TWI706100B - 隔膜閥及流量控制裝置 - Google Patents

隔膜閥及流量控制裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI706100B
TWI706100B TW108134508A TW108134508A TWI706100B TW I706100 B TWI706100 B TW I706100B TW 108134508 A TW108134508 A TW 108134508A TW 108134508 A TW108134508 A TW 108134508A TW I706100 B TWI706100 B TW I706100B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
diaphragm
rod
valve
actuator
control device
Prior art date
Application number
TW108134508A
Other languages
English (en)
Other versions
TW202012819A (zh
Inventor
執行耕平
廣瀨隆
Original Assignee
日商富士金股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商富士金股份有限公司 filed Critical 日商富士金股份有限公司
Publication of TW202012819A publication Critical patent/TW202012819A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI706100B publication Critical patent/TWI706100B/zh

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K7/00—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves
    • F16K7/12—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm
    • F16K7/14—Diaphragm valves or cut-off apparatus, e.g. with a member deformed, but not moved bodily, to close the passage ; Pinch valves with flat, dished, or bowl-shaped diaphragm arranged to be deformed against a flat seat
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
    • F16K1/32—Details
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K25/00—Details relating to contact between valve members and seats
    • F16K25/005—Particular materials for seats or closure elements
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
    • F16K27/02—Construction of housing; Use of materials therefor of lift valves
    • F16K27/0272—Construction of housing; Use of materials therefor of lift valves valves provided with a lining
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/004—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by piezoelectric means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/004—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by piezoelectric means
    • F16K31/007—Piezoelectric stacks
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
    • F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electrically Driven Valve-Operating Means (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Valve Housings (AREA)

Abstract

本發明旨在提供一種桿之軸向偏轉減小的隔膜閥。 本發明之隔膜閥包含有閥體16、隔膜17、及驅動部12，該閥體16內部具有流體之流路16a、16b，且一面具有隔膜配置部16d；該隔膜17配置於該隔膜配置部16d，且可藉由彈性變形而調節該流路之開關及開度；該驅動部具有按壓該隔膜17而使之彈性變形的桿8及驅動該桿8之致動器2；該桿8係隔著樹脂製套筒15以可沿軸向位移方式受到固定於該閥體16側之閥帽10所固持。

Description

隔膜閥及流量控制裝置
本發明係有關於隔膜閥、流量控制裝置、流體控制裝置、及半導體製造裝置。
用於半導體製造程序等之程序氣體的流量控制廣泛地使用質量流量控制裝置(質量流量控制器)。此質量流量控制裝置為例如壓力式質量流量控制裝置時，使用設於流路之孔口的前後之壓力來測定質量流量，此質量流量以控制閥調節成達到目標值。此種控制閥廣泛地使用隔膜閥。
隔膜閥之構造係以驅動部按壓由金屬薄板等構成之隔膜，使其彈性變形，而進行流路之開關及開度之調節。如圖5(專利文獻1之圖4)所示，此驅動部具有按壓隔膜(圖1之符號17)之桿8、驅動此桿之壓電致動器(piezoelectric actuator)2。桿8藉由位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)，以壓電致動器2往開啟閥之方向驅動，而於壓動致動器2之不施加電壓時，則以盤形彈簧9賦與往關閉隔膜閥之方向的勢能，藉由O型環14以閥帽10之貫穿孔10b引導(專利文獻1)。
此O型環14以腈橡膠、氟橡膠、矽橡膠、氯平橡膠等橡膠形成，具柔軟性。由於被壓電致動器2驅動之桿8的動作衝程小至數10μm，故視為比起藉由滑動，更藉由O型環14之彈性變形，容許桿8之軸向位移。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：國際公開號碼WO2017/033423A1
[發明欲解決之問題]
然而，在上述機構，由於作為O型環之導件的接觸面積小，故不能說固持力足夠，而有引起桿之軸向偏轉的情形。結果，當隔膜之抵接處偏心時，應力增高，有縮短隔膜的壽命之虞。特別是由於當隨著流量控制裝置之小型化，隔膜小型化時，即使是微小之軸向偏轉，對隔膜而言仍是相對較大之偏心，故要求更嚴格之軸向偏轉的抑制。
本發明之目的在於解決上述問題，而提供桿之軸向偏轉減小的隔膜閥。 [解決問題之手段]
本發明之隔膜閥包含有閥體、隔膜、及驅動部，該閥體內部具有流路，且其一面具有隔膜配置部；該隔膜配置於該隔膜配置部，且藉彈性變形，可調節該流路之開關及開度；該驅動部具有按壓該隔膜而使之彈性變形的桿及驅動該桿之致動器；該桿係隔著樹脂製套筒以可沿軸向位移方式受到固定於該閥體側之閥帽所固持。
宜可採用該樹脂製套筒以聚縮醛、超高分子量聚乙烯、氟樹脂、苯酚樹脂其中任一者形成之結構。
該致動器宜為壓電致動器。
本發明之流量控制裝置使用上述結構之隔膜閥。
本發明之流體控制裝置從上游往下游排列有複數之流體機器，該複數之流體機器包含上述結構之隔膜閥或流量控制裝置。
本發明之半導體製造裝置在密閉之腔室內需要以程序氣體所行之處理製程的半導體裝置製造程序中，於該程序氣體之控制使用上述結構之隔膜閥或流量控制裝置。 [發明之效果]
根據本發明，由於引導用以驅動隔膜之桿的軸向之移動的引導部分使用樹脂製套筒，故桿與引導部分之接觸面積增大，而可提高引導剛性。藉此，實現了減低了桿之軸向偏轉的隔膜閥。
以下，就本發明之實施形態，參照圖式來說明。於圖1顯示本發明一實施形態之隔膜閥1的概略圖。
如圖1所示，本實施形態之隔膜閥1包含有閥體16、隔膜17、及驅動部12而構成。
閥體16呈約略塊狀，內部具有上游側流路16a、及下游側流路16b。上游側流路16a於形成在閥體16之頂面的淺擴孔狀凹陷亦即隔膜配置部16d之底面的中央部開口，此開口之周圍隆起成環狀而形成閥座16e。另一方面，下游側流路16b於隔膜配置部16d之底面的周邊部開口。
在本實施形態，隔膜17係使特殊不鏽鋼等金屬製薄板或鎳鈷合金薄板之中央部膨出至上方的球殼狀構件，配置於閥體16頂面之隔膜配置部16d。於隔膜17之外周緣部上配置圓環狀按壓接頭18，從其上抵接閥帽10之下端部，閥帽10與支撐板3一同以螺絲共同鎖固至閥體16，藉此，隔膜17固定，而將隔膜配置部16d氣密地密封。
在隔膜17與閥座16e之間具有預定量間隙，並形成有從上游側流路16a通過此間隙而連通以隔膜17密閉之隔膜配置部16d，進一步連通下游側流路16b之流路。當隔膜17被驅動部12按壓而抵接閥座16e時，遮斷流路16a與流路16b之連通，而藉隔膜17與閥座16e分離，流路16a與流路16b則連通。藉此，可調節流路的開關及開度。
驅動部12具有閥帽10、支撐板3、壓電致動器2、位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)、桿8、盤形彈簧9。
閥帽10與支撐板3將壓電致動器2、位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)與桿8固持成可於軸向位移，於閥帽10重疊支撐板3，以2根螺栓共同鎖固於閥體16。閥帽10如上述亦發揮將隔膜17固定於閥體16之功用。
壓電致動器2於圓筒狀盒體2c內裝設有圖中未示之積層的壓電元件。盒體2c為不鏽鋼合金等金屬製，半球狀前端部2a側之端面及基端部2b側之端面封閉。盒體2c係藉對積層之壓電元件施加電壓而使其伸長，盒體2c之前端部2a側的端面彈性變形，半球狀前端部2a在長向位移。即，盒體2c係藉對積層之壓電元件施加電壓，從前端部2a至基端部2b之全長伸長。
壓電致動器2於垂直方向配置成前端部2a抵接支撐板3。前端部2a之前端構成半球狀，在本實施形態中，陷入形成於支撐板之頂面的圓錐狀凹陷。壓電致動器2之基端部2b嵌合固持於位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)之承接部亦即按壓構件4。
按壓構件4之頂面抵接在螺合於上部連結構件6之螺孔的調整螺絲7之前端。該上部連結構件6呈使有底圓筒倒置並切割兩側之約略コ字型，其內側以螺絲連結有一對位移傳遞構件。
一對位移傳遞構件5以熱膨脹係數小之銦鋼材等金屬材料形成，呈現將沿著壓電致動器2之外周面的圓筒狀構件沿著長向分割成二個之形態。該一對位移傳遞構件5係各開口部5a使支撐板3插通而延伸至此支撐板之下側，並於前端部形成有卡止部5b。
另一方面，桿8係於支撐板3之下側貫穿閥帽10之引導孔10a而配置成與該壓電致動器2同軸，並設成被該引導孔10a引導而可於軸向移動。桿8具有供形成於一對位移傳遞構件5之下端部的各卡止部5b分別卡合之臂部8a。桿8被盤形彈簧9賦與往下方之勢能。當壓電致動器2伸長時，桿8亦對抗盤形彈簧9之賦與勢能力而被一對位移傳遞構件5拉起至上方。如此，壓電致動器2之長度的位移透過一連串之位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)傳達至桿，桿得以於軸向位移。 桿8之前端(下端)安裝有隔膜按壓件19而抵接隔膜17。
在此，在本發明中，於桿8與閥帽10之引導孔10a的滑動部分使用樹脂製套筒15取代習知的O型環14(參照圖5)。即，以外周嵌合固定於閥帽10之引導孔10a的套筒15之內周，引導桿8。由於套筒15以聚縮醛、超高分子量聚乙烯、氟樹脂、鐵氟龍(註冊商標)樹脂、苯酚樹脂等自潤滑性樹脂形成，故與被引導之不鏽鋼製桿8的摩擦係數小。又，由於桿8之外周與套筒15之內周的組合具有圓筒狀接觸面，故接觸面積大，而獲得高引導剛性。
接著，就如此構成之本實施形態的隔膜閥1之動作，參照圖1來說明。
首先，在對壓電致動器2之施加電壓為零的初始狀態，壓電致動器2之長度為初始長度，位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)及與此位移傳遞機構卡合之桿8被盤形彈簧9下壓而位於最下方位置。因而，隔膜17被桿8按壓而密合於閥座16e，閥形成全閉狀態。
接著，當對壓電致動器2施加電壓時，由於壓電致動器2之長度增大，故勝過盤形彈簧9之賦與勢能力，位移傳遞機構(4、7、6、5、5b)與桿8被頂推，而於隔膜17與閥座16e之間形成間隙，閥開啟，流體得以通過隔膜閥1。藉調節對壓電致動器2之施加電壓，可調節隔膜17與閥座16e之間隙，而可調節流體之流量。
此時，由於桿8之外周以低摩擦係數之樹脂製套筒15引導，故桿8可平順地於上下方向移動。又，由於樹脂製套筒15具高引導剛性，故於上下移動之際，不致引起軸向偏轉，而可減低因軸向偏轉引起之隔膜17的應力上升，而可謀求隔膜17之壽命的提高。
此外，在本實施形態，使桿8之外周於外周嵌合於閥帽10之引導孔10a的樹脂製套筒15之內周滑動，但不限於此，亦可使內周嵌合於桿8之外周的樹脂製套筒15之外周於閥帽10之引導孔10a的內周滑動。此種結構亦可獲得低摩擦係數與高引導剛性。
接著，就本發明之流量控制裝置作說明。 圖2係本發明一實施形態之流量控制裝置的概略截面圖，顯示裝入了上述隔膜閥1之壓力式流量控制裝置20。 在圖2中，雖然覆蓋流量控制裝置20全體之蓋及反饋控制用基板實際上存在，但為方便說明，並未圖示。 流量控制裝置20除了上述隔膜閥1之構成要件外，還包含有下游側塊體25、壓力檢測器22、孔口21、壓力檢測器26、流路25a。
在閥體16之內部，於隔膜17之下游側流路內設有孔口21(在本實施形態中為墊片型孔口)。於孔口21之上游側流路16b的中途設有檢測壓力之上游側壓力檢測器22。 下游側塊體25以螺栓連結於閥體16，具有連通閥體16之下游側流路16b的下游側流路25a，並設有檢測下游側流路25a內之壓力的下游側壓力檢測器26。 藉圖中未示之控制裝置，依據各壓力檢測器22、26之檢測值，將隔膜閥1以PID控制進行開關控制。
在本流量控制裝置中，由於使用本發明之隔膜閥，故可期待伴隨隔膜閥之長壽命化的流量控制裝置之長壽命化。
接著，就本發明之流體控制裝置作說明。 圖3係本發明一實施形態之流體控制裝置的概略立體圖。 於圖3所示之流體控制裝置設有沿著寬度方向W1、W2排列且於長向G1、G2延伸之金屬製基底板BS。此外，W1顯示正面側之方向，W2顯示背面側之方向，G1顯示上游側之方向，G2顯示下游側之方向。於基底板BS藉由複數之流路塊992設置有各種流體機器991A~991E，於複數之流路塊992分別形成有從上游側G1往下游側G2供流體流通之圖中未示的流路。
在此，「流體機器」係指於控制流體之流動的流體控制裝置使用之機器，係包含有劃定流體流路之機體，且具有在此機體之表面開口的至少二個流路之機器。具體而言，包含有開關閥(雙通閥)991A、調節器991B、壓力計991C、開關閥(三通閥)991D、質量流量控制器991E等，但並非限於這些。此外，導入管993連接於上述圖中未示之流路的上游側之流路口。
本發明可適用於上述開關閥991A、991D、調節器991B、質量流量控制器991E等各種隔膜閥。
接著，就本發明之半導體製造裝置作說明。 圖4係本發明一實施形態之半導體製造裝置的方塊圖。 圖4所示之半導體製造裝置980係用以執行原子層沉積法(ALD：Atomic Layer Deposition法)之半導體製造程序的裝置，981顯示程序氣體供給源、982顯示氣體控制箱(流體控制裝置)，983顯示槽，984顯示開關閥，985顯示控制部，986顯示處理腔室，987顯示排氣泵。
本發明可適用於上述氣體控制箱982及構成氣體控制箱982之流體機器、開關閥984。
此外，本發明不限上述實施形態。只要為該業者，可在本發明之範圍內，進行各種追加及變更等。舉例而言，在上述適用例中，例示了用於ALD法之半導體製造程序的情形，但並非限於此，本發明可適用於例如原子層蝕刻法(ALE：Atomic Layer Etching法)等需要精密之流量調整的所有對象。
在上述實施形態中，結構為將開關閥984配置於作為流體控制裝置之氣體控制箱982的外部，亦可使將開關閥、調節器、質量流量控制器等各種流體機器積體化而收容於箱之流體控制裝置包含上述實施形態之隔膜閥。
1:隔膜閥 2:壓電致動器 2a:前端部 2b:基端部 2c:盒體 3:支撐板 4:按壓構件 5:位移傳遞構件 5a:開口部 5b:卡止部 6:上部連結構件 7:調整螺絲 8:桿 8a:臂部 9:盤形彈簧 10:閥帽 10a:引導孔 10b:貫穿孔 12:驅動部 14:O型環 15:套筒 16:閥體 16a:上游側流路 16b:下游側流路 16d:隔膜配置部 16e:閥座 17:隔膜 18:按壓接頭 19:隔膜按壓件 20:流量控制裝置 21:孔口 22:壓力檢測器 25:下游側塊體 25a:下游側流路 26:壓力檢測器 980:半導體製造裝置 981:程序氣體供給源 982:氣體控制箱 983:槽 984:開關閥 985:控制部 986:處理腔室 987:排氣泵 991A:流體機器(開關閥) 991B:流體機器(調節器) 991C:流體機器(壓力計) 991D:流體機器(開關閥) 991E:流體機器(質量流量控制器) 992:流路塊 993:導入管 BS:基底板 G1:長向 G2:長向 W1:寬度方向 W2:寬度方向
圖1係本發明一實施形態之隔膜閥的概略截面圖。 圖2係本發明一實施形態之流量控制裝置的概略截面圖。 圖3係本發明一實施形態之流體控制裝置的概略立體圖。 圖4係本發明一實施形態之半導體製造裝置的方塊圖。 圖5係顯示習知之隔膜閥的線性致動器部分之縱截面圖。
1:隔膜閥
2:壓電致動器
2a:前端部
2b:基端部
2c:盒體
3:支撐板
4:按壓構件
5:位移傳遞構件
5a:開口部
5b:卡止部
6:上部連結構件
7:調整螺絲
8:桿
8a:臂部
9:盤形彈簧
10:閥帽
10a:引導孔
12:驅動部
15:套筒
16:閥體
16a:上游側流路
16b:下游側流路
16d:隔膜配置部
16e:閥座
17:隔膜
18:按壓接頭
19:隔膜按壓件
20:流量控制裝置

Claims (6)

  1. 一種隔膜閥，包含：閥體，其內部具有流路，且其頂面具有隔膜配置部；隔膜，配置於該隔膜配置部，且可藉由彈性變形而調節該流路之開關及開度；桿，按壓該隔膜而使之彈性變形；致動器，驅動該桿；及支撐機構，被固定於該閥體，並將該桿及該致動器加以支撐；且該桿與該致動器，自該閥體的頂面而依此順序，在垂直方向上呈縱行配置在該頂面，該致動器，構成為其下端部抵接於該支撐機構的構件而定位，而其上端部的垂直方向位置會位移，該致動器的上端部與該桿，係藉由繞著該致動器而延伸之位移傳遞構件來連接，該桿係隔著樹脂製套筒以可沿軸向位移方式受到固定於該閥體之閥帽所固持。
  2. 如申請專利範圍第1項之隔膜閥，其中，該樹脂製套筒係以聚縮醛、超高分子量聚乙烯、氟樹脂、苯酚樹脂其中任一者形成。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項之隔膜閥，其中，該致動器係壓電致動器。
  4. 一種流量控制裝置，包含：如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之隔膜閥。
  5. 一種流體控制裝置，其配置有複數之流體機器，該複數之流體機器包含如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之隔膜閥或如申請專利範圍第4項之流量控制裝置。
  6. 一種半導體製造裝置，其係於需要在密閉之腔室內以程序氣體進行之處理製程的半導體製造程序中，於該程序氣體之控制使用如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之隔膜閥或如申請專利範圍第4項之流量控制裝置。
TW108134508A 2018-09-29 2019-09-25 隔膜閥及流量控制裝置 TWI706100B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-186187 2018-09-29
JP2018186187 2018-09-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202012819A TW202012819A (zh) 2020-04-01
TWI706100B true TWI706100B (zh) 2020-10-01

Family

ID=69950544

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108134508A TWI706100B (zh) 2018-09-29 2019-09-25 隔膜閥及流量控制裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11674603B2 (zh)
JP (1) JP7360719B2 (zh)
KR (1) KR102563815B1 (zh)
CN (1) CN112771294A (zh)
TW (1) TWI706100B (zh)
WO (1) WO2020066491A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7045738B1 (ja) * 2021-03-23 2022-04-01 株式会社リンテック 常時閉型流量制御バルブ
JP2023092110A (ja) 2021-12-21 2023-07-03 株式会社トーキン 流体制御装置、気化システム、及びピエゾアクチュエータ

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0666389A (ja) * 1992-08-19 1994-03-08 Yamatake Honeywell Co Ltd 調節弁
JPH11154022A (ja) * 1997-04-08 1999-06-08 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ及びその運転制御方法
JP2003042324A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 遮断弁
WO2013046660A1 (ja) * 2011-09-30 2013-04-04 株式会社フジキン ガス供給装置
JP2014504355A (ja) * 2010-12-09 2014-02-20 ソシエテ ベ イ セ ライターのためのバルブ組立体及びこのようなバルブ組立体を備えるガスライター
CN204213431U (zh) * 2014-09-28 2015-03-18 杭州金奥阀门制造有限公司 微小流量阀

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806084A (en) * 1971-06-21 1974-04-23 Scm Corp Improved valve dispensing apparatus
US4171792A (en) * 1974-12-23 1979-10-23 Dresser Industries, Inc. High pressure diaphragm valves
US4019534A (en) * 1975-10-06 1977-04-26 Will Ross, Inc. Needle valve assembly
JPS6066389A (ja) * 1983-09-22 1985-04-16 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS63115970A (ja) * 1986-10-31 1988-05-20 Motoyama Seisakusho:Kk ダイヤフラム弁
KR930001721B1 (ko) * 1988-03-02 1993-03-12 도또기끼 가부시끼가이샤 대변기 세정장치
US6062246A (en) 1997-04-08 2000-05-16 Hitachi Metals Ltd. Mass flow controller and operating method thereof
JP4743763B2 (ja) * 2006-01-18 2011-08-10 株式会社フジキン 圧電素子駆動式金属ダイヤフラム型制御弁
CN103429894B (zh) 2011-04-27 2016-06-29 Ckd株式会社 多层隔膜
JP6141663B2 (ja) * 2013-03-27 2017-06-07 株式会社堀場エステック 流体制御弁
JP6231463B2 (ja) * 2014-11-07 2017-11-15 株式会社鷺宮製作所 カシメ構造体
US10573801B2 (en) 2015-08-21 2020-02-25 Fujikin Incorporated Piezoelectric linear actuator, piezoelectrically driven valve, and flow rate control device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0666389A (ja) * 1992-08-19 1994-03-08 Yamatake Honeywell Co Ltd 調節弁
JPH11154022A (ja) * 1997-04-08 1999-06-08 Hitachi Metals Ltd マスフローコントローラ及びその運転制御方法
JP2003042324A (ja) * 2001-07-27 2003-02-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 遮断弁
JP2014504355A (ja) * 2010-12-09 2014-02-20 ソシエテ ベ イ セ ライターのためのバルブ組立体及びこのようなバルブ組立体を備えるガスライター
WO2013046660A1 (ja) * 2011-09-30 2013-04-04 株式会社フジキン ガス供給装置
CN204213431U (zh) * 2014-09-28 2015-03-18 杭州金奥阀门制造有限公司 微小流量阀

Also Published As

Publication number Publication date
US11674603B2 (en) 2023-06-13
KR102563815B1 (ko) 2023-08-03
TW202012819A (zh) 2020-04-01
JP7360719B2 (ja) 2023-10-13
JPWO2020066491A1 (ja) 2021-09-02
CN112771294A (zh) 2021-05-07
US20220057002A1 (en) 2022-02-24
KR20210049933A (ko) 2021-05-06
WO2020066491A1 (ja) 2020-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10260656B2 (en) Vacuum valve and vacuum pressure control system using the same
TWI706100B (zh) 隔膜閥及流量控制裝置
KR20070108529A (ko) 미소유량조절기구를 가진 상폐밸브
WO2017217179A1 (ja) 流体制御弁
US11346457B2 (en) Piezoelectric driven valve, pressure-type flow rate control device, and vaporization supply device
KR20210027452A (ko) 밸브 장치
TWI695945B (zh) 閥裝置
US11174949B2 (en) Actuator and valve device using the same
KR102453794B1 (ko) 밸브 장치, 유체 제어 장치, 유체 제어 방법, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법
TWI753708B (zh) 隔膜閥、流量控制裝置、流體控制裝置及半導體製造裝置
US20220082176A1 (en) Valve device, flow control method, fluid control device, semiconductor manufacturing method, and semiconductor manufacturing apparatus
JP7187015B2 (ja) ダイヤフラムバルブ及び流量制御装置
US20200370664A1 (en) Valve device and fluid control device
US20170097103A1 (en) Pneumatic valve
JP2020034135A (ja) ダイヤフラムバルブ及び流量制御装置
US9684315B2 (en) Control valve
JP7166599B2 (ja) ダイヤフラムバルブおよび流量制御装置
JP7382054B2 (ja) バルブ装置および流量制御装置
JP7161157B2 (ja) アクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置
JP2023148578A (ja) ダイヤフラムバルブ
JP2020079606A (ja) 流体制御弁及び流体制御装置