TWI723738B - 新型反應型苯并三唑紫外線吸收劑及其用途 - Google Patents

新型反應型苯并三唑紫外線吸收劑及其用途 Download PDF

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Abstract

本揭露關於一種新型反應型苯并三唑紫外線吸收劑及其用途。其中，苯并三唑紫外線吸收劑如下式(I)所示：
Figure 109101084-A0101-11-0001-1
 其中，A、R1、R2及X如說明書中所定義。

Description

新型反應型苯并三唑紫外線吸收劑及其用途
本揭露關於一種新型具紅位移的苯並三唑紫外線吸收劑及其用途，尤指一種具有優異的紫外線吸收能力的苯並三唑紫外線吸收劑、及包含其的組成物、眼鏡鏡片及保護貼。
紫外線吸收劑為一種光穩定劑，其能吸收陽光或螢光光源中的紫外線，進而保護添加有紫外線吸收劑的物質不受到紫外線的破壞，或者是，當含有紫外線吸收劑的塗層塗佈於基材上時，也能保護基材不受到紫外線的破壞。
目前，已知的紫外線吸收劑主要可分為苯並三唑類、水楊酸酯類、苯酮類、取代丙烯腈類和三嗪類。其中，苯並三唑紫外線吸收劑為一具有高穩定性的紫外線吸收劑，而可有效幫助包含有苯並三唑紫外線吸收劑的物質或基材對抗紫外線的破壞。
然而，市場上現有苯並三唑紫外線吸收劑仍有其吸收極限，約400nm。有鑑於此，目前仍需發展一種新穎的苯並三唑紫外線吸收劑，其吸收光譜可具有紅位移的效果，進而使苯並三唑紫外線吸收劑的應用領域更加廣泛。
本揭露之主要目的在於提供一種新穎化合物，其具有優異的紫外線吸收能力及抗萃取特性。
本揭露提供的化合物如下式(I)所示：
Figure 109101084-A0101-12-0002-5
其中，A為-S-或-SO2-；
R1為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；
R2為-R3Y、氫、C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C6至C15芳烷基；
R3為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；
X及Y各自獨立為-OH、-OCOR4、-NH2、-NCOR4、-NCO、
Figure 109101084-A0101-12-0002-11
、-CO2H、 -CO2R4、或
Figure 109101084-A0101-12-0002-9
；
R4為C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C3至C10的直鏈或支鏈烯基；
R5為C3至C10的亞環烯基；以及
R6為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基或1,2-亞苯基。
本揭露所提供的新穎化合物為一苯並三唑化合物，其可作為一紫外線吸收劑。其中，在式(I)中的苯並環上5號位置基團為含硫原子的基團，而在式(I)中的苯環上5號位置基團為含氧原子的基團；在此兩種基團的協同作用下，可使其吸收光譜具有紅位移的效果，而具有廣域的吸收範圍。特別是，本揭露所提供的新穎化合物其吸收範圍可延伸至450nm之後，並在280nm至340nm波段中保有已知現有技術的常規紫外線吸收劑的吸收波峰；藉此，可應用於抗藍光之材料，如鏡片、隱形眼鏡等產品，更可應用於航太及車輛所用的碳纖複合材料。此外，本揭露所提供的新穎化合物更藉由引入一反應性基團，可以與高分子單體或寡聚物進行共聚生成含有紫外線吸收劑的高分子材料，並且所得的高分子材料中的紫外線吸收劑有良好的抗萃取特性。
於本揭露中，A可為-S-或-SO2-。
於本揭露中，R1可為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的一實施例中，R1可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的另一實施例中，R1可為C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基。
於本揭露中，R2可為-R3Y、氫、C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C6至C15芳烷基。於本揭露的一實施例中，R2可為-R3Y、氫、C1至C6的直鏈或支鏈烷基、或芐基。於本揭露的另一實施例中，R2可為-R3Y、氫、C1至C4的直鏈或支鏈烷基、或芐基。
於本揭露中，R3可為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的一實施例中，R3可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的另一實施例中，R3可為C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基。
於本揭露中，X及Y可各自獨立為-OH、-OCOR4、-NH2、-NCOR4、 -NCO、
Figure 109101084-A0101-12-0004-33
、-CO2H、-CO2R4、或
Figure 109101084-A0101-12-0004-34
，其中R4可為C1至C10的直鏈或 支鏈烷基、或C3至C10的直鏈或支鏈烯基；R5可為C3至C10的亞環烯基；而R6可為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基或1,2-亞苯基。於本揭露的一實施例中，X及Y可各 自獨立為-OH、-OCOR4、-NH2、
Figure 109101084-A0101-12-0004-35
、-CO2R4、或
Figure 109101084-A0101-12-0004-38
；R4可為C1 至C6的直鏈或支鏈烷基、或C3至C6的直鏈或支鏈烯基；R5可為C3至C10的亞環烯基；而R6可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的另一實施例中，X及Y可 各自獨立為-OH、-OCOR4a、-NH2、
Figure 109101084-A0101-12-0004-36
、-CO2R4b、或
Figure 109101084-A0101-12-0004-37
； R4a可為C3至C6的直鏈或支鏈烯基；而R4b可為C1至C6的直鏈或支鏈烷基。
於本揭露的一實施例中，A可為-S-；R1可為C1至C10的直鏈或支鏈 亞烷基、或含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鐘亞烷基；X可為-OH、
Figure 109101084-A0101-12-0005-32
、 或-CO2R4；R4可為C1至C10的直鏈或支鏈烷基；而R5可為C3至C10的亞環烯基。於本揭露的另一實施例中，A可為-S-；R1可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或含羥 基取代的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基；X可為-OH、
Figure 109101084-A0101-12-0005-31
、或-CO2R4； R4可為C1至C6的直鏈或支鏈烷基。於本揭露的另一實施例中，A可為-S-；R1可為C1至C4的直鏈或支鏈亞烷基、或含羥基取代的C1至C4的直鏈或支鏈亞烷基；X可 為-OH、
Figure 109101084-A0101-12-0005-27
、或-CO2R4；R4可為C1至C4的直鏈或支鏈烷基。
於本揭露的一實施例中，A可為-SO2-；R1可為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；X可為-OH、-OCOR4、 -NH2、或
Figure 109101084-A0101-12-0005-28
；R4可為C3至C10的直鏈或支鏈烯基；而R6可為C1至C10的直鏈 或支鏈亞烷基。於本揭露的另一實施例中，A可為-SO2-；R1可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基；X可為-OH、 -OCOR4、-NH2、或
Figure 109101084-A0101-12-0006-21
；R4可為C3至C6的直鏈或支鏈烯基。於本揭露 的另一實施例中，A可為-SO2-；R1可為C1至C4的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C4的直鏈或支鏈亞烷基；X可為-OH、-OCOR4、-NH2、或
Figure 109101084-A0101-12-0006-18
；R4可為C3至C4的直鏈或支鏈烯基。
於本揭露的一實施例中，R2可為氫、C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C6至C15芳烷基。於本揭露的另一實施例中，R2可為氫、C1至C6的直鏈或支鏈烷基、或芐基。於本揭露的另一實施例中，R2可為氫、C1至C4的直鏈或支鏈烷基、或芐基。
於本揭露的一實施例中，R2可為-R3Y；R3可為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；Y可為-OH、-OCOR4、 -NH2、
Figure 109101084-A0101-12-0006-24
、或
Figure 109101084-A0101-12-0006-26
；R4可為C3至C10的直鏈或支鏈烯基；R5可為C3 至C10的亞環烯基；而R6為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基。於本揭露的另一實施例中，R2可為-R3Y；R3可為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6 的直鏈或支鏈亞烷基；Y可為-OH、-OCOR4、-NH2、
Figure 109101084-A0101-12-0006-23
、或
Figure 109101084-A0101-12-0007-12
；R4可為C3至C6的直鏈或支鏈烯基。於本揭露的另一實施例中，R2 可為-R3Y；R3可為C1至C3的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C3的直鏈 或支鏈亞烷基；Y可為-OH、-OCOR4、-NH2、
Figure 109101084-A0101-12-0007-13
、或
Figure 109101084-A0101-12-0007-14
； R4可為C3至C4的直鏈或支鏈烯基。
本揭露所提供的化合物可為下式(I-1)至(I-13)的任一化合物：
Figure 109101084-A0101-12-0007-16
Figure 109101084-A0101-12-0008-39
於本揭露中，所謂之「(亞)烷基」包括直鏈及支鏈之(亞)烷基，例如，包括直鏈及支鏈之C1至C10(亞)烷基、C1至C6(亞)烷基、或C1至C4(亞)烷基；且其具體例子包括，但不限於：(亞)甲基、(亞)乙基、(亞)丙基、(亞)異丙基、(亞)丁基、(亞)異丁基、(亞)仲丁基、(亞)叔丁基、(亞)戊基、(亞)新戊基、及(亞)己基。
於本揭露中，所謂之「烯基」一詞係指包含至少一個雙鍵且包括直鏈及支鏈之碳氫基團，例如，包含至少一個雙鍵且包括直鏈及支鏈之C3至C10碳氫基團、C3至C6碳氫基團、或C3至C4碳氫基團；且其具體例子包括，但不限於：乙烯、丙烯、及丁烯。
於本揭露中，所謂之「(亞)環烯基」一詞係指單價或雙價不飽和環狀碳氫基團，其包含，例如，一或以上雙鍵及3至10個碳原子(如C3至C10)、5至8個碳原子(C5至C8)或5至7個碳原子(C5至C7)；且其具體例子係包含，但不限於：(亞)環戊烯基、(亞)環己烯基、及(亞)環庚烯基。
於本揭露中，所謂之「芳基」包括6員碳單環、10員碳雙環、14員三環芳香族環系統；且其具體例子包括，但不限於：苯基、萘基、芘基、蒽基、及菲基。
於本揭露中，所謂之「芳烷基」包括本揭露中所定義之烷基經加上至少一芳基所形成之分子基團。
於本揭露中，所謂之「被酯基中斷的亞烷基」包括本揭露中所定義之亞烷基的相鄰兩個碳原子間插入一酯基、或是亞烷基的一端連接一酯基。於本揭露的一實施例中，「被酯基中斷的亞烷基」可為-C(=O)O-(亞烷基)。
此外，本揭露更提供一種對於光引發的降解具有安定性的組成物，包含：(A)受到光引發會降解的有機材料；以及(B)前述本揭露的新穎化合物。其中，以有機材料為基準，本揭露的新穎化合物的含量可有機材料的0.1%至30%。
於本揭露的一實施態樣中，前述組成物是用於形成一塗層。特別是，該塗層是形成於一對波長大於380nm的電磁輻射敏感的基材上。其中，基材的種類並無特殊限制，可為玻璃、塑膠、聚合物、矽水膠、樹脂、碳纖複合材料、或其混合材料。
再者，本揭露更提供一種具有抗藍光效果的眼鏡鏡片，包含前述本揭露的新穎化合物；其中，本揭露的新穎化合物是塗佈於眼鏡鏡片用的基材上，以形成一抗紫外光或抗藍光塗層。
此外，本揭露更提供一種具有抗藍光效果的保護貼，包含前述本揭露的新穎化合物；其中，本揭露的新穎化合物是塗佈於保護貼用的基材上，以形成一抗紫外光或抗藍光塗層。
圖1為實施例1、2及對照例1、2的UV吸收光譜圖。
圖2為實施例2、3、8的UV吸收光譜圖。
圖3為實施例2及對照例1的穿透率結果圖。
以下係藉由具體實施例說明本揭露之實施方式，熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地了解本揭露之其他優點與功效。本揭露亦可藉由其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節亦可針對不同觀點與應用，在不悖離本創作之精神下進行各種修飾與變更。
除非文中另有說明，否則說明書及所附申請專利範圍中所使用之術語「或」通常包括「及/或」之含義。
本揭露將藉由實施例更具體地說明，但該等實施例並非用於限制本揭露之範疇。除非特別指明，於下列實施例與比較例中用於表示成份含量以及物質量的「%」係以重量為基準。
製備例1：原料化合物1a的合成
製備化合物1a’
Figure 109101084-A0101-12-0010-40
將856.8克叔丁基氫醌溶於2.5升甲醇中，向該溶液中加入206.2克氫氧化鈉、1升水、482.3克氯丙醇和6.3克碘化鉀，在氮氣下迴流溫度加熱48小時，反應混合物冷卻至室溫，加入5.6升水稀釋，以4升二氯甲烷萃取，合併的二 氯甲烷層用水洗滌，以無水硫酸鈉乾燥並濃縮，將殘留物進行減壓蒸餾，餾出物以甲苯再結晶進一步純化，得到396.0克白色固體，熔點78.5-80.5℃。
製備化合物1a
Figure 109101084-A0101-12-0011-41
步驟(a)：將90.6克4-氯-2-硝基苯胺和180毫升濃鹽酸在室溫下攪拌一小時，並以160毫升水和300克冰稀釋，在-5℃下，將37.7克亞硝酸鈉溶在140毫升水中後滴加到混合物中，入畢在0℃下攪拌1小時，加入氨基磺酸直到碘化鉀澱粉測試結果為陰性，接著過濾混合物，該濾液在-5℃至0℃下滴加至112.2克原料化合物1a、60克氫氧化鈉和2升水的混和溶液中攪拌，當加入約1/3的重氮溶液後，將400毫升的10%氫氧化鈉水溶液一起滴加到反應混合物中，兩種滴加在同一時間結束。在滴加過程中，反應混合物均保持在0℃以下，入畢同溫下攪拌2小時，然後回至室溫。偶氮染料以鹽酸酸化分離，過濾並用水洗滌，不經進一步純化即可用於下一步反應。
步驟(b)：將上一步的偶氮染料溶於1.5升乙醇中，在室溫氮氣下，向該溶液中緩慢加入葡萄糖溶液(180克配製在1.5升2N氫氧化鈉水溶液中)，過程中反應溫度保持在30℃以下，以薄層層析法追蹤至反應完成。然後加入165克新鮮活化的鋅粉，該混合物在室溫下攪拌3小時後，以1升水稀釋並攪拌15分鐘，靜置1小時，過濾分離沉澱物後，先以水洗滌，再以2升熱乙醇萃取濾餅，直到濾餅只剩下鋅殘留。將萃取液冷卻至室溫，過濾分離固體，再以冷乙醇洗滌，真空乾燥後得到67.8克黃色固體，熔點134.7℃。
1H NMR(400MHz,CDCl3)：δ 11.35(1H),7.92(1H),7.87(1H),7.80(1H),7.43(1H),7.02(1H),4.20(2H),3.91(2H),2.10(2H),1.80(1H),1.49(9H)
TGA(5% weight loss)：246.23℃
實施例1：化合物2a的合成(即本揭露式(I-1)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0012-43
於20毫升反應瓶中，置入0.75克化合物2a、0.52克氫氧化鉀、0.09克碘化鉀、0.5毫升2-巰基乙醇、2毫升N-甲基吡咯烷酮，加熱至100℃後攪拌12小時，冷卻回到室溫後以1N鹽酸水溶液酸化至pH 5。混合液以100毫升甲苯、50毫升乙酸乙酯、100毫升水萃取，排去水層後有機層以硫酸鎂乾燥除水，減壓濃縮後以管柱純化獲得0.21克化合物2a，產率25.2%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.49(s,9H),1.86(s,1H),2.10(quint,J=5.9Hz,2H),3.25(t,J=5.8Hz,2H),3.80-3.95(m,4H),4.20(t,J=6.0Hz,2H),7.06(d,J=3.0Hz,1H),7.42(dd,J=1.4,8.8Hz,1H),7.79(d,J=3.0Hz,1H),7.82(d,J=8.8Hz,1H),7.83(d,J=1.4Hz,1H),11.42(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.5,32.2,35.8,36.9,60.5,60.8,103.1,115.8,117.2,118.1,125.3,129.9,136.0,141.1,141.6,143.3,143.6,151.2；HRMS(ESI+,M+H)：calc.418.1801,found 418.1804。
實施例2：化合物2b的合成(即本揭露式(I-2)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0012-42
於250毫升反應瓶中，置入0.75克化合物2a、0.1克Na2WO4‧2H2O、9毫升90%甲酸水溶液、50毫升甲苯、9毫升30%過氧化氫水溶液後加熱至70℃後攪拌6小時，冷卻回到室溫後混合液以100毫升甲苯、10毫升水進行萃取。水層再以100毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、硫酸鎂乾燥、減壓濃縮與管柱純化獲得0.23克化合物2b，產率28.3%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.49(s,9H),2.04-2.17(m,2H),2.80(s,1H),3.47(dt,J=6.0,2.4Hz,2H),3.92(t,J=6.0Hz,2H),4.09(t,J=5.2Hz,2H),4.21(t,J=6.0Hz,2H),7.07(d,J=3.2Hz,1H),7.83(d,J=3.2Hz,1H),7.94(d,J=9.1Hz,1H),8.12(dd,J=0.8,9.1Hz,1H),8.66(d,J=0.8Hz,1H),11.22(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.5,32.2,35.9,56.5,58.6,60.5,66.5,103.2,118.6,119.5,120.8,125.0,138.3,141.5,141.7,144.1,144.4,151.4；HRMS(ESI+,M+H)：calc.450.1699,found 450.1710。
實施例3：化合物2c的合成(即本揭露式(I-3)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0013-44
於250毫升反應瓶中，置入0.85克化合物2b、0.1克對苯二酚、0.1克對甲苯磺酸、0.5毫升甲基丙烯酸與125毫升甲苯後加熱至迴流攪拌16小時，冷卻回到室溫後混合液以100毫升飽和碳酸氫鈉水溶液進行萃取。水層再以50毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、硫酸鎂乾燥、減壓濃縮與管柱純化後經甲醇/甲苯結晶獲得0.34克化合物2c，產率30.7%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.50(s,9H),1.71(d,J=1.4Hz,3H),1.97(d,J=1.4Hz,3H),2.23(quint,J=6.2Hz,2H),3.63(t,J=6.0Hz,2H),4.17(t,J=6.0Hz,2H),4.40 (t,J=6.2Hz,2H),4.56(t,J=5.8Hz,2H),5.37(dd,J=0.9,1.4Hz,1H),5.58(dd,J=0.9,1.4Hz,1H),5.75(s,1H),6.14(s,1 H),7.08(d,J=2.8Hz,1H),7.81(d,J=2.8Hz,1H),7.93(dd,J=1.2Hz,9.2Hz,1H),8.11(d,J=9.2Hz,1H),8.66(d,J=1.2Hz,1H),11.24(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：18.1,18.5,28.8,29.5,35.9,55.4,58.0,61.7,65.3,103.0,119.0,119.4,121.0,124.9,125.1,125.7,126.6,135.3,136.5,138.7,141.6,144.1,144.4,151.5,166.6,167.5；HRMS(ESI+,M+H)：calc.586.2223,found 586.2227。
實施例4：化合物2d的合成(即本揭露式(I-4)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0014-45
於25毫升反應瓶中，置入0.3克化合物1a、2.0克碳酸鉀、1.2克2-胺基乙硫醇與2毫升N-甲基吡咯烷酮後加熱至100℃攪拌12小時，冷卻回到室溫後混合液倒入100毫升水中並以1N HCl水溶液酸化至pH 5。混合液加入25毫升異丙醇、75毫升甲苯與10克氯化鈉後進行萃取。水層以25毫升異丙醇與75毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與管柱純化獲得中間體3a，全數用於後續反應。
1H NMR(Pyridine-d 5,400MHz)：1.59(s,9H),2.29(quint,J=6.2Hz,2H),3.82(t,J=7.1Hz,2H),4.05(t,J=7.1Hz,2H),4.13(t,J=6.2Hz,2H),4.37(t,J=6.2Hz,2H),7.24(d,J=2.6Hz,1H),7.55(d,J=9.0Hz,1H),7.90(d,J=9.0Hz,1H),8.00(d,J=2.6Hz,1H),8.19(s,1 H)；HRMS(ESI+,M+H)：calc.417.1960,found 417.1971。
中間體3a加入30毫升乙酸乙酯、30毫升叔丁醇、3毫升醋酸酐與3毫升三乙胺後加熱至70℃攪拌待中間體3a全溶後降溫回到室溫。反應液加入100毫升水與100毫升乙酸乙酯進行萃取，水層再以50毫升乙酸乙酯進行萃取後合併有機層，有機層經50毫升飽和食鹽水清洗與減壓濃縮獲得中間體3b，全數用於後續反應。
中間體3b加入0.1克Na2WO4‧2H2O、15毫升30%過氧化氫水溶液、5毫升水與50毫升異丙醇後室溫下攪拌16小時。反應液加入100毫升水與100毫升乙酸乙酯進行萃取，水層再以50毫升乙酸乙酯進行萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗與減壓濃縮獲得中間體3c，全數用於後續反應。
HRMS(ESI+,M+H)：calc.533.2070,found 533.2074。
中間體3c加入85%濃磷酸3毫升與1毫升水攪拌加熱洄流8小時後降溫回到室溫。反應液倒入100毫升水中，以45% NaOH水溶液中和至pH 6.5。混合液加入100毫升異丙醇、100毫升甲苯與10克氯化鈉後進行萃取。水層以50毫升異丙醇與50毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與甲苯/甲醇結晶獲得0.12克化合物2d，4步總產率33.5%。
1H NMR(DMSO-d 6,400MHz)：1.45(s,9H),1.89(quint,J=6.3Hz,2H),2.94(s,2H),3.59(t,J=6.3Hz,2H),3.65(s,2H),4.06(t,J=6.3Hz,2H),7.00(d,J=2.8Hz,1H),7.49(t,J=2.8Hz,1H),7.98(d,J=8.8Hz,1H),8.35(d,J=8.8Hz,1H),8.72(d,J=2.8Hz,1H)；13C NMR(DMSO-d 6,100MHz)：29.2,32.1,34.7,35.3,55.3,57.3,65.3,104.9,117.3,119.9,120.5,124.8,126.4,137.9,140.6,141.9,143.0,144.6,151.1；HRMS(ESI+,M+H)：calc.449.1859,found 449.1859。
製備例2：原料化合物1b的合成
前驅物化合物4的合成
Figure 109101084-A0101-12-0016-47
於250毫升反應瓶中，置入33.24克叔丁基對苯二酚與20.42克2-甲基-2-唑啉後加熱至160℃攪拌反應16小時。反應液冷卻回到室溫後以100毫升甲苯、200毫升乙酸乙酯與100毫升水進行萃取，排除水層後有機層再以100毫升飽和食鹽水清洗。有機層乾燥濃縮後經減壓蒸餾收集壓力0.25mbar沸點215-220℃區間餾出液獲得30.31克化合物4，產率42.2%。
1H NMR(Acetone-d 6,400MHz)：1.38(s,9H),1.93(s,3H),3.53(q,J=5.6Hz,2H),3.94(t,J=5.6Hz,2H),6.58(dd,J=2.8,8.8Hz,1H),6.74(d,J=8.8Hz,1H),6.78(d,J=2.8Hz,1H),7.51(br s,1H),8.18(br s,1H)；13C NMR(Acetone-d 6,100MHz)：22.8,29.8,35.2,39.8,67.8,112.2,115.0,117.2,137.6,150.8,152.7,170.8。
原料化合物1b的合成
Figure 109101084-A0101-12-0016-46
將16克4-氯-2-硝基苯胺、0.05克分散劑、50毫升濃鹽酸與100克冰混合均勻後攪拌1小時。混合液降溫至5℃後緩慢加入亞硝酸納水溶液(6.8克亞硝酸鈉溶於50毫升水中)，入畢後繼續攪拌0.5小時，再加入0.3克氨基磺酸銨攪拌0.5小時。最後加入0.3克矽藻土攪拌0.5小時，過濾混合液得到偶氮液，保存於低溫(<5℃)用於後續反應步驟。
取18.71克化合物4、分散劑0.1克、45%氫氧化鈉水溶液10克、冰100克與乙醇500毫升混合均勻並攪拌1小時。降溫至5℃後緩慢滴加上述製備的偶氮液，在適當時後加入45%氫氧化鈉水溶液控制pH值維持8到10.5間。滴加完畢後回到室溫並攪拌16小時，再加入66克45%氫氧化鈉水溶液後將反應液加熱至洄流並攪拌0.5小時。加入16克連二亞硫酸鈉並攪拌1小時，再加入16克連二亞硫酸鈉並攪拌1小時，再追加32克連二亞硫酸鈉與16克45%氫氧化鈉水溶液並攪拌1小時後降溫回到室溫，過濾收集固體獲得13.3克化合物1b，產率44.3%。
1H NMR(DMSO-d 6,400MHz)：1.45(s,9H),1.84(s,3H),3.43(q,J=5.2Hz,2H),4.02(t,J=5.2Hz,2H),7.00(s,1H),7.53(s,1H),7.59(d,J=9.0Hz,1H),8.12(s,1 H),8.14(d,J=9.0Hz,1H),8.25(s,1H),10.64(br s,1H)；13C NMR(DMSO-d 6,100MHz)：22.5,29.2,35.3,38.3,67.1,104.6,116.9,119.7,126.0,129.0,132.4,140.4,141.4,142.8,143.2,150.7,169.5。
實施例5：化合物2e的合成(即本揭露式(I-5)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0017-48
於25毫升反應瓶中，置入1.25克化合物1b、4.0克碳酸鉀、1.2克2-胺基乙硫醇與10毫升N-甲基吡咯烷酮後加熱至100℃攪拌12小時，冷卻回到室溫後混合液倒入300毫升水中並以1N HCl水溶液酸化至pH 6。混合液加入25毫升異丙醇、75毫升甲苯與20克氯化鈉後進行萃取。水層以25毫升異丙醇與75毫升甲 苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與管柱純化獲得中間體3d，全數用於後續反應。
中間體3d加入50毫升乙酸乙酯、9毫升叔丁醇、12毫升醋酸酐與9毫升三乙胺後加熱至70℃攪拌待中間體3d全溶後降溫回到室溫。反應液加入100毫升水與100毫升乙酸乙酯進行萃取，水層再以50毫升乙酸乙酯進行萃取後合併有機層，有機層經50毫升飽和食鹽水清洗與減壓濃縮獲得中間體3e，全數用於後續反應。
中間體3e加入0.1克Na2WO4‧2H2O、15毫升30%過氧化氫水溶液、5毫升水與50毫升異丙醇後室溫下攪拌16小時。反應液加入100毫升水與100毫升乙酸乙酯進行萃取，水層再以50毫升乙酸乙酯進行萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗與減壓濃縮獲得中間體3f，全數用於後續反應。
中間體3f加入85%濃磷酸12毫升與3毫升水攪拌加熱洄流8小時後降溫回到室溫。反應液倒入200毫升水中，以45% NaOH水溶液中和至pH 6.5，過濾收集固體，並以50毫升水清洗表面。濾餅以異丙醇再結晶後獲得0.13克化合物2e，4步總產率9.7%。
1H NMR(DMSO-d 6,400MHz)：1.46(s,9H),2.92(t,J=7.2Hz,2H),3.18(t,J=4.8Hz,2H),3.64(t,J=7.2Hz,2H),4.22(t,J=4.8Hz,2H),7.11(d,J=2.8Hz,1H),7.55(d,J=2.8Hz,1H),7.98(d,J=2.8Hz,1H),8.00(dd,J=1.2,9.2Hz,1H),8.38(d,J=9.2Hz,1H),8.74(d,J=1.2Hz,1H)；13C NMR(DMSO-d 6,100MHz)：29.2,35.2,35.3,38.6,56.0,65.7,105.8,117.7,119.9,120.5,124.8,126.5,138.1,140.7,142.0,143.6,144.7,150.3；HRMS(ESI+,M+H)：calc.434.1862,found 434.1863。
實施例6：化合物2f的合成(即本揭露式(I-6)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0019-49
於25毫升反應瓶中，置入2.88克化合物1b、3.0克碳酸鉀、3.0克2-胺基乙硫醇與10毫升N-甲基吡咯烷酮後加熱至100℃攪拌12小時，冷卻回到室溫後混合液倒入300毫升水中並以1N HCl水溶液酸化至pH 5。過濾收集固體並以100毫升水清洗表面獲得1.5克中間體3d，全數用於後續反應。
中間體3d加入85%濃磷酸12毫升與3毫升水攪拌加熱洄流8小時後降溫回到室溫。反應液倒入200毫升水中，以45% NaOH水溶液中和至pH 6.5，過濾收集固體，並以50毫升水清洗表面。濾餅以異丙醇再結晶後獲得0.5克中間體3g。
取0.15克中間體3g加入0.15克降冰片烯二酸酐與20毫升甲苯攪拌洄流16小時，降溫到室溫後經減壓濃縮與管柱層析後獲得0.1克化合物2f，3步總產率15.1%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.47(dt,J=8.8,1.6Hz,1H),1.48(s,9H),1.54(dt,J=8.8,1.6Hz,1H),1.73(dt,J=8.8,1.6Hz,1H),1.74(dt,J=8.8,1.6Hz,1H),3.10(t,J=7.6Hz,2H),3.24-3.27(m,1H),3.29-3.32(m,1H),3.38-3.43(m,4H),3.66(t,J=7.6Hz,2H),3.81(t,J=5.6Hz,2H),4.10(t,J=5.6Hz,2H),6.08(t,J=1.6Hz,2H),6.14(t,J=1.6Hz,2H),6.95(d,J=3.0Hz,1H),7.40(dd,J=8.8,3.2Hz,1H),7.72(d,J=3.0Hz,1H),7.83(d,J=8.8Hz,1H),7.90(d,J=3.2Hz,1H),11.46(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.5,30.3,35.7,37.3,37.8,45.4,45.9,52.2,52.3,64.9, 103.2,115.3,117.0,118.0,125.2,129.5,134.4,134.6,135.7,140.9,141.5,143.3,143.6,150.7,177.5,177.6；HRMS(ESI+,M+H)：calc.694.2699,found 694.2775。
製備例3：原料化合物1c的合成
原料化合物1c’的合成
Figure 109101084-A0101-12-0020-50
製備方法參照化合物1a’的合成，起始物為856.8克的叔丁基氫醌和960.0克的溴化苄，得到670.0克淡黃色液體。
原料化合物1c的合成
Figure 109101084-A0101-12-0020-51
製備方法如化合物1a的合成，起始物改為450.0克的原料化合物1c’，得到138.0克黃色固體，熔點130.7℃。
1H NMR(400MHz,CDCl3)：δ 11.36(1H),7.80-8.00(3H),7.49(2H),7.30-7.45(4H),7.10(1H),5.11(2H),1.48(9H)；HRMS ESI[M-H]-：calc.406.1322,found 406.1324。
實施例7：化合物2g的合成(即本揭露式(I-7)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0020-52
於20毫升反應瓶中，置入2.0克化合物1c、0.6克氫氧化鉀、10.0克碳酸鉀、3毫升2-巰基乙醇、20毫升N-甲基吡咯烷酮，加熱至140℃後攪拌8 小時，冷卻回到室溫後以1N鹽酸水溶液酸化至pH 5。混合液以100毫升甲苯、50毫升乙酸乙酯、100毫升水萃取，排去水層後有機層以硫酸鎂乾燥除水，減壓濃縮後以管柱純化獲得0.8克化合物2g，產率36.3%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.48(s,9H),3.25(t,J=6.0Hz,2H),3.87(t,J=6.0Hz,2H),5.12(s,2H),7.09(d,J=3.2Hz,1H),7,29-7.55(m,6 H),7.77-7.93(m,3H),11.44(s,1 H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.6,35.8,36.9,60.5,70.9,103.4,115.9,117.6,118.1,125.3,127.9,128.2,128.8,129.9,136.0,137.0,141.1,141.6,143.3,143.7,151.3；HRMS(ESI+,M+H)：calc.450.1851,found 450.1863。
實施例8：化合物2h的合成(即本揭露式(I-8)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0021-53
於250毫升反應瓶中，置入0.4克化合物2g、0.1克Na2WO4‧2H2O、15毫升30%過氧化氫水溶液、50毫升異丙醇與5毫升水後攪拌16小時，混合液加入100毫升甲苯與10克氯化鈉進行萃取。水層再以100毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、硫酸鎂乾燥、減壓濃縮與管柱純化獲得0.28克化合物2h，產率65.3%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.49(s,9H),2.66(t,J=2.4Hz,1H),3.47(dt,J=2.4,5.2Hz,2H),4.09(t,J=5.2Hz,2H),5.14(s,2H),7.16(d,J=2.8Hz,1H),7.30-7.47(m,3H),7.50(d,J=7.2Hz,2H),7.89-7.99(m,2H),8.14(d,J=9.2Hz,1H),8.68(s,1H),11.25(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.5,35.9,56.6,58.6,71.0,103.5,119.0,119.6,120.9,125.0,127.9,128.3,128.8,136.8,138.3,141.6,141.7,144.3,144.5,151.4；HRMS(ESI+,M+H)：calc.482.1750,found 482.1764。
實施例9：化合物2i的合成(即本揭露式(I-9)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0022-54
於250毫升反應瓶中，置入0.2克化合物2h、0.1克對苯二酚、0.1克對甲苯磺酸、0.5毫升甲基丙烯酸與75毫升甲苯後加熱至迴流攪拌16小時，冷卻回到室溫後混合液以加入25毫升甲苯與100毫升飽和碳酸氫鈉水溶液進行萃取。水層再以50毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、硫酸鎂乾燥、減壓濃縮與管柱純化後經甲醇/甲苯結晶獲得0.15克化合物2i，產率78.6%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.49(s,9H),1.72(d,J=1.6Hz,3H),1.97(d,J=1.2Hz,3H),3.64(t,J=6.0Hz,2H),4.57(t,J=6.0Hz,2H),5.38(d,J=1.6Hz,1H),5.76(s,1H),7.02(d,J=2.8Hz,1H),7.78(d,J=2.8Hz,1H),7.92(dd,J=1.2Hz,9.2Hz,1H),8.08(d,J=9.2Hz,1H),8.64(d,J=1.2Hz,1H),11.13(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：18.1,29.5,35.9,55.4,58.0,105.6,117.9,119.5,121.1,125.1,126.8,135.3,138.6,141.6,141.7,143.8,144.4,148.1,166.7；HRMS(ESI+,M+H)：calc.460.1542,found 460.1549。
製備例4：原料化合物1d的合成
原料化合物1d’的合成
Figure 109101084-A0101-12-0022-55
製備方法如化合物1a’的合成，起始物為856.8克叔丁基氫醌和706.3克溴丁烷，得到590.1克淡黃色液體。
原料化合物1d的合成
Figure 109101084-A0101-12-0023-56
製備方法如化合物1a的合成，起始物改為450.0克的原料化合物1d’，得到159.6克黃色固體，熔點101.6℃。
HRMS ESI[M-H]-：calc.372.1479,found 372.1477
1H NMR(400MHz,CDCl3)：δ 11.31(1H),7.91(1H),7.85(1H),7.75(1H),7.41(1H),7.02(1H),4.03(2H),1.81(2H),1.54(2H),1.49(9H),1.00(3H)
實施例10：化合物2j的合成(即本揭露式(I-10)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0023-57
於25毫升反應瓶中，置入1.0克化合物1d、1.6克碳酸鉀、1.0克2-胺基乙硫醇與10毫升N-甲基吡咯烷酮後加熱至120℃攪拌16小時，冷卻回到室溫後混合液倒入300毫升水中並以1N HCl水溶液酸化至pH 5。混合液加入200毫升甲苯與10克氯化鈉後進行萃取。水層以100毫升甲苯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與管柱純化獲得0.3克中間體3h，全數用於後續反應。HRMS(ESI+,M+H)：calc.415.2168,found 415.2164。
中間體3h加入1.0克降冰片烯二酸酐、20毫升二甲基甲醯胺與20毫升甲苯攪拌洄流16小時，降溫到室溫後加入200毫升甲苯、10克氯化鈉與100 毫升飽和氯化銨水溶液進行萃取。水層再以100毫升乙酸乙酯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與管柱純化後獲得0.21克化合物2j，2步總產率14.0%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.03(t,J=7.6Hz,3H),1.45-1.65(m,12H),1.70-1.90(m,3H),3.08(t,J=7.2Hz,2H),3.20-3.30(m,2H),3.40-3.47(m,2H),3.65(t,J=7.2Hz,2H),4.04(t,J=6.4Hz,2H),6.14(s,2H),7.01(d,J=2.8Hz,1H),7.39(dd,J=9.2,1.4Hz,1H),7.76(d,J=2.8Hz,1H),7.83(d,J=9.2Hz,1H),7.90(d,J=1.4Hz,1H),11.43(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：14.0,19.4,29.5,30.3,31.6,35,7,37.4,45.1,45.9,52.3,68.5,102.8,115.4,117.2,118.0,125.2,129.5,134.6,135.6,140.8,141.5,143.3,143.4,151.5,177.5；HRMS(ESI+,M+H)：calc.561.2536,found 561.2608。
實施例11：化合物2k的合成(即本揭露式(I-11)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0024-58
於25毫升反應瓶中，置入1.0克化合物1d、1.6克碳酸鉀、1.0毫升巰基乙酸與10毫升N-甲基吡咯烷酮後加熱至140℃攪拌16小時，再補1.6克碳酸鉀繼續加熱16小時。冷卻回到室溫後混合液倒入300毫升水中並以1N HCl水溶液酸化至pH 5。混合液加入25毫升異丙醇、75毫升乙酸乙酯與10克氯化鈉後進行萃取。水層加入25毫升異丙醇與75毫升乙酸乙酯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮後獲得中間體3i，全數用於後續反應。
中間體3i加入0.5克對甲苯磺酸、20毫升甲苯與100毫升甲醇攪拌洄流16小時，降溫到室溫後加入200毫升甲苯、10克氯化鈉與100毫升飽和碳酸 氫鈉水溶液進行萃取。水層再以100毫升乙酸乙酯萃取後合併有機層，有機層經100毫升飽和食鹽水清洗、減壓濃縮與管柱純化後獲得0.34克化合物2k，2步總產率28.7%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.01(t,J=7.2Hz,3H),1.45-1.65(m,11H),1.75-1.85(m,2H),3.76(s,3H),3.78(s,2H),3.40-3.47(m,2H),3.65(t,J=7.2Hz,2H),4.03(t,J=6.4Hz,2H),7.01(d,J=3.2Hz,1H),7.44(dd,J=8.8,1.4Hz,1H),7.75(d,J=3.2Hz,1H),7.84(d,J=8.8Hz,1H),7.87(d,J=1.4Hz,1H),11.43(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：14.1,19.5,29.6,31.6,35.8,36.2,52.9,68.5,102.8,116.3,117.4,118.1,125.3,129.6,135.6,141.0,141.7,143.3,143.4,151.6,169.8；HRMS(ESI+,M+H)：calc.444.1957,found 444.1957。
實施例12：化合物2l的合成(即本揭露式(I-12)化合物)
Figure 109101084-A0101-12-0025-59
於20毫升反應瓶中，置入5.0克化合物1a、5.0克碳酸鉀、3.0毫升硫代甘油、15毫升N-甲基吡咯烷酮，加熱至140℃後攪拌4小時，冷卻回到室溫後反應液倒入200毫升水中並以1N鹽酸水溶液酸化至pH 4.5。過濾收集固體，並以100毫升水清洗表面。濾餅取出後加入100毫升異丙醇加熱至60℃溶解，並加入300毫升庚烷後緩慢降溫，再加入200毫升水並降溫至5℃。收集析出固體並經管柱純化獲得4.53克化合物2l，產率76.0%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.45(s,9H),1.91(quint,J=6.4Hz,2H),3.06(dd,J=7.0,13.2Hz,1H),3.20(dd,J=4.4,13.2Hz,1H),3.40-3.55(m,2H),3.60(q,J=5.8Hz,2H),3.70-3.82(m,1H),4.07(t,J=6.6Hz,2H),4.60(t,J=5.2Hz,1H),4.80(t,J =5.8Hz,1H),5.15(d,J=5.2Hz,1H),6.94(d,J=3.0Hz,1H),7.48(dd,J=1.2,9.0Hz,1H),7.59(d,J=3.0Hz,1H),7.91(d,J=1.2Hz,1H),7.98(d,J=9.0Hz,1H),11.05(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.2,32.2,35.3,36.1,57.4,64.7,65.3,70.1,103.3,112.3,116.3,117.8,125.5,129.0,138.6,140.2,140.9,142.3,143.3,151.0；HRMS(ESI+,M+H)：calc.448.1906,found 418.1913。
對照例1
為市售商品Eversorb® 82，如下式(II)所示。
Figure 109101084-A0101-12-0026-60
對照例2：化合物6的合成
Figure 109101084-A0101-12-0026-61
於20毫升反應瓶中，置入4.0克化合物1e(其為市售商品Eversorb® 75)、1.3克氫氧化鉀、0.05克碘化鉀、0.9毫升2-巰基乙醇、10毫升N-甲基吡咯烷酮，加熱至100℃後攪拌6小時，冷卻回到室溫後以1N鹽酸水溶液酸化至pH 5。混合液以100毫升甲苯與100毫升水萃取，排去水層後有機層以硫酸鎂乾燥除水，減壓濃縮後以管柱純化獲得1.94克中間體5，產率43%。HRMS(ESI+,M+H)：calc.400.2059,found 400.2059。
於250毫升反應瓶中，置入0.9克化合物5、0.15克Na2WO4‧2H2O、25毫升甲苯、50毫升異丙醇、15毫升30%過氧化氫水溶液後攪拌16小時，混合液以85毫升甲苯、50毫升水進行萃取。水層再以75毫升甲苯萃取後合併有機層， 有機層經50毫升飽和食鹽水清洗、硫酸鎂乾燥、減壓濃縮獲得0.89克化合物6，產率91.6%。
1H NMR(CDCl3,400MHz)：1.40(s,9H),1.52(s,9H),2.45(br s,1 H),3.47(t,J=5.4Hz,2H),4.08(t,J=5.4Hz,2H),7.50(d,J=2.4Hz,1H),7.94(dd,J=8.8,1.4Hz,1H),8.14(d,J=8.8Hz,1H),8.31(d,J=8.8Hz,1H),8.69(d,J=1.4Hz,1H),11.39(s,1H)；13C NMR(CDCl3,100MHz)：29.7,31.6,34.8,35.9,56.5,58.6,116.6,119.6,120.9,124.8,125.0,126.7,138.1,139.2,141.7,142.4,144.5,147.3；HRMS(ESI+,M+H)：calc.432.1957,found 432.1957。
對照例3
為市售商品Eversorb® 78，如下式(III)所示。
Figure 109101084-A0101-12-0027-62
對照例4：化合物7的合成
Figure 109101084-A0101-12-0027-63
將40克化合物1d溶於10.5克N-甲基吡咯酮中，在90℃下，向該溶液中緩慢加入4.43克45%氫氧化鉀水溶液，接著再滴加2.04克硫酚，入畢升溫至170℃，除水24小時後降溫至100℃，以75毫升二甲苯萃取，以75毫升水洗滌，以15%鹽酸使水層酸化後排水層，用無水硫酸鈉乾燥有機層並濃縮，靜置析出黃色固體。
而後，將所得黃色固體溶於4.28克二甲苯中，向該溶液中加入0.038克鎢酸鈉、0.85克90%甲酸，升溫至50℃，緩慢滴加2.54克30%雙氧水，滴加時反應溫度不超過85℃，以薄層層析法追蹤至反應結束，加入二甲苯及水，萃取乾燥濃縮後，於甲醇中再結晶，得到35.4克黃色固體化合物7，熔點148.3℃。
HRMS ESI[M+H]+：calc.480.1957,found 480.1964
1H NMR(400MHz,CDCl3)：δ 11.21(1H),8.71(1H),7.95-8.05(3H),7.90(1H),7.77(1H),7.40-7.70(3H),7.06(1H),4.03(2H),1.81(2H),1.54(2H),1.48(9H),1.00(3H)
驗證例1：UV吸收光譜比較
將實施例1、2、3、8及對照例1至2的紫外光吸收劑，配製成濃度20ppm的甲醇：四氫呋喃=90：10溶液，使用紫外/可見分光光譜儀(UV-2600；Shimadzu Instruments Co.,Ltd.)進行吸收度之量測，量測結果如圖1、圖2及表1所示。
表1
Figure 109101084-A0101-12-0028-96
如圖1的溶液中的UV吸收光譜所示，實施例1、2化合物和對照例1化合物相比，在吸收峰位置可以發現有明顯紅位移現象；此外，極限吸收波長位置也可以觀察到實施例1、2化合物較對照例1、2化合物有較長波長的吸收位置，可以延伸到420nm之後。同時，與對照例2的苯環上5號位置不含氧原子取代基的化合物相比，實施例2的苯環上5號位置含有氧原子取代基的化合物，較長波長吸收峰位置(>350nm)有紅位移現象，如表1所示。此結果表示，在苯並環 上5號位置的含硫原子取代基與苯環上5號位置含有氧原子取代基，兩者共存的情形下，可提供化合物優秀的紅位移性質。
此外，如圖2所示，實施例2之化合物為苯環上5號位置的氧原子連接由羥基取代的烷基，實施例3之化合物為苯環上5號位置的氧原子連接由丙烯酸酯取代的烷基，兩者在吸收峰位置僅有微小差異。實施例2之化合物為苯環上5號位置的氧原子連接由羥基取代的烷基，實施例8之化合物為苯環上5號位置的氧原子連接苄基，兩者在吸收峰位置也幾乎無改變。此結果顯示，苯環上5號位置的氧原子所連接的不同反應性官能基團對UV光譜吸收峰位置的影響相當有限，原因是反應性官能基團並未直接鍵結於分子共軛結構上。光譜的主要差異為吸收強度的變化，來源為樣品分子量間的差異與溶劑化作用間的差異影響。
驗證例2：穿透率測試
將0.05克的實施例2或對照例1化合物與4克的PU主劑(型號A-7121)及2克乙酸乙酯混合均勻，再加入2克硬化劑(型號Bayer N75)混合均勻。後將混合完畢的PU膠以常規塗佈機與塗佈棒塗佈在厚度為125μm的PET膜上，塗佈後獲得相應厚度為100μm濕膜，以80℃乾燥30分鐘，再進行穿透率量測。在此，PU薄膜中的穿透率已扣除基材PET膜的吸收。
如圖3的結果顯示，實施例2化合物有明顯的紅位移現象，在400-450nm區間仍有一定的吸光能力。從圖3的結果也可以看出對照例1化合物吸收極限位置位於約為400nm處，而實施例2化合物吸收極限位置則位於450nm之後。上述結果顯示，實施例2化合物相較對照例1化合物具有明顯紅位移性質，也與溶液中的UV吸收結果相符合。
驗證例3：萃取測試
將0.05克實施例2化合物或對照例1、3、4化合物加入6克PU主劑(型號A-7121)與3克溶劑混合均勻，再加入3克硬化劑(型號Bayer N75)，均勻攪拌後置於室溫4小時，後以80℃烘箱乾燥16小時。加入30克的溶劑以超音波震盪萃取2小時後量測萃取率。其中，對照例3化合物使用重量比1比2的乙酸乙酯/甲苯混合溶劑，其餘化合物使用乙酸乙酯為溶劑。結果如下表2所示。
表2
Figure 109101084-A0101-12-0030-97
如表2結果所示，反應型的實施例2化合物相較非反應型的對照例1化合物，雖然兩者分子量相近，但抗萃取特性有顯著差異。實施例2化合物在萃取實驗中並未檢出，而有明顯的抗萃取特性；但對照例1化合物則是幾乎全部被萃取出。另與分子量較大的對照例3化合物相比，實施例2化合物也顯露優異的抗萃取性能，而對照例3化合物則是7成以上被萃取出。與有紅位移特性的對照例4化合物相較，實施例2化合物也顯示了較佳的抗萃取特性。
驗證例4：萃取測試
將0.03克實施例3化合物或對照例1化合物加入0.9克1,6-己二醇二丙烯酸酯(1,6-Hexanediol diacrylate，HDDA)、1.0克丙烯酸四氫呋喃酯(tetrahydrofurfuryl acrylate，THFA)與0.07克1,1’-偶氮雙(環己烷甲腈)(1,1’-Azobis(cyclohexanecarbonitrile)，ABCN)的混合物中攪拌均勻，而後以80℃ 烘箱乾燥24小時。加入10克的乙酸乙酯以超音波震盪萃取2小時後量測萃取率。結果如下表3所示。
表3
Figure 109101084-A0101-12-0031-98
同樣的，如表3結果所示，反應型的實施例3化合物相較非反應型的對照例1化合物，兩者抗萃取特性有顯著差異。實施例3化合物在萃取實驗中僅有少量被萃取出，而有明顯的抗萃取特性；但對照例1化合物則是大部分被萃取出。
綜上所述，本揭露所提供的新穎化合物，其吸收光譜具有紅位移的效果。當將本揭露所提供的新穎化合物塗佈於一對波長大於380nm的電磁輻射敏感的基材上時而形成一塗層時，該塗層可有效吸收大於380nm波長的光。因此，本揭露所提供的新穎化合物可形成用以形成抗藍光或抗紫外光的塗層，而提供一具有抗藍光或抗紫外光效果的產品，例如，保護膜、鏡片、隱形眼鏡、人工水晶體等。此外，本揭露所提供的新穎化合物，更具有抗萃取特性。當將本揭露所提供的新穎化合物與高分子單體或寡聚物進行共聚生成含有紫外線吸收劑的高分子材料，高分子材料中的紫外線吸收劑因有良好的抗萃取特性，而可使高分子材料的應用領域更加廣泛。
上述實施例僅係為了方便說明而舉例而已，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。
Figure 109101084-A0101-11-0002-4

Claims (17)

  1. 一種如下式(I)所示的化合物：
    Figure 109101084-A0101-13-0001-67
    其中，A為-S-或-SO2-；
    R1為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；
    R2為-R3Y、氫、C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C6至C15芳烷基；
    R3為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；
    X及Y各自獨立為-OH、-OCOR4、-NH2、-NCOR4、-NCO、
    Figure 109101084-A0101-13-0001-95
    、-CO2H、 -CO2R4、或
    Figure 109101084-A0101-13-0001-92
    ；
    R4為C1至C10的直鏈或支鏈烷基、或C3至C10的直鏈或支鏈烯基；
    R5為C3至C10的亞環烯基；以及
    R6為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基或1,2-亞苯基。
  2. 如請求項1所述的化合物，其中X及Y各自獨立為-OH、-OCOR4、 -NH2、
    Figure 109101084-A0101-13-0002-81
    、-CO2R4、或
    Figure 109101084-A0101-13-0002-76
    ；R4為C1至C6的直鏈或支鏈烷基、或C3 至C6的直鏈或支鏈烯基；R5為C3至C10的亞環烯基；而R6為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基。
  3. 如請求項2所述的化合物，其中X及Y各自獨立為-OH、-OCOR4a、 -NH2、
    Figure 109101084-A0101-13-0002-83
    、-CO2R4b、或
    Figure 109101084-A0101-13-0002-77
    ；R4a為C3至C6的直鏈或支鏈烯基； 而R4b為C1至C6的直鏈或支鏈烷基。
  4. 如請求項1所述的化合物，其中A為-S-；R1為C1至C10的直鏈或支 鏈亞烷基、或含羥基取代的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；X為-OH、
    Figure 109101084-A0101-13-0002-78
    、 或-CO2R4；R4為C1至C10的直鏈或支鏈烷基；而R5為C3至C10的亞環烯基。
  5. 如請求項4所述的化合物，其中R1為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、 或含羥基取代的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基；X為-OH、
    Figure 109101084-A0101-13-0002-80
    、或 -CO2R4；R4為C1至C6的直鏈或支鏈烷基。
  6. 如請求項1所述的化合物，其中A為-SO2-；R1為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；X為-OH、-OCOR4、 -NH2、或
    Figure 109101084-A0101-13-0003-85
    ；R4為C3至C10的直鏈或支鏈烯基；而R6為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基。
  7. 如請求項6所述的化合物，其中R1為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基；X為-OH、-OCOR4、-NH2、或
    Figure 109101084-A0101-13-0003-86
    ；而R4為C3至C6的直鏈或支鏈烯基。
  8. 如請求項1所述的化合物，其中R2為氫、C1至C6的直鏈或支鏈烷基、或芐基。
  9. 如請求項1所述的化合物，其中R2為-R3Y；R3為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基；Y為-OH、-OCOR4、-NH2、
    Figure 109101084-A0101-13-0003-87
    、或
    Figure 109101084-A0101-13-0003-89
    ；R4為C3至C10的直鏈或支鏈烯基；R5為C3至C10的亞環烯基；而R6為C1至C10的直鏈或支鏈亞烷基。
  10. 如請求項9所述的化合物，其中R3為C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基、或被酯基中斷的C1至C6的直鏈或支鏈亞烷基；Y為-OH、-OCOR4、-NH2、
    Figure 109101084-A0101-13-0003-90
    、或
    Figure 109101084-A0101-13-0003-91
    ；而R4為C3至C6的直鏈或支鏈烯基。
  11. 如請求項1所述的化合物，其中其為下式(I-1)至(I-13)的任一化合物：
    Figure 109101084-A0101-13-0004-68
  12. 一種對於光引發的降解具有安定性的組成物，包含：
    (A)受到光引發會降解的有機材料；以及
    (B)如請求項1至11任一項所述的化合物。
  13. 如請求項12所述的組成物，其中該組成物是用於形成一塗層。
  14. 如請求項13所述的組成物，其中該塗層是形成於一對波長大於380nm的電磁輻射敏感的基材上。
  15. 如請求項12所述的組成物，其中以該有機材料為基準，該化合物的含量為0.1%至30%。
  16. 一種具有抗藍光效果的眼鏡鏡片，包含如請求項1至11任一項所述的化合物。
  17. 一種具有抗藍光效果的保護貼，包含如請求項1至11任一項所述的化合物。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116178866B (zh) * 2023-03-08 2023-10-13 江苏奥天利新材料有限公司 一种具有遮阳带的无光学缺陷的pvb中间膜制作方法
CN117736684B (zh) * 2023-12-15 2024-05-28 云浮市骏驰新材料科技有限公司 一种纳米复合功能性热熔胶及其制造工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106687550A (zh) * 2014-08-05 2017-05-17 三吉油脂株式会社 用于向基体赋予紫外线吸收能力和/或高折射率的添加剂及使用该添加剂的树脂部件
TW201741371A (zh) * 2016-05-10 2017-12-01 住友化學股份有限公司 光學膜及使用該光學膜之可撓性裝置
WO2018180632A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 シプロ化成株式会社 ベンゾトリアゾール誘導体化合物およびその用途

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1965042A1 (de) * 1969-12-27 1971-07-15 Konishiroku Photo Ind Lichtempfindliches,farbfotographisches Aufzeichnungsmaterial
US5280124A (en) * 1991-02-12 1994-01-18 Ciba-Geigy Corporation 5-sulfonyl-substituted benzotriazole UV-absorbers
US6566507B2 (en) * 2000-08-03 2003-05-20 Ciba Specialty Chemicals Corporation Processes for the preparation of benzotriazole UV absorbers
US20070092831A1 (en) * 2005-10-24 2007-04-26 Bausch & Lomb Incorporated Radiation-absorbing polymeric materials and ophthalmic devices comprising same
US8262949B2 (en) * 2006-06-27 2012-09-11 Basf Se Long wavelength shifted benzotriazole uv-absorbers and their use
JP2018122449A (ja) * 2017-01-30 2018-08-09 三菱製紙株式会社 可逆性感熱記録材料
CN110944981A (zh) * 2017-10-27 2020-03-31 东莞东阳光医疗智能器件研发有限公司 一种苯并三唑紫外吸收剂、制备方法及其用途
KR102635085B1 (ko) * 2017-10-31 2024-02-08 미요시 유시 가부시끼가이샤 벤조트리아졸 화합물
CN110563661B (zh) * 2018-06-05 2021-08-27 台湾永光化学工业股份有限公司 具红移效应的苯并三唑紫外线吸收剂及其用途

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106687550A (zh) * 2014-08-05 2017-05-17 三吉油脂株式会社 用于向基体赋予紫外线吸收能力和/或高折射率的添加剂及使用该添加剂的树脂部件
TW201741371A (zh) * 2016-05-10 2017-12-01 住友化學股份有限公司 光學膜及使用該光學膜之可撓性裝置
WO2018180632A1 (ja) * 2017-03-29 2018-10-04 シプロ化成株式会社 ベンゾトリアゾール誘導体化合物およびその用途

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