TWI746616B - 加工裝置 - Google Patents

加工裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI746616B
TWI746616B TW106127542A TW106127542A TWI746616B TW I746616 B TWI746616 B TW I746616B TW 106127542 A TW106127542 A TW 106127542A TW 106127542 A TW106127542 A TW 106127542A TW I746616 B TWI746616 B TW I746616B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
processing
processing device
processing devices
device information
infrared
Prior art date
Application number
TW106127542A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201820443A (zh
Inventor
関家一馬
Original Assignee
日商迪思科股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商迪思科股份有限公司 filed Critical 日商迪思科股份有限公司
Publication of TW201820443A publication Critical patent/TW201820443A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI746616B publication Critical patent/TWI746616B/zh

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/11—Arrangements specific to free-space transmission, i.e. transmission through air or vacuum
    • H04B10/114—Indoor or close-range type systems
    • H04B10/1143—Bidirectional transmission
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/4185—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the network communication
    • G05B19/4186—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by the network communication by protocol, e.g. MAP, TOP
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67294—Apparatus for monitoring, sorting or marking using identification means, e.g. labels on substrates or labels on containers
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/33—Director till display
    • G05B2219/33198—Laser, light link, infrared
    • G—PHYSICS
    • G08—SIGNALLING
    • G08C—TRANSMISSION SYSTEMS FOR MEASURED VALUES, CONTROL OR SIMILAR SIGNALS
    • G08C2200/00—Transmission systems for measured values, control or similar signals
    • G—PHYSICS
    • G08—SIGNALLING
    • G08C—TRANSMISSION SYSTEMS FOR MEASURED VALUES, CONTROL OR SIMILAR SIGNALS
    • G08C23/00—Non-electrical signal transmission systems, e.g. optical systems
    • G08C23/04—Non-electrical signal transmission systems, e.g. optical systems using light waves, e.g. infrared
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

[課題] 不會發生資訊洩漏，可以在複數裝置間發送接收裝置資訊。 　　[解決手段] 加工被加工物(W)之加工裝置(10)構成具備：保持被加工物之挾盤載置台(12)，和加工被保持於挾盤載置台之被加工物的加工手段，和控制挾盤載置台和加工手段之控制手段(15)，和對控制手段輸入加工條件之輸入手段(14)，和記憶被輸入至輸入手段之加工條件的記憶部(16)，和在與其他加工裝置之間藉由紅外線發送接收裝置資訊的紅外線發送接收手段(21)。

Description

加工裝置
本發明係關於加工被加工物的加工裝置。
在半導體裝置或電子零件之製造過程中，藉由研削裝置將半導體晶圓或陶瓷基板等之板狀被加工物薄化至特定厚度之後，以切削裝置或雷射加工裝置等分割成各個裝置晶片。該些加工裝置雖然被設置在工場等，但是以在工場內之相一樓層排列複數加工裝置之情況為多，各加工裝置以被操作員所輸入加工條件來運轉。因加工裝置之台數越多，操作員之輸入負擔增加，故提案有藉由在複數加工裝置間發送接收加工條件，在裝置間使相同加工條件同步之加工裝置(例如，參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2014-235443號公報
但是，在以Wi-Fi(Wireless Fidelity)或Bluetooth(註冊商標)等之無線通訊使複數加工裝置通訊之情況下，有加工條件等之裝置資訊洩漏至屋外之虞。另外，以使用電纜等之有線通訊連接複數加工裝置間，有像加工裝置之增設或佈局變更變得困難，並且有損美觀這樣的問題。
本發明係鑑於如此之點而創作出，其目的之一在於提供不會發生資訊洩漏可以在複數裝置間發送接收裝置資訊的加工裝置。
當藉由本發明時，提供一種加工裝置，具備：挾盤載置台，其係保持被加工物；加工手段，其係加工被保持於該挾盤載置台之被加工物；控制手段，至少控制該挾盤載置台及該加工手段；輸入手段，其係對該控制手段輸入設定加工條件；及記憶部，其係記憶包含該加工條件之裝置資訊，該加工裝置之特徵在於，具備：紅外線發送接收手段，其具有以紅外線發送該裝置資訊的發送部，和接收從其他加工裝置以紅外線被發送之該裝置資訊的接收部，在該加工裝置之上面進一步具備通報裝置之運轉狀況的顯示燈，該紅外線發送接收手段被配設在該顯示燈，該發送部及該接收部係等間隔地被配置在該顯示燈之外周面，藉由該紅外線發送接收手段，在加工裝置間發送接收該裝置資訊。
若藉由該構成時，因在複數加工裝置間自動 性地發送接收裝置資訊，故可以減輕操作員輸入裝置資訊的負擔。此時，因在複數加工裝置間進行紅外線通訊，故於通訊時加工裝置之裝置資訊不會洩漏至屋外。再者，藉由在複數加工裝置間不需要配線，加工裝置之增設或佈局變更變得容易，同時不會因纜線有損美觀。如此一來，不會發生資訊洩漏，可以在複數加工裝置間使裝置資訊同步。
再者，在本發明之一態樣之加工裝置中，將相鄰接的加工裝置間予以中繼而在複數該加工裝置間發送接收該裝置資訊。
若藉由本發明時，藉由在複數加工裝置間利用紅外線通訊發送接收裝置資訊，不會引起資訊洩漏可以在複數裝置間發送接收裝置資訊。
10:加工裝置
12:挾盤載置台
13:加工手段
14:觸控面板(輸入手段)
15:控制手段
16:記憶部
19:顯示燈
21:紅外線發送接收手段
22:發送部
24:接收部
W:被加工物
圖1為本實施型態之加工裝置之斜視圖。
圖2為比較例之加工裝置之配置例的示意性俯視圖。
圖3為表示本實施型態之紅外線發送接收手段之一例的模式斜視圖。
圖4為表示本實施型態之紅外線通訊之一例的模式圖。
圖5為表示本實施型態之紅外線通訊之資料構造之一例的圖示。
圖6為表示本實施型態之通訊順序之序列圖之一例的圖示。
圖7為表示本實施型態之通訊中之紅外線訊號之一例的圖示。
以下，參照附件圖面針對本實施型態之加工裝置進行說明。圖1為本實施型態之加工裝置之斜視圖。圖2為比較例之加工裝置之配置例的示意性俯視圖。另外，在本實施型態中，雖然例示切削裝置作為加工裝置而予以說明，但是加工裝置若為加工被加工物即可，例如即使為研削裝置、研磨裝置、雷射加工裝置、蝕刻裝置等亦可。
如圖1所示般，加工裝置10被構成因應從觸控面板(輸入手段)14被輸入的加工條件，以加工手段13加工被保持於挾盤載置台12之被加工物W。觸控面板14被設置在框體11之外面，從觸控面板14對控制手段15設定輸入加工條件等，被控制手段15控制挾盤載置台12及加工手段13。再者，包含從觸控面板14被輸入之加工條件的裝置資訊，被記憶於記憶部16，控制手段(控制器)15係藉由從記憶部16讀出各種裝置資訊，統籌性地控制加工裝置10。
控制手段15及記憶部16係藉由實行各種處理 之處理器或記憶體等而被構成。記憶體係因應用途而以ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等之一個或複數之記憶媒體所構成。再者，挾盤載置台12係藉由多孔陶瓷材形成保持面，藉由產生在該保持面之負壓吸引保持被加工物W。加工手段13係在框體11內使轉軸17之前端之切削刀18高速旋轉，藉由挾盤載置台12對切削刀18的相對移動，切削加工被加工物W。
在被加工物W之背面，黏貼切割膠帶T，在切削膠帶T之外周黏貼環形框F。即是，被加工物W在經由切割膠帶T被支撐於環形框F之狀態下被搬入至加工裝置10。被加工物W即使為在半導體基板上形成半導體裝置之半導體晶圓亦可，即使為在無機材料基板上形成光碟的光碟晶圓亦可。另外，在此，雖然例示切削裝置之加工對象作為被加工物W，但是在切削裝置以外之加工裝置中，若為在各加工裝置中成為加工對象者即可。
再者，在框體11之上面，突出設置通報裝置之運轉狀況的顯示燈19。顯示燈19係在加工裝置10正常運轉之狀態下，以綠色點燈，在加工裝置10產生某些狀態不佳之情況下以紅色閃爍。因在框體11之上面存在顯示燈19以外之障礙物，故操作員能夠從遠處辨識到。如此被構成的加工裝置10藉由操作員從觸控面板14以手動設定輸入加工條件，根據加工條件，控制挾盤載置台12及加工手段13之動作。
然而，如圖2A及圖2B之比較例所示般，一般 而言在工場等排列設置複數加工裝置30，當操作員對各個加工裝置30以手動設定裝置資訊時負荷大。因此，研究出從主電腦31藉由有線通訊或無線通訊以遠端對複數加工裝置30設定裝置資訊之方法。但是，因在有線通訊中需要以纜線連接加工裝置30，故難以增設加工裝置30或變更佈局(參照圖2A)。另外，在無線通訊中，因指向性低之電波一邊擴散，一邊傳播至屋外，故加工裝置30之裝置資訊洩漏至外部(參照圖2B)。
返回至圖1，在工場等，多數加工裝置10在同一樓層內接近設置，通常不會在相鄰之加工裝置10之間設置遮蔽通訊之障礙物。因此，若在加工裝置10彼此通訊時，則無須以通訊距離長且指向性低之電波進行無線通訊。於是，在本實施型態中，注目於複數加工裝置10在工場等之屋內接近配置之點，使用通訊距離短且指向性高之紅外線而使加工裝置10彼此無線通訊。指向性高之紅外線難傳播至屋外，不會發生資訊洩漏能夠在複數加工裝置10間發送接收裝置資訊。
再者，如上述般因紅外線通訊通訊距離短，故無法使距離遠的加工裝置10立即紅外線通訊。於是，本實施型態中，藉由以相鄰之加工裝置10使裝置資訊予以中繼，使在經由複數加工裝置10而距離變遠的加工裝置10間發送接收裝置資訊。依此，僅在一台加工裝置10設定裝置資訊，藉由相鄰加工裝置10間之紅外線通訊中繼裝置資訊，能夠使被設置在工場等之同一樓層的所有加工裝置10 同步相同的裝置資訊。
另外，裝置資訊若為加工裝置10所包含的資訊時並不特別限定，不僅裝置資料等之加工條件，即使包含切削刀18(參照圖1)之消耗量等之刀具關連資訊亦可。藉由在複數加工裝置10事先記憶刀具關連資訊，可以在將切削刀18替換成另外的加工裝置10時，反映切削刀18之削耗量而以另外的加工裝置10進行切削加工。
以下，參照圖3及圖4，針對被設置在加工裝置之紅外線通訊之通訊手段進行說明。圖3為表示本實施型態之紅外線發送接收手段之一例的模式斜視圖。圖4為表示本實施型態之紅外線通訊之一例的示意圖。
如圖3所示般，在加工裝置10(參照圖1)之顯示燈19之外周面，設置有用以在相鄰接之加工裝置10間進行紅外線通訊之紅外線發送接收手段21。紅外線發送接收手段21被構成從記憶部16讀出裝置資訊而從發送部22以紅外線發送，以接收部24接收從其他加工裝置10之發送部22以紅外線被發送的裝置資訊。此情況下，在發送部22對裝置資訊施予調製處理等之各種處理而轉換成紅外線訊號而發送，在接收部24對紅外線訊號施予解調處理等之各種處理而取出裝置資訊。
再者，發送部22係將紅外線朝向加工裝置10之周圍發光之方式，在顯示燈19之外周面以等間隔配設複數紅外線發光元件23。各紅外線發光元件23之發光範圍(有效角度)部分性重疊，在顯示燈19之周邊以360度方向 發光紅外線。接收部24係在顯示燈19之外周面以等間隔地配設複數紅外線受光元件25，從加工裝置10之周圍接收紅外線。各紅外線受光元件25之受光範圍(有效角度)部分性重疊，來自顯示燈19之周邊的紅外線在360度方向受光。
如圖4所示般，在工場等之屋內，排列複數加工裝置10，相鄰的加工裝置10之間隔L1，即是顯示燈19之間隔L1被設定成較紅外線之到達距離L2窄。在此情況下，因僅在相鄰的加工裝置10間傳遞紅外線，故在各加工裝置10中，以將裝置資訊中繼至分別相鄰的加工裝置10之通訊順序被進行通訊。因在複數加工裝置10依序傳達裝置資訊，故僅以對一台加工裝置10設定裝置資訊，能夠在所有加工裝置10使裝置資訊同步。另外，針對藉由加工裝置10的通訊順序之詳細於後述。
如此一來，在本實施型態之加工裝置10中，藉由複數紅外線發光元件23(參照圖3)及紅外線受光元件25(參照圖3)彌補紅外線之窄發光範圍，同時以藉由複數加工裝置10的中繼傳送，彌補紅外線的短通訊距離。再者，在各加工裝置10之上面僅突出設置顯示燈19，不存在成為紅外線通訊之障礙的物體。依此，從各顯示燈19之外面之紅外線發光元件23發光的紅外線不會被遮蔽，在紅外線受光元件25被接收，可以在相鄰之加工裝置10間良好地發送接收裝置資訊。
接著，參照圖5至圖7，針對紅外線訊號之資料構造及加工裝置所致的通訊順序予以說明。圖5為表示 本實施型態之紅外線通訊之資料構造之一例的圖示。圖6為表示本實施型態之通訊順序之序列圖之一例的圖示。圖7為表示本實施型態之通訊中之紅外線訊號之一例的圖示。另外，圖6中，在序列圖旁記載著加工裝置之配置構成之一例。在加工裝置之配置構成中，表示以直線連接之加工裝置彼此能夠紅外線通訊。再者，下述通訊順序及資料構造只不過表示一例，若為能夠以紅外線通訊發送接收裝置資訊，即使以其他通訊順序及資料構造實施亦可。
如圖5所示般，裝置資訊分割成64~1024位元程度之資料包而被傳送。在各資料包設置複數欄位，在各欄位除裝置資訊之資料外，設定有封包識別碼、發送端ID、接收端ID、原始裝置ID、資料ID、封包ID、錯誤訂正碼。封包識別碼表示封包。發送端ID表示發送裝置之ID，接收端ID表示接收裝置之ID。原始裝置ID表示複數裝置中成為裝置資訊之最初的發訊源的裝置之ID。
資料ID表示資料之識別資訊，被使用於確認在接收裝置是否已經記憶裝置資料之資料。例如，在加工條件從發送端裝置被發送至接收端裝置之情況，在接收端裝置判斷是否從資料ID設定與發送端裝置相同的加工條件。因此，不會從發送端裝置重複發送與接收端裝置相同的加工條件。另外，因非藉由主電腦的中央管理，而係每個裝置管理資料ID，故藉由原始裝置ID確保資料ID的唯一性。錯誤訂正碼被使用於在資料產生錯誤之情況的訂正。
如圖6所示般，當在加工裝置10A設定加工條 件時，從加工裝置10A朝向周邊之加工裝置10廣播發送包含加工條件之發送封包(步驟S01)。在發送封包設定有作為加工條件之資料ID之「001」、作為原始裝置ID之加工裝置10A之裝置ID「A」，作為接收端ID之廣播發送用之「共同ID」(參照圖7A)。在以下中，將為原始裝置之加工裝置10A之資料ID設為「A001」予以說明。來自加工裝置10A之紅外線之到達距離內之加工裝置10B、10C中，雖然接收到資料ID「A001」，但是在紅外線之到達距離外之加工裝置10D、10E中，不接收到資料ID[A001]。
接著，作為相對於廣播發送的應答，表示是否完成接收加工條件之應答封包，從加工裝置10B、10C被返回至加工裝置10A(步驟S02)。在應答封包被追加以Y/N表示是否完成接收加工條件之旗標。因在加工裝置10B、10C中之任一者皆不接收以資料ID「A001」表示之資料，故加工裝置10A之加工條件以未設定，在應答封包設定加工裝置A之裝置ID作為接收端ID，設定「N」作為旗標(參照圖7B)。而且，表示非發送接收完成的應答封包從加工裝置10B、10C被發送至加工裝置10A。
接著，在加工裝置10A中，等待相對於廣播發送之應答封包，若有像未完成從加工裝置10B、10C發送接收這樣的應答時，則從加工裝置10A發送加工條件之資料包至加工裝置10B、10C(步驟S03)。在資料包設定有加工裝置10B、10C之裝置ID「B」或「C」作為接收端ID，設定「資料A-n」作為資料(參照圖7C)。依此，從加工裝 置10A朝向加工裝置10B、10C依序從「資料A-01」發送資料。另外，在加工裝置10A中，若為完成從周邊之加工裝置10發送接收之應答時，則不對應答端發送資料。
接著，作為相對於資料發送的應答，表示是否完成接收資料之應答封包，從加工裝置10B、10C被返回至加工裝置10A(步驟S04)。在應答封包被追加以OK/NG表示是否完成接收資料之旗標。因在加工裝置10B、10C適當地接收資料A-01，故資料A-01作為接收完成，在應答封包設定加工裝置A之裝置ID作為接收端ID，設定「OK」作為旗標(參照圖7D)。而且，表示肯定應答之應答封包從加工裝置10B、10C被發送至加工裝置10A。
接著，在加工裝置10A中，等待相對於資料發送之應答封包，若有像完成從加工裝置10B、10C接收這樣的應答時，則從加工裝置10A發送下一個資料包至加工裝置10B、10C(步驟S05)。另外，在有像未完成從加工裝置10B、10C接收這樣的應答之情況，或從加工裝置10B、10C無應答封包之情況，從加工裝置10A朝向加工裝置10B、10C再次發送資料包。藉由重複該資料之發送接收處理，在加工裝置10B、10C設定加工裝置10A之加工條件。
當在加工裝置10B、10C設定加工裝置10A之加工條件時，再次從加工裝置10A朝向周邊之加工裝置10廣播發送包含加工條件之發送封包(步驟S06)。因完成僅從加工裝置10B、10C封包接收的應答封包返回，故加工 裝置10A之加工條件之資料的發送接收處理未開始。再者，即使在加工裝置10B中，也朝向周邊之加工裝置廣播發送包含加工裝置10A之加工條件的發送封包(參照步驟S07、圖7E)。在加工裝置10B中，完成僅從加工裝置10A、10C封包接收之應答封包被返回，未完成從加工裝置10D封包接收的應答封包被返回。
並且，即使在加工裝置10C中，也朝向周邊之加工裝置廣播發送包含加工裝置10A之加工條件的發送封包(步驟S08)。在加工裝置10C中，完成僅從加工裝置10A、10B封包接收之應答封包被返回，未完成從加工裝置10E封包接收的應答封包被返回。因此，在加工裝置10B、10D間開始進行加工裝置10A之加工條件之資料的發送接收處理，同時在加工裝置10C、10E間開始加工裝置10A之加工條件之資料的發送接收處理(步驟S09)。藉由重複該動作，在所有的加工裝置10A-10E設定相同的加工條件。
如上述般，若藉由本實施型態之加工裝置10時，因在複數之加工裝置10間自動性地發送接收裝置資訊，故可以減輕操作員輸入裝置資訊的負擔。此時，因在複數加工裝置10間進行紅外線通訊，故於通訊時加工裝置10之裝置資訊不會洩漏至屋外。再者，藉由在複數加工裝置10間不需要配線，加工裝置10之增設或佈局變更變得容易，同時不會因纜線有損美觀。如此一來，不會發生資訊洩漏，可以在複數加工裝置10間使裝置資訊同步。
另外，本實施型態中，雖然例示切削裝置作為加工裝置10而予以說明，但是並不限定於該構成。加工裝置若為加工被加工物者即可，例如即使為研削裝置、研磨裝置、雷射加工裝置、蝕刻裝置亦可。因此，加工手段並不限定於切削手段，即使為研削手段、研磨手段、雷射加工手段、蝕刻加工手段中之任一者亦可，挾盤載置台並不限定於吸引挾盤式之載置台，即使為靜電挾盤式之載置台亦可。
另外，本實施型態中，雖然例示觸控面板14作為輸入手段而予以說明，但是並不限定於該構成。輸入手段若能夠對加工裝置之控制手段輸入設定加工條件即可，即使為例如滑鼠、軌跡球等之指向裝置亦可，即使為鍵盤等之文字輸入裝置亦可。
再者，在本實施型態中，雖然設為發送部22具有複數紅外線發光元件23之構成，但是並不限定於該構成。發送部若為以紅外線發送裝置資訊之構成即可，即使具有單一之紅外線發光元件亦可。
再者，在本實施型態中，雖然設為接收部24具有複數紅外線受光元件25之構成，但是並不限定於該構成。接收部若為接收從發送部以紅外線被發送的裝置資訊之構成即可，即使具有單一之紅外線受光元件亦可。
再者，在本實施型態中，雖然複數加工裝置10中繼裝置資訊之構成，但是並不限定於該構成。在加工裝置之台數少之情況下，即使僅在相鄰之加工裝置10間發 送接收裝置資訊亦可。
再者，雖然說明本實施型態及變形例，但是作為本發明之其他實施型態，即使全體性地或部分性地組合上述實施型態及變形例亦可。
再者，本發明之實施型態並不限定於上述各實施型態，即使在不脫離本發明之技術性思想之主旨的範圍，被變更、置換、變形亦可。而且，若藉由技術之進步或衍生的另外技術，可以以另外之方式實現本發明之技術性思想，即使使用其方法來實施亦可。因此，申請專利範圍涵蓋本發明之技術性思想之範圍內所含之所有實施型態。
再者，在本實施型態中，雖然針對將本發明適用於加工裝置之構成而予以說明，但是亦可適用於藉由紅外線通訊不使裝置資訊洩漏至屋外且可以在複數裝置間使裝置資訊同步的各種裝置。
[產業上之利用可行性]
如上述說明般，本發明具有像不會發生資訊洩漏且可以在複數裝置間發送接收裝置資訊這樣的效果，尤其對在工場等排列設置的加工裝置有效用。
10‧‧‧加工裝置
19‧‧‧顯示燈

Claims (2)

  1. 一種加工裝置，具備：挾盤載置台，其係保持被加工物；加工手段，其係加工被保持於該挾盤載置台之被加工物；控制手段，其係至少控制該挾盤載置台及該加工手段；輸入手段，其係對該控制手段輸入設定加工條件；及記憶部，其係記憶包含該加工條件之裝置資訊，該加工裝置之特徵在於，具備：紅外線發送接收手段，其具有以紅外線發送該裝置資訊的發送部，和接收從其他加工裝置以紅外線被發送之該裝置資訊的接收部，在該加工裝置之上面進一步具備通報裝置之運轉狀況的顯示燈，該紅外線發送接收手段被配設在該顯示燈，該發送部及該接收部係等間隔地被配置在該顯示燈之外周面，藉由該紅外線發送接收手段，在加工裝置間發送接收該裝置資訊。
  2. 如請求項1所記載之加工裝置，其中將鄰接的加工裝置間予以中繼而在複數該加工裝置間發送接收該裝置資訊。
TW106127542A 2016-09-30 2017-08-15 加工裝置 TWI746616B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016193730A JP2018055584A (ja) 2016-09-30 2016-09-30 加工装置
JP2016-193730 2016-09-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201820443A TW201820443A (zh) 2018-06-01
TWI746616B true TWI746616B (zh) 2021-11-21

Family

ID=61623739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106127542A TWI746616B (zh) 2016-09-30 2017-08-15 加工裝置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10153836B2 (zh)
JP (1) JP2018055584A (zh)
KR (1) KR20180036548A (zh)
CN (1) CN107887299B (zh)
DE (1) DE102017216894A1 (zh)
TW (1) TWI746616B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6887722B2 (ja) * 2016-10-25 2021-06-16 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法及び切削装置
JP6679079B1 (ja) * 2019-08-01 2020-04-15 株式会社松浦機械製作所 工作機械の作動監視システム
JP6651275B1 (ja) * 2019-08-01 2020-02-19 株式会社ディスコ 加工装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001034323A (ja) * 1999-07-21 2001-02-09 Fuji Electric Co Ltd 工作機械及びそれを含むネットワークシステム
US20030101575A1 (en) * 2001-12-05 2003-06-05 Green Alan E. Manufacturing system incorporating telemetry and/or remote control
JP2006318166A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Hitachi Communication Technologies Ltd 部品組立て指示装置
TW201025473A (en) * 2008-12-30 2010-07-01 Princeton Technology Corp Product verification system
JP2014235443A (ja) * 2013-05-30 2014-12-15 株式会社ディスコ 加工装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH054704A (ja) * 1991-06-28 1993-01-14 Daido Signal Co Ltd 部品棚の部品収納箱選択表示装置
US6548967B1 (en) * 1997-08-26 2003-04-15 Color Kinetics, Inc. Universal lighting network methods and systems
JP2005004704A (ja) * 2003-06-09 2005-01-06 Sanee Denki Kk 解像度選択モードを備えたタッチパネル入力装置
JP4467269B2 (ja) * 2003-08-18 2010-05-26 原田電子工業株式会社 信号表示灯および信号表示灯制御システム
WO2007104152A2 (en) * 2006-03-14 2007-09-20 Jamie Hackett Long-range radio frequency receiver-controller module and wireless control system comprising same
JP2011082354A (ja) * 2009-10-07 2011-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP5996260B2 (ja) * 2012-05-09 2016-09-21 株式会社ディスコ 被加工物の分割方法
JP6415292B2 (ja) * 2014-12-10 2018-10-31 株式会社ディスコ 切削装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001034323A (ja) * 1999-07-21 2001-02-09 Fuji Electric Co Ltd 工作機械及びそれを含むネットワークシステム
US20030101575A1 (en) * 2001-12-05 2003-06-05 Green Alan E. Manufacturing system incorporating telemetry and/or remote control
JP2006318166A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Hitachi Communication Technologies Ltd 部品組立て指示装置
TW201025473A (en) * 2008-12-30 2010-07-01 Princeton Technology Corp Product verification system
JP2014235443A (ja) * 2013-05-30 2014-12-15 株式会社ディスコ 加工装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10153836B2 (en) 2018-12-11
CN107887299A (zh) 2018-04-06
US20180097564A1 (en) 2018-04-05
DE102017216894A1 (de) 2018-04-05
KR20180036548A (ko) 2018-04-09
TW201820443A (zh) 2018-06-01
CN107887299B (zh) 2023-05-30
JP2018055584A (ja) 2018-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI746616B (zh) 加工裝置
JP3204855U (ja) 溶接装置のネットワーク接続、構成、キャリブレーション、及び識別のためのシステム及び方法
TWI500106B (zh) 控制半導體晶圓製程方法與系統
JP2014164598A (ja) 管理システム、管理サーバおよび作業者端末、ならびに管理サーバおよび作業者端末のためのコンピュータプログラム
WO2018110576A1 (ja) 無線ネットワークシステム及び受信品質測定方法
US20160276192A1 (en) Communication device and method for controlling communication device
JP6856345B2 (ja) 加工装置
JP2020160778A (ja) 加工装置
JP2008282188A (ja) 通信システム
US11774960B2 (en) Vehicle control device for article transport system in production factory and method of operating the same
JP6477052B2 (ja) 産業機械システム、及び情報供給方法
KR101619113B1 (ko) 물류 자동 운반 시스템의 무선 데이터 전송장치 및 물류 자동 운반 시스템의 무선 데이터 전송장치와 통신단말 간의 데이터 통신 방법
JP2012059045A (ja) 加工装置及び加工装置における作動プログラム管理方法
US20160247706A1 (en) Adaptable end effector
TWI739102B (zh) 基板處理裝置之維護裝置及維護方法
TWI523449B (zh) A communication device, a communication method, and a recording medium
US20210349472A1 (en) Control method, transport system, and communication device
CN103985656A (zh) 硅片正反面的识别装置及方法
EP4214943B1 (en) A method for determining a location of a user device in an industrial facility
JP7295702B2 (ja) 通信システム
US11930417B2 (en) Travel system and control method of travel system
CN112216623B (zh) 刻蚀机台及其控制方法
JP4450884B2 (ja) 光データ伝送装置
JP2015233224A (ja) 操作端末及び産業機械システム
JP2022189010A (ja) 加工システム及び加工システムの管理方法