TWI726334B - 噴射真空泵及密封閥單元 - Google Patents

Abstract

在真空產生機構(50)與破壞流路(48)之間設置有密封閥機構(70)之噴射真空泵(10B)中，密封閥機構(70)係具備從破壞流路(48)側往密封口(65)被彈推而堵塞密封口(65)的閥體(76)，並且構成為藉由以供給至真空產生機構(50)之供給空氣而動作的活塞部(66)來使該閥體(76)從密封口(65)離開而開啟。

Description

噴射真空泵及密封閥單元

本發明係關於一種將負壓供給至吸附用襯墊等之作業機器的噴射真空泵及密封閥單元。

至今為止，例如已知有一種用以作為工件之搬運手段的噴射真空泵。該噴射真空泵係將壓縮空氣流至擴散器(亦稱為噴射部或真空產生機構)而使負壓產生以吸附工件。並且，在保持吸附狀態之下使工件位移。之後，藉由解除吸附狀態使工件脫離預定位置以進行工件之搬運等。

以往的噴射真空泵中，亦有一種為了確實地進行工件之脫離，而具有將破壞空氣(壓縮空氣)送入負壓流路之功能的噴射真空泵。

又，日本特開平8-68400號公報中，已記載有在負壓流路與擴散器之間設置密封閥，藉此在解除吸附狀態時可確實地進行負壓破壞。

另外，依用途，會有為了拆除已貼合於吸附墊的工件，為了除去附著於工件的塵埃或異物等而要求更高壓的破壞空氣之情況。

如此的情況下，就將負壓流路與使負壓產生的噴射部(真空產生機構)之間封閉以使破壞空氣不流出至真空產生機構側的密封閥而言，以即便對於更高壓的破壞空氣仍能確實地動作的構造為較佳。

又，依用途，會有不希望工件被噴吹高壓的破壞空氣而對破壞空氣沒有較高壓力需求之情況。此情況下，以不需要成本較高的密封閥而為儘量簡單的裝置構成為較佳。因此，較佳是能依需要而將密封閥從噴射真空泵拆除。

下述揭示之一觀點的噴射真空泵係具備：供給埠口，係接受壓縮空氣的供給；真空埠口，係連接於吸附手段；真空產生機構，係在從前述供給埠口所供給的供給空氣之作用下，使負壓產生；破壞閥，係將破壞空氣供給至前述真空埠口；供給流路，係連接前述供給埠口與前述真空產生機構，並且在流路中具備有供給閥；負壓流路，係連接前述真空產生機構與前述真空埠口；破壞流路，係連接前述破壞閥與前述負壓流路；以及密封閥機構，係配置於前述真空產生機構與前述破壞流路之間的前述負壓流路，且阻止通過前述破壞流路而供給至前述真空埠口的破壞空氣往前述真空產生機構流出；前述密封閥機構係藉由來自前述供給閥的供給空氣之供給而成為開狀態，且在來自前述供給閥的供給空氣之供給停止時成為閉狀態。

依據上述噴射真空泵，就不需要使密封閥機構呈閉狀態之供給空氣(或破壞空氣)之作用。因此，即便是破壞空氣之破壞壓力高的情況下，仍可持續維持閉狀態。亦即，即便是將較高壓的破壞空氣供給至負壓流路的情況下，密封閥機構仍能維持於閉狀態，故可確實地密封負壓流路。

上述觀點之噴射真空泵中，前述密封閥機構亦可具備：密封口，係將前述負壓流路縮徑而形成；閥體，係從前述破壞流路側往前述密封口被彈推 而堵塞前述密封口；以及活塞部，係接受前述供給空氣之壓力，使前述閥體朝向從前述密封口離開的方向位移。

上述噴射真空泵中，密封閥機構之閥體係構成為從破壞流路側往密封口被彈推而堵塞密封口。因此，即便是破壞流路側之破壞壓力變高的情況下，閥體仍不會開啟而可確實地密封負壓流路。

上述觀點之噴射真空泵中，亦可構成為前述活塞部之前端部形成有直徑比前述密封口更小的縮徑部，該縮徑部係抵接並按壓前述閥體而使前述閥體從前述密封口離開。

藉由如上述地構成，活塞部之前端部可通過密封口來按壓閥體而使密封口開口。因活塞部之前端部成為直徑比密封口更小的縮徑部，故即便活塞部按壓閥體，密封口仍不會藉由活塞部而閉塞。

上述觀點之噴射真空泵中，前述密封閥機構亦可具備：第一彈性構件，係將前述閥體往前述密封口彈推；以及第二彈性構件，係將前述活塞部朝向從前述閥體離開的方向彈推。

藉由如上述地構成，即便是已停止供給空氣之供給時，由於構成密封閥機構的閥體往密封口被彈推，故仍可確實地呈閉狀態。

下述揭示的另一觀點中，密封閥單元係裝卸自如地安裝於噴射真空泵，該噴射真空泵係具備：供給埠口，係接受壓縮空氣的供給；真空埠口，係連接於吸附手段；真空產生機構，係在從前述供給埠口所供給的供給空氣之作用下，使負壓產生；破壞閥，係將破壞空氣供給至前述真空埠口；供給流路，係連接前述供給埠口與前述真空產生機構，並且在流路中具備有供給閥；負壓流路，係連接前述真空產生機構與前述真空埠口；以及破壞流路，係連接前述破壞閥與 前述負壓流路；前述密封閥單元係具備：密封閥機構，係配置於前述真空產生機構與前述破壞流路之間的前述負壓流路，且阻止通過前述破壞流路而供給至前述真空埠口的破壞空氣往前述真空產生機構流出。

依據上述密封閥單元，因構成為對噴射真空泵裝卸自如，故只要在需要高壓之破壞空氣的情況下，將密封閥單元安裝於噴射真空泵，就可構成具有密封閥的噴射真空泵。

上述觀點之密封閥單元中，前述密封閥機構係具備：密封口，係將前述負壓流路縮徑而形成；閥體，係從前述破壞流路側往前述密封口被彈推而堵塞前述密封口；以及活塞部，係接受前述供給空氣之壓力，使前述閥體朝向從前述密封口離開的方向位移。

依據上述密封閥單元，密封閥機構之閥體係構成為從破壞流路側往密封口被彈推而堵塞密封口。因此，即便是破壞空氣通過破壞流路側導入至負壓流路使得負壓流路之破壞壓力變高的情況下，閥體仍不會開啟而可確實地密封負壓流路。

上述觀點之密封閥單元中，亦可構成為前述活塞部之前端部形成有直徑比前述密封口更小的縮徑部，該縮徑部係抵接並按壓前述閥體而使前述閥體從前述密封口離開。

藉由如上述地構成，活塞部之前端部可通過密封口來按壓閥體而使密封口開口。因活塞部之前端部成為直徑比密封口更小的縮徑部，故即便活塞部按壓閥體，密封口仍不會藉由活塞部而閉塞。

上述觀點之密封閥單元中，前述密封閥機構亦可具備：第一彈性構件，係將前述閥體往前述密封口彈推；以及第二彈性構件，係將前述活塞部朝向從前述閥體離開的方向彈推。

藉由如上述地構成，即便是已停止供給空氣之供給時，由於構成密封閥機構之閥體往密封口被彈推，故仍可確實地呈閉狀態。

上述觀點之密封閥單元中，亦可更設有前述真空埠口與前述負壓流路。

藉由如上述地構成，可縮短密封閥單元及噴射真空泵之負壓流路而簡化裝置構成。

依據上述一觀點，噴射真空泵中，可實現即便是高壓之破壞空氣仍能確實地動作的密封閥。又，依據另一觀點，因可構成為密封閥裝卸自如的密封閥單元，故只要裝卸密封閥單元，就可按照用途靈活地改變噴射真空泵之裝置構成。

依據伴隨所附之圖式進行之以下較佳實施形態例的說明，應可更加明白上述目的、特徵及優點。

10、10A、10B、80A、80B‧‧‧噴射真空泵

12、66b、82‧‧‧本體

12a‧‧‧連接部

14‧‧‧閥單元

16‧‧‧流路單元

18、84‧‧‧噴射器單元

19‧‧‧壓力感測器

19a‧‧‧感測器用流路

20‧‧‧安裝單元

20B、88‧‧‧密封閥單元

21‧‧‧框部

21a‧‧‧連接面

22‧‧‧突出部

23a、23c‧‧‧過濾器收容部

23b、88b‧‧‧貫通孔

23B、88a‧‧‧殼體

24‧‧‧卡合部

26‧‧‧突部

28‧‧‧鎖定片

30‧‧‧卡合接受部

32、42a1、42b1‧‧‧凹部

34‧‧‧供給埠口

36‧‧‧排氣埠口

36A‧‧‧排氣部

38‧‧‧真空埠口

41‧‧‧電磁閥單元

42‧‧‧閥機構

42a、98‧‧‧供給閥

42b、96‧‧‧破壞閥

42c‧‧‧彈簧

44、128‧‧‧供給流路

44a、103‧‧‧供給空氣導入部

46‧‧‧導入空氣流路

48、48b、48c、48d‧‧‧破壞流路

50、50A‧‧‧真空產生機構

52、114‧‧‧噴嘴

52a、54a‧‧‧間隙

53、53a‧‧‧密封閥用流路

54‧‧‧第一擴散器

56‧‧‧第二擴散器

58、60‧‧‧連接口

60a‧‧‧止回閥

61‧‧‧負壓流路

61a‧‧‧第一負壓流路

61b‧‧‧第二負壓流路

62、83、126‧‧‧負壓流路

62a‧‧‧第一流路

62b‧‧‧第二流路

65、127‧‧‧密封口

66‧‧‧活塞部

66a‧‧‧受壓部

66c‧‧‧縮徑部

68‧‧‧受壓室

69、117‧‧‧端蓋

70‧‧‧密封閥機構

71、119‧‧‧限制銷

72‧‧‧第二彈性構件

73‧‧‧支撐構件

73a、122a‧‧‧導孔

73b‧‧‧開口部

74‧‧‧第一彈性構件

75‧‧‧密封構件

76‧‧‧閥體

76a‧‧‧閥部

76b‧‧‧軸部

78‧‧‧吸濾器

78a‧‧‧埠口構件

78b‧‧‧內部

79‧‧‧破壞流量調整針

79a‧‧‧尖端部

82a、82c、82d‧‧‧側面

82b‧‧‧正面

84b‧‧‧側端部

86、116‧‧‧頭蓋

92‧‧‧破壞用電磁閥

94‧‧‧供給用電磁閥

96a、98a‧‧‧引導流路

102、110、122‧‧‧罩

104‧‧‧消音器

104a‧‧‧排氣連接口

105‧‧‧抽吸室

106‧‧‧第一連接口

108‧‧‧第二連接口

115‧‧‧擴散器

112‧‧‧排氣室

130‧‧‧排氣流路

第1圖係以分離之狀態顯示本發明之第一實施形態的噴射真空泵及安裝單元的側視圖。

第2圖係第1圖之噴射真空泵及安裝單元的立體圖。

第3圖係顯示將過濾器單元作為安裝單元來安裝於第1圖之噴射真空泵之狀態的剖視圖。

第4圖係顯示將密封閥單元作為安裝單元來安裝於第1圖之噴射真空泵之狀態的剖視圖。

第5圖係安裝有第4圖之密封閥單元的噴射真空泵之空氣迴路圖。

第6圖係本發明之第二實施形態的噴射真空泵之立體圖。

第7圖係顯示於第6圖之噴射真空泵安裝有密封閥單元之狀態的立體圖。

第8圖係第6圖之噴射真空泵的剖視圖。

第9圖係第7圖之噴射真空泵的剖視圖。

第10圖係第7圖之噴射真空泵的空氣迴路圖。

以下，列舉本發明之較佳實施形態，參照所附圖式來加以詳細說明。再者，圖式之尺寸比率會有為了方便說明起見而有誇張表示成為與實際之比率不同的情況。

(第一實施形態)

如第1圖所示，本實施形態之噴射真空泵10係具備本體12、以及構成為對該本體12裝卸自如的安裝單元20。安裝單元20係設有與吸附墊等連接的真空埠口38。如後所述，此安裝單元20中係具有過濾器單元20A(參照第3圖)及密封閥單元20B(參照第4圖)。該過濾器單元20A係不具有密封閥機構70而僅內置有吸濾器78。該密封閥單元20B係同時內置有吸濾器78與密封閥機構70。 噴射真空泵10係依用途而安裝過濾器單元20A及密封閥單元20B之中之任一個作為安裝單元20來使用。

本體12係具備：閥單元14，係將真空埠口38之輸出切換成負壓或正壓；噴射器單元18，係使負壓產生；以及流路單元16，係連接閥單元14與噴射器單元18。流路單元16係設置有接受壓縮空氣供給的供給埠口34，從該供給埠口34流入的壓縮空氣係導引至閥單元14，且供給空氣(壓縮空氣)係經由閥單元14供給至噴射器單元18。

噴射器單元18係設有依據供給空氣之作用來使負壓產生的真空產生機構50(參照第3圖)。又，噴射器單元18係設有將已通過真空產生機構50的供給空氣予以排出的排氣埠口36。如第2圖所示，在噴射器單元18產生的負壓係經由設於本體12之下部的連接口58、60而供給至安裝單元20。安裝單元20係構成為通過內部之負壓流路來將負壓傳送至真空埠口38。

如第1圖及第2圖所示，安裝單元20係具備形成為長方體狀的框部21，該框部21之連接面21a係形成有朝向X1側突出的突出部22、卡合部24及突部26。又，本體12之連接部12a係設有：凹部32，係接受突出部22進入；卡合接受部30，係與卡合部24卡合；以及鎖定片28，係彈性變形而卡合於突部26以阻止安裝單元20之脫落。安裝單元20係在朝向第2圖之箭頭方向滑動的同時，使突出部22進入本體12之凹部32且使卡合部24卡合於本體12之卡合接受部30，而進行安裝。以下，針對噴射真空泵10A、10B之各部的構成加以說明。

如第3圖所示，噴射真空泵10A係將過濾器單元20A作為安裝單元20來安裝於本體12而構成。其中，本體12係具有閥單元14、流路單元16與噴射器單元18、以及電磁閥單元41。

閥單元14係具備：閥機構42，係具有供給閥42a與破壞閥42b；供給流路44；導入空氣流路46；以及破壞流路48。導入空氣流路46係連接流路單元16之供給埠口34以及供給閥42a與破壞閥42b的流路，且在流路單元16內分歧而連接至供給閥42a與破壞閥42b。供給閥42a係配置於導入空氣流路46與供給流路44之間。並且，破壞閥42b係配置於導入空氣流路46與破壞流路48之間。

電磁閥單元41係輸出驅動構成閥機構42之供給閥42a與破壞閥42b的引導空氣。供給閥42a與破壞閥42b係構成為在同一軸上相互地連動而動作的閥，藉由從電磁閥單元41供給的引導壓力而動作。供給閥42a係形成有能夠連通導入空氣流路46與供給流路44的凹部42a1。供給閥42a處於閉狀態時，凹部42a1係位移至不與導入空氣流路46連通的位置，使供給閥42a堵塞導入空氣流路46。另一方面，破壞閥42b係形成有能夠連通導入空氣流路46與破壞流路48的凹部42b1。破壞閥42b處於閉狀態時，凹部42b1係位移至不與導入空氣流路46連通的位置，使破壞閥42b堵塞導入空氣流路46。

將閥機構42之破壞閥42b向供給閥42a側彈推時，破壞閥42b係成為開位置使得破壞閥42b成為開狀態。此時，供給閥42a係推壓至閉位置使得供給閥42a成為閉位置。當停止破壞閥42b之彈推時，破壞閥42b係藉由彈簧42c而回到閉位置。此時，破壞閥42b及供給閥42a係成為閉狀態。又，將引導 空氣供給至供給閥42a時，供給閥42a係移動至開位置而成為開狀態。此時，破壞閥42b係藉由來自彈簧42c之彈推力而保持於閉位置。

流路單元16係具備供給埠口34、供給流路44、導入空氣流路46、破壞流路48及破壞流量調整針79。其中，從供給埠口34來看，係接受從未圖示的壓縮空氣供給手段供給壓縮空氣。供給埠口34係連接至導入空氣流路46。導入空氣流路46係在流路單元16內分歧，分歧後之一方係連接於供給閥42a，分歧後之另一方係連接於破壞閥42b。

供給流路44係一端連接於供給閥42a，另一端則連接於噴射器單元18之噴嘴52。在流路單元16內，供給流路44係朝向設有噴射器單元18之噴嘴52的端部延伸。破壞流路48係連接破壞閥42b與負壓流路61的流路，且在流路單元16內朝向負壓流路61屈曲而延伸。破壞流路48係貫通噴射器單元18，且連通至過濾器單元20A之負壓流路61。

破壞流量調整針79係安裝於破壞流路48之屈曲部分。此破壞流量調整針79係具有能夠插入破壞流路48的尖端部79a，可藉由調整該尖端部79a與破壞流路48之間隙來調整破壞空氣之流量。

噴射器單元18係具備真空產生機構50、排氣埠口36及連接口58、60。真空產生機構50係具備噴嘴52、第一擴散器54及第二擴散器56。噴嘴52之基端側係連接於供給空氣導入部44a。供給空氣導入部44a係構成供給流路44之一部分，將供給空氣導引至噴嘴52之入口。噴嘴52係在中途具有內徑縮小之部分的筒狀之構件，且其入口連接於供給空氣導入部44a。又，噴嘴52之排出側係依順序配置第一擴散器54及第二擴散器56。第一擴散器54及第二 擴散器56係長條的筒狀之構件。噴嘴52、第一擴散器54及第二擴散器56係隔著預定寬度之間隙而配置。排氣埠口36係設置於第二擴散器56之排出側。

噴嘴52與第一擴散器54之間的間隙52a係與連接口58連通，第一擴散器54與第二擴散器56之間隙54a係與連接口60連通。連接口60之端部係設置有止回閥60a。止回閥60a係對應於連接口60與負壓流路61(或負壓流路62(參照第4圖))之差壓而開閉。亦即，負壓流路61(或負壓流路62)側之負壓小於連接口60之負壓時，止回閥60a開啟。另一方面，負壓流路61(或負壓流路62)側之負壓成為比連接口60之負壓更大預定值以上時，堵塞連接口60之端部。

又，噴射器單元18係設有成為驅動後述之密封閥機構70的引導空氣之流路的密封閥用流路53。密封閥用流路53係一端連接於供給空氣導入部44a。密封閥用流路53係貫通噴射器單元18，另一端則在安裝單元20側之面開口。惟，安裝單元20為不具有密封閥的過濾器單元20A時，密封閥用流路53係被過濾器單元20A所堵塞。

過濾器單元20A係具備真空埠口38、吸濾器78、負壓流路61及破壞流路48c。負壓流路61係沿著過濾器單元20A之長邊方向延伸，並且在其內部分歧有第一負壓流路61a與第二負壓流路61b。第一負壓流路61a係連接於噴射器單元18之連接口58，第二負壓流路61b係連接於連接口60。又，第一負壓流路61a係連接有朝向壓力感測器19延伸的感測器用流路19a。過濾器單元20A內之破壞流路48c係一端連接於噴射器單元18之破壞流路48b，且另一端與負壓流路61連通。

負壓流路61與真空埠口38之間係設有過濾器收容部23a，該過濾器收容部23a內配置有吸濾器78。吸濾器78係形成為筒狀的過濾器，其一端 部連接於負壓流路61側，另一端部由埠口構件78a所封閉。埠口構件78a係兼作為真空埠口38用之接合體與吸濾器78之安裝部。吸濾器78之內部78b係與負壓流路61連通。又，吸濾器78與過濾器收容部23a間之間隙係與真空埠口38連通。吸濾器78係除去空氣中之異物以預防噴射真空泵10A之誤動作、功能之降低等。

如上述地構成的噴射真空泵10A係作用如下。噴射真空泵10A中，使閥單元14之供給閥42a呈開狀態且使破壞閥42b呈閉狀態。從供給埠口34所供給的壓縮空氣係通過供給閥42a經由供給流路44，將供給空氣供給至噴射器單元18之真空產生機構50。供給空氣係依順序通過噴嘴52、第一擴散器54及第二擴散器56並從排氣埠口36排出。此時，從間隙52a、54a抽吸空氣來使負壓產生。

此時，在負壓較低的期間，設於連接口60的止回閥60a係朝放流方向開啟，使得連接口58、60之雙方流有負壓，但負壓變高時，止回閥60a係成為圖示之閉合狀態，而成為只有經由連接口58之在間隙52a產生的負壓流，而可產生高真空壓。

如此在真空產生機構50產生的負壓係經由連接口58、60傳送至負壓流路61，經由吸濾器78傳送至真空埠口38側。藉此，使連接於真空埠口38之吸附墊等的機器產生吸附力。

又，將閥單元14之破壞閥42b從閉狀態切換至開狀態時，供給閥42a係從開狀態切換至閉狀態，停止供給空氣對供給流路44之供給。另一方面，從供給埠口34所供給的壓縮空氣係通過破壞閥42b作為破壞空氣經過破壞流路48而流入負壓流路61。藉此，負壓流路61之壓力變高，破壞空氣之一部分係經 過吸濾器78而流入真空埠口38。並且，破壞空氣之一部分係經由連接口58、60及真空產生機構50從排氣埠口36排出。由於破壞空氣流至真空埠口38，使得連接於真空埠口38的機器之真空被破壞而解除吸附。

其次，針對安裝有密封閥單元20B作為安裝單元20的噴射真空泵10B加以說明。如第4圖所示，噴射真空泵10B中係安裝有密封閥單元20B。

密封閥單元20B係具備殼體23B而成，其內部具備真空埠口38、破壞流路48d、負壓流路62、密封閥機構70及吸濾器78。

殼體23B係設有沿長邊方向貫通的貫通孔23b。真空埠口38係安裝於該貫通孔23b之X2側的端部。鄰接於真空埠口38之部分的貫通孔23b係設有過濾器收容部23c，該過濾器收容部23c配置有吸濾器78。吸濾器78係形成為筒狀，其一端部連接保持於埠口構件78a。吸濾器78之一端部係由埠口構件78a所封閉。吸濾器78之另一端部係連接保持於支撐構件73。支撐構件73係設於過濾器收容部23c與負壓流路62之交界，形成有連通吸濾器78之內部與負壓流路62的開口部73b。藉此，吸濾器78之內周側與負壓流路62連通，外周側則與真空埠口38連通。又，在支撐構件73之基端側(X1側)中，收納並支撐後述閥體76的軸部76b之導孔73a係沿軸向(X方向)延伸。

負壓流路62係連接吸濾器78與噴射器單元18之連接口58、60的流路。負壓流路62係具備：第一流路62a，係沿殼體23B之長邊方向延伸；以及第二流路62b，係從該第一流路62a朝向噴射器單元18之連接口58、60分歧並延伸。第一流路62a係與吸濾器78之內側連通，並且與破壞流路48d連通。又，第一流路62a中係形成有內徑小於其他部分的密封口65。密封閥單元20B內之破壞流路48d的一端係連接於密封口65與吸濾器78之間的負壓流路62。 亦即，破壞流路48係連接於負壓流路62中以比密封口65更偏靠真空埠口38之部分。

又，第二流路62b係經過分歧部連接於噴射器單元18之連接口58、60。再者，第二流路62b係經由感測器用流路19a而連接有壓力感測器19。

密封閥機構70係具備：閥體76，係堵塞密封口65；以及活塞部66，係使閥體76從密封口65分離以開放密封口65。閥體76係配置於密封口65的吸濾器78側。

閥體76係具備：閥部76a，係形成為比設於第一流路62a之密封口65更大的直徑；以及軸部76b，係從該閥部76a之中心伸出。閥部76a之表面係安裝有密封構件75，閥部76a係藉由該密封構件75來堵塞密封口65。軸部76b係插入於支撐構件73之導孔73a。閥體76係藉由導孔73a導引而能夠沿箭頭X方向移動。又，閥體76之軸部76b的外側係安裝有由例如螺旋彈簧所構成的第一彈性構件74。第一彈性構件74之一端係抵接於支撐構件73，另一端係與閥體76之閥部76a抵接。閥體76係藉由第一彈性構件74而往密封口65被彈推側。

活塞部66係配置於受壓室68與負壓流路62之間。受壓室68係由端蓋69所封閉的部分。活塞部66係具備：受壓部66a，係鄰接於受壓室68；本體66b，係形成為比受壓部66a更細的直徑；以及縮徑部66c，係形成於本體66b之前端側(X2側)。受壓部66a係接受供給空氣之壓力使活塞部66朝向X2方向位移。縮徑部66c係形成為比密封口65之內徑更小的直徑，構成為不堵塞密封口65而能夠插通密封口65。又，本體66b之外周係安裝有第二彈性構件72。該第二彈性構件72係由例如螺旋彈簧所構成，將活塞部66朝向從密封口65離 開的方向(X1方向)彈推。端蓋69係設有沿軸向(X方向)延伸的限制銷71。活塞部66係能夠朝向X1方向移動直至抵接於該限制銷71為止。受壓室68係連接有從供給流路44分歧的密封閥用流路53、53a，而構成為能夠導入供給空氣。

參照第4圖及第5圖，針對如以上地構成的噴射真空泵10B之動作加以說明。噴射真空泵10B中，從供給埠口34所導入的壓縮空氣係經由導入空氣流路46供給至供給閥42a及破壞閥42b。供給閥42a藉由電磁閥單元41之引導壓力而成為開狀態時，供給空氣係供給至供給流路44。藉此，供給空氣係流至真空產生機構50而產生負壓。

供給空氣亦導入從供給流路44分歧的密封閥用流路53，如第4圖所示，供給空氣係流入受壓室68。結果，活塞部66係抵抗第二彈性構件72之彈推力而位移至密封口65側，使得活塞部66之縮徑部66c抵接於閥體76並按壓閥體76。結果，閥體76係朝向從密封口65離開的方向位移使密封口65開啟，使得真空產生機構50之負壓通過負壓流路62而傳送至真空埠口38。藉此，可使連接於真空埠口38的吸附墊等之機器產生吸附力。

另一方面，使供給閥42a呈閉狀態且使破壞閥42b呈開狀態時，供給空氣之供給係被切斷，使得受壓室68之壓力降低。藉此，活塞部66係藉由第二彈性構件72之彈推力而朝向從密封口65離開的方向位移。隨之，閥體76係受到第一彈性構件74之彈推，緊壓於密封口65而堵塞密封口65。亦即，第5圖中，密封閥機構70係成為閉狀態，堵塞從負壓流路62往真空產生機構50之流路。

結果，從破壞閥42b所供給的破壞空氣不會從真空產生機構50流出，而可全部供給至真空埠口38側。藉此，可將高壓且大流量的破壞空氣供給至真空埠口38。

如上所述，依據本實施形態，可配合用途從過濾器單元20A及密封閥單元20B來選擇作為安裝單元20，構成最佳的噴射真空泵10A、10B。

又，藉由將密封閥機構70構成為在供給空氣的引導壓力之下成為開狀態，而在供給空氣被切斷時成為閉狀態，就不需要為了將密封閥機構70保持於閉狀態之空氣供給。藉此，即便是在供給高壓之破壞空氣的情況下，仍可將密封閥機構70確實地保持於閉狀態。

又，密封閥機構70中，於真空產生機構50與破壞流路48之間的負壓流路62形成密封口65，密封閥機構70係由閥體76及活塞部66所構成，該閥體76係從破壞流路48側往密封口65被彈推以堵塞密封口65，該活塞部66係接受供給空氣之壓力使閥體76朝向從密封口65離開的方向位移。如此，閥體76可藉由破壞流路48之破壞壓力往密封口65被彈推以確實地將密封口65密封。因此，即便是破壞流路48側之破壞壓力變高的情況下，閥體76仍不會開啟，而可確實地密封負壓流路62。

又，密封閥機構70中構成為在活塞部66之前端部形成有直徑比密封口65更小的縮徑部66c，且以該縮徑部66c來按壓閥體76。如此，將活塞部66之縮徑部66c形成為比密封口65更小的直徑，可通過密封口65來按壓閥體76。

又，密封閥機構70中，設有：第一彈性構件74，係將閥體76往密封口65彈推；以及第二彈性構件72，係將活塞部66朝向從閥體76離開的方 向彈推。藉此，可藉由將構成密封閥機構70的閥體76往密封口65彈推，確實地使密封閥機構70呈閉狀態。

(第二實施形態)

如第6圖所示，第二實施形態之一態樣的噴射真空泵80A係在本體82之一側的側面82a設有供給埠口34及真空埠口38，並且在正面82b形成有排氣部36A。噴射器單元84係安裝於本體82之另一側的側面82c。該噴射器單元84係能夠裝卸地安裝於本體82。又，噴射器單元84之側端部84b係安裝有堵塞噴射器單元84之開口部的頭蓋86。此噴射真空泵80A係成為在本體82之內部設有閥及吸濾器但未包含密封閥機構70的構成。

如第7圖所示，藉由在本體82與噴射器單元84之間安裝密封閥單元88，就可構成具備有密封閥的噴射真空泵80B。噴射真空泵80B係藉由具備堵塞破壞流路與真空產生機構之間之流路的密封閥，就可使比噴射真空泵80A更高的破壞壓力產生。如此，即便是本實施形態，仍可藉由密封閥單元88之裝卸來構成配合用途之裝置構成的噴射真空泵80A、80B。以下，針對噴射真空泵80A、80B之詳細內容加以說明。

如第8圖所示，噴射真空泵80A之本體82係設有供給埠口34、真空埠口38、電磁閥92、94、破壞閥96、供給閥98、吸濾器78、負壓流路83及消音器104。供給埠口34係設於本體82之一側的側面82a。供給埠口34係經由導入空氣流路46而與破壞閥96及供給閥98連接。

破壞閥96係經由引導流路96a而連接於破壞用電磁閥92。破壞用電磁閥92係經由引導流路96a將引導空氣供給至破壞閥96。破壞閥96係在 受到從破壞用電磁閥92供給引導空氣時成為開狀態，且將破壞空氣輸出至連接於破壞閥96之出口的破壞流路48。

供給閥98係經由引導流路98a而連接於供給用電磁閥94。供給用電磁閥94係經由引導流路98a將引導空氣供給至供給閥98。供給閥98係在受到從供給用電磁閥94供給引導空氣時成為開狀態，且將供給空氣輸出至連接於供給閥98之出口的供給流路44。供給流路44之一端係朝向本體82之側面82c延伸並開口於側面82c。

吸濾器78係安裝於負壓流路83與破壞流路48之交界部分及負壓流路83與真空埠口38之交界部分。如此，破壞流路48係經由吸濾器78而連接於負壓流路83。

負壓流路83係朝向本體82之側面82c分歧。負壓流路93之分歧出的一方係成為開口於側面82c的第一連接口106，另一方係成為開口於側面82c的第二連接口108。再者，未具有密封閥的噴射真空泵80A中，第一連接口106係連接於噴射器單元84之抽吸室105，第二連接口108係藉由噴射器單元84所閉塞。

真空埠口38係經由吸濾器78而連接於負壓流路83。真空埠口38係分歧成雙叉路，其一方形成於本體82之側面82a，另一方形成於本體82之側面82d。再者，真空埠口38亦可不分歧。

消音器104係與開口於本體82之側面82c的排氣連接口104a連接。消音器104係設於本體82之正面82b所設的排氣部36A之內側，抑制從噴射器單元84所排出的供給空氣之排氣噪音而排氣至外部空氣。

噴射真空泵80A之噴射器單元84係具備供給空氣導入部103、噴嘴114、擴散器115、抽吸室105及排氣室112。供給空氣導入部103係設於噴射器單元84之上端側，且兩側部呈開口。供給空氣導入部103之本體82側的開口係與供給流路44連接。又，供給空氣導入部103之頭蓋86側的開口係藉由頭蓋86所封閉。又，供給空氣導入部103之上端部係藉由罩102所封閉。

噴嘴114係配置於供給空氣導入部103與抽吸室105之間。在噴嘴114之下游側係配置有擴散器115。擴散器115係形成為筒狀，其一端連通至抽吸室105，另一端連通至排氣室112。擴散器115係與噴嘴114隔著預定間隙所配置，構成為能夠從其間隙抽吸抽吸室105之空氣。如此，噴嘴114及擴散器115係構成本實施形態之真空產生機構50A。

排氣室112係設於擴散器115之下游側。排氣室112係在噴射器單元84之本體82側的面開口，且連通至排氣連接口104a。排氣室112之下端部係藉由罩110所封閉。

頭蓋86係安裝於噴射器單元84之側端部84b，並封閉供給空氣導入部103、抽吸室105及排氣室112之開口。再者，亦可將頭蓋86與噴射器單元84形成為一體。

如以上地構成的噴射真空泵80A係除了負壓流路83設於本體82側以外，其餘係與第一實施形態之噴射真空泵10A同樣，且同樣地動作。亦即，從破壞流路48供給的破壞空氣係供給至真空埠口38，並且其一部分亦流出至噴射器單元84。如此的噴射真空泵80A係因不具有密封閥機構70之部分而可簡化結構。

其次，針對安裝有密封閥單元88的噴射真空泵80B加以說明。如第9圖所示，噴射真空泵80B中，係在本體82與噴射器單元84之間安裝有密封閥單元88。

密封閥單元88係具備殼體88a而構成，其內部具有負壓流路126、密封閥機構70及排氣流路130。

殼體88a係設有沿長邊方向貫通的貫通孔88b。此貫通孔88b之一端係藉由端蓋117所封閉。端蓋117係突設有限制銷119。該限制銷119係抵接於密封閥機構70的活塞部66之受壓部66a，使活塞部66停止在離開端蓋117的位置。該活塞部66與端蓋117之間構成供給流路128。供給流路128之一端係與本體82之供給流路44連通，另一端係與噴射器單元84之供給空氣導入部103連通。

負壓流路126係藉由密封閥機構70之活塞部66而與供給流路128分隔。又，供給流路128係藉由罩122而與排氣流路130分隔。供給流路128係與噴射器單元84之抽吸室105連通，並與本體82之第二連接口108連通。亦即，本體82之負壓流路83係經由密封閥單元88之負壓流路126而連接於噴射器單元84之抽吸室105。再者，本體82之第一連接口106係藉由密封閥單元88之殼體88a所堵塞。

負壓流路126係形成有內徑比其他部分更小的密封口127。密封閥機構70係進行密封口127之開閉而控制負壓流路126之開通或密封。

密封閥機構70係具備：閥體76，係堵塞密封口127；以及活塞部66，係使閥體76從密封口127離開以開放密封口127。閥體76係配置於比密封口127更靠排氣流路130側。

閥體76係具備：閥部76a，係形成為比密封口127更大的直徑；以及軸部76b，係從該閥部76a之中心伸出。閥部76a之表面係安裝有密封構件(未圖示)，閥部76a係藉由該密封構件來堵塞密封口127。軸部76b係插入於罩122上所設的導孔122a。閥體76係藉由導孔122a導引而能夠沿活塞部66之軸向移動。又，閥體76之軸部76b的外側係安裝有由例如螺旋彈簧所構成的第一彈性構件74。第一彈性構件74之一端係抵接於罩122，另一端係與閥體76之閥部76a抵接。閥體76係藉由第一彈性構件74而往密封口127被彈推。

活塞部66係配置於以端蓋117所密封的供給流路128與負壓流路126之間。活塞部66係具備：受壓部66a，係面向供給流路128；本體66b，係形成為比受壓部66a更細的直徑；以及縮徑部66c，係形成於本體66b之前端側。受壓部66a係接受供給空氣之壓力使活塞部66位移至密封口127側。縮徑部66c係形成為比密封口127之內徑更小的直徑，構成為不堵塞密封口127而能夠插通密封口127。又，本體66b之外周係安裝有第二彈性構件72。該第二彈性構件72係由例如螺旋彈簧所構成，將活塞部66朝向從密封口127離開的方向彈推。端蓋117係設有沿軸向延伸的限制銷119。活塞部66之移動範圍係藉由限制銷119所限制。

排氣流路130係連通於噴射器單元84之排氣室112及本體82之消音器104。排氣流路130之下端係藉由頭蓋116所封閉。

參照第9圖及第10圖，針對如上述地構成的噴射真空泵80B之動作加以說明。噴射真空泵80B中，從供給埠口34所導入的壓縮空氣係經由導入空氣流路46供給至供給閥98及破壞閥96。供給閥98藉由供給用電磁閥94之引導壓力而成為開狀態時，供給空氣係經過供給流路44及供給流路128而供 給至噴射器單元84。藉此，供給空氣係流至真空產生機構50而抽吸抽吸室105內之空氣來使負壓產生。

如第9圖所示，供給空氣係作用於面對供給流路128的活塞部66之受壓部66a，將活塞部66按壓於密封口127側。藉此，活塞部66係抵抗第二彈性構件72之彈推力而位移至密封口127側，活塞部66之縮徑部66c係抵接於閥體76並按壓閥體76。結果，閥體76係從密封口127離開而使密封口127開啟，使得抽吸室105之負壓傳送至真空埠口38。藉此，可使連接於真空埠口38的吸附墊等之機器產生吸附力。

另一方面，使供給閥98呈閉狀態且使破壞閥96呈開狀態時，供給空氣之供給係被切斷，使得供給流路128之壓力降低。藉此，活塞部66係藉由第二彈性構件72之彈推力而朝向從密封口127離開的方向位移。隨之，閥體76係受到第一彈性構件74彈推，緊壓於密封口127而堵塞密封口127。亦即，第10圖中，密封閥機構70會成為閉狀態，堵塞負壓流路83與抽吸室105之間的流路。

結果，從破壞閥96所供給的破壞空氣不會從擴散器115流出，而全部流入真空埠口38側。藉此，可將高壓且大流量的破壞空氣供給至真空埠口38。

如上所述，即便是本實施形態之噴射真空泵80B中，仍能夠藉由安裝密封閥單元88，簡單地追加密封閥機構70。結果，可構成只要進行密封閥單元88之裝卸就可配合用途來輸出所期望之破壞壓力的噴射真空泵80A、80B。噴射真空泵80B之其他的構成亦與噴射真空泵10B為共通的構成而同樣地作用。

以上已針對本發明列舉較佳實施形態來加以說明，但本發明不限於前述實施形態，當然能夠在未脫離本發明之意旨的範圍內，進行各種的改變。

10B‧‧‧噴射真空泵

12、66b‧‧‧本體

14‧‧‧閥單元

16‧‧‧流路單元

18‧‧‧噴射器單元

19‧‧‧壓力感測器

19a‧‧‧感測器用流路

20B‧‧‧密封閥單元

23B‧‧‧殼體

23b‧‧‧貫通孔

23c‧‧‧過濾器收容部

34‧‧‧供給埠口

36‧‧‧排氣埠口

38‧‧‧真空埠口

41‧‧‧電磁閥單元

42‧‧‧閥機構

42a‧‧‧供給閥

42b‧‧‧破壞閥

42c‧‧‧彈簧

44‧‧‧供給流路

44a‧‧‧供給空氣導入部

46‧‧‧導入空氣流路

48、48d‧‧‧破壞流路

50‧‧‧真空產生機構

52‧‧‧噴嘴

53、53a‧‧‧密封閥用流路

54‧‧‧第一擴散器

56‧‧‧第二擴散器

58、60‧‧‧連接口

60a‧‧‧止回閥

62‧‧‧負壓流路

62a‧‧‧第一流路

62b‧‧‧第二流路

65‧‧‧密封口

66‧‧‧活塞部

66a‧‧‧受壓部

66c‧‧‧縮徑部

68‧‧‧受壓室

69‧‧‧端蓋

70‧‧‧密封閥機構

71‧‧‧限制銷

72‧‧‧第二彈性構件

73‧‧‧支撐構件

73a‧‧‧導孔

73b‧‧‧開口部

74‧‧‧第一彈性構件

75‧‧‧密封構件

76‧‧‧閥體

76a‧‧‧閥部

76b‧‧‧軸部

78‧‧‧吸濾器

78a‧‧‧埠口構件

79‧‧‧破壞流量調整針

Claims (7)

1. 一種噴射真空泵(10)，係具備：供給埠口(34)，係接受壓縮空氣的供給；真空埠口(38)，係連接於吸附手段；真空產生機構(50)，係在從前述供給埠口所供給的供給空氣之作用下，使負壓產生；破壞閥(42b)，係將破壞空氣供給至前述真空埠口；供給流路(44)，係連接前述供給埠口與前述真空產生機構，並且在流路中具備有供給閥(42a)；負壓流路(61)，係連接前述真空產生機構與前述真空埠口；破壞流路(48)，係連接前述破壞閥與前述負壓流路；以及密封閥機構(70)，係配置於前述真空產生機構與前述破壞流路之間的前述負壓流路，且阻止通過前述破壞流路而供給至前述真空埠口的破壞空氣往前述真空產生機構流出；前述密封閥機構係具備：密封口(65)，係將前述負壓流路縮徑而形成者；閥體(76)，係從前述破壞流路側往前述密封口被彈推而堵塞前述密封口；以及活塞部(66)，係接受前述供給空氣之壓力，使前述閥體朝向從前述密封口離開的方向位移；並且藉由來自前述供給閥的供給空氣之供給而成為開狀態，且在來自前述供給閥的供給空氣之供給停止時成為閉狀態。
2. 如申請專利範圍第1項所述之噴射真空泵，其中，前述活塞部之前端部係形成有直徑比前述密封口更小的縮徑部(66c)，該縮徑部係抵接並按壓前述閥體而使前述閥體從前述密封口離開。
3. 如申請專利範圍第2項所述之噴射真空泵，其中，前述密封閥機構係具備：第一彈性構件(74)，係將前述閥體往前述密封口彈推；以及第二彈性構件(72)，係將前述活塞部朝向從前述閥體離開的方向彈推。
4. 一種密封閥單元，係裝卸自如地安裝於噴射真空泵，該噴射真空泵係具備：供給埠口(34)，係接受壓縮空氣的供給；真空埠口(38)，係連接於吸附手段；真空產生機構(50)，係在從前述供給埠口所供給的供給空氣之作用下，使負壓產生；破壞閥(42b)，係將破壞空氣供給至前述真空埠口；供給流路(44)，係連接前述供給埠口與前述真空產生機構，並且在流路中具備有供給閥(42a)；負壓流路(61)，係連接前述真空產生機構與前述真空埠口；以及破壞流路(48)，係連接前述破壞閥與前述負壓流路；前述密封閥單元係具備：密封閥機構，係配置於前述真空產生機構與前述破壞流路之間的前述負壓流路，且阻止通過前述破壞流路而供給至前述真空埠口的破壞空氣往前述真空產生機構流出； 前述密封閥機構係具備：密封口(65)，係將前述負壓流路縮徑而形成者；閥體(76)，係從前述破壞流路側往前述密封口被彈推而堵塞前述密封口；以及活塞部(66)，係接受前述供給空氣之壓力，使前述閥體朝向從前述密封口離開的方向位移。
5. 如申請專利範圍第4項所述之密封閥單元，其中，前述活塞部之前端部係形成有直徑比前述密封口更小的縮徑部(66c)，該縮徑部係抵接並按壓前述閥體而使前述閥體從前述密封口離開。
6. 如申請專利範圍第5項所述之密封閥單元，其中，前述密封閥機構係具備：第一彈性構件(74)，係將前述閥體往前述密封口彈推；以及第二彈性構件(72)，係將前述活塞部朝向從前述閥體離開的方向彈推。
7. 如申請專利範圍第4項至第6項中任一項所述之密封閥單元，更設有前述真空埠口與前述負壓流路。

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