TWI750542B - 感測器及其封裝組件 - Google Patents

感測器及其封裝組件 Download PDF

Info

Publication number
TWI750542B
TWI750542B TW108142672A TW108142672A TWI750542B TW I750542 B TWI750542 B TW I750542B TW 108142672 A TW108142672 A TW 108142672A TW 108142672 A TW108142672 A TW 108142672A TW I750542 B TWI750542 B TW I750542B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
redistribution layer
die
package assembly
molding compound
sensor
Prior art date
Application number
TW108142672A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202106605A (zh
Inventor
張耿嘉
莊鑫毅
Original Assignee
德商羅伯特博斯奇股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 德商羅伯特博斯奇股份有限公司 filed Critical 德商羅伯特博斯奇股份有限公司
Publication of TW202106605A publication Critical patent/TW202106605A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI750542B publication Critical patent/TWI750542B/zh

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
    • B81C1/00222—Integrating an electronic processing unit with a micromechanical structure
    • B81C1/0023—Packaging together an electronic processing unit die and a micromechanical structure die
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0032—Packages or encapsulation
    • B81B7/007—Interconnections between the MEMS and external electrical signals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0032—Packages or encapsulation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0009—Structural features, others than packages, for protecting a device against environmental influences
    • B81B7/0019—Protection against thermal alteration or destruction
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0009—Structural features, others than packages, for protecting a device against environmental influences
    • B81B7/0022—Protection against electrostatic discharge
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0032—Packages or encapsulation
    • B81B7/0061—Packages or encapsulation suitable for fluid transfer from the MEMS out of the package or vice versa, e.g. transfer of liquid, gas, sound
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02—Sensors
    • B81B2201/0264—Pressure sensors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00—Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/01—Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS
    • B81B2207/012—Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS the micromechanical device and the control or processing electronics being separate parts in the same package
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00—Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/07—Interconnects
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00—Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/09—Packages
    • B81B2207/091—Arrangements for connecting external electrical signals to mechanical structures inside the package
    • B81B2207/094—Feed-through, via
    • B81B2207/096—Feed-through, via through the substrate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00—Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/11—Structural features, others than packages, for protecting a device against environmental influences
    • B81B2207/115—Protective layers applied directly to the device before packaging
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C2203/00—Forming microstructural systems
    • B81C2203/01—Packaging MEMS
    • B81C2203/0109—Bonding an individual cap on the substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

本發明揭露了一種感測器的封裝組件，包括：重佈線層，其包括相對的第一面和第二面；第一晶粒，其電連接至所述重佈線層的所述第一面；模塑膠，其包括相對的第三面和第四面，所述模塑膠的所述第三面與所述重佈線層的所述第一面結合；所述模塑膠在所述重佈線層的所述第一面側囊封所述第一晶粒；以及，感測元件，其電連接至所述重佈線層。該感測器的封裝組件允許更多的元件封裝在一起，並且提供更好的結構支撐或提供封裝組件更好的熱分佈，同時降低了整個封裝組件的體積和成本。

Description

感測器及其封裝組件
本發明涉及感測器技術，尤其涉及基於微機電技術的感測器及其封裝組件。
微機電系統(Micro Electro-Mechanical System，MEMS)感測器是採用微電子和微機械加工技術製造出來的感測器。與傳統的感測器相比，它具有體積小、重量輕、成本低、功耗低、可靠性高、適於批量化生產、易於整合和實現智慧化的特點。同時，在微米量級的特徵尺寸使得它可以完成某些傳統機械感測器所不能實現的功能。MEMS感測器廣泛地應用於汽車、可攜式消費電子設備乃至醫療領域。
MEMS感測器的封裝是MEMS感測器設計與製造中的關鍵因素，MEMS感測器的封裝有著特殊的要求，例如感測器需要感知外界環境的變化以及實現電信號引出的功能，因此需要在感測器的外殼上保留與外界直接相連的通路用以感知光、熱、氣壓、力等物理資訊。一個典型的實例是：MEMS壓力感測器(Pressure Sensor)，其需要在其外殼設置開口感知外部的介質壓力。傳統的MEMS封裝包括：晶片封裝、元件封裝以及系統級封裝。然而當前市場的需求要求將更多元件和功能整合到越來越小的空間中。現有的封裝方案難以滿足對較高部件密度設備的需求。
本發明的目的在於解決感測器的體積大的問題。按照本發明的實施例的一種感測器封裝組件，其包括：重佈線層，其包括相對的第一面和第二面；第一晶粒，其電連接至所述重佈線層的所述第一面；模塑膠，其包括相對的第三面和第四面，所述模塑膠的所述第三面與所述重佈線層的所述第一面結合，所述模塑膠在所述重佈線層的所述第一面側囊封所述第一晶粒；以及感測元件，其電連接至所述重佈線層。
可選地，所述感測器裝置還包括第二晶粒和第三晶粒，所述第二晶粒電連接到所述重佈線層的所述第一面，所述模塑膠在所述重佈線層的所述第一面側囊封所述第二晶粒，所述第三晶粒電連接至所述重佈線層的所述第二面。
可選地，所述封裝組件還包括模塑通孔電連接體，所述模塑通孔電連接體貫穿所述模塑膠的第三面和第四面並連接至所述重佈線層；所述模塑膠的第四面上還包括襯墊，所述重佈線層通過所述模塑通孔電連接體電連接至所述襯墊。
可選地，所述模塑膠還包括連接所述第三面和第四面的側壁，所述襯墊沿所述模塑膠的第四面延伸至所述模塑膠的側壁的外表面。
可選地，所述封裝組件還包括罩殼，其安裝於所述重佈線層的所述第二面上，所述罩殼與所述重佈線層的所述第二面之間形成第一空間，所述感測元件位於所述第一空間中，所述罩殼設置有連通所述第一空間與外界的第一透氣口。
可選地，所述罩殼黏著於所述重佈線層的所述第二面上。
可選地，所述封裝組件還包括凝膠狀填充物，其至少部分地填充所述第一空間，所述凝膠狀填充物覆蓋所述感測元件。
可選地，在所述感測元件與所述重佈線層的所述第二面之間形成與所述第一空間相互不透氣地隔離的第二空間；所述重佈線層包括貫穿所述重佈線層的第一面和第二面的第二透氣口；所述模塑膠包括貫穿所述模塑膠的第三面和第四面的第三透氣口，所述第二透氣口與第三透氣口相互連通，所述第二空間通過所述第二透氣口與第三透氣口連通外界。
可選地，所述感測元件為MEMS壓力感測元件，以及所述第一晶粒為ASIC。
根據本發明的另一方面，提供了一種感測器，其包括所述的感測器的封裝組件和承載基板，所述感測器的封裝組件安裝在所述承載基板上。
從以上可以看出，根據本發明的感測器的封裝組件。通過設置重佈線層和模塑膠，使得允許更多的元件封裝在一起，並且提供更好的結構支撐或/和提供封裝組件更好的熱分佈。同時降低了整個封裝組件的體積和成本。
11:重佈線層/RDL
12:感測元件
13:模塑膠
14:罩殼
15:第一晶粒
16:第二晶粒
17:第三晶粒
18:第一空間
19:導電柱
20:襯墊
21:凝膠狀填充物
22:導電凸塊
23:爬錫通道
24:第二空間
25:引線鍵合
26:矽通孔電連接體/TSV電連接體
27:覆晶法
100:封裝組件
111:第一面
112:第二面
113:重配線
114:介質層
115:第二透氣口
131:第三面
132:第四面
133:側壁
134:第三透氣口
141:第一透氣孔
151:前表面
161:前表面
200:封裝組件
300:封裝組件
400:封裝組件
本發明的特徵、特點、優點和益處通過以下結合附圖的詳細描述將變得顯而易見。
[圖1]示出了根據本發明一個實施例的感測器的封裝組件的橫截面結構示意圖。
[圖2]示出了根據本發明另一個實施例的感測器的封裝組件的橫截面結構示意圖。
[圖3]示出了根據本發明再一個實施例的感測器的封裝組件的橫截面結構示意圖。
[圖4]示出了根據本發明還一個實施例的感測器的封裝組件的橫截面結構示意圖。
下面，結合附圖詳細描述本發明的實施例。
圖1示出了根據本發明的一個實施例的感測器的封裝組件100的橫截面結構。如圖所示，該感測器的封裝組件100包括重佈線層(Redistribution Layer，RDL)11、感測元件12、模塑膠13、罩殼14以及第一晶粒15，可選地還包括第二晶粒16和第三晶粒17。其中，RDL 11包括相對的第一面111和第二面112，第一晶粒15和第二晶粒16電連接至RDL 11的第一面111，第三晶粒17電連接至RDL 11的第二面112。模塑膠13在RDL 11的第一面111側囊封第一晶粒15和第二晶粒16。模塑膠13包括相對的第三面131和第四面132。模塑膠13在RDL 11的第一面111側囊封第一晶粒15和第二晶粒16時，模塑膠13的第三面131與RDL 11的第一面111結合在一起。此外，模塑膠13中還可以包括若干個導電柱19，若干個導電柱19由RDL 11的第一面111向第二面112延伸並且貫穿模塑膠13。罩殼14安裝於RDL 11的第二面上112，罩殼14與RDL 11的第二面112之間形成第一空間18。罩殼14上設置有連通第一空間18與外界的第一透氣口141；感測元件12位於第一空間18中並且電連接至RDL 11的第二面112。
RDL 11包括重配線113和介質層114，重配線113可以為一個或者多個。在本實施例中，RDL 11中包括內嵌的重配線113。其例如可以通過以下方式形成：首先形成晶種層、然後形成金屬(例如銅)圖案來生成重配線113。可選地，還可以通過沉積(例如濺鍍)和蝕刻的製程來形成重配線113。重配線113的材料可包括但不限於金屬材料，諸如銅、鈦、鎳、金及其組合或合金。重配線113的金屬圖案隨後被嵌入在介質層114中。介質層114可以是任何合適的介質材 料，例如氧化物或聚合物(例如聚醯亞胺)。重配線113的暴露部分可用於不同晶粒的電連接。RDL 11可通過逐層製程形成，並且可利用薄膜技術形成。本實施例中，RDL 11具有比傳統有機或層合基板更薄的厚度。例如傳統六層有機或層合基板具有300μm至500μm的厚度。RDL 11的厚度可由重配線113和介質層114的數量以及形成方式來決定。本實施例中，重配線113具有3μm至10μm的厚度，而介質層114具有2μm至5μm的厚度。本實施例的RDL 11還允許實現與傳統有機或層合基板相比更窄的線間距寬度(微細間距)和更細的線。本實施例中，RDL 11總共具有小於50μm的厚度，例如30μm至25μm抑或更小的厚度，例如20μm。本實施例中，RDL 11的第一面111由介質層114形成來用於實現RDL 11的鈍化。
參考圖1，感測元件12、第一晶粒15、第二晶粒16和第三晶粒17電連接到RDL 11。第一晶粒15的類型可取決於具體的應用。例如第一晶粒15可以是邏輯部件(例如ASIC)、記憶體或其它部件，不同類型的第一晶粒15可以被電連接至RDL 11。第二晶粒16和第三晶粒17可以是被動部件，諸如電容器或電感器。本實施例中，第一晶粒15和第二晶粒16電連接到RDL 11的第一面111上和重配線113連接從而電連接到RDL 11。感測元件12和第三晶粒17電連接至RDL 11的第二面上112。
電連接可利用多種技術來實現。例如第一晶粒15和第二晶粒16可利用覆晶法(Flip Chip)來實現。具體地，第一晶粒15和第二晶粒16包括具有接觸墊(圖中未示出)的側面和不包括接觸墊的相對的另外一個側面。具有接觸墊的側面還可以包括圍繞接觸墊的鈍化層。第一晶粒15和第二晶粒16的具有接觸墊的側面電連接到RDL 11的第一面111上。進一步地，第一晶粒15和第二晶粒16的接觸墊利用導電凸塊諸如焊接材料電連接到RDL 11的重配線的暴露部分。同時，可以利用導電凸塊和側向圍繞該導電凸塊的非導電膏(NCP)或非導電膜(NCF)將第三晶粒17電連接到RDL 11的第二面112上，電連接可利用熱壓縮從 第二面112將導電凸塊電連接到RDL 11的重配線的暴露部分來實現。導電凸塊由例如金或焊接材料形成。
然後可利用模塑膠13將第一晶粒15和第二晶粒16進行囊封。模塑膠13由例如熱固性交聯樹脂(例如環氧樹脂)、液體或顆粒、片材或膜組成。可以採用合適的技術來實現囊封第一晶粒15和第二晶粒16，例如壓縮模塑、液體囊封劑注射和層合。本實施例中，模塑膠13是填充在RDL 11的第一面111側並且囊封第一晶粒15和第二晶粒16的連續的均一成分層。如圖1所示，模塑膠13包括相對的第三面131和第四面132，當模塑膠13在RDL 11的第一面111囊封第一晶粒15和第二晶粒16時，模塑膠13的第三面131與RDL 11的第一面111接觸，第一晶粒15和第二晶粒16的橫向側被封在模塑膠13中。與此同時，在第一晶粒15和第二晶粒16的遠離RDL 11的第一面111的前表面151和161上方也形成模塑膠13。本領域技術人員應當理解，並不要求第一晶粒15和第二晶粒16的前表面都封在模塑膠13內。例如在其他一些實施例中，第一晶粒15和第二晶粒16的橫向側被封在模塑膠13中，但在第一晶粒15和第二晶粒16的前表面上不形成模塑膠，即第一晶粒15和第二晶粒16的前表面暴露。
模塑膠13中包括至少一個導電柱19，本實施例中，導電柱19是模塑通孔(Through Mold Via，TMV)電連接體，TMV電連接體貫穿模塑膠13的第三面131和第四面132並連接RDL 11的第一面111。具體地，TMV電連接體連接到RDL 11的單個或多個重配線實現與RDL 11的電連接。TMV電連接體可以通過任何合適的方式在模塑膠13上形成。包括鑽孔形成例如雷射鑽孔。也可以在模塑膠13形成的過程中預先設置柱狀結構從而在脫模過程中形成。在形成TMV電連接體後，可以對其進行清潔，以便於後續的處理。清潔可包括任何合適的操作，例如：濕式蝕刻、等離子體蝕刻或其組合。TMV電連接體的數量由RDL 11上包括的輸入輸出(I/O)器件的數量決定。通過設置TMV電連接體可以實現感測器的 封裝組件100的信號輸出至其他電路例如作為感測器的承載基板的PCB板。如圖所示，向TMV電連接體中添加導電的填充物，填充物為導電的堵封材料或是金屬例如銅。填充可以通過任何合適的操作來實現確保填充物和RDL 11之間適當的電連接。模塑膠13的第四面132上在TMV電連接體處還設置有襯墊20。TMV電連接體連接至襯墊20。
罩殼14安裝於RDL 11的第二面112上，本實施例中，罩殼14通過黏合劑黏著於RDL 11的第二面112上。可以使用導電黏合劑實現良好的電磁干擾(EMI)遮罩。罩殼14安裝於RDL 11的第二面112上，罩殼14與RDL 11的第二面112之間形成第一空間18。感測元件12位於第一空間18中並電連接至RDL 11的第二面112。罩殼14還包括有連通第一空間18與外界的第一透氣口141。
可以利用多種電連接技術將感測元件12電連接至RDL 11的第二面112，實現感測元件12與RDL 11的電性連接，例如圖1中所示的引線鍵合25、覆晶法27或者矽通孔(Through Silicon Via，TSV)電連接體26。
在本實施例的感測器的封裝組件100中，感測元件12為MEMS流體壓力感測元件，用於測量外部介質例如空氣或者液體的壓力。第一晶粒15為ASIC，ASIC包括嵌入在例如矽、砷化鎵、SiC(碳化矽)石墨烯或者任何半導體材料的基板內和/或上的一個或者多個電路，其被配置為執行特定任務或實現特定功能。具體地，外部介質通過連通第一空間18和外部空間的第一透氣孔141進入第一空間18內，感測元件12感測外部介質的壓力。而電連接在RDL 11上的與感測元件12電性連接的第一晶粒15、第二晶粒16和第三晶粒17將感測元件12感測到的外部介質的壓力轉化為電信號並經由TMV 19輸出。
同時，還可以使用保護構件例如凝膠狀填充物21保護感測元件12，從而在惡劣工作環境中保護感測元件12的正常工作。凝膠狀填充物21至少部分地填充所述第一空間18並覆蓋感測元件12。進一步地，還可以覆蓋RDL 11的 第二面112，甚至可以覆蓋電連接在RDL 11第二面112上的第三晶粒17。凝膠狀填充物21具有電絕緣特性，凝膠狀填充物21用於保護感測元件12和第三晶粒17避免受到引入的介質污染物的影響，凝膠狀填充物21與溶液相比更偏向固體形式的膠狀材料，凝膠狀填充物21可以使流體壓力感測元件12與惡劣的周圍環境隔離，同時可以精確向感測元件12傳遞外部介質施加的壓力。
圖2示出了根據本發明的第二個實施例的感測器的封裝組件200的橫截面結構。相比較於圖1，圖2中的感測器的封裝組件200在形成模塑膠13之後，導電凸塊22可附加到模塑膠13或在模塑膠13上直接形成。如圖所示，導電凸塊22設置於模塑膠13的第四面132上的模塑通孔19處。導電凸塊22可使用多種結構，例如是圖2中示出的焊球，或者是鍍覆的樁。導電凸塊22被配置成將感測器的封裝組件電連接到其他電路例如承載基板。
圖3示出了根據本發明的第三個實施例的感測器的封裝組件300的橫截面結構。相比較於圖1，圖3中的感測器的封裝組件300中模塑膠13的第四面132的TMV電連接體19處還具有襯墊20，襯墊20沿模塑膠13的第四面132延伸至模塑膠13的側壁133的外表面，並在第四面132和側壁133的外表面的過渡區域形成自動光學檢查(Automated Optical Inspection，AOI)能夠清楚可見的爬錫通道23。
圖4示出了根據本發明的第四個實施例的感測器的封裝組件400的橫截面結構。在本實施例中，感測元件12安裝到RDL 11的第二面112上時，感測元件在與重佈線層的第二面112相對的一側形成與第一空間18相互不透氣地隔離的第二空間24。RDL 11設置有連通RDL 11的第一面111和第二面112的第二透氣口115，模塑膠13設置有連通模塑膠13的第三面131和第四面132的第三透氣口134，第二透氣口115與第三透氣口134互相連通。同時，第二透氣口115與第三透氣口134連通和第二空間24與外部的介質。本實施例的感測元件12還可以用於 測量和第二空間24中外部介質的壓力。進一步地，通過與設置在RDL 11第一面111的第一晶粒15的配合，還可以比較位於第一空間18與和第二空間24的外部介質壓力。例如比較位於第一空間18與和第二空間24中的外部介質的壓力差。
RDL與模塑膠的設置可以增大感測器的封裝組件的展開面積，從而允許更多元件封裝在一起，並且提供更好的結構支撐或提供封裝組件更好的散熱。同時，RDL與模塑膠的耦合還實現了SIP(System in Package)的封裝形式。該SIP結構利用RDL以扇出晶粒的電性端子並且允許被動元件和/或罩殼的封裝在一起，減少了有機基板等的使用，從而降低了整個封裝組件的體積。同時也保護了封裝組件以及允許感測器封裝組件與外界的接觸。
還可以將本發明的感測器封裝組件與其它電路例如承載基板進行下一級封裝，從而形成例如MEMS壓力/壓差感測器。
對於本領域的技術人員來說，可以根據以上的技術方案和構思，作出各種相應的改變和變形，而所有的這些改變和變形都應該包括在本發明的申請專利範圍的保護範圍之內。
11:重佈線層/RDL
12:感測元件
13:模塑膠
14:罩殼
15:第一晶粒
16:第二晶粒
17:第三晶粒
18:第一空間
19:導電柱
20:襯墊
21:凝膠狀填充物
25:引線鍵合
26:矽通孔電連接體/TSV電連接體
27:覆晶法
100:封裝組件
111:第一面
112:第二面
113:重配線
114:介質層
131:第三面
132:第四面
133:側壁
141:第一透氣孔
161:前表面

Claims (9)

  1. 一種感測器的封裝組件，其包括：重佈線層，其包括相對的第一面和第二面；第一晶粒，其電連接至所述重佈線層的所述第一面；模塑膠，其包括相對的第三面和第四面，所述模塑膠的所述第三面與所述重佈線層的所述第一面結合，所述模塑膠在所述重佈線層的所述第一面側囊封所述第一晶粒；以及感測元件，其電連接至所述重佈線層，其中所述封裝組件還包括罩殼，其安裝於所述重佈線層的所述第二面上，所述罩殼與所述重佈線層的所述第二面之間形成第一空間，所述感測元件位於所述第一空間中，所述罩殼設置有連通所述第一空間與外界的第一透氣口。
  2. 根據請求項1所述的封裝組件，其中，所述感測器裝置還包括第二晶粒和第三晶粒，所述第二晶粒電連接到所述重佈線層的所述第一面，所述模塑膠在所述重佈線層的所述第一面側囊封所述第二晶粒，所述第三晶粒電連接至所述重佈線層的所述第二面。
  3. 根據請求項1所述的封裝組件，其中，所述封裝組件還包括模塑通孔電連接體，所述模塑通孔電連接體貫穿所述模塑膠的第三面和第四面並連接至所述重佈線層，所述模塑膠的第四面上還包括襯墊，所述重佈線層通過所述模塑通孔電連接體電連接至所述襯墊。
  4. 據請求項3所述的封裝組件，其中於，所述模塑膠還包括連接所述第三面和第四面的側壁，所述襯墊沿所述模塑膠的第四面延伸至所述模塑膠的側壁的外表面。
  5. 根據請求項1所述的封裝組件，其中，所述罩殼黏著於所述重佈線層的所述第二面上。
  6. 根據請求項1所述的封裝組件，其中，所述封裝組件還包括凝膠狀填充物，其至少部分地填充所述第一空間，所述凝膠狀填充物覆蓋所述感測元件。
  7. 根據請求項1所述的封裝組件，其中，在所述感測元件與所述重佈線層的所述第二面之間形成與所述第一空間相互不透氣地隔離的第二空間；所述重佈線層包括貫穿所述重佈線層的第一面和第二面的第二透氣口；所述模塑膠包括貫穿所述模塑膠的第三面和第四面的第三透氣口，所述第二透氣口與第三透氣口相互連通，所述第二空間通過所述第二透氣口與第三透氣口連通外界。
  8. 根據請求項1至7中任一項所述的封裝組件，其中，所述感測元件為MEMS壓力感測元件，以及所述第一晶粒為ASIC。
  9. 一種微機電系統感測器，其中，所述感測器包括根據請求項1至8中任一項所述的感測器的封裝組件和承載基板，所述感測器的封裝組件安裝在所述承載基板上。
TW108142672A 2018-11-26 2019-11-25 感測器及其封裝組件 TWI750542B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811417117.4 2018-11-26
CN201811417117.4A CN111217318A (zh) 2018-11-26 2018-11-26 传感器及其封装组件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202106605A TW202106605A (zh) 2021-02-16
TWI750542B true TWI750542B (zh) 2021-12-21

Family

ID=68581752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108142672A TWI750542B (zh) 2018-11-26 2019-11-25 感測器及其封裝組件

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11685646B2 (zh)
CN (1) CN111217318A (zh)
DE (1) DE112019005860T5 (zh)
PH (1) PH12021551230A1 (zh)
TW (1) TWI750542B (zh)
WO (1) WO2020108924A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT201900004835A1 (it) * 2019-04-01 2020-10-01 Stmicroelectronics Malta Ltd Procedimento per produrre dispositivi elettronici e dispositivo elettronico corrispondente

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150298966A1 (en) * 2014-04-21 2015-10-22 Philip H. Bowles Sensor package having stacked die
CN105621343A (zh) * 2014-11-26 2016-06-01 意法半导体股份有限公司 用于诸如mems压力传感器之类的对机械和热机械应力敏感的半导体器件的封装
TW201625022A (zh) * 2014-12-23 2016-07-01 席瑞斯邏輯國際半導體有限公司 Ｍｅｍｓ傳感器封裝
TWI571428B (zh) * 2014-05-13 2017-02-21 台灣積體電路製造股份有限公司 積體電路與感測裝置之積體電路的形成方法
TW201740515A (zh) * 2016-05-09 2017-11-16 艾馬克科技公司 半導體封裝及其製造方法
TW201829291A (zh) * 2016-11-14 2018-08-16 美商艾馬克科技公司 半導體裝置以及其製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6513621B1 (en) * 2000-06-13 2003-02-04 Doctors Research Group Method of producing and making use of ear tips having a filled airtight chamber
US7436054B2 (en) * 2006-03-03 2008-10-14 Silicon Matrix, Pte. Ltd. MEMS microphone with a stacked PCB package and method of producing the same
US8384168B2 (en) * 2011-04-21 2013-02-26 Freescale Semiconductor, Inc. Sensor device with sealing structure
CN203006934U (zh) * 2012-09-29 2013-06-19 上海丽恒光微电子科技有限公司 集成mems传感器的晶圆级封装结构
US20180146302A1 (en) * 2014-07-31 2018-05-24 Merry Electronics (Shenzhen) Co., Ltd. Mems microphone package structure and method for manufacturing the mems microphone package structures
CN204855077U (zh) * 2015-05-05 2015-12-09 苏州曼普拉斯传感科技有限公司 一种mems压力传感器装置
JP5933787B1 (ja) * 2015-05-18 2016-06-15 株式会社フジクラ 圧力センサ
CN209396878U (zh) * 2018-11-26 2019-09-17 罗伯特·博世有限公司 传感器及其封装组件

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150298966A1 (en) * 2014-04-21 2015-10-22 Philip H. Bowles Sensor package having stacked die
TWI571428B (zh) * 2014-05-13 2017-02-21 台灣積體電路製造股份有限公司 積體電路與感測裝置之積體電路的形成方法
CN105621343A (zh) * 2014-11-26 2016-06-01 意法半导体股份有限公司 用于诸如mems压力传感器之类的对机械和热机械应力敏感的半导体器件的封装
TW201625022A (zh) * 2014-12-23 2016-07-01 席瑞斯邏輯國際半導體有限公司 Ｍｅｍｓ傳感器封裝
TW201740515A (zh) * 2016-05-09 2017-11-16 艾馬克科技公司 半導體封裝及其製造方法
TW201829291A (zh) * 2016-11-14 2018-08-16 美商艾馬克科技公司 半導體裝置以及其製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111217318A (zh) 2020-06-02
US20220002145A1 (en) 2022-01-06
WO2020108924A1 (en) 2020-06-04
TW202106605A (zh) 2021-02-16
DE112019005860T5 (de) 2021-08-19
US11685646B2 (en) 2023-06-27
PH12021551230A1 (en) 2021-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11257727B2 (en) Seal for microelectronic assembly
KR101683688B1 (ko) 집적 회로 패키지 및 집적 회로 패키지 제조 방법
TWI692030B (zh) 半導體封裝件及其製造方法
US10381280B2 (en) Semiconductor packages and methods for forming semiconductor package
JP5763682B2 (ja) Ｍｅｍｓ及びａｓｉｃを備える小型化した電気的デバイス及びその製造方法
US7888785B2 (en) Semiconductor package embedded in substrate, system including the same and associated methods
US20140264808A1 (en) Chip arrangements, chip packages, and a method for manufacturing a chip arrangement
CN104051395A (zh) 芯片堆叠封装及其方法
TW201735305A (zh) 封裝結構、電子設備及封裝方法
US9922917B2 (en) Semiconductor package including substrates spaced by at least one electrical connecting element
JP2008218979A (ja) 電子パッケージ及びその製造方法
KR101809521B1 (ko) 반도체 패키지 및 그 제조방법
TWI798507B (zh) 感測器及其封裝組件
KR101059629B1 (ko) 반도체 패키지 제조방법
TWI750542B (zh) 感測器及其封裝組件
CN109427725B (zh) 中介基板及其制法
US9362257B2 (en) Mirco-electro-mechanical system module and manufacturing method thereof
CN217955850U (zh) 一种硅基三维集成扇出型封装结构
TWI732583B (zh) 半導體封裝件
US20080057621A1 (en) Microelectronic devices and methods for manufacturing microelectronic devices
TWM569074U (zh) Wafer and sensing component package structure
CN215988737U (zh) 一种基于2.5d结构多层互联的pop封装结构
KR101099141B1 (ko) 박막 mems 칩 및 ic 칩의 3d 패키지
KR20170029056A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조방법
CN113823612A (zh) 一种基于2.5d结构多层互联的pop封装结构及其制作方法