TWI750618B - 臭氧水製造裝置、臭氧水製造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置及評估方法 - Google Patents
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Abstract
臭氧水製造裝置100係具備:溶液收容部110,係收容1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液M;及氣泡導入部120,係將臭氧的微細氣泡導入於鎂溶液M中。
Description
本發明係關於一種臭氧水製造裝置、臭氧水製造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置及評估方法。本申請係主張根據2019年3月29日所提出之日本專利申請第2019-067035號及2019年11月25日所提出之日本專利申請第2019-212054號之優先權之利益者,其內容引用於本申請中。
臭氧水已被利用於醫療器具等對象物的消毒、殺菌、脫臭等。以往之臭氧水中所含之臭氧的氣泡,其粒徑大至100μm以上。因此,以往的臭氧水,水中可保持臭氧的時間短至1至2小時左右。因而必須在剛製造臭氧水之後就進行對象物的消毒、殺菌、脫臭等。
因此,開發出了一種使含有4%以上鹽鹵的水中產生臭氧的微泡(micro bubble)以製造臭氧水的技術(例如專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本專利第5261569號公報
然而,由於鹽鹵係從自海水析出食鹽之後的殘液所製造,因此其組成會因為海水的提取場所、提取時期等而變動。因此,對於溶解有鹽鹵的水供給臭氧所製造之如上述專利文獻1的臭氧水,會有臭氧之氣泡的含量不穩定的問題。
有鑑於此問題,本發明之目的為提供一種能夠在水中長期間保持臭氧,同時使臭氧之氣泡的含量穩定的臭氧水製造裝置、臭氧水製造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置及評估方法。
為了解決上述問題,本發明之一態樣的臭氧水製造裝置係具備:溶液收容部,係收容1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液;及氣泡導入部,係將臭氧的微細氣泡(fine bubble)導入於鎂溶液中。
為了解決上述問題,本發明之一態樣的臭氧水製造方法係將臭氧的微細氣泡導入於1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液中。
為了解決上述問題,本發明之一態樣的臭氧水係含有:鎂化合物,係1.0質量%以上且未達4.0質量%;及臭氧的微細氣泡。
為了解決上述問題,本發明之一態樣的臭氧水處理裝置係具備噴
霧部,該噴霧部係以粒徑10μm以下將臭氧水進行噴霧,該臭氧水係含有:鎂化合物,係1.0質量%以上且未達4.0質量%;及臭氧的微細氣泡。
為了解決上述問題,本發明之一態樣的評估方法係包含下列步驟:將預定數的菌設置在距噴霧部不同距離的複數個測量點的步驟,該噴霧部係以粒徑10μm以下將臭氧水進行噴霧,該臭氧水係含有1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物及臭氧的微細氣泡;由噴霧部以粒徑10μm以下將臭氧水進行噴霧的步驟;及自執行噴霧的步驟起經過預定時間之後計數複數個測量點各者之菌之數量的步驟。
依據本發明,即能夠在水中長期間保持臭氧,同時可使臭氧之氣泡的含量穩定。
10:對象空間
12:門
20:設置物
100:臭氧水製造裝置
110:溶液收容部
120:氣泡導入部
130:臭氧分解部
150:取水管
152:送水管
210:臭氧產生部
212:氣泵
212a:送氣管
214:質量流量控制器
214a:送氣管
216:混氣泵
216a:送水管
218:管路混合器
300:臭氧水處理裝置
310:臭氧水槽
312:連接管
314:開閉閥
320:噴霧部
322:本體
324:粒徑調整機構
324a:開口
326:加熱部
328:送風部
La,Lb,Lc,Ld:距離
M:鎂溶液
N:臭氧水
P:粒子
S120:氣泡導入步驟
S310:設置步驟
S320:處理步驟
S340:計數步驟
α,β,γ,δ:測量點
圖1係說明臭氧水製造裝置的圖。
圖2係說明臭氧水製造方法之處理之流程的流程圖。
圖3係顯示使用比較例A-1至比較例A-3及比較例B-1至比較例B-3之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖4係顯示使用實施例A-1至實施例A-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖5係顯示使用實施例A-5至實施例A-8之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖6係顯示使用實施例B-1至實施例B-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖7係顯示使用實施例C-1至實施例C-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖8係顯示使用實施例D-1至實施例D-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖9係顯示使用實施例E-1至實施例E-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。
圖10係說明臭氧水處理裝置的圖。
圖11係說明評估方法之處理之流程的流程圖。
圖12係說明對象空間及測量點之一例的圖。
圖13A係顯示使用實施例F時之103cells/ml(每毫升細胞數)之菌液點滴後之薄膜過濾器(membrane filter)的結果。
圖13B係顯示使用實施例F時之104cells/ml之菌液點滴後之薄膜過濾器的結果。
圖14A係顯示使用比較例C時之103cells/ml之菌液點滴後之薄膜過濾器的結果。
圖14B係顯示使用比較例C時之104cells/ml之菌液點滴後之薄膜過濾器的結果。
圖15A係顯示使用比較例D時之103cells/ml之菌液點滴後之薄膜過濾器的結果。
圖15B係顯示使用比較例D時之104cells/ml之菌液點滴後之薄膜過濾器的結果。
圖16係顯示使用第三實施例時之菌數的圖。
以下參照所附圖式詳細地說明本發明的實施型態。本實施型態所示之尺寸、材料及其他具體的數值等僅為用以易於理解的例示,除特別聲明情形
外,不應限定本發明。另外,在本說明書及圖式中,關於實質上具有相同的功能、構成的要素,係藉由賦予相同的符號以省略重複的說明,此外與本發明無直接關係的要素則予以省略圖示。
[臭氧水製造裝置100]
圖1係說明臭氧水製造裝置100的圖。圖1中,實線的箭頭係顯示鎂溶液M及臭氧水N的流動。圖1中,虛線的箭頭係顯示臭氧的流動。如圖1所示,臭氧水製造裝置100係包含溶液收容部110、氣泡導入部120及臭氧分解部130。
溶液收容部110係收容鎂溶液M的容器。鎂溶液M係1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的溶液。鎂化合物係例如為氯化鎂(MgCl2)、氧化鎂(MgO)、溴化鎂(MgBr2)、硝酸鎂(Mg(NO3)2)、硫酸鎂(MgSO4)及醋酸鎂(Mg(CH3COO)2)中的一種或複數種。水係自來水、純化水(過濾器過濾、活性碳過濾等)、純水等。
氣泡導入部120係在鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡而供給至溶液收容部110。氣泡導入部120係例如為回旋流式的裝置。在本實施型態中,氣泡導入部120係含有臭氧產生部210、氣泵(gas pump)212、質量流量控制器(mass flow controller)214、混氣泵216及管路混合器(line mixer)218。
臭氧產生部210係例如為臭氧產生器(ozonizer)。在臭氧產生部210中,藉由在放電環境下暴露氧氣而產生含有臭氧的氣體(以下簡稱「臭氧」)。
氣泵212係抽吸經由臭氧產生部210所產生的臭氧且予以壓縮(升壓)。氣泵212係通過送氣管212a而連接於質量流量控制器214。氣泵212係吸入側連接於臭氧產生部210。氣泵212係吐出側連接於質量流量控制器214。
質量流量控制器214係控制從氣泵212送出之臭氧的流量。質量
流量控制器214係將臭氧的流量,例如控制為從取水管150所導出之鎂溶液M之流量之1%以上且10%以下之範圍內之預定的流量。
混氣泵216係通過取水管150而連接於溶液收容部110。混氣泵216係通過送氣管214a而連接於質量流量控制器214。混氣泵216係抽吸溶液收容部110內的鎂溶液M,且使從氣泵212所供給並經過質量流量控制器214後的臭氧混合於鎂溶液M中。
管路混合器218係通過送水管216a而連接於混氣泵216。管路混合器218係將混合於鎂溶液M中的臭氧擊碎以產生微細氣泡。微細氣泡係直徑為100um以下的氣泡。另外,微細氣泡中之直徑為1μm以上且100μm以下的氣泡係稱為微泡。此外,微細氣泡中之直徑未達1μm的氣泡係稱為超微細氣泡(ultrafine bubble)。
含有臭氧之微細氣泡的鎂溶液M,亦即臭氧水N係藉由管路混合器218通過送水管152而供給至溶液收容部110。
再者,臭氧水製造裝置100係使溶液收容部110的鎂溶液M及臭氧水N循環於氣泡導入部120(混氣泵216及管路混合器218)中。藉此,臭氧水製造裝置100即可在溶液收容部110中製造含有目標之濃度之微細氣泡的臭氧水N。
臭氧分解部130係連接於溶液收容部110的上部。臭氧分解部130係例如為去臭氧器(de-ozonizer)。臭氧分解部130係分解從溶液收容部110排出的臭氧。藉由臭氧分解部130分解臭氧後的氣體係被釋放於大氣中。
[臭氧水製造方法]
接下來說明使用了臭氧水製造裝置100的臭氧水製造方法。圖2係說明臭氧水製造方法之處理之流程的流程圖。如圖2所示,臭氧水製造方法係包含收容步驟S110及氣泡導入步驟S120。
[收容步驟S110]
收容步驟S110係將鎂溶液M收容於溶液收容部110中的步驟。
[氣泡導入步驟S120]
氣泡導入步驟S120係驅動氣泡導入部120而在鎂溶液M中產生臭氧之微細氣泡的步驟。藉此,製造含有1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物與臭氧之微細氣泡的臭氧水N。
綜上所述,本實施型態之臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法,係在1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡。當鎂化合物的含量未達1.0質量%時,臭氧水N中之臭氧之微細氣泡的含量將變少。此外,即使將鎂化合物的含量設為4.0質量%以上,臭氧水N中之臭氧之微細氣泡的含量亦幾乎不會增加,但鎂化合物本身的成本將增加。因此,臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法,係在1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡,藉此即可以低成本製造臭氧之微細氣泡之含量多的臭氧水N。
此外,不同於鹽鹵,鎂化合物的組成穩定。因此,臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法,能夠藉由在鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡,而製造臭氧之微細氣泡之含量穩定的臭氧水N。換言之,臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法能夠製造含有目標之含量之臭氧之微細氣泡的臭氧水N。
此外,當溶液中摻雜有鎂化合物以外的物質時,殺菌性能未必會降低。然而,在臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法中,較理想為在僅使鎂化合物溶解而成的鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡而製造臭氧水N。換言之,臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法,例如即使不包含有機鐵化合物,亦可製造含有臭氧之微細氣泡的臭氧水N。
此外,依據本實施型態之臭氧水製造裝置100及臭氧水製造方法所製造的臭氧水N,係含有臭氧的微細氣泡。微細氣泡係直徑相對較小,幾乎不會浮起。換言之,臭氧水N係可抑制臭氧的微細氣泡從水中釋出。因此,相較於含有粒徑為100μm以上之臭氧之以往的臭氧水,臭氧水N係能夠使可在水中保持臭氧的時間較長。因此,不同於以往的臭氧水,臭氧水N在被製造後,即使經過了某程度的時間,亦能夠進行對象物的消毒、殺菌、脫臭等。
[第一實施例]
茲作成了比較例A-1至比較例A-3、比較例B-1至比較例B-3、實施例A-1至實施例A-8、實施例B-1至實施例B-4、實施例C-1至實施例C-4、實施例D-1至實施例D-4及實施例E-1至實施例E-4的臭氧水。再者,使用上述臭氧水進行了殺菌試驗。
作為殺菌試驗,將指標菌投入於臭氧水中維持於40℃。使用了Bacillus atrophaeus ATCC 9372作為指標菌。此外,測量了投入於臭氧水之前(0分鐘)、投入起經過20分鐘後、投入起經過40分鐘後及投入起經過60分鐘後之指標菌的數量(cfu/ml(每毫升菌落總數))。
圖3係顯示使用了比較例A-1至比較例A-3及比較例B-1至比較例B-3之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖3中,塗成全白的四角係顯示比較例A-1。圖3中,塗成全白的三角係顯示比較例A-2。圖3中,塗成全白的圓係顯
示比較例A-3。圖3中,塗成全黑的四角係顯示比較例B-1。圖3中,塗成全黑的三角係顯示比較例B-2。圖3中,塗成全黑的圓係顯示比較例B-3。
比較例A-1係在溶解4質量%鹽鹵而成的水中產生了臭氧之微細氣泡的臭氧水。比較例A-2係將比較例A-1以水稀釋為2倍而成者。比較例A-3係將比較例A-1以水稀釋為5倍而成者。比較例B-1係在含有2質量%鹽鹵的水中產生了臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。比較例B-2係將比較例B-1以水稀釋為2倍而成者。比較例B-3係將比較例B-1以水稀釋為5倍而成者。
此外,關於比較例A-1至比較例A-3及比較例B-1至比較例B-3,係在作成了臭氧水之日進行了殺菌試驗。
結果,如圖3所示,在比較例A-1至比較例A-3及比較例B-1至比較例B-3中,於0分鐘時點的菌數(初始值)係約2.9×1.0E04(104)cfu/ml。
在比較例A-1中,經過20分鐘後的菌數成為約1.0×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約1.2×1.0E04cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約1.0×1.0E03(103)cfu/ml。
在比較例A-2中,經過20分鐘後的菌數成為約1.4×1.0E04cf㊣u/ml,經過40分鐘後的菌數成為約9.3×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約1.0×1.0E04cfu/ml。
在比較例A-3中,經過20分鐘後的菌數成為約1.7×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約1.1×1.0E04cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約5.6×1.0E03cfu/ml。
在比較例B-1中,經過20分鐘後的菌數成為約3.1×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約5.5×1.0E02(102)cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為
約1.7×1.0EO1(10)cfu/ml。
在比較例B-2中,經過20分鐘後的菌數成為約1.1×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約1.0×1.0E04cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約7.8×1.0E03cfu/ml。
在比較例B-3中,經過20分鐘後的菌數成為約1.2×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約1.1×1.0E04cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約1.3×1.0E04cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解鹽鹵的水中產生臭氧之微細氣泡之比較例的臭氧水,無論鹽鹵的濃度如何,殺菌效果均低。此外,可得知比較例的臭氧水,無論鹽鹵的濃度如何,若以水稀釋,則幾乎無法獲得殺菌效果。
此外,獲得相較於鹽鹵之濃度為4質量%的水,2質量%之臭氧水的殺菌效果更高的結果。估計由於鹽鹵其組成不固定,因此即使提高鹽鹵的濃度,亦無法提升臭氧水中之臭氧的含量。
圖4係顯示使用了實施例A-1至實施例A-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖4中,塗成全白的四角係顯示實施例A-1。圖4中,塗成全白的三角係顯示實施例A-2。圖4中,塗成全白的圓係顯示實施例A-3。圖4中,塗成全黑的四角係顯示實施例A-4。
實施例A-1係在溶解有1質量%(10g/l)氯化鎂、1質量%(10g/l)氯化鈉(NaCl)及0.4質量%(4g/l)氯化鉀(KCl)的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。實施例A-2係將實施例A-1以水稀釋為2倍而成者。實施例A-3係將實施例A-1以水稀釋為5倍而成者。實施例A-4係將實施例A-1以水稀釋為10倍而成者。
此外,關於實施例A-1至實施例A-4,係從作成了臭氧水之日起6天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖4所示,在實施例A-1至實施例A-4中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
在實施例A-1及實施例A-2中,在經過20分鐘後、經過40分鐘後及經過60分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例A-3中,經過20分鐘後的菌數成為約3.0×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後及經過60分鐘後,均未確認到菌的存在。
在實施例A-4中,經過20分鐘後的菌數成為約9.7×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約7.9×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約1.6×1.0E03cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有1質量%氯化鎂、1質量%氯化鈉及0.4質量%氯化鉀的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例A-1的臭氧水20分鐘就可殺菌。此外,可得知即使是將實施例A-1稀釋2倍而成的臭氧水(實施例A-2),亦與未稀釋的臭氧水(實施例A-1)同樣地20分鐘就可殺菌。
再者,已確認了即使是將實施例A-1稀釋5倍而成的臭氧水(實施例A-3),亦40分鐘就可殺菌。此外,可得知在將實施例A-1稀釋10倍而成的臭氧水(實施例A-4)中,藉由增長處理時間,殺菌效果獲得提升。
另外,由於以水稀釋的稀釋率愈上升殺菌效果愈降低,估計臭氧的含量因為稀釋而降低。
圖5係顯示使用了實施例A-5至實施例A-8之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖5中,塗成全白的四角係顯示實施例A-5。圖5中,塗成全白的
三角係顯示實施例A-6。圖5中,塗成全白的圓係顯示實施例A-7。圖5中,塗成全黑的四角係顯示實施例A-8。
實施例A-5的臭氧水係與實施例A-1相同者。實施例A-6的臭氧水係與實施例A-2相同者。實施例A-7的臭氧水係與實施例A-3相同者。實施例A-8的臭氧水係與實施例A-4相同者。另外,關於實施例A-5至實施例A-8,係不同於實施例A-1至實施例A-4,從作成臭氧水之日起12天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖5所示,在實施例A-5至實施例A-8中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
在實施例A-5及實施例A-6中,在經過20分鐘後、經過40分鐘後及經過60分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例A-7中,經過20分鐘後的菌數成為約6.7cfu/ml,經過40分鐘後及經過60分鐘後,均未確認到菌的存在。
在實施例A-8中,經過20分鐘後的菌數成為約3.7×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約2.9×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約2.4×1.0E03cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有1質量%氯化鎂、1質量%氯化鈉及0.4質量%氯化鉀的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例A-5的臭氧水,即使自產生起經過時間,亦具有與實施例A-1實質上相等的殺菌效果。
此外,可得知實施例A-5稀釋2倍而成的臭氧水(實施例A-6),即使自產生起經過時間,亦具有與實施例A-2實質上相等的殺菌效果。
同樣地,關於實施例A-5稀釋5倍而成的臭氧水(實施例A-7)、及
實施例A-5稀釋10倍而成的臭氧水(實施例A-8),即使自產生起經過時間,亦具有與實施例A-3、實施例A-4實質上相等的殺菌效果。
圖6係顯示使用了實施例B-1至實施例B-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖6中,塗成全白的四角係顯示實施例B-1。圖6中,塗成全白的三角係顯示實施例B-2。圖6中,塗成全白的圓係顯示實施例B-3。圖6中,塗成全黑的四角係顯示實施例B-4。
實施例B-1係在溶解有1質量%*(10g/l)氯化鎂的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。實施例B-2係將實施例B-1以水稀釋2倍而成者。實施例B-3係將實施例B-1以水稀釋5倍而成者。實施例B-4係將實施例B-1以水稀釋10倍而成者。
此外,關於實施例B-1至實施例B-4,係從作成臭氧水之日起6天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖6所示,在實施例B-1至實施例B-4中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
在實施例B-1中,在經過20分鐘後、經過40分鐘後及經過60分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例B-2中,經過20分鐘後的菌數成為約2.4×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約5.0×10cfu/ml,經過60分鐘後未確認到菌的存在。
在實施例B-3中,經過20分鐘後的菌數成為約4.3×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約5.3×1.0E02cfu/ml,經過60分鐘後未確認到菌的存在。
在實施例B-4中,經過20分鐘後的菌數成為約9.6×1.0E03cfu/ml,
經過40分鐘後的菌數成為約8.4×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘的菌數成為約2.5×1.0E03cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有1質量%氯化鎂的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例B-1的臭氧水20分鐘就可殺菌。此外,可得知即使是實施例B-1稀釋2倍而成的臭氧水(實施例B-2)及實施例B-1稀釋5倍而成的臭氧水(實施例B-3),亦60分鐘就可殺菌。
再者,可知在將實施例B-1稀釋10倍而成的臭氧水(實施例B-4)中,藉由將處理時間增長,殺菌效果獲得提升。
圖7係顯示使用了實施例C-1至實施例C-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖7中,塗成全白的四角係顯示實施例C-1。圖7中,塗成全白的三角係顯示實施例C-2。圖7中,塗成全白的圓係顯示實施例C-3。圖7中,塗成全黑的四角係顯示實施例C-4。
實施例C-1係在溶解有1質量%(10g/l)氯化鈉的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。實施例C-2係將實施例C-1以水稀釋2倍而成者。實施例C-3係將實施例C-1以水稀釋5倍而成者。實施例C-4係將實施例C-1以水稀釋10倍而成者。
此外,關於實施例C-1至實施例C-4,係從作成臭氧水之日起7天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖7所示,在實施例C-1至實施例C-4中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
實施例C-1中,在經過20分鐘後、經過40分鐘後及經過60分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例C-2中,在經過20分鐘後及經過40分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例C-3中,經過20分鐘後的菌數成為約8.7×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約4.9×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約4.2×1.0E03cfu/ml。
在實施例C-4中,經過20分鐘後的菌數成為約1.5×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約1.3×1.0E04cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約6.6×1.0E03cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有1質量%氯化鈉的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例C-1的臭氧水20分鐘就可殺菌。此外,可得知即使是將實施例C-1稀釋2倍而成的臭氧水(實施例C-2),亦可與未稀釋的臭氧水(實施例C-1)同樣地20分鐘就可殺菌。
此外,可得知在將實施例C-1稀釋5倍而成的臭氧水(實施例C-3)及將實施例C-1稀釋10倍而成的臭氧水(實施例C-4)中,相較於實施例B-3及實施例B-4,殺菌效果雖會降低,但藉由增長處理時間,殺菌效果獲得提升。
圖8係顯示使用了實施例D-1至實施例D-4之臭氧水之殺菌試驗之結果的圖。圖8中,塗成全白的四角係顯示實施例D-1。圖8中,塗成全白的三角係顯示實施例D-2。圖8中,塗成全白的圓係顯示實施例D-3。圖8中,塗成全黑的四角係顯示實施例D-4。
實施例D-1係在溶解有0.4質量%(4g/l)氯化鉀的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。實施例D-2係將實施例D-1以水稀釋2倍而成者。實施例D-3係將實施例D-1以水稀釋5倍而成者。實施例D-4係將實施例D-1以
水稀釋10倍而成者。
此外,關於實施例D-1至實施例D-4,係從作成臭氧水之日起7天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖8所示,在實施例D-1至實施例D-4中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
在實施例D-1中,經過20分鐘後的菌數成為約3.9×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約4.1×1.0E02cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約1.8×1.0E02cfu/ml。
在實施例D-2中,經過20分鐘後的菌數成為約6.4×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約7.5×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約3.4×1.0E03cfu/ml。
在實施例D-3中,經過20分鐘後的菌數成為約7.6×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約6.0×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約6.9×1.0E03cfu/ml。
在實施例D-4中,經過20分鐘後的菌數成為約1.0×1.0E04cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約9.7×1.0E03cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約5.4×1.0E03cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有0.4質量%氯化鉀的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例D-1至實施例D-4的臭氧水,相較於實施例B-1至實施例B-4及實施例C-1至實施例C-4,殺菌效果雖會降低,但藉由增長處理時間,殺菌效果獲得提升。
圖9係顯示使用了實施例E-1至實施例E-4之臭氧水之殺菌試驗
之結果的圖。圖9中,塗成全白的四角係顯示實施例E-1。圖9中,塗成全白的三角係顯示實施例E-2。圖9中,塗成全白的圓係顯示實施例E-3。圖9中,塗成全黑的四角係顯示實施例E-4。
實施例E-1係在溶解有2質量%(20g/l)氯化鎂、1質量%(10g/l)氯化鈉(NaCl)及0.4質量%(4g/l)氯化鉀(KCl)的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。實施例E-2係將實施例E-1以水稀釋2倍而成者。實施例E-3係將實施例E-1以水稀釋5倍而成者。實施例E-4係將實施例E-1以水稀釋10倍而成者。
此外,關於實施例E-1至實施例E-4,係從作成臭氧水之日起1天後進行了殺菌試驗。
結果,如圖9所示,在實施例E-1至實施例E-4中,0分鐘時點中的菌數(初始值)係約3.0×1.0E04cfu/ml。
在實施例E-1及實施例E-2中,於經過20分鐘後、經過40分鐘後及經過60分鐘後的任一者中,均未確認到菌的存在。
在實施例E-3中,經過20分鐘後的菌數成為約1.6×1.0E02cfu/ml,經過40分鐘後及經過60分鐘後,均未確認到菌的存在。
在實施例E-4中,經過20分鐘後的菌數成為約3.0×1.0E03cfu/ml,經過40分鐘後的菌數成為約3.7×1.0E02cfu/ml,經過60分鐘後的菌數成為約7.3×10cfu/ml。
綜上所述,已確認了在溶解有2質量%氯化鎂、1質量%氯化鈉及0.4質量%氯化鉀的水中產生臭氧之微細氣泡而成之實施例E-1的臭氧水20分鐘就可殺菌。此外,可得知即使是將實施例E-1稀釋2倍而成的臭氧水(實施例E-2),亦與未稀釋的臭氧水(實施例E-1)同樣地20分鐘就可殺菌。
再者,已確認了即使是將實施例E-1稀釋5倍而成的臭氧水(實施例E-3),亦40分鐘就可殺菌。此外,可得知即使是將實施例E-1稀釋10倍而成的臭氧水(實施例E-4),藉由將處理時間增長,殺菌效果獲得提升。
此外,已確認了實施例E-1至實施例E-4,其殺菌效果比實施例A-1至實施例A-4更高。從以上的結果可得知,藉由對於鎂化合物之濃度高的水供給臭氧,即可製造臭氧之微細氣泡之含量多的臭氧水。
[臭氧水處理裝置]
圖10係說明臭氧水處理裝置300的圖。另外,圖10中,影線係顯示臭氧水N。如圖10所示,臭氧水處理裝置300係包含臭氧水槽(tank)310、連接管312、開閉閥314及噴霧部320。
臭氧水槽310係貯存臭氧水N。如上所述,臭氧水N係含有1.0質量%以上且未達4.0質量%的鎂化合物及臭氧的微細氣泡。
連接管312係連接臭氧水槽310與噴霧部320的本體322。開閉閥314係設於連接管312。開閉閥314係藉由未圖示的開閉閥控制機構,當貯存於本體322內之臭氧水N的水位(水量)未達預定值時開閥。此外,開閉閥314係藉由開閉閥控制機構,當貯存於本體322內之臭氧水N的水位為預定值以上時閉閥。
噴霧部320係將臭氧水以粒徑10μm以下,較佳為粒徑3μm以上且5μm以下噴霧。在本實施型態中,噴霧部320係包含本體322、粒徑調整機構324、加熱部326及送風部328。
本體322係貯存臭氧水N的容器。本體322係例如為圓筒形狀。
粒徑調整機構324係接續於本體322的上部。粒徑調整機構324
係圓筒形狀的管。粒徑調整機構324係較本體322更小徑。粒徑調整機構324係伸縮自如。粒徑調整機構324係例如由波形管(bellows)(波紋管)所構成的管。
加熱部326係例如為電加熱器。加熱部326係將收容於本體322內的臭氧水N予以加熱。藉此,臭氧水N被霧化為粒徑10μm以下的粒子P。
送風部328係設於本體322內。送風部328係設置於貯存於本體322內之臭氧水N的上方。送風部328係將經由加熱部326所霧化之臭氧水N的粒子P引導至粒徑調整機構324。
藉由送風部328被引導至粒徑調整機構324之臭氧水N的粒子P,其上升距離(移動距離)依粒徑而有不同。茲具體地說明,粒徑愈大,則粒子P的上升距離愈短,粒徑愈小,則粒子P的上升距離愈長。因此,本實施型態之粒徑調整機構324係被調整為粒徑10μm之粒子P至少會到達粒徑調整機構324的開口324a,且超過粒徑10μm的粒子P不會到達開口324a的長度。藉此,臭氧水處理裝置300可將粒徑10μm以下的粒子P送出至外部。
綜上所述,本實施型態之臭氧水處理裝置300係可供給粒徑10μm以下之臭氧水N的粒子P。因此,臭氧水處理裝置300能夠將設置臭氧水處理裝置300之房間等對象空間進行消毒、殺菌、脫臭、漂白。
以往的噴霧裝置係噴霧超過粒徑10μm的臭氧水。因此,以往的噴霧裝置可將臭氧水進行噴霧的範圍較狹窄。此外,藉由以往之噴霧裝置所噴霧的臭氧水,由於粒徑較大,因此噴霧裝置之周圍的地板會被臭氧水沾濕。這樣一來,會有地板變色,或地板因為臭氧水而破損的問題。
相對於此,本實施型態之臭氧水處理裝置300,係噴霧粒徑10μm以下之臭氧水N的粒子P。因此,相較於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300
更能夠擴張可噴霧(擴散)臭氧水N的範圍。
此外,相較於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300所噴霧之粒子P的粒徑較小。因此,不同於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300可避免大量的粒子P落在臭氧水處理裝置300附近的事態。藉此,不同於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300可避免臭氧水處理裝置300之周圍的地板因為臭氧水N而沾濕的事態。因此,臭氧水處理裝置300能夠防止臭氧水處理裝置300之周圍之地板的變色及地板的破損。
再者,相較於以往之噴霧裝置所噴霧的粒子,本實施型態之臭氧水處理裝置300所噴霧的粒子P,其每單位體積的表面積較大。殺菌、脫臭等效果係與臭氧水之粒子的表面積成比例。因此,相較於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300更可效率良好地進行殺菌、脫臭等。因此,相較於以往的噴霧裝置,臭氧水處理裝置300能夠以低成本將對象空間進行殺菌、脫臭等。
使用產生臭氧氣體的臭氧產生器將對象空間進行殺菌、脫臭等的習知技術,在所能夠產生之臭氧氣體的濃度上有其極限。因此,使用臭氧產生器的習知技術,會有因為對象空間的大小或是對象空間中的菌量、臭味的程度等,而要設置複數台臭氧產生器,或臭氧產生器所進行之處理時間需變長的問題。
相對於此,臭氧水N係可長時間(長期間)保持比藉由臭氧產生器所產生之臭氧氣體更高濃度的臭氧。因此,本實施型態之臭氧水處理裝置300,只要調整要霧化之臭氧水N中所含之臭氧之微細氣泡的濃度,就可調整要供給至對象空間之臭氧的濃度。因此,相較於使用臭氧產生器的習知技術,能夠降低臭氧水處理裝置300的設置台數。此外,相較於使用臭氧產生器的習知技術,臭氧水處理裝置300係可縮短對象空間的處理時間(粒子P的噴霧時間)。
此外,如上所述,噴霧部320係具備加熱部326。藉此,臭氧水處理裝置300係可用低成本產生粒子P。此外,臭氧水處理裝置300係可將噴霧部320予以小型化。
[評估方法]
以往,並未建立評估將臭氧水的粒子噴霧於對象空間時之殺菌、脫臭等效果之有效率的方法。因此,在本實施型態中,將說明可有效率地評估對象空間之殺菌、脫臭等效果的評估方法。
圖11係說明本實施型態之評估方法之處理之流程的流程圖。如圖11所示,評估方法係包含設置步驟S310、處理步驟S320、培養步驟S330、計數步驟S340及評估步驟S350。
[設置步驟S310]
設置步驟S310係在相距於臭氧水處理裝置300(噴霧部320之開口324a)之距離不同的複數個測量點上設置預定數之菌的步驟。
圖12係說明對象空間10及測量點α至測量點δ之一例的圖。如圖12所示,對象空間10係例如設置有門(door)12的屋子。在對象空間10中,亦可設有設置物20(例如桌子(table))。臭氧水處理裝置300係設置於對象空間10。
複數個測量點α至測量點δ相距於臭氧水處理裝置300的距離各有不同。例如,測量點α、測量點β及測量點γ係配置於同一直線上。臭氧水處理裝置300與測量點α的距離La,係較臭氧水處理裝置300與測量點β的距離Lb為短。臭氧水處理裝置300與測量點β的距離Lb係較臭氧水處理裝置300與測量點γ的距離Lc為短。
此外,測量點δ係配置於在測量點γ上與配置有測量點α、測
量點β及測量點γ的直線交叉(正交)的線上。測量點γ與測量點δ係隔開距離Ld。
再者,在設置步驟S310中,係在測量點α至測量點δ,設置保持有預定數之菌的薄膜過濾器。
[處理步驟S320]
處理步驟S320係開始驅動噴霧部320的加熱部326,將臭氧水N以粒徑10μm以下進行噴霧,且使粒子P擴散於對象空間10內的步驟。
[培養步驟S330]
培養步驟S330係開始處理步驟S320起經過預定時間後,從對象空間10取出設置於測量點α至測量點δ的薄膜過濾器,且培養每一薄膜過濾器之菌的步驟。預定時間係例如為30分鐘以上60分鐘以下之預定的時間。
此外,在培養步驟S330中,係培養不執行處理步驟S320之保持有預定數之菌的薄膜過濾器作為陽性對照(positive control)。
[計數步驟S340]
計數步驟S340係計數培養步驟S330中所培養之被薄膜過濾器所保持之菌之數量(菌數)的步驟。
[評估步驟S350]
評估步驟S350係根據在計數步驟S340中所計數的菌數,而評估殺菌、脫臭等效果的步驟。例如,在評估步驟S350中,係比較陽性對照的菌數與設置於測量點α至測量點δ之薄膜過濾器的菌數。再者,若陽性對照之菌數與設置於測量點α至測量點δ之薄膜過濾器之菌數的差分為預定值以上,則判定具有殺菌、脫臭等
效果。另一方面,若陽性對照之菌數、與設置於測量點α至測量點δ之薄膜過濾器之菌數的差分未達預定值,則判定無殺菌、脫臭等效果。
綜上所述,本實施型態之評估方法係在相距於臭氧水處理裝置300(噴霧部320)之距離不同的複數個測量點上設置預定數的菌,且使臭氧水處理裝置300驅動。再者,評估方法係根據自開始驅動臭氧水處理裝置300起經過預定時間後的各測量點上之菌的增減數,而評估殺菌、脫臭等效果。藉此,評估方法即能夠定量地評估臭氧水N之粒子P所達成之測量點上的殺菌效果。換言之,評估方法係可定量地評估臭氧水N之粒子P所達成之源自於菌之臭味的脫臭效果。
此外,本實施型態之評估方法係在相距於臭氧水處理裝置300之距離不同的複數個測量點上設置預定數的菌。藉此,評估方法即能夠評估臭氧水N之粒子P所達成之每一測量點之殺菌、脫臭等效果。此外,評估方法係可推測出相距於臭氧水處理裝置300的距離與預定之測量點相同之位置的殺菌、脫臭等效果。
[第二實施例]
茲使用上述評估方法評估了藉由臭氧水處理裝置300所進行的實施例F、比較例C、比較例D的殺菌效果。
將103cells/ml之菌液點滴1.0ml於薄膜過濾器而成者,及將104cells/ml之菌液點滴1.0ml於薄膜過濾器而成者收容於開孔培養皿內,並設置於上述對象空間10之測量點α至測量點δ。臭氧水處理裝置300與測量點α的距離La設為10cm。臭氧水處理裝置300與測量點β的距離Lb設為1.5m。臭氧水處理裝置300與測量點γ的距離Lc設為3m。測量點γ與測量點δ的距
離Ld設為1m。薄膜過濾器係使用了孔徑大小(pore size)0.45μm、直徑47mm者。
再者,將實施例F、比較例C、比較例D供給至臭氧水處理裝置300,且在對象空間10內的溫度於20℃以上之預定的溫度下穩定,相對濕度於65%以上之預定的相對濕度下穩定之後,開始驅動加熱部326。
實施例F係在溶解有1質量%(10g/l)氯化鎂的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水。比較例C係在溶解有3.25g/l鈉(相當食鹽8.3g/l)的水中產生臭氧之超微細臭氧氣泡而成的臭氧水。比較例D係在溶解有5.1g/l鈉的水中產生臭氧之奈米氣泡(nano bubble)而成的臭氧水。實施例F中的氣泡數係1.6億個/ml。實施例F中的臭氧濃度係3mg/l。比較例C中的氣泡數係0.2億個/ml。比較例C中的臭氧濃度係2mg/l。比較例D中的氣泡數係1.2億個/ml。比較例D中的臭氧濃度係3mg/l。
再者,自開始驅動加熱部326起(處理時間)0分鐘後、30分鐘後、45分鐘後取出薄膜過濾器。所取出的薄膜過濾器在洋菜平板上培養。之後,計數所培養之薄膜過濾器上的菌數。
圖13A係顯示使用實施例F時之點滴103cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖13B係顯示使用實施例F時之點滴104cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖13A、圖13B中,白色係顯示測量點α的菌數。圖13A、圖13B中,影線係顯示測量點β的菌數。圖13A、圖13B中,交叉影線係顯示測量點γ的菌數。圖13A、圖13B中,黑色係顯示測量點δ的菌數。
如圖13A所示,在實施例F中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係1058個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點
α的菌數係20個,測量點β的菌數係41個,測量點γ的菌數係61個,測量點δ的菌數係77個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係12個,測量點β的菌數係12個,測量點γ的菌數係48個,測量點δ的菌數係50個。
如圖13B所示,在實施例F中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係10600個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點α的菌數係216個,測量點β的菌數係1058個,測量點γ的菌數係1058個,測量點δ的菌數係1058個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係100個,測量點β的菌數係314個,測量點γ的菌數係294個,測量點δ的菌數係355個。
圖14A係顯示使用比較例C時之點滴103cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖14B係顯示使用比較例C時之點滴104cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖14A、圖14B中,白色係顯示測量點α的菌數。圖14A、圖14B中,影線係顯示測量點β的菌數。圖14A、圖14B中,交叉影線係顯示測量點γ的菌數。圖14A、圖14B中,黑色係顯示測量點δ的菌數。
如圖14A所示,在比較例C中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係1235個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點α的菌數係458個,測量點β的菌數係512個,測量點γ的菌數係540個,測量點δ的菌數係480個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係460個,測量點β的菌數係500個,測量點γ的菌數係532個,測量點δ的菌數係450個。
如圖14B所示,在比較例C中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係12350個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量
點α的菌數係12350個,測量點β的菌數係12350個,測量點γ的菌數係12350個,測量點δ的菌數係12350個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係12350個,測量點β的菌數係1512個,測量點γ的菌數係1304個,測量點δ的菌數係1094個。
圖15A係顯示使用比較例D時之點滴103cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖15B係顯示使用比較例D時之點滴104cells/ml之菌液後之薄膜過濾器的結果。圖15A、圖15B中,白色係顯示測量點α的菌數。圖15A、圖15B中,影線係顯示測量點β的菌數。圖15A、圖15B中,交叉影線係顯示測量點γ的菌數。圖15A、圖15B中,黑色係顯示測量點δ的菌數。
如圖15A所示,在比較例D中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係1235個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點α的菌數係420個,測量點β的菌數係400個,測量點γ的菌數係436個,測量點δ的菌數係500個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係380個,測量點β的菌數係392個,測量點γ的菌數係396個,測量點δ的菌數係420個。
如圖15B所示,在比較例D中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係12350個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點α的菌數係12350個,測量點β的菌數係12350個,測量點γ的菌數係12350個,測量點δ的菌數係12350個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係12350個,測量點β的菌數係980個,測量點γ的菌數係1204個,測量點δ的菌數係1394個。
從以上的結果來看,已確認了實施例F相較於比較例C、比較例
D,其殺菌效果更高。
[第三實施例]
第三實施例係僅臭氧水處理裝置300所進行之臭氧水的噴霧方式與第二實施例不同,其他評估方法則實質上相同。在第三實施例中,係對於在溶解有1質量%(10g/l)氯化鎂的水中產生臭氧之微細氣泡而成的臭氧水施加超音波,且以粒徑10μm以下進行了噴霧。
另外,將104cells/ml之菌液點滴1.0ml於薄膜過濾器而成者收容於開孔培養皿內,並設置於對象空間10之測量點α至測量點δ。
圖16係顯示使用了第三實施例時之菌數的圖。圖16中,白色係顯示測量點α的菌數。圖16中,影線係顯示測量點β的菌數。圖16中,交叉影線係顯示測量點γ的菌數。圖16中,黑色係顯示測量點δ的菌數。
如圖16所示,在第三實施例中,當處理時間為0分鐘時,在測量點α至測量點δ中,菌數係13000個。此外,當處理時間為30分鐘時,測量點α的菌數係0個,測量點β的菌數係3個,測量點γ的菌數係60個,測量點δ的菌數係100個。當處理時間為45分鐘時,測量點α的菌數係0個,測量點β的菌數係0個,測量點γ的菌數係0個,測量點δ的菌數係0個。
從以上的結果來看,已確認了無論霧化方式如何,藉由將臭氧水N以粒徑10μm以下進行噴霧,可效率良好地進行殺菌。此外,可得知比起加熱方式,超音波方式的殺菌效果更高。
以上雖已參照所附圖式說明了一實施型態,但本揭示當然不限定於上述實施型態。當可明瞭若為本發明所屬技術領域中具有通常知識者,可在申請專利範圍所記載的範圍內思及各種變更例或修正例,應理解該等當然亦屬本
揭示的技術範圍。
例如,在上述的實施型態中,已舉出氣泡導入部120為回旋流式裝置之情形為例。然而,氣泡導入部120若可在鎂溶液M中產生臭氧的微細氣泡,則其構成並無限定。氣泡導入部120例如亦可為加壓溶解式的裝置。
在上述實施型態中,已舉出臭氧水處理裝置300具備加熱部326的構成為例。然而,臭氧水處理裝置若可將臭氧水N以粒徑10μm以下進行噴霧,則霧化方式並無限定。例如,臭氧水處理裝置亦可具備對於貯存於本體322中的臭氧水N施加超音波的超音波施加機構。此時,可控制所要施加之超音波的頻率(振盪頻率)以控制臭氧水N的噴霧量。
此外,臭氧水處理裝置亦可具備二流體噴管、壓力噴霧閥或噴霧噴嘴(spray nozzle)。
此外,在上述實施型態中,已舉出本體322內設置送風部328的構成為例。然而,送風部328亦可設於本體322外,例如粒徑調整機構324之開口324a的附近。
此外,在上述實施型態中,已舉出臭氧水處理裝置300具備送風部328的構成為例。然而,臭氧水處理裝置300亦可不具備送風部328。當臭氧水處理裝置300不具備送風部328時,亦可藉由已設於對象空間10內的空調設備來擴散臭氧水N的粒子P。
此外,當將臭氧水處理裝置300設置於車輛內時,亦可使車輛的空調設備運轉,使臭氧水N的粒子P不僅擴散於車輛的室內,亦擴散於空調設備內。另外,在此情形下,空調設備較佳為設定為內氣循環。此外,空調設備較佳為設定為暖氣。這樣一來,室內溫度上升,被吸附於車輛的座位、車頂等各處
的臭味會於室內釋出。藉此,可使臭氧水N之粒子P所達成的脫臭效果更進一步提升。此外,臭氧水N之粒子P所達成之殺菌、脫臭等效果,將隨著溫度升高而提升。因此,將能夠使臭氧水N之粒子P所達成之殺菌、脫臭等效果更進一步增加。
此外,在上述實施型態中,臭氧水處理裝置300的粒徑調整機構324已舉出其為波紋管的情形為例。然而,粒徑調整機構324亦可不伸縮自如。此時,粒徑調整機構324的長度係設定為使所期望之粒徑的粒子P至少能到達粒徑調整機構324的開口324a。
此外,在上述實施型態中,已舉出臭氧水處理裝置300具備連接管312及開閉閥314的構成為例。然而,從臭氧水槽310供給臭氧水N至本體322的機構並無限定。例如,亦可在臭氧水槽310的下部,設置藉由彈簧的彈推力開閉的開閉閥。
此外,在上述實施型態的評估步驟S350中,已舉出比較陽性對照的菌數與設置於測量點α至測量點δ之薄膜過濾器之菌數的情形為例。然而,評估步驟S350亦可若在計數步驟S340中所計數的菌數為未達預定值,即判定具有殺菌、脫臭等效果。此外,在評估步驟S350中,亦可若在計數步驟S340中所計數的菌數為預定值以上,即判定無殺菌、脫臭等效果。
[產業上的可利用性]
本發明係可利用在臭氧水製造裝置、臭氧水製造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置及評估方法。
100:臭氧水製造裝置
110:溶液收容部
120:氣泡導入部
130:臭氧分解部
150:取水管
152:送水管
210:臭氧產生部
212:氣泵
212a:送氣管
214:質量流量控制器
214a:送氣管
216:混氣泵
216a:送水管
218:管路混合器
M:鎂溶液
N:臭氧水
Claims (5)
- 一種臭氧水製造裝置,係具備:溶液收容部,係收容僅1質量%以上2質量%以下的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液;及氣泡導入部,係將臭氧的微細氣泡導入於前述鎂溶液中。
- 一種臭氧水製造方法,係將臭氧的微細氣泡導入於僅1質量%以上2質量%以下的鎂化合物溶解於水中而成的鎂溶液中。
- 一種臭氧水,係僅包含臭氧的微細氣泡以及1質量%以上2質量%以下的鎂化合物。
- 一種臭氧水處理裝置,係具備噴霧部,該噴霧部係以粒徑10μm以下將臭氧水進行噴霧,該臭氧水係僅包含臭氧的微細氣泡以及1質量%以上2質量%以下的鎂化合物。
- 一種評估方法,係包含下列步驟:將預定數的菌設置在距噴霧部不同距離的複數個測量點的步驟,該噴霧部係以粒徑10μm以下將臭氧水進行噴霧,該臭氧水係僅包含臭氧的微細氣泡以及1質量%以上2質量%以下的鎂化合物;由前述噴霧部以粒徑10μm以下將前述臭氧水進行噴霧的步驟;及自執行前述噴霧的步驟起經過預定時間之後計數前述複數個測量點各者之前述菌之數量的步驟。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019067035 | 2019-03-29 | ||
JP2019-067035 | 2019-03-29 | ||
JP2019-212054 | 2019-11-25 | ||
JP2019212054 | 2019-11-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202104096A TW202104096A (zh) | 2021-02-01 |
TWI750618B true TWI750618B (zh) | 2021-12-21 |
Family
ID=72668501
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109110566A TWI750618B (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 臭氧水製造裝置、臭氧水製造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置及評估方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220009776A1 (zh) |
EP (1) | EP3950605A4 (zh) |
JP (1) | JPWO2020203698A1 (zh) |
CN (1) | CN113646269A (zh) |
BR (1) | BR112021019277A2 (zh) |
SG (1) | SG11202110738YA (zh) |
TW (1) | TWI750618B (zh) |
WO (1) | WO2020203698A1 (zh) |
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-
2020
- 2020-03-26 JP JP2021511956A patent/JPWO2020203698A1/ja active Pending
- 2020-03-26 CN CN202080025929.3A patent/CN113646269A/zh active Pending
- 2020-03-26 EP EP20784308.7A patent/EP3950605A4/en not_active Withdrawn
- 2020-03-26 SG SG11202110738YA patent/SG11202110738YA/en unknown
- 2020-03-26 BR BR112021019277A patent/BR112021019277A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2020-03-26 WO PCT/JP2020/013843 patent/WO2020203698A1/ja unknown
- 2020-03-27 TW TW109110566A patent/TWI750618B/zh active
-
2021
- 2021-09-27 US US17/485,631 patent/US20220009776A1/en active Pending
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Publication number | Publication date |
---|---|
SG11202110738YA (en) | 2021-10-28 |
US20220009776A1 (en) | 2022-01-13 |
TW202104096A (zh) | 2021-02-01 |
WO2020203698A1 (ja) | 2020-10-08 |
EP3950605A1 (en) | 2022-02-09 |
EP3950605A4 (en) | 2023-03-08 |
BR112021019277A2 (pt) | 2022-01-04 |
JPWO2020203698A1 (zh) | 2020-10-08 |
CN113646269A (zh) | 2021-11-12 |
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