TWI712611B

TWI712611B - 泛艾黴素之製造方法及其新穎之製造中間體

Info

Publication number: TWI712611B
Application number: TW105110084A
Authority: TW
Inventors: 森賢一郎; 梅津卓人; 丸山貴久; 塩川宗二郎
Original assignee: 日商明治製菓藥業股份有限公司
Priority date: 2015-03-30
Filing date: 2016-03-30
Publication date: 2020-12-11
Also published as: EP3279206B1; WO2016159092A1; KR102155411B1; US10301343B2; JPWO2016159092A1; KR20180009737A; EP3279206A1; CN107683284A; TW201706282A; CN107683284B; ES2805723T3; US20180094014A1; EP3279206A4; JP6682504B2; AR104145A1

Abstract

根據本發明，透過使用4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物作為新穎之製造中間體，可有效地去除屬作為起始原料之4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin，而能夠製造高純度泛艾黴素。

Description

泛艾黴素之製造方法及其新穎之製造中間體

本發明係有關於一種泛艾黴素及其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)之製造方法以及其新穎之製造中間體及該中間體之製造方法。

泛艾黴素是一種蒽環系抗生素，係使用於急性白血病、惡性淋巴瘤、乳癌、卵巢癌、胃癌、肝癌、尿路上皮癌等的治療。又，泛艾黴素在其抗腫瘤活性與減少副作用方面比同樣屬蒽環系抗生素的道諾黴素或艾黴素更優良，而為臨床上極為有用的藥劑。

作為泛艾黴素之製造方法，有人揭露一種以屬微生物發酵生產物的道諾黴素作為起始原料，經過化學轉換而製造泛艾黴素的方法。例如，有人揭露一種藉甲醇分解作用將道諾黴素分解成道諾黴酮(daunomycinone)及六碳胺糖(daunosamine)，對道諾黴酮的14位導入乙醯氧基而將道諾黴酮轉換成14-乙醯氧基道諾黴酮，並使六碳胺糖之胺基糖部分的4’位羥基反轉而將六碳胺糖轉換成4’-表六碳胺糖，再使4’-表六碳胺糖與14-乙醯氧基道諾黴酮進行偶合，將所得化合物轉換成泛艾黴素來製造泛艾黴素的方法(專利文獻1)。

上述之泛艾黴素之製造方法由於需要多階段的合成步驟而極為煩瑣，有產率較低之工業上的製造法觀點方面的課題。

另一方面，有人揭露一種以4’-表道諾黴素或其鹽作為起始原料，以短步驟製造泛艾黴素的方法(專利文獻2)。

然而，該專利文獻中僅揭露以4’-表道諾黴素鹽酸鹽作為起始原料之實例，而無關於其他的鹽之具體的記載及例示。又，亦無藉由該方法所得之泛艾黴素的純度相關之記述，對於所例示之以4’-表道諾黴素鹽酸鹽作為起始原料所得之泛艾黴素鹽酸鹽的純度也未述及之。

由於泛艾黴素既已記載於各國的醫藥品規格，例如日本藥典、歐洲藥典、美國藥典等中，因此，高純度的泛艾黴素之製造技術的建構，亦即製造中產生的雜質之管理亦為製造上的課題。

為解決前述課題，使用高純度的起始原料可減少泛艾黴素的雜質，而能夠製造更高純度的泛艾黴素。尤其是，只要可調製高純度的4’-表道諾黴素或其鹽，則可有效地製造高純度的泛艾黴素，而能夠解決工業上的製造法觀點方面的課題。

4’-表道諾黴素可藉由例如微生物的發酵培養、以及隨後之精製製造(專利文獻3、非專利文獻 1)。周知以發酵培養作為源頭所製造的4’-表道諾黴素會包含作為代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素、4’-epifeudomycin。又，已知有4’-表道諾黴素鹽酸鹽化的方法(專利文獻4、專利文獻5及非專利文獻2)及4’-表道諾黴素鹽酸鹽之結晶化的方法(專利文獻6)。

〔先前技術文獻〕〔專利文獻〕

[專利文獻1]美國專利5874550號公報

[專利文獻2]日本特開2007-261976號公報

[專利文獻3]日本特表2010-525828號公報

[專利文獻4]美國專利4112076號公報

[專利文獻5]美國專利4345068號公報

[專利文獻6]日本特表2013-503826號公報

〔非專利文獻〕

[非專利文獻1]Nature Biotechnology,16,69-74,1998

[非專利文獻2]Carbohydrate Research,79,193-204,1980

本案發明人等為調製高純度的4’-表道諾黴素，而對藉由發酵培養所製造的4’-表道諾黴素實施本領域具有通常知識者所熟知的精製方法，例如離子交換樹脂及合成吸附劑的使用、分液、萃取等，惟精製效果偏低，未能獲得高純度的4’-表道諾黴素。

又，本案發明人等依循周知之方法，例如專利文獻4、專利文獻5及非專利文獻2所揭露之4’-表道諾黴素鹽酸鹽化的方法，由藉由發酵培養所製造的4’-表道諾黴素調製出4’-表道諾黴素鹽酸鹽。其結果，精製效果偏低，未能獲得高純度的4’-表道諾黴素鹽酸鹽。

另一方面，本案發明人等進一步試行專利文獻6所揭露之將4’-表道諾黴素鹽酸鹽結晶化的方法的結果，確認13-二氫表道諾黴素、4’-epifeudomycin減少。然而，其效果不夠充分，為了獲得高純度的4’-表道諾黴素鹽酸鹽而需重複進行結晶化。結晶化之重複進行，由工業上的製造法觀點(產率、操作性、製造成本)而言非屬妥適。

因此，本發明係以提供一種可充分去除屬4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的新穎之製造中間體、以4’-表道諾黴素作為起始原料，有效地製造該中間體之方法、以及、使用該中間體，有效且高純度地製造泛艾黴素或其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)之方法為目的。

本案發明人等致力進行研究的結果發現一種以作為可充分去除屬4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的新穎之製造中間體的4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物、與4’-表道諾黴素作為起始原料，有效地製造該中間體之方法，更且發現一種使用該中間體，有效且高純度地製造泛艾黴素或其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)之方法，而完成本發明。

亦即，本發明係有關於〔1〕一種4’-表道諾黴素(4’-epi-Daunorubicin)的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物之製造方法，其係包含將下述式(1)

所示之4’-表道諾黴素、與有機酸在溶劑中混合，而形成下述式(2)

〔式中，HA係表示有機酸〕

所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟；〔2〕如〔1〕之製造方法，其中形成4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟係包含形成4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物的步驟；〔3〕如〔1〕之製造方法，其中形成4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟係包含4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的結晶化步驟；〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項之製造方法，其中4’-表道諾黴素的有機酸鹽為草酸鹽；〔5〕如〔1〕至〔3〕中任一項之製造方法，其中4’-表道諾黴素的有機酸鹽為苯磺酸鹽；〔6〕如〔1〕至〔3〕中任一項之製造方法，其中4’-表道諾黴素的有機酸鹽為對甲苯磺酸鹽；〔7〕一種泛艾黴素或其鹽之製造方法，其係包含使用藉由如上述〔1〕至〔6〕中任一項之製造方法所製造之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物作為中間體，來製造下述式(3)

所示之泛艾黴素或其鹽的步驟；〔8〕如〔7〕之製造方法，其中最終生成物為泛艾黴素鹽酸鹽；〔9〕一種4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，其係以下述式(4)表示：

〔式中，HA係表示草酸、苯磺酸或對甲苯磺酸〕；〔10〕一種4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，其HPLC純度為90%以上；〔11〕如〔10〕之4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，其中有機酸鹽為草酸鹽；〔12〕如〔10〕之4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，其中有機酸鹽為苯磺酸鹽；〔13〕如〔10〕之4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，其中有機酸鹽為對甲苯磺酸鹽。

根據本發明之方法，以式(1)所示之4’-表道諾黴素作為起始原料，可調製作為可充分去除屬其中可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的式(2)所示之新穎之製造中間體的4’-表道諾黴素有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，而且使用該中間體，可有效且高純度地製造泛艾黴素或其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)。

根據本發明之方法，有別於使用4’-表道諾黴素鹽酸鹽的方法，藉由在從4’-表道諾黴素製造4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的過程中進行1次的沉澱化，能有效地去除屬4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin。加之，藉由對所得之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物進行1次的結晶化，可進一步去除這些雜質。從而，具有可獲得能以較少的精製次數(較短的製造步驟)有效地供予高純度的泛艾黴素之製造的式(2)之化合物或其水合物或者溶劑合物的優點。

又，式(2)之化合物或其水合物或者溶劑合物的沉澱化以及結晶化可使用廉價之有機酸或廣用溶劑的組合來實施，本發明之方法，以無需組合煩瑣的操作即可獲得式(2)之化合物或其水合物或者溶劑合物的觀點而言係極為有效率，由製造成本等工業上的觀點而言亦屬有用之方法。

再者，如此所得之高純度的式(2)之化合物或其水合物或者溶劑合物的結晶可藉由如專利文獻2所記載的方法，衍生成高純度的泛艾黴素或其鹽。

[實施發明之形態]

本發明係有關於一種根據以下的路徑圖製造高純度的泛艾黴素(3)之方法及作為新穎之製造中間體的泛艾黴素的有機酸鹽(2)。

〔式中，HA係表示有機酸〕。

作為此處所使用之式(1)所示之4’-表道諾黴素，可使用例如藉由微生物的發酵培養及緊接其後之培養液的精製所製造的4’-表道諾黴素(專利文獻3、非專利文獻1)。

或者，亦可使用由藉由發酵培養所製造的道諾黴素，經過化學合成轉換所製造的4’-表道諾黴素。

作為藉由發酵培養所製造的道諾黴素所包含的代表性之類似物，已知有13-二氫道諾黴素、feudmycin等。此等類似物會藉化學合成轉換使4’位的羥基受到反轉，產生13-二氫表道諾黴素、4’-epifeudomycin等，而以雜質包含於4’-表道諾黴素粗製物。又，藉由發酵培養直接製造的4’-表道諾黴素粗製物中也會包含13-二氫表道諾黴素、4’-epifeudomycin等作為雜質。

作為本發明所使用的有機酸，亦可使用水合物。有機酸的種類不特別限定，較佳為草酸、苯磺酸、及對甲苯磺酸。

本發明之式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物不特別限定，較佳為4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物、4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物、及4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物。

本發明所提供之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，具體而言可依以下方法製造。

就4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物而言，係使4’-表道諾黴素溶解於溶劑A中，並對該溶液添加溶於溶劑B的草酸或草酸二水合物使4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物沉澱。其後，過濾分離沉澱物，視需求予以減壓乾燥。

作為溶劑A，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑A使用的有機溶劑較佳為鹵素系溶劑，具體而言為二氯甲烷、氯仿等，更佳為二氯甲烷。溶劑A的用量只要是可溶解4’-表道諾黴素的量則不特別限制，較佳的是相對於4’-表道諾黴素為10~400倍容量。

作為溶劑B，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑B使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、三級丁醇、丙酮、乙酸乙酯、四氫呋喃、1,4-二噁烷、甲苯、乙腈、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等，較佳為甲醇。溶劑B的用量為例如溶劑A的0.1~1倍容量，較佳為0.2~0.5倍容量。草酸或草酸二水合物的用量為例如1~22當量，較佳為2~12當量。沉澱化溫度為一般的製造步驟中所使用的溫度，為例如0~30℃，較佳為15~25℃。沉澱後視需求攪拌規定時間。例如1小時以上等製造上可容許的時間。

4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物，藉由其他的製造方法，例如對草酸或草酸二水合物的水溶液添加4’-表道諾黴素使其溶解，再對該溶液添加任意之溶劑使4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物沉澱的方法亦可調製。

此時，作為任意之溶劑，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為任意之溶劑使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙腈、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等，較佳為甲醇、2-丙醇。水的用量，相對於4’-表道諾黴素，為例如5~50倍容量，較佳為10~20倍容量。任意之溶劑的用量為例如水的1~10倍容量，較佳為1~5倍容量。草酸或草酸二水合物的用量為例如1~10當量，較佳為1~5當量。4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱化溫度為一般的製造步驟中所使用的溫度，例如0~60℃，較佳為0~30℃。沉澱後視需求攪拌規定時間。例如1小時以上等製造上可容許的時間。

就4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物而言，係使4’-表道諾黴素溶解於溶劑C中，並對該溶液添加溶於溶劑D的苯磺酸單水合物使4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物沉澱。其後，過濾分離沉澱物，視需求予以減壓乾燥。

作為溶劑C，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑C使用的有機溶劑較佳為鹵素系溶劑，具體而言為二氯甲烷、氯仿等，更佳為二氯甲烷。溶劑C的用量只要是可溶解4’-表道諾黴素的量則不特別限制，較佳的是相對於4’-表道諾黴素為10~400倍容量。

作為溶劑D，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑D使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、三級丁醇、丙酮、乙酸乙酯、四氫呋喃、1,4-二噁烷、甲苯、乙腈等，較佳為甲醇。溶劑D的用量為例如溶劑C的0.02~0.2倍容量，較佳為0.05~0.1倍容量。苯磺酸單水合物的用量為例如1~5當量，較佳為1~2當量。沉澱化溫度為一般的製造步驟中所使用的溫度，為例如0~30℃，較佳為15~25℃。沉澱後視需求攪拌規定時間。例如1小時以上等製造上可容許的時間。

4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物，藉由其他的製造方法，例如對苯磺酸單水合物的水溶液添加4’-表道諾黴素使其溶解，再對該溶液添加任意之溶劑使4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物沉澱的方法亦可調製。

此時，作為任意之溶劑，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為任意之溶劑使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙腈等，較佳為乙醇、及丙酮。水的用量，相對於4’-表道諾黴素為例如2.5~15倍容量，較佳為5~10倍容量。4’-表道諾黴素的溶解溫度為一般的製造步驟中所使用的溫度，為例如20~60℃。任意之溶劑的用量為例如水的1~10倍容量，較佳為1~5倍容量。苯磺酸單水合物的用量為例如1~5當量，較佳為1~2當量。

就4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物而言，係使4’-表道諾黴素溶解於溶劑E中，並對該溶液添加溶於溶劑F的對甲苯磺酸單水合物使4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物沉澱。其後，過濾分離沉澱物，視需求予以減壓乾燥。

作為溶劑E，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑E使用的有機溶劑較佳為鹵素系溶劑、醯胺系溶劑、及亞碸系溶劑、具體而言為二氯甲烷、氯仿、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸等，更佳為二氯甲烷。溶劑E的用量只要是可溶解4’-表道諾黴素的量則不特別限制，較佳的是相對於4’-表道諾黴素為10~400倍容量。

作為溶劑F，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑F使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、三級丁醇、丙酮、乙酸乙酯、四氫呋喃、1,4-二噁烷、甲苯、乙腈等，較佳為甲醇。溶劑F的用量為例如溶劑E的0.02~10倍容量，較佳為0.05~5倍容量。對甲苯磺酸單水合物的用量較佳為1~2當量的範圍，更佳為1~1.5當量。沉澱化溫度為一般的製造步驟中所使用的溫度，為例如0~ 30℃，較佳為15~25℃。沉澱後視需求攪拌規定時間。例如1小時以上等製造上可容許的時間。

上述所製造之4’-表道諾黴素的各種有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物可進一步經過結晶化。

具體而言，係使4’-表道諾黴素草酸鹽或其水合物或者溶劑合物懸浮於水中，使其在一般的製造步驟中所使用的溫度，例如20~60℃下溶解。接著，對該溶液添加任意之溶劑並緩緩使其冷卻。該溫度為任意者，惟較佳使其緩緩冷卻至0~30℃。其後，過濾分離析出物，視需求予以減壓乾燥。

作為任意之溶劑，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為任意之溶劑使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙腈等，較佳為甲醇、及2-丙醇。水的用量，相對於4’-表道諾黴素為例如5~20倍容量，較佳為10~15倍容量。任意之溶劑的用量為例如水的1~10倍容量，較佳為1~5倍容量。

就4’-表道諾黴素苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物而言，係使其懸浮於溶劑G中，使其在一般的製造步驟中所使用的溫度，例如20~60℃下溶解。接著，對該溶液添加溶劑H並緩緩使其冷卻。該溫度為任意者，惟較佳使其緩緩冷卻至0~30℃。其後，過濾分離析出物，視需求予以減壓乾燥。

溶劑G為例如水、N,N-二甲基甲醯胺、N,N- 二甲基乙醯胺、二甲基亞碸等，較佳為水。作為溶劑H，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑H使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙腈等，較佳為乙醇、及丙酮。溶劑G的用量，相對於4’-表道諾黴素為例如2.5~15倍容量，較佳為5~10倍容量。溶劑H的用量為例如溶劑G的1~10倍容量，較佳為1~5倍容量。

就4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物而言，係使其懸浮於有機溶劑與水的混合液中，使其在一般的製造步驟中所使用的溫度，例如20~60℃下溶解。接著，使該溶液緩緩冷卻。該溫度為任意者，惟較佳使其緩緩冷卻至0~30℃。其後，過濾分離析出物，視需求予以減壓乾燥。

作為有機溶劑，可使用本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙腈等，較佳為丙酮。有機溶劑與水的比例為例如1：1~5：1，較佳為1：1~2：1。混合液的用量，相對於4’-表道諾黴素為例如10~30倍容量，較佳為10~20倍容量。

又，4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物，藉由以下之方法亦可結晶化。

使4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽或其水合物或者溶劑合物懸浮於溶劑I中，使其在一般的製造步驟中所使用的溫度，例如20~60℃下溶解。對該溶液添加溶劑J使其進行析出，若有必要則緩緩使其冷卻。其後，過濾分離析出物，視需求予以減壓乾燥。

溶劑I為例如N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸等，較佳為N,N-二甲基甲醯胺。作為溶劑J，可使用水或本領域具有通常知識者廣泛使用的有機溶劑。可作為溶劑J使用的有機溶劑為例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、三級丁醇、丙酮、乙酸乙酯、甲苯等，較佳為乙醇。溶劑I的用量，相對於4’-表道諾黴素為例如2.5~15倍容量，較佳為5~10倍容量。溶劑J的用量為例如溶劑I的1~5倍容量，較佳為2~2.5倍容量。

藉由在從4’-表道諾黴素製造4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的過程中進行1次的沉澱化所達之13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率，相對於作為起始原料之式(1)所示之4’-表道諾黴素所含的量，分別為25%以上、及37%以上。又，藉由將以沉澱物獲得之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物進行1次結晶化所達之13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率，相對於以沉澱物獲得之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物所含的量，分別為77%以上、及63%以上。

由於根據本發明所製造之式(2)所示之4’- 表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物所含之雜質的量(HPLC分析之雜質峰面積相對於除有機酸峰以外之峰面積的和的百分率)係隨作為起始原料使用之4’-表道諾黴素所含之雜質的量而變化，非為一定，但藉由1次的沉澱化可使13-二氫表道諾黴素成為2.6%以下，使4’-epifeudomycin成為3.5%以下。又，透過進一步實施1次的結晶化，可使4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物之結晶中的13-二氫表道諾黴素成為1.6%以下，使4’-epifeudomycin成為0.9%以下。這些雜質的量可透過使用高純度的起始原料而進一步降低。

根據本發明所製造之式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物的HPLC純度為90%以上。又，藉由將以沉澱物獲得之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物進一步進行結晶化，HPLC純度可提升至95%以上。

使用根據本發明所製造之式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物，藉由例如專利文獻2所記載的方法，可製造高純度的泛艾黴素或其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)。例如，如欲製造泛艾黴素鹽酸鹽，首先，使4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物在縮酮化劑存在下與溴化劑反應，而得到溴縮酮體。接著，在酸性條件下，與酮系溶劑進行處理而得到溴酮體。進而，在羧酸金屬鹽存在下，將溴酮體水解，調成含有泛艾黴素作為主成分的溶液。使含有泛艾黴素作為主成分的溶液通過離子交換樹脂(氯化物離子型)形成泛艾黴素鹽酸鹽的水溶液，進一步藉由吸附性樹脂予以精製。濃縮泛艾黴素鹽酸鹽溶液的主餾分，而得到泛艾黴素鹽酸鹽。

更具體而言，係對4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物添加有機溶劑。有機溶劑只要是可促進該反應者則不特別限制，可為單一溶劑或混合數種溶劑。又，溶劑的混合比可取任意之比例。較佳為醇類、醚類及由此等構成的任意之混合溶劑。更佳為甲醇與1,4-二噁烷的混合溶劑。其次，使4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物與縮酮化劑及溴化劑作用，形成溴縮酮體。所使用之縮酮化劑為例如原甲酸烷基酯，作為原甲酸烷基酯，可使用例如原甲酸三甲酯、原甲酸三乙酯、原甲酸三丙酯、原甲酸三丁酯等。縮酮化劑較佳為原甲酸三甲酯。溴化劑較佳為溴。反應結束後，為了去除存在於反應液中的過量的酸，而添加酸捕捉劑，例如環氧丙烷。添加酸捕捉劑後，進行濃縮，對濃縮液添加不良溶劑使溴縮酮體以沉澱物分離出來。作為不良溶劑，可使用醚類。不良溶劑較佳為二異丙基醚。

溴縮酮體的沉澱物可未經乾燥而使用於下一步驟。將濕態或乾燥溴縮酮體溶解於氫溴酸的水溶液與酮系溶劑使其反應。作為酮系溶劑，可使用丙酮、甲基乙基酮等。酮系溶劑較佳為丙酮。反應後，無需分離溴酮體，即可轉換成泛艾黴素。亦即，藉由對溴酮體的溶液混合羧酸鹼金屬鹽，接著以鹼調整pH而得到含有泛艾黴素作為主成分的溶液。作為羧酸鹼金屬鹽，可使用甲酸鈉、乙酸鈉、甲酸鉀、乙酸鉀等。羧酸鹼金屬鹽較佳為甲酸鈉。作為鹼，可使用鹼金屬氫氧化物。鹼較佳為氫氧化鈉。pH較佳調整成4.0~6.0，更佳調整成4.5~5.5。

為了從含有泛艾黴素作為主成分的溶液中以鹽酸鹽形式分離出泛艾黴素，而用水稀釋溶液後，添加鹽酸調整pH。pH較佳調整成2.0~4.0，更佳調整成2.5~3.5。其次，使調整液通過離子交換樹脂(氯化物離子型)而得到泛艾黴素鹽酸鹽的水溶液。進一步使該水溶液吸附於吸附性樹脂，按水、有機溶劑與水的混合溶液之順序通液予以精製。作為有機溶劑，可使用例如甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丙酮等。有機溶劑較佳為甲醇。泛艾黴素鹽酸鹽的主餾分經過濃縮，對該濃縮液添加乙醇進一步予以濃縮，將其濃縮乾固而得到泛艾黴素鹽酸鹽。

如以上所說明，本發明係提供一種作為可充分去除屬4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的新穎之製造中間體的4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物、以4’-表道諾黴素作為起始原料，有效地製造該中間體之方法、以及、使用該中間體，有效且高純度地製造泛艾黴素或其鹽(例如醫藥上可容許的鹽)之方法。

[實施例]

以下示出本發明之實施例及比較例，惟本發明非限定於下述實施例。

4’-表道諾黴素、4’-表道諾黴素草酸鹽、4’-表道諾黴素苯磺酸鹽、4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽、及4’-表道諾黴素鹽酸鹽的HPLC純度為依以下條件進行HPLC分析時的4’-表道諾黴素的峰面積比。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率係對4’-表道諾黴素或4’-表道諾黴素鹽依以下條件進行HPLC分析時，將13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的峰面積除以4’-表道諾黴素的峰面積所得的值分別作為13-二氫表道諾黴素的含量及4’-epifeudomycin的含量而算出。

HPLC條件

管柱：Kinetex 2.6u C18 100A，2.6μm，3.0×150mm(Phenomenex公司製)

移動相A：5mmol/L月桂基硫酸鈉+10mmol/L磷酸鈉緩衝液(pH2.2)

移動相B：乙腈

流量：0.5ml/min.

溫度：40℃

測定波長：254nm

分析時間：13分

數據收集時間：2.0~13.0分

梯度條件：

於上述測定條件下，4’-表道諾黴素係於約8.7分確認出峰；13-二氫表道諾黴素係於約8.1分確認出峰；4’-epifeudomycin則於約8.5分確認出峰。

泛艾黴素鹽酸鹽的HPLC純度為依以下條件進行HPLC分析時的泛艾黴素的峰面積比。

HPLC條件

管柱：Senshu Pak ODS-1301S 4.6×300mm(Senshu Scientific公司製)

移動相：(0.3(w/v)%月桂基硫酸鈉+0.14(v/v)%磷酸緩衝液)/乙腈溶液=1/1

流量：1.1ml/min.

溫度：25℃

測定波長：254nm

分析時間：30分

於上述測定條件下，泛艾黴素係於約11分確認出峰。

實施例1：

將4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)溶於二氯甲烷60mL，添加草酸299mg的甲醇15mL溶液，在15~25℃下攪拌22小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽150mg(以4’-表道諾黴素計為129mg)。產率為85.5%、HPLC純度為94.8%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為52%及51%。又，依HPLC分析，4’-表道諾黴素草酸鹽中的草酸峰係與草酸(試劑特級品)的保持時間完全一致。

¹H-NMR(400MHz,D2O)δ(ppm)；7.55(1H,dd)、7.35(1H,d)、7.27(1H,d)、5.30(1H,d)、4.68(1H,m)、3.86(1H,m)、3.78(3H,s)、3.26(2H,m)、2.76(1H,d)、2.56(1H,d)、2.31(3H,d)、2.14(2H,m)、1.98(1H,dd)、1.81(1H,ddd)、1.22(3H,d)

MS(ESI,positive)；m/z 528[M+H]+

實施例2：

將4’-表道諾黴素5.0g(HPLC純度76.8%)溶於二氯甲烷2000mL，添加草酸10g的甲醇400mL溶液，在15~25℃下攪拌22小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽5.1g(以4’-表道諾黴素計為4.4g)。產率為88.3%、HPLC純度為94.4%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為48% 及48%。

實施例3：

將4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)溶於二氯甲烷60mL，添加草酸二水合物419mg的甲醇12mL溶液，在15~25℃下攪拌20小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽153mg(以4’-表道諾黴素計為132mg)。產率為88.1%、HPLC純度為95.3%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為56%及58%。

實施例4：

將4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)溶於草酸51mg的水1.5mL溶液，添加甲醇1.5mL，在15~25℃下攪拌22小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽135mg(以4’-表道諾黴素計為109mg)。產率為72.8%、HPLC純度為95.9%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為76%及61%。

實施例5：

將4’-表道諾黴素1.0g(HPLC純度75.8%)溶於二氯甲烷100mL，添加苯磺酸單水合物334mg的甲醇5mL溶液，在15~25℃下攪拌19小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素苯磺酸鹽1.12g(以4’-表道諾黴素計為0.88g)。產率為87.7%、HPLC純度為91.6%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為25%及37%。

¹H-NMR(400MHz,D2O)δ(ppm)；7.74(2H,m,C₆H₅SO₃H)、7.64(1H,dd)、7.50(3H,m,C₆H₅SO₃H)、7.43(1H,d)7.36(1H,d)、5.39(1H,d)、4.76(1H,m)、3.99(1H,m)、3.88(3H,s)、3.36(2H,m)、2.86(1H,d)、2.65(1H,d)、2.40(3H,s)、2.22(2H,m)、2.06(1H,dd)、1.90(1H,ddd)、1.31(3H,d)

MS(ESI,positive)；m/z 528[M+H]+

實施例6：

將4’-表道諾黴素1.0g(HPLC純度75.8%)溶於二氯甲烷100mL，添加對甲苯磺酸單水合物361mg的甲醇5mL溶液，在15~25℃下攪拌22小時。過濾分離沉澱物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽1.08g(以4’-表道諾黴素計為0.84g)。產率為83.8%、HPLC純度為92.8%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為37%及47%。

¹H-NMR(400MHz,D2O)δ(ppm)；7.59(1H,d,p-MeC₆H₄SO₃H)、7.58(1H,dd)、7.34(1H,d)、7.30(1H,d)、7.26(1H,d,p-MeC₆H₄SO₃H)、5.38(1H,d)、4.74(1H,m)、3.98(1H,m)、3.83(3H,s)、3.36(2H,m)、2.82(1H,d)、 2.62(1H,d)、2.40(3H,s)、2.30(3H,s,p-MeC₆H₄SO₃H)、2.23(2H,m)、2.03(1H,dd)、1.91(1H,ddd)、1.32(3H,d)

MS(ESI,positive)；m/z 528[M+H]+

比較例1：

使用4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)，依循專利文獻5之實施例2之鹽酸鹽化的方法，得到4’-表道諾黴素鹽酸鹽。產率為77.0%、HPLC純度為84.3%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為0%及6%。

比較例2：

使用4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)，依循非專利文獻2之鹽酸鹽化之方法，得到4’-表道諾黴素鹽酸鹽。產率為80.8%、HPLC純度為77.0%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為3%及9%。

比較例3：

使用4’-表道諾黴素150mg(HPLC純度79.9%)，依循專利文獻4之實施例9，得到4’-表道諾黴素鹽酸鹽。產率為92.1%、HPLC純度為80.2%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為0%及4%。

將13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率、HPLC純度、以及產率示於下述表1。

比較實施例1~6中所得之式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽、及比較例1~3所得之4’-表道諾黴素鹽酸鹽之13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率的結果，可有效地去除式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽中的這些雜質。

實施例7：

將4’-表道諾黴素草酸鹽2.65g(以4’-表道諾黴素計為2.00g)(HPLC純度92.9%)懸浮於水20mL中，在60℃下加熱溶解。對該溶液添加甲醇20mL，緩緩冷卻至25℃。過濾分離析出物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽1.83g(以4’-表道諾黴素計為1.70g)。產率為85.1%、HPLC純度為99.2%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為92%及89%。此外，所得之4’-表道諾黴素草酸鹽可看出偏光。

實施例8：

將4’-表道諾黴素草酸鹽262mg(以4’-表道諾黴素計為200mg)(HPLC純度92.9%)懸浮於水2.0mL中，在60℃下加熱溶解。對該溶液添加2-丙醇2.0mL，緩緩冷卻至25℃。過濾分離析出物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素草酸鹽197mg(以4’-表道諾黴素計為178mg)。產率為89.1%、HPLC純度為98.6%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為90%及89%。此外，所得之4’-表道諾黴素草酸鹽可看出偏光。

實施例9：

將4’-表道諾黴素苯磺酸鹽64mg(以4’-表道諾黴素計為50mg)(HPLC純度91.6%)懸浮於水250μL中，在45℃下加熱溶解。對該溶液添加乙醇250μL，緩緩冷卻至25℃。過濾分離析出物，得到4’-表道諾黴素苯磺酸鹽31mg(以4’-表道諾黴素計為27mg)。產率為53.3%、HPLC純度為98.7%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為91%及80%。此外，所得之4’-表道諾黴素苯磺酸鹽可看出偏光。

實施例10：

將4’-表道諾黴素苯磺酸鹽64mg(以4’-表道諾黴素計為50mg)(HPLC純度91.6%)懸浮於水250μL中，在45℃下加熱溶解。對該溶液添加丙酮250μL，緩緩冷卻至25℃。過濾分離析出物，得到4’-表道諾黴素苯磺酸鹽41mg(以4’-表道諾黴素計為35mg)。產率為69.2%、HPLC純度為98.1%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為83%及77%。此外，所得之4’-表道諾黴素苯磺酸鹽可看出偏光。

實施例11：

將4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽61mg(以4’-表道諾黴素計為50mg)(HPLC純度92.8%)懸浮於水250μL及丙酮375μL的混合液中，在45℃下加熱溶解。接著，將該溶液緩緩冷卻至0~5℃。過濾分離析出物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽31mg(以4’-表道諾黴素計為27mg)。產率為53.6%、HPLC純度為98.4%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為83%及63%。此外，所得之4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽可看出偏光。

實施例12：

對4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽658mg(以4’-表道諾黴素計為500mg)(HPLC純度91.0%)添加N,N-二甲基甲醯胺5mL，在30℃下使其溶解。對該溶液添加乙醇12.5mL並予以攪拌。過濾分離析出物後，進行減壓乾燥，得到4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽447mg(以4’-表道諾黴素計為365mg)。產率為73.0%、HPLC純度為97.4%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為77%及68%。此外，所得之4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽可看出偏光。

比較例4：

使用根據比較例3之方法所得到的4’-表道諾黴素鹽酸鹽8.7g(HPLC純度84.3%)，依循專利文獻6之實施例2，得到結晶性4’-表道諾黴素鹽酸鹽。產率為76.6%、HPLC純度為94.0%。又，13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率分別為75%及55%。

將13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率、HPLC純度、以及產率示於下述表2。

在實施例7~12中所得之式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽、與比較例4中所得之結晶性4’- 表道諾黴素鹽酸鹽之間比較13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin的去除率。其結果，藉由4’-表道諾黴素鹽酸鹽的結晶化，均可看出針對13-二氫表道諾黴素、4’-epifeudomycin的精製效果。然而，就其效果，比起4’-表道諾黴素的有機酸鹽較不充分，可判明為了獲得高純度的4’-表道諾黴素鹽酸鹽而需重複進行結晶化。結晶化之重複進行，由工業上的製造法觀點(產率、操作性、製造成本)而言非屬妥適。

實施例13：

將依實施例7之方法所製造的4’-表道諾黴素草酸鹽(以4’-表道諾黴素計為6.27g、HPLC純度99.2%)、甲醇67mL、1,4-二噁烷67mL、原甲酸三甲酯12mL混合後，添加溴1.1mL。在室溫下攪拌4小時後，添加環氧丙烷3.2mL進一步攪拌0.5小時。將該液濃縮至60mL，將濃縮液添加於二異丙基醚740mL使溴縮酮體沉澱出來。過濾分離生成的沉澱物，在未經乾燥下添加於水142mL與丙酮146mL的混合溶劑。對混合液添加氫溴酸4.2mL，在室溫下攪拌21小時。接著，對該反應液添加預先調製之甲酸鈉10g與水42mL的混合溶液。在室溫下攪拌24小時後，以氫氧化鈉水溶液將pH調整成5，進一步攪拌24小時。將該液以鹽酸調整成pH3，進行濃縮。將所得濃縮液用水調整成2000mL，使其通過離子交換樹脂(氯化物離子型)，接著通入水而得到包含泛艾黴素鹽酸鹽的溶液。進而，使該溶液吸附於吸附性樹脂，按水、水/甲醇=80/20(v/v)、水/甲醇=70/30(v/v)之順序，對泛艾黴素鹽酸鹽溶液進行洗提(elution)。濃縮主餾分，添加乙醇進一步進行濃縮。將所得殘渣減壓乾燥，得到泛艾黴素鹽酸鹽3.29g(以泛艾黴素計為2.99g)。產率為46.6%、HPLC純度為99.2%。

實施例14：

使用依實施例9之方法所製造的式(2)所示之4’-表道諾黴素苯磺酸鹽(以4’-表道諾黴素計為6.27g、HPLC純度98.7%)，以與實施例13同樣的方法得到泛艾黴素鹽酸鹽2.48g(以泛艾黴素計為2.22g)。產率為34.3%、HPLC純度為97.9%。

實施例15：

使用依實施例11之方法所製造的式(2)所示之4’-表道諾黴素對甲苯磺酸鹽(以4’-表道諾黴素計為6.27g、HPLC純度98.7%)，以與實施例13同樣的方法得到泛艾黴素鹽酸鹽2.50g(以泛艾黴素計為2.26g)。產率為35.0%、HPLC純度為98.1%。

比較例5：

使用依比較例4之方法所製造的4’-表道諾黴素鹽酸鹽(以4’-表道諾黴素計為6.27g、HPLC純度93.1%)，以與實施例13同樣的方法得到泛艾黴素鹽酸鹽4.02g(以泛艾黴素計為3.41g)。產率為52.8%、HPLC純度為93.7%。

針對實施例13~15、及比較例5中所得的泛艾黴素鹽酸鹽比較HPLC純度。其結果，使用式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽所製造的泛艾黴素鹽酸鹽的HPLC純度，比起使用4’-表道諾黴素鹽酸鹽所製造的泛艾黴素鹽酸鹽為更高純度。

〔產業上可利用性〕

根據本發明之方法，透過使用高純度的式(2)所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物作為新穎之製造中間體，可製造高純度的泛艾黴素或鹽。又，根據本發明之方法，有別於使用4’-表道諾黴素鹽酸鹽的方法，藉由在從4’-表道諾黴素製造4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的過程中進行1次的沉澱化，能有效地去除屬4’-表道諾黴素可能包含的代表性之雜質的13-二氫表道諾黴素及4’-epifeudomycin。加之，藉由對所得之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物進行1次的結晶化，可進一步去除這些雜質。

從而，由於可獲得比起習知4’-表道諾黴素鹽酸鹽，能以較少的精製次數(較短的製造步驟)有效地供予高純度的泛艾黴素或其鹽之製造的式(2)之化合物，因此，在泛艾黴素的工業製造之領域中極為有用。

Claims

一種4’-表道諾黴素(4’-epi-Daunorubicin)的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物之製造方法，其係包含將下述式(1)
所示之4’-表道諾黴素、與有機酸在溶劑中混合，而形成下述式(2)
〔式中，HA係表示有機酸〕所示之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟，且4’-表道諾黴素的有機酸鹽係選自草酸鹽、苯磺酸鹽及對甲苯磺酸鹽所成之組群。
如請求項1之製造方法，其中形成4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟係包含形成 4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的沉澱物的步驟。
如請求項1之製造方法，其中形成4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的步驟係包含4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物的結晶化步驟。
一種泛艾黴素或其鹽之製造方法，其係包含使用藉由如請求項1~3中任一項之製造方法所製造之4’-表道諾黴素的有機酸鹽或其水合物或者溶劑合物作為中間體，來製造下述式(3)
所示之泛艾黴素或其鹽的步驟。
如請求項4之製造方法，其中最終生成物為泛艾黴素鹽酸鹽。
一種4’-表道諾黴素有機酸鹽，其係以下述式(4)表示：
〔式中，HA係表示草酸、苯磺酸或對甲苯磺酸〕。
一種4’-表道諾黴素有機酸鹽，其HPLC純度為90%以上，且4’-表道諾黴素的有機酸鹽係選自草酸鹽、苯磺酸鹽及對甲苯磺酸鹽所成之組群。