣層覆蓋。根據此構成，可藉由第二絕緣層保護薄膜電容器。

此外，本發明之感測器模組之特徵在於，其具備：上述之電子零件內藏封裝基板；及感測器晶片，其搭載於感測器晶片搭載區域。

根據本發明，可提供一種薄型且高功能之感測器模組。

於本發明中，感測器晶片也可為檢測空氣之振動、壓力、溫度或組成之感測器。根據此構成，可經由貫通孔檢測空氣之振動、壓力、溫度或組成。

本發明之電子零件內藏封裝基板之製造方法之特徵在於，其具備以下之步驟：於在一表面形成有第一配線層之第一絕緣層之另一表面，搭載薄膜電容器及被上述薄膜電容器包圍之電子零件之步驟；以埋設電子零件及薄膜電容器之方式，以第二絕緣層覆蓋第一絕緣層之另一表面之步驟；及於第二絕緣層之表面形成第二配線層之步驟。

根據本發明，可提供薄型且高功能之電子零件內藏封裝基板。 (對照先前技術之功效)

如上述，根據本發明，可於電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組中，減薄整體之厚度，其中，該電子零件內藏封裝基板及具備其之感測器模組係於基板之內部埋設有電子零件及薄膜電容器。此外，根據本發明，可提供一種如此之電子零件內藏封裝基板之製造方法。

以下，一面參照附圖，一面對本發明之較佳實施形態詳細地進行說明。再者，除非特別說明，上下左右等位置關係係根據圖式所示之位置關係。此外，圖式之尺寸比例不限於圖示之比例。並且，以下之實施形態係用以說明本發明之例示而已，並非旨在將本發明僅限於該實施形態。此外，本發明只要不超出其主旨，則可進行各種之變形。

圖1為用以說明本發明之一實施形態之電子零件內藏封裝基板100之構造之概略剖視圖。再者，於本說明書中，「電子零件內藏封裝基板」不僅指內藏或搭載有電子零件之單位基板即個別基板(單片、單品)，而且也可為具有複數個該個別基板之集合基板(工件板、工件片)。

如圖1所示，本實施形態之電子零件內藏封裝基板100具有：4層之絕緣層111〜114；及配線層L4、L3、L2、L1，其位於絕緣層111〜114之各表面。雖無特別限制，但位於最下層之絕緣層111及位於最上層之絕緣層114也可為使環氧玻璃等樹脂材料浸漬於玻璃纖維等之芯材之芯層。與此相對，絕緣層112、113也可由不含玻璃布等之芯材之樹脂材料構成。尤其較佳為，絕緣層111、114之熱膨脹係數小於絕緣層112、113之熱膨脹係數。

位於最上層之絕緣層114及形成於其表面之配線層L1之一部分係由阻焊劑121覆蓋。另一方面，位於最下層之絕緣層111及形成於其表面之配線層L4之一部分係由阻焊劑122覆蓋。阻焊劑121係構成電子零件內藏封裝基板100之一外表面101，阻焊劑122係構成電子零件內藏封裝基板100之另一外表面102。

於配線層L1〜L4上分別形成有配線圖案131〜134。於配線圖案134之未被阻焊劑122覆蓋之部分形成有外部端子130。外部端子130係朝向後述之主機板之連接端子。此外，配線圖案131中之未被阻焊劑121覆蓋之部分係作為接合焊墊使用。配線圖案131〜134經由貫通絕緣層111〜114之通孔導體141〜143而相互連接。

於本實施形態中，於電子零件內藏封裝基板100之一外表面101上界定有感測器晶片搭載區域A及B。此外，於俯視時與感測器晶片搭載區域A重疊之位置上設置有貫通孔V1，該貫通孔V1係自一個外表面101跨及至另一外表面102而貫通電子零件內藏封裝基板100。

本實施形態之電子零件內藏封裝基板100係於絕緣層112與絕緣層113之間埋設有控制器晶片150及薄膜電容器160。雖然圖1僅顯示一個控制器晶片150，但也可埋設複數個控制器晶片150。控制器晶片150係連接於感測器晶片之電子零件，該感測器晶片搭載於感測器晶片搭載區域A、B。當然，控制器晶片150係避開貫通孔V1而配置。然而，控制器晶片150與感測器晶片搭載區域A、B也可具有俯視時局部重疊之部分。於本發明中，控制器晶片150等電子零件之種類並無特別限制，例如，可為如MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統)、CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)、DSP(Digital Signal Processor，數位信號處理器)、GPU(Graphics Processing Unit，圖形處理單元)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit，特定應用積體電路)等之工作頻率非常高之數位IC(Integrated Circuit，積體電路)，也可為F-Rom(Flash　Read Only Memory，快閃唯讀記憶體)或SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory，同步動態隨機存取記憶體)等之記憶體系IC，或者也可為放大器、天線開關、高頻振盪電路等之類比IC等主動元件。

薄膜電容器160係埋設在與控制器晶片150相同層之不同之平面位置。因此，控制器晶片150與薄膜電容器160不具重疊部分。此外，於本實施形態中，薄膜電容器160之厚度T2較控制器晶片150之厚度T1更薄。藉此，可減薄位於控制器晶片150與配線層L2之間的絕緣層113之厚度，因此可提高通孔導體144之加工精度。

圖2為薄膜電容器160之局部剖視圖。

如圖2所示，薄膜電容器160包含由Cu等構成之電極層161、162、及被電極層161、162夾持之電容絕緣膜163。藉此，構成將電極層161作為一電極，且將電極層162作為另一個電極之電容器。並且，薄膜電容器160係以電極層161與絕緣層112之表面(上面)接合，且電極層162與絕緣層113之表面(下面)接合之方式被埋設於絕緣層112與絕緣層113之間。其中，電極層161、162之表面也可被加以粗面化。只要電極層161、162之表面被加以粗面化，則電極層161、162與絕緣層112、113之密接性增高，並且電極層161、162與通孔導體145、146之密接性也增高。如圖1所示，通孔導體145係貫通絕緣層111、112而設置，且相互連接位於配線層L4之配線圖案134與薄膜電容器160之電極層161。此外，通孔導體146係貫通絕緣層113而設置，且相互連接位於配線層L2之配線圖案132與薄膜電容器160之電極層162。

圖3為顯示薄膜電容器160之外觀的概略立體圖。

如圖3所示，薄膜電容器160之平面形狀並非單純之矩形，而是設置有複數個開口部150a、142a、V1a。開口部150a對應於配置控制器晶片150之區域，開口部142a對應於供通孔導體142通過之區域，且開口部V1a對應於供貫通孔V1通過之區域。複數個開口部150a、142a、V1a可為分別獨立之開口部，也可將一部分開口部一體化。此外，對於位在薄膜電容器160之邊緣附近之開口部142a，也可使其內周壁與薄膜電容器160之外周壁連接。

圖4為用以對界定於絕緣層112之表面112a之各區域進行說明之示意圖。其中，絕緣層112之表面112a係指，於將絕緣層112之表面中之設置有配線層L4之表面作為一表面之情況下，位於其相反側之另一表面。

如圖4所示，於絕緣層112之表面112a界定有搭載控制器晶片150之第一區域C1、搭載薄膜電容器160之第二區域C2、供通孔導體142通過之第三區域C3、及供貫通孔V1通過之第四區域C4。區域C1及C4被區域C2包圍。雖然區域C3之絕大部分也被區域C2包圍，但位於絕緣層112之表面112a之邊緣附近之區域C3，也存在未被區域C2包圍者。並且，圖3所示之薄膜電容器160係以與區域C2正確地重疊之方式被搭載於絕緣層112之表面112a。此外，控制器晶片150係以與區域C1正確地重疊之方式被搭載於絕緣層112之表面112a。藉此，控制器晶片150與薄膜電容器160配置於絕緣層112之表面112a之互不相同之平面位置上。

如此，於本實施形態中，薄膜電容器160之平面形狀不是單純之矩形，而是具有於配置有控制器晶片150、通孔導體142及貫通孔V1之位置上設置開口部150a、142a、V1a之平面形狀，因此可有效地利用不存在控制器晶片150、通孔導體142及貫通孔V1之區域(C2)，可獲得更大之電容量。對於薄膜電容器160之外形尺寸，雖然可與絕緣層111〜114之外形尺寸相同，但於本實施形態中，將薄膜電容器160之外形尺寸設為略小於絕緣層111〜114之外形尺寸，藉此，可構成以絕緣層113覆蓋薄膜電容器160之整個側面之構造。藉此，由於薄膜電容器160之側面不會自基板露出，因而可提高產品之可靠性。

圖5〜圖8分別為顯示配線層L1〜L4之圖案形狀之一例的俯視圖。此外，圖9及圖10分別為顯示薄膜電容器160之電極層162、161之圖案形狀的一例之俯視圖。

如圖5〜圖8所示，於配線層L1，在感測器晶片搭載區域A、B附近形成有複數個配線圖案131。配線圖案131之一端係經由通孔導體141而連接於設在配線層L2之配線圖案132。此外，配線層L1之大部分係構成接地圖案131G。接地圖案131G係經由通孔導體141G而連接於配線層L2之接地圖案132G。

設於配線層L2之配線圖案132係經由通孔導體144而連接於控制器晶片150、或者經由通孔導體142而連接於設在配線層L3之配線圖案133。配線層L2之大部分也構成接地圖案132G。接地圖案132G係經由通孔導體142G而連接於配線層L3之接地圖案133G。如圖9及圖10所示，於俯視時與通孔導體142、142G重疊之位置上，在薄膜電容器160設置有開口部142a，藉此，可防止通孔導體142、142G與薄膜電容器160之干涉。此外，於配線層L2設置有供給電源電位之電源圖案132V。電源圖案132V的一端係經由通孔導體144而連接於控制器晶片150，另一端係經由通孔導體146而連接於薄膜電容器160之電極層162。藉此，可對薄膜電容器160之電極層162賦予電源電位。

設於配線層L3之配線圖案133係經由通孔導體143而連接於設在配線層L4之配線圖案134。配線層L3之大部分也構成接地圖案133G。接地圖案133G係經由通孔導體143G而連接於配線層L4之接地圖案134G。如圖7所示，於俯視時與通孔導體145重疊之位置，在接地圖案133G設有開口部145a，藉此，可防止通孔導體145與接地圖案133G之干涉。並且，設於配線層L4之接地圖案134G係經由通孔導體145而連接於薄膜電容器160之電極層161。藉此，可對薄膜電容器160之電極層161賦予接地電位。

如此，由於本實施形態之電子零件內藏封裝基板100係將控制器晶片150及薄膜電容器160埋設於相同層之不同平面位置，因此不需要增加絕緣層及配線層之層數。藉此，可減薄基板整體之厚度。而且，由於俯視時控制器晶片150係由薄膜電容器160包圍，因此可有效地利用絕緣層112之表面112a中之未搭載控制器晶片150之剩餘區域。而且，由於薄膜電容器160還對控制器晶片150產生屏蔽作用，因此控制器晶片150不容易接收來自外部之雜訊。並且，由於薄膜電容器160之大部分係由Cu等之金屬材料構成，因此還作為控制器晶片150產生之熱之散熱路徑而發揮作用。

圖11為用以說明使用電子零件內藏封裝基板100之感測器模組100A之構造的概略剖視圖。

圖11所示之感測器模組100A具有如下構成：於電子零件內藏封裝基板100之感測器晶片搭載區域A搭載有感測器晶片170，且於感測器晶片搭載區域B搭載有感測器晶片180。

感測器晶片170例如為檢測空氣之振動、壓力、溫度或組成之感測器，即麥克風、壓力感測器、溫度感測器、氣體感測器等，且在與形成於電子零件內藏封裝基板100上之貫通孔V1對向之位置設置有檢測部171。於感測器晶片170例如為麥克風之情況，檢測部171包含具有薄膜構造之振動板。雖然感測器晶片170內之檢測部171之位置並無特別限制，但檢測部171之至少一部分係露出於貫通孔V1。藉此，感測器晶片170之檢測部171係經由貫通孔V1而曝露於環境氣體中，因而可檢測空氣之振動、壓力、溫度或組成。

感測器晶片170、180之輸出信號係經由接合線191而連接於配線圖案131。此外，感測器晶片170與感測器晶片180也可經由接合線192而直接連接。然而，電子零件內藏封裝基板100與感測器晶片170、180之連接方法不限於此，也可使用倒裝晶片連接。於圖11所示之一例中，感測器晶片170、180藉由晶粒貼覆膜193而接著於電子零件內藏封裝基板100之外表面101。此外，俯視時，感測器晶片170、180與控制器晶片150具有重疊部分。

並且，電子零件內藏封裝基板100之外表面101係由蓋194覆蓋。蓋194係發揮保護感測器晶片170、180並且提高感測器晶片170、180之檢測特性之作用。尤其是，於感測器晶片170、180之至少一者為麥克風之情況下，藉由蓋194形成之空間195的體積對音響特性產生極大的影響。

如圖11所示，本實施形態之感測器模組100A可搭載於主機板200上。如圖11所示，於主機板200形成有貫通孔V2，且以俯視時貫通孔V1與貫通孔V2重疊之方式，於主機板200上搭載感測器模組100A。藉此，感測器晶片170之檢測部171係經由貫通孔V1、V2而曝露於環境氣體中。其結果，如箭頭S所示，空氣之振動、壓力、溫度或組成被傳遞至感測器晶片170，因而可檢測該等物理量。此外，於本實施形態中，由於在感測器模組100A之背面未搭載電子零件等，因此可將感測器模組100A與主機板200之間隙設計成非常小。藉此，可提高感測器之敏感度。再者，也可以底部填充物等來填埋感測器模組100A與主機板200之間隙。

其次，對本實施形態之電子零件內藏封裝基板100之製造方法進行說明。

圖12〜圖20為用以說明本實施形態之電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。

首先，如圖12所示，準備基材(工件板)即兩面CCL(Copper Clad Laminate，銅箔基板)，該基材係藉由在包含玻璃纖維等芯材之絕緣層111之兩面貼合Cu箔等金屬膜133a、134a而形成。為了使後續步驟中之貫通孔V1之形成容易，並且確保用於使操作容易之適度的剛性，絕緣層111包含之芯材之厚度較佳為40μm以下。再者，對金屬膜133a、134a之材質並無特別限制，除了上述Cu外，例如，可列舉Au、Ag、Ni、Pd、Sn、Cr、Al、W、Fe、Ti、SUS材料等之金屬導電材料，其中，根據導電率及成本之觀點，較佳為使用Cu。關於後述之其他金屬膜也同樣。

此外，使用於絕緣層111之樹脂材料，只要為能成形為片狀或膜狀者即可無特別限制地使用，除了玻璃環氧樹脂以外，例如，還可使用乙烯基芐基樹脂、聚乙烯基芐基醚化合物樹脂、雙馬來醯亞胺三𠯤樹脂(BT樹脂)、聚苯基醚(聚伸苯基醚氧化物)樹脂(PPE、PPO)、氰酸酯樹脂、環氧+活性酯硬化樹脂、聚苯醚樹脂(聚伸苯基氧化物樹脂)、硬化性聚烯烴樹脂、苯並環丁烯樹脂、聚醯亞胺樹脂、芳香族聚酯樹脂、芳香族液晶聚酯樹脂、聚苯硫醚樹脂、聚醚醯亞胺樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、氟樹脂、環氧樹脂、苯酚樹脂、或苯并㗁𠯤樹脂之單體，或者於該等樹脂中添加有二氧化矽、滑石、碳酸鈣、碳酸鎂、氫氧化鋁、氫氧化鎂、硼酸鋁晶鬚、鈦酸鉀纖維、氧化鋁、玻璃碎片、玻璃纖維、氮化鉭、氮化鋁等之材料，及進而於該等樹脂中添加有包含鎂、矽、鈦、鋅、鈣、鍶、鋯、錫、釹、釤、鋁、鉍、鉛、鑭、鋰及鉭中之至少一種金屬之金屬氧化物粉末之材料，且可根據電特性、機械特性、吸水性、耐回焊性等之觀點而適宜選擇使用。此外，作為絕緣層111中含有之芯材，可列舉調配有玻璃纖維、聚芳醯胺纖維等樹脂纖維等之材料。

其次，如圖13所示，藉由使用例如光微影法等公知方法對金屬膜133a進行圖案加工以形成配線圖案133。然後，以埋設配線圖案133之方式，藉由真空壓著等而於絕緣層111之表面層積例如未硬化(B階段狀態)之樹脂片等，藉此形成絕緣層112。

接著，如圖14所示，於絕緣層112之表面112a載置控制器晶片150及薄膜電容器160。控制器晶片150例如為裸晶狀態之半導體IC，以面朝上之方式搭載，使得呈大致矩形板狀之主面151朝向上側。於控制器晶片150之主面151設置有未圖示之多個外部端子。控制器晶片150係藉由研磨背面而變得較通常之半導體IC薄。具體而言，控制器晶片150之厚度例如為200μm以下，更佳為50〜100μm左右。於此情況下，就成本而言，期望以晶圓之狀態對多個控制器晶片150一起進行加工，且加工順序可為研削背面，然後藉由切割而分離成個別之控制器晶片150。作為其他方法，也可於藉由研磨處理而減薄之前利用切割對個別控制器晶片150進行裁切分離或半切割等之情況下，於以熱硬化性樹脂等覆蓋控制器晶片150之主面151之狀態下研磨背面。因此，絕緣膜研削、電子零件背面研削、及切割之順序可多種多樣。並且，作為控制器晶片150之背面之研削方法，可列舉蝕刻、電漿處理、雷射處理、噴擊加工、研磨機之研磨、拋光研磨、藥物處理等之粗面化方法。根據其等方法，不僅可將控制器晶片150薄型化，而且還可提高對於絕緣層112之密接性。

此外，較佳為，薄膜電容器160之電極層161、162也如上述般被粗面化。而無關乎控制器晶片150與薄膜電容器160之搭載順序。如圖14所示，於薄膜電容器160預先設置有開口部142a、V1a。如上述，開口部142a係供通孔導體142通過之區域，開口部V1a係供貫通孔V1通過之區域。並且，較佳為，薄膜電容器160之厚度較控制器晶片150更薄。根據此構成，由於位於控制器晶片150與配線層L2之間的絕緣層113之厚度變薄，因此可形成更小直徑之導孔，從而可實現精細節距連接。

接著，如圖15所示，以覆蓋控制器晶片150及薄膜電容器160之方式形成絕緣層113及金屬膜132a。絕緣層113之形成較佳為例如，於塗佈未硬化或半硬化狀態之熱硬化性樹脂之後，於未硬化樹脂之情況下將其加熱而使之半硬化，並使用加壓手段而與金屬膜132a一起硬化成形。絕緣層113較佳為不含阻礙控制器晶片150及薄膜電容器160之埋設的纖維之樹脂片。藉此，可提高絕緣層113與金屬膜132a、絕緣層112、控制器晶片150及薄膜電容器160之密接性。

接著，如圖16所示，於使用例如光微影法等公知方法藉由蝕刻而去除金屬膜132a的一部分之後，對去除了金屬膜132a之既定部位進行公知之雷射加工或噴擊加工，藉此於絕緣層112、113形成通孔。然後，實施無電解電鍍及電解電鍍，並藉由公知方法對金屬膜132a進行圖案加工，藉此形成配線圖案132、通孔導體142、144、146。通孔導體142係藉由貫通絕緣層113、112而連接配線圖案132與配線圖案133者，通孔導體144係藉由貫通絕緣層113而連接配線圖案132與控制器晶片150者，且通孔導體146係藉由貫通絕緣層113而連接配線圖案132與薄膜電容器160者。

接著，如圖17所示，以埋設配線圖案132之方式對層積有絕緣層114及金屬膜131a之片材進行真空熱壓。用於絕緣層114之材料及厚度也可與絕緣層111相同。

接著，如圖18所示，於使用例如光微影法等公知方法藉由蝕刻而去除金屬膜131a、134a的一部分之後，對去除了金屬膜131a、134a之既定部位進行公知之雷射加工及噴擊加工，藉此於絕緣層111、114形成通孔。然後，實施無電解電鍍及電解電鍍，藉此以形成通孔導體141、143、145。通孔導體141係藉由貫通絕緣層114而連接金屬膜131a與配線圖案132者，通孔導體143係藉由貫通絕緣層111而連接金屬膜134a與配線圖案133者，通孔導體145係藉由貫通絕緣層111、112而連接金屬膜131a與薄膜電容器160者。然後，於金屬膜131a、134a之表面形成感光性之乾膜196、197。

接著，如圖19所示，於藉由光微影法去除應形成貫通孔V1之平面位置之乾膜196、197之後，藉由去除自乾膜196、197露出之金屬膜131a、134a，而形成開口部198。

接著，如圖20所示，藉由對與開口部198對應之區域進行鑽孔加工、使用二氧化碳氣體雷射或UV(Ultraviolet，紫外線)雷射之雷射加工、或是噴砂或濕噴等之噴擊加工，而形成貫通孔V1。

然後，如圖1所示，於絕緣層114、111之表面分別形成阻焊劑121、122，且對自阻焊劑121、122露出之配線圖案134、131進行零件安裝用之表面處理。表面處理可列舉例如Cu-OSP(Cu-Organic Solderobility Preservatives，銅有機可焊性防腐蝕)處理、Ni/Au電鍍處理、ENEPIG(Electroless Nickel Electroless Palladium Immersion Gold，化學鍍鎳鈀浸金)處理、焊料整平處理等，只要是以配線圖案之氧化膜防止及後續步驟之零件安裝之品質為目的者，則也可為不限於此之表面處理方法。

藉此，完成本實施形態之電子零件內藏封裝基板100。

如上述，於本實施形態之電子零件內藏封裝基板100之製造方法中，由於在絕緣層112之表面112a搭載控制器晶片150及薄膜電容器160之兩者，因此與將其等搭載於不同層之情況比較，不需要增加絕緣層及配線層之層數。而且，由於在通孔導體142及貫通孔V1通過之區域，預先於薄膜電容器160設置有開口部142a、V1a，因此，通孔導體142及貫通孔V1不會與薄膜電容器160干涉。

以上，對本發明之較佳實施形態進行了說明，但本發明不限於上述實施形態，於不超出本發明之主旨之範圍內可進行各種之變更，其等變更當然也包含於本發明之範圍內。

100:電子零件內藏封裝基板 100A:感測器模組 101、102:電子零件內藏封裝基板之外表面 111〜114:絕緣層 112a:絕緣層之表面 121、122:阻焊劑 130:外部端子 131〜134:配線圖案 131a〜134a:金屬膜 131G〜134G:接地圖案 132V:電源圖案 141〜146、141G〜143G:通孔導體 142a、145a、150a、V1a:開口部 150:控制器晶片 151:控制器晶片之主面 160:薄膜電容器 161、162:電極層 163:電容絕緣膜 170、180:感測器晶片 171:檢測部 191、192:接合線 193:晶粒貼覆膜 194:蓋 195:空間 196、197:乾膜 198:開口部 200:主機板 A、B:感測器晶片搭載區域 C1:第一區域 C2:第二區域 C3:第三區域 C4:第四區域 L1〜L4:配線層 T1、T2:厚度 V1、V2:貫通孔

圖1為用以說明本發明之一實施形態之電子零件內藏封裝基板100之構造之概略剖視圖。 圖2為薄膜電容器160之局部剖視圖。 圖3為顯示薄膜電容器160之外觀之概略立體圖。 圖4為用以對界定於絕緣層112之表面112a之各區域進行說明之示意圖。 圖5為顯示配線層L1之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖6為顯示配線層L2之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖7為顯示配線層L3之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖8為顯示配線層L4之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖9為顯示薄膜電容器160之電極層162之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖10為顯示薄膜電容器160之電極層161之圖案形狀之一例之俯視圖。 圖11為用以說明使用電子零件內藏封裝基板100之感測器模組100A之構造之概略剖視圖。 圖12為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖13為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖14為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖15為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖16為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖17為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖18為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖19為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。 圖20為用以說明電子零件內藏封裝基板100之製造方法之步驟圖。

100:電子零件內藏封裝基板

101、102:電子零件內藏封裝基板之外表面

111~114:絕緣層

121、122:阻焊劑

130:外部端子

131~134:配線圖案

141~146:通孔導體

150:控制器晶片

160:薄膜電容器

A、B:感測器晶片搭載區域

L1~L4:配線層

T1、T2:厚度

V1:貫通孔

Claims (10)

1. 一種電子零件內藏封裝基板，其特徵在於，其具備：第一絕緣層；第一配線層，其形成於上述第一絕緣層之一表面；電子零件，其搭載於上述第一絕緣層之另一表面之第一區域；薄膜電容器，其搭載於上述第一絕緣層之上述另一表面之第二區域；第二絕緣層，其以埋設上述電子零件及薄膜電容器之方式，使一表面覆蓋上述第一絕緣層之上述另一表面；及第二配線層，其形成於上述第二絕緣層之另一表面；而上述第一區域係由上述第二區域包圍，藉此，俯視時上述電子零件係被上述薄膜電容器包圍。
2. 如請求項1之電子零件內藏封裝基板，其中，進一步具備通孔導體，其貫通上述第一及第二絕緣層而設置，且相互連接上述第一配線層與上述第二配線層；上述第一絕緣層之上述另一表面進一步具有不搭載上述電子零件亦不搭載上述薄膜電容器的第三區域，上述通孔導體係通過上述第三區域。
3. 如請求項2之電子零件內藏封裝基板，其中，上述第三區域係被上述第二區域包圍，藉此，俯視時上述通孔導體係被上述薄膜電容器包圍。
4. 如請求項3之電子零件內藏封裝基板，其中，進一步具備：感測器晶片搭載區域，其設於一外表面，且用以搭載感測器晶片；及 貫通孔，其設於俯視時與上述感測器晶片搭載區域重疊之位置，且自上述一外表面跨及至另一外表面而貫通；上述第一絕緣層之上述另一表面進一步具有供上述貫通孔通過之第四區域。
5. 如請求項4之電子零件內藏封裝基板，其中，上述薄膜電容器包含：第一電極層，其與上述第一絕緣層之上述另一表面接合；第二電極層，其與上述第二絕緣層之上述一表面接合；及電容絕緣膜，其係由上述第一電極層與上述第二電極層夾持；上述第一及第二電極層係表面經粗面化。
6. 如請求項4之電子零件內藏封裝基板，其中，上述薄膜電容器較上述電子零件薄。
7. 如請求項4之電子零件內藏封裝基板，其中，上述薄膜電容器之側面係不露出地由上述第二絕緣層覆蓋。
8. 一種感測器模組，其特徵在於，其具備：請求項4至7中任一項之電子零件內藏封裝基板；及感測器晶片，其搭載於上述感測器晶片搭載區域。
9. 如請求項8之感測器模組，其中，上述感測器晶片係檢測空氣之振動、壓力、溫度或組成成分之感測器。
10. 一種電子零件內藏封裝基板之製造方法，其特徵在於，其具備以下之步驟：於在一表面形成有第一配線層之第一絕緣層之另一表面，搭載薄膜電 容器及被上述薄膜電容器包圍之電子零件之步驟；以埋設上述電子零件及薄膜電容器之方式，以第二絕緣層覆蓋上述第一絕緣層之上述另一表面之步驟；及於上述第二絕緣層之表面形成第二配線層之步驟。

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