TWI736625B - 積層薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一依序含有黏著劑層、偏光薄膜及增亮薄膜之積層薄膜，其中前述偏光薄膜係一在含有聚乙烯醇系樹脂之偏光件之至少單面上具有保護薄膜的偏光薄膜，前述偏光件厚度為10μm以下且單體透射率為43.0%以上，前述增亮薄膜之偏光度為90%以上，前述保護薄膜厚度為25μm以下且透濕度為200g/(m2 ・day)以下。本發明之積層薄膜即使在使用厚度10μm以下之偏光件時，仍可提升白亮度，且可抑制加濕試驗後發生顯示不均。

Description

積層薄膜及影像顯示裝置
本發明有關一種積層薄膜及一種包含前述積層薄膜之影像顯示裝置。
背景技術 於各種影像顯示裝置中，為了顯示影像而使用偏光薄膜。舉例來說，液晶顯示裝置(LCD)因其影像形成方式之故，必須在形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜。就此種偏光薄膜而言，一般來說使用：在由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料所構成之偏光件的單面或雙面上，利用聚乙烯醇系接著劑而貼合有保護薄膜之物。
近年來，就液晶顯示裝置等之影像顯示裝置而言，輕量化、薄型化之需求增強，對於影像顯示裝置中使用之偏光薄膜等各種光學構件亦期望薄型化、輕量化，目前正針對薄型偏光薄膜進行各種探討。
然而，薄型偏光薄膜於高溫高濕下之耐久性低，而有發生翹曲或裂痕之問題。就可抑制此種翹曲且高溫高濕下之耐久性優異之薄型偏光板而言，舉例來說已知有：一種偏光板，依序積層有第1接著層、具特定透濕度且由樹脂薄膜形成之透明保護層、具特定整體吸水率之第2接著層及厚度10μm以下之偏光膜(參照專利文獻1)。 先行技術文献 特許文献
[專利文獻1]日本專利第5871408號說明書
發明概要 發明欲解決之課題 偏光件越薄越容易在加濕環境下受到水分影響，偏光件因該水分而劣化，偏光件之偏光度降低，使用了用到該偏光件之偏光薄膜的影像顯示裝置變得容易辨識出顯示不均。就抑制此種顯示不均之方法而言，可料想使用低透濕之保護薄膜來抑制偏光件因水分引起之劣化。
近年來，於提高解析度之動向中，面板之高精細化刻正進行中。由於面板透射率會因高精細化而降低，就模組整體而言，亮度提高之需求加速，對於偏光板也追求透射率之提升。再加上模組整體之薄型化、邊框窄化等設計面上特別著重之需求也隨之而至，於可靠性之後，低收縮化、偏光板整體薄型化之需求也增強。在此狀況下，對於前述需求，正圖謀利用薄型偏光件來改善。然而，就厚度10μm以下之薄型偏光件而言，為了提升白亮度而令單體透射率為43%以上時，即便使用低透濕之保護薄膜，加濕試驗後，往往可看出影像顯示裝置顯示不均，在抑制不均之觀點上未臻充分。
前述專利文獻1並未限於使用單體透射率為43%以上之極高透射性薄型偏光件的情況，完全未言及僅在使用此種薄型偏光件時才可能發生的顯示不均課題。
爰此，本發明之目的在於提供一種薄型之積層薄膜，其即便在使用厚度10μm以下之偏光件時，仍可使白亮度提升，且可抑制加濕試驗後發生顯示不均。 用以解決課題之手段
本案發明人等為了解決前述課題而反覆精心探討，結果發現下述積層薄膜而終至完成本發明。
亦即，本發明有關於一種積層薄膜，其特徵在於：依序包含黏著劑層、偏光薄膜及增亮薄膜，並且， 前述偏光薄膜係一於含有聚乙烯醇系樹脂之偏光件之至少單面上具有保護薄膜的偏光薄膜； 前述偏光件厚度為10μm以下且單體透射率為43.0%以上； 前述增亮薄膜之偏光度為90%以上； 前述保護薄膜厚度為25μm以下且透濕度為200g/(m2 ・day)以下。
前述偏光件之硼酸含量宜為18~24重量%。
前述黏著劑層之潛變值宜為100~150μm，且將前述積層薄膜於85℃下放置500小時後，前述偏光件之吸收軸方向之加熱收縮率宜為0.5%以下。
前述偏光件與保護薄膜宜透過接著劑層而積層，且前述接著劑層之整體吸水率宜為10重量%以下。
前述偏光薄膜宜為僅在偏光件之單面上具有保護薄膜之偏光薄膜，且前述積層薄膜依序包含黏著劑層、保護薄膜、偏光件及增亮薄膜，或依序包含黏著劑層、偏光件、保護薄膜及增亮薄膜。
此外，本發明有關一種影像顯示裝置，其特徵在於具有前述積層薄膜。 發明效果
由於本發明之積層薄膜使用厚度10μm以下且單體透射率43%以上之偏光件，故而可使白亮度提升。更進一步來說，由於使用偏光度90%以上之增亮薄膜，而可抑制使用厚度10μm以下且單體透射率43%以上之偏光件時的問題點(加濕試驗後發生顯示不均)。具體來說，由於增亮薄膜會將源自背光之光轉換為偏光，下板偏光件會有偏光入射。因此，即便是偏光件於加濕環境下劣化且偏光度降低，但因偏光入射，而可縮小前述偏光件之偏光度劣化對於視辨性造成的影響。
藉由將本發明之積層薄膜用作液晶顯示裝置之背光側偏光板，可提供白亮度高且光學可靠性高之薄型液晶顯示裝置。
用以實施發明之形態 1.積層薄膜 本發明之積層薄膜之特徵在於：依序包含黏著劑層、偏光薄膜及增亮薄膜，並且， 前述偏光薄膜係一於含有聚乙烯醇系樹脂之偏光件的至少單面上具有保護薄膜之偏光薄膜； 前述偏光件厚度為10μm以下且單體透射率為43.0%以上； 前述增亮薄膜之偏光度為90%以上； 前述保護薄膜厚度為25μm以下且透濕度為200g/(m2 ・day)以下。
茲就本發明積層薄膜之結構，一邊參照圖1、2一邊予以詳細說明。另，圖1、2中各結構之尺寸係用以顯示其中一例者，本發明並不受限於此。
如圖1及圖2所示，本發明之積層薄膜1依序具有黏著劑層4、偏光薄膜2及增亮薄膜3。前述偏光薄膜2如圖1所示，可為在偏光件2a之雙面上具有保護薄膜2b、2c之雙側保護偏光薄膜，亦可如圖2所示，係僅在偏光件2a之單面上具有保護薄膜2b的單側保護偏光薄膜。偏光薄膜2為單側保護偏光薄膜時，可如圖2(a)所示般依序具有黏著劑層4、偏光件2a、保護薄膜2b及增亮薄膜3，亦可如圖2(b)所示般依序具有黏著劑層4、保護薄膜2b、偏光件2a及增亮薄膜3。
於本發明中，前述偏光薄膜2可為雙側保護偏光薄膜及單側保護偏光薄膜中之任一者，但從薄膜化之觀點來看，宜為單側保護偏光薄膜。進一步來說，從抑制偏光件劣化之觀點來看，以在背光側具有保護薄膜2b之態樣(前述圖2(a))為佳。此外，本發明之積層薄膜1中，前述各層可相接，亦可於各層之間具有其他層(例如黏著劑層或接著劑層、易接著劑層等層)。
以下，就各個構成要素予以說明。
(1)偏光薄膜 (1-1)偏光件 本發明所用偏光件只要是含有聚乙烯醇系樹脂、厚度為10μm以下且單體透射率為43.0%以上之物即可。
前述偏光件之單體透射率為43.0%以上。藉由使偏光件之單體透射率在43.0%以上，可使白亮度提升，可謀求液晶顯示裝置(LCD)之白顯示狀態亮度提升所導致之消費電力降低，因而甚是理想。此外，單體透射率之上限值雖未特別限定，但從抑制偏光度低落之觀點來看，以44.5%以下為宜。
偏光件厚度僅需為10μm以下即可，但舉例來說，以8μm以下為宜，更宜為7μm以下，6μm以下更佳。另一方面，偏光件厚度宜在2μm以上，更宜為3μm以上。此種薄型偏光件之厚度不均較少，具優異視辨性，此外，因尺寸變化較少而對熱衝撃具有優異耐久性。
偏光件使用已用有聚乙烯醇系樹脂之物。偏光件可舉例如：使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質再經單軸延伸之物；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理等之多烯系配向薄膜等。於此等之中，以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質構成之偏光件尤為合適。
舉例來說，將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並經單軸延伸而得之偏光件可藉由下述方式製作：將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液而染色，再延伸至原長之3~7倍。可視需要而含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等水溶液中。更可視需要而在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。將聚乙烯醇系薄膜水洗除了可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之髒污及黏著防止劑之外，因使得聚乙烯醇系薄膜膨潤，也有防止染色不均等不均勻情況之效果。延伸可在碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，也可延伸後再以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中進行延伸。
就薄型偏光件而言，可代表性地列舉如載於下列各文獻之薄型偏光件或經由其等所載之製造方法而製得之薄型偏光件：日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號小冊及國際公開第2014/077636號小冊等。
就前述薄型偏光件而言，於包含在積層體狀態下進行延伸之步驟與染色步驟的製法當中，從可高倍率進行延伸且可使偏光性能提升之觀點來看，以利用包含了在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法(如同日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書及日本專利第4815544號說明書所載)來製得者為宜，利用包含了在硼酸水溶液中延伸前輔以空中延伸之步驟的製法(載於日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明細書)來製得者尤佳。此等薄型偏光件可利用包含下述步驟之製法來獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟。若為該製法，即使PVA系樹脂層較薄，因受延伸用樹脂基材支持，仍可不發生延伸所致斷裂等不良狀況而進行延伸。
本發明所用高透射偏光件之硼酸含量並未特別受限，但舉例來說，相對於偏光件之重量，以18~24重量%為宜，更宜為18~23重量%，超過18重量%且在23重量%以下更佳。一旦硼酸含量超過24重量%，偏光件之聚乙烯醇分子鏈間之鍵結變得過於強固，無法使加濕試驗中偏光件收縮、膨脹等時產生之應力解放，有時會有偏光件發生裂痕的情況。此外，因偏光件容易蓄積內部應力，對於面板翹曲亦有惡化傾向。又，前述硼酸含量少於18%時，偏光件之聚乙烯醇分子鏈間之鍵結有減弱之傾向，而有加濕試驗後偏光度降低程度增大或偏光件耐久性降低之情況。此外，前述偏光件之硼酸含量可透過製造偏光件時之硼酸處理(例如不溶化處理、交聯處理)所用硼酸水溶液之硼酸濃度、經水中延伸製造偏光件時之延伸浴(硼酸水溶液)之硼酸濃度等予以調整。硼酸含量之測定方法可藉實施例所載方法來測定。
(1-2)保護薄膜 就本發明所用形成保護薄膜之材料而言，僅需為具透明性且可使透濕度在200g/(m2 ・day)以下之材料即可，未受特別限定。
本發明中所用保護薄膜之透濕度為200g/(m2 ・day)以下，且宜150g/(m2 ・day)以下，更宜130g/(m2 ・day)以下，120g/(m2 ・day)以下更佳。此外，透濕度之下限值雖未特別受限，但就理想而言，以完全不令水蒸氣穿透(即0g/(m2 ・day))為佳。保護薄膜之透濕度若於前述範圍，可抑制偏光件因水分劣化致使偏光度劣化之情況。前述透濕度之測定方法可藉實施例所載方法測定。
如前述，保護薄膜之透濕度雖於200g/(m2 ・day)以下即可，但偏光件之單體透射率超過43.9%時會有看出顯示不均之虞，因此保護薄膜之透濕度宜為50g/(m2 ・day)以下，更宜為40g/(m2 ・day)以下，且30g/(m2 ・day)以下更佳。
保護薄膜厚度為25μm以下，且宜為20μm以下。此外，保護薄膜厚度之下限值雖未特別受限，通常為1μm程度以上。透過使保護薄膜厚度在25μm以下，可使偏光薄膜薄膜化而甚理想。
形成保護薄膜之材料可舉例如：聚對酞酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯、內酯改質丙烯酸系聚合物等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈・苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；及，聚碳酸酯系聚合物等。此外，聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至於降
Figure 106117019-003-010-1
烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、耐倫或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、二氯亞乙烯系聚合物、乙烯丁縮醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或前述聚合物之摻混物等亦可舉為形成前述保護薄膜之聚合物之例示。保護薄膜亦可以丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系及矽氧烷系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層的形式來形成。
(1-3)接著劑層 前述偏光件與保護薄膜通常透過接著劑層而密著。
前述接著劑層之整體吸水率以10重量%以下為宜，更宜為8重量%以下，5重量%以下更佳，0.05~2重量%尤佳。整體吸水率若在10重量%以下，可得高溫高濕下之耐久性優異的偏光薄膜。更具體來說，置於高溫高濕環境下時，水侵入偏光件之情況受抑，而可抑制偏光件之透射率變化與偏光度降低。另一方面，藉由令整體吸水率為0.05重量%以上，可形成與偏光件接觸時可適度吸收偏光件所含水分之接著劑層，而可抑制所得偏光薄膜之外觀不良(收縮、氣泡等)。另，整體吸水率可按照JIS K 7209所載吸水率試驗方法來測定。具體來說，即是在硬化後將接著劑層浸漬於23℃純水24小時後之吸水率，可利用下式求得。
整體吸水率(%)=[{(浸漬後之接著層重量)-(浸漬前之接著層重量)}/(浸漬前之接著層重量)]×100
可滿足前述整體吸水率之接著劑可舉如自由基聚合硬化型接著劑、陽離子聚合硬化型接著劑等硬化型接著劑。
(自由基聚合硬化型接著劑)
前述自由基聚合硬化型接著劑含有用作硬化性化合物之自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可為藉活性能量線而硬化之化合物，亦可為藉熱而硬化之化合物。活性能量線可舉例如電子線、紫外線及可見光線等。
前述自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等具碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。自由基聚合性化合物可適用多官能自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可僅單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。此外，亦可併用多官能自由基聚合性化合物與単官能自由基聚合性化合物。
前述聚合性化合物宜使用logP值(辛醇/水分配係數)較高之化合物，自由基聚合性化合物亦宜選擇logP值較高之化合物。於此，logP值係表示物質親油性之指標，意指辛醇/水之分配係數的對數值。高logP值意味著親油性，即意味著吸水率低。logP值可測定(JIS-Z-7260記載之燒瓶振盪法)，亦可依據硬化型接著劑構成成分(硬化性成分等)之各化合物的結構而透過計算來算出(CambridgeSoft公司製ChemDraw Ultra)。
自由基聚合性化合物之logP值宜為2以上，更宜為3以上，4以上尤佳。若在此種範圍內，可防止偏光件因水分劣化，而獲得高溫高濕下耐久性優異之偏光薄膜。
前述多官能自由基聚合性化合物可舉例如三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛(甲基)丙烯酸酯、二
Figure 106117019-A0304-12-0015-1
烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二丙三醇四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯與多元醇之酯化物；9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴；環氧基(甲基)丙烯酸酯；胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯；聚酯(甲基)丙烯酸酯等。
前述多官能自由基聚合性化合物之中，仍以logP值較高之多官能自由基聚合性化合物為宜。此種化合物可舉例如：三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯(logP=3.05)、(甲基)丙烯酸異
Figure 106117019-003-010-1
酯(logP=3.27)等脂環(甲基)丙烯酸酯；1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯(logP=3.68)、1,10-癸二醇二丙烯酸酯(logP=4.10)等長鏈脂肪族(甲基)丙烯酸酯；羥基三甲基乙酸新戊基二醇(甲基)丙烯酸加成物(logP=3.35)、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(logP=3.92)等多支鏈(甲基)丙烯酸酯；以及，雙酚A二(甲基)丙烯酸酯(logP=5.46)、雙酚A環氧乙烷4莫耳加成物二(甲基)丙烯酸酯(logP=5.15)、雙酚A環氧丙烷2莫耳加成物二(甲基)丙烯酸酯(logP=6.10)、雙酚A環氧丙烷4莫耳加成物二(甲基)丙烯酸酯(logP=6.43)、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴(logP=7.48)、對苯基酚(甲基)丙烯酸酯(logP=3.98)等含芳香環之(甲基)丙烯酸酯等。
併用多官能自由基聚合性化合物與單官能自由基聚合性化合物時，相對於自由基聚合性化合物全量，多官能自由基聚合性之含有率以20~97重量%為宜，更宜為50~95重量%，75~92重量%更佳且80~92重量%尤佳。若在此範圍內，可獲得高溫高濕下耐久性優異之偏光薄膜。
前述單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物。若使用(甲基)丙烯醯胺衍生物，可以高生產性形成具優異接著性之黏著劑層。(甲基)丙烯醯胺衍生物之具體例可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；以及，巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物等。此外，就(甲基)丙烯醯胺基中氮原子形成雜環的含雜環(甲基)丙烯醯胺衍生物而言，舉例來說亦可使用N-丙烯醯基
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啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡啶等。其等之中，以含N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物為宜，N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺更佳。
此外，就前述單官能自由基聚合性化合物而言，亦可使用：具(甲基)丙烯醯氧基之(甲基)丙烯酸衍生物；(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、依康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯單體；以及，乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌
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、乙烯基吡
Figure 106117019-A0304-12-xxxx-4
、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基
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唑、乙烯基
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啉等具有含氮雜環之乙烯基系單體等。
併用多官能自由基聚合性化合物與單官能自由基聚合性化合物時，相對於自由基聚合性化合物全量，單官能自由基聚合性之含有率以3~80重量%為宜，更宜為5~50重量%，8~25重量%更佳，8~20重量%尤佳。若在此範圍，可獲得高溫高濕下耐久性優異之偏光薄膜。
前述自由基聚合硬化型接著劑可進一步含有其他添加劑。自由基聚合硬化型接著劑含有可藉活性能量線而硬化之硬化性化合物時，該接著劑可進一步含有諸如光聚合引發劑、光酸產生劑及矽烷偶合劑等。此外，自由基聚合硬化型接著劑含有可藉熱而硬化之硬化性化合物時，該接著劑可進一步含有熱聚合引發劑及矽烷偶合劑等。此外，其他添加劑可舉例如聚合禁止劑、聚合引發輔劑、調平劑、濡濕性改良劑、界面活性劑、可塑劑、紫外線吸收劑、無機填充劑、顏料及染料等。
(陽離子聚合硬化型接著劑) 前述陽離子聚合硬化型接著劑含有作為硬化性化合物之陽離子聚合性化合物。陽離子聚合性化合物可舉例如具有環氧基及/或氧呾基之化合物。具有環氧基之化合物可適用分子內具有至少2個環氧基之化合物。具有環氧基之化合物可舉例如：具有至少2個環氧基與至少1個芳香環之化合物(芳香族系環氧化合物)、分子內具有至少2個環氧基且其中至少1者形成在構成脂環式環之相鄰2個碳原子之間的化合物(脂環式環氧化合物)等。
前述陽離子聚合硬化型接著劑宜含有光陽離子聚合引發劑。光陽離子聚合引發劑會因可見光線、紫外線、X射線、電子線等活性能量線之照射而產生陽離子種或路易士酸並引發環氧基或氧呾基之聚合反應。此外，陽離子聚合硬化型接著劑可更進一步含有前述添加劑。
前述接著劑層可以下述方式形成：於偏光件上或保護薄膜上塗佈前述硬化型接著劑，接著貼合偏光膜與前述樹脂薄膜(透明保護層)，之後使該硬化型接著劑硬化。
前述偏光件、保護薄膜可在塗佈前述硬化型接著劑前進行表面改質處理。該表面改質處理可舉例如利用電暈處理、電漿處理及皂化處理之處理等。
前述硬化型接著劑之塗佈方法可視該接著劑之黏度及所需接著層等之厚度而採用任意之適切方法。塗佈方法可舉例如利用逆反塗佈機、凹版塗佈(直接、反向或平板)、反向棒塗機、滾筒塗佈機、模塗機、棒塗機、桿塗機等之塗佈。此外，亦可採用利用浸漬方式之塗佈。
前述硬化型接著劑之硬化方法可採用任意之適切方法。硬化型接著劑含有可藉活性能量線而硬化之硬化性化合物時，可從偏光膜側或透明保護層側照射活性能量線使該接著劑硬化。從防止偏光膜劣化之觀點來看，宜從透明保護層側照射活性能量線。活性能量線之波長、照射量等條件可視所用硬化性化合物之種類等而設定成任意之適切條件。硬化型接著劑含有可藉熱而硬化之硬化性化合物時，該接著劑可藉由加熱而使其硬化。加熱條件可視所用硬化性化合物之種類等而設定成任意之適切條件。舉例來說，可在60~200℃之溫度下加熱30秒~5分鐘來使其硬化。
此外，接著劑亦可使用一般使用之水系接著劑。水系接著劑可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚胺甲酸酯及水系聚酯等。
前述接著劑層厚度並未特別受限，舉例來說以0.1~3μm左右為佳，0.3~2μm左右更佳。接著劑層厚度落在前述範圍內可製得接著性、外觀優異之偏光板而甚理想。
前述保護薄膜之不接著偏光件的面亦可施加有硬塗層或抗反射處理、以防黏附、擴散乃至於抗眩為目的之處理。
(2)黏著劑層 本發明使用之黏著劑層並未特別受限，可使用由習知黏著劑組成物形成之黏著劑層。
前述黏著劑層之潛變值宜為100~150μm，更宜為120~140μm。潛變值落在前述範圍可於加熱試驗後抑制偏光薄膜收縮，可抑制應力解放所致翹曲及裂痕而甚理想。於此，所謂潛變值係指：從使黏著劑層以接著面積10mm×10mm固著於基板並施加500g負載之潛變試驗所獲得之1小時後黏著劑層偏移量(μm)。
黏著劑層並未特別受限，可使用習知物。此種黏著劑層具體來說，例如可適當選擇使用以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物為基底聚合物者。逾期等之中，以(甲基)丙烯酸系聚合物為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑具優異光學透明性並顯示出適度濡濕性、凝集性與接著性之黏著特性，且耐候性及耐熱性等優異而甚理想。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物雖未特別受限，但可舉如：令包含酯基末端具有碳數4~24烷基之(甲基)丙烯酸烷酯的單體成分聚合所得之物。此外，(甲基)丙烯酸烷酯稱作丙烯酸烷酯及/或甲基丙烯酸烷酯，與本發明之(甲基)意義相同。
(甲基)丙烯酸烷酯可例示如具有直鏈狀或支鏈狀碳數4~24之烷基之物，且具有直鏈狀或支鏈狀碳數4~9烷基之(甲基)丙烯酸烷酯在容易取得黏著特性平衡之觀點上較理想。此等(甲基)丙烯酸烷酯可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分可含有前述(甲基)丙烯酸烷酯以外之共聚單體作為單官能性單體成分。此種共聚單體可舉例如環狀含氮單體、含羥基單體、含羧基單體、具環狀醚基之單體等。
此外，形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分除了前述單官能性單體之外，為了調整黏著劑之凝集力，可視需要含有多官能性單體。前述多官能性單體為至少具有2個(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基的單體，可舉例如二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。多官能性單體可使用單獨1種或組合2種以上使用。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、紫外線聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等習知製造方法。此外，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任一者。
用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等並未特別受限，可適當選出本技術領域中一般使用之習知物來使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉聚合引發劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，使用量視其等之種類而適當調整。
本發明所用(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量宜為40萬~400萬。藉由使重量平均分子量大於40萬，可滿足黏著劑層之耐久性，黏著劑層之凝集力縮小而可抑制殘膠發生。另一方面，若重量平均分子量大於400萬則貼合性有降低之傾向。更甚者，黏著劑於溶液系統中黏度變得過高，有時會有難以塗佈之情況。另，重量平均分子量係指，以GPC(凝膠滲透層析法)測定並利用聚苯乙烯換算而算出之數值。另，難以就放射線聚合所得(甲基)丙烯酸系聚合物測定分子量。
本發明所用黏著劑組成物可含有交聯劑。交聯劑可舉如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、
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唑啉系交聯劑、吖環丙烷系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合系交聯劑、過氧化物等交聯劑，該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。前述交聯劑可適用異氰酸酯系交聯劑及環氧系交聯劑。
前述交聯劑可單獨使用1種或混合2種以上使用，但就全體而言之含量，則宜相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，含有前述交聯劑0.01~10重量份之範圍。
本發明中使用之黏著劑組成物可為了提升接著力而含有(甲基)丙烯酸系寡聚物。進一步來說，本發明中使用之黏著劑組成物在黏著劑層應用在玻璃等親水性被著物時，可為了提升界面耐水性而含有矽烷偶合劑。
更進一步來說，本發明所用黏著劑組成物可含有其他習知添加劑，例如可視使用之用途而適度添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、老化防止劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合禁止劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒子狀/箔狀物等。此外，在可控制之範圍內，也可採用添加還原劑之氧化還原系統。
黏著劑層之形成方法可藉習知方法進行，雖未特別受限，但舉例來說，可在形成黏著劑層之薄膜(偏光件、保護薄膜)上直接塗佈黏著劑組成物，再藉加熱乾燥等去除溶劑來形成黏著劑層。此外，亦可將已形成在支持體等之黏著劑層轉印到前述薄膜(偏光件、保護薄膜)上。
黏著劑組成物之塗布方法可使用各種方法。具體來說，可舉例如輥塗法、接觸輥塗法、凹版塗佈法、逆向塗佈法、輥刷法、噴塗法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗法、簾塗法、帶緣塗佈法及利用模塗機等之擠製塗佈法等方法。
前述加熱乾燥溫度以30℃~200℃左右為宜，更宜40℃~180℃左右，且80℃~150℃左右更佳。藉由令加熱溫度在前述範圍內，可得具優異黏著特性之黏著劑層。乾燥時間可適當採用適切之時間。前述乾燥時間以5秒~20分鐘左右為宜，更宜30秒~10分鐘左右，1分鐘~8分鐘更佳。
前述支持體例如可使用經剝離處理之片材(隔離件)。經剝離處理之片材可適用聚矽氧剝離襯片。
隔離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對酞酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網、發泡片、金屬箔及其等之積層體等適當之薄型物等，但從表面平滑性優異之觀點來看，以塑膠薄膜適於使用。
前述塑膠薄膜可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對酞酸乙二酯薄膜、聚酞酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜及乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述隔離件厚度通常為5~200μm，且宜為5~100μm左右。前述隔離件亦可視需要而進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑及二氧化矽粉等之脫模及防污處理或塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其可對前述隔離件表面適當施行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，藉此進一步提高對前述黏著劑層之剝離性。
另，製作前述積層薄膜時使用之經剝離處理之片材可直接用作積層薄膜之隔離件而可簡化步驟。
又，就前述積層薄膜而言，於形成黏著劑層之際，可在將要形成黏著劑層之薄膜(偏光件、保護薄膜)表面上形成錨定層或施行電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後再形成黏著劑層。此外，黏著劑層表面亦可施行易接著處理。
黏著劑層之厚度並未特別受限，舉例來說宜為10~30μm，更宜為15~25μm。
(3)增亮薄膜 本發明所用增亮薄膜之偏光度為90%以上，更宜為95%以上。因本發明中使用偏光度為90%以上之增亮薄膜，可減輕不均之可見性。由於增亮薄膜會將源自背光之光轉換為偏光，偏光薄膜會有偏光入射。亦即，即使偏光薄膜之偏光度因高溫高濕環境而劣化，因偏光會通過具高偏光度之增亮薄膜而入射，偏光薄膜之偏光度劣化影響較小，可抑制顯示不均之發生。
前述增亮薄膜可舉如反射型偏光板。前述反射型偏光板為直線偏光分離型偏光板。其代表例可舉如：線柵型偏光板、折射率互異之2種以上材料之多層薄膜積層偏光板、折射率互異之蒸鍍多層薄膜、折射率互異之2種以上材料之雙折射層多層薄膜積層體、使用具折射率差之2種以上樹脂的2種以上樹脂積層體延伸物、使直線偏光在直交之軸方向上反射/透射而分離之偏光板(直線偏光分離型反射偏光板)。其等之中，以直線偏光分離型反射偏光板尤可適用。舉例來說，此種反射型偏光板也可使用3M製商品名「APF-V3」(偏光度：95%)、「APF-V4」(偏光度：92%)之市售品。
前述增亮薄膜可透過接著劑層或黏著劑層而積層至偏光件或保護薄膜上。接著劑層或黏著劑層並未特別受限，可使用習知之任意物。又，也可使用本說明書記載之接著劑層或黏著劑層。
本發明之積層薄膜可適用於影像顯示裝置中，尤可適用為液晶顯示裝置之背光側偏光薄膜。此時，可透過前述黏著劑層而貼附於液晶晶胞上。
將本發明之積層薄膜於85℃環境下放置500小時後，前述偏光件之吸收軸方向之加熱收縮率宜為0.5%以下，且宜為0.4%以下。本發明之積層薄膜因具有前述加熱收縮率而抑制面板翹曲及裂痕之發生，也可因應面板邊框窄化而甚是理想。
2.影像顯示裝置 本發明之影像顯示裝置之特徵在於具有前述積層薄膜。本發明之積層薄膜可適於用作液晶表示晶胞之背光側偏光薄膜。
本發明之影像顯示裝置僅需包含本發明之積層薄膜即可，其他結構可舉如與習知影像顯示裝置相同之物。
本發明之影像顯示裝置因包含前述積層薄膜而具有高度可靠性。 實施例
以下藉實施例來具體說明本發明，但本發明不受此等實施例所侷限。另，各例中之份及%皆為重量基準。
製造例1(製造厚度5μm之偏光件(1)) 以延伸溫度130℃之空中輔助延伸使非晶性PET基材上製膜有9μm厚PVA層之積層體生成延伸積層體，接著將延伸積層體浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液而生成著色積層體後，進一步利用延伸溫度65℃之硼酸水中延伸，以總延伸倍率為5.94倍之方式，使著色積層體生成一包含與非晶性PET基材一體延伸之5μm厚PVA層的光學薄膜積層體。生成了構成高機能偏光膜且包含厚度5μm之PVA層(偏光件)(1)的光學薄膜積層體，該高機能偏光膜中製膜於非晶性PET基材上之PVA層的PVA分子會因此種2段延伸而呈高次配向，染色所吸附之碘會以多碘離子錯合物之形式而朝一方向高次配向。所得光學薄膜積層體之PVA層透射率為43.3%，硼酸含量為23重量%。
製造例2(製造厚度5μm之偏光件(2)) 除了將碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度變更為0.2%以外，與製造例1同樣地生成包含厚度5μm之PVA層(偏光件)(2)的光學薄膜積層體。所得光學薄膜積層體之PVA層透射率為44.0%，硼酸含量為23重量%。
製造例3(製造厚度5μm之偏光件(3)) 除了將碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度變更為0.23%以外，與製造例1同樣地生成包含厚度5μm之PVA層(偏光件)(3)的光學薄膜積層體。所得光學薄膜積層體之PVA層透射率為43.7%，硼酸含量為23重量%。
製造例4(製造厚度5μm之偏光件(4)) 除了將碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度變更為0.23%以外，與製造例1同樣地生成包含厚度5μm之PVA層(偏光件)(4)的光學薄膜積層體。所得光學薄膜積層體之PVA層透射率為42.8%，硼酸含量為23重量%。
製造例5(製造厚度7μm之偏光件(5)) 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度20μm聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊延伸至3.5倍一邊將薄膜染色。之後於65℃硼酸酯水溶液中以總延伸倍率為6倍之方式進行延伸。延伸後，以40℃之烘箱進行3分鐘乾燥，獲得厚度7μm之偏光件(5)。所得偏光件之透射率為43.3%，硼酸含量為23重量%。
製造例6(製造厚度12μm之偏光件(6)) 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液，一邊延伸至3.5倍一邊將薄膜染色。之後，於65℃硼酸酯水溶液中以總延伸倍率為6倍之方式進行延伸。延伸後以40℃烘箱進行3分鐘乾燥，獲得厚度12μm之偏光件(6)。所得偏光件之透射率為43.5%，硼酸含量為23重量%。
製造例7(製作硬化型接著劑) 將羥乙基丙烯醯胺(HEAA，logP=-0.56，均聚物Tg=123℃，興人社製)10重量份、(甲基)丙烯酸四氫糠酯(FA-THFM，logP=1.13，均聚物Tg=45℃，日立化成(股)製)10重量份、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(商品名：Light acrylate DCP-A，logP=3.05，均聚物Tg=134℃，共榮社化學(股)製)80重量份、2-甲基-1-(4-甲基噻吩基)-2-嗎啉并丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907，logP=2.09，BASF社製)3重量份、二乙基硫雜蒽酮(商品名：KAYACURE DETX-S，logP=5.12，日本化藥(股)製)3重量份予以混合並於50℃下攪拌1小時，而獲得可藉活性能量線硬化之硬化型接著劑。
製造例8(製作丙烯酸系保護薄膜) 使具有戊二醯亞胺環單元之甲基丙烯酸樹脂小球於100.5kPa、100℃下乾燥12小時，以單軸擠製機在模具溫度270℃下從T模具擠出而成形為薄膜狀。進一步使該薄膜於較樹脂之Tg高出10℃之氣體環境下朝其運送方向延伸，接著於較樹脂之Tg高出7℃之氣體環境下朝與薄膜運送方向直交之方向延伸，獲得由丙烯酸系樹脂構成之保護薄膜。所得薄膜之透濕度為150g/(m2 ・day)，厚度為20μm。
實施例1 於製造例1所得光學薄膜積層體之偏光膜表面塗佈製造例7製得之硬化型黏著劑，並貼合經電暈處理之厚度20μm之丙烯酸薄膜。之後，從丙烯酸薄膜側使用IR加熱器加溫至50℃，使可見光線照射丙烯酸薄膜側而使前述硬化型接著劑硬化後，於70℃下進行熱風乾燥3分鐘，獲得由非晶性PET基材/偏光件/接著劑層(厚度：1μm)/丙烯酸薄膜構成之積層體。從所得積層體剝離非晶性PET基材，透過厚度5μm之丙烯酸系接著劑層在丙烯酸薄膜面上貼合增亮薄膜(商品名：APF-V4，偏光度：92%，3M製)。於所得積層體之偏光件面貼合厚度20μm之黏著劑層(商品名：No.58，日東電工(股)製)而獲得積層薄膜。另，將該積層薄膜結構(黏著劑層/偏光件/保護薄膜/增亮薄膜)稱為結構A。
實施例2
於製造例1所得光學薄膜積層體之偏光膜表面塗佈製造例7製得之硬化型黏著劑，並貼合經電暈處理之厚度20μm之丙烯酸薄膜。之後，從丙烯酸薄膜側使用IR加熱器加溫至50℃，使可見光線照射丙烯酸薄膜側而使前述硬化型接著劑硬化後，於70℃下進行熱風乾燥3分鐘，獲得由非晶性PET基材/偏光件/接著劑層(厚度：1μm)/丙烯酸薄膜構成之積層體。透過厚度5μm之丙烯酸系接著劑層，於所得積層體之偏光件面上貼合增亮薄膜(商品名：APF-V4，偏光度：92%，3M製)。從所得積層體剝離非晶性PET基材，於丙烯酸薄膜面貼合厚度20μm之黏著劑層(商品名：No.58，日東電工(股)製)而獲得積層薄膜。另，將該積層薄膜結構(黏著劑層/保護薄膜/偏光件/增亮薄膜)稱為結構B。
實施例3
於製造例5所得偏光件(5)之單面上塗佈製造例7製得之硬化型黏著劑，並貼合經電暈處理之厚度20μm之丙烯酸薄膜。之後，從丙烯酸薄膜側使用IR加熱器加溫至50℃，使可見光線照射丙烯酸薄膜側而使前述硬化型接著劑硬化後，於70℃下進行熱風乾燥3分鐘，獲得由偏光件/接著劑層(厚度：1μm)/丙烯酸薄膜構成之積層體。透過厚度5μm之丙烯酸系接著劑層，於所得積層體之丙烯酸薄膜面上貼合增亮薄膜(商品名：APF-V4，偏光度：92%，3M製)。於所得積層體之偏光件面上貼合厚度20μm之黏著劑層(商品名：No.58，日東電工(股)製)，製得積層薄膜。
實施例4 使用製造例2所得光學薄膜積層體，除了使用經電暈處理且厚度13μm之COP薄膜外，與實施例1同樣地製得積層薄膜。
實施例5 除了使用製造例3所得光學薄膜積層體之外，與實施例1同樣地製得積層薄膜。
實施例6 除了增亮薄膜使用APF-V3之外，與實施例1同樣地製得積層薄膜。
比較例1~4 除了將偏光件、保護薄膜、黏著劑層及增亮薄膜變更為表1所載之物之外，與實施例1同樣地形成積層薄膜。
針對實施例及比較例所得積層薄膜進行如下測定。
＜偏光件厚度之測定＞ 使用數位微測定計(KC-351C，Anritsu Corporation製)來測定實施例及比較例所用PVA層(偏光件)之厚度。
＜偏光件之單體透射率＞ 使用紫外可見分光光度計(V7100，日本分光(股)製)來測定實施例及比較例所用PVA層(偏光件)之單體透射率T。該等透射率係以JIS Z8701之2度視角(C光源)測定後經色校正而得之Y值。
＜偏光件之硼酸含量＞ 將實施例及比較例所用PVA層(偏光件)加熱乾燥(120℃，2小時)後，將其粉碎而獲得重量1g之評價用樣本。使該評價用樣本1g完全溶解於95℃之水500mL中。於所得水溶液中添加甘露糖醇10g、溴瑞香草酚藍溶液(BTB溶液)2mL而調製出樣本溶液。於此樣本溶液中滴定0.1mol/L之氫氧化鈉至迎接中和點，再依據下式從其滴定量算出硼酸含量(重量%)。 [數學式1]
Figure 02_image001
＜保護薄膜之透濕度＞ 保護薄膜之透濕度測定係遵照JIS Z0208之透濕度試驗(透濕杯法，cup method)測定。將裁斷成直徑60mm之樣本安裝到已裝有約15g氯化鈣之透濕杯中，放入40℃、90%之恒溫機，測定放置24小時前後氯化鈣之重量增加而求出透濕度(g/m2‧day)。
<潛變試驗>
使用實施例及比較例所用黏著劑，形成厚度25μm之黏著劑層。令已將所得厚度25μm之黏著劑層裁斷為10mm寬×30mm之物為樣本。於該樣本上部之10mm×10mm貼附於烘焙板上，於50℃、50atm下進行15分鐘熱壓處理後，於室溫(23℃)下放置1小時。之後，於樣本上負載500g之載重(負載朝垂下方向之拉伸剪切應力)，測定1小時後之樣本偏移量(μm)。
<接著劑層之整體吸水率>
使實施例及比較例所用硬化型接著劑於與實施例同樣之條件下硬化，製作出厚度100μm之評價用硬化物(重量：M1g)。使該評價用硬化物浸漬於23℃純水中24小時，之後取出並拭去表面水分後，測定浸漬後之該評價用硬化物之重量(M2g)。利用下式，從浸漬前之評價用硬化物重量M1g與浸漬後之評價用硬化物重量M2g算出整體吸水率。
Figure 106117019-A0305-02-0033-1
<增亮薄膜之偏光度>
使用紫外可見分光光度計(日本分光(股)製V7100)測定增亮薄膜之單體透射率T、平行透射率Tp及直交透射率Tc。該等透射率係以JIS Z8701之2度視角(C光源)測定後經色校正而得之Y值。使用上述透射率，以下式求出增亮薄膜之偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)}1/2 ×100
＜加熱收縮率＞ 將實施例、比較例所得積層薄膜以偏光件之延伸方向為0°之方式裁切為100mm×100mm尺寸，並透過黏著劑層貼合於厚度1mm之玻璃板上而製成測定樣本，於偏光薄膜之四個角落施加記號。以(股)三豐製之影像測定機(Quick vision)測定偏光薄膜四個角落之記號間長度L0。將測定過之樣本投入85℃之加熱烘箱中500小時，立刻再測定偏光薄膜四個角落之記號間長度L500。尺寸變化率以下式算出。 尺寸變化率(%)={(L500 -L0 )/L0 }×100
＜糊打痕＞ 於實施例及比較例所得積層薄膜之外觀檢測中，以目測確認糊打痕之發生。計數每1m2 之糊打痕發生數目。
＜不均＞ 於厚度0.3mm之無鹼玻璃之一側貼合實施例及比較例所得積層薄膜，另一側則貼合使用厚度12μm之PVA薄膜的偏光板(商品名：GRT1794KUHC3，透射率：43.0%，日東電工(股)製)而使各偏光件之吸收軸呈直交，於60℃、R.H.90%之環境下投入500小時。取出後在暗房內於背光亮度(7000cd/cm2 或10000cd/cm2 )上以目測確認面內之條狀不均。 ◎：使用10000cd/cm2 之背光時仍無條狀不均。 〇：使用7000cd/cm2 之背光時無條狀不均。 △：使用7000cd/cm2 之背光時有部分條狀不均。 ×：使用7000cd/cm2 之背光時全面皆有條狀不均。
＜裂痕＞ 將所得積層薄膜裁切為100mm×100mm尺寸並製作樣本。將所得樣本貼合到玻璃板上，進行200循環之熱循環試驗(-40℃~85℃/30分鐘)，再以目測確認有無裂痕發生。 〇：無裂痕發生。 ×：有裂痕發生。
＜白亮度＞ 將iPad(註冊商標)Air(Apple公司製)面板之TFT側偏光板剝離，並貼合實施例、比較例之偏光板後，使用SR-UL1(TOPCON CORPORATION)於暗房內測定白顯示狀態時之亮度。
＜翹曲＞ 於厚度0.3mm之無鹼玻璃之一側上貼合實施例及比較例所得積層薄膜，於另一側上貼合使用厚度12μm之PVA薄膜的偏光板(商品名：GRT1794KUHC3，日東電工(股)製)而使各偏光件之吸收軸呈直交，於85℃環境下投入500小時。取出後使用QVA606-PRO-AE10((股)三豐製)測定翹曲量。 〇：未發生翹曲或發生了不成為問題程度之翹曲。 ×：發生了顯著之翹曲。
[表1]
Figure 02_image005
表1中，各略語如下。 (積層薄膜之結構) 結構A：黏著劑層/偏光件/保護薄膜/增亮薄膜 結構B：黏著劑層/保護薄膜/偏光件/增亮薄膜 (偏光件) 偏光件(1)~(6)：製造例1~6所得偏光件(1)~(6) (增亮薄膜) APF-V4：增亮薄膜之商品名，偏光度：92%，3M製 APF-V3：增亮薄膜之商品名，偏光度：95%，3M製 DBEF-QV2：增亮薄膜之商品名，偏光度：88%、3M製 AF-film：增亮薄膜之商品名，偏光度：62%，Extend製 (保護薄膜) 丙烯酸系：製造例8所得丙烯酸系保護薄膜，透濕度：150g/(m2 ・day)，厚度：20μm COP：環烯烴系保護薄膜，透濕度：30g/(m2 ・day)，厚度：13μm，商品名：ZF14-013，Zeon Corporation製TAC系保護薄膜，透濕度：800g/(m2 ・day)，厚度：25μm，商品名：TJ25UL，富士薄膜製 (黏著劑層) No.58：商品名，潛變值：120μm，日東電工(股)製
1‧‧‧積層薄膜 2‧‧‧偏光薄膜 2a‧‧‧偏光件 2b‧‧‧保護薄膜 2c‧‧‧保護薄膜 3‧‧‧增亮薄膜 4‧‧‧黏著劑層
圖1為截面圖，其概要地顯示本發明之積層薄膜之一實施形態。 圖2(a)為截面圖，其概要地顯示本發明之積層薄膜之一實施形態。圖2(b)為截面圖，其概要地顯示本發明之積層薄膜之一實施形態。
1‧‧‧積層薄膜
2‧‧‧偏光薄膜
2a‧‧‧偏光件
2b‧‧‧保護薄膜
2c‧‧‧保護薄膜
3‧‧‧增亮薄膜
4‧‧‧黏著劑層

Claims (4)

  1. 一種積層薄膜，其特徵在於：依序包含黏著劑層、偏光薄膜及增亮薄膜，並且，前述偏光薄膜係一僅在含有聚乙烯醇系樹脂之偏光件之單面上具有保護薄膜的偏光薄膜；前述積層薄膜依序包含前述黏著劑層、前述保護薄膜、前述偏光件及前述增亮薄膜；前述偏光件之厚度為10μm以下，且單體透射率為43.0%以上；前述增亮薄膜之偏光度為90%以上；前述黏著劑層之潛變值(所謂潛變值，係從使黏著劑層以接著面積10mm×10mm固著於基板並施加500g負載之潛變試驗所獲得之1小時後黏著劑層偏移量(μm))為100~150μm；將前述積層薄膜於85℃下放置500小時後，前述偏光件之吸收軸方向之加熱收縮率為0.5%以下；前述保護薄膜之厚度為25μm以下，且以下述方法測定之透濕度為200g/(m2‧day)以下：<保護薄膜之透濕度>保護薄膜之透濕度測定係遵照JIS Z0208之透濕度試驗(透濕杯法，cup method)測定，將裁斷成直徑60mm之樣本安裝到已裝有15g氯化鈣之透濕杯中，放入40℃、90%之恒溫機，測定放置24小時前後氯化鈣之重量增加而求出透濕度(g/m2‧day)。
  2. 如請求項1之積層薄膜，其中前述偏光件之硼酸含量為18~24重量%。
  3. 如請求項1或2之積層薄膜，其中前述偏光件與保護薄膜係透過接著劑層而積層，且前述接著劑層之以下式求得之整體吸水率(所謂整體吸水率，係將硬化之接著劑層浸漬於23℃純水24小時後之情況的吸水率)為10重量%以下：整體吸水率(%)=[{(浸漬後之接著層重量)-(浸漬前之接著層重量)}/(浸漬前之接著層重量)]×100。
  4. 一種影像顯示裝置，其特徵在於：具有如請求項1至3中任一項之積層薄膜。
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