TWI765172B - 程式化一記憶體單元之技術 - Google Patents

程式化一記憶體單元之技術 Download PDF

Info

Publication number
TWI765172B
TWI765172B TW108129740A TW108129740A TWI765172B TW I765172 B TWI765172 B TW I765172B TW 108129740 A TW108129740 A TW 108129740A TW 108129740 A TW108129740 A TW 108129740A TW I765172 B TWI765172 B TW I765172B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
memory cell
pulse
applying
voltage
logic state
Prior art date
Application number
TW108129740A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202022871A (zh
Inventor
何南 Ａ 卡斯楚
伊諾珊卓 托托里
奧格斯提諾 波羅瓦諾
法比歐 佩里茲
Original Assignee
美商美光科技公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商美光科技公司 filed Critical 美商美光科技公司
Publication of TW202022871A publication Critical patent/TW202022871A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI765172B publication Critical patent/TWI765172B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency
    • G11C11/5678—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency using amorphous/crystalline phase transition storage elements
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0007—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising metal oxide memory material, e.g. perovskites
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/003—Cell access
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/004—Reading or sensing circuits or methods
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0064—Verifying circuits or methods
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06—Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063—Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801—Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/881—Switching materials
    • H10N70/882—Compounds of sulfur, selenium or tellurium, e.g. chalcogenides
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0073—Write using bi-directional cell biasing
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/009—Write using potential difference applied between cell electrodes
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
    • G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
    • G11C13/0021—Auxiliary circuits
    • G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
    • G11C2013/0092—Write characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the write pulse
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/10—Resistive cells; Technology aspects
    • G11C2213/15—Current-voltage curve
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/30—Resistive cell, memory material aspects
    • G11C2213/33—Material including silicon
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70—Resistive array aspects
    • G11C2213/71—Three dimensional array
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70—Resistive array aspects
    • G11C2213/73—Array where access device function, e.g. diode function, being merged with memorizing function of memory element
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
    • G11C2213/70—Resistive array aspects
    • G11C2213/77—Array wherein the memory element being directly connected to the bit lines and word lines without any access device being used

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

本發明提供用於程式化儲存一第一邏輯狀態之一自選擇記憶體單元之技術。為程式化該記憶體單元，可將具有一第一極性之一脈衝施加至該單元，此可導致該記憶體單元具有一降低之臨限電壓。在其中可降低該記憶體單元之該臨限電壓之一持續時間期間(例如，在一選擇時間期間)，可將具有一第二極性(例如，一不同極性)之一第二脈衝施加至該記憶體單元。將該第二脈衝施加至該記憶體單元可導致該記憶體單元儲存不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態。

Description

程式化一記憶體單元之技術
本發明技術領域係關於用於程式化一記憶體單元之技術。
下文大體上係關於操作一記憶體陣列且更明確言之係關於程式化一自選擇記憶體裝置。
記憶體裝置廣泛用於儲存各種電子裝置(諸如電腦、相機、數位顯示器及類似者)中之資訊。資訊係藉由程式化一記憶體裝置之不同狀態而予以儲存。例如，二進制裝置具有通常藉由一邏輯「1」或一邏輯「0」表示之兩個狀態。在其他系統中，可儲存兩個以上狀態。為存取該經儲存資訊，該電子裝置之一組件可讀取或感測該記憶體裝置中之經儲存狀態。為儲存資訊，該電子裝置之一組件可在該記憶體裝置中寫入或程式化狀態。
存在各種類型之記憶體裝置，包含磁性硬碟、隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)、動態RAM (DRAM)、同步動態RAM (SDRAM)、鐵電RAM (FeRAM)、磁性RAM (MRAM)、電阻性RAM (RRAM)、快閃記憶體、相變記憶體(PCM)及其他。記憶體裝置可為揮發性或非揮發性的。非揮發性記憶體單元即使在不存在一外部電源之情況下亦可維持其等儲存之邏輯狀態達延長時間段。揮發性記憶體單元可隨時間丟失其等儲存之狀態，除非其等藉由一外部電源週期性再新。
改良記憶體裝置通常可包含增加記憶體單元密度、增加讀取/寫入速度、增加可靠性、增加資料保持、降低電力消耗或降低製造成本等等。可期望使用一降低之寫入電壓程式化一記憶體單元以減小該記憶體單元上之應力及降低記憶體陣列之總用電量。
本專利申請案主張由Castro等人於2018年8月22日申請之標題為「TECHNIQUES FOR PROGRAMMING A MEMORY CELL」、讓渡給其受讓人且其全部以引用的方式明確併入本文中之美國專利申請案第16/108,784號之優先權。
可藉由使用各種程式化脈衝程式化包含硫屬化物合金之一自選擇記憶體單元以儲存一或多個資料位元。因而，一單一自選擇記憶體單元可經組態以儲存一個以上數位資料位元。在一些情況中，可藉由在一字線與一數位線之間施加一特定偏壓而選擇一自選擇記憶體單元。儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態可基於施加至該自選擇記憶體單元之一程式化脈衝之一極性。例如，一自選擇記憶體可在施加具有一第一極性之一程式化脈衝之後儲存一邏輯「0」且該自選擇記憶體可在施加具有一第二、不同極性之一程式化脈衝之後儲存一邏輯「1」。此外，表示藉由一感測組件偵測之一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)之臨限電壓可基於在一讀取操作期間施加之讀取脈衝之極性而改變。例如，歸因於一經程式化自選擇記憶體單元中之離子之不對稱分佈，在施加不同極性之讀取脈衝時，臨限電壓可看似不同。
提供藉由偵測一驟回(snap-back)事件之發生而程式化一自選擇記憶體單元(例如，其可包含硫屬化物材料)之技術。為程式化(例如，寫入)儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)之一自選擇記憶體，可使用包含兩個脈衝之一程式化脈衝序列。該程式化脈衝序列之一第一脈衝可具有一第一極性且該程式化脈衝序列之第二脈衝可具有不同於該第一極性之一第二極性。取決於儲存於自選擇記憶體單元中之邏輯狀態，自選擇記憶體單元可由於施加至該單元之第一脈衝而經歷一驟回事件。一驟回事件可以記憶體單元之一電導率之增加(例如，突然增加)為特徵。在一持續時間之後，記憶體單元可返回至其原始電導率。在記憶體單元返回至其原始電導率之後，記憶體單元可經歷其臨限電壓之一暫時降低。
在偵測驟回事件之後，可施加第二脈衝以程式化記憶體單元之一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)。因為可暫時降低記憶體單元之臨限電壓，所以第二脈衝可包括一較小量值來程式化該第二邏輯狀態。換言之，當記憶體單元之一臨限電壓降低時，需要一較低電壓以將一第二邏輯狀態寫入至記憶體單元(例如，相對於未降低記憶體單元之一臨限電壓)。因此，藉由在一驟回事件期間(例如，在記憶體單元之臨限電壓降低之一持續時間期間)對一自選擇記憶體單元施加一第二電壓，可使用一降低之電壓將一邏輯狀態寫入至該記憶體單元，此可減小記憶體單元之應力且降低記憶體陣列之總電力消耗。在一些情況中，驟回事件之持續時間可小於1奈秒。若未偵測任何驟回事件，則自選擇記憶體單元可能已儲存試圖藉由寫入操作寫入至自選擇記憶體單元之值，且可能不會將第二脈衝施加至記憶體單元。
在一些實例中，可將一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。如上文所描述，該第一脈衝之施加可導致與該記憶體單元相關聯之一驟回事件。接著可偵測該驟回事件(例如，藉由一記憶體控制器)，且可基於或回應於經偵測之驟回事件而將一第二脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，該第二脈衝可具有不同於第一極性之一第二極性(例如，一相反極性)。基於第二脈衝之施加，一第二邏輯狀態(例如，一不同邏輯狀態)可儲存於記憶體單元中。
在另一實例中，可在一寫入操作期間將一第一脈衝施加至一記憶體單元。在一些實例中，該記憶體單元可儲存一第一邏輯狀態。可回應於施加第一脈衝至記憶體單元而(例如，藉由一記憶體控制器)偵測該第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)。在偵測第一邏輯狀態之後，可將一第二脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，該第二脈衝可具有不同於第一極性之一第二極性(例如，一相反極性)。基於第二脈衝之施加，一第二邏輯狀態(例如，一不同邏輯狀態)可儲存於記憶體單元中。
在一些實例中，可在一寫入操作期間降低一記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間。在一些實例中，可基於施加至該記憶體單元之一第一脈衝而降低該臨限電壓。例如，該第一脈衝可具有一第一極性且記憶體單元可儲存一第一邏輯值。在其中記憶體單元之臨限電壓降低之持續時間期間，可將一第二脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，該第二脈衝可具有不同於第一脈衝之一極性。基於第二脈衝之施加，一第二邏輯狀態(例如，一不同邏輯狀態)可儲存於記憶體單元中。
下文在記憶體陣列之背景內容中進一步描述上文介紹之本發明之特徵。在一些實例中接著描述用於操作與程式化一自選擇記憶體裝置之技術有關之記憶體陣列之特定實例。本發明之此等及其他特徵係藉由與程式化一自選擇記憶體裝置之技術有關之設備圖、系統圖及流程圖進一步繪示且參考其等進一步描述。
圖1繪示根據本發明之實例之一實例性記憶體裝置100。記憶體裝置100亦可被稱為一電子記憶體設備。圖1係記憶體裝置100之各種組件及特徵之一闡釋性表示。因而，應瞭解，記憶體裝置100之組件及特徵經展示以繪示功能相互關係，而非其等在記憶體裝置100內之實際實體位置。在圖1之闡釋性實例中，記憶體裝置100包含一三維(3D)記憶體陣列102。3D記憶體陣列102包含可程式化以儲存不同狀態之記憶體單元105。在一些實例中，各記憶體單元105可程式化以儲存表示為一邏輯0及一邏輯1之兩個狀態。在一些實例中，一記憶體單元105可經組態以儲存兩個以上邏輯狀態。在一些實例中，一記憶體單元105可包含一自選擇記憶體單元。儘管圖1中所包含之一些元件係用一數字指示符標記，其他對應元件並未標記，然其等係相同的或將理解為相似的，以試圖增大所描繪特徵之可見性及清晰度。
3D記憶體陣列102可包含形成於彼此頂部上之兩個或更多個二維(2D)記憶體陣列103。相較於2D陣列，此可增加可放置或產生在一單一晶粒或基板上之記憶體單元之數目，此繼而可降低生產成本或增大記憶體裝置之效能或兩者。記憶體陣列102可包含記憶體單元105之兩個層級且因此可被視為一3D記憶體陣列；然而，層級數可能並不限於兩個。各層級可經對準或定位使得記憶體單元105可跨各層級彼此對準(完全地、重疊，或近似地)，從而形成一記憶體單元堆疊145。在一些情況中，記憶體單元堆疊145可包含鋪置於彼此頂部上同時兩者共用一存取線之多個自選擇記憶體單元，如下文所闡釋。在一些情況中，自選擇記憶體單元可為經組態以使用多層級儲存技術儲存一個以上資料位元之多層級自選擇記憶體單元。
在一些實例中，記憶體單元105之各列連接至一存取線110，且記憶體單元105之各行連接至一位元線115。存取線110及位元線115可實質上彼此垂直且可產生一記憶體單元陣列。如圖1中所展示，一記憶體單元堆疊145中之兩個記憶體單元105可共用一共同導電線(諸如一位元線115)。即，一位元線115可與上記憶體單元105之底部電極及下記憶體單元105之頂部電極電子通信。其他組態可行，例如，一第三層可與一下層共用一存取線110。一般而言，一個記憶體單元105可定位於兩條導電線(諸如一存取線110及一位元線115)之相交點處。此相交點可被稱為一記憶體單元之位址。一目標記憶體單元105可為定位於一通電存取線110與位元線115之相交點處之一記憶體單元105；即，存取線110及位元線115可經通電以便讀取或寫入在其等相交點處之一記憶體單元105。與相同存取線110或位元線115電子通信(例如，連接至相同存取線110或位元線115)之其他記憶體單元105可被稱為未標定記憶體單元105。
如本文中所論述，電極可耦合至一記憶體單元105及一存取線110或一位元線115。術語電極可係指一電導體，且在一些情況中，可用作至一記憶體單元105之一電接觸件。一電極可包含在記憶體裝置100之元件或組件之間提供一導電路徑之一跡線、導線、導電線、導電層或類似者。在一些實例中，一記憶體單元105可包含定位於一第一電極與一第二電極之間的硫屬化物材料。該第一電極之一側可耦合至一存取線110且該第一電極之另一側耦合至該硫屬化物材料。另外，該第二電極之一側可耦合至一位元線115且該第二電極之另一側耦合至硫屬化物材料。第一電極與第二電極可為相同材料(例如，碳)或不同材料。
可藉由啟動或選擇存取線110及位元線115而對記憶體單元105執行操作(諸如讀取及寫入)。在一些實例中，存取線110亦可被稱為字線110，且位元線115亦可被稱為數位線115。在不失理解或操作之情況下，對存取線、字線及位元線或其等類似物之引用可互換。啟動或選擇一字線110或一位元線115可包含施加一電壓至各自線。字線110及位元線115可由導電材料製成，諸如金屬(例如，銅(Cu)、鋁(Al)、金(Au)、鎢(W)、鈦(Ti))、金屬合金、碳、導電摻雜半導體，或其他導電材料、合金、化合物或類似者。
存取記憶體單元105可透過一列解碼器120及一行解碼器130加以控制。例如，一列解碼器120可自記憶體控制器140接收一列位址且基於該經接收之列位址啟動適當字線110。類似地，一行解碼器130可自記憶體控制器140接收一行位址且啟動適當位元線115。例如，記憶體陣列102可包含標記為WL_1至WL_M之多個字線110及標記為DL_1至DL_N之多個數位線115，其中M及N取決於陣列大小。因此，藉由啟動一字線110及一位元線115 (例如，WL_2及DL_3)，可存取在其等相交點處之記憶體單元105。
在存取之後，可藉由感測組件125讀取或感測一記憶體單元105以判定記憶體單元105之經儲存狀態。例如，可施加一電壓至一記憶體單元105 (使用對應字線110及位元線115)且一所得電流之存在可取決於記憶體單元105之所施加電壓及臨限電壓。在一些情況中，可施加一個以上電壓。此外，若一所施加電壓並未導致電流流動，則可施加其他電壓直至藉由感測組件125偵測一電流。藉由評估導致電流流動之電壓，可判定記憶體單元105之經儲存邏輯狀態。在一些情況中，電壓可在量值上斜升直至偵測一電流流動。在其他情況中，可循序地施加預定電壓直至偵測一電流。同樣地，可將一電流施加至一記憶體單元105且產生該電流之電壓之量值可取決於記憶體單元105之電阻或臨限電壓。
在一些實例中，可藉由對可包含一記憶體儲存元件之一記憶體單元提供一電脈衝而程式化該單元。該脈衝可經由一第一存取線(例如，字線110)或一第二存取線(例如，位元線115)或其等之一組合提供。在一些情況中，在提供脈衝之後，離子可取決於記憶體單元105之極性而遷移於該記憶體儲存元件內。因此，相對於記憶體儲存元件之第一側或第二側之離子之一濃度可至少部分基於第一存取線與第二存取線之間的一電壓之一極性。在一些情況中，不對稱形狀之記憶體儲存元件可引起離子更集聚於一元件之具有更多面積之部分處。記憶體儲存元件之特定部分可具有一較高電阻率且因此可產生高於記憶體儲存元件之其他部分之一臨限電壓。離子遷移之此描述表示用於達成本文中所描述之結果之自選擇記憶體單元之一機制之一實例。一機制之此實例不應被視為限制性。本發明亦包含用於達成本文中所描述之結果之自選擇記憶體單元之機制之其他實例。
感測組件125可包含各種電晶體或放大器以便偵測及放大信號之一差異(此可被稱為鎖存)。接著可透過行解碼器130輸出記憶體單元105之經偵測邏輯狀態作為輸出135。在一些情況中，感測組件125可為一行解碼器130或列解碼器120之部分。或者，感測組件125可連接至行解碼器130或列解碼器120或與行解碼器130或列解碼器120電子通信。一般技術者將瞭解，感測組件可在不失去其功能目的之情況下與行解碼器或列解碼器相關聯。
可藉由類似地啟動相關字線110及位元線115而設定或寫入一記憶體單元105且可將至少一邏輯值儲存於記憶體單元105中。行解碼器130或列解碼器120可接受待寫入至記憶體單元105之資料(例如，輸入/輸出135)。在包含硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元之情況中，一記憶體單元105可藉由施加包含具有一第一極性之一第一脈衝及具有一第二極性之一第二脈衝之一程式化序列而經寫入以儲存資料。該程式化脈衝可具有各種形狀。此程序係在下文參考圖3及圖4更詳細論述。
記憶體控制器140可透過各種組件(例如，列解碼器120、行解碼器130及感測組件125)控制記憶體單元105之操作(例如，讀取、寫入、重寫、再新、放電)。在一些情況中，列解碼器120、行解碼器130及感測組件125之一或多者可與記憶體控制器140共置。記憶體控制器140可產生列及行位址信號以便啟動所要字線110及位元線115。記憶體控制器140亦可產生及控制在記憶體裝置100之操作期間所使用之各種電壓或電流。
記憶體控制器140可經組態以執行可程式化一自選擇記憶體單元之一寫入操作。例如，記憶體控制器140可經組態以在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至記憶體單元105。在一些實例中，施加具有該第一極性之該第一脈衝可包含將一第一電壓施加至第一存取線(例如，至字線110)及將一第二電壓施加至第二存取線(例如，位元線115)。施加具有第二極性之第二脈衝可包含將一第三電壓施加至第一存取線(例如，至位元線115)且將第四電壓施加至第二存取線(例如，位元線115)。記憶體控制器140可經組態以回應於施加第一脈衝而偵測記憶體單元105處之一驟回事件。例如，該驟回事件可導致記憶體單元105之一降低之臨限電壓。
在一些實例中，記憶體控制器140可回應於偵測驟回事件而將具有不同於第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至記憶體單元105，且隨後可至少部分基於施加該第二脈衝至記憶體單元而將不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元105中。換言之，可在施加第一脈衝之後(例如，在一驟回事件期間)降低記憶體單元105之一臨限電壓且在該臨限電壓降低時施加第二脈衝可將一第二邏輯狀態儲存(例如，寫入)至記憶體單元105。
在一些實例中，記憶體控制器140可經組態以在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至記憶體單元105。在一些實例中，記憶體控制器140可回應於施加該第一脈衝至記憶體單元而偵測藉由記憶體單元儲存之第一邏輯狀態。如上文所描述，可在一驟回事件期間偵測第一邏輯狀態。在一些實例中，記憶體控制器140接著可藉由在寫入操作期間至少部分基於偵測第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元105中。該第二邏輯狀態可不同於第一邏輯狀態。
圖2繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之一3D記憶體陣列200的一實例。記憶體陣列200可為參考圖1所描述之記憶體陣列102之部分之一實例。記憶體陣列200可包含定位於一基板204上方之記憶體單元之一第一陣列或層疊205及位於第一陣列或層疊205之頂部上之記憶體單元之一第二陣列或層疊210。記憶體陣列200亦可包含字線110-a及字線110-b以及位元線115-a，其等可為如參考圖1所描述之字線110及位元線115之實例。第一層疊205及第二層疊210之記憶體單元各可具有一或多個自選擇記憶體單元(例如，分別為自選擇記憶體單元220-a及自選擇記憶體單元220-b)。儘管圖2中所包含之一些元件係用一數字指示符標記，其他對應元件並未標記，然其等係相同的或將理解為相似的，以試圖增大所描繪特徵之可見性及清晰度。
第一層疊205之自選擇記憶體單元可包含第一電極215-a、硫屬化物材料220-a及第二電極225-a。另外，第二層疊210之自選擇記憶體單元可包含一第一電極215-b、硫屬化物材料220-b及第二電極225-b。在一些實例中，第一層疊205及第二層疊210之自選擇記憶體單元可具有共同導電線使得各層疊205及210之對應自選擇記憶體單元可共用如參考圖1所描述之位元線115或字線110。例如，第二層疊210之第一電極215-b及第一層疊205之第二電極225-a可耦合至位元線115-a使得位元線115-a由垂直相鄰之自選擇記憶體單元共用。
記憶體陣列200之架構在一些情況中可被稱為一交叉點架構，其中一記憶體單元係形成於一字線與一位元線之間的一拓撲交叉點處，如圖2中所繪示。相較於其他記憶體架構，此一交叉點架構可以較低生產成本提供相對較高密度資料儲存。例如，該交叉點架構相較於其他架構可具有面積縮小且因此記憶體單元密度增加之記憶體單元。例如，相較於具有一6F2 記憶體單元面積之其他架構(諸如具有三端子選擇組件之架構)，該架構可具有一4F2 記憶體單元面積，其中F係最小特徵大小。例如，DRAM可使用一電晶體(其係三端子裝置)作為用於各記憶體單元之選擇組件且相較於交叉點架構可具有一更大記憶體單元面積。
雖然圖2之實例展示兩個記憶體層疊，但其他組態亦可行。在一些實例中，自選擇記憶體單元之一單一記憶體層疊(其可被稱為二維記憶體)可建構於一基板204上方。在一些實例中，記憶體單元之三個或四個記憶體層疊可以類似於一個三維交叉點架構中之一方式組態。
在一些實例中，記憶體層疊之一或多者可包含包括硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元220。例如，自選擇記憶體單元220可包含硫屬化物玻璃，舉例而言，諸如硒(Se)、碲(Te)、砷(As)、銻(Sb)、碳(C)、鍺(Ge)及矽(Si)之合金。在一些實例中，主要具有硒(Se)、砷(As)及鍺(Ge)之硫屬化物材料可被稱為SAG合金。在一些實例中，SAG合金可包含矽(Si)且此硫屬化物材料可被稱為SiSAG合金。在一些實例中，硫屬化物玻璃可包含各呈原子或分子形式之額外元素，諸如氫(H)、氧(O)、氮(N)、氯(Cl)或氟(F)。
在一些實例中，可藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝而將包含硫屬化物材料之一自選擇記憶體單元220程式化至一邏輯狀態。藉由實例，當一特定自選擇記憶體單元220經程式化時，該單元內之元素分離，從而引起離子遷移。取決於施加至記憶體單元之脈衝之極性，離子可朝向一特定電極遷移。例如，在一自選擇記憶體單元220中，離子可朝向負電極遷移。接著可藉由跨單元施加用以感測之一電壓而讀取記憶體單元。在一讀取操作期間所見之臨限電壓可基於記憶體單元中之離子分佈及讀取脈衝之極性。例如，若一記憶體單元具有一給定離子分佈，則在該讀取操作期間偵測之臨限電壓針對具有一第一極性之一第一讀取脈衝可不同於針對具有一第二極性之一第二讀取脈衝。取決於記憶體單元之極性，遷移離子之此濃度可表示一邏輯「1」或邏輯「0」狀態。離子遷移之此描述表示用於達成本文中所描述之結果之自選擇記憶體單元之一機制之一實例。一機制之此實例不應被視為限制性。本發明亦包含用於達成本文中所描述之結果之自選擇記憶體單元之機制之其他實例。
在程式化之前，自選擇記憶體單元220可已儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)。可將第一脈衝施加至(例如)字線110-b。在施加第一脈衝之後，可回應於施加第一脈衝而偵測自選擇記憶體單元220處之一驟回事件。如上文所描述，一驟回事件可以自選擇記憶體單元220之一降低之臨限電壓為特徵。例如，作為一驟回事件之部分，記憶體單元可經歷記憶體單元之一電導率之增加(例如，突然增加)。在一持續時間之後，記憶體單元可返回至其原始電導率。在記憶體單元返回至其原始電導率之後，記憶體單元接著可經歷其臨限電壓之一暫時降低。可使用具有一正極性或一負極性之脈衝偵測此臨限值降低。因此，施加第一脈衝可降低自選擇記憶體單元220之一臨限電壓(例如，達一持續時間)。在一些實例中，可藉由一記憶體控制器(例如，藉由如上文參考圖1所描述之記憶體控制器140)偵測驟回事件。在偵測驟回事件之後，可將具有不同於第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至自選擇記憶體單元220。在一些實例中，可將該第二脈衝施加至位元線115-b。一旦施加具有一第二極性(例如，一不同極性)之第二脈衝，便可將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)儲存於自選擇記憶體單元220中。
圖3繪示展示根據本發明之實例之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈的一圖式300之一實例。一自選擇記憶體單元可經組態以基於施加至該單元之一或多個脈衝而儲存一特定邏輯狀態。電壓分佈描繪可儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態。
自選擇記憶體單元可包含如參考圖1及圖2所描述之硫屬化物材料。臨限電壓分佈可表示用於將一邏輯狀態寫入至單元之一程式化方案。x軸305及305-a可表示用於一記憶體單元(例如，如參考圖1所描述之記憶體單元105)之臨限電壓分佈之一電壓值。y軸310可表示一臨限電壓可在記憶體單元中出現之一可能性。此外或替代性地，圖3可包含表示一第一邏輯狀態之臨限電壓分佈315及表示一第二(例如，一不同)邏輯狀態之一臨限電壓分佈320。在一些實例中，圖3可包含表示一第一邏輯狀態之臨限電壓分佈325及表示一第二(例如，一不同)邏輯狀態之臨限電壓分佈。在一些實例中，圖3可包含可表示存取(例如，寫入或讀取)記憶體單元之一特定邏輯狀態所需之各種電壓位準之電壓位準335、340、345及350。
在一些實例中，可繪示一寫入操作360。在一第一寫入操作360中，可使用具有一第一極性及一第一量值之程式化脈衝寫入一自選擇記憶體單元。該程式化脈衝可經組態以將一特定邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)儲存於該記憶體單元中。例如，當將一邏輯「0」儲存於記憶體單元中時，程式化脈衝可具有電壓位準345。在施加電壓350之後，記憶體單元之記憶體組件可具有經組態以儲存邏輯狀態之一材料(例如，離子)之一不對稱分佈。歸因於該不對稱分佈，藉由一感測組件針對一特定邏輯狀態觀察之臨限電壓可基於施加至記憶體單元之讀取脈衝之極性而不同。例如，若將具有一第一極性之一第一讀取脈衝施加至記憶體單元，則記憶體單元可展現藉由群組365指示之臨限電壓分佈。在另一實例中，若將具有一第二極性之一第二讀取脈衝施加至記憶體單元，則記憶體單元可展現藉由群組370指示之臨限電壓分佈。
例如，在寫入操作360發生之前，記憶體單元可儲存邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)。歸因於寫入操作360，可將一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至記憶體單元。記憶體單元可包含用於各邏輯狀態之一臨限電壓分佈(例如，用於一邏輯「1」之臨限電壓分佈320或330)。為將所要邏輯狀態寫入至記憶體單元，可施加一特定電壓至記憶體單元以克服記憶體單元之臨限電壓。如圖3中所展示，一電壓350可用於在一些寫入操作中將一邏輯「1」寫入至記憶體單元。因此，可將電壓350 (例如，VWRT1)施加至記憶體單元以將一邏輯「1」儲存於記憶體單元中達一持續時間。因為電壓350係一較高電壓(例如，相對於電壓340)，所以記憶體單元可最終承受較高應力且與記憶體單元相關聯之記憶體陣列(例如，如參考圖1所描述之記憶體陣列102)可消耗較少電力。
在一些實例中，可繪示一寫入操作355。寫入操作355可減小一記憶體單元上之應力且可導致與該記憶體單元相關聯之記憶體陣列消耗較少電力(例如，相對於寫入操作360)。在寫入操作355中，可將一所要邏輯狀態寫入至已儲存一當前邏輯狀態之一記憶體單元。例如，該記憶體單元之該當前邏輯狀態可為如藉由臨限電壓分佈320或330表示之一邏輯「1」，且該所要邏輯狀態可為如藉由臨限電壓分佈315或325表示之一邏輯「0」。為將所要邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至記憶體單元，可將具有一第一極性及一第一量值之一第一脈衝(例如，電壓340)施加至記憶體單元。如上文所描述，記憶體單元可包含一特定臨限電壓分佈。藉由將該第一脈衝施加至記憶體單元，可發生一驟回事件。該驟回事件可以與邏輯狀態相關聯之臨限電壓分佈之減小為特徵。換言之，藉由施加第一脈衝至記憶體單元，與邏輯狀態相關聯之臨限電壓分佈可偏移(例如，朝向0 V)。當驟回事件發生時，分佈315、320、325或330可更靠近y軸310偏移達一持續時間。在突然移動至y軸310中之後，分佈315、320、325及330可鬆弛回至其等原始位置。寫入操作355可經組態以在分佈315、320、325及330之至少一者完全恢復至其等原始位置之前寫入相反極性之一單元。
由施加電壓340所引起之驟回之發生可指示如藉由臨限電壓分佈320表示之一邏輯「1」儲存於記憶體單元中。記憶體控制器可反轉程式化脈衝之極性(例如，記憶體控制器可施加具有與儲存於記憶體單元上之狀態所相關聯之一脈衝相反之一極性之一程式化脈衝)，而非施加具有一較大量值之一程式化脈衝以寫入一邏輯「0」。藉此利用一程式化自選擇記憶體單元之不對稱性質之優點。相較於寫入操作360，此等特徵可減少在寫入操作355期間消耗之電力。
因為驟回事件導致記憶體單元之一減小之電壓分佈，所以一較低電壓可用於將一邏輯狀態寫入至記憶體單元(例如，相對於寫入操作360)。因此，在一些實例中，可施加大於記憶體單元之臨限值分佈之一電壓以將邏輯狀態寫入至記憶體單元。使用一較低電壓可最終減小記憶體單元上之應力且降低與記憶體單元相關聯之記憶體陣列(例如，如參考圖1所描述之記憶體陣列102)之電力消耗。
在一些實例中，可繪示一替代寫入操作355。寫入操作355可減小一記憶體單元上之應力且可導致與該記憶體單元相關聯之記憶體陣列消耗較少電力(例如，相對於寫入操作360)。在替代寫入操作355中，可將一所要邏輯狀態寫入至已儲存一當前邏輯狀態之一記憶體單元。例如，該記憶體單元之該當前邏輯狀態可為如藉由臨限電壓分佈315或325表示之一邏輯「0」，且該所要邏輯狀態可為如藉由臨限電壓分佈320或330表示之一邏輯「1」。
為將所要邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至記憶體單元，可將具有一第一極性及一第一量值之一第一脈衝(例如，電壓335)施加至記憶體單元。如上文所描述，記憶體單元可包含一特定臨限電壓分佈。藉由施加該第一脈衝至記憶體單元，可發生一驟回事件。該驟回事件可以與邏輯狀態相關聯之臨限電壓分佈之減小為特徵。換言之，藉由施加第一脈衝至記憶體單元，與邏輯狀態相關聯之臨限電壓分佈可偏移(例如，朝向0 V)。
由施加電壓335所引起之驟回之發生可指示如藉由臨限電壓分佈315表示之一邏輯「0」儲存於記憶體單元中。記憶體控制器可反轉程式化脈衝之極性(例如，記憶體控制器可施加具有與儲存於記憶體單元上之狀態所相關聯之一脈衝相反之一極性之一程式化脈衝)，而非施加具有一較大量值之一程式化脈衝以寫入一邏輯「1」。藉此利用一程式化自選擇記憶體單元之不對稱性質之優點。相較於寫入操作360，此等特徵可減少在寫入操作355期間消耗之電力。
因為驟回事件導致記憶體單元之一減小之電壓分佈，所以一較低電壓可用於將一邏輯狀態寫入至記憶體單元(例如，相對於寫入操作360)。因此，在一些實例中，可施加大於記憶體單元之臨限值分佈之一電壓以將邏輯狀態寫入至記憶體單元。使用一較低電壓可最終減小記憶體單元上之應力且降低與記憶體單元相關聯之記憶體陣列(例如，如參考圖1所描述之記憶體陣列102)之電力消耗。
圖4繪示根據本發明之實例之與一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈相關聯的時序圖400之實例。一自選擇記憶體單元可經組態以基於施加至該單元之一或多個脈衝而儲存一特定邏輯狀態。電壓分佈描繪可儲存於一自選擇記憶體單元中之邏輯狀態。
自選擇記憶體單元可包含如參考圖1及圖2所描述之硫屬化物材料。臨限電壓分佈可表示在一寫入操作期間之一記憶體單元之各種邏輯狀態。在圖4之實例中，時序圖405可表示將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)之一記憶體單元。時序圖410可表示其中一記憶體單元儲存與一寫入操作所要之邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)相同之一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)之一寫入操作。時序圖415可表示其中一記憶體單元儲存與一寫入操作所要之邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)相同之一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)之一寫入操作。時序圖420可表示將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)之一記憶體單元。
時序圖405可描繪一記憶體單元之(例如，一自選擇記憶體單元之)一寫入操作。時序圖405可展示可被稱為第一脈衝435之電壓435及可被稱為第二脈衝440之電壓440 (例如，VHOLD)。在一些情況中，第一脈衝435可為如參考圖3所描述之電壓335之一實例，且第二脈衝440可為如參考圖3所描述之電壓340之一實例。時序圖405亦可描繪一存取線(例如，如參考圖1所描述之字線110)之電壓425，及一存取線(例如，如參考圖1所描述之位元線115)之電壓430。因此，為對一記憶體單元進行一寫入操作，可將一第一脈衝435施加至一存取線且隨後可將一第二脈衝440施加至一第二存取線。
與時序圖405相關聯之一記憶體單元可儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)。如上文參考圖3所描述，為將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至該記憶體單元，可將一第一脈衝435施加至記憶體單元。第一脈衝435可經組態使得在記憶體單元儲存一第一邏輯狀態之情況下發生一驟回事件但在記憶體單元儲存不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態之情況下未發生驟回事件。因此，可將具有一第一極性之第一脈衝435施加至單元。
在施加第一脈衝435之後，可發生可以記憶體單元之臨限電壓分佈減小為特徵之一驟回事件。在一些實例中，可藉由一記憶體控制器(例如，如參考圖1所描述之記憶體控制器140)判定該驟回事件。驟回事件可引起與記憶體單元相關聯之臨限電壓降低。在一些情況中，驟回事件可引起第一脈衝之量值減小，如藉由第一脈衝435-a所展示。
一驟回事件可發生達一固定持續時間，且其後可接著其中將記憶體單元維持於一較高電導率狀態中之一時間段(例如，持續時間447)。此高電導率狀態可被稱為一選擇時間。因此，為將一第二邏輯值(例如，一邏輯「1」)寫入至記憶體單元，可施加一第二脈衝440。在一些情況中，第二脈衝440可類似於第一脈衝435-a，但具有一經反轉極性。為反轉極性，可切換施加至字線及位元線之電壓。如參考圖3所描述，可將具有一第二極性(例如，一不同極性)之第二脈衝440施加至記憶體單元。換言之，可將第二脈衝440施加至一各自存取線。藉由在選擇時間期間(例如，在持續時間447期間)施加第二脈衝440，相較於一些寫入操作可使用一降低之電壓將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至記憶體單元。如上文所描述，一較低電壓可最終減小記憶體單元上之應力且降低與記憶體單元相關聯之記憶體陣列(例如，如參考圖1所描述之記憶體陣列102)之電力消耗。
在一些實例中，在選擇時間(例如，持續時間447)期間可不施加第二脈衝440。因此，記憶體單元之一臨限電壓可增加至其原始位準。例如，在時序圖405之背景內容中，若在持續時間447期間不施加第二脈衝440，則記憶體單元之一臨限電壓可增加至持續時間447之前所描繪之電壓值。若(例如)在持續時間447之後施加第二脈衝440，則脈衝之量值可更大以實現將邏輯狀態寫入至記憶體單元之相同結果。在一些實例中，可在持續時間447之後藉由施加低於記憶體單元之原始臨限電壓之一電壓來選擇記憶體單元。例如，藉由在未完成寫入操作之情況下在持續時間447之後在任一極性中選擇記憶體單元，可發生一臨限值再新操作。因為記憶體單元之臨限值恢復時間可在持續時間447之後較大(例如，相對於持續時間447)，所以可取消選擇記憶體單元(例如，藉由施加一相同電壓至記憶體單元之字線及數位線)。當取消選擇時，可在完成藉由時序圖405所描繪之寫入操作之前對記憶體陣列之其他部分進行額外驟回事件或其他陣列操作。此可藉由將用於寫入操作之一些階段之多個單元有效地組合在一起而實現更有效寫入。
時序圖410可描繪一記憶體單元之(例如，一自選擇記憶體單元之)一寫入操作之一部分。時序圖410可展示施加至該記憶體單元之一第一脈衝435-b。第一脈衝435-b可為如參考圖3所描述之電壓335之一實例。時序圖410亦可描繪存取線(例如，如參考圖1所描述之字線110)之電壓425-a，及存取線(例如，如參考圖1所描述之位元線115)之電壓430-a。
與時序圖410相關聯之一記憶體單元可儲存一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)。如上文參考圖3所描述，為將一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至該記憶體單元，可將一第一脈衝435-a施加至記憶體單元。因此，可將具有一第一極性之第一脈衝435-a施加至單元。
如上文所描述，當一記憶體單元儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)時，一驟回事件可在將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至該記憶體單元時發生。然而，當將與一記憶體單元當前儲存相同之一邏輯狀態寫入(例如，試圖寫入)至該記憶體單元時，可能不會發生一驟回事件。換言之，當一記憶體單元儲存一邏輯「1」且將一邏輯「1」試圖寫入至相同單元時，可能不會發生一驟回事件。因此，如時序圖410中所繪示，一驟回事件並未發生且寫入操作(例如，試圖之寫入操作)可能完成。可藉由未看到第一脈衝435-b之量值減小而偵測未發生該驟回事件。若偵測無驟回，則如時序圖405中所展示不反轉程式化脈衝之極性。
時序圖415可描繪一記憶體單元之(例如，一自選擇記憶體單元之)一寫入操作之一部分。時序圖415可展示施加至該記憶體單元之一第一脈衝445。第一脈衝445可為如參考圖3所描述之電壓340之一實例。時序圖415亦可描繪一存取線(例如，如參考圖1所描述之字線110)之電壓430-b，及一第二存取線(例如，如參考圖1所描述之位元線115)之電壓425-b。
與時序圖415相關聯之一記憶體單元可儲存一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)。如上文參考圖3所描述，為將一邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至該記憶體單元，可將一第一脈衝445施加至記憶體單元。因此，可將具有一第一極性之第一脈衝445施加至單元。如上文所描述，當一記憶體單元儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)時，一驟回事件可在將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至該記憶體單元時發生。
然而，當將與一記憶體單元當前儲存相同之一邏輯狀態寫入(例如，試圖寫入)至該記憶體單元時，可能不會發生一驟回事件。換言之，當一記憶體單元儲存一邏輯「0」且將一邏輯「0」試圖寫入至相同單元時，可能不會發生一驟回事件。因此，如時序圖415中所繪示，一驟回事件並未發生且寫入操作(例如，試圖之寫入操作)可能完成。可藉由未看到第一脈衝445之量值減小而偵測未發生該驟回事件。若偵測無驟回，則如時序圖405中所展示不反轉程式化脈衝之極性。
時序圖420可描繪一記憶體單元之(例如，一自選擇記憶體單元之)一寫入操作。時序圖420可展示可被稱為第一脈衝445-a之電壓445-a及可被稱為第二脈衝450之電壓450 (例如，VHOLD)。在一些情況中，第一脈衝445-a可為如參考圖3所描述之電壓335之一實例，且第二脈衝450可為如參考圖3所描述之電壓340之一實例。時序圖420亦可描繪一存取線(例如，如參考圖1所描述之字線110)之電壓430-c，及一第二存取線(例如，如參考圖1所描述之位元線115)之電壓425-c。因此，為對一記憶體單元進行一寫入操作，可將一第一脈衝445-a施加至一存取線且隨後可將一第二脈衝450施加至一第二存取線。
與時序圖420相關聯之一記憶體單元可儲存一第一邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)。如上文參考圖3所描述，為將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「0」)寫入至該記憶體單元，可將一第一脈衝445-a施加至記憶體單元。第一脈衝445-a可經組態使得在記憶體單元儲存一第一邏輯狀態之情況下發生一驟回事件但在記憶體單元儲存不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態之情況下未發生驟回事件。因此，可將具有一第一極性之第一脈衝445-a施加至單元。
在施加第一脈衝之後，可發生可以記憶體單元之臨限電壓分佈減小為特徵之一驟回事件(例如：減小至電壓445-b)。在一些實例中，可藉由一記憶體控制器(例如，如參考圖1所描述之記憶體控制器140)判定該驟回事件。驟回事件可引起與記憶體單元相關聯之臨限電壓降低。在一些情況中，驟回事件可引起第一脈衝之量值減小，如藉由第二脈衝450所展示。
一驟回事件可發生達一固定持續時間，且其後可接著其中將記憶體單元維持於一較高電導率狀態中之一時間段(例如，持續時間447-a)。此高電導率狀態可被稱為一選擇時間。因此，為將一第二邏輯值(例如，一邏輯「1」)寫入至記憶體單元，可施加一第二脈衝450。在一些情況中，第二脈衝450可類似於第一脈衝445-a，但具有一經反轉極性。為反轉極性，可切換施加至字線及位元線之電壓。如參考圖3所描述，可將具有一第二極性(例如，一不同極性)之第二脈衝施加至記憶體單元。換言之，可將第二脈衝450施加至第二存取線。藉由在選擇時間期間(例如，在持續時間447-a期間)施加第二脈衝450，相較於一些寫入操作可使用一降低之電壓將一第二邏輯狀態(例如，一邏輯「1」)寫入至記憶體單元。如上文所描述，一較低電壓可最終減小記憶體單元上之應力且降低與記憶體單元相關聯之記憶體陣列(例如，如參考圖1所描述之記憶體陣列102)之電力消耗。
在一些實例中，在選擇時間(例如，持續時間447-a)期間可不施加第二脈衝450。因此，記憶體單元之一臨限電壓可增加至其原始位準。例如，在時序圖420之背景內容中，若在持續時間447-a期間不施加第二脈衝450，則記憶體單元之一臨限電壓可增加至持續時間447-a之前所描繪之電壓值。若(例如)在持續時間447-a之後施加第二脈衝450，則脈衝之量值可更大以實現將邏輯狀態寫入至記憶體單元之相同結果。
圖5展示根據本發明之實例之支援用於程式化一記憶體單元之技術之一驟回事件偵測器505的一方塊圖500。驟回事件偵測器505可為一記憶體控制器(例如，如參考圖1所描述之記憶體控制器140)之態樣之一實例。驟回事件偵測器505可包含施加組件510、偵測組件515、儲存組件520、選擇組件525、降低組件530、判定組件535、偏壓組件540及時序組件545。此等組件之各者可直接或間接地互相通信(例如，經由一或多個匯流排)。
施加組件510可在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可回應於偵測驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可將一第一電壓施加至與記憶體單元耦合之一第一存取線。在一些實例中，施加組件510可將一第二電壓施加至與記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
在一些實例中，施加組件510可將第二電壓施加至第一存取線。在一些實例中，施加組件510可將第一電壓施加至第二存取線，其中施加第二脈衝係至少部分基於施加第一電壓至第二存取線及施加第二電壓至第一存取線。在一些實例中，施加組件510可在降低臨限電壓時之持續時間期間將第二脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線。在一些實例中，施加組件510可將一第二電壓施加至與記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
在一些實例中，在寫入操作期間，施加組件510可在持續時間期間將一第二脈衝施加至記憶體單元，該第二脈衝具有不同於第一極性之一第二極性。在一些實例中，施加組件510可在一第一方向上跨記憶體單元施加具有一電壓之一第一脈衝且在一第二方向上跨記憶體單元施加具有一電壓之一第二脈衝。在一些實例中，施加組件510可在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可回應於偵測驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至記憶體單元。
在一些實例中，施加組件510可藉由施加一電壓至第二存取線而施加具有第二極性之第二脈衝，該電壓大於降低之臨限電壓。在一些實例中，施加組件510可在一持續時間期間將具有第一極性之第一脈衝施加至記憶體單元。在一些實例中，施加組件510可藉由施加一第一電壓至第一存取線而施加具有第一極性之第一脈衝。在一些實例中，施加組件510可藉由施加一第二電壓至第二存取線而施加具有第二極性之第二脈衝其中將第二邏輯狀態寫入至記憶體單元係至少部分基於第二電壓之一量值超過記憶體單元之一臨限電壓。
偵測組件515可回應於施加第一脈衝而偵測記憶體單元處之一驟回事件。偵測組件515可偵測跨記憶體單元之一電壓之一量值之減小，其中偵測該驟回事件係至少部分基於偵測該電壓之該量值之該減小。偵測組件515可至少部分基於第一邏輯狀態之一值不同於待儲存至記憶體單元之第二邏輯狀態之值而偵測驟回事件。偵測組件515可回應於在持續時間之後施加第二脈衝至記憶體單元而偵測記憶體單元處之一第二驟回事件。
偵測組件515可回應於施加第一脈衝至記憶體單元而偵測藉由記憶體單元儲存之第一邏輯狀態。偵測組件515可至少部分基於記憶體單元之一臨限電壓小於第一脈衝之一量值而偵測第一邏輯狀態。偵測組件515可在施加第一脈衝之後之一持續時間期間偵測第一邏輯狀態，且其中在該持續時間期間將第二邏輯狀態寫入至記憶體單元。在一些實例中，偵測組件515可在施加第一脈衝之後之一持續時間期間偵測記憶體單元處之驟回事件。偵測組件515可在該持續時間期間偵測第一邏輯狀態且在該持續時間期間將第二邏輯狀態寫入至記憶體單元。
儲存組件520可至少部分基於施加第二脈衝至記憶體單元而將不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元中。在一些實例中，儲存組件520可藉由在寫入操作期間回應於偵測第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於第一邏輯狀態。儲存組件520可至少部分基於記憶體單元之一臨限電壓降低達一持續時間而將第二邏輯狀態儲存至記憶體單元。在一些實例中，儲存組件520可在施加第二脈衝之後將一第二邏輯值儲存於記憶體單元中。
選擇組件525可至少部分基於待儲存至記憶體單元之第二邏輯狀態之一值而選擇第一脈衝之一電壓量值。在一些實例中，選擇組件525可至少部分基於待寫入至記憶體單元之第二邏輯狀態之一值而自複數個脈衝選擇第一脈衝。
降低組件530可在一寫入操作期間藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝至一記憶體單元而降低該記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間，該記憶體單元包括一第一邏輯值。在一些實例中，降低組件530可在該寫入操作期間藉由施加具有該第一極性之該第一脈衝至記憶體單元而在該持續時間之後降低記憶體單元之該臨限電壓，記憶體單元包括第二邏輯值。
判定組件535可至少部分基於在寫入操作期間降低記憶體單元之臨限電壓而判定記憶體單元之第一邏輯值。
圖6展示繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化記憶體單元之技術之一方法600的一流程圖。方法600之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，方法600之操作可藉由如參考圖5所描述之一驟回事件偵測器執行。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制該驟回事件偵測器之功能元件來執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在605，記憶體控制器可在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。605之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，605之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一施加組件來執行。
在610，記憶體控制器可回應於施加第一脈衝而偵測記憶體單元處之一驟回事件。610之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，610之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一偵測組件來執行。
在615，記憶體控制器可回應於偵測驟回事件而將具有不同於第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至記憶體單元。615之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，615之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一施加組件來執行。
在620，記憶體控制器可基於施加第二脈衝至記憶體單元而將不同於第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元中。620之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，620之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一儲存組件來執行。
圖7展示繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化記憶體單元之技術之一方法700的一流程圖。方法700之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，方法700之操作可藉由如參考圖5所描述之一驟回事件偵測器執行。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制該驟回事件偵測器之功能元件來執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在705，記憶體控制器可在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。705之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，705之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一施加組件來執行。
在710，記憶體控制器可回應於施加第一脈衝至記憶體單元而偵測藉由記憶體單元儲存之第一邏輯狀態。710之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，710之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一偵測組件來執行。
在715，記憶體控制器可藉由在寫入操作期間回應於偵測第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於第一邏輯狀態。715之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，715之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一儲存組件來執行。
圖8展示繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化記憶體單元之技術之一方法800的一流程圖。方法800之操作可藉由如本文中所描述之一記憶體控制器或其組件實施。例如，方法800之操作可藉由如參考圖5所描述之一驟回事件偵測器執行。在一些實例中，一記憶體控制器可執行一組指令以控制該驟回事件偵測器之功能元件來執行下文所描述之功能。此外或替代性地，一記憶體控制器可使用專用硬體執行下文所描述之功能之態樣。
在805，記憶體控制器可在一寫入操作期間藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝至一記憶體單元而降低該記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間，該記憶體單元包含一第一邏輯值。805之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，805之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一降低組件來執行。
在810，在寫入操作期間，記憶體控制器可在持續時間期間將一第二脈衝施加至記憶體單元，該第二脈衝具有不同於第一極性之一第二極性。810之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，810之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一施加組件來執行。
在815，記憶體控制器可在施加第二脈衝之後將一第二邏輯值儲存於記憶體單元中。815之操作可根據本文中所描述之方法執行。在一些實例中，815之操作之態樣可藉由如參考圖5所描述之一儲存組件來執行。
描述一種方法。在一些實例中，該方法可包含在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。在一些實例中，該方法可包含回應於施加該第一脈衝而偵測該記憶體單元處之一驟回事件。方法可包含回應於偵測該驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元。方法可包含至少部分基於施加該第二脈衝至該記憶體單元而將不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中。在一些實例中，方法可包含將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線。方法可包含將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
方法可包含將該第二電壓施加至該第一存取線。方法可包含將該第一電壓施加至該第二存取線，其中施加該第二脈衝係至少部分基於施加該第一電壓至該第二存取線及施加該第二電壓至該第一存取線。在一些實例中，方法可包含偵測跨該記憶體單元之一電壓之一量值之一減小，其中偵測該驟回事件係至少部分基於偵測該電壓之該量值之該減小。在一些實例中，該驟回事件係至少部分基於該第一邏輯狀態之一值不同於待儲存至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之值。在一些實例中，方法可包含至少部分基於待儲存至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之一值而選擇該第一脈衝之一電壓量值。
在一些實例中，至少部分基於施加該第一脈衝而降低該記憶體單元之一臨限電壓。在一些實例中，該記憶體單元之該降低之臨限電壓係至少部分基於該第一邏輯狀態。在一些實例中，回應於該驟回事件之該發生而減小該記憶體單元之該臨限電壓之一量值達一持續時間。在一些實例中，在降低該臨限電壓時之該持續時間期間將該第二脈衝施加至該記憶體單元。在一些實例中，方法可包含在該持續時間期間對該記憶體單元執行一讀取操作或一額外寫入操作。在一些實例中，可在該持續時間之後施加該第二脈衝。在一些實例中，除一寫入操作以外之操作可在該第一脈衝與該第二脈衝之間發生。在一些實例中，方法可包含回應於在該持續時間之後施加該第二脈衝至該記憶體單元而偵測該記憶體單元處之一第二驟回事件。在一些實例中，該記憶體單元之該降低之臨限電壓係至少部分基於該第一邏輯狀態。在一些實例中，該記憶體單元包括一自選擇記憶體單元。
在一些實例中，藉由在未完成該寫入操作之情況下在該持續時間之後在任一極性中選擇該記憶體單元，可發生一臨限值再新操作。在一些實例中，當取消選擇該記憶體單元時，可在完成該寫入操作之前對記憶體陣列之其他部分進行額外驟回事件或其他陣列操作。
描述一種設備。在一些實例中，該設備可支援在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元之構件。該設備可支援回應於施加該第一脈衝而偵測該記憶體單元處之一驟回事件之構件。設備可支援回應於偵測該驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元之構件。設備可支援至少部分基於施加該第二脈衝至該記憶體單元而將不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中之構件。設備可支援將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線之構件。設備可支援將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線之構件，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
設備可支援將該第二電壓施加至該第一存取線之構件。設備可支援將該第一電壓施加至該第二存取線之構件，其中施加該第二脈衝係至少部分基於施加該第一電壓至該第二存取線及施加該第二電壓至該第一存取線。設備可支援偵測跨該記憶體單元之一電壓之一量值之一減小之構件，其中偵測該驟回事件係至少部分基於偵測該電壓之該量值之該減小。設備可支援至少部分基於待儲存至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之一值而選擇該第一脈衝之一電壓量值之構件。設備可支援回應於在該持續時間之後施加該第二脈衝至該記憶體單元而偵測該記憶體單元處之一第二驟回事件之構件。
描述一種方法。在一些實例中，該方法可包含在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元。方法可包含回應於施加該第一脈衝至該記憶體單元而偵測藉由該記憶體單元儲存之該第一邏輯狀態。方法可包含藉由在該寫入操作期間回應於偵測該第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於該第一邏輯狀態。方法可包含將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線。方法可包含將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
在一些實例中，藉由在未完成該寫入操作之情況下在該持續時間之後在任一極性中選擇該記憶體單元，可發生一臨限值再新操作。在一些實例中，當取消選擇該記憶體單元時，可在完成該寫入操作之前對記憶體陣列之其他部分進行額外驟回事件或其他陣列操作。
在一些實例中，將該第一電壓施加至該第一存取線降低該記憶體單元之一臨限電壓。在一些實例中，該第二電壓大於該記憶體單元之該降低之臨限電壓。在一些實例中，偵測該第一邏輯狀態係至少部分基於該記憶體單元之一臨限電壓小於該第一脈衝之一量值。在一些實例中，將該第二邏輯狀態儲存至該記憶體單元係至少部分基於該記憶體單元之一臨限電壓降低達一持續時間。在一些實例中，該第一極性係與該第二極性相反。在一些實例中，在施加該第一脈衝之後之一持續時間期間偵測該第一邏輯狀態，且其中在該持續時間期間將該第二邏輯狀態寫入至該記憶體單元。在一些情況中，可在該持續時間期間及/或在將該第二邏輯狀態寫入至該記憶體單元之前執行除一寫入操作以外之操作。
描述一種設備。在一些實例中，該設備可支援在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元之構件。設備可支援回應於施加該第一脈衝至該記憶體單元而偵測藉由該記憶體單元儲存之該第一邏輯狀態之構件。設備可支援藉由在該寫入操作期間回應於偵測該第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中之構件，其中該第二邏輯狀態不同於該第一邏輯狀態。設備可支援將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線之構件。設備可支援將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線之構件，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
描述一種方法。在一些實例中，該方法可包含在一寫入操作期間藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝至一記憶體單元而降低該記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間，該記憶體單元包括一第一邏輯值。方法可包含在該寫入操作期間，在該持續時間期間將一第二脈衝施加至該記憶體單元，該第二脈衝具有不同於第一極性之一第二極性。方法可包含在施加該第二脈衝之後將一第二邏輯值儲存於該記憶體單元中。方法可包含至少部分基於在該寫入操作期間降低該記憶體單元之該臨限電壓而判定該記憶體單元之該第一邏輯值。在一些情況中，可在完成該寫入操作之前判定該記憶體之該第一邏輯值。
方法可包含在該寫入操作期間藉由施加具有該第一極性之該第一脈衝至該記憶體單元而在該持續時間之後降低該記憶體單元之該臨限電壓，該記憶體單元包括該第二邏輯值。在一些實例中，施加至該記憶體單元之該第二脈衝之一量值小於該第一脈衝之一量值。在一些實例中，該第一脈衝在一第一方向上跨該記憶體單元施加一電壓且該第二脈衝在一第二方向上跨該記憶體單元施加一電壓。
描述一種設備。在一些實例中，該設備可支援在一寫入操作期間藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝至一記憶體單元而降低該記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間之構件，該記憶體單元包括一第一邏輯值。設備可支援在該寫入操作期間，在該持續時間期間將一第二脈衝施加至該記憶體單元之構件，該第二脈衝具有不同於第一極性之一第二極性。設備可支援在施加該第二脈衝之後將一第二邏輯值儲存於該記憶體單元中之構件。設備可支援至少部分基於在該寫入操作期間降低該記憶體單元之該臨限電壓而判定該記憶體單元之該第一邏輯值之構件。設備可支援在該寫入操作期間藉由施加具有該第一極性之該第一脈衝至該記憶體單元而在該持續時間之後降低該記憶體單元之該臨限電壓之構件，該記憶體單元包括該第二邏輯值。
描述一種設備。在一些實例中，該設備可包含：一第一存取線，其與儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元耦合；一第二存取線，其與該記憶體單元耦合；及一記憶體控制器，其與該第一存取線及該第二存取線耦合。在一些實例中，該記憶體控制器可經組態以：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝而偵測該記憶體單元處之一驟回事件；回應於偵測該驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元；及至少部分基於施加該第二脈衝至該記憶體單元而將不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中。
在一些實例中，該記憶體控制器經組態以在施加該第一脈衝之後之一持續時間期間偵測該記憶體單元處之該驟回事件。在一些實例中，該記憶體單元包括在該持續時間期間之一降低之臨限電壓。在一些實例中，施加具有該第二極性之該第二脈衝包括施加一電壓至該第二存取線，該電壓大於該降低之臨限電壓。
描述一種設備。在一些實例中，該設備可包含：一第一存取線，其與儲存一第一邏輯狀態之一記憶體單元耦合；一第二存取線，其與該記憶體單元耦合；及一記憶體控制器，其與該第一存取線及該第二存取線耦合。在一些實例中，該記憶體控制器可經組態以：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝至該記憶體單元而偵測藉由該記憶體單元儲存之該第一邏輯狀態；及藉由在該寫入操作期間至少部分基於偵測該第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於該第一邏輯狀態。
在一些實例中，該記憶體控制器可操作以在一持續時間期間將具有該第一極性之該第一脈衝施加至該記憶體單元。在一些實例中，該第一邏輯狀態係在該持續時間期間偵測且該第二邏輯狀態係在該持續時間期間寫入至該記憶體單元。在一些實例中，施加具有該第一極性之該第一脈衝包括施加一第一電壓至該第一存取線且施加具有該第二極性之該第二脈衝包括施加一第二電壓至該第二存取線，其中將該第二邏輯狀態寫入至該記憶體單元係至少部分基於該第二電壓之一量值超過該記憶體單元之一臨限電壓。在一些實例中，該記憶體控制器可操作以至少部分基於待寫入至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之一值而自複數個脈衝選擇該第一脈衝。
應注意，上文所描述之方法描述可能實施方案，且操作及步驟可經重新配置或以其他方式修改，且其他實施方案係可行的。此外，可組合來自兩個或兩個以上方法之態樣。
本文中所描述之資訊及信號可使用各種不同科技及技術之任一者表示。例如，可貫穿上文描述引用之資料、指令、命令、資訊、信號、位元、符號及碼片可由電壓、電流、電磁波、磁場或磁性粒子、光場或光學粒子或其等之任何組合來表示。一些圖式可將信號繪示為單一信號；然而，一般技術者將理解，該信號可表示一信號匯流排，其中該匯流排可具有各種位元寬度。
術語「電子通信」及「耦合」係指支援組件之間的電子流之組件之間的一關係。此可包含組件之間的一直接連接或可包含中間組件。彼此電子通信或耦合之組件可主動交換電子或信號(例如，在一通電電路中)或可不主動地交換電子或信號(例如，在一斷電電路中)，但可經組態且可操作以在通電至一電路之後交換電子或信號。藉由實例，經由一開關(例如，一電晶體)實體連接之兩個組件電子通信或可無關於開關之狀態(即，斷開或閉合)而耦合。
如本文中所使用，術語「實質上」意謂修飾特性(例如，由術語實質上修飾之一動詞或形容詞)無需為絕對的，但足夠接近以便達成特性之優點。
如本文中所使用，術語「電極」可係指一電導體，且在一些情況中，可用作至一記憶體陣列之一記憶體單元或其他組件之一電接觸件。一電極可包含提供記憶體陣列102之元件或組件之間的一導電路徑之一跡線、導線、導電線、導電層或類似者。
本文中所論述之裝置(包含記憶體陣列)可形成於一半導體基板(諸如矽、鍺、矽鍺合金、砷化鎵、氮化鎵等)上。在一些情況中，基板係一半導體晶圓。在其他情況中，基板可為一絕緣體上矽(SOI)基板，諸如玻璃上矽(SOG)或藍寶石上矽(SOP)，或另一基板上之半導體材料之磊晶層。可透過使用各種化學物種(包含但不限於：磷、硼或砷)摻雜來控制基板或基板子區域之導電性。摻雜可在基板之初始形成或生長期間藉由離子植入或藉由任何其他摻雜方法而執行。
本文中所闡述之描述結合隨附圖式描述實例性組態且不表示可實施或可在發明申請專利範圍之範疇內之所有實例。本文中所使用之術語「例示性」意謂「用作一實例、例項或圖解」，而非「較佳」或「優於其他實例」。詳細描述包含用於提供對所描述技術之理解之目的之具體細節。然而，此等技術可在無此等具體細節之情況下實踐。在一些例項中，以方塊圖形式展示熟知結構及裝置以避免模糊所描述實例之概念。
在附圖中，類似組件或特徵可具有相同參考標籤。此外，可藉由在參考標籤後加一破折號及區分類似組件之一第二標籤來區分相同類型之各種組件。當僅在說明書中使用第一參考標籤時，描述可適用於具有相同第一參考標籤之類似組件之任一者，而無關於第二參考標籤。
可使用各種不同科技及技術之任一者來表示本文中所描述之資訊及信號。例如，可藉由電壓、電流、電磁波、磁場或磁性粒子、光場或光學粒子或其等之任何組合來表示可貫穿上文描述引用之資料、指令、命令、資訊、信號、位元、符號及碼片。
可使用經設計以執行本文中所描述之功能之一通用處理器、一數位信號處理器(DSP)、一特定應用積體電路(ASIC)、一場可程式化閘陣列(FPGA)或其他可程式化邏輯裝置、離散閘或電晶體邏輯、離散硬體組件或其等之任何組合來實施或執行結合本文中之揭示內容描述之各種闡釋性區塊及模組。一通用處理器可為一微處理器，但在替代例中，處理器可為任何習知處理器、控制器、微控制器或狀態機。一處理器亦可實施為運算裝置之一組合(例如，一DSP及一微處理器之一組合、多個微處理器、結合一DSP核心之一或多個微處理器或任何其他此組態)。
可在硬體、藉由一處理器執行之軟體、韌體或其等之任何組合中實施本文中所描述之功能。若在由一處理器執行之軟體中實施，則可將功能作為一或多個指令或程式碼儲存於一電腦可讀媒體上或經由一電腦可讀媒體傳輸。其他實例及實施方案係在本發明及隨附發明申請專利範圍之範疇內。舉例而言，歸因於軟體之性質，可使用由一處理器執行之軟體、硬體、韌體、硬接線或此等之任意者之組合來實施上文所描述之功能。實施功能之特徵亦可實體定位於各種位置處，包含經分佈使得在不同實體位置處實施功能之部分。又，如本文中所使用，包含在發明申請專利範圍中，如一物項清單(舉例而言，以諸如「至少一者」或「一或多者」之一片語開始之一物項清單)中使用之「或」指示一包含清單，使得(舉例而言) A、B或C之至少一者之一清單意謂A或B或C或AB或AC或BC或ABC (即，A及B及C)。又，如本文中所使用，片語「基於」不應解釋為對一條件閉集之參考。例如，在不脫離本發明之範疇之情況下，描述為「基於條件A」之一例示性步驟可基於一條件A及一條件B兩者。換言之，如本文中所使用，片語「基於」應按相同於片語「至少部分基於」之方式來解釋。
電腦可讀媒體包含非暫時性電腦儲存媒體及通信媒體兩者，包含促進一電腦程式自一個位置傳送至另一位置之任何媒體。一非暫時性儲存媒體可為可藉由一通用或專用電腦存取之任何可用媒體。藉由實例但非限制，非暫時性電腦可讀媒體可包括RAM、ROM、電可擦除可程式化唯讀記憶體(EEPROM)、光碟(CD) ROM或其他光磁儲存器、磁碟儲存器或其他磁性儲存裝置，或可用於攜載或儲存呈指令或資料結構之形式之所要程式碼構件且可藉由一通用或專用電腦或一通用或專用處理器存取之任何其他非暫時性媒體。又，任何連接適當地稱為一電腦可讀媒體。例如，若使用一同軸纜線、光纜、雙絞線、數位用戶線(DSL)或諸如紅外線、無線電及微波之無線科技自一網站、伺服器或其他遠端源傳輸軟體，則同軸纜線、光纜、雙絞線、數位用戶線(DSL)或諸如紅外線、無線電及微波之無線科技包含於媒體之定義中。如本文中所使用，磁碟及光碟包含CD、雷射光碟、光學光碟、數位多功能光碟(DVD)、軟碟及藍光光碟(其中磁碟通常以磁性方式重現資料，而光碟使用雷射以光學方式重現資料)。上文之組合亦包含於電腦可讀媒體之範疇內。
提供本文中之描述以使熟習此項技術者能夠製成或使用本發明。熟習此項技術者將容易明白本發明之各種修改，且本文中所定義之通用原理可應用於其他變動而不脫離本發明之範疇。因此，本發明並不意欲限於本文中所描述之實例及設計，而應符合與本文中所揭示之原理及新穎特徵一致之最廣泛範疇。
100:記憶體裝置 102:三維(3D)記憶體陣列/記憶體陣列 103:二維(2D)記憶體陣列 105:記憶體單元 110:存取線/字線 110-a:字線 110-b:字線 115:位元線/數位線 115-a:位元線 120:列解碼器 125:感測組件 130:行解碼器 135:輸入/輸出 140:記憶體控制器 145:記憶體單元堆疊 200:三維(3D)記憶體陣列/記憶體陣列 204:基板 205:第一陣列/第一層疊/層疊 210:第二陣列/第二層疊/層疊 215-a:第一電極 215-b:第一電極 220-a:自選擇記憶體單元/硫屬化物材料 220-b:自選擇記憶體單元/硫屬化物材料 225-a:第二電極 225-b:第二電極 300:圖式 305:x軸 305-a:x軸 310:y軸 315:臨限電壓分佈/分佈 320:臨限電壓分佈/分佈 325:臨限電壓分佈/分佈 330:臨限電壓分佈/分佈 335:電壓位準/電壓 340:電壓位準/電壓 345:電壓位準 350:電壓位準/電壓 355:寫入操作 360:寫入操作 365:群組 370:群組 400:時序圖 405:時序圖 410:時序圖 415:時序圖 420:時序圖 425:電壓 425-a:電壓 425-b:電壓 425-c:電壓 430:電壓 430-a:電壓 430-b:電壓 430-c:電壓 435:電壓/第一脈衝 435-a:第一脈衝 435-b:第一脈衝 440:電壓/第二脈衝 445:第一脈衝/電壓 445-a:第一脈衝 445-b:電壓 447:持續時間 447-a:持續時間 450:電壓/第二脈衝 500:方塊圖 505:驟回事件偵測器 510:施加組件 515:偵測組件 520:儲存組件 525:選擇組件 530:降低組件 535:判定組件 540:偏壓組件 545:時序組件 600:方法 605:操作 610:操作 615:操作 620:操作 700:方法 705:操作 710:操作 715:操作 800:方法 805:操作 810:操作 815:操作
圖1繪示根據本發明之實例之一實例性記憶體裝置。
圖2繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之一記憶體陣列的一實例。
圖3繪示展示根據本發明之態樣之支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈的一圖式之一實例。
圖4繪示根據本發明之態樣之與支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之一自選擇記憶體單元之臨限電壓之分佈相關聯的一時序圖之實例。
圖5展示根據本發明之態樣之支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之一裝置的一方塊圖。
圖6至圖8繪示根據本發明之態樣之支援用於程式化一自選擇記憶體裝置之技術之方法的流程圖。
100:記憶體裝置
102:三維(3D)記憶體陣列/記憶體陣列
103:二維(2D)記憶體陣列
105:記憶體單元
110:存取線/字線
115:位元線/數位線
120:列解碼器
125:感測組件
130:行解碼器
135:輸入/輸出
140:記憶體控制器
145:記憶體單元堆疊

Claims (36)

  1. 一種用於程式化一記憶體單元之方法，其包括：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝而偵測該記憶體單元處之一驟回事件；在該寫入操作期間，回應於偵測該驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元；及至少部分基於施加該第二脈衝至該記憶體單元而將不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中。
  2. 如請求項1之方法，其進一步包括：將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線；及將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
  3. 如請求項2之方法，其進一步包括：將該第二電壓施加至該第一存取線；及將該第一電壓施加至該第二存取線，其中施加該第二脈衝係至少部分基於施加該第一電壓至該第二存取線及施加該第二電壓至該第一存取線。
  4. 如請求項1之方法，其進一步包括： 偵測跨該記憶體單元之一電壓之一量值之一減小，其中偵測該驟回事件係至少部分基於偵測該電壓之該量值之該減小。
  5. 如請求項1之方法，其中該驟回事件係至少部分基於該第一邏輯狀態之一值不同於待儲存至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之值。
  6. 如請求項1之方法，其進一步包括：至少部分基於待儲存至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之一值而選擇該第一脈衝之一電壓量值。
  7. 如請求項1之方法，其中至少部分基於施加該第一脈衝而降低該記憶體單元之一臨限電壓。
  8. 如請求項7之方法，其中該記憶體單元之該降低之臨限電壓係至少部分基於該第一邏輯狀態。
  9. 如請求項7之方法，其中回應於該驟回事件之該發生而減小該記憶體單元之該臨限電壓之一量值達一持續時間。
  10. 如請求項9之方法，其中在降低該臨限電壓時之該持續時間期間將該第二脈衝施加至該記憶體單元。
  11. 如請求項9之方法，其進一步包括： 在該持續時間期間執行一讀取操作或其他操作，其中在該持續時間之後施加該第二脈衝。
  12. 如請求項9之方法，其進一步包括：回應於在該持續時間之後施加該第二脈衝至該記憶體單元而偵測該記憶體單元處之一第二驟回事件。
  13. 如請求項9之方法，其中該記憶體單元之該降低之臨限電壓係至少部分基於該第一邏輯狀態。
  14. 如請求項1之方法，其中該記憶體單元包括一自選擇記憶體單元。
  15. 一種用於程式化一記憶體單元之方法，其包括：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至儲存一第一邏輯狀態之該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝至該記憶體單元而偵測藉由該記憶體單元儲存之該第一邏輯狀態；及藉由在該寫入操作期間回應於偵測該第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於該第一邏輯狀態。
  16. 如請求項15之方法，其進一步包括：將一第一電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第一存取線；及 將一第二電壓施加至與該記憶體單元耦合之一第二存取線，其中施加該第一脈衝係至少部分基於施加該第一電壓及該第二電壓。
  17. 如請求項16之方法，其中將該第一電壓施加至該第一存取線降低該記憶體單元之一臨限電壓。
  18. 如請求項17之方法，其中該第二電壓大於該記憶體單元之該降低之臨限電壓。
  19. 如請求項15之方法，其中偵測該第一邏輯狀態係至少部分基於該記憶體單元之一臨限電壓小於該第一脈衝之一量值。
  20. 如請求項15之方法，其中將該第二邏輯狀態儲存至該記憶體單元係至少部分基於該記憶體單元之一臨限電壓降低達一持續時間。
  21. 如請求項15之方法，其中該第一極性係與該第二極性相反。
  22. 如請求項15之方法，其中在施加該第一脈衝之後之一持續時間期間偵測該第一邏輯狀態，且其中在該持續時間期間將該第二邏輯狀態寫入至該記憶體單元。
  23. 一種用於程式化一記憶體單元之方法，其包括：在一寫入操作期間藉由施加具有一第一極性之一第一脈衝至該記憶 體單元而降低該記憶體單元之一臨限電壓達一持續時間，該記憶體單元包括一第一邏輯值；在該寫入操作期間，在該持續時間期間將一第二脈衝施加至該記憶體單元，該第二脈衝具有不同於該第一極性之一第二極性；及在施加該第二脈衝之後將一第二邏輯值儲存於該記憶體單元中。
  24. 如請求項23之方法，其進一步包括：至少部分基於在該寫入操作期間降低該記憶體單元之該臨限電壓而判定該記憶體單元之該第一邏輯值。
  25. 如請求項23之方法，其進一步包括：在該寫入操作期間藉由施加具有該第一極性之該第一脈衝至該記憶體單元而在該持續時間之後降低該記憶體單元之該臨限電壓，該記憶體單元包括該第二邏輯值。
  26. 如請求項23之方法，其中施加至該記憶體單元之該第二脈衝之一量值小於該第一脈衝之一量值。
  27. 如請求項23之方法，其中該第一脈衝在一第一方向上跨該記憶體單元施加一電壓且該第二脈衝在一第二方向上跨該記憶體單元施加一電壓。
  28. 一種用於程式化一記憶體單元之設備，其包括：一第一存取線，其與儲存一第一邏輯狀態之該記憶體單元耦合； 一第二存取線，其與該記憶體單元耦合；及一記憶體控制器，其與該第一存取線及該第二存取線耦合，該記憶體控制器經組態以：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝而偵測該記憶體單元處之一驟回事件；在該寫入操作期間，回應於偵測該驟回事件而將具有不同於該第一極性之一第二極性之一第二脈衝施加至該記憶體單元；及至少部分基於施加該第二脈衝至該記憶體單元而將不同於該第一邏輯狀態之一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中。
  29. 如請求項28之設備，其中該記憶體控制器經組態以在施加該第一脈衝之後之一持續時間期間偵測該記憶體單元處之該驟回事件。
  30. 如請求項29之設備，其中該記憶體單元包括在該持續時間期間之一降低之臨限電壓。
  31. 如請求項30之設備，其中施加具有該第二極性之該第二脈衝包括施加一電壓至該第二存取線，該電壓大於該降低之臨限電壓。
  32. 一種用於程式化一記憶體單元之設備，其包括：一第一存取線，其與儲存一第一邏輯狀態之該記憶體單元耦合；一第二存取線，其與該記憶體單元耦合；及 一記憶體控制器，其與該第一存取線及該第二存取線耦合，該記憶體控制器經組態以：在一寫入操作期間將具有一第一極性之一第一脈衝施加至該記憶體單元；回應於施加該第一脈衝至該記憶體單元而偵測藉由該記憶體單元儲存之該第一邏輯狀態；及藉由在該寫入操作期間至少部分基於偵測該第一邏輯狀態施加具有一第二極性之一第二脈衝而將一第二邏輯狀態儲存於該記憶體單元中，其中該第二邏輯狀態不同於該第一邏輯狀態。
  33. 如請求項32之設備，其中該記憶體控制器可操作以在一持續時間期間將具有該第一極性之該第一脈衝施加至該記憶體單元。
  34. 如請求項33之設備，其中該第一邏輯狀態係在該持續時間期間偵測且該第二邏輯狀態係在該持續時間期間寫入至該記憶體單元。
  35. 如請求項32之設備，其中：施加具有該第一極性之該第一脈衝包括施加一第一電壓至該第一存取線；且施加具有該第二極性之該第二脈衝包括施加一第二電壓至該第二存取線，其中將該第二邏輯狀態寫入至該記憶體單元係至少部分基於該第二電壓之一量值超過該記憶體單元之一臨限電壓。
  36. 如請求項32之設備，其中該記憶體控制器可操作以至少部分基於待寫入至該記憶體單元之該第二邏輯狀態之一值而自複數個脈衝選擇該第一脈衝。
TW108129740A 2018-08-22 2019-08-21 程式化一記憶體單元之技術 TWI765172B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/108,784 2018-08-22
US16/108,784 US10803939B2 (en) 2018-08-22 2018-08-22 Techniques for programming a memory cell

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202022871A TW202022871A (zh) 2020-06-16
TWI765172B true TWI765172B (zh) 2022-05-21

Family

ID=69586475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108129740A TWI765172B (zh) 2018-08-22 2019-08-21 程式化一記憶體單元之技術

Country Status (7)

Country Link
US (3) US10803939B2 (zh)
EP (1) EP3841579A4 (zh)
JP (1) JP7271075B2 (zh)
KR (1) KR102535648B1 (zh)
CN (1) CN112602151A (zh)
TW (1) TWI765172B (zh)
WO (1) WO2020041011A1 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10777275B2 (en) 2018-09-26 2020-09-15 Intel Corporation Reset refresh techniques for self-selecting memory
KR20200145320A (ko) 2019-06-21 2020-12-30 에스케이하이닉스 주식회사 리드 디스터번스를 완화시킬 수 있는 비휘발성 메모리 장치 및 이를 이용하는 시스템
US10867671B1 (en) 2019-07-02 2020-12-15 Micron Technology, Inc. Techniques for applying multiple voltage pulses to select a memory cell
US11158358B2 (en) * 2019-07-22 2021-10-26 Micron Technology, Inc. Adaptive write operations for a memory device
US11133062B1 (en) 2020-05-07 2021-09-28 Micron Technology, Inc. Two memory cells sensed to determine one data value
US11302390B2 (en) * 2020-07-10 2022-04-12 Micron Technology, Inc. Reading a multi-level memory cell
US11217308B1 (en) 2020-08-14 2022-01-04 Micron Technology Programming memory cells using asymmetric current pulses
US11295822B2 (en) 2020-08-14 2022-04-05 Micron Technology, Inc. Multi-state programming of memory cells
US11651825B2 (en) * 2021-04-12 2023-05-16 Micron Technology, Inc. Random value generator
US11664074B2 (en) 2021-06-02 2023-05-30 Micron Technology, Inc. Programming intermediate state to store data in self-selecting memory cells
US11694747B2 (en) 2021-06-03 2023-07-04 Micron Technology, Inc. Self-selecting memory cells configured to store more than one bit per memory cell
CN113687872B (zh) * 2021-07-19 2024-03-29 三六零数字安全科技集团有限公司 选择组件控制方法、设备、存储介质及装置
US11984191B2 (en) 2022-05-09 2024-05-14 Micron Technology, Inc. Pulse based multi-level cell programming

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150294716A1 (en) * 2014-04-11 2015-10-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods of reading memory cells
US20150325289A1 (en) * 2014-05-07 2015-11-12 Micron Technology, Inc Apparatuses and methods for bi-directional access of cross-point arrays
TWI541811B (zh) * 2014-09-15 2016-07-11 華邦電子股份有限公司 快閃記憶體裝置及快閃記憶體的寫入的方法
US20170125097A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-04 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods including memory and operation of same

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2671755B2 (ja) * 1993-06-14 1997-10-29 日本電気株式会社 入出力保護回路
US7102948B2 (en) 2004-04-01 2006-09-05 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Resistance change sensor
KR100564636B1 (ko) * 2004-10-26 2006-03-28 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
US8279704B2 (en) 2006-07-31 2012-10-02 Sandisk 3D Llc Decoder circuitry providing forward and reverse modes of memory array operation and method for biasing same
US8194433B2 (en) 2008-02-20 2012-06-05 Ovonyx, Inc. Method and apparatus for accessing a bidirectional memory
US8634235B2 (en) * 2010-06-25 2014-01-21 Macronix International Co., Ltd. Phase change memory coding
US8390092B2 (en) * 2010-11-12 2013-03-05 Freescale Semiconductor, Inc. Area-efficient high voltage bipolar-based ESD protection targeting narrow design windows
US8331131B2 (en) * 2011-01-31 2012-12-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Changing a memristor state
US8767482B2 (en) 2011-08-18 2014-07-01 Micron Technology, Inc. Apparatuses, devices and methods for sensing a snapback event in a circuit
KR20130026803A (ko) * 2011-09-06 2013-03-14 삼성전자주식회사 가변 저항 소자를 포함하는 반도체 장치 및 상기 반도체 장치의 동작 방법
JP5830655B2 (ja) * 2013-04-30 2015-12-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 不揮発性記憶素子の駆動方法
US9286963B2 (en) * 2013-07-16 2016-03-15 Everspin Technologies, Inc. Method of writing to a spin torque magnetic random access memory
US9312005B2 (en) 2013-09-10 2016-04-12 Micron Technology, Inc. Accessing memory cells in parallel in a cross-point array
US9990990B2 (en) * 2014-11-06 2018-06-05 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for accessing variable resistance memory device
JP2016170848A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
JP6482959B2 (ja) * 2015-06-10 2019-03-13 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US9978810B2 (en) * 2015-11-04 2018-05-22 Micron Technology, Inc. Three-dimensional memory apparatuses and methods of use
US10482960B2 (en) * 2016-02-17 2019-11-19 Intel Corporation Dual demarcation voltage sensing before writes
KR102469172B1 (ko) * 2016-03-14 2022-11-22 에스케이하이닉스 주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 이의 검증 라이트 방법
US10446226B2 (en) * 2016-08-08 2019-10-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses including multi-level memory cells and methods of operation of same
US10366747B2 (en) * 2017-11-30 2019-07-30 Micron Technology, Inc. Comparing input data to stored data

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150294716A1 (en) * 2014-04-11 2015-10-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods of reading memory cells
US20150325289A1 (en) * 2014-05-07 2015-11-12 Micron Technology, Inc Apparatuses and methods for bi-directional access of cross-point arrays
TWI541811B (zh) * 2014-09-15 2016-07-11 華邦電子股份有限公司 快閃記憶體裝置及快閃記憶體的寫入的方法
US20170125097A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-04 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods including memory and operation of same

Also Published As

Publication number Publication date
TW202022871A (zh) 2020-06-16
US11302393B2 (en) 2022-04-12
CN112602151A (zh) 2021-04-02
US11817148B2 (en) 2023-11-14
WO2020041011A1 (en) 2020-02-27
EP3841579A1 (en) 2021-06-30
US20200066343A1 (en) 2020-02-27
US20210005257A1 (en) 2021-01-07
KR20210032001A (ko) 2021-03-23
JP2021534532A (ja) 2021-12-09
JP7271075B2 (ja) 2023-05-11
EP3841579A4 (en) 2022-06-01
KR102535648B1 (ko) 2023-05-26
US20220189551A1 (en) 2022-06-16
US10803939B2 (en) 2020-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI765172B (zh) 程式化一記憶體單元之技術
TWI774162B (zh) 用於程式化多位階自選擇記憶體單元之技術
TWI775484B (zh) 用於支援存取多位階記憶體單元之方法及設備，以及非暫時性電腦可讀媒體
TWI783201B (zh) 存取一自選擇記憶體裝置之技術
TWI779659B (zh) 讀取多位階記憶體單元
CN111462788B (zh) 垂直解码器
KR102656533B1 (ko) 메모리 셀 선택
CN113196398A (zh) 用于并发地存取多个存储器单元的系统及技术
US20210264956A1 (en) Vertical decoder
CN113348511A (zh) 用于嵌入式应用的存储器
TW202228145A (zh) 用於一記憶體裝置之解碼