TWI749168B - 氣動銷舉升器裝置及氣動舉升缸 - Google Patents

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Abstract

一種銷舉升器裝置(10)，用於一待處理基板之運動及定位，包括一氣動驅動缸，該氣動驅動缸包括一圓柱形外殼(21)及一第一活塞配置，該圓柱形外殼包圍一第一內體積(25)，及該第一活塞配置係配置成可沿一運動軸運動，該第一活塞配置包括一第一活塞(22)及一第一活塞桿(23)。第一活塞(22)限定第一內體積(25)。第一活塞桿(23)突出圓柱形外殼(21)，且該第一活塞配置可藉第一內體積(25)之一壓力施加而位移到一伸長裝配位置。該裝置具有至少一支持銷(11)，該支持銷可沿縱軸(L)之方向平行地運動，其中支持銷(11)連接至第一活塞桿(23)，且支持銷(11)可藉該第一活塞配置之一運動而作運動。該驅動缸具有一第二活塞配置，其包括一第二活塞(32)及一第二活塞桿(33)，其中第二活塞(32)限定一第二內體積(35)，該第二活塞配置係配置成使其可與該第一活塞配置同軸地運動，及第二活塞桿(33)之一端面係面朝該第一活塞(22)之方向。該第一活塞配置及該第二活塞配置係配置成使得該第一活塞(22)與第二活塞桿(33)設置成在該裝配位置不接觸，且第一活塞(22)與第二活塞桿(33)在一處理位置接觸。

Description

氣動銷舉升器裝置及氣動舉升缸
本發明關於一種氣動銷舉升器系統，包括一氣動舉升缸、及耦接至該舉升缸之至少一支持銷，以移動且定位一基板於一處理室中，以及一種氣動舉升缸，包括一可設定停止點。
典型地設想且提供銷舉升器系統、亦稱作銷舉升器，以接收且依既定者定位一待處理基板於一處理室中。此等者特別地用於積體電路、半導體、平板、或基板製造領域之真空室系統中，其中該製造必須僅能在未存有污染微粒之一保護大氣中進行。
此類真空系統特別地包括至少一可排空真空室，其用於接收待處理或生產之半導體元件或基板且具有至少一真空室開口，此等半導體元件或其他基板可經由該至少一真空室開口而導引進出該真空室。例如，在用於半導體晶圓或液晶基板之一製造設施中，高度敏感之半導體或液晶元件依序地通過多重處理真空室，其中位在該等處理真空室內之部件皆由一處理裝置處理。
此類處理室經常具有至少一輸送閥，其截面調整成適應於基板及機器人，且基板可經由該至少一輸送閥引入真空室中及可能地在提供之處理後移除。另一選擇，譬如可設置一第二輸送閥，處理基板經由該第二輸送閥移出該室。
譬如一晶圓等基板之導引係使用一對應設計及控制之機器手臂實施，該機器手臂可被饋送通過可設有輸送閥之處理室開口。接著藉由使用該機器手臂抓夾該基板、將該基板移入該處理 室中、及既定地放置該基板於該室中，以實施該處理室之裝配。依一對應之方式實施該處理室之騰空。
必須確保一相對較高位準之基板之準確度及活動性，來放置基板及準確定位基板於該室中。為此，使用銷舉升器系統，其提供複數個用於基板之支持點，及因此一跨越整個基板之負荷分配(由於基板之固有重量)。
基板係藉由機器人而放置於該舉升系統之伸長支持件上，且藉降下銷而放置於譬如一電位板(potential plate)等一載具上。為此，典型地承載基板之機器手臂被移出該室。此等銷可在放置基板後進一步下降，且接著從基板分離、即此等銷與基板之間未存有接觸。在移除機器手臂及關閉(且引入處理氣體或排空)該室之後，施行處理步驟。
在該室中施行處理步驟之後、及在後續舉升基板期間，一低力作用於基板上亦特別重要。基板典型地具有一相對較平滑表面，其在放置時與載具接觸且支撐於該載具上。如此，當試圖從載具分離基板時，可因作用於基板與載具之間的一部分真空、譬如含空氣所致，而導致一類型之黏附。倘現在過度快速地將基板推離載具，則由於黏附力至少在某些特定支持點處無法克服或分離，因此在這種情況下可能發生基板破裂。此外，當支持銷與基板之間發生接觸時，在此情況下發生於基板上之衝擊亦可導致非期望之應變(或破裂)。基板上之一對應力作用將因此為在該室內基板搬運之一關鍵因素。
同時，除儘可能最安穩且謹慎地搬運待處理之基板外，亦達成儘可能最短之處理時間。這意謂可以儘可能快速地將基板在該室中運動至既定狀態、裝載與卸載位置、及處理位置。
為避免譬如半導體晶圓處理期間非期望之衝擊，美國專利案第US 6,481,723 B1號提出在一銷舉升器中使用一特殊停止裝置來代替硬運動(hard movement)停止件。可能的硬塑膠停止件在此 將由一柔軟地構成之停止部件及一硬停止件之一組合物取代，其中首先為限制運動而建立與該軟停止部件之接觸，且接著依一對應之阻尼方式與該硬停止件接觸。
美國專利案第US 6,646,857 B2號提出，藉由一偵測到之力出現，來調節舉升運動。在此，支持銷可依所接收到之力信號的函數作運動，使得支持銷處之舉升力恆依一對應之制量(metered)且受控方式作用於晶圓上。
然而，上述二方法將引起通常關於舉升裝置控制之進一步困難。例如，二部件停止元件無法單獨提供期望之晶圓安穩舉升。為此，額外需要一對應之驅動適應控制。一調節而非一控制亦因增加經費，且不能辨識譬如系統中之可能擾動(譬如，存在之摩擦力)，反而典型地企圖「超控(override)」此類擾動。是以，藉提出之解決方案，首先提供一顯著更複雜之系統，及其次妨礙一可能的錯誤辨識。
在真空條件下、且具應用潛力之加工製程的又一觀點係因電氣及/或磁性干擾源所致之可能影響。在本背景下，特別地亦在一銷舉升器系統之設計中考慮對處理製程之可能影響。是以，譬如美國專利案第US 2005/0092438 A1號提出一種舉升裝置，其支持銷可藉由一不導電材料而與一控制板電氣不連通。
然而，本解決方案仍不利者在於連接至電氣驅動件之舉升系統的一部份存在於處理室中，且仍可在此情況下形成一對應之干擾變數。
因此，本發明之目的係提供一種改良銷舉升器系統，其一方面提供受控制之一基板舉升，且此外避免因譬如電磁影響而對一處理製程造成之一系統相關潛在干擾。
此外，本發明之一目的係提供一種銷舉升器系統，其改良成可快速地且非破壞性地實施一工件之計劃舉升。
本發明更以提供一驅動概念之目標為基礎，該驅動概念具有一銷舉升器裝置之對應改良設計。
此等目的係藉實現申請專利範圍獨立項之特徵化特點而達成。可由申請專利範圍附屬項推論出，以另一選擇或有利方式使發明臻於完善之特點。
本發明關於一種用於銷舉升器裝置之驅動概念、或者直接關於一種配備有該驅動概念之銷舉升器裝置。提出呈一氣動(舉升)缸之驅動件，該氣動(舉升)缸包括一回復裝置。藉由一氣動設計，相較於電氣作動驅動件，避免起因於電磁場之可能干擾影響。是以，已提供在配備有該氣動設計之一真空室中的一更可靠處理製程。
關於謹慎舉升一設於該真空處理室中之譬如一半導體晶圓等工件(基板)、但又結合最短之可能處理時間的問題，依據本發明之解決方案提供該舉升缸一雙活塞配置。使用此具體實施例，可依二階段實現一關鍵舉升運動。在一第一階段中，以適度、且可能地增加之力作用，相對較緩慢地從一支持件舉升該基板。
該支持件可為譬如一水平且平滑板，其與亦平滑之一基板於接觸時固持在一起。由於一黏附(譬如，因存在如凡得瓦力等短範圍力所致)可存在於該二接觸表面之間，因此該基板僅可藉某一特定之施加力而再次與該支持件分離。
該第一舉升階段將持續達一特定運動點、特別地直到該基板與該支持件完全分離為止。接著進行過渡至第一、更快速運動階段。該過渡點可藉該驅動件(舉升缸)之設計及/或設定而界定。
在該第一階段大致使用該舉升缸之一下方活塞來引發運動，在該第二階段大致使用一上方活塞。然而，此等活塞力之效應亦可為階段-重疊(phase-overlapping)、即該下方活塞所引發之一舉升力並非必須專用於引發該第一運動階段，反而亦可影響該第二階段。此等活塞特別地配置成使得該等者可在該缸內部沿一共同軸線(譬如，關於該舉升缸之佔據面積呈垂直之中心)運動。
該二活塞上之力係藉因此關聯於該等活塞之壓力區(體積)中的各別壓力施加(pressure applications)實現。此等體積彼此相關地密封，以設定一既定之舉升力或舉升力曲線，且可能對每一活塞變化該既定之舉升力或舉升力曲線。這譬如藉由一對應之該等體積空氣供應線路設計實施，該對應之設計包括譬如壓縮空氣通道中之可調整孔口。可藉如此設定之壓縮空氣的入流(inflow)，以決定該舉升力曲線。
可譬如藉形成不同之活塞表面，來實現相等壓力下之不同舉升力。
是以，本發明關於一種銷舉升器裝置、特別地一銷舉升器，用於一待處理基板、特別地一晶圓在一真空中之運動(舉升與降下)及定位(譬如，在一處理位置之一層架上)。
該銷舉升器裝置具有一氣動驅動缸，該氣動驅動缸包括一圓柱形外殼，該圓柱形外殼包圍一第一圓柱形內體積及一第一活塞配置，該第一活塞係配置成可沿一運動軸運動，該運動軸係與一縱軸平行或同軸地延伸，該第一活塞配置包括一第一活塞及一第一活塞桿。該縱軸係藉該第一圓柱形內體積界定。該第一活塞在此情況下亦限定該第一內體積。該第一活塞桿突出該圓柱形外殼。該第一活塞配置可藉該第一體積之一壓力施加而在一伸長裝配位置中位移、特別地至一回復中立位置。
活塞與活塞桿可特別地形成為一部件、即整合一體。亦可設想到二部件具體實施例，其中譬如該活塞桿係與該活塞以螺釘鎖在一起。
該銷舉升器裝置附帶地具有至少一支持銷，其可沿該縱軸之方向至少大體上平行或同軸地運動，其中該支持銷連接至設於該圓柱形外殼外側之該第一活塞桿的一外端，且該支持銷因此可藉該第一活塞配置之一運動而作線性地運動。
該驅動缸更具有一第二活塞配置，其包括一第二活塞 及一接觸表面，其中該第二活塞限定藉該圓柱形外殼包圍之一第二內體積，特別地其中該第一與該第二內體積係藉該第二活塞而相互分離設置。該第二活塞配置係配置成使其可關於該第一活塞配置之活動性(mobility)而至少大體上同軸地運動。該接觸表面係面朝該第一活塞之方向。
該第一活塞配置及該第二活塞配置係配置成使得該第一活塞配置與該接觸表面在該裝配位置不接觸，且該第一活塞配置與該接觸表面在一回縮處理位置相互接觸。
該回縮處理位置特別地係該第二活塞位在其最遠下降位置之位置。在該位置，該第二內體積具有一在該第二活塞運動範疇中之最小可能伸長。
在一具體實施例中，該第二活塞配置具有一第二活塞桿、及面朝該第一活塞配置方向之該第二活塞桿的一端面。該端面形成在此情況下之該第二活塞配置接觸表面。該第一活塞與該第二活塞桿設置成在該裝配位置不接觸，且在該回縮處理位置藉由該接觸表面而接觸。
在又一具體實施例中，該第一活塞桿可形成為使得與該第一活塞桿之外端對立的該第一活塞桿之一自由內端(設於該外殼內部)面朝該接觸表面之方向，其中該第一活塞桿與該接觸表面設置成在該裝配位置不接觸，且該第一活塞桿與該接觸表面在一回縮處理位置接觸。特別地，該第一活塞桿可形成為延伸通過該第一活塞，且可特別地藉由一螺釘連接而配置在關於該第一活塞之一固定位置。
該第二活塞配置之接觸表面可特別地為面朝該第一活塞之方向的該第二活塞之一表面的一部份。該第二活塞在本具體實施例中形成如一盤狀圓柱形元件。
在一具體實施例中，該驅動缸具有一下方(第二)壓縮空氣導管，配置成使得該第二、下方且特別地該第一、上方活塞配 置可藉通過該第二壓縮空氣導管之該第二內體積的一壓力施加，從該回縮處理位置位移到一過渡位置。該下方壓縮空氣導管因此連接至該第二內體積，且能夠將壓縮空氣引入該體積中。
此外，該驅動缸具有一上方(第一)壓縮空氣導管，配置成使得該第一活塞配置可藉該第一內體積之一壓力施加，從該過渡位置位移到該伸長裝配位置。該上方壓縮空氣導管因此連接至該第一內體積，且能夠將壓縮空氣引入該第一體積中。
在一具體實施例中，該上方壓縮空氣導管可更成型且配置成使得藉由將壓縮空氣經由該導管引入，該第一活塞可從一中立位置(即，該活塞在該外殼中之一下降、回縮位置位於一停止件上)抬升或推壓至該裝配位置中。
特別地，該銷舉升器裝置具有一控制單元，用於啟動該第一及該第二壓縮空氣導管之各別壓縮空氣調節元件，其中該控制單元具有一特定地佈設之舉升功能，以使該第一活塞配置運動至一伸長裝配位置。當執行該舉升功能時，啟動該第二壓縮空氣導管之壓縮空氣調節元件，使得該第二壓縮空氣導管之壓縮空氣調節元件提供該第二內體積之壓力施加，且接著該第一壓縮空氣導管之壓縮空氣調節元件受控制，使其在關於該第二內體積壓力施加之一特定時間延遲後，提供該第一內體積之壓力施加。該時間延遲係根據使用該第二活塞抵達該過渡位置者而定、或係藉該舉升功能依一按時間順序控制方式指定。這意謂可譬如使用一機構來啟始該第一內體積之壓力施加，使得該機構首先在抵達該過渡位置時允許該壓力施加。該按時間順序控制可譬如以電子式實現，其中可因此切換或調節一壓力閥。
依據本發明之一具體實施例，該驅動缸界定出用於該第一或該第二活塞配置、特別地該第一或該第二活塞運動之至少一停止點，其中該至少一停止點界定該伸長裝配位置、該回縮處理位置、或該過渡位置。該停止點因此代表該等活塞至少其中之一在縱 向方向上之一運動限制。
特別地，該至少一停止點之位置可在關於該縱軸之一既定停止範圍中變動，特別地其中該停止範圍之一延伸在該縱軸之方向上至少0.5公釐或1公釐。換言之，該停止點可在一特定範圍內調整。
經由譬如此類設定能力，可設定、界定、及變更該至少一支持銷之一下降位置。從該第一舉升階段到該第二舉升階段之過渡點可對應，即到何程度將進行緩和之基板舉升、及從該點起可啟始一更快速之舉升運動。
在該裝置之一具體實施例中，該外殼具有至少二(特別地沿徑向對立)凹部，其中該等凹部穿過該外殼壁。該等凹部在與該縱軸平行之一方向上的一延伸界定出該停止範圍。
特別地，該驅動缸具有至少一定位於該等凹部中之停止元件、特別地一橫樑，其具有在該縱軸之方向上的一既定高度，其中該高度較該等凹部之延伸小，及此外該驅動缸具有至少一與該停止元件共同作動之調整機構。該停止元件較佳地設於該第一或第二內體積中，以藉此提供該第一及/或該第二活塞運動距離之一界線。該各別活塞因此特別地敲擊該停止元件。
在一具體實施例中，該停止元件形成為具有一中心凹部，且配置成使該第一或該第二活塞桿突出通過該中心凹部，且因此提供一用於該活塞桿端面運動之限制點，該限制點遠離該停止點、特別地偏置達該活塞桿長度。
另一選擇，該停止元件可具體實施為譬如星型、六角形、或為一多孔板，其中確保特別地在已知差壓(differential pressure)下，以每單位時間某一特定量之空氣流動環繞或通過該停止元件。可依此對應地設置該外殼壁中之凹部，該停止元件可通常依一扭鎖方式安裝。
再者，該調整機構可設計成具有一內螺紋之一環，且 可配置於該外殼外側上、及/或環繞該外殼周圍。該停止元件在此背景下可具有一外螺紋之一節段，其在該等凹部之區域中與該內螺紋對應。該停止元件因此特別地在其關於該內體積或該外殼之內及/或外徑的尺寸決定(dimensioning)方面係形成為使得該內螺紋與該外螺紋共同作動。如此，該停止元件之外螺紋因此在該環之內螺紋中延展，其中該停止元件較佳地安裝(在該等凹部中)，使其不圍繞該縱軸樞轉。在此架構中，該停止元件之位置可藉由該環之旋轉而在該既定停止範圍內沿著與該縱軸平行延伸之一調整軸變動及設定。在這種情況下，可依此調整該至少一停止點。
該螺紋之一既定節距確立該停止元件在每一該環之旋轉下沿該調整軸之舉升距離。
在一具體實施例中，該驅動缸可具有至少一回復功能，藉此可提供一回復力，作用於該第一及/或該第二活塞配置上，以將其推壓入該回縮處理位置。使用此回復功能、特別地當該等內體積中之內壓減小、或當除去該等內體積之氣體時，可造成該活塞下降至該缸中。
該回復功能可設計為一回復元件、特別地為一回復彈簧，其配置成使得該回復力直接作用於該第一活塞上，且當第一活塞與接觸表面及/或第二活塞桿之間接觸時，間接地作用於該第二活塞配置上。
另一選擇或除此以外，該回復功能可設計成一可控制、特別地氣動回復機構，其中可藉壓力施加來設定該第一活塞上之該回復力、特別地關於其絕對值及曲線。在此藉生成且擴大一體積中之壓力來誘發與該舉升力相對之一反作用力，該體積在該第一活塞之衝程期間縮小。
該銷舉升器裝置之氣動驅動缸顯然可依據該氣動驅動缸之此後所述具體實施例其中之一而改進。這特別地關於設定一停止點之一調整機構(譬如，藉由一環)的具體實施例。
本發明附帶地關於一種氣動驅動缸、特別地一舉升缸、特別地用於一銷舉升器裝置或一銷舉升器或一通用驅動裝置，其包括一圓柱形外殼，該圓柱形外殼包圍一第一圓柱形內體積及一第一活塞配置，該第一活塞係配置成可沿一運動軸運動，該運動軸係與一縱軸平行或同軸地延伸，該第一活塞配置包括一第一活塞及一第一活塞桿。該縱軸係藉該第一圓柱形內體積界定。該第一活塞限定該第一內體積，且該第一活塞桿突出該圓柱形外殼。該第一活塞配置可藉該第一內體積之一壓力施加而位移到一伸長裝配位置。
該缸附帶地具有一耦接元件及一第二活塞配置，該耦接元件設於位在該圓柱形外殼外側之該第一活塞桿的一外端上，以將該第一活塞桿連接至待藉由該驅動缸而運動之一組件、特別地一銷舉升器裝置之一支持銷，以及該第二活塞配置包括一第二活塞及一接觸表面。該第二活塞限定藉該圓柱形外殼包圍之一第二內體積，特別地其中該第一與該第二內體積係藉該第二活塞而相互分離。該第二活塞配置係配置成使其可與該第一活塞配置至少大體上同軸地運動，特別地該第二活塞配置可沿該運動軸運動。該第二活塞配置之接觸表面係面朝該第一活塞之方向，及該第二、且特別地該第一活塞配置可藉該第二內體積之一壓力施加而從一回縮處理位置位移到一過渡位置。
該第一活塞配置及該第二活塞配置係配置成使得該第一活塞配置與該接觸表面設置成在該伸長裝配位置不接觸，且該第一活塞配置與該接觸表面在一回縮處理位置接觸。
依據本發明，該驅動缸具有至少一停止點，用於限定該第一及/或該第二活塞配置、特別地該第一或第二活塞之一運動距離，其中該至少一停止點界定該伸長裝配位置、該回縮處理位置、及/或該過渡位置。該至少一停止點之位置可在關於該縱軸之一既定停止範圍內變動，特別地其中該停止範圍之一延伸係沿平行於該縱軸延伸之一調整軸至少0.5公釐或1公釐。
在該缸之一具體實施例中，該第二活塞配置具有一第二活塞桿、及面朝該第一活塞配置方向之該第二活塞桿的一端面。該端面形成在此情況下之該第二活塞配置接觸表面。該第一活塞與該第二活塞桿設置成在該裝配位置不接觸，且在該回縮處理位置藉由該接觸表面而接觸。
在又一具體實施例中，該第一活塞桿可形成為使得與該第一活塞桿之外端對立的該第一活塞桿之一自由內端(設於該外殼內部)面朝該接觸表面之方向，其中該第一活塞桿與該接觸表面設置成在該裝配位置不接觸，且該第一活塞桿與該接觸表面在一回縮處理位置接觸。特別地，該第一活塞桿可配置成延伸通過該第一活塞，且特別地藉由一螺釘連接而配置在關於該第一活塞之一固定位置中。
該第二活塞配置之接觸表面可特別地為面朝該第一活塞之方向的該第二活塞之一表面的一部份。該第二活塞在本具體實施例中形成如一盤狀圓柱形元件。
在該缸之一具體實施例中，該外殼可具有至少二凹部，其特別地沿徑向對立，其中該等凹部穿過該外殼壁，及其中該等凹部沿該調整軸之一延伸界定出該停止範圍。
特別地，該驅動缸具有至少一配置於該等凹部中之停止元件、特別地一橫樑，其具有在該調整軸之方向上的一既定高度，其中該高度較該等凹部之延伸小。此外，該驅動缸可因此具有至少一與該停止元件共同作動之調整機構。
依據一具體實施例，該調整機構可設計成具有一內螺紋之一環，且可配置於該外殼外側上。該停止元件可具有一外螺紋之一節段，其在該等凹部之區域中與該內螺紋對應，及該停止元件更可特別地在其關於該內體積或該外殼之內及/或外徑的尺寸決定方面係形成為使得該內螺紋與該外螺紋共同作動。如此，該停止元件之位置可藉由該環之旋轉而在該既定停止範圍內沿該調整軸變動 及設定，其中該至少一停止點可調整。
在又一具體實施例中，該驅動缸具有至少一回復功能，藉此可提供一回復力，作用於該第一及/或該第二活塞配置上，以將其推壓入該回縮處理位置。
該回復功能可設計為一回復元件、特別地為一回復彈簧，其配置成使得該回復力直接作用於該第一活塞上，且當第一活塞與接觸表面及/或第二活塞桿之間接觸時，間接地作用於該第二活塞配置上。
另一選擇或除此以外，該驅動缸之回復功能可設計成一可控制、特別地氣動回復機構，其中可藉壓力施加來設定該第一活塞上之該回復力、特別地關於其絕對值及曲線。在此藉生成且擴大一體積中之壓力來誘發與該舉升力相對之一反作用力，該體積之大小尺寸在該第一活塞之衝程期間縮小。
在該驅動缸一具體實施例中，該缸具有一下方(第二)壓縮空氣導管，配置成使得該第二、下方且特別地該第一、上方活塞配置可藉通過該第二壓縮空氣導管之該第二內體積的一壓力施加，從該回縮處理位置調整到一過渡位置。該下方壓縮空氣導管因此連接至該第二內體積，且能夠將壓縮空氣引入該體積中。
此外，該驅動缸具有一上方(第一)壓縮空氣導管，配置成使得該第一活塞配置可藉通過該第一壓縮空氣導管之該第一內體積的一壓力施加，從該過渡位置位移到該伸長裝配位置。該上方壓縮空氣導管因此連接至該第一內體積，且能夠將壓縮空氣引入該第一體積中。
在一具體實施例中，該上方壓縮空氣導管可更形成且配置成使得藉由將壓縮空氣經由該導管引入，該第一活塞可從一中立位置(即，該活塞在該外殼中之一下降、回縮位置位於一停止件上)舉升或推壓至該裝配位置中。
1:半導體晶圓
2:機器手臂
3:機器手臂
4:真空室
5a:輸送閥
5b:輸送閥
6:驅動件/舉升缸/氣動驅動缸
7:支持銷
8:支持元件
10:(銷舉升器)裝置
11:支持銷
12:室壁/支持件/板
13:耦接組件
14:連接元件
21:外殼
21’:下方側端/上方壁
22:活塞
23:活塞桿
24:密封元件
25:第一內體積
26:回復彈簧
27:壓縮空氣導管
28:壓力導管/壓縮空氣導管
32:活塞
33:活塞桿
33a:接觸表面
35:第二內體積
37:內螺紋
38:內螺紋
41:停止件
42:停止件
43:定位環/調整機構
44:定位環/調整機構
45:O型環
46:固定停止件
47:外螺紋
48:外螺紋
50:舉升缸/驅動缸/驅動件/氣動驅動缸
52:停止元件
53:定位環/調整機構
A:外室區
K:室大氣
L:縱軸
此後基於圖式中概略圖示之特定示範具體實施例而僅僅作為範例地更詳細說明依據本發明之裝置，其中亦討論本發明之其他進一步優點。於特定圖式中：第1圖顯示出用於一晶圓之一真空處理裝置的一具體實施例概略圖示，其中包括依據本發明之一舉升裝置；第2a圖至第2c圖係以截面圖顯示依據本發明之一銷舉升器裝置具體實施例；3a圖至第3c圖係以截面圖顯示依據本發明之一驅動件或舉升缸具體實施例；第4圖係以透視圖顯示依據本發明之又一驅動件或舉升缸具體實施例；及第5圖係以截面顯示依據本發明之又一驅動件或舉升缸具體實施例。
第1圖概略顯示出用於在真空條件下處理一半導體晶圓1之一處理結構。晶圓1係藉由一第一機器手臂2引入通過一第一真空輸送閥5a而至一真空室4中。機器手臂2能夠使該真空室中之晶圓1放置於一銷升器裝置之複數個伸長支持銷7(在此顯示出三個銷)上。晶圓1典型地位於(如圖式所示者)該機器手臂上、或設在機器手臂2、3上之一支持裝置上。當安置晶圓1於銷7上之後，該機器手臂被導引出該室4、輸送閥5a關閉、且銷7下降。這係藉由一驅動件或舉升缸6實施，該驅動件或舉升缸耦接至三個銷7且因此提供一銷7之共同運動。如此，晶圓1被放置於圖式所示之四個支持元件8上。驅動件或舉升缸6連同與其耦接之銷，一同形成依據本發明之銷舉升器裝置。此等組件之結構與功能將藉以下圖式更詳細地說明。
在此狀態中，晶圓1之一計劃處理(譬如，塗佈)係在真空條件下、且特別地既定大氣中(即，使用一特定處理氣體)實施。該室4為此而耦接至一真空泵、且較佳地至一用於調節室壓力之真空 調節閥(未顯示)。
在處理後，再次藉由該銷舉升器裝置實施舉升晶圓1至一移除位置。此後使用第二機器手臂3，經由第二輸送閥5b移除晶圓1。可設想該處理使用僅一個機器手臂，其中可因此透過單一輸送閥來進行裝配與移除。
第2a圖至第2c圖係以一截面來顯示依據本發明之一銷舉升器裝置10的一具體實施例。圖式顯示三個不同狀態中之裝置10。
第2a圖顯示在一回縮處理位置之裝置10，在該位置典型地使用該裝置進行導引與放置基板之處理。在該處理位置，裝置10之支持銷11儘可能下降，在此僅顯示單一個支持銷以便於瞭解。關於圖式所示之某一銷11所作的說明，可因此移轉至其他進一步設置之銷。特別地，銷舉升器裝置10具有呈一星型配置之三個支持銷11。在圖式所示之具體實施例中，基板在舉升或下降範疇中接觸之一銷11的接觸區，運動至與一室壁12或一基板支持件12之一表面共通的位準(level)。
銷11係藉複數個各別耦接組件13而與一外室區A在氣壓上分離。銷11因此設於室大氣K(chamber atmosphere K)中。耦接組件13為此具有一伸縮囊，該伸縮囊對一銷11之z方向運動提供同步的真空防護。伸縮囊解決方案外之另一選擇為，該等耦接組件亦可具有一板饋孔(feedthrough)或另一真空密封饋孔(未顯示)。
支持銷11藉由一連接元件14連接至一第一、上方活塞配置。連接元件14在此係以螺釘與該活塞配置之一活塞桿23的外端鎖在一起。銷11因此亦可藉該活塞配置之一運動而在z方向上運動。
此外，該第一活塞配置具有一活塞22，該活塞係與活塞桿23連接、在此係與該活塞桿整合一體地形成。該第一活塞配置係配置於一驅動缸(舉升缸)之一外殼21內部。外殼21較佳地形成為提供一呈圓柱形而形成之內壁，且活塞22可在外殼21內部沿如此界定之一縱軸L(在z方向上或與該方向對立)運動。活塞桿23延伸通過 外殼21之一上方壁21'(譬如，整合一體形成或以鏍釘鎖上之蓋件)且亦可沿縱軸L對應於活塞22運動。
第一活塞22具有一密封元件24，該密封元件設於活塞22與外殼21內壁之間，且為一第一內體積25(上方內體積)提供一第一氣動密封件。密封元件24可被具體實施為譬如一z型唇形密封件，藉此可將一既定且恆定之接觸壓力提供於該內壁上。
第一內體積25之大小尺寸係藉外殼21之一內徑及/或一缸佔據面積，及藉第一活塞22與一第二、下方活塞32之間的一距離界定。
第一內體積25因此係一可變體積，該可變體積關於其空間擴展呈可變更，該空間擴展係第一活塞22及/或第二活塞32沿縱軸L之一定位的函數。換言之：倘二活塞22、32之間的距離減少，則第一內體積25之擴展將因此降低；倘該距離擴大，則第一內體積25亦因此擴大。
第二活塞32將第一內體積25與一第二內體積35分離。第二活塞32係一第二活塞配置之部份，該第二活塞配置亦可沿縱軸L運動。第二活塞32亦具有譬如作為一z型唇形密封件之一密封元件，且藉此提供一既定且恆定之接觸壓力於內壁上，其中該密封元件係環繞活塞32配置。第二內體積35係如圖式所示者，藉第二活塞32、及外殼21之一下方側端21’限定。
在圖式所示之驅動位置、回縮處理位置中，第二活塞桿33係與第一活塞22接觸。如從第2c圖及第3c圖顯現之關聯於該第二活塞配置之一接觸表面33a，在此情況下係與第一活塞22接觸。接觸表面33a在此情況下形成第二活塞桿33之末端。一回復彈簧26所致之一回復力將造成第一活塞22、及因此該整個第一活塞配置被推壓向下(與圖式所示之z方向對立)，且該第二活塞配置亦因此藉該第一活塞配置與該第二活塞配置之接觸而由該第一活塞配置所影響。在該處理位置中，未提供氣動壓力施加於第一內體積25及第二內體積 35中、或內壓低到足以使該回復力仍然能夠如圖式所示者定位於該二活塞配置。
下方、第二活塞32在該處理位置中停止於一停止件41上，且在此情形下位於一最下方中立點位置。停止件41被具體實施為一橫樑，且橫向地延伸越過外殼21之內徑且進一步地進入二對立凹部中，該等凹部係設於該外殼壁中。設於該第二內體積中之橫樑41可具有自由地環繞其之氣流。這亦特別地從第3a圖至第3c圖顯現。
一第二且相似形成之停止件42設於第一與第二活塞22、32之間。該停止件42一方面形成第二活塞32從該回縮處理位置運動至一過渡位置之一停止點。第二停止件42藉其沿縱軸L之位置來界定該過渡位置。
在圖式所示之具體實施例中，第一停止件41、及亦第二停止件42之定位可沿縱軸L變動。藉由各別之定位環43與44來提供停止件41、42位置之設定能力。橫樑41及42為此在其設於該等凹部中之樑末端具有一外螺紋之一節段，且環43與44較佳地各具有一環周內螺紋。環43、44配置於外殼21上，且關於該等凹部配合，使得環43、44之內螺紋與橫樑41、42之外螺紋部件共同作動。此外，環43、44係與外殼21密封。在此藉該等環上之環周O型環(以45識別其中一O型環作為範例)提供該密封，該等O型環係配合於對應之溝槽中。該等O型環藉此設於環43、44與該外殼壁之間。該等O型環較佳地用油脂潤滑，以達成環43、44之均質活動性(旋轉運動)。
該密封件通常可由鐵氟龍(聚四氟乙烯)、氟橡膠、全氟化橡膠、或其混合形式組成。該密封件之潤滑可藉油脂提供。另一選擇或除此以外，該密封元件(譬如，O型環)及/或密封表面(譬如，溝槽)可同時具有一特定塗層以達成該等環平滑活動性、及一需求之密封效果。該密封件可譬如接合至該環或該外殼，譬如藉硫化。
由於該內螺紋與該等外螺紋部件之互鎖，使得各別之停止件41、42藉其中一環43、44之旋轉而在平行於縱軸L之一方向 上位移其位置。該停止件之位置可因此在該凹部之延展範疇中變更與設定，其中該驅動缸之氣密性將確保，且該缸內部未發生嚙合。
例如，藉旋轉下方環41，可設定該回縮處理位置(中立點位置)，且可因此設定支持銷11擴鑽(countersinking)入板12中之一程度。
第2b圖顯示銷舉升器裝置10在一過渡狀態，即第二、下方活塞32已藉由第二內體積35之壓力施加而運動入該過渡位置中。在這種情況下，活塞32已抵達又進一步停止點，該又進一步停止點可藉由橫樑42界定、及因此而設定。第二活塞桿33延伸通過一設於橫樑42中之對應通路(凹部)。
藉第二內體積35中內壓增加，實施該活塞配置到該過渡位置之衝程。經由一壓縮空氣導管27引入壓縮空氣，該壓縮空氣導管連接至第二內體積35，且造成該第二活塞配置抵抗彈簧26回復力之舉升。可因此藉作用於第二活塞32上之壓力來實現一線性活塞配置。該第一活塞配置在此情況下因此藉由第二塞桿33而在z方向上運動。
該過渡位置在此對應於第二活塞32沿z方向之最遠可能運動。該過渡位置再次可藉停止件42及環44調整。
從該中立點位置運動到該過渡位置之一既定運動量變曲線(defined movement profile)，可藉一針對性壓力變化或壓力施加而設定。例如，第二內體積35中之壓力緩慢地增加，使得支持銷11之一延伸、及如此而意欲之一基板舉升可在初始時相對較緩慢地、且接著以特定之增加速度進行。經由初始時緩慢之銷11伸長，可產生謹慎的該基板舉升、及非破壞性地克服可能發生之附著力(例如，因含空氣)。
為了該第一活塞配置(藉該第二活塞配置推動)之此(被動)舉升運動，可將第一內體積25設於一排氣設定。然而，第一內體積25之擴展在本步驟中，典型地在任何情況下皆仍保持大體上 恆定，且僅僅第一內體積25在外殼21中之位置變更。
除了謹慎搬運此類基板外，譬如在一真空室中處理矽晶圓時，處理量、即該處理步驟所需之時間係一重要因數。是以，本發明提出一銷舉升器之解決方案，其一方面提供對應之謹慎基板搬運(請參見上述者)，且另一方面允許相對較快速地定位該基板於一移除或裝配位置中。此二因數係藉二步驟驅動概念達成。
在該第二步驟中，進行一狀態過渡，從該過渡位置到一伸長裝配位置，如第2c圖中所示者。第二活塞32之位置在此情況下保持不變。一超壓力(overpressure)係藉又一壓力導管28施加至第一內體積25。第一活塞22因此沿z方向被進一步推壓，且被舉升離開第二活塞桿33。因此使第一活塞22與該第二活塞桿不接觸。第一活塞22之運動再次藉一固定停止件46限制。彈簧26特別地在此完全壓縮。在此情況下，較佳地對第一內體積25施加較對第二內體積35施加者大之一壓力增加，以實現更快速之銷11舉升。這可在二壓力通道處具有相等輸入壓力時，譬如藉由一相對應地較大通流孔口達成。
固定停止件46顯然僅僅具體實施一設計變型，且此停止件46亦可另一選擇地呈現，與圖式所示可調整停止件其中之一相對應的設計。反之，本發明亦關於一種驅動缸，其中僅一個該等停止點可調整。
第一內體積25之壓力施加係在抵達該過渡位置、或與第二內體積25之壓力施加按時間順序地重疊之後進行，以達成一複合且對應地更快速之支持銷11運動。可藉由譬如一電子控制器、或藉由當到達一特定壓力時切換一受影響壓力導管之一切換分路，來執行此等壓力施加之控制。
一除氣與充氣導管係設於外殼21之上方部份中，防止在第一活塞22下方出現一超壓力或部分真空，且因此允許該第一活塞配置之無阻礙運動。
經由一受監視且可能地受控制之第一內體積25、第二 內體積35除氣，可發生該二活塞元件回復至該回縮處理位置，特別地其中再次運行通過該過渡位置。
第3a圖至第3c圖顯示依據本發明之一驅動缸50(舉升缸)的一具體實施例，其中該缸係與第2a圖至第2c圖者相似地構成。完全相同之參考符號對應地識別等效或完全相同地作用之部件。亦顯示驅動缸50在三個不同位置：在該回縮處理位置(第3a圖)、在該過渡位置(第3b圖)、及在該伸長裝配位置(第3c圖)。
第2a圖至第2c圖之銷舉升器個別位置、及如此可執行之一舉升程序的說明，因此可移轉至驅動缸50。驅動缸50可用於複數個不同驅動概念。特別地，缸50可設於以上所示之一銷舉升器裝置中。
第4圖係以一透視圖顯示依據本發明之一舉升缸50(驅動缸)的又一具體實施例。功能係與以上針對第2a圖至第3c圖作說明者大體上一致。完全相同之參考符號再次識別驅動件50之對應的等效或完全同地作用之部件。
在此情況下，進一步圖示出，依據本發明之用於定位二停止件41及42(橫樑)的一設定單元係由二停止元件41及42、以及分別與該等停止元件共同作動之定位環43及44組成。在圖式所示之具體實施例中，停止元件41及42在其二對立(短)末端上各具有一外螺紋47、48之一節段，該外螺紋具有既定節距。可看出停止元件41及42之末端延伸入外殼21之各別凹部中，且依一扭鎖方式固持於該等凹部中。
在此設計成定位環43及44之二定位元件43及44具有各別之環周內螺紋37及38，與外螺紋47及48對應。換言之，該等環之內螺紋37及38嚙合該等停止元件之外螺紋47及48，且藉旋轉該等環而允許該等停止元件沿縱軸L作一垂直調整。
該二設定單元至少其中之一設計成提供受影響停止元件跨越至少±1公釐或±2公釐之一可變定位能力。再者，該二設定 單元至少其中之一可設計成自抑制(self-inhibiting)。
第5圖顯示依據發明之一舉升裝置及/或用於其驅動件的又一具體實施例。外殼21再次具有一第一活塞22及一第二活塞32，該等活塞各藉由第一內體積25及第二內體積35之壓力施加而可在該外殼中作軸向運動。
一停止元件52提供一停止點，用於藉第二活塞32啟始而進入第一活塞22所操控之運動程序的運動過渡。一定位環53允許停止元件52之位置作軸向調整。
在本具體實施例中，第一活塞桿23延伸通過第一活塞22且在此處所顯示之處理位置中與第二活塞32之一接觸表面33a接觸。該第二活塞配置在此做成不具有一第二活塞桿。第一活塞22係與第一活塞桿23以螺釘鎖在一起。
第一活塞桿23朝外延伸超出外殼21，且可在外殼21外側耦接至一銷舉升器之一支持銷。特別地，該支持銷配置於活塞桿23之軸向伸長中。
圖示出之圖式顯然僅概略地圖示可能的示範具體實施例。各式方案亦可依據本發明而相互組合，及與先前技藝在真空處理室中處理基板之裝置組合。
10:(銷舉升器)裝置
11:支持銷
12:室壁/支持件/板
21:外殼
22:活塞
23:活塞桿
25:第一內體積
26:回復彈簧
27:壓縮空氣導管
32:活塞
33:活塞桿
35:第二內體積
41:停止件
42:停止件
43:定位環/調整機構
L:縱軸

Claims (18)

  1. 一種銷舉升器裝置(10)、特別地一銷舉升器，用於一待處理基板(1)、特別地一晶圓之運動及定位，其包括一氣動驅動缸(6，50)包括一圓柱形外殼(21)，包圍一第一內體積(25)，及一第一活塞配置，配置成可沿一運動軸運動，該運動軸係與一縱軸(L)平行或同軸地延伸，該第一活塞配置包括一第一活塞(22)及一第一活塞桿(23)，其中該縱軸(L)係藉該第一內體積(25)界定，該第一活塞(22)限定該第一內體積(25)，該第一活塞桿(23)突出該圓柱形外殼(21)，及該第一活塞配置可藉該第一內體積(25)之一壓力施加而位移到一伸長裝配位置，及至少一支持銷(7，11)，可沿該縱軸(L)之方向至少大體上平行或同軸地運動，其中該支持銷(7，11)連接至設於該圓柱形外殼(21)外側之該第一活塞桿(23)的一外端，及該支持銷(7，11)可藉該第一活塞配置之一運動而作線性地運動，其特徵在於該驅動缸(6，50)具有一第二活塞配置，其包括一第二活塞(32)及一接觸表面(33a)，其中該第二活塞(32)限定藉該圓柱形外殼(21)包圍之一第二內體積(35)，特別地其中該第一與該第二內體積係藉該第二活塞(32)而相互分離，該第二活塞配置係配置成使其可與該第一活塞配置至少大體上同軸地運動，及 該第二活塞配置之該接觸表面(33a)係面朝該第一活塞(22)之方向，及該第一活塞配置及該第二活塞配置係配置成使得該第一活塞配置與該接觸表面(33a)設置成在該裝配位置不接觸，及該第一活塞配置與該接觸表面(33a)在一回縮處理位置接觸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該驅動缸(6，50)具有一第二壓縮空氣導管(27)，配置成使得該第二、且特別地該第一活塞配置可藉通過該第二壓縮空氣導管(27)之該第二內體積(35)的一壓力施加，從該回縮處理位置位移到一過渡位置，及該驅動缸(6，50)具有一第一壓縮空氣導管(28)，配置成使得該第一活塞配置可藉通過該第一壓縮空氣導管(28)之該第一內體積(25)的一壓力施加，從該過渡位置位移到該伸長裝配位置。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該銷舉升器裝置(10)具有一控制單元，用於啟動該第一及該第二壓縮空氣導管之各別壓縮空氣調節元件，且該控制單元具有一舉升功能，使該第一活塞配置在一伸長裝配位置中運動，該舉升功能佈設成當其執行時該第二壓縮空氣導管(27)之壓縮空氣調節元件提供該第二內體積(35)之壓力施加，及接著該第一壓縮空氣導管(28)之壓縮空氣調節元件在關於該第二內體積(35)壓力施加之一特定時間延遲後，提供該第一內體積(25)之壓力施加，其中該時間延遲 係根據以該第二活塞(32)抵達該過渡位置者而定，或係藉該舉升功能依既定之按時間順序方式控制。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該驅動缸(6，50)界定出用於該第一或該第二活塞配置、特別地該第一或該第二活塞運動之至少一停止點，其中該至少一停止點界定該伸長裝配位置、該回縮處理位置及該過渡位置之其中一者，及該至少一停止點之位置可在沿一調整軸之一既定停止範圍中變動，該調整軸至少大體上平行於該縱軸(L)延伸，特別地其中該停止範圍之一延伸在該縱軸(L)之方向上至少0.5公釐或1公釐。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該外殼(21)具有至少二凹部，其特別地沿徑向對立，其中該等凹部穿過該外殼壁，及該等凹部沿該調整軸之一延伸界定出該停止範圍。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該驅動缸(6，50)具有至少一配置於該等凹部中之停止元件(41，42，52)、特別地一橫樑，其具有在該調整軸之方向上的一既定高度，其中該高度較該等凹部之延伸小，及具有至少一與該停止元件(41，42，52)共同作動之調整機構(43，44，53)。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該調整機構(43，44，53)佈設成具有一內螺紋(37，38)之一 環，且配置於該外殼外側上，該停止元件(41，42，52)具有一外螺紋(47，48)之一節段，其在該等凹部之區域中與該內螺紋(37，38)對應，及該停止元件(41，42，52)特別地在其關於該內體積及/或該外殼(21)之內及/或外徑的尺寸決定方面係形成為使得該內螺紋(37，38)與該外螺紋(47，48)共同作動，及該停止元件(41，42)之位置可藉由該環(43，44，53)之旋轉而在該既定停止範圍內沿該調整軸變動及設定，其中該至少一停止點可調整。
  8. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該驅動缸(6，50)具有至少一回復功能，藉此可提供一回復力，作用於該第一及/或該第二活塞配置上，以將其推壓入該回縮處理位置，特別地其中該回復功能佈設成一回復元件(26)、特別地為一回復彈簧，其配置成使得該回復力作用於該第一活塞(22)上，或一可控制、特別地氣動回復機構，其中可藉壓力施加來設定該第一活塞(22)上之該回復力、特別地關於其絕對值。
  9. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該第二活塞配置具有一第二活塞桿(33)，面朝該第一活塞配置方向之該第二活塞桿(33)的一端面，及該端面代表該接觸表面(33a)，其中該第一活塞(22)與該第二活塞桿(33)設置成在該裝配位置不 接觸，及該第一活塞(22)與該第二活塞桿(33)在該回縮處理位置接觸，及/或該第一活塞桿(23)形成為使得與該第一活塞桿(23)之外端對立的該第一活塞桿(23)之一自由內端面朝該接觸表面(33a)之方向，其中該第一活塞桿(23)與該接觸表面(33a)設置成在該裝配位置不接觸，及該第一活塞桿(23)與該接觸表面(33a)在一回縮處理位置接觸，特別地，其中該第一活塞桿(23)形成為延伸通過該第一活塞(22)，且特別地藉由一螺釘連接而配置在關於該第一活塞(22)之一固定位置中。
  10. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之銷舉升器裝置(10)，其中該驅動缸(6，50)係如申請專利範圍第11項至第18項中任一項佈設。
  11. 一種氣動驅動缸(6，50)、特別地一舉升缸、特別地用於一銷舉升器裝置(10)或一銷舉升器，其包括一圓柱形外殼(21)，包圍一第一內體積(25)，及一第一活塞配置，配置成可沿一運動軸運動，該運動軸係與一縱軸(L)平行或同軸地延伸，該第一活塞配置包括一第一活塞(22)及一第一活塞桿(23)，其中該縱軸(L)係藉該第一內體積(25)界定，該第一活塞(22)限定該第一內體積(25)，該第一活塞桿(23)突出該圓柱形外殼(21)，及 該第一活塞配置可藉該第一內體積(25)之一壓力施加而位移到一伸長裝配位置，一耦接元件，設於位在該圓柱形外殼(21)外側之該第一活塞桿(23)的一外端上，以將該第一活塞桿(23)連接至待藉由該驅動缸(6，50)而運動之一組件(11，13)、特別地一銷舉升器裝置(10)之一支持銷，及一第二活塞配置，包括一第二活塞(32)及一接觸表面(33a)，其中該第二活塞(32)限定藉該圓柱形外殼(21)包圍之一第二內體積(35)，特別地其中該第一與該第二內體積係藉該第二活塞(32)而相互分離，該第二活塞配置係配置成使其可與該第一活塞配置至少大體上同軸地運動，該接觸表面(33a)係面朝該第一活塞(22)之方向，及該第二、且特別地該第一活塞配置可藉該第二內體積(35)之一壓力施加而從一回縮處理位置位移到一過渡位置，其中該第一活塞配置及該第二活塞配置係配置成使得該第一活塞配置與該接觸表面(33a)設置成在該伸長裝配位置不接觸，及該第一活塞配置與該接觸表面(33a)在一回縮處理位置接觸，其特徵在於該驅動缸(6，50)具有至少一停止點，用於限定該第一及/或該第二活塞配置、特別地該第一或第二活塞之運動距離，其中該至少一停止點界定該伸長裝配位置、該回縮處理位置、及/或該過渡位置，及該至少一停止點之位置可在沿一調整軸之一既定停止範圍內變動，該調整軸至少大體上平行於該縱軸(L)延伸，特別地其中該停止範圍之一延伸係沿該調整軸至少0.5公釐或1公釐。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該第二活塞配置具有一第二活塞桿(33)，面朝該第一活塞配置方向之該第二活塞桿(33)的一端面，及該端面代表該接觸表面(33a)，其中該第一活塞(22)與該第二活塞桿(33)設置成在該裝配位置不接觸，及該第一活塞(22)與該第二活塞桿(33)在該回縮處理位置接觸。
  13. 如申請專利範圍第11項或第12項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該第一活塞桿(23)形成為使得與該第一活塞桿(23)之外端對立的該第一活塞桿(23)之一自由內端面朝該接觸表面(33a)之方向，其中該第一活塞桿(23)與該接觸表面(33a)設置成在該裝配位置不接觸，及該第一活塞桿(23)與該接觸表面(33a)在一回縮處理位置接觸，特別地，其中該第一活塞桿(23)形成為延伸通過該第一活塞(22)，且特別地藉由一螺釘連接而配置在關於該第一活塞(22)之一固定位置中。
  14. 如申請專利範圍第11項或第12項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該外殼(21)具有至少二凹部，其特別地沿徑向對立，其中該等凹部穿過該外殼壁，及該等凹部沿該調整軸之一延伸界定出該停止範圍。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該驅動缸(6，50)具有至少一配置於該等凹部中之停止元件(41，42，52)、特別地一橫樑，其具有在該調整軸之方向上的一既定高度，其中該高度較該等凹部之延伸小，及具有至少一與該停止元件(41，42，52)共同作動之調整機構(43，44，53)。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該調整機構(43，44，53)佈設成具有一內螺紋(37，38)之一環，且配置於該外殼外側上，該停止元件(41，42，52)具有一外螺紋(47，48)之一節段，其在該等凹部之區域中與該內螺紋(37，38)對應，及該停止元件(41，42，52)特別地在其關於該內體積或該外殼(21)之內及/或外徑的尺寸決定方面係形成為使得該內螺紋(37，38)與該外螺紋(47，48)共同作動，及該停止元件(41，42)之位置可藉由該環(43，44，53)之旋轉而在該既定停止範圍內沿該調整軸變動及設定，其中該至少一停止點可調整。
  17. 如申請專利範圍第11項或第12項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該驅動缸(6，50)具有至少一回復功能，藉此可提供一回復力，作用於該第一及/或該第二活塞配置上，以將其推壓入該回縮處理位置，特別地其中該回復功能佈設成一回復元件(26)、特別地為一回復彈簧，其配置成使得該回復力作用於該第一活塞上，或 一可控制、特別地氣動回復機構，其中可藉壓力施加來設定該第一活塞上之該回復力、特別地關於其絕對值。
  18. 如申請專利範圍第11項或第12項所述之氣動驅動缸(6，50)，其中該驅動缸(6，50)具有一第一壓縮空氣導管(28)，配置成使得該第一活塞配置可藉通過該第一壓縮空氣導管(28)之該第一內體積(25)的一壓力施加，從該過渡位置位移到該伸長裝配位置，及該驅動缸(6，50)具有一第二壓縮空氣導管(27)，配置成使得該第二、且特別地該第一活塞配置可藉通過該第二壓縮空氣導管(27)之該第二內體積(35)的一壓力施加，從該回縮處理位置位移到一過渡位置。
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