TWI726938B - 偏光板及液晶面板 - Google Patents

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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種偏光板，其係於耐熱試驗時，可抑制因光學膜之尺寸變化所引起的偏光膜的吸收軸偏移造成的偏光度降低。
該偏光板係依序包含光學膜、第1黏著劑層、偏光膜及第2黏著劑層；由前述偏光膜的吸收軸與前述光學膜的慢軸所成的角度為約45°或為約135°；關於前述光學膜，當其在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸變化率是設為D1，並且其在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸變化率是設為D2時，係滿足下述式(1)及式(2)：| D1 |>| D2 |時，2<| D1 |/| D2 |…(1)
| D1 |<| D2 |時，2<| D2 |/| D1 |…(2)。

Description

偏光板及液晶面板
本發明係關於偏光板及使用該偏光板之液晶面板。
近年來，耗費電力低、以低電壓運作、質輕且薄型的液晶顯示器係作為行動電話、可攜式資訊終端、電腦用螢幕、電視等資訊用顯示裝置而迅速普及。伴隨著液晶技術的發展，已提案有多種形式的液晶顯示器，而正持續解決反應速度和對比、視野角狹窄等液晶顯示器的問題。而且，伴隨著可攜式液晶顯示器的普及，例如在室外等使用時，會有以配戴有偏光太陽眼鏡之狀態來視認液晶顯示器畫面之情形，在此種情形下，亦會對液晶顯示器要求即使透過偏光太陽眼鏡看畫面仍為優異的視認性。
以往已提案有數個用以改善透過偏光太陽眼鏡看畫面時之視認性之手段(專利文獻1至9)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-122454號公報
[專利文獻2]日本特開2011-107198號公報
[專利文獻3]日本特開2011-215646號公報
[專利文獻4]日本特開2012-230390號公報
[專利文獻5]日本特開平03-174512號公報
[專利文獻6]日本特開2013-231761號公報
[專利文獻7]日本特開2011-113018號公報
[專利文獻8]日本特開2013-182162號公報
[專利文獻9]日本特開2013-200445號公報
用以改善透過偏光太陽眼鏡看畫面時之視認性之方法，係有為了使從在如液晶單元(liquid crystal cell)等圖像顯示元件的視認側所配置之偏光板所射出的直線偏光轉換成楕圓(或圓)偏光，而將相位差板(例如λ/4波長板)配置於上述偏光板的視認側之方法(專利文獻1至9)。
但是，此種相位差板常經延伸處理而經由直接接著劑層積層於偏光膜。而且，由偏光板的吸收軸與相位差板的慢軸所成的角度常配置成預定的角度(例如45°)，當投入耐熱試驗時，會有因經延伸的相位差板往斜向尺寸變化而使偏光膜的吸收軸有局部變化並使偏光度降低之問題。
[1]一種偏光板，其係依序包含光學膜、第1黏著劑層、 偏光膜及第2黏著劑層；其中，由前述偏光膜的吸收軸與前述光學膜的慢軸所成的角度為約45°或為約135°；關於前述光學膜，當其在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸變化率是設為D1，並且在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸變化率是設為D2時，係滿足下述式(1)及式(2)：| D1 |>| D2 |時，2<| D1 |/| D2 |…(1)
| D1 |<| D2 |時，2<| D2 |/| D1 |…(2)
[2]如[1]所述之偏光板，其中，前述光學膜包含由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂所成之群選出的至少一種。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中，前述偏光膜的厚度為15μm以下。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其係於前述偏光膜與前述第2黏著劑層之間，更具有保護膜。
[5]一種液晶面板，其係於液晶單元的至少一面，經由前述第2黏著劑層而積層[1]至[4]中任一項所述之偏光板者。
依據本發明，可提供一種偏光板，其係於耐熱試驗時，可抑制因光學膜之尺寸變化所引起的偏光膜的吸收軸偏移造成的偏光度降低。
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧光學膜
12‧‧‧第1黏著劑層
14‧‧‧偏光膜
15‧‧‧保護膜
16‧‧‧第2黏著劑層
20‧‧‧表面處理層
30‧‧‧偏光膜的吸收軸
31‧‧‧相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向
32‧‧‧相對於偏光膜的吸收軸而呈135°之方向
33‧‧‧45°
34‧‧‧135°
40‧‧‧經裁切的光學膜11
第1圖係表示本發明之偏光板的層構成的截面示意圖的一例。
第2圖係表示本發明偏光板之軸方向的關係之平面圖的一例。
參照第1圖，說明本發明之偏光板10的層構成。本發明之偏光板較佳係依序積層光學膜11、第1黏著劑層12、偏光膜14及第2黏著劑層16而構成。由偏光膜14的吸收軸與光學膜11的慢軸所成的角度為約45°或為約135°。在光學膜11之與偏光膜貼合面為相反側之面形成表面處理層20係亦有用。
而且，光學膜11較佳為包含由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂所成之群選出的至少一種之膜。
偏光膜14係以厚度為15μm以下為較佳。
而且，依據本發明，亦可提供於偏光膜14與第2黏著劑層16之間更具有保護膜15之偏光板10。
又且，依據本發明，尚可提供一種液晶面板，其係使上述偏光板10經由第2黏著劑層16而積層於液晶單元的至少一側者。
以下，詳細說明構成本發明之液晶顯示裝置的構件。
[偏光膜14]
偏光膜14通常係經由下述步驟製造：將聚乙烯醇系樹脂膜予以一軸延伸之步驟；以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使二色性色素吸附之步驟；將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理並使交聯之步驟；以及在藉由硼酸水溶液進行交聯處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂予以皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了可為屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，亦可為乙酸乙烯酯和可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體係可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度，通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改性，例如亦可使用經醛類改性之聚乙烯縮甲醛(polyvinyl formal)和聚乙烯縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度，通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。
以此種聚乙烯醇系樹脂所製膜者，可作為偏光膜的原片膜來使用。將聚乙烯醇系樹脂製膜的方法並無特別限定，可以公知的方法製膜。聚乙烯醇系樹脂原片膜的膜厚例如為10至100μm左右，較佳為10至50μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜之縱向一軸延伸，係可在以二色性色素染色前進行、在與染色同時進行、或在染色後進行。在染色後進行縱向一軸延伸時，該縱向一軸延伸可於硼酸處理前進行，亦可於硼酸處理中進行。當然，亦可在此處所示之複數個階段進行縱向一軸延伸。於縱向一軸延伸，可採用在轉速不同的輥間於一軸進行延伸之方法、或是使用熱輥而於一軸進行延伸之方法等。而且，縱向一軸延伸可藉由在大氣中進行延伸之乾式延伸來進行，也可藉由以使用水等溶劑使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態進行延伸之濕式延伸來進行。延伸倍率通常為3至8倍左右。
聚乙烯醇系樹脂膜之藉由二色性色素所進行的染色，例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中之方法進行。具體而言，二色性色素係可使用碘和二色性有機染料。又，聚乙烯醇系樹脂膜較佳為在染色處理前先施行浸漬於水而使其膨潤之處理。
使用碘作為二色性色素時，通常係採用於含有碘及碘化鉀之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。
該水溶液中之碘含量係相對於水100重量份而通常為0.01至1重量份左右，碘化鉀的含量係相對於水100重量份而通常為0.5至20重量份左右。染色所使用之水溶液的溫度通常為20至40℃左右。而且，浸漬於該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為20至1,800秒左右。
另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常係採用於包含水溶性二色性有機染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。該水溶液中之二色性有機染料的含量，係相對於水100重量份而通常為1×10-4至10重量份左右，較佳為1×10-3至1重量份。該染料水溶液亦可含有如硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。染色所使用之二色性有機染料水溶液的溫度通常為20至80℃左右。而且，浸漬於該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常為10至1,800秒左右。
在藉由二色性色素所進行的染色後之硼酸處理，可藉由將經染色的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含硼酸之水溶液中之方法來進行。在含硼酸之水溶液中之硼酸的含量，相對於水100重量份而通常為2至15重量份左右，較佳為5至12重量份。使用碘作為二色性色素時，該含硼酸之水溶液係以含有碘化鉀為較佳。含硼酸之水溶液中之碘化鉀的含量，係相對於水100重量份而通常為0.1至15重量份左右，較佳為5至12重量份。浸漬於含硼酸之水溶液中的時間通常為60至1,200秒左右，較佳為150至600秒，又更佳為200至400秒。含硼酸之水溶液的溫度通常為50℃以上，較佳為50至85℃，又更佳為60至80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常係經水洗處理。水洗處理，例如可藉由將經硼酸處理的聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水之方法來進行。水洗處理中，水的溫度通常為5至40℃左右。而且，浸漬時間通常為1至120 秒左右。
水洗後係施行乾燥處理，而得到偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器進行。乾燥處理的溫度通常為30至100℃左右，較佳為50至80℃。乾燥處理的時間通常為60至600秒左右，較佳為120至600秒。藉由乾燥處理，使偏光膜中的水分率減低至實用程度。其水分率通常為5至20重量%左右，較佳為8至15重量%。水分率若低於5重量%，則會有偏光膜的可撓性喪失、於乾燥後損傷、斷裂之情形。而且，水分率若超過20重量%，則會有熱安定性不足之傾向。
依上述操作，可製造於聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素之偏光膜14。
從抑制耐熱試驗下之偏光度降低的觀點來看，亦以使偏光膜本身之收縮力低為較佳。為了將偏光膜14抑制為低收縮力，偏光膜14的厚度較佳為12μm以下。就可賦予良好的光學特性之觀點而言，偏光膜的厚度通常為3μm以上。
[光學膜11]
本發明所使用之偏光板中，光學膜11尤佳為由透明性、機械強度、熱安定性、水分遮蔽性等優異之材料所構成。可列舉例如：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯(norbornene)系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂等纖維素系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲 基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；或此等之混合物、共聚物等。
光學膜11較佳為滿足下述式之膜：(5)100nm≦Re(590)≦180nm、(6)0.5<Rth(590)/Re(590)≦0.8、(7)0.85≦Re(450)/Re(550)<1.00、及(8)1.00<Re(630)/Re(550)≦1.1。式中，Re(590)、Re(450)、Re(550)、Re(630)分別表示於測定波長590nm、450nm、550nm、630nm之面內相位差值，Rth(590)表示於測定波長590nm之厚度方向相位差值。此等面內相位差值及厚度方向相位差值係於溫度23℃、相對濕度55%之環境下進行測定。
光學膜11的面內相位差值Re、厚度方向相位差值Rth，係在將面內慢軸方向的折射率設為nx、面內快軸方向(與面內慢軸方向呈垂直的方向)的折射率設為ny、厚度方向的折射率設為nz、光學膜11的厚度設為d時，以下述式定義：Re=(nx-ny)×d
Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d。
將顯示上述式(5)至(8)之相位差特性及波長分散特性之光學膜11配置於視認側而成之液晶顯示器，係可有效地抑制透過偏光太陽眼鏡從各種方向(方位角及極角)看畫面時之色相變化，而可提高液晶顯示器的視認性。相對於此，當未滿足上述式(5)至(8)中的任一項以上時，上 述色相變化的抑制會不充分。
從更為有效地抑制色相變化的觀點來看，式(5)中之Re(590)較佳為105至170nm，式(6)中之Rth(590)/Re(590)較佳為0.6至0.75，式(7)中之Re(450)/Re(550)較佳為0.86至0.98，式(8)中之Re(630)/Re(550)較佳為1.01至1.06。
光學膜11係一種具有將從偏光膜14向光學膜11射出之直線偏光轉換成楕圓偏光(包括為圓偏光之情形)並射出之功能的相位差膜，為了使該功能顯現，係以使由偏光膜的吸收軸與光學膜的慢軸所成的角度成為約45°或約135°之方式積層。當所成的角度超出此範圍外時，會無法得到將直線偏光轉換成楕圓偏光並射出之功能，其結果為上述色相變化的抑制會變不充分。本發明中之約45°或為約135°，係意指為25至65°或115至155°，較佳為意指35至55°或125至145°，又更佳為意指40至50°或130至140°。
因為容易賦予上述式(5)至(8)之相位差特性及波長分散特性，而且因透濕度較低而可提高光學積層體的耐濕性、耐濕熱性，故經延伸的光學膜係以包含環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂或此等之2者以上為較佳，樹脂成分係以包含由此等選出之1者或2者以上為更佳。
就鏈狀聚烯烴系樹脂而言，除了可列舉如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴之均聚物以外，亦可 列舉包含2種以上鏈狀烯烴的共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂，係將環狀烯烴作為聚合單元進行聚合而成的樹脂之統稱。若要列舉環狀聚烯烴系樹脂之具體例，則有：環狀烯烴的開環(共)聚合物；環狀烯烴的加成聚合物；環狀烯烴與如乙烯、丙烯等鏈狀烯烴的共聚物(代表性者為無規共聚物)；以及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改性之接枝聚合物；以及該等的氫化物等。其中，尤佳為使用降莰烯系樹脂，其係使用降莰烯和多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴者。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例包括：纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。而且，亦可使用此等之共聚物、或羥基的一部分經其他取代基修飾者。此等之中，尤以纖維素三乙酸酯(亦即三乙酸纖維素：TAC)為特佳。
聚酯系樹脂為具有酯鍵之樹脂，一般係包含多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物者。多元羧酸或其衍生物，係可使用2元的二羧酸或其衍生物，可列舉例如：對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。多元醇可使用2元的二醇，可列舉例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。
聚酯系樹脂之具體例包括：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、 聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯。
聚碳酸酯系樹脂包含經由碳酸酯基而鍵結著單體單元之聚合物。聚碳酸酯系樹脂亦可為如經修飾聚合物骨架之被稱作改性聚碳酸酯的樹脂、或共聚合聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基之化合物作為主要構成單體之樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例包括例如：如聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物的共聚物(例如：甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳可使用以如聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯為主成分之聚合物，又更佳可使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%，較佳為70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
藉由將包含上述熱可塑性樹脂之膜進行延伸，可製作光學膜11。延伸處理可列舉一軸延伸和二軸延伸等。延伸方向可列舉：未延伸膜之機械流動方向(MD)、與其垂直之方向(TD)、與機械流動方向(MD)斜向相交之方向等。二軸延伸可為同時朝2個延伸方向進行延伸之同時二軸延伸，亦可為朝預定方向延伸後再朝其他方向延伸之 逐次二軸延伸。延伸處理係例如可藉由下述方式進行：使用將出口側的轉速提高的2對以上的壓合輥(nip roll)並於長方向(機械流動方向：MD)進行延伸，或是將未延伸膜之兩側端以夾具(chuck)夾持並朝與機械流動方向垂直之方向(TD)延展。此時，藉由調整膜的厚度、或是調整延伸倍率，可將相位差值調控於上述式(5)至(6)的範圍內。而且，藉由在樹脂中添加波長分散調整劑，可將波長分散值調控於上述式(7)至(8)的範圍內。
光學膜11的厚度只要滿足上述式(5)至(8)即無特別限制，惟從偏光板的薄膜化的觀點來看，較佳為90μm以下，又更佳為60μm以下，而且從處理的觀點來看，較佳為5μm以上，又更佳為10μm以上。
光學膜11可含有1種或2種以上之如光滑劑、塑化劑、分散劑、熱安定劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑等添加劑。
而且，為了賦予所期望之表面光學特性或其他特徴，可在光學膜11的外表面設置塗覆層(表面處理層20)。塗覆層的具體例包括：硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防汙層。形成塗覆層的方法並無特別限定，可使用公知的方法。
為了賦予所期望之相位差特性，本發明中之光學膜11係使用：在85℃之環境下靜置100小時後的在與偏光膜的吸收軸呈45°之方向的尺寸變化率D1和在與偏光膜的吸收軸呈135°之方向的尺寸變化率D2為滿足下 述式者。又，在從經延伸的光學膜11看偏光膜14時，係以逆時鐘旋轉的角度為正。
| D1 |>| D2 |時，2<| D1 |/| D2 | (1)
| D1 |<| D2 |時，2<| D2 |/| D1 | (2)
上述式(1)至(2)中之D1及D2，可參照第2圖，以下述方式測定。第2圖(a)為表示本發明之偏光板中，偏光膜的吸收軸、以及相對於該吸收軸而呈45°之方向、及相對於該吸收軸而呈135°之方向之平面圖的一例。如前所述，光學膜的慢軸較佳係與方向31或方向32為大致一致。
首先，如第2圖(b)所示，裁切光學膜，使其成為在相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向為100mm、在呈135°之方向為100mm之大小。將所裁切的光學膜40於溫度23℃濕度55%的環境下靜置1日，測定相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向(方向31)的尺寸(L0(45))、以及相對於偏光膜的吸收軸而呈135°之方向(方向32)的尺寸(L0(135))。其次，測定於85℃之環境下經靜置100小時後之方向31的尺寸(L1(45))及方向32的尺寸(L1(135))。依據其結果，可由式(3)及(4)求出尺寸變化率D1(%)、D2(%)。
尺寸變化率D1=[(L0(45)-L1(45))/L0(45)]×100 (3)
尺寸變化率D2=[(L0(135)-L1(135))/L0(135)]×100 (4)
滿足上述式(1)至(2)之光學膜11，係例如可藉由將包含上述熱可塑性樹脂之膜進行二軸延伸而製造。 就容易得到滿足上述式(1)至(2)的膜之觀點而言，上述熱可塑性樹脂之中，尤以包含如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂等纖維素系樹脂為較佳。
延伸方法可為同時二軸延伸，亦可為逐次二軸延伸，惟因藉由同時二軸延伸所製造者會較容易得到滿足上述式(1)至(2)的膜，故為較佳。同時二軸延伸的方法係無特別限制，可將未延伸膜之兩端部以夾具夾持，使該兩端的夾具之運送速度有所差異，再進一步朝與機械流動方向垂直之方向(TD)延展而製造。又，同時二軸延伸中，包括朝一方向延伸並使另一方之張力緩和而收縮之情形。
一般而言，長條狀之偏光膜係在長邊方向具有吸收軸，故就可使用輥對輥(roll-to-roll)之方式貼合長條狀光學膜與長條狀偏光膜之觀點而言，光學膜係以藉由二軸延伸而經斜向延伸製造者為較佳。
[保護膜15]
就保護膜15而言，尤佳為由透明性、機械強度、熱安定性、水分遮蔽性等優異之材料所構成。就保護膜15而言，由於容易調整相位差值且容易取得，故以包含纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂為較佳。在此，所謂聚烯烴系樹脂係包括鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂。
纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂係可使用與光學膜11所例示者相同者。
由上述樹脂加以製膜成膜的方法，只要依 各樹脂而適當選擇即可，可採用例如溶劑澆注法、熔融擠出法等。其中，對於聚烯烴系樹脂和丙烯酸系樹脂，從生產性之觀點來看，較佳為採用熔融擠出法。另一方面，一般來說，纖維素系樹脂係藉由溶劑澆注法來製膜。
液晶單元為橫向電場效應(IPS：In-Plane Switching)模式時，為了不損及該IPS模式液晶單元原本所具有的廣視野角特性，保護膜係以厚度方向的相位差值Rth於-10至10nm的範圍為較佳。
將保護膜的厚度方向的相位差值Rth調控於-10至10nm的範圍內之方法，可列舉：在製作膜時，盡量使殘留於面內及厚度方向之歪曲縮小的方法。在上述溶劑澆注法中，可採用例如使在其流延樹脂溶液乾燥時所產生的面內及厚度方向的殘留收縮歪曲藉由熱處理而被緩和之方法等。另一方面，在上述熔融擠出法中，為了防止樹脂膜在由模頭擠出至冷卻為止之間被延伸，可採用盡量縮短從模頭至冷卻筒為止的距離並且以膜不被延伸之方式調控擠出量與冷卻筒的旋轉速度的方法等。而且，與溶劑澆注法相同地，亦可採用使殘留於所得之膜的歪曲藉由熱處理而被緩和之方法。
從偏光板的薄膜化的觀點來看，保護膜的厚度較佳為90μm以下，又更佳為60μm以下，而且從處理的觀點來看，較佳為5μm以上，又更佳為10μm以上。
[接著劑層]
偏光膜與保護膜，係可藉由接著劑或黏著劑貼合。
貼合偏光膜與保護膜之接著劑層，其厚度可為0.01至30μm左右，較佳為0.01至10μm，又更佳為0.05至5μm。接著劑層的厚度只要於此範圍，則所積層的保護膜與偏光膜之間不會產生浮起和剝離，可得到實用上沒有問題之接著力。貼合偏光膜與保護膜之黏著劑層，其厚度可為5至50μm左右，較佳為5至30μm，又更佳為10至25μm。
在將偏光膜與保護膜予以接著時，若預先對偏光膜、保護膜進行皂化處理、電暈處理、電漿處理(plasma treatment)等，則亦為有用。
接著劑層之形成中，可依據被著體的種類和目的而適宜地使用適當的接著劑，亦可視所需而使用錨塗劑。接著劑可列舉例如：溶劑型接著劑、乳劑(emulsion)型接著劑、感壓性接著劑、再濕性接著劑、聚縮合型接著劑、無溶劑型接著劑、膜狀接著劑、熱熔型接著劑等。
較佳之接著劑之一，可列舉水系接著劑，亦即使接著劑成分溶解或分散於水而成者。若要列舉可溶解於水之接著劑成分之例，係有聚乙烯醇系樹脂。而且，若要列舉可分散於水之接著劑成分之例，係有具有親水基的胺酯(urethane)系樹脂。水系接著劑，可藉由將如此之接著劑成分與視所需而調配的追加之添加劑一起混合於水而調製。若要列舉可作為水系接著劑之市售的聚乙烯醇系樹脂之例，則有由kuraray股份有限公司販售之屬於經羧基改性之聚乙烯醇之“KL-318”等。
水系接著劑可視所需而含有交聯劑。若要列舉交聯劑之例，則有胺化合物、醛化合物、羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂、異氰酸酯化合物、多價金属鹽等。以聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分時，較佳係使用以乙二醛為首之醛化合物、以羥甲基三聚氰胺為首之羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂等來作為交聯劑。
在此，水溶性環氧樹脂可為例如：使聚醯胺多胺與表氯醇進行反應而得之聚醯胺環氧樹脂，該聚醯胺多胺係如二伸乙三胺、三伸乙四胺等聚伸烷多胺與如己二酸等二羧酸的反應物。若要列舉水溶性環氧樹脂之市販品之例子，則有由田岡化學工業股份有限公司販售之“Sumirez Resin(註冊商標)650(30)”等。
在偏光膜及/或貼合於該偏光膜的保護膜之接著面塗佈水系接著劑並將兩者貼合後，施行乾燥處理，藉此可得到偏光板。在接著之前，若先對於保護膜施行如皂化處理、電暈放電處理、電漿處理或底漆處理等易接著處理而使潤濕性提高，則亦屬有效。乾燥溫度可為例如50至100℃左右。就更加提高接著力之觀點而言，較佳為在乾燥處理後以略高於室溫的溫度(例如30至50℃左右的溫度)熟成1至10日左右。
另一種較佳之接著劑，可列舉含有會藉由照射活性能量射線或加熱而硬化之環氧化合物的硬化性接著劑組成物。在此，硬化性的環氧化合物係於分子內具有至少2個環氧基者。此時，偏光膜與保護膜的接著可藉由 下述方法進行：對該接著劑組成物之塗佈層照射活性能量射線或賦予熱，使接著劑所含有的硬化性環氧化合物硬化之方法。環氧化合物的硬化，一般是藉由環氧化合物的陽離子聚合進行。再從生產性的觀點來看，此硬化係以藉由照射活性能量射線進行為較佳。
從耐候性、折射率、陽離子聚合性等之觀點來看，硬化性接著劑組成物中所含有之環氧化合物較佳為分子內不含芳香環者。分子內不含芳香環之環氧化合物，可例示如氫化環氧化合物、脂環式環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。如此之可適合使用於硬化性接著劑組成物之環氧化合物係例如於日本特開2004-245925號公報有詳細說明，於此亦概略地加以說明。
氫化環氧化合物可為將核氫化聚羥基化合物進行縮水甘油醚化而成者，該核氫化聚羥基化合物係藉由使屬於芳香族環氧化合物原料之芳香族聚羥基化合物在觸媒存在下及加壓下選擇性地進行核氫化反應而得者。屬於芳香族環氧化合物原料之芳香族聚羥基化合物，可列舉例如：如雙酚A、雙酚F及雙酚S等雙酚類；如酚酚醛清漆(phcnol novolae)樹脂、甲酚酚醛清漆樹脂及羥苯甲醛酚酚醛清漆樹脂等酚醛清漆型的樹脂；如四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯甲酮及聚乙烯基酚等多官能型的化合物等。對如此之芳香族聚羥基化合物進行核氫化反應，並使所得之核氫化聚羥基化合物與表氯醇反應，而可進行縮水甘油醚化。合適的氫化環氧化合物可列舉如經氫化的雙酚 A之縮水甘油醚。
脂環式環氧化合物為於分子內具有至少1個鍵結於脂環式環的環氧基之化合物。「鍵結於脂環式環的環氧基」係意指下式所示之構造中之橋聯的氧原子-O-，此式中，m為2至5的整數。
Figure 105137617-A0202-12-0020-1
使經除去此式之(CH2)m中的1個或複數個氫原子後的形式之基與其他化學構造結合而成的化合物，係可為脂環式環氧化合物。而且，形成脂環式環的(CH2)m中的1個或複數個氫原子，係可經如甲基或乙基等直鏈狀烷基適宜地取代。脂環式環氧化合物中，具有氧雜雙環己烷環(上式中之m=3者)、氧雜雙環庚烷環(上式中之m=4者)之環氧化合物係因表現優異的接著性而為較佳。以下揭示脂環式環氧化合物的具體例。在此，係先列舉化合物名，之後分別表示對應的化學式，並於化合物名及與該化學名對應的化學式附記相同的符號。
A：3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯、B：3,4-環氧基-6-甲基環己烷甲酸3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯、C：伸乙基雙(3,4-環氧基環己烷甲酸酯)、D：己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲基)酯、 E：己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)酯、F：二乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、G：乙二醇雙(3,4-環氧基環己基甲基醚)、H：2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜三螺[5.2.2.5.2.2]二十一烷、I：3-(3,4-環氧基環己基)-8,9-環氧基-1,5-二氧雜螺[5.5]十一烷、J：二氧化4-乙烯基環己烯(4-vinylcyclohexene dioxide)、K：二氧化檸檬烯(limonene dioxide)、L：雙(2,3-環氧基環戊基)醚、M：二氧化二環戊二烯等。
Figure 105137617-A0202-12-0022-2
脂肪族環氧化合物，可為脂肪族多元醇或其伸烷氧化物加成物的聚縮水甘油醚。更具體而言，可列 舉如：丙二醇之二縮水甘油醚；1,4-丁二醇之二縮水甘油醚；1,6-己二醇之二縮水甘油醚；丙三醇之三縮水甘油醚；三羥甲基丙烷之三縮水甘油醚；對於如乙二醇、丙二醇及丙三醇等脂肪族多元醇予以加成環氧烷(例如環氧乙烷、環氧丙烷)而得之聚醚多元醇的聚縮水甘油醚(例如聚乙二醇之二縮水甘油醚)等。
硬化性接著劑組成物中，環氧化合物可僅單獨使用1種，亦可將2種以上併用。其中，此環氧化合物較佳係包括：於分子內具有至少1個鍵結於脂環式環的環氧基之脂環式環氧化合物。
可使用於硬化性接著劑組成物中之環氧化合物，通常具有30至3,000g/當量的範圍內之環氧當量，該環氧當量較佳為50至1,500g/當量的範圍。當使用環氧當量低於30g/當量之環氧化合物時，硬化後之偏光板的可撓性可能會降低，且接著強度可能會降低。另一方面，為使用具有超過3,000g/當量的環氧當量之化合物時，其與接著劑組成物所含有的其他成分之相溶性可能會降低。
從反應性的觀點來看，較佳為使用陽離子聚合作為環氧化合物的硬化反應。因此，於包含環氧化合物之硬化性接著劑組成物中，以調配陽離子聚合起始劑為較佳。陽離子聚合起始劑係藉由照射如可見光線、紫外線、X射線及電子射線等活性能量射線或加熱而產生陽離子物種或路易斯酸，使環氧基開始進行聚合反應。從作業性的觀點來看，陽離子聚合起始劑係以經賦予潛伏性為較佳。 以下，係將藉由照射活性能量射線而產生陽離子物種或路易斯酸並使環氧基開始進行聚合反應之陽離子聚合起始劑稱為「光陽離子聚合起始劑」，另外，將藉由熱而產生陽離子物種或路易斯酸並使環氧基開始進行聚合反應之陽離子聚合起始劑稱為「熱陽離子聚合起始劑」。
藉由使用光陽離子聚合起始劑並照射活性能量射線以進行接著劑組成物的硬化之方法，係因可在常溫常濕下進行硬化，且可較不需考慮偏光膜的耐熱性或膨脹所造成的歪斜，並可良好地將保護膜與偏光膜予以接著，故屬有利。而且，因光陽離子聚合起始劑是藉由光而發揮催化作用，故即使與環氧化合物混合，保存安定性和作業性仍優異。
光陽離子聚合起始劑可列舉例如：芳香族重氮鹽；如芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽等鎓鹽、鐵-丙二烯(allene)錯合物等。相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑的調配量通常為0.5至20重量份，較佳為1重量份以上，且較佳為15重量份以下。
相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑的調配量若低於0.5重量份，則硬化會變得不充分，硬化物的機械強度和接著強度會有降低之傾向。
另一方面，相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑的調配量若超過20重量份，則硬化物中的離子性物質會增加，而使硬化物的吸濕性會變高，可能會使耐久性降低。
使用光陽離子聚合起始劑時，硬化性接著劑組成物可視所需而進一步含有光敏劑。藉由使用光敏劑，可使陽離子聚合的反應性提高，並使硬化物的機械強度和接著強度提高。光敏劑可列舉例如：羰基化合物、有機硫化物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮化合物、重氮化合物、鹵化合物、光還原性色素等。調配光敏劑時，其量相對於硬化性接著劑組成物100重量份，較佳係設為於0.1至20重量份的範圍內。而且，為了提高硬化速度，亦可使用如萘醌衍生物等增敏助劑。
另一方面，熱陽離子聚合起始劑可列舉：苯甲基鋶鹽、噻吩鎓鹽(thiophenium salt)、四氫噻吩鎓鹽(thiolanium salt)、苯甲基銨、吡啶鎓鹽、肼鎓鹽hydrazinium salt)、羧酸酯、磺酸酯、胺基醯亞胺等。
含有環氧化合物的硬化性接著劑組成物，較佳係如前述般藉由光陽離子聚合而硬化，惟也可使上述熱陽離子聚合起始劑存在並藉由熱陽離子聚合而硬化，亦可併用光陽離子聚合與熱陽離子聚合。併用光陽離子聚合與熱陽離子聚合時，較佳為於硬化性接著劑組成物中含有光陽離子聚合起始劑與熱陽離子聚合起始劑兩者。
而且，硬化性接著劑組成物亦可更含有氧雜環丁烷(oxetane)化合物和多元醇化合物等促進陽離子聚合之化合物。氧雜環丁烷化合物係於分子內具有4員環醚之化合物。調配氧雜環丁烷化合物時，其量於硬化性接著劑組成物中通常為5至95重量%，較佳為5至50重量%。 而且，多元醇化合物可為包括乙二醇或六亞甲二醇、聚乙二醇等之伸烷二醇或其寡聚物、聚酯多元醇、聚己內酯多元醇、聚碳酸酯多元醇等。調配多元醇化合物時，其量於硬化性接著劑組成物中通常為50重量%以下，較佳為30重量%以下。
此外，硬化性接著劑組成物在不損及其接著性的前提下，可含有其他添加劑，例如可含有離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增敏劑、賦黏劑、熱可塑性樹脂、充填劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑等。離子捕集劑可列舉例如：包含粉末狀的鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系、此等之混合系等的無機化合物，抗氧化劑可列舉例如受阻酚系抗氧化劑等。
將含有環氧化合物的硬化性接著劑組成物塗覆於偏光膜或保護膜之接著面、或這兩者的接著面後，以塗覆有接著劑的面進行貼合，並照射活性能量射線或加熱而使未硬化的接著劑層硬化，藉此可將偏光膜與保護膜予以接著。接著劑的塗覆方法可採用例如刮刀、線棒、模塗機、逗點式塗佈機(comma coater)、凹版印刷式塗佈機等各種塗覆方式。
此硬化性接著劑組成物，基本上可作為實質上不含溶劑的無溶劑型接著劑來使用，惟因各種塗覆方式係有各別之最適黏度範圍，故亦可為了調整黏度而含有溶劑。溶劑較佳為不使偏光膜的光學性能降低且能良好地溶解以環氧化合物為首之各種成分之有機溶劑，例如可使 用以甲苯為代表之烴類、以乙酸乙酯為代表之酯類等。
藉由照射活性能量射線使接著劑組成物進行硬化時，活性能量射線可使用前述各種者，惟就容易處理且亦容易調控照射光量等之觀點而言，較佳為使用紫外線。活性能量射線(例如紫外線)的照射強度和照射量，係在不對偏光膜的以偏光度為首之各種光學性能及保護膜之以透明性和相位差特性為首之各種光學性能造成影響之範圍內，以能保持適當的生產性之方式適宜地決定。
藉由熱進行接著劑組成物的硬化時，可依據一般已知的方法加熱。通常係以硬化性接著劑組成物中所調配的熱陽離子聚合起始劑會產生陽離子物種和路易斯酸的溫度以上的溫度進行加熱，具體的加熱溫度係例如50至200℃左右。
[偏光膜14與光學膜11之積層]
較佳為經由第1黏著劑層12而將偏光膜14與光學膜11予以直接積層。經由黏著劑層而將偏光膜14與光學膜11予以積層，藉此可緩和在進行耐熱試驗時因光學膜11的各向異性的(aeolotropic)尺寸變化而對偏光膜造成的應力。
[第1黏著劑層12]
偏光膜14與光學膜11的積層所使用之第1黏著劑層12，只要是光學透明性優異、潤濕性適當、且包括凝集性、接著性等之黏著特性優異者即可，較佳為更進一步於耐久性等優異者。具體而言，形成第1黏著劑層12之黏著劑， 較佳為含有丙烯酸系樹脂之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。
丙烯酸系黏著劑所含有之丙烯酸系樹脂為以如丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異辛酯及丙烯酸酸2-乙基己酯等丙烯酸烷酯為主要單體的樹脂。於該丙烯酸系樹脂中通常共聚有極性單體。極性單體係具有聚合性不飽和鍵及極性官能基之化合物，其中，聚合性不飽和鍵一般係源自(甲基)丙烯醯基者，而且極性官能基可為羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等。若要列舉極性單體之具體例，則有(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸2-N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
而且，於丙烯酸系黏著劑中，通常交聯劑係與丙烯酸系樹脂一起調配。
交聯劑的代表例可列舉於分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)之異氰酸酯化合物。
黏著劑中亦可更進一步調配各種添加劑。合適的添加劑可列舉矽烷偶合劑和抗靜電劑等。矽烷偶合劑係有效於提高與玻璃的接著力。抗靜電劑係有效於減低或防止靜電產生。
第1黏著劑層12可藉由下述方法形成：調製於有機溶劑中溶解有上述黏著劑成分所成之黏著劑組成物，將該黏著劑組成物直接塗佈於接著的任一貼合面(偏光膜或光學膜)，並乾燥除去溶劑之方法；或是，在經施行脫模處理的包含樹脂膜的基材膜之脫模處理面塗佈上述黏著 劑組成物，乾燥除去溶劑而製成黏著劑層，並將該黏著劑層貼附於任一貼合面(偏光膜或光學膜)，轉印黏著劑之方法。藉由前者之直接塗覆法形成第1黏著劑層12時，慣例上，係於其表面貼合經施行脫模處理之樹脂膜(亦被稱為分隔件(separator))，暫時保護黏著劑層表面直到使用時為止。從屬於有機溶劑溶液之黏著劑組成物的處理性之觀點等來看，多採用後者之轉印法，此時，在最初之第1黏著劑層的形成所使用的經脫模處理之基材膜，就貼附於偏光板後能直接作為分隔件之特點而言，亦為適宜。
於耐熱試驗中，為了在耐熱試驗時確保充分的密著性和尺寸安定性並抑制偏光度降低，黏著劑於80℃之儲藏彈性模數係以5MPa以下為較佳，又以1MPa以下為更佳。
在藉由接著劑和黏著劑進行積層之前，若預先對所貼合的偏光膜面及經延伸的光學膜面和黏著劑面進行電暈處理和電漿處理等，則亦屬有用。
[第2黏著劑層16]
黏著劑層16可作為用以將偏光板10貼合於液晶單元之黏著劑層來使用。
在保護膜15之與偏光膜14的貼合面為相反側之面所形成的第2黏著劑層16，只要是光學透明性優異、潤濕性適當、且包括凝集性、接著性等之黏著特性優異者即可，較佳為使用更進一步於耐久性等優異者。具體而言，形成第2黏著劑層16之黏著劑，較佳為使用含有丙烯酸系樹脂 之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。具體而言，亦可使用與前述第1黏著劑12相同者。
第2黏著劑層16與第1黏著劑層12同樣地可含有各種添加劑。其中較佳為第2黏著劑層16含有抗靜電劑。一般而言，在經由黏著劑層將偏光板貼於液晶單元時，係將至今覆蓋著黏著劑層而進行暫時保護之表面保護膜(分隔件)剝離，然後再貼合於液晶單元，但在將該表面保護膜剝離時會產生靜電而使液晶單元內的液晶產生定向不良，此現象有導致液晶顯示裝置顯示不良之情形。關於用以減低或防止此種靜電產生之手段，於黏著劑中調配抗靜電劑係屬有效。
在將保護膜15與第2黏著劑層16貼合時，於將保護膜15與第2黏著劑層16貼合之面，分別進行電暈處理、電漿處理等係亦屬有用。
[偏光板的製造方法]
製造本發明之偏光板的方法並無特別限制，例如可將由偏光膜14及保護膜15所積層而成之偏光板、與由光學膜11及第1黏著劑層12所積層而成之附黏著劑的光學膜，經由第1黏著劑層12並以輥對輥(roll-to-roll)之方式貼合，而得到偏光板10。藉由更進一步於保護膜15上形成第2黏著劑層16，而得到附黏著劑之偏光板。附黏著劑之偏光板可經由第2黏著劑層16而貼合於液晶單元。
[液晶單元]
液晶單元具有2片單元基板、與夾持於該兩片基板之 間的液晶層。單元基板，一般多以玻璃構成，但亦可為塑膠基板。此外，本發明之液晶面板所使用之液晶單元本身，可由此領域所採用之各種物質所構成。
[液晶面板]
經由第2黏著劑層16而將偏光板10貼合於液晶單元，藉此可製作液晶面板。通常來說，偏光板是貼合於液晶單元的兩面，惟本發明之偏光板可適合使用於液晶顯示裝置的視認側。
(實施例)
以下係列示實施例以進一步具體說明本發明，惟本發明不受此等例所限定。例中表示含量或使用量之份及%，若無特別載明，即為重量基準。又，以下之例中之各項物性的測定，係以下述方法進行。
(1)厚度的測定：
使用Nikon股份有限公司製之數位式測微器“MH-15M”測定。
(2)面內相位差值及厚度方向的相位差值之測定：
使用王子計測機器股份有限公司製之原理為平行偏光鏡(parallel nicols)旋轉法的相位差計“KOBRA(註冊商標)-WPR”，測定在23℃的溫度時於預定的波長中之面內相位差值及厚度方向的相位差值。
(3)偏光板的偏光度及單體穿透率之測定：
使用附積分球的分光光度計〔日本分光股份有限公司 製之「V7100」、2度視野；C光源〕測定。
(4)膜之尺寸變化率之測定方法
膜之在85℃之環境下靜置100小時後的相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸變化率D1及相對於偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸變化率D2，係使用Nikon股份有限公司製之二維測定器“NEXIV VMR-12072”，以下述方式測定。首先，裁切光學膜，使其成為在相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向為100mm、在呈135°之方向為100mm之大小。將所裁切的光學膜於溫度23℃濕度55%的環境下靜置1日，測定相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸(L0(45))及相對於偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸(L0(135))。其次，於85℃之環境下靜置100小時後，測定於高溫環境下靜置後之相對於偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸(L1(45))及相對於偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸(L1(135))。依其結果，由式(3)及(4)求出尺寸變化率D1(%)、D2(%)。
尺寸變化率D1=[(L0(45)-L1(45))/L0(45)]×100 (3)
尺寸變化率D2=[(L0(135)-L1(135))/L0(135)]×100 (4)
(儲藏彈性模數之測定方法)
黏著劑的儲藏彈性模數(G’)，係製作由測定對象之黏著劑所成的直徑8mm×厚度1mm之圓柱狀試驗片，使用動態黏彈性測定裝置(Dynamic Analyzer RDA II：REOMETRIC股份有限公司製)，依據頻率1Hz的扭剪法而設定初期歪曲為1N，於溫度80℃之條件下進行測定。
[製造例1]偏光膜的製作
將厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行一軸延伸至約4倍，再於保持緊繃的狀態下，於40℃的純水中浸漬40秒，並於碘/碘化鉀/水之重量比為0.052/5.7/100的水溶液中於28℃浸漬30秒，以進行染色處理。之後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100的水溶液中於70℃浸漬120秒。繼而，以8℃純水洗淨15秒後，於保持300N之張力的狀態下，以60℃乾燥50秒，其次以75℃乾燥20秒，得到於聚乙烯醇膜吸附定向有碘之厚度7μm的偏光膜。
[製造例2]水系接著劑的製作
相對於水100重量份，溶解經羧基改性之聚乙烯醇〔由kuraray股份有限公司取得之商品名「KL-318」〕3重量份，在該水溶液中添加屬於水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑〔由田岡化學工業股份有限公司取得之商品名「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)」、固形分濃度30重量%之水溶液〕1.5重量份，調製水系接著劑。
[黏著劑]
準備以下之黏著劑A至E。
黏著劑A：厚度25μm的薄片狀黏著劑〔lintec股份有限公司製之「P-3132」〕
黏著劑B：厚度15μm的薄片狀黏著劑〔lintec股份有限公司製之「P-0082」，於80℃之儲藏彈性模數為0.04MPa〕
黏著劑C：厚度5μm的薄片狀黏著劑〔lintec股份有限公司製之「NCF # L2」，於80℃之儲藏彈性模數為0.2MPa〕
黏著劑D：厚度25μm的薄片狀黏著劑〔lintec股份有限公司製之「NCF # E4」，於80℃之儲藏彈性模數為0.8MPa〕
黏著劑E：厚度25μm的薄片狀黏著劑〔將lintec股份有限公司製之「# E5」加工為薄片狀黏著劑者，於80℃之儲藏彈性模數為1.3MPa〕
[保護膜]
準備以下之保護膜。
保護膜：日本zeon股份有限公司製之環狀聚烯烴系樹脂膜：ZF14-013(厚度13μm，於波長590nm的面內相位差值=0.5nm，於波長590nm的厚度方向相位差=3.3nm)
[光學膜]
準備以下之光學膜。
光學膜：konicaminolta股份有限公司製之三乙酸纖維素膜；KC4UGR-HC(厚度44μm，於波長590nm的面內相位差值=106nm，於波長590nm的厚度方向相位差值=75nm，Rth(590)/Re(590)=0.71、Re(450)/Re(550)=0.96、Re(630)/Re(550)=1.02、尺寸變化率D1=0.08%、尺寸變化率D2=0.26%、| D2 |/| D1 |=3.25)
[實施例1]
於保護膜之一面進行電暈處理，於光學膜進行皂化處理。將保護膜之電暈處理面與偏光膜以水系接著劑進行接 著，得到單面附保護膜之偏光板。其次，於光學膜的一面積層黏著劑B，得到附黏著劑的光學膜。以使偏光板的吸收軸與光學膜的慢軸呈45°之方式，將所得之單面附保護膜之偏光板的偏光膜面側、與附黏著劑的光學膜之黏著劑面予以貼合，得到偏光板。再者，於所得之偏光板的保護膜側積層黏著劑A，得到附黏著劑之偏光板。偏光板的偏光度為99.993%。
將以此方式製作的偏光板裁切出40mm見方，並貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將耐熱評估用試樣投入至105℃的烘箱中30分鐘。耐熱試驗後之偏光度為99.975%。
[實施例2]
於保護膜之一面進行電暈處理，於光學膜進行皂化處理。將保護膜之電暈處理面與偏光膜以水系接著劑進行接著，得到單面附保護膜之偏光板。其次，於光學膜的一面積層黏著劑C，得到附黏著劑的光學膜。以使偏光板的吸收軸與光學膜的慢軸呈45°之方式，將所得之單面附保護膜之偏光板的偏光膜面側、與附黏著劑的光學膜之黏著劑面予以貼合，得到偏光板。再者，於所得之偏光板的保護膜側積層黏著劑A，得到附黏著劑之偏光板。偏光板的偏光度為99.997%。
將以此方式製作的偏光板裁切出40mm見方，並貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將耐熱評估用試樣投入至105℃的烘箱中30分 鐘。耐熱試驗後之偏光度為99.974%。
[實施例3]
於保護膜之一面進行電暈處理，於光學膜進行皂化處理。將保護膜之電暈處理面與偏光膜以水系接著劑進行接著，得到單面附保護膜之偏光板。其次，於光學膜的一面積層黏著劑D，得到附黏著劑的光學膜。以使偏光板的吸收軸與光學膜的慢軸呈45°之方式，將所得之單面附保護膜之偏光板的偏光膜面側、與附黏著劑的光學膜之黏著劑面予以貼合，得到偏光板。此外，於所得之偏光板的保護膜側積層黏著劑A，得到附黏著劑之偏光板。偏光板的偏光度為99.996%。
將以此方式製作的偏光板裁切出40mm見方，並貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將耐熱評估用試樣投入至105℃的烘箱中30分鐘。耐熱試驗後之偏光度為99.975%。
[實施例4]
於保護膜之一面進行電暈處理，於光學膜進行皂化處理。將保護膜之電暈處理面與偏光膜以水系接著劑進行接著，得到單面附保護膜之偏光板。其次，於光學膜的一面積層黏著劑E，得到附黏著劑的光學膜。以使偏光板的吸收軸與光學膜的慢軸呈45°之方式，將所得之單面附保護膜之偏光板的偏光膜面側、與附黏著劑的光學膜之黏著劑面予以貼合，得到偏光板。再者，於所得之偏光板的保護膜側積層黏著劑A，得到附黏著劑之偏光板。偏光板的偏 光度為99.994%。
將以此方式製作的偏光板裁切出40mm見方，並貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將耐熱評估用試樣投入至105℃的烘箱中30分鐘。耐熱試驗後之偏光度為99.973%。
[比較例1]
於保護膜之一面進行電暈處理，於光學膜進行皂化處理。將保護膜之電暈處理面、偏光膜、光學膜依序以水系接著劑進行接著，得到偏光板。使所得之偏光板的吸收軸與光學膜的慢軸呈45°。再者，於所得之偏光板的保護膜B側積層黏著劑A，得到附黏著劑之偏光板。偏光板的偏光度為99.995%。
將以此方式製作的偏光板裁切出40mm見方，並貼合於Corning公司製之EAGLE XG，製作耐熱評估用試樣。將耐熱評估用試樣投入至105℃的烘箱中30分鐘。耐熱試驗後之偏光度為99.962%。
將以上的結果彙整於表1。
Figure 105137617-A0202-12-0037-3
(產業上之可利用性)
依據本發明，可提供一種偏光板，其係於耐熱試驗時，可抑制因光學膜之尺寸變化所引起的偏光膜的吸收軸偏移造成的偏光度降低。
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧光學膜
12‧‧‧第1黏著劑層
14‧‧‧偏光膜
15‧‧‧保護膜
16‧‧‧第2黏著劑層
20‧‧‧表面處理層

Claims (5)

  1. 一種偏光板，係依序包含相位差膜、第1黏著劑層、偏光膜及第2黏著劑層；其中，由前述偏光膜的吸收軸與前述相位差膜的慢軸所成的角度為約45°或為約135°；前述第1黏著劑層所使用的黏著劑於80℃之儲藏彈性模數為5MPa以下，關於前述相位差膜，當其在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈45°之方向的尺寸變化率是設為D1，並且其在85℃之環境下靜置100小時後的相對於前述偏光膜的吸收軸而呈135°之方向的尺寸變化率是設為D2時，係滿足下述式(1)及式(2)：｜D1｜>｜D2｜時，2<｜D1｜/｜D2｜ (1) ｜D1｜<｜D2｜時，2<｜D2｜/｜D1｜ (2)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述相位差膜包含由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂所成之群選出的至少一種。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中，前述偏光膜的厚度為15μm以下。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中，於前述偏光膜與前述第2黏著劑層之間，更具有保護膜。
  5. 一種液晶面板，其係於液晶單元的至少一面經由前述 第2黏著劑層而積層有申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之偏光板。
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