TWI705887B - 造形裝置及造形方法 - Google Patents

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TWI705887B TW104137319A TW104137319A TWI705887B TW I705887 B TWI705887 B TW I705887B TW 104137319 A TW104137319 A TW 104137319A TW 104137319 A TW104137319 A TW 104137319A TW I705887 B TWI705887 B TW I705887B
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柴崎祐一
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Abstract

造形裝置，其具備：移動系統，係使對象面(TAS)移動；測量系統，用以取得在藉由移動系統而能移動之狀態下之對象面(TAS)之位置資訊；光束造形系統(500)，具有光束照射部(520)、以及供給被以來自光束照射部(520)之光束照射之造形材料的材料處理部(530)；以及控制裝置。控制裝置，根據待形成於對象面上之三維造形物之3D資料與使用測量系統所取得之對象面(TAS)之位置資訊控制移動系統與光束造形系統(500)以一邊使對象面(TAS)與來自光束照射部(520)之光束(LB)相對移動、一邊供給造形材料據以對對象面(TAS)上之目標部位(T)施加造形。是以，能將加工精度良好之三維造形物形成於對象面上。

Description

造形裝置及造形方法
本發明係關於造形裝置及造形方法，更詳言之，係關於在對象面上形成三維造形物之造形裝置及造形方法。本發明之造形裝置及造形方法，能非常合適地用於藉快速原型設計(有時亦被稱為3D列印或附加製造、或直接數位製造)之三維造形物之形成。
從CAD資料直接生成3D(三維)形狀之技術，被稱為快速原型設計(有時亦被稱為3D列印或附加製造、或直接數位製造，但以下使用快速原型設計作為總稱)，有助於在極短之前置時間製作主要以形狀確認為目的之試作品。藉由3D列印機等快速原型設計來形成三維造形物之造形裝置，若以處理材料分類，能大分為處理樹脂者與處理金屬者。以快速原型設計製作之金屬製三維造形物，與樹脂製之場合不同地專作為實際零件使用。亦即，並非形狀確認用之試作零件，而係使之作為實際機械構造物之一部分(不論其為量產品或試作品)來發揮功能。作為既有之金屬用3D列印機(以下簡稱為M3DP(Metal 3D Printer))，有PBF(Powder Bed Fusion)與DED(Directed Energy Deposition)之兩種類為眾所皆知。
PBF，係於搭載被加工物之底床上積層較薄之燒結金屬粉末，對該處透過電流鏡等掃描一高能量之雷射光束，並使光束接觸之部分 熔融並凝固。在一層量之描繪結束後，底床下降一層量之厚度，於該處再度塗抹燒結金屬之粉末，反覆相同動作。以此方式逐層反覆進行造形，而製得所欲之三維形狀。
PBF因其造形原理，本質上存在幾個問題點：(1)零件之製作精度不充分，(2)完工之表面粗度差，(3)處理速度慢，以及(4)燒結金屬粉末之處理麻煩且費事等。
DED採取使熔解後之金屬材料附著於加工對象之方法。例如，對以聚光透鏡聚集之雷射光束之焦點附近噴射粉末金屬。之後，該粉末金屬因雷射照射而熔解成為液體狀。若於該焦點附近有加工對象，則該液體化之金屬附著於加工對象，被冷卻而再度凝固。此焦點部分即為所謂筆尖，能於加工對象表面陸續描繪「具有厚度之線」。藉由加工對象及加工頭(雷射及粉末噴射頭等其他)之一方相對另一方基於CAD資料適切地相對運動，而能形塑出所欲形狀(參照例如專利文獻1)。
由此點可知，於DED，由於粉末材料係從加工頭視需要而噴射所需之量，不會產生浪費且亦無須於大量剩餘粉末中進行加工。
如上所述，DED相較於PBF，雖在作為原材料之粉末金屬之處理等已有謀求改善，但應改善之點仍多。
在此種背景下，被強烈期待能提升作為形成三維造形物之造形裝置之工作機械之便利性、最終能提升製造之經濟合理性。
先行技術文獻
[專利文獻1]美國專利申請公開第2003/02606820號說明書
根據本發明之第1態樣，提供一種造形裝置，係於對象面上形成三維造形物，其具備：移動系統，係使前述對象面移動；測量系統，用以在藉由前述移動系統而能移動之狀態下取得前述對象面之位置資訊；光束造形系統，具有射出光束之光束照射部、以及供給被以來自前述光束照射部之光束照射之造形材料的材料處理部；以及控制裝置，根據待形成於前述對象面上之三維造形物之3D資料與使用前述測量系統所取得之前述對象面之位置資訊控制前述移動系統與前述光束造形系統，以一邊使前述對象面與來自前述光束照射部之光束相對移動、一邊從前述材料處理部供給前述造形材料據以對前述對象面上之目標部位施加造形。
此處之對象面為設定造形之目標部位之面。
藉此，能將加工精度良好之三維造形物形成於對象面上。
根據本發明之第2態樣，提供一種造形方法，係於對象面上形成三維造形物，其包含：測量前述對象面之位置資訊的動作；以及根據待形成於前述對象面上之三維造形物之3D資料與前述測量之前述對象面之位置資訊，一邊使前述對象面與前述光束相對移動、一邊供給被前述光束照射之造形材料據以對前述對象面上之目標部位施加造形的動作。
藉此，能將加工精度良好之三維造形物形成於對象面上。
10:滑件
12:載台
13:夾具機構
141~146:桿
16:伸縮機構
18:萬向接頭
20:第1軸構件
22:第2軸構件
241~246:線性編碼器
26:平面馬達
28:位置測量系
30:框架
32:讀頭部
34:Z軸導件
36:旋轉機構
38:感測器部
40:水平構件
42:柱構件
44:Z驅動機構
46:Z編碼器
48:旋轉角度感測器
50:照射部
50a:線光
52:檢測部
54:運算處理部
56:標記檢測系
60:光源單元
62:光導引光纖
62a:入射口
62b:射出部
64:雙複眼光學系
66:聚光透鏡系
68:外殼
70:雷射單元
72:第1複眼透鏡系
74:透鏡系
76:第2複眼透鏡系
78:光束剖面強度轉換光學系
80:反射鏡陣列
80A:底座構件
81p,q:反射鏡元件
82:聚光光學系
83:旋轉編碼器
84:噴嘴單元
84a:噴嘴
84b:支撐構件
84c:支撐構件
85:限制構件
86:材料供給裝置
87:驅動部
88A:粉末匣
88B:粉末匣
89:檢測系統
90a:配管
90b:配管
90c:配管
91:供給口
92:測量構件
92a:開口
93:開閉構件
94:第1光學系
95:光學系單元
96:受光器
96a:受光元件(CCD)
96b:電路
97:開口部
98:透鏡
100:造形裝置
101:旋轉板
101a:旋轉軸
102:驅動裝置
110:測量裝置
200:移動系統
300:搬送系統
400:測量系統
401:三維測量機
500:光束造形系統
510:光源系
520:光束照射部
530:材料處理部
540:灑水頭
600:控制裝置
A:圓
AX:光軸
AX1:光軸
BS:底座
BE:銲珠
F:地
PP:光瞳面
PD:造形材料
LB:平行光束
LS:一文字區域
MP:造形面
TA:目標部位
TAS:對象面
W:工件
WP:熔融
圖1係顯示一實施形態之造形裝置之整體構成的方塊圖。
圖2係將移動系統之構成與測量系統一起概略顯示的圖。
圖3係顯示搭載有工件之移動系統之立體圖。
圖4係將光束造形系統與搭載有工件之載台一起顯示的圖。
圖5係顯示構成光束造形系統所具備之光束照射部之一部分之光源系構成一例的圖。
圖6係顯示來自光源系之平行光束照射於反射鏡陣列，來自複數個反射鏡元件各個之反射光束對聚光光學系之入射角度被個別控制之狀態的圖。
圖7係將光束造形系統所具備之材料處理部與聚光光學系一起顯示的圖。
圖8係顯示形成於材料處理部之噴頭之複數個供給口與開閉該複數個供給口之各個之開閉構件的圖。
圖9(A)係將圖4之圓A內放大顯示的圖，圖9(B)係顯示圖9(A)所示之一文字區域與掃描方向之關係的圖。
圖10係顯示形成於造形面上之光束照射區域之一例的圖。
圖11係顯示以造形裝置之控制系為中心構成之控制裝置之輸出入關係的方塊圖。
圖12係顯示載台上之測量裝置之配置的圖。
圖13係構成測量裝置之配置於載台內部之構成部分與測量構件一起顯示的圖。
圖14(A)係顯示測量在聚光光學系之後側焦點面之光束之強度分布時之光學配置的圖，圖14(B)係顯示測量在光瞳面之光束之強度分布時之光學配 置的圖。
圖15係顯示對應控制裝置之一連串處理演算法的流程圖。
圖16(A)及圖16(B)係用以將一實施形態之造形裝置之一個效果與習知技術比較說明的圖。
圖17係顯示用以測量在造形面之光束之強度分布之測量裝置一例的圖。
圖18(A)及圖18(B)係用以說明藉由稍微加粗一文字區域之寬度以增厚塗布層厚度之例的圖。
以下，根據圖1~圖18(B)說明一實施形態。圖1係以方塊圖顯示一實施形態之造形裝置100之整體構成。
造形裝置100係DED方式之M3DP。造形裝置100雖能用於藉由快速原型設計於後述之載台12上形成三維造形物，但亦能用於對工件(例如既有之零件)進行三維造形之附加加工。本實施形態中，係以後者之對工件進行附加加工之場合為中心進行說明。在實際之製造業現場，一般而言會對以別的製法、別的材料或別的工作機械作成之零件進一步反覆加工而完工成所欲之零件，而對於三維造形之附加加工，其要求亦潛在相同。
造形裝置100具備移動系統200、搬送系統300、測量系統400及光束造形系統500之4個系統、以及包含此等系統且控制造形裝置100整體之控制裝置600。其中，搬送系統300、測量系統400、光束造形系統500，在既定方向彼此分離配置。以下說明中為了方便，搬送系統300、測量系統400、光束造形系統500係在後述之X軸方向(參照圖2)彼此分離配 置。
圖2係將移動系統200之構成與測量系統400一起概略顯示。又，圖3係以立體圖顯示搭載有工件W之移動系統200。以下，將圖2中紙面內之左右方向定為Y軸方向，將與紙面正交之方向定為X軸方向，將與X軸及Y軸正交之方向定為Z軸方向，將繞X軸、Y軸及Z軸之旋轉(傾斜)方向分別定為θ x、θ y及θ z方向以進行說明。
移動系統200，係變更造形之對象面(此處為設定工件W上之目標部位TA之面)TAS(參照例如圖4及圖9(A))之位置及姿勢。具體而言，藉由將具有對象面之工件及搭載該工件之後述載台驅動於6自由度方向(X軸、Y軸、Z軸、θ x、θ y及θ z之各方向)，來進行對象面之6自由度方向之位置變更。本說明書中，針對載台、工件或對象面等，係將θ x、θ y及θ z方向之3自由度方向之位置適當地總稱為「姿勢」，對應於此，將剩餘之3自由度方向(X軸、Y軸及Z軸方向)之位置適當地總稱為「位置」。
移動系統200，作為變更載台之位置及姿勢之驅動機構一例係具備史都華(Stewart)平台型之6自由度平行連結機構。此外，移動系統200不限於能將載台驅動於6自由度方向者。
移動系統200(不過，不含後述平面馬達之定子)，係如圖2所示，配置於以其上面與XY平面大致平行之方式設置於地F上之底座BS上。移動系統200，如圖3所示具有構成底座平台之俯視正六角狀之滑件10、構成末端效應器之載台12、連結滑件10與載台12之6支能伸縮之桿(連結件)141~146、以及分別設於桿141~146而使該各桿伸縮之伸縮機構161~166(在圖3中未圖示，參照圖11)。移動系統200係藉由以伸縮機構161~166 分別獨立地調整桿141~146之長度而能在三維空間內於6自由度控制載台12之移動的構造。移動系統200，由於具備史都華平台型之6自由度平行連結機構作為載台12之驅動機構，因此有高精度、高剛性、支撐力大、逆向運動學計算容易等特徵。
本實施形態之造形裝置100，在對工件之附加加工時等，為了對工件形成所欲形狀之造形物等，係相對光束造形系統500、更具體而言係相對來自後述光束照射部之光束控制工件(載台12)之位置及姿勢。原理上，此相反地來自光束照射部之光束亦可為可動，光束與工件(載台)之兩方亦可為可動。如後所述，由於光束造形系統500為複雜之構成，因此使工件移動之方式較為簡便。
載台12，此處係由將正三角形之各頂點部分切離之形狀之板構件構成。於載台12之上面搭載附加加工對象之工件W。於載台12，設有用以固定工件W之夾具機構13(在圖3中未圖示，參照圖11)。作為夾具機構13，係使用例如機械式夾具或真空夾具等。又，載台12設有包含圖3所示之俯視圓形之測量構件92的測量裝置110(參照圖12、圖13)。關於測量裝置110於後詳述之。此外，載台12不限於圖3所示之形狀，亦可為矩形板狀、圓盤狀等任意形狀。
此情形下，如由圖3可清楚得知，桿141~146之各個之兩端係透過萬向接頭18而分別連接於滑件10與載台12。又，桿141,142連接於載台12之三角形之一個頂點位置附近，藉由滑件10與此等桿141,142而成為構成大略三角形的配置。同樣地，桿143,144、及桿145,146分別連接於載台12之三角形之剩餘之各頂點位置附近，而藉由滑件10與桿143,144及桿 145,146分別成為構成大略三角形的配置。
此等桿141~146之各個，如於圖3針對桿141代表地顯示般，具有能於各個之軸方向相對移動之第1軸構件20與第2軸構件22，第1軸構件20之一端(下端)透過萬向接頭18安裝於滑件10，第2軸構件22之另一端(上端)透過萬向接頭安裝於載台12。
於第1軸構件20之內部形成有具段差之圓柱狀中空部，於此中空部之下端側，收納有例如伸縮型之氣缸。於此氣缸連接有空壓迴路及空氣壓源(均未圖示)。又，藉由透過空壓迴路控制從該空氣壓源供給之壓縮空氣以控制氣缸之內壓，藉此氣缸所具有之活塞往返移動於軸方向。在氣缸，返回步驟係利用組裝於平行連結機構時作用於活塞之重力。
又，於第1軸構件20之中空部內之上端側，配置有排列配置於軸方向之複數個電樞線圈所構成之電樞單元(未圖示)。
另一方面，第2軸構件22，其一端部(下端部)插入第1軸構件20之中空部內。於此第2軸構件22之一端部，形成有直徑較其他部分小之小徑部，於此小徑部之周圍設有由磁性體構件構成之圓管狀可動軛。於可動軛之外周部設有由同一尺寸之複數個永久磁石構成之中空圓柱狀、亦即圓筒狀之磁石體。此情形下，藉由可動軛與磁石體，構成有中空圓柱狀之磁石單元。本實施形態中，係藉由電樞單元與磁石單元，構成電磁力線性馬達之一種亦即軸馬達。以此方式構成之軸馬達，係藉由對定子亦即電樞單元之各線圈供給既定週期及既定振幅之正弦波狀驅動電流，而利用磁石單元與電樞單元之間之電磁氣相互作用之一種之電磁相互作用而產生之勞倫茲力(驅動力)使第2軸構件22相對第1軸構件20被驅動於軸方向。
亦即，本實施形態中，係藉由上述之氣缸與軸馬達將第1軸構件20與第2軸構件22於軸方向相對驅動，而分別構成使桿141~146之各個伸縮之前述伸縮機構161~166(參照圖11)。
又，軸馬達之動子亦即磁石單元，係透過設於第1軸構件20內周面之空氣墊而相對定子亦即電樞單元以非接觸方式被支撐。
又，在圖3中雖省略圖示，但於桿141~146分別設有檢測以第1軸構件20作為基準之第2軸構件22之軸方向位置之絕對型之線性編碼器241~246，此等線性編碼器241~246之輸出供給至控制裝置600(參照圖11)。以線性編碼器241~246檢測出之第2軸構件22之軸方向位置，對應於桿141~146各個之長度。
根據線性編碼器241~246之輸出，伸縮機構161~166被控制裝置600所控制(參照圖11)。與本實施形態之移動系統200相同之平行連結機構之構成詳細，揭示於例如美國發明專利第6,940,582號說明書，控制裝置600係藉由與上述美國發明專利說明書所揭示相同之方法，使用逆向運動學計算透過伸縮機構161~166控制載台12之位置及姿勢。
移動系統200中，分別設於桿141~146之伸縮機構161~166，由於具有相互串聯(或並聯)配置之氣缸與電磁力線性馬達之一種亦即軸馬達，因此控制裝置600能藉由氣缸之空壓控制，將載台12粗略大幅驅動，且藉由軸馬達細幅地使之微動。此結果，能在短時間且正確地進行載台12之6自由度方向之位置(亦即位置及姿勢)控制。
又，桿141~146之各個，由於具有將軸馬達之動子亦即磁石單元相對定子亦即電樞單元以非接觸方式支撐之空氣墊，因此能避免在控 制藉伸縮機構對桿之伸縮時之作為非線性成分之摩擦，藉此，能更高精度地進行載台12之位置及姿勢之控制。
又，本實施形態中，由於作為構成伸縮機構161~166之電磁力線性馬達係使用軸馬達，在該軸馬達中使用在動子側使用了圓筒狀磁石之磁石單元，因此能於該磁石之放射方向全方向產生磁通(磁場)，使該全方向之磁通有助於因電磁相互作用所致之勞倫茲力(驅動力)之產生，與例如一般線性馬達等相較能使明顯較大之推力產生，相較於油壓汽缸等更容易小型化。
是以，藉由各桿分別包含軸馬達之移動系統200，能同時實現小型且輕量化與輸出之提升，而能非常合適地用於造形裝置100。
又，控制裝置600，能藉由控制分別構成伸縮機構之氣缸之空壓來將低頻振動制振且藉由對軸馬達之電流控制使高頻振動絕緣。
移動系統200，進一步具備平面馬達26(參照圖11)。於滑件10之底面設有由磁石單元(或線圈單元)所構成之平面馬達26之動子，對應於此於底座BS內部收容有由線圈單元(或磁石單元)所構成之平面馬達26之定子。於滑件10底面以包圍動子之方式設有複數個空氣軸承(空氣靜壓軸承)，藉由複數個空氣軸承，滑件10隔著既定之空隙(間隔或間隙)懸浮支撐於作成高平坦度之底座BS之上面(導引面)上。藉由利用平面馬達26之定子與動子之間之電磁相互作用而產生之電磁力(勞倫茲力)，滑件10相對底座BS之上面以非接觸方式在XY平面內被驅動。本實施形態中，移動系統200如圖1所示，能在測量系統400及光束造形系統500、以及搬送系統300之配置位置相互間使載台12移動自如。此外，移動系統200亦可分別具備搭 載工件W之複數個載台12。例如亦可在對複數個載台之一個所保持之工件進行使用了光束造形系統500之加工的期間，對另一個載台所保持之工件進行使用了測量系統400之測量。在此種情形下，亦可在測量系統400及光束造形系統500、以及搬送系統300之配置位置相互間使各個載台移動自如。或者，在採用設置專用測量系統400之測量時保持工件之載台與專用光束造形系統500之加工時保持工件之載台，且工件對該兩個載台之搬入及搬出可藉由工件搬送系等進行的構成時，各個滑件10亦可固定於底座BS上。即使在設置複數個載台12之場合，各個載台12亦可移動於6自由度方向，且其6自由度方向之位置亦能控制。
此外，作為平面馬達26並不限於氣浮方式，亦可使用磁浮式之平面馬達。在後者之場合，不需於滑件10設置空氣軸承。又，作為平面馬達26，亦可使用動磁型、動圈型之任一者。
控制裝置600，藉由控制對構成平面馬達26之線圈單元之各線圈供給之電流之大小及方向之至少一方，而能將滑件10在底座BS上自由驅動於X、Y二維方向。
本實施形態中，移動系統200具備測量滑件10在X軸方向及Y軸方向之位置資訊之位置測量系28(參照圖11)。作為位置測量系28能使用二維絕對編碼器。具體而言，係於底座BS之上面設置具有涵蓋X軸方向全長之既定寬度之帶狀絕對碼(code)之二維標尺，與此對應地，於滑件10底面設置發光元件等光源與X讀頭及Y讀頭，該X讀頭及Y讀頭由分別接收來自被從該光源射出之光束照明之二維標尺之反射光之排列於X軸方向之一維受光元件陣列及排列於Y軸方向之一維受光元件陣列所構成。作為 二維標尺，係使用例如於非反射性之基材(反射率0%)上沿著彼此正交之2方向(X軸方向及Y軸方向)以一定週期二維排列有複數個正方形反射部(標記)且反射部之反射特性(反射率)具有依循既定規則之階度者。作為二維絕對編碼器，亦可採用例如與美國發明專利申請公開第2014/0070073號公報所揭示之二維絕對編碼器相同的構成。藉由與美國發明專利申請公開第2014/0070073號公報相同構成之絕對型二維編碼器，能進行與習知之遞增編碼器同等之高精度二維位置資訊之測量。由於係絕對編碼器，因此與遞增編碼器不同地，不需要進行原點檢測。位置測量系28之測量資訊被送至控制裝置600。
本實施形態中，如後所述，藉由測量系統400測量搭載於載台12上之工件W上之對象面(例如上面)之至少一部分之三維空間內之位置資訊(在本實施形態中為形狀資訊)，於該測量後進行對工件W之附加加工(造形)。是以，控制裝置600，在已測量工件W上之對象面之至少一部分形狀資訊時，係藉由使其測量結果與其測量時設於桿141~146之線性編碼器241~246之測量結果及位置測量系28之測量結果建立對應關係，而能將搭載於載台12之工件W上之對象面之位置及姿勢與造形裝置100之基準座標系(以下稱為載台座標系)建立關聯。藉此，於其後藉由基於線性編碼器241~246及位置測量系28之測量結果之載台12之6自由度方向位置的開環(open loop)控制，即能控制工件W上之對象面TAS之相對於目標值之在6自由度方向的位置。本實施形態中，由於作為線性編碼器241~246及位置測量系28係使用絕對型編碼器而不需要找出原點，因此重設容易。此外，能用於控制載台12在6自由度方向位置之藉由開環控制所致之工件W上之對 象面之相對於目標值之在6自由度方向的位置之、待以測量系統400測量之前述三維空間內之位置資訊，不論形狀為何，只要為對應對象面形狀之至少3點三維位置資訊即足夠。
此外，本實施形態中，雖說明了作為將滑件10在XY平面內驅動之驅動裝置係使用平面馬達26之場合，但亦可取代平面馬達26而使用線性馬達。此情形下，亦可構成取代前述二維絕對編碼器而改由絕對型線性編碼器測量滑件10之位置資訊的位置測量系。又，測量滑件10之位置資訊之位置測量系不限於編碼器，亦可使用干渉儀系統構成。
又，本實施形態中，雖例示了使用將滑件在XY平面內驅動之平面馬達與藉由滑件構成底座平台之史都華平台型之6自由度平行連結機構來構成驅動載台之機構的場合，但不限於此，亦可使用其他類型之平行連結機構或平行連結機構以外之機構構成驅動載台之機構。例如，亦可採用在XY平面內移動之滑件與在滑件上將載台12驅動於Z軸方向及相對於XY平面之傾斜方向的Z傾斜驅動機構。作為此種Z傾斜驅動機構之一例，可舉出將載台12在三角形之各頂點位置透過例如萬向接頭等其他接頭從下方予以支撐且具有能將各支撐點彼此獨立地驅動於Z軸方向之三個致動器(音圈馬達等)的機構。不過，驅動移動系統200之載台之機構的構成不限於此等，只要係能將載置工件之載台(可動構件)驅動於XY平面內之3自由度方向及Z軸方向、以及相對於XY平面之傾斜方向的至少5自由度方向之構成即可，亦可不具備在XY平面內移動之滑件。例如亦可藉由載台與驅動此載台之機器人構成移動系統。不論係何種構成，只要使用絕對型之線性編碼器之組合或該線性編碼器與絕對型旋轉編碼器之組合來構成測量 載台位置之測量系，則能使重設容易。
此外，亦可取代移動系統200，而採用能將載台12驅動於XY平面內之3自由度方向及Z軸方向、以及相對於XY平面之傾斜方向(θ x或θ y)之至少5自由度方向的系統。此情形下，可將載台12本身藉由氣浮或磁浮隔著既定空隙(間隔或間隙)懸浮支撐(非接觸支撐)於底座BS等之支撐構件之上面上。若採用此種構成，載台由於係相對於支撐載台之構件以非接觸方式移動，因此在定位精度方面極為有利，大幅有助於造形精度之提升。
測量系統400，係進行用以將搭載於載台12之工件之位置及姿勢與載台座標系建立關聯之工件三維位置資訊例如形狀的測量。測量系統400如圖2所示具備雷射非接觸式之三維測量機401。三維測量機401具備設置於底座BS上之框架30、安裝於框架30之讀頭部32、安裝於讀頭部32之Z軸導件34、設於Z軸導件34下端之旋轉機構36、以及連接於旋轉機構36下端之感測器部38。
框架30由延伸於Y軸方向之水平構件40與將水平構件40在Y軸方向兩端部從下方予以支撐之一對柱構件42所構成。
讀頭部32安裝於框架30之水平構件40。
Z軸導件34，於讀頭部32安裝成能移動於Z軸方向，藉由Z驅動機構44(在圖2中未圖示，參照圖11)被驅動於Z軸方向。Z軸導件34之Z軸方向位置(或自基準位置起之變位)藉由Z編碼器46(在圖2中未圖示，參照圖11)測量。
旋轉機構36，係將感測器部38相對於讀頭部32(Z軸導件 34)在既定角度範圍(例如90度(π/2)或180度(π)之範圍)內繞與Z軸平行之旋轉中心軸連續地(或以既定角度步進)旋轉驅動。本實施形態中，旋轉機構36之感測器部38之旋轉中心軸，係與從構成感測器部38之後述照射部照射之線光之中心軸一致。藉旋轉機構36之感測器部38之自基準位置起之旋轉角度(或感測器部之θ z方向位置)，係藉由例如旋轉編碼器等旋轉角度感測器48(在圖2中未圖示，參照圖11)被測量。
感測器部38，係以對載置於載台12上之被檢測物(圖2中為工件W)照射用以進行光切斷之線光之照射部50、以及檢測因被照射線光而出現光切斷面(線)之被檢測物之表面的檢測部52為主體構成。又，於感測器部38連接有根據藉由檢測部52檢測出之影像資料求出被檢測物形狀之運算處理部54。運算處理部54，係被本實施形態中用以統籌控制造形裝置100之構成各部之控制裝置600所包含(參照圖11)。
照射部50，由未圖示之圓柱透鏡及具有細帶狀缺口之狹縫板等構成，係接收來自光源之照明光並使扇狀之線光50a產生者。作為光源能使用LED、雷射光源或SLD(super luminescent diode)等。在使用LED之場合能廉價地形成光源。又，在使用雷射光源之場合，由於係點光源而能作出像差少之線光，波長穩定性優異且半值寬度小，由於能將半值寬度小之濾光器用於雜散光截止，因此能減少干擾之影響。又，在使用SLD之場合，除了雷射光源之特性以外，由於可干渉性較雷射光低，因此能抑制在被檢測物面之班點之產生。檢測部52，係用以從與照射部50之光照射方向不同之方向拍攝投影於被檢測物(工件W)表面之線光50a者。又，檢測部52，係由未圖示之成像透鏡或CCD等構成，如後所述般係使載台12移動而在線光 50a每隔既定間隔掃描時拍攝被檢測物(工件W)。此外，照射部50及檢測部52之位置，被決定成被檢測物(工件W)表面上之線光50a對檢測部52之入射方向與照射部50之光照射方向成既定角度θ。本實施形態中，上述既定角度θ設定為例如45度。
以檢測部52拍攝之被檢測物(工件W)之影像資料被送至運算處理部54，在此處進行既定之影像運算處理而算出被檢測物(工件W)表面之高度，以求出被檢測物(工件W)之三維形狀(表面形狀)。運算處理部54，係於被檢測物(工件W)之影像中，根據對應於被檢測物(工件W)凹凸而變形之線光50a對光切斷面(線)之位置資訊，就光切斷面(線)(線光50a)延伸之長度方向之各像素使用三角測量原理算出被檢測物(工件W)表面自基準平面起之高度，進行求出被檢測物(工件W)之三維形狀之運算處理。
本實施形態中，控制裝置600，係使載台12移動於與投影於被檢測物(工件W)之線光50a之長度方向大致直角的方向，藉此使線光50a掃描被檢測物(工件W)之表面。控制裝置600，係以旋轉角度感測器48檢測出感測器部38之旋轉角度，根據其檢測結果使載台12移動於與線光50a之長度方向大致直角的方向。如此，本實施形態中，由於在測量被檢測物(工件W)形狀等時使載台12移動，因此作為其前提，在保持工件W而移動至測量系統400之感測器部38下方的時點，載台12之位置及姿勢(6自由度方向之位置)係隨時設定於既定基準狀態。基準狀態，例如係桿141~146均成為相當於伸縮動程範圍中立點之長度(或最小長度)的狀態，此時，載台12在Z軸、θ x、θ y及θ z之各方向之位置為(Z,θ x,θ y,θ z)=(Z0,0,0,0)。又，在此基準狀態下，載台12在XY平面內之位置(X,Y)，與藉由位置測量 系28測量之滑件10之X,Y位置一致。
其後，雖開始對被檢測物(工件W)之上述測量，但包含此測量中在內，載台12之6自由度方向位置係藉由控制裝置600在載台座標系上被管理。亦即，控制裝置600，係根據位置測量系28之測量資訊控制平面馬達26，且根據線性編碼器241~246之測量值，控制伸縮機構161~166，藉此控制載台12之6自由度方向位置。
此外，在如本實施形態之三維測量機401般使用光切斷法的場合，較佳為使從感測器部38之照射部50照射於被檢測物(工件W)之線光50a配置於與感測器部38與載台12(被檢測物(工件W))之相對移動方向正交的方向。例如，圖2中，在將感測器部38與被檢測物(工件W)之相對移動方向設定為Y軸方向的場合，較佳為將線光50a沿著X軸方向配置。若採用此方式，即能進行在測量時有效地利用了線光50a全區之相對被檢測物(工件W)的相對移動，能以最佳方式測量被檢測物(工件W)之形狀。以使線光50a之方向與上述相對移動方向能隨時正交之方式設有旋轉機構36。
上述之三維測量機401，係與例如美國發明專利申請公開第2012/0105867號公報所揭示之形狀測定裝置同樣地構成。不過，線光對被檢測物在與X,Y平面平行之方向之掃描，相較於美國發明專利申請公開第2012/0105867號公報所記載之裝置係藉由感測器部之移動來進行，本實施形態中則係藉由載台12之移動來進行，此點係不同。此外，本實施形態中，亦可在線光對被檢測物在與Z軸平行之方向之掃描時，驅動Z軸導件34及載台12之任一者。
在使用本實施形態之三維測量機401之測量方法，係藉由使 用光切斷法，將由一條線光構成之線狀投影圖案投影於被檢測物之表面，並每於使線狀投影圖案掃描被檢測物表面之全區時，從與投影方向不同之角度拍攝投影於被檢測物的線狀投影圖案。接著，從被拍攝之被檢測物表面之拍攝影像，就線狀投影圖案之長度方向之各像素使用三角測量原理等算出被檢測物表面之自基準平面起之高度，以求出被檢測物表面之三維形狀。
此外，作為構成測量系統400之三維測量機，亦能使用與例如美國發明專利第7,009,717號說明書所揭示之光探針相同構成之裝置。此光探針係以兩個以上之光學群構成，包含2以上之視野方向與2以上之投影方向。在一個光學群中包含一個以上之視野方向與一個以上之投影方向，至少一個視野方向與至少一個投影方向在光學群間不同，依視野方向所取得之資料，僅會藉由依相同光學群之投影方向所投影之圖案被生成。
測量系統400，亦可取代上述之三維測量機401、或除了上述之三維測量機以外進一步地，具備以光學方式檢測對準標記之標記檢測系56(參照圖11)。標記檢測系56，能檢測出例如形成於工件之對準標記。控制裝置600，藉由使用標記檢測系56分別正確地檢測出至少三個對準標記之中心位置(三維座標)，來算出工件(或載台12)之位置及姿勢。此種標記檢測系56，能包含例如立體攝影機而構成。亦可藉由標記檢測系56，以光學方式檢測出預先形成於載台12上之最少三處之對準標記。
本實施形態中，控制裝置600以上述方式使用三維測量機401掃描工件W之表面(對象面)，以取得其表面形狀資料。接著，控制裝置600使用該表面形狀資料進行最小平方法處理而將工件上之對象面之三維 位置及姿勢與載台座標系建立關連關係。此處，由於包含對被檢測物(工件W)之上述測量中在內，載台12之6自由度方向位置，係藉由控制裝置600在載台座標系上被管理，因此在工件之三維位置及姿勢與載台座標系建立關連關係後，包含三維造形之附加加工時在內，工件W之6自由度方向位置(亦即位置及姿勢)之控制均能藉由依照載台座標系之載台12之開環控制進行。
本實施形態之測量系統400，除了可用於附加加工開始前之工件等之位置測量以外，亦可用於附加加工後之零件(工件)之形狀檢査，關於此點於後詳述之。
圖4顯示光束造形系統500與搭載有工件W之載台12。如圖4所示，光束造形系統500具備包含光源系510而射出光束之光束照射部520、供給粉狀造形材料之材料處理部530、以及灑水頭540(在圖4中未圖示，參照圖11)。此外，光束造形系統500亦可不具備灑水頭540。
光源系510如圖5所示具備光源單元60、連接於光源單元60之光導引光纖62、配置於光導引光纖62之射出側之雙複眼光學系64、以及聚光透鏡系66。
光源單元60具備外殼68與收納於外殼68內部且彼此平行地排列成矩陣狀的複數個雷射單元70。作為雷射單元70，能使用進行脈衝振盪或連續波振盪動作之各種雷射、例如碳酸氣體雷射、Nd：YAG雷射、光纖雷射、或GaN系半導體雷射等之光源單元。
光導引光纖62，係一將多數條光纖素線隨機捆束構成之光纖束，具備個別連接於複數個雷射單元70之射出端之複數個入射口62a與 具有較入射口62a數量多之射出口之射出部62b。光導引光纖62，係將從複數個雷射單元70各個射出之複數個雷射光束(以下適當地簡稱為「光束」)透過各入射口62a來接收並分配至多數個射出口，使各雷射光束之至少一部分從共通射出口射出。以此方式，光導引光纖62，係將從複數個雷射單元70各個射出之光束混合射出。藉此，與使用單一雷射單元之場合相較，能使總輸出與雷射單元70數量相應地增加。不過，在以單一雷射單元即能取得充分之輸出之場合，亦可不使用複數個雷射單元。
此處，射出部62b，具有與如下說明之構成雙複眼光學系64入射端之第1複眼透鏡系之入射端之整體形狀相似之剖面形狀，於該剖面內以大致均等之配置設有射出口。因此，光導引光纖62，亦兼具將以上述方式混合之光束整形為與第1複眼透鏡系之入射端之整體形狀相似的整形光學系之作用。
雙複眼光學系64，係用以使光束(照明光)之剖面強度分布一樣，由在光導引光纖62後方之雷射光束之光束路(光路)上依序配置之第1複眼透鏡系72、透鏡系74、及第2複眼透鏡系76構成。此外，於第2複眼透鏡系76周圍設有光闌。
此情形下，第1複眼透鏡系72之入射面與第2複眼透鏡系76之入射面設定成在光學上彼此共軛。又，第1複眼透鏡系72之射出側焦點面(於此處形成後述之面光源)、第2複眼透鏡系76之射出側焦點面(於此處形成後述之面光源)、及後述之聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP設定成在光學上彼此共軛。此外，本實施形態中，聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP與前側焦點面一致(參照例如圖4、圖6、圖7等)。
藉由光導引光纖62而混合之光束，係射入雙複眼光學系64之第1複眼透鏡系72。藉此，於第1複眼透鏡系72之射出側焦點面形成面光源、亦即多數個光源像(點光源)所構成之2次光源。來自此等多數個點光源之各個之雷射光，係透過透鏡系74而射入第2複眼透鏡系76。藉此，於第2複眼透鏡系76之射出側焦點面形成使多數個微小光源像一樣地分布於既定形狀之區域內而成的面光源(3次光源)。
聚光透鏡系66，係將從上述3次光源射出之雷射光作為照度分布均一之光束射出。
此外，藉由第2複眼透鏡系76之入射端之面積、聚光透鏡系66之焦點距離等之最佳化，從聚光透鏡系66射出之光束能視為平行光束。
本實施形態之光源系510，具備具有光導引光纖62與雙複眼光學系64與聚光透鏡系66之照度均一化光學系，使用此照度均一化光學系，將從複數個雷射單元70分別射出之光束混合，以生成剖面照度分布被均一化之平行光束。
此外，照度均一化光學系不限於上述之構成。亦可使用桿狀積分器、準直透鏡系等來構成照度均一化光學系。
光源系510之光源單元60連接於控制裝置600(參照圖11)，藉由控制裝置600，構成光源單元60之複數個雷射單元70之on/off係被個別控制。藉此，調整從光束照射部520照射於工件W(上之對象面)之雷射光束之光量(雷射輸出)。
光束照射部520如圖4所示，除了光源系510以外，還具有依序配置於來自光源系510(聚光透鏡系66)之平行光束之光路上之光束剖面 強度轉換光學系78及空間光調變器(SLM：Spatial Light Modulator)之一種亦即反射鏡陣列80、使來自反射鏡陣列80之光聚集之聚光光學系82。此處所謂空間光調變器，係將往既定方向行進之光之振幅(強度)、相位或偏光狀態在空間上予以調變之元件的總稱。
光束剖面強度轉換光學系78，係轉換來自光源系510(聚光透鏡系66)之平行光束之剖面之強度分布。本實施形態中，光束剖面強度轉換光學系78，係將來自光源系510之平行光束轉換成包含其剖面中心之區域之強度大致為零之甜甜圈狀(環帶狀)之平行光束。光束剖面強度轉換光學系78，在本實施形態中係藉由例如依序配置於來自光源系510之平行光束之光路上之凸型圓錐反射鏡及凹型圓錐反射鏡所構成。凸型圓錐反射鏡，於其光源系510側具有外周面為圓錐狀之反射面，凹型圓錐反射鏡由其內徑較凸型圓錐反射鏡之外徑大之環狀構件構成，於其內周面具有與凸型圓錐反射鏡之反射面對向之反射面。此情形下，若以通過凹型圓錐反射鏡中心之任意剖面觀察，則凸型圓錐反射鏡之反射面與凹型圓錐反射鏡之反射面為平行。是以，來自光源系510之平行光束，係被凸型圓錐反射鏡之反射面反射成放射狀，此反射光束在凹型圓錐反射鏡之反射面被反射，藉此轉換成環帶狀之平行光束。
本實施形態中，經由光束剖面強度轉換光學系78之平行光束，如後所述係透過反射鏡陣列80及聚光光學系82而照射於工件。藉由使用光束剖面強度轉換光學系78轉換來自光源系510之平行光束之剖面強度分布，而能變更從反射鏡陣列80射入聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP之光束之強度分布。又，藉由使用光束剖面強度轉換光學系78轉換來自光 源系510之平行光束之剖面強度分布，而亦能實質地變更從聚光光學系82射出之光束在聚光光學系82之射出面的強度分布。
此外，光束剖面強度轉換光學系78，不限於凸型圓錐反射鏡與凹型圓錐反射鏡之組合，亦可使用例如美國發明專利申請公開第2008/0030852號公報所揭示之繞射光學元件、遠焦透鏡、及圓錐旋轉三稜鏡系之組合來構成。光束剖面強度轉換光學系78，只要係轉換光束之剖面強度分布者即可，可考量各種構成。依光束剖面強度轉換光學系78之構成不同，亦能將來自光源系510之平行光束，非使在包含其剖面中心之區域之強度大致為零而使較在其外側之區域之強度小。
反射鏡陣列80在本實施形態中，具有於一面具有相對XY平面及XZ平面成45度(π/4)之面(以下為了說明方便而稱為基準面)之底座構件80A、於底座構件80A之基準面上配置成例如P列Q行之矩陣狀之例如M(=P×Q)個之反射鏡元件81p,q(p=1~P,q=1~Q)、以及包含個別驅動各反射鏡元件81p,q之M個致動器(未圖示)的驅動部87(在圖4中未圖示，參照圖11)。反射鏡陣列80，藉由調整多數個反射鏡元件81p,q相對基準面之傾斜，而能實質地形成與基準面平行之較大反射面。
反射鏡陣列80之各反射鏡元件81p,q，例如構成為能繞與各反射鏡元件81p,q之一方之對角線平行之旋轉軸旋動，能將其反射面相對於基準面之傾斜角度設定成既定角度範圍內之任意角度。各反射鏡元件之反射面角度，係藉由檢測旋轉軸之旋轉角度之感測器、例如旋轉編碼器83p,q(在圖4中未圖示，參照圖11)來測量。
驅動部87，例如包含電磁石或音圈馬達作為致動器，各個 反射鏡元件81p,q，係被致動器驅動而以非常高回應動作。
構成反射鏡陣列80之複數個反射鏡元件中被來自光源系510之環帶狀平行光束照明之反射鏡元件81p,q之各個，係往對應其反射面之傾斜角度之方向射出反射光束(平行光束)，而射入聚光光學系82(參照圖6)。此外，本實施形態中，雖關於使用反射鏡陣列80之理由及使環帶狀平行光束射入反射鏡陣列80之理由將於後述，但不一定要設為環帶狀，亦可使射入反射鏡陣列80之平行光束之剖面形狀(剖面強度分布)不同於環帶形狀，亦可不設置光束剖面強度轉換光學系78。
聚光光學系82係數值孔徑N.A.為例如0.5以上、較佳為0.6以上之高NA且低像差之光學系。聚光光學系82，由於係大口徑、低像差且高NA，因此能將來自反射鏡陣列80之複數個平行光束聚光於後側焦點面上。詳細雖留待後述，但光束照射部520，能將從聚光光學系82射出之光束聚光成例如點狀或狹縫狀。又，聚光光學系82，由於係以一或複數片之大口徑透鏡構成(在圖4等，係代表性地圖示一片大口徑透鏡)，因此能使入射光之面積增大，藉此，能較使用數值孔徑N.A.小之聚光光學系之場合擷取更多量之光能量。是以，藉由本實施形態之聚光光學系82而聚光之光束，係極為尖銳而具有高能量密度，此事直接關連於提高藉造形之附加加工之加工精度。
本實施形態中，係說明藉由如後所述將載台12移動於與XY平面平行之掃描方向(圖4中例如為Y軸方向)，一邊使光束與於上端具有造形之對象面TAS之工件W相對掃描於掃描方向(SCAN方向)、一邊進行造形(加工處理)的情形。此外，進行造形時，當然亦可在載台12往Y軸方向 之移動中，使載台12移動於X軸方向、Z軸方向、θ x方向、θ y方向、及θ z方向之至少一個方向。又，如後所述，係藉由雷射光束之能量使藉由材料處理部530而被供給之粉狀造形材料(金屬材料)熔融。是以，如前所述，只要聚光光學系82所擷取之能量總量變大，則從聚光光學系82射出之光束之能量即變大，每單位時間能熔解之金屬量即增加。而只要與其相應地提升造形材料之供給量與載台12之速度，則提升光束造形系統500之造形加工之產能。
然而，即使以如前述之手法大幅提高雷射之總輸出，現實上由於無法無限地使載台12之掃描動作高速化，因此並無法實現完全活用其雷射功率之產能。為了解決此問題，本實施形態之造形裝置100係如後所述，非將點狀光束之照射區域而係將狹縫狀光束之照射區域(以下稱為一文字區域(參照圖9(B)之符號LS))形成於應對齊造形之對象面TAS的面(以下稱為造形面)MP(參照例如圖4及圖9(A))上，能一邊相對形成該一文字區域LS之光束(以下稱為一文字光束)於與其長度方向垂直之方向相對掃描工件W、一邊進行造形(加工處理)。藉此，能一口氣處理較以點狀光束掃描(SCAN)工件之情形寬廣極多之面積(例如數倍至數十倍左右之面積)。此外，如後所述，本實施形態中，雖上述之造形面MP係聚光光學系82之後側焦點面(參照例如圖4及圖9(A))，但造形面亦可係後側焦點面附近之面。又，本實施形態中，造形面MP雖係與聚光光學系82之射出側之光軸AX成垂直，但亦可為非垂直。
作為設定或變更在造形面MP上之光束之強度分布之方法(例如，形成如上述之一文字區域之方法)，能採用例如控制射入聚光光學系 82之複數個平行光束之入射角度分布的方法。如本實施形態之聚光光學系82般將平行光聚光於一點之透鏡系，係以光瞳面(入射光瞳)PP中之平行光束LB(參照例如圖4、圖6等)之入射角度決定在後側焦點面(聚光面)之聚光位置。此處之入射角度，係由a.射入聚光光學系82之光瞳面PP之平行光束相對與聚光光學系82之光軸AX平行之軸所構成的角度α(0≦α<90度(π/2))、b.於光瞳面PP上以光軸AX上之點作為原點，而設定有與光軸AX正交之二維正交座標系(X,Y)時射入光瞳面PP之平行光束往光瞳面PP(XY座標平面)正射影之二維正交座標系(X,Y)上相對基準軸(例如X軸(X≧0)的角度β(0≦β<360度(2 π))所決定。例如，對聚光光學系82之光瞳面PP成垂直地(與光軸成平行地)射入之光束聚光於光軸AX上，相對聚光光學系82(相對光軸AX)稍微傾斜之光束，係聚光於從該光軸AX上稍微偏離之位置。利用此關係，使來自光源系510之平行光束反射並使之射入聚光光學系82時，藉由對射入聚光光學系82之光瞳面PP之複數個平行光束LB之入射角(入射方向)賦予適當之角度分布，即能任意變更造形面MP內光束之強度分布、例如造形面MP中照射區域之位置、數量、大小、及形狀之至少一個。是以，例如一文字區域、三行區域、缺損一文字區域等(參照圖10)亦當然能容易地形成，且形成點狀照射區域亦容易。
此外，本實施形態之聚光光學系82，由於係其光瞳面(入射光瞳)PP與前側焦點面為一致之構成，因此雖藉由變更使用了反射鏡陣列80之複數個平行光束LB之入射角度，能正確且簡便地控制該複數個平行光束LB之聚光位置，但亦可係聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)與前側焦點面非一致之構成。
又，只要形成於造形面之照射區域之形狀及大小非為可變，則只要使用所欲形狀之固體(solid)之反射鏡，即亦能控制射入聚光光學系82之光瞳面之一個平行光束之入射角度而變更照射區域之位置。
然而，在進行對工件之附加加工(造形)之場合，不限於設定有其造形之目標部位之對象面之區域均為平坦面。亦即不限於能夠進行一文字光束之相對掃描。在工件之輪廓邊緣附近或中實區域與中空區域之邊界附近之位置，邊界傾斜、或變窄、或附有R角之類，係難以適用一文字光束之相對掃描。舉例而言，寬度寬之刷毛，由於難以塗滿此種位置，因此必須有對應其之寬度窄之刷毛或細鉛筆，亦即，即時且連續地自由區分使用刷毛與細鉛筆。與此同樣地，在工件之輪廓邊緣附近或中實區域與中空區域之邊界附近之位置，即產生要變更光束照射區域之掃描方向(相對移動方向)寬度或使照射區域之大小(例如一文字光束之長度)、數量或位置(光束之照射點位置)變化的要求。
因此，本實施形態中係採用反射鏡陣列80，控制裝置600以非常高回應使各反射鏡元件81p,q動作，藉此分別控制射入聚光光學系82之光瞳面PP之複數個平行光束LB之入射角度。藉此，設定或變更造形面MP上之光束之強度分布。此情形下，控制裝置600，能於光束與對象面TAS(係設定有造形之目標部位TA之面，本實施形態中為工件W上之面)之相對移動中使造形面MP上之光束之強度分布、例如光束之照射區域之形狀、大小、數量之至少一個變化。此情形下，控制裝置600能連續地或斷續地變更造形面MP上之光束之強度分布。例如，亦能於光束與對象面TAS之相對移動中使一文字區域之相對移動方向寬度連續地或斷續地變化。控 制裝置600亦能按照光束與對象面TAS之相對位置使造形面MP上之光束之強度分布變化。控制裝置600亦能按照被要求之造形精度與產能，使在造形面MP之光束之強度分布變化。
又，本實施形態中，控制裝置600，由於係使用前述之旋轉編碼器83p,q檢測出各反射鏡元件之狀態(此處為反射面之傾斜角度)，藉此即時監控各反射鏡元件之狀態，因此能正確地控制反射鏡陣列80之各反射鏡元件之反射面傾斜角度。
材料處理部530如圖7所示具有：具有設於聚光光學系82之射出面下方之噴嘴構件(以下簡稱為噴嘴)84a之噴嘴單元84、透過配管90a連接於噴嘴單元84之材料供給裝置86、以及透過配管分別連接於材料供給裝置86之複數個例如兩個之粉末匣88A,88B。圖7係顯示從-Y方向觀看較圖4之聚光光學系82下方之部分。
噴嘴單元84，具備在聚光光學系82下方延伸於X軸方向且具有供給造形材料之粉末之至少一個供給口之噴嘴84a、以及支撐噴嘴84a之長度方向兩端部且各上端部連接於聚光光學系82之殼體之一對支撐構件84b,84c。於一方之支撐構件84b透過配管90a連接有材料供給裝置86之一端(下端)，於內部形成有連通配管90a與噴嘴84a之供給路徑。本實施形態中，噴嘴84a配置於聚光光學系82之光軸之正下方，於下面(底面)設有後述之複數個供給口。此外，噴嘴84a不一定要配置於聚光光學系82之光軸上，亦可配置於從光軸往Y軸方向之一側些許偏離之位置。
於材料供給裝置86之另一端(上端)連接有做為對材料供給裝置86之供給路徑之配管90b,90c，分別透過配管90b,90c而於材料供給裝 置86連接有粉末匣88A,88B。於一方之粉末匣88A收容有第1造形材料(例如鈦)之粉末。又，於另一方之粉末匣88B收容有第2造形材料(例如不鏽鋼)之粉末。
此外，本實施形態中，造形裝置100雖為了將2種類之造形材料供給至材料供給裝置86而具備兩個粉末匣，但造形裝置100所具備之粉末匣亦可為一個。
從粉末匣88A,88B對材料供給裝置86之粉末之供給，雖亦能使粉末匣88A,88B之各個具有強制對材料供給裝置86供給粉末之功能，但在本實施形態係使材料供給裝置86具有配管90b,90c切換之功能，且亦具有從粉末匣88A,88B之任一方利用真空吸引粉末之功能。材料供給裝置86連接於控制裝置600(參照圖11)。於造形時，係藉由控制裝置600，使用材料供給裝置86進行配管90b,90c之切換，來自粉末匣88A之第1造形材料(例如鈦)之粉末與來自粉末匣88B之第2造形材料(例如不鏽鋼)之粉末被擇一地供給至材料供給裝置86，從材料供給裝置86透過配管90a將任一方之造形材料粉末供給至噴嘴84a。此外，亦可藉由變更材料供給裝置86之構成，而能在必要之場合同時將來自粉末匣88A之第1造形材料與來自粉末匣88B之第2造形材料對材料供給裝置86供給，並將兩個造形材料之混合物透過配管90a供給至噴嘴84a。此外，亦可將能連接於粉末匣88A之噴嘴與能連接於粉末匣88B之另一噴嘴設於聚光光學系82下方，於造形時從任一噴嘴供給粉末或從或兩噴嘴供給粉末。
又，控制裝置600能調整從粉末匣88A,88B透過材料供給裝置86供給至噴嘴84a之造形材料之每單位時間之供給量。例如，藉由調 整從粉末匣88A,88B之至少一方對材料供給裝置86供給之粉末量，即能調整透過材料供給裝置86供給至噴嘴84a之造形材料之每單位時間之供給量。例如，藉由調整來自粉末匣88A,88B之對材料供給裝置86之粉末供給所利用之真空等級，即能調整供給至噴嘴84a之造形材料之每單位時間之供給量。或者，亦能設置從材料供給裝置86供給至配管90a粉末量之閥，以調整供給至噴嘴84a之造形材料之每單位時間之供給量。
此處，圖7中雖未圖示，但實際上，於噴嘴84a之下面(底面)係如圖8所示，於X軸方向以等間隔形成有複數個例如N個供給口91i(i=1~N)，各供給口91i能藉由開閉構件93i個別地開閉。此外，圖8中，為了圖示方便，供給口91i作為一例圖示有12個，且為了了解供給口與開閉構件之關係而圖示有兩者。然而實際上係形成有較12個多之數量之供給口，且相鄰供給口間之分隔之部分更為狹窄。不過，只要供給口係涵蓋噴嘴84a之長度方向大致全長來配置，則供給口之數量不論是幾個均可。例如，供給口亦可為涵蓋噴嘴84a之長度方向大致全長之一個狹縫狀開口。
開閉構件93i，如於圖8中針對第k個之開閉構件93k賦予箭頭而代表性地顯示，能滑動驅動於+Y方向及-Y方向，以將供給口91i開閉。開閉構件93i並不限於滑動驅動，亦可係能以一端部為中心往傾斜方向旋動之構成。
各開閉構件93i，藉由控制裝置600透過未圖示之致動器被驅動控制。控制裝置600，係按照造形面上之光束之強度分布、例如形成於造形面上之光束之照射區域之形狀、大小、配置等之設定(或變更)，而使用各開閉構件93i開閉控制複數個例如N個之供給口91i之各個。藉此，材料 處理部530供給造形材料之供給動作受到控制。此情形下，藉由控制裝置600選擇複數個供給口91i中之至少一個供給口，僅關閉該被選擇之至少一個供給口之開閉構件93i被開放控制、例如被驅動於-Y方向。是以，本實施形態中，能僅從複數個例如N個之供給口91i中之一部分供給造形材料。
又，控制裝置600，亦能藉由透過前述材料供給裝置86供給至噴嘴84a之造形材料之每單位時間之供給量控制、以及使用了任意開閉構件93i之開閉控制之至少一方，來調整來自以該開閉構件93i開閉之供給口91i之造形材料之每單位時間供給量。控制裝置600，係按照造形面上之光束之強度分布、例如形成於造形面上之光束之照射區域之形狀、大小、配置等之設定(或變更)決定來自任意供給口91i之造形材料之每單位時間供給量。控制裝置600，例如根據前述之一文字區域之掃描方向寬度決定來自各供給口91i之每單位時間供給量。
此外，亦可構成為能藉由各開閉構件93i調整各供給口91i之開度。此情形下，控制裝置600，亦可按照例如前述之一文字區域之掃描方向寬度來調整各開閉構件93i之各供給口之開度。
此外，供給造形材料之粉末之至少一個供給口亦可為可動。例如亦可於噴嘴84a之下面形成一個延伸於X軸方向之狹縫狀供給口，並使噴嘴84a相對一對支撐構件84b,84c能移動於例如X軸方向與Y軸方向之至少一方，而控制裝置600則按照造形面上之光束之強度分布之變更、亦即光束之照射區域之形狀、大小、位置之變更，來移動在下面形成有供給口之噴嘴84a。此外，亦可使噴嘴84a在Z軸方向為可動。
或者，亦可將噴嘴84a以本體部與相對該本體部能在例如 XY平面內移動於X軸方向與Y軸方向之至少一方且於其底面形成有供給口之至少兩個可動構件構成，並由控制裝置600按照造形面上之光束之強度分布之變更使可動構件之至少一部分移動。此情形下亦同樣地亦可使可動構件之至少一部分在Z軸方向為可動。
又，複數個供給口中之一個供給口與另一供給口亦可為能相對移動之構成。或者，例如上述一個供給口之Y軸方向位置與上述另一個供給口之Y軸方向位置亦可為不同。或者，上述一個供給口之Z軸方向位置與上述另一個供給口之Z軸方向位置亦可為不同。
此外，至少一個供給口之移動，不僅配合光束之強度分布之設定或變更來進行，亦可因別的目的使其移動。
如前所述，設於噴嘴84a之複數個供給口91i，係與聚光光學系82之光軸正交而於X軸方向涵蓋噴嘴84a全長以等間隔配置且於相鄰供給口91i彼此之間僅有些微間隙。因此，如以圖9(A)中之黑箭頭所示，只要從噴嘴84a之複數個供給口91i之各個將粉末狀造形材料PD沿著與聚光光學系82之光軸AX平行之Z軸方向往正下方供給，則會對聚光光學系82之光軸AX正下方之前述一文字區域LS(一文字光束之照射區域)供給該造形材料PD。此情形下，來自噴嘴84a之造形材料PD之供給，能藉由利用造形材料PD之自重或施加了些微噴出壓力之噴出動作進行。是以，不需要如對造形之對象面從傾斜方向供給造形材料之場合般用以產生導引造形材料之供給之氣流之產生機構等的複雜機構。又，若能如本實施形態般對工件以極近距離垂直地供給造形材料，則在確保造形之加工精度方面極為有利。
此外，亦可於噴嘴84a設置氣體供給口。從該氣體供給口供給之氣體，亦可為了導引造形材料之供給而使之流動，或為了別的目的例如使有助於造形之氣體流動。
本實施形態中，由於環帶狀之平行光束照射於反射鏡陣列80，因此來自反射鏡陣列80之反射光束射入聚光光學系82之周緣附近之部分區域(N.A.較大之部分區域)，並經由位於聚光光學系82之射出端、亦即位於光束照射部520射出端之終端透鏡之與光軸相距一距離之周緣部區域，聚光於聚光光學系82之造形面MP(與本實施形態中聚光光學系82之後側焦點面一致)(參照圖4)。亦即，僅藉由通過同一聚光光學系82之周緣附近部分之光形成例如一文字光束。因此，與將透過各個光學系之光聚光於同一區域以形成光束點(雷射點)之情形相較，能形成更高品質之光束點。又，本實施形態，能限制對設於聚光光學系82射出面(下端面)之中央下方之噴嘴84a之光束照射。因此，本實施形態中，能將來自反射鏡陣列80之反射光束均利用於光束點之形成，且不需於聚光光學系82之入射面側之與噴嘴84a對應之部分設置用以限制光束照射於噴嘴84a之遮光構件等。因上述理由，而藉由環帶狀之平行光束照明反射鏡陣列80。
此外，位於聚光光學系82射出端之光學構件，係至少於從其射出側之面之光軸離開之區域形成光學面，只要能透過該光學面將光束聚光於造形面(後側焦點面)即可。是以，此光學構件，在包含光軸之區域中射出面與入射面之至少一方亦可為與聚光光學系82之光軸垂直之平面，或者於包含光軸之區域形成孔。亦可藉由在包含光軸之中央部區域開孔之甜甜圈狀之聚光透鏡構成位於聚光光學系82射出端之光學構件。
此外，為了限制從聚光光學系82射入噴嘴84a之光束，亦可將例如圖7中以二點鏈線顯示之限制構件85設於聚光光學系82之入射面側(例如光瞳面PP)。藉由限制構件85限制來自聚光光學系82之光束對噴嘴84a之入射。作為限制構件85雖能使用遮光構件，但亦可使用減光濾光器等。此種情形下，射入聚光光學系82之平行光束亦可為剖面圓形之平行光束，亦可為環帶狀之平行光束。若為後者，由於光束不會照射於限制構件85，因此能將來自反射鏡陣列80之反射光束均利用於光束點之形成。
此外，雖不一定要將從聚光光學系82射入噴嘴84a之光束完全遮蔽，但為了防止來自聚光光學系82之光束射入噴嘴84a，亦可僅從聚光光學系82之終端透鏡之射出面之在Y軸方向分離於光軸兩側之周緣部區域(例如兩個圓弧區域)射出光束。
灑水頭540(參照圖11)用於所謂淬火時。灑水頭540具有供給冷卻液(冷卻水)之供給口，用以將冷卻液對冷卻對象物噴射。灑水頭540連接於控制裝置600(參照圖11)。控制裝置600，在進行淬火時係控制光源單元60將來自光束照射部520之光束之熱能量調節成適於淬火之值。接著，控制裝置600，能在對工件表面照射光束以使之呈高溫後，透過灑水頭540將冷卻液對該高溫部噴射以使之急冷，藉此進行淬火。此情形下，亦能在透過三維造形對工件進行之附加加工同時進行淬火步驟。此外，在與附加加工同時進行淬火步驟之場合，作為造形材料較佳為使用淬火性良好之金屬。
本實施形態中，在對工件之附加加工時等，如將圖4及圖4之圓A內放大顯示之圖9(A)所示，通過聚光光學系82周緣部附近且通過噴 嘴84a之+Y側及-Y側(工件W(載台12)之掃描方向前方及後方)之光路的光束(於圖9(A)為了方便而顯示為光束LB11,LB12)聚光於噴嘴84a之正下方，以X軸方向(圖9(A)中之紙面正交方向)作為長度方向之一文字區域LS形成於造形面上(參照圖9(B))，對形成該一文字區域LS之一文字光束，透過噴嘴84a之複數個供給口91i沿著與聚光光學系82之光軸AX平行之Z軸(沿著包含光軸AX之XZ面)供給粉末狀之造形材料PD。藉此，於噴嘴84a正下方形成延伸於X軸方向之線狀熔融池WP。又，此種熔融池WP之形成係一邊將載台12掃描於掃描方向(圖9(A)中為+Y方向)、一邊進行。藉此，能形成涵蓋一文字光束(熔融池WP)之長度方向(X軸方向)長度之既定寬度之銲珠(熔融凝固後之金屬)(Bead)BE。
此情形下，例如不減少射入聚光光學系82之平行光束LB之數量，而係以一文字光束之X軸方向寬度或Y軸方向寬度、或兩者和緩變窄之方式，調整射入聚光光學系82之複數個平行光束LB之入射角度的情形，光束之聚光密度(能量-密度)變高。是以，藉由相應於此地，增加每單位時間之粉末(造形材料)之供給量且提升對象面TAS之相對移動速度，即能將所形成之銲珠BE之層厚度保持於一定且以高等級保持產能。不過，並不限於此種調整方法，亦能使用其他調整方法來將所形成之銲珠BE之層厚度保持於一定。例如，亦可按照一文字光束之X軸方向寬度或Y軸方向寬度、或兩者寬度調節複數個雷射單元70中至少一個之雷射輸出(雷射光束之能量)，亦可變更從反射鏡陣列80射入聚光光學系82之平行光束LB之數量。此情形下，相較於上述調整方法雖產能略微降低，但調整係簡便。
於本實施形態之造形裝置100設有接收來自聚光光學系82 之光束而進行測量處理之測量裝置110。例如，測量裝置110能接收來自聚光光學系82之光束以測量光束之光學特性等。本實施形態中，測量裝置110係用於管理光束之強度分布。本實施形態中，測量裝置110係測量在聚光光學系82之後側焦點面(在本實施形態中與造形面MP一致)之光束之強度分布、聚光光學系82之光瞳面PP(在本實施形態中與前側焦點面一致)中光束之強度分布。
測量裝置110如圖12所示，具有構成載台12之上面一部分之測量構件92與收容於載台12內部之剩餘構成部分。
圖13係以立體圖顯示測量裝置110之一部分且為配置於載台12內部之構成部分與測量構件92。如圖13所示，測量裝置110具備測量構件92、第1光學系94、光學系單元95、以及受光器96。
測量構件92，係以上面與載台12之剩餘部分成同高(同一面)之狀態配置於形成在載台12上面之圓形開口內。測量構件92具有能供來自聚光光學系82之光束透射之以例如石英等形成之基材，於該基材表面藉由鉻等金屬之蒸鍍形成有兼為反射膜之遮光膜，於該遮光膜之中央部形成有圓形之開口92a。是以，測量構件92之上面包含遮光膜之表面與開口92a內之基材表面。此外，遮光膜形成為非常薄，以下說明中，係視為遮光膜之表面與開口92a內之基材表面位於同一面內來說明。又，雖亦可不形成遮光膜，但藉由形成遮光膜，於測量時能期待抑制眩光(flare)等之影響的效果。
第1光學系94配置於測量構件92下方。透過測量構件92之開口92a之光束射入第1光學系94。此外，本實施形態中，第1光學系94雖係準直光學系，但亦可非為準直光學系。
光學系單元95具有於中心設有旋轉軸101a之圓形旋轉板101。於旋轉板101，以旋轉軸101a為中心相隔既定角度間隔配置有開口部97與透鏡(第2光學系)98。藉由旋轉軸101a之旋轉、亦即旋轉板101之旋轉，能將開口部97與透鏡98之任一者選擇性地配置於透過第1光學系94之光之光路上(對應光軸AX1之位置)。旋轉軸101a之旋轉，係在控制裝置600之指示下藉由驅動裝置102(在圖13中未圖示，參照圖11)進行。
開口部97係使從第1光學系94射出之平行光保持其狀態通過。藉由將此開口部97配置於透過聚光光學系82之光束之光路上且使第1光學系94或構成第1光學系94之至少一個光學元件移動，在受光器96，即能測量聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP(在本實施形態與前側焦點面一致)中之光束之強度分布。此外，測量裝置110亦可不能測量聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP之強度分布。此情形下，透鏡98亦可為固定。
透鏡98，係與第1光學系94一起構成中繼光學系，使形成有開口92a之測量構件92之上面與受光器96之受光元件(後述)之受光面在光學上共軛。
受光器96具有由二維CCD等構成之受光元件(以下稱為「CCD」)96a與例如電荷傳送控制電路等之電路96b。此外，作為受光元件96a，當然亦可使用CMOS影像感測器。受光器96之受光結果(受光資料)輸出至控制裝置600(參照圖11)。CCD96a具有充分之面積以接收透過開口92a射入第1光學系94而從第1光學系94射出並通過開口部97之所有平行光。又，CCD96a之受光面，係藉由以第1光學系94與透鏡98構成之中繼光學系而與測量構件92之上面(開口92a之形成面)在光學上共軛。又， CCD96a之各像素具有在透過上述中繼光學系會聚之光束之照射區域內包含複數個像素的尺寸。於CCD96a設定有一個或複數個基準像素，該基準像素與載台12之基準點、例如中心點之位置關係為已知。是以，控制裝置600，可從受光器96之輸出得知射入CCD96a之光束與基準像素之位置關係，能取得載台座標系內光束之位置資訊(例如光束之聚光位置資訊)。
此外，CCD96a之受光面，在測量構件92之上面(基材表面)一致於聚光光學系82之後側焦點面(造形面MP)且開口部97配置於透過開口92a及第1光學系94之光束之光路上的狀態下，係與聚光光學系82之光瞳面共軛。
又，亦可取代開口部97而將光學系(光學構件)配置於旋轉板101，並使CCD96a之受光面與聚光光學系82之光瞳面共軛。又，在進行測量時，亦可將測量構件92之上面配置於從聚光光學系82之後側焦點面往光軸AX方向偏離之位置。
又，光學系單元95並不限於上述者。例如，亦可不使用旋轉板101，而例如以可動構件保持透鏡98，並藉由使該可動構件移動於與光軸垂直之方向(例如沿著X軸方向)移動以插拔透鏡98。
從上述說明可清楚得知，本實施形態中，由於包含測量構件92之測量裝置110被設於能於6自由度方向移動自如之載台12，因此發揮測量裝置110之受光部功能之測量構件92，能一邊移動於與聚光光學系82之射出面側之光軸AX平行之Z軸方向、與光軸AX垂直之X軸、Y軸方向之至少一方向，一邊接收來自聚光光學系82之光束。
在聚光光學系82之後側焦點面之光束之強度分布之測量， 係例如以如下方式進行。
控制裝置600，首先根據位置測量系28及線性編碼器241~246之測量值，將平面馬達26及伸縮機構161~166基於已知之目標值(設計資訊等)予以控制以移動載台12，將測量構件92之開口92a定位於聚光光學系82之光軸AX上之位置。
又，控制裝置600，係透過驅動裝置102旋轉旋轉板101，並將透鏡98配置於透過開口92a及第1光學系94之光束之光路上。接著，在此狀態下，根據藉由透鏡98而會聚於CCD96a之受光面上之光束之受光結果亦即受光資料(設為LRD1，參照圖11)，測量在聚光光學系82之後側焦點面之光束之強度分布。
圖14(A)，係沿著測量裝置110之光軸AX1及聚光光學系82之光軸AX展開顯示測量在聚光光學系82之後側焦點面之光束之強度分布時之光學配置(不過，省略較聚光光學系82上游側之部分之圖示)。此時，反射鏡陣列80之各反射鏡元件81p，q之反射面，被設定成在後側焦點面中能取得所欲之光束之強度分布(光束之照射區域之形狀、大小、配置等)的設計上之角度。
在圖14(A)所示之光學配置中，控制裝置600從光源單元60之至少一個雷射單元70使雷射光束振盪，從光源系510射出平行光束後，該平行光束係藉由反射鏡陣列80之複數個反射鏡元件81p，q被分別反射，成為複數個平行光束射入聚光光學系82。射入聚光光學系82之複數個平行光束，藉由聚光光學系82被聚光於後側焦點面，射入位於該後側焦點面或其附近之開口92a。
通過開口92a之光，藉由第1光學系94及透鏡98所構成之中繼光學系，在測量構件92之光學共軛面亦即CCD96a之受光面上被聚光。是以，CCD96a之受光面之強度分布，為在測量構件92上面內之光束之強度分布。藉由CCD96a，接收具有該強度分布之光束，經光電轉換而取得之受光資料LRD1從受光器96(電路96b)被發送至控制裝置600(參照圖11)。
因此，控制裝置600，係一邊根據線性編碼器241~246之測量值透過伸縮機構161~166使載台12於Z軸方向步進移動，一邊進行上述受光資料LRD1之擷取，根據該擷取之受光資料LRD1，找出例如形成於CCD96a之受光面之光束之照射區域面積為最小之Z軸方向位置。形成於CCD96a之受光面之光束之照射區域面積成為最小，係測量構件92之上面一致於聚光光學系82之後側焦點面且於開口92a內形成最尖銳之光束照射區域之時。是以，控制裝置600，能根據來自受光器96之受光資料LRD1，將接收光束之像素數量為最少之載台12之Z位置判斷為測量構件92之上面與後側焦點面一致的Z位置。本實施形態中，由於將後側焦點面設為造形面MP，因此控制裝置600能根據在該Z位置之受光資料LRD1，求出在造形面MP之光束之強度分布(光束之照射區域之形狀、大小、配置等)。在造形面MP之光束之強度分布(光束之照射區域之形狀、大小、配置等)與所欲狀態不同之場合，控制裝置600即調整例如反射鏡陣列80之複數個反射鏡元件81p，q之至少一部分之角度，以將在造形面MP之光束之強度分布調整成所欲狀態。
又，能從在測量構件92上面與後側焦點面一致之狀態下之CCD96a之受光面之光束之強度分布與一個或複數個基準像素之位置關 係，求出在造形面MP(聚光光學系82之後側焦點面)之光束之照射區域於載台座標系上之位置等。
此外，在聚光光學系82之後側焦點面之Z位置為已知，且能判斷該Z位置未變化之場合，則可不進行Z軸方向之步進移動。
本實施形態中，控制裝置600，係在進行上述之在造形面MP之光束之強度分布(光束之照射區域之形狀、大小、配置等)測量後，進行如下說明之在聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP之光束之強度分布之測量。
在聚光光學系82之光瞳面(入射光瞳)PP(於本實施形態係與前側焦點面一致)之光束之強度分布之測量，例如係以如下方式進行。
上述之在造形面MP之光束之強度分布(光束之照射區域之形狀、大小、配置等)測量結束後，控制裝置600，係在將載台12之位置維持於測量構件92之上面(開口92a之形成面)為聚光光學系82之光軸AX上之位置且為與造形面MP相同高度之位置的狀態下，透過驅動裝置102使旋轉板101旋轉，以將開口部97配置於透過開口92a及第1光學系94之光束之光路上。接著，在此狀態下，進行在光瞳面PP之光束之強度分布之測量。
圖14(B)，係沿著測量裝置110之光軸AX1及聚光光學系82之光軸AX展開顯示進行在光瞳面PP之光束之強度分布測量時之光學配置(不過，省略較聚光光學系82上游側之部分之圖示)。如圖14(B)所示，在此狀態下，由於在光束之光路上配置有開口部97，因此透過第1光學系94之平行光即直接射入構成受光器96之CCD96a。此情形下，CCD96a之受光面能視為配置於與聚光光學系82之光瞳面PP共軛之位置，能接收與在該光 瞳面PP之光束之強度分布對應之光束。因此，控制裝置600係擷取受光器96之受光資料(設為LRD2，參照圖11)，並根據該受光資料LRD2求出在光瞳面PP之光束之強度分布。接著，將該求出之強度分布之資料儲存於記憶體。
控制裝置600，能根據在光瞳面PP之光束之強度分布，調整例如反射鏡陣列80之複數個反射鏡元件81p，q之至少一部分之角度。
此外，控制裝置600，雖可每於測量在造形面MP之光束之強度分布時進行在光瞳面PP之光束之強度分布之測量，但亦可以每於進行既定次數在造形面MP之光束之強度分布測量時進行一次之頻率來進行。
圖11顯示有表示以造形裝置100之控制系為中心構成之控制裝置600之輸出入關係的方塊圖。控制裝置600包含工件站(或微電腦)等，統籌控制造形裝置100之構成各部。
以上述方式構成之本實施形態之造形裝置100之基本功能，係對既有零件(工件)藉由三維造形附加所欲之形狀。工件被投入造形裝置100，在被正確地附加了所欲形狀後從造形裝置100搬出。此時，該附加之形狀之實際形狀資料，係從裝置送至外部裝置例如上位裝置。以造形裝置100進行之一連串作業係以自動化方式進行，工件之供給，可將彙整於托板之一定量作為一個批量，以批量單位予以投入。
圖15顯示與控制裝置600之一連串處理演算法對應之流程圖。以下流程圖中各步驟之處理(包含判斷)雖係藉由控制裝置600進行，但以下除了特別必要之場合以外，關於控制裝置600之說明係省略。
在從外部將開始指令輸入控制裝置600後，即開始依據圖 15之流程圖之處理。
首先，在步驟S2，將顯示批量內工件編號之計數器之計數值n予以初始化(n←1)。
在次一步驟S4，將搭載有附加加工前之1批量之工件的托板(未圖示)從外部搬入造形裝置100內之既定搬出入位置。此搬入係依據控制裝置600之指示而藉由未圖示之搬出入裝置進行。此處，1批量為例如i×j個，i×j個之工件能以i列j行之矩陣狀配置搭載於托板上。亦即，於托板上面，以i列j行之矩陣狀配置設定有工件之搭載位置(載置位置)，於各個搭載位置搭載(載置)有工件。例如於各搭載位置分別附有標記，各標記於托板上之位置為已知。以下，1批量例如為4×5=20個，於托板上面，以4列5行之矩陣狀配置附有標記，於各標記上搭載有工件。例如，批量內之第1~第5個之工件分別配置於1列1行~1列5行之位置，第6~第10個之工件分別配置於2列1行~2列5行之位置，第11~第15個之工件分別配置於3列1行~3列5行之位置，第16~第20個之工件分別配置於4列1行~4列5行之位置。
在次一步驟S6，將批量內之第n個工件從托板取出並搭載於載台12。此時移動系統200，係位於裝載/卸載位置，該裝載/卸載位置設定在造形裝置100內之設置有搬送系統300之位置附近。又，此時載台12處於前述之基準狀態(Z,θ x,θ y,θ z)=(Z0,0,0,0)，其XY位置與藉由位置測量系28測量之滑件10之X,Y位置一致。
具體而言，控制裝置600係參照計數值n特定出待取出之工件於托板上之位置(i,j)，且對搬送系統300賦予將位於該特定之位置(i．j) 之工件取出的指示。按照此指示，藉由搬送系統300將工件從托板上取出而搭載於載台12上。例如，在n=1之場合，位於托板上之第1列1行之位置之工件被取出而搭載於載台12上。
其次，在步驟S7，使搭載有工件W之載台12移動至測量系統400(感測器部38)下方。此載台12之移動，係藉由控制裝置600根據位置測量系28之測量資訊控制平面馬達26以使移動系統200在底座BS上驅動於X軸方向(及Y軸方向)來進行。在此移動中，載台12亦被維持前述之基準狀態。
在次一步驟S8，使用測量系統400，進行搭載於處於基準狀態之載台12上之工件W上之對象而TAS之至少一部分在二維空間內之位置資訊(在本實施形態中為二維形狀資訊)的測量。於此測量以後，即能根據此測量結果，在載台座標系(基準座標系)上藉由開環控制管理工件W上之對象而TAS之6自由度方向位置。
在次一步驟S9，將搭載有已結束對象面TAS至少一部分之位置資訊(形狀資訊)測量之工件W的載台12，與前述同樣地移動至光束造形系統500(噴嘴單元84)下方。
在次一步驟S10，對載台12上之工件施加附加與3D資料對應之形狀之三維造形之附加加工。此附加加工係以下述方式進行。
亦即，控制裝置600，係將待藉由附加加工附加之形狀(從附加加工後所製作之物體之形狀去除作為附加加工對象之工件之形狀後的形狀)之三維CAD資料作為三維造形用之資料，轉換為例如STL(Stereo Lithography)資料，進而從此三維STL資料生成於Z軸方向切片之各層 (Layer)之資料。接著，控制裝置600根據各層之資料，為了進行對工件之各層之附加加工，控制移動系統200及光束造形系統500，針對各層反覆進行如下動作：一邊將載台12掃描於掃描方向、一邊進行前述之一文字區域之形成及對一文字光束之來自噴嘴84a之造形材料之供給所致之線狀熔融池之形成。此處，附加加工時工件上之對象面之位置及姿勢之控制，係考量先前測量之對象面之位置資訊(在本實施形態中為形狀資訊)而進行。例如，使用測量系統400取得之工件W之對象面TAS之位置資訊(形狀資訊)，係用於將工件W之對象面TAS上之目標部位TA對齊於在造形面MP之光束之照射區域。此外，控制裝置600，係根據使用測量系統400而取得之工件W之對象面TAS之位置資訊(形狀資訊)亦控制光束造形系統500。作為此控制之內容，係按照先前作為設定或變更造形面上之光束之強度分布、例如形成於造形面上之光束之照射區域之形狀、大小、配置等的方法所說明的光束照射部520之各種控制及光束之強度分布之設定或變更來進行之、材料處理部530供給造形材料之供給動作所關連之所有各種控制內容均有包含。
此處，以上之說明中，係以工件W之設定為附加加工之目標部位TA的對象面(例如上面)TAS，為藉由調整載台12之傾斜而設定成與聚光光學系82之光軸垂直之面(與XY平面平行之面)的平面作為前提，來進行伴隨載台12之掃描動作的造形。然而，工件之設定為附加加工之目標部位的對象面，不限於一定要為能使用一文字光束的平面。可是，本實施形態之造形裝置100具備能將搭載有工件之載台12之6自由度方向位置設定成任意位置的移動系統200。因此，此種情形下，控制裝置600係根據使 用測量系統400測量之工件之三維形狀，控制移動系統200及光束造形系統500之光束照射部520，一邊將造形面MP上之光束照射區域之X軸方向寬度調整成對齊於造形面MP之工件W上之對象面(例如上面)能視為可在造形面MP上之光束照射區域內進行附加加工之平坦的程度，一邊透過噴嘴84a之各開閉構件93i進行各供給口91i之開閉操作，從必要之供給口將造形材料供給至照射於照射區域的光束。藉此，即使工件上面(對象面)非為平坦，亦能對必要之部分施加造形。
此外，亦可在進行透過銲珠積層之造形時，以在造形面之照射區域之X軸方向寬度小的光束進行附加加工(銲珠形成)，在形成較大面積之平面後，使用使在造形面之照射區域之X軸方向寬度增大之一文字光束，對平面上進行附加加工(銲珠形成)。例如亦可在對有凹凸之對象面上進行造形時，係以在造形面之照射區域之X軸方向寬度小之光束進行填埋凹部之附加加工(銲珠形成)而形成平面後，使用使在造形面MP之照射區域之X軸方向寬度增大之一文字光束，對該平面上進行附加加工(銲珠形成)。此種情形下當然亦同樣地，係從按照在造形面MP之光束之照射區域大小(寬度)變化而選擇之一個或複數個供給口供給造形材料之粉末。
在對工件W之附加加工結束後，在步驟S11，將搭載有附加加工完畢之工件W之載台12移動至測量系統400下方。
在次一步驟S12，使用測量系統400之三維測量機401檢查載台12上之工件形狀。具體而言，控制裝置600，係在將該工件搭載於載台12上之狀態下使用三維測量機401測量附加加工完畢之工件之三維形狀，求出所測量之工件之三維形狀相對於從設計值求出之附加加工完畢工 件之三維形狀的尺寸誤差。此處，成為檢査對象之附加加工完畢之工件(載台12上之工件)，包含僅施加了最初附加加工之工件及在附加加工後施加了後述修正加工之工件兩者。
在檢査結束後，次一步驟S14中，藉由判斷以檢査而得到之尺寸誤差是否為預定之臨限值以下，來進行附加加工之合格與否判定、亦即進行是否合格之判斷。接著，在此步驟S14之判斷為肯定之情形，亦即為合格之情形，即進至步驟S15。
另一方面，在步驟S14之判斷為否定之情形，亦即不合格之情形，即移行至步驟S19，將搭載有工件之載台12移動至光束造形系統500下方後，在步驟S20中對搭載於載台12上之工件進行修正加工。此修正加工，例如根據透過先前檢査取得之尺寸誤差，以極力使該尺寸誤差成為零之方式，與透過一般3D列印機之造形同樣地使用來自光束造形系統500之光束照射部520之光束(例如點狀光束)一邊使載台12在靜止狀態或極低速地移動一邊形成熔融池，藉此來進行。此情形下，依檢査之結果取得之尺寸誤差為正(plus)值之情形，亦即藉由附加加工而於工件之對象面上附加了較必要程度以上厚之形狀的情形，必須將多餘部分之造形材料除去。本實施形態中，控制裝置600係在不進行造形材料之供給之情況下使來自光束造形系統500之光束照射部520之光束照射於工件對象面上之多餘形狀部分以使該部分之造形材料融化，並使載台12一邊急加速、急減速一邊移動，而將融化之造形材料從工件對象面上除去。此外，亦可除使載台12一邊急加速、急減速一邊移動之方式外再追加下述裝置或者取而代之地，將用以吹散融化之造形材料之壓縮空氣之噴出裝置設於光束造形系統500。或者， 亦可不藉由光束融化造形材料，以可將用以機械式除去多餘造形材料之具有刃物等的除去裝置設於光束造形系統500內。不論係何者，最好是將用以回收從工件對象面上除去之造形材料(融化之造形材料或以機械式除去之造形材料)的回収裝置設於光束造形系統500內。雖亦可將回収裝置與噴嘴84a完全獨立設置，但於噴嘴設有不熔融之多餘粉狀造形材料之回収口時，亦可將該回収口兼用為上述除去之造形材料之回収口。
在上述修正加工結束後，返回至步驟S11，將搭載有修正加工完畢工件之載台12移動至測量系統400下方後，在次一步驟S12使用測量系統400之三維測量機401檢查載台12上之工件之形狀。接著，在步驟S14，進行附加加工之合格與否判定、亦即是否合格之判斷。接著，當再度在步驟S14之判斷為否定之情形(為不合格之情形)，則在其後反覆步驟S19、S20、S11、S12、S14之迴圈處理(包含判斷)，施加必要之進一步修正加工，直至在步驟S14之判斷為肯定為止，亦即修正加工後之形狀之檢査結果成為合格為止。
在步驟S15，將搭載有附加加工完畢(包含修正加工完畢)之工件之載台12移動至前述之裝載/卸載位置。
在次一步驟S16，使搭載於載台12上之加工完畢之批量內之第n個工件返回至托板。具體而言，控制裝置600係參照計數值n特定出托板上之位置，對搬送系統300賦予用以使工件返回至托板上特定之位置的指示。按照此指示，藉由搬送系統300，附加加工完畢之工件從載台12上被取出而被返回至托板上所特定之位置。與上述之對搬送系統300指示相反地，控制裝置600，將於前一刻在步驟S12中進行之工件形狀檢査所得 到之、被附加之形狀之實際形狀資料送至外部之裝置例如上位裝置。
在執行步驟S16之處理後，移行至步驟S22。在此時點，於載台12上不存在工件。在步驟S22，使計數器之計數值n增加1(n←n+1)。
在次一步驟S24，係判斷計數值n是否超過N(N為1批量之工件之數量，在本實施形態中為N=20)。接著，在步驟S24之判斷為否定之情形，亦即於批量內存在處理未結束工件之情形，即返回至步驟S6，反覆步驟S6~S24直至在步驟S24判斷為肯定為止。藉此，對批量內之第2個以後之工件進行上述之一連串處理(包含判斷)。接著，對批量內之所有工件之處理結束，而在步驟S24之判斷為肯定後，即進至步驟S26，對未圖示之搬出入裝置指示將搭載有處理完畢之工件之托板往裝置外搬出後，結束本程序(routine)之一連串處理。
此外，以上說明中，雖係在對工件之附加加工結束後，使搭載有附加加工完畢之工件W之載台12移動至測量系統400下方，並使用測量系統400之三維測量機401檢查載台12上之工件形狀，但亦可在不進行此種檢査之情形下，在對工件之附加加工結束後，使搭載有附加加工完畢之工件W之載台12，為了使該加工完畢之工件返回至托板而移動至裝載/卸載位置。亦即，附加加工完畢之工件之形狀檢査及使用此檢査結果之前述修正加工亦可不一定要進行。或者，亦可在對工件之附加加工結束後，使搭載有附加加工完畢之工件W之載台12移動至測量系統400下方，使用測量系統400之三維測量機401檢査載台12上之工件形狀，不論其檢査結果為何，均在不施加修正加工之情形下，為了使附加加工完畢之工件返回至托板，而移動至裝載/卸載位置。此情形下亦同樣地，依檢査之結果取 得之被附加之形狀之實際形狀資料亦藉由控制裝置600被送至外部裝置、例如上位裝置。又，在已進行修正加工之情形，亦可不進行工件之形狀檢査。亦即，亦可在步驟S20之後即進至步驟S15，使搭載有修正加工完畢之工件之載台12移動至前述裝載/卸載位置。
又，以上說明中，在對工件之附加加工結束後，由於會判定有無修正加工之必要性，因此係為了進行加工完畢之工件之形狀檢査而使搭載有附加加工完畢之工件W之載台12移動至測量系統400下方。然而並不限於此，亦可在對工件之附加加工之途中，使搭載有工件W之載台12移動至測量系統400下方，而在取得包含附加部分之對象面之位置資訊(形狀資訊)後，使搭載有工件W之載台12再度移動至光束造形系統500下方，根據包含所取得附加部分之對象面之位置資訊(形狀資訊)，再度開始造形。
如以上所詳細說明，根據本實施形態之造形裝置100及以造形裝置100執行之造形方法，能藉由測量系統400測量在不從載台12取下已施加附加加工之工件而搭載於載台12上之狀態下之該工件之對象面之三維形狀，並能根據其測量結果判定例如加工後形狀之合格與否(OK/NG)。接著，當為不合格之情形，亦能在將工件搭載於載台12上之狀態下使用光束造形系統500直接修正加工，極有効率。
又，在陸續大量生產零件之過程中，製作零件並於現場進行尺寸檢査一事，對於控制品質方面極為方便。之所以如此，係因對於裝置之精度而言，因各式各樣之原因，漂移(drift)係無法避免的。藉由在當場進行檢査，能由控制裝置600偵測出此漂移之傾向，而能依據其結果對加工精度陸續進行反饋。亦即，控制裝置600，能根據使用測量系統400取得之 工件對象面之位置資訊(形狀資訊)，求出造形中之裝置之漂移傾向，按照該求出之結果調整測量系統400、光束造形系統500及移動系統200之至少一個，藉此抑制尺寸之變動，提升良率、改善品質不均。
此外，控制裝置600，不限於求出造形中之裝置之漂移傾向之情形，亦可根據使用測量系統400取得之工件對象面之位置資訊(形狀資訊)來調整測量系統400、光束造形系統500及移動系統200之至少一個。此情形之工件，包含施加附加加工前之工件、施加附加加工後之工件、以及施加修正加工後之工件之至少一個。
在本實施形態之造形裝置100之情形，從至此為止之說明可清楚得知，由於可視為無伴隨加工之反作用力，因此與工件固定狀態會直接關連於加工精度或完工結果之如切削機之類工作機械不同地，不需將工件牢固地固定於載台12上。又，造形裝置100由於具備測量系統400，因此即使藉由搬送系統300而工件些許粗略地搭載於載台12上，由於藉由測量系統400可在其後再次特定出相對座標系之位置，因此不會成為問題。因藉由此測量系統400進行三維形狀測量(三維對準之一態樣)之故，能使包含透過搬送系統300進行之工件裝載於載台12上之裝載動作及附加加工完畢之工件從載台12上卸載之卸載動作在內的一連串動作自動化，而能進行効率良好之生產。
又，根據本實施形態之造形裝置100，前述之在造形面MP內之光束之強度分布，能不僅在透過光束與對象面TAS之相對移動之造形開始前，在光束與對象面TAS之相對移動中，於必要情形亦能連續地變更，且能按照對象面TAS與光束之相對位置，進而能按照被要求之造形精度與 產能予以變更。藉此，造形裝置100，例如能藉由快速原型設計將造形物以高加工精度且高產能形成於工件W之對象面TAS上。
又，造形裝置100，當於平坦對象面TAS上進行較寬廣面積之附加加工(造形)時，係採用對前述之一文字光束從噴嘴84a供給粉末狀之造形材料PD以於噴嘴84a正下方形成線狀之熔融池WP，一邊使載台12掃描於掃描方向(在圖4中為+Y方向)一邊進行此種熔融池WP之形成的方法。根據此方法，透過習知之3D列印機等若不使圖16(B)所示之點狀光束往返數十次即無法生成的形狀，能如圖16(A)所示，以相對一文字光束之載台12之數次往返即能生成。根據本實施形態，與藉由習知點狀光束之造形之所謂一筆到底之造形之情形相較，能以格外短之時間將造形物形成於工件之對象面上。亦即，此點亦能提升產能。
又，根據本實施形態之造形裝置100，由於係藉由變更反射鏡陣列80之各反射鏡元件之反射面傾斜角度，來進行聚光光學系82在造形面內之光束之強度分布之變更，因此作為該強度分布之變更，能容易地變更在造形面內之光束之照射區域之位置、數量、大小、及形狀之至少一個。是以，例如將照射區域設定為點狀、狹縫狀(線狀)等，即能以前述手法對工件上之對象面施加三維造形，藉此形成高精度之三維造形物。
又，本實施形態之造形裝置100具有複數個例如兩個之粉末匣88A,88B，於粉末匣88A,88B各個之內部收容有第1造形材料(例如鈦)之粉末、第2造形材料(例如不鏽鋼)之粉末。又，於附加加工時(造形時)，係藉由控制裝置600，進行使用了材料供給裝置86之對噴嘴單元84之粉末供給路徑、亦即配管90b,90c之切換。藉此，來自粉末匣88A之第1造形材 料(例如鈦)之粉末與來自粉末匣88B之第2造形材料(例如不鏽鋼)之粉末係擇一地供給至噴嘴單元84。是以，僅將控制裝置600所供給之粉末材料對應部位做切換，即能容易地生成異種材料之接合形狀。又，其切換能大致在瞬間進行。進而，亦能藉由混合異種材料來供給而當場製作「合金」，亦能將其組成視場所來改變或使之漸層(gradation)。
本實施形態之造形裝置100中，控制裝置600能使用測量裝置110並藉由前述手法，以適當頻率測量在造形面MP內之光束之強度分布，並進行必要之校正。例如，控制裝置600，能根據使用了測量裝置110之在造形面MP內之光束之強度分布之測量結果，控制反射鏡陣列80等調整在造形面MP內之光束之強度分布。
又，控制裝置600，亦可例如在對工件之造形處理(附加加工)前使用測量裝置110進行在造形面MP內之光束之強度分布之測量，並根據其測量結果，於造形處理中進行光束造形系統500與移動系統200之至少一方之調整。此情形下亦同樣地，亦可在測量在造形面MP內之光束之強度分布後，接續著進行在光瞳面PP之光束之強度分布之測量，並根據其結果，於造形處理中進行光束造形系統500與移動系統200之至少一方之調整(控制)。
作為此情形下之移動系統200之調整(控制)，可代表性地舉出用以將工件W之對象面TAS上之目標部位TA對齊於在造形面MP之光束之照射區域的載台12位置控制。
又，作為光束造形系統500之調整(控制)內容，先前作為設定或變更造形面上光束之強度分布、例如設定或變更形成於造形面上之光 束之照射區域之形狀、大小、配置等的方法所說明之光束照射部520之各種控制、以及作為按照此光束強度分布之設定或變更而進行之方法所說明之藉由材料處理部530對造形材料之供給動作所相關連之所有各種控制內容均為其所含。
又，在以載台12靜止之狀態無法以受光器96一次進行在造形面MP之光束之強度分布測量時，例如在造形面MP之光束之照射區域之配置範圍寬廣時等，係一邊將載台12(測量構件92之開口92a)在XY平面內移動於X軸方向及Y軸方向之至少一方向、一邊進行在造形面MP之光束之強度分布測量。
此外，本實施形態之造形裝置100，雖於載台12設有測量裝置110之所有構成部分，但不限於此，只要係CCD96a之受光面與作為受光部發揮功能之測量構件92之開口92a之形成面的光學上共軛關係能被保持，測量構件92以外之測量裝置110之構成部分亦可設於載台12外部。
又，亦可與載台12分開獨立地設置搭載有與上述測量裝置110相同之感測器裝置且可與載台12獨立移動之可動構件。此情形下，可動構件只要能移動於X、Y、Z之3軸方向即可，控制裝置600可採用能在載台座標系上控制(管理)該可動構件及感測器之位置的構成。使用感測器裝置，控制裝置600能進行前述在造形面之光束之強度分布測量。此情形下亦同樣地亦可進行在光瞳面PP之光束之強度分布測量。又，此情形下，控制裝置600亦可根據使用感測器裝置測量之在造形面MP內之光束之強度分布，而在造形處理中進行上述光束造形系統500與移動系統200之至少一方之調整。此外，控制裝置600能與使用測量系統400測量載台12上之工件 之動作並行地，使用感測器裝置進行前述在造形面之光束之強度分布測量等。
此外，從至此為止之說明可清楚得知，測量裝置110亦能作為用以檢測出光束強度之照射區域內部之不均(強度分布)的不均感測器來使用。
又，亦可使用測量裝置110測量聚光光學系82之波面像差。例如於圖13所示之旋轉板101之空白區域、例如圖13中之假想線(二點鏈線)之圓內區域配置微透鏡陣列，該微透鏡陣列係使開口92a之形成面與CCD96a之受光面在光學上共軛之複數個微透鏡配置成矩陣狀而成。此情形下，亦可使旋轉板101旋轉，使該微透鏡陣列位於從第1光學系94射出之平行光之光路上，並將形成有針孔圖案以作為光透射部之圖案板配置於例如第2複眼透鏡系76之射出側，藉此構成能測量聚光光學系82之波面像差之夏克哈特曼(Shack-Hartmann)方式之波面像差測量器。此情形下，圖案板為能插拔於第2複眼透鏡系76之射出側的構成。在採用能進行波面像差測量之構成之情形，即使聚光光學系82之後側焦點面之位置變化，亦能從波面像差測量結果，測量變化後之聚光光學系82之後側焦點面之位置，並能根據其來變更造形面MP之位置或調整測量裝置110進行測量處理時之測量構件92之上面位置。又，在採用能進行波面像差測量之構成之情形，亦可一併做成能調整聚光光學系82之光學特性的構成。例如，將聚光光學系82以複數個透鏡構成，並將其中一部分之透鏡作成能藉由壓電元件等驅動元件驅動於光軸AX方向及相對與光軸AX正交之平面之傾斜方向(傾斜方向)的構成。此種情形下，能藉由將可動透鏡驅動於軸AX方向及傾斜方向之至 少一方向來調整聚光光學系82之光學特性。
此外，亦可取代上述測量裝置110，而如圖17所示，將前述受光器96於載台12上面配置成CCD96a之受光面與載台12之其他部分成為同高(同一面)。接著，亦可藉由此受光器96測量在造形面MP之光束之強度分布。此情形下亦同樣地，不僅在載台12停止狀態下之測量，能進行一邊使載台12移動一邊測量光束之強度分布的掃描測量，藉此能排除CCD或反射鏡陣列之有限像素數量之影響，得到正確測量結果。如此，藉由以接收來自聚光光學系82之光束之感測器測量光束之強度分布，而能進行亦加入了聚光光學系82之熱像差等變動要因後之光束之強度分布管理。又，藉由根據其結果控制反射鏡陣列80等，而能以良好精度將在聚光光學系82後側焦點面等之光束之強度分布設定成所欲狀態。
此外，上述實施形態中，係說明了藉由光束造形系統500形成單一直線狀光束(一文字光束)之照射區域，並相對該一文字光束將工件W掃描於掃描方向(例如Y軸方向)的情形。然而，光束造形系統500，如前所述可藉由對射入聚光光學系82之複數個平行光束LB之入射角度賦予適當之角度分布來自由地變更造形面MP上之光束之強度分布。是以，造形裝置100，能變更造形面MP上之光束之照射區域之位置、數量、大小及形狀之至少一個，亦能如前所述形成例如一文字區域、三行區域、缺損一文字區域等(參照圖10)來作為光束之照射區域。
至此為止，係使一文字區域成為盡可能細之尖銳狀，利用散焦時照射於該一文字區域之光束之能量密度急遽下降來極力地增高熔融池(塗布層)之厚度控制性的方法為前提進行了說明。然而，此情形下，塗布層 之厚度變得非常薄，在附加相同厚度之層時，必須區分成更多層來進行附加加工(造形)(必須重新塗布好幾次)，就生產性觀點而言並不利。
是以，考量到被要求之造形精度與產能之均衡，而亦能考量欲增厚塗布層厚度之情形。此種情形下，控制裝置600係按照被要求之造形精度與產能，使造形面內之光束之強度分布變化，具體而言只要控制反射鏡陣列80之各反射鏡元件81p，q之傾斜角以稍微加寬一文字區域寬度即可。例如圖18(B)所示之一文字區域LS變化成一文字區域LS’。如此一來，散焦時之能量密度變化變得和緩，而如圖18(A)所示，鉛垂方向之高能量區域之厚度h變厚，藉此能增厚一次掃描能生成之層厚度，據以使生產性提升。
如以上所述，本實施形態之造形裝置100與習知金屬用3D列印機相較，其具備多數個便利性、依照實際加工現場之要求之解決方案，為其一大特徵。
此外，上述實施形態中，雖說明了例如係以彙整於托板之一定量作為1批量，並以批量單位來處理工件之情形，但不限於此，亦可將工件一個一個地處理。此情形下，係藉由搬送系統300，將從外部搬送系承接之加工前工件裝載至載台12上，且將加工結束後之工件從載台上卸載並移交至外部搬送系。
此外，上述實施形態中，雖說明了使用反射鏡陣列80作為空間光調變器之情形，但亦可取代此方式，使用將多數個藉由MEMS技術製作之數位微鏡元件(Digital Micromirror Device：DMD(註冊商標))配置成矩陣狀而成之大面積數位微鏡元件。在此種情形下，難以使用編碼器等測量 各反射鏡元件之狀態(例如傾斜角)。而在此種情形下，亦可使用檢測系統，其係對該大面積數位微鏡元件表面照射檢測光，並接收來自構成數位微鏡元件之多數個反射鏡元件之反射光，根據其強度分布檢測各反射鏡元件之狀態。在此情形，檢測系統亦可根據以拍攝手段拍攝由數位微鏡元件形成之像所取得之影像資訊來檢測多數個反射鏡元件各個之狀態。
此外，上述實施形態之造形裝置100中，亦可連同旋轉編碼器83p,q一起使用圖11中以假想線顯示之檢測系統89。作為此檢測系統89，能使用對反射鏡陣列80表面照射檢測光並接收來自構成反射鏡陣列80之多數個反射鏡元件81p,q之反射光，再根據其強度分布檢測各反射鏡元件81p,q之狀態之檢測系統。作為檢測系統，能使用與例如美國發明專利第8,456,624號說明書所揭示者相同構成之系統。
又，上述實施形態中，雖例示了使用各反射鏡元件81p,q之反射面相對基準面之傾斜角度為能變更類型之反射鏡陣列80的情形，但不限於此，亦可採用各反射鏡元件能相對基準面傾斜且能位移於與基準面正交之方向之構造的反射鏡陣列。又，各反射鏡元件，亦可不一定可相對基準面傾斜。如上述，能位移於與基準面正交之方向之反射鏡陣列，例如揭示於美國發明專利第8,456,624號說明書。此外，亦可採用各反射鏡元件能繞與基準面平行之彼此正交之二軸旋轉(亦即能變更正交之兩方向之傾斜角度)類型之反射鏡陣列。如上述之能變更正交之兩方向之傾斜角度之反射鏡陣列，揭示於例如美國發明專利第6,737,662號說明書。此等情形中亦能使用上述美國發明專利第8,456,624號說明書所揭示之檢測系統來檢測各反射鏡元件之狀態。
此外，亦可使用對反射鏡陣列80表面照射檢測光並接收來自構成反射鏡陣列80之多數個反射鏡元件81p,q之反射光的檢測系統。或者，作為檢測系統，亦可將個別檢測各反射鏡元件之相對基準面(底座)之傾斜角及間隔之感測器設於反射鏡陣列(光學元件)。
此外，上述實施形態中，雖說明了藉由個別控制射入聚光光學系82之光瞳面之複數個平行光束之入射角度來進行在造形面上之光束之強度分布之變更的情形，但亦可非為能控制(變更)射入聚光光學系82之光瞳面之複數個平行光束之所有入射角度。是以，在與上述實施形態同樣地使用反射鏡陣列控制射入聚光光學系82之平行光束之入射角度時等，所有反射鏡元件亦可非能變更反射面狀態(反射面之位置及傾斜角度之至少一方)。又，上述實施形態中，雖說明了為了進行射入聚光光學系82之複數個平行光束之入射角度之控制、亦即為了變更造形面上之光束之強度分布而使用反射鏡陣列80的情形，但亦可取代反射鏡陣列而使用以下說明之空間光調變器(非發光型影像顯示元件)。作為透射型空間光調變器，除了透射型液晶顯示元件(LCD：Liquid Crystal Display)以外，還能例舉出電致變色顯示器(ECD)等。又，作為反射型空間光調變器，除了上述之微鏡陣列以外，還能例舉出反射型液晶顯示元件、電泳顯示器(EPD：Electro Phonetic Display)、電子紙(或電子墨)、光繞射型光閥(Grating Light Valve)等。又，上述實施形態中，雖說明了為了進行造形面上之光束之強度分布之變更而使用反射鏡陣列(空間光調變器之一種)之情形，但亦可因其他目的使用空間光調變器。
又，如上述，聚光光學系82雖較佳為大口徑，但亦可使用數值孔徑N.A.較0.5小之聚光光學系。
此外，上述實施形態中，雖例示了使用鈦、不鏽鋼之粉末作為造形材料之情形，但當然亦可使用鐵粉等其他金屬之粉末，亦能使用尼龍、聚丙烯、ABS等之粉末等金屬以外之粉末。又，作為造形材料除了粉末以外之物，在使用例如用於熔接之焊線等的情形，亦能適用上述實施形態之造形裝置100。不過，在此情形下係取代粉末匣及噴嘴單元等粉末供給系而設有送線裝置等。
又，上述實施形態中，雖說明了從噴嘴84a之複數個供給口91i之各個將粉末狀之造形材料PD沿著與聚光光學系82之光軸AX平行之Z軸方向供給的情形，但不限於此，亦可從相對光軸AX傾斜之方向供給造形材料(粉末)。且亦可從相對鉛垂方向傾斜之方向供給造形材料(粉末)。
此外，上述實施形態之造形裝置100中，材料處理部530所具備之噴嘴84a，亦可具有前述造形材料之供給口與用以將未熔融之粉末狀造形材料回収之回収口(吸引口)。
至此為止，雖說明了對既有之工件附加形狀之例，但本實施形態之造形裝置100之使用用途並不限於此，亦可與一般3D列印機等同樣地，在載台12上從無任何物之處藉由造形而生成三維形狀。此情形下，無非是對所謂「無」之工件施加附加加工。當在此種載台12上進行三維造形物之造形時，控制裝置600，只要藉由測量系統400所具備之標記檢測系56(參照圖11)，以光學方式檢測預先形成於載台12上之最少三處之對準標記，藉此求出設定於載台12上之造形之對象面於6自由度方向之位置資訊，並一邊根據此結果控制相對光束(之照射區域)之載台12上之對象面之位置及姿勢、一邊進行三維造形即可。
此外，上述實施形態中，作為一例，係說明了控制裝置600控制移動系統200、搬送系統300、測量系統400及光束造形系統500之構成各部的情形，但不限於此，亦可由分別包含微處理器等處理裝置之複數個硬體構成造形系統之控制裝置。此情形下，移動系統200、搬送系統300、測量系統400及光束造形系統500亦可分別具備處理裝置，亦可係控制移動系統200、搬送系統300、測量系統400及光束造形系統500中之至少兩個之第1處理裝置與控制剩餘系統之第2處理裝置的組合，或亦可係控制上述四個系統中之兩個之第1處理裝置與個別控制剩餘兩個系統之第2及第3處理裝置的組合。不論係哪一種情形，各個處理裝置皆係負責上述控制裝置600之功能之一部分。或者，亦可藉由複數個微處理器等處理裝置與統籌管理此等處理裝置之主電腦來構成造形系統之控制裝置。
上述各實施形態之構成要件之至少一部分能與上述各實施形態之構成要件之至少其他一部分適當地組合。亦可不使用上述各實施形態之構成要件中之一部分。又，在法令所許容範圍內，援用上述各實施形態中所引用之所有公開公報及美國發明專利之揭示以作為本文記載之一部分。
產業上可利用性
如以上所說明，本發明之造形裝置及造形方法適於三維造形物之形成。
12‧‧‧載台
78‧‧‧光束剖面強度轉換光學系
80‧‧‧反射鏡陣列
80A‧‧‧底座構件
81p,q‧‧‧反射鏡元件
82‧‧‧聚光光學系
500‧‧‧光束造形系統
510‧‧‧光源系
520‧‧‧光束照射部
530‧‧‧材料處理部
A‧‧‧圓
AX‧‧‧光軸
LB‧‧‧平行光束
MP‧‧‧造形面
PP‧‧‧光瞳面
TA‧‧‧目標部位
TAS‧‧‧對象面
W‧‧‧工件

Claims (62)

  1. 一種DED方式之造形裝置，係形成三維造形物，其具備：移動系統，係使對象面移動；測量系統，能取得在藉由前述移動系統而能移動之狀態下之前述對象面之位置資訊；光束造形系統，具有射出光束之光束照射部、以及供給被以來自前述光束照射部之光束照射之造形材料的材料處理部；以及控制裝置，根據前述三維造形物之3D資料與使用前述測量系統所取得之前述對象面之位置資訊控制前述移動系統與前述光束造形系統，以一邊使前述對象面與來自前述光束照射部之光束相對移動、一邊從前述材料處理部供給前述造形材料據以對前述對象面上之目標部位施加造形，前述移動系統具有可動構件，前述控制裝置，在具有前述對象面的工件被載置於前述可動構件後，且對前述工件之前述對象面施加前述造形前，取得前述工件之表面之至少一部分之位置資訊以作為前述對象面之位置資訊。
  2. 如申請專利範圍第1項之造形裝置，其中，前述測量系統包含三維測量機。
  3. 如申請專利範圍第1項之造形裝置，其中，前述測量系統能測量前述對象面之至少三點之位置資訊。
  4. 如申請專利範圍第1項之造形裝置，其中，前述測量系統能測量前述對象面之三維形狀。
  5. 如申請專利範圍第1項之造形裝置，其中，前述控制裝置，控制前 述移動系統與前述光束造形系統來進行用以形成前述三維造形物之附加加工，前述工件之表面之至少一部分之位置資訊於前述附加加工開始前取得。
  6. 如申請專利範圍第5項之造形裝置，其中，前述控制裝置，使用前述測量系統取得在前述附加加工後之工件之表面之至少一部分的位置資訊。
  7. 如申請專利範圍第6項之造形裝置，其中，前述附加加工後之前述工件之表面之位置資訊，包含藉由前述附加加工所附加之部分之表面的位置資訊。
  8. 如申請專利範圍第7項之造形裝置，其進一步具備：搬送系統，將前述附加加工前之前述工件裝載於前述可動構件上，且從前述可動構件卸載前述附加加工後之前述工件；前述控制裝置控制前述搬送系統。
  9. 如申請專利範圍第7項之造形裝置，其中，前述控制裝置，在以前述可動構件保持前述附加加工後之前述工件之狀態下，使用前述測量系統取得前述附加加工後之前述工件之表面之至少一部分的位置資訊。
  10. 如申請專利範圍第7項之造形裝置，其中，前述控制裝置係根據使用前述測量系統取得之位置資訊求出前述附加之部分之尺寸誤差。
  11. 如申請專利範圍第10項之造形裝置，其中，前述控制裝置係使用前述尺寸誤差進行前述附加加工之合格與否判定。
  12. 如申請專利範圍第10項之造形裝置，其中， 前述控制裝置，根據前述尺寸誤差在以前述可動構件保持前述附加加工後之前述工件之狀態下對前述附加加工後之前述工件施加修正加工。
  13. 如申請專利範圍第12項之造形裝置，其中，前述控制裝置，係使用來自前述光束照射部之光束進行前述修正加工。
  14. 如申請專利範圍第12項之造形裝置，其中，前述控制裝置，控制前述光束造形系統與前述移動系統，對前述附加加工後之前述工件施加造形以作為前述修正加工。
  15. 如申請專利範圍第12項之造形裝置，其中，前述控制裝置對前述附加加工後之前述工件施加除去加工。
  16. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其進一步具備：感測器，係以受光部接收前述光束。
  17. 如申請專利範圍第16項之造形裝置，其中，前述感測器能測量前述光束之強度分布。
  18. 如申請專利範圍第16項之造形裝置，其中，前述控制裝置，係一邊移動前述感測器之受光部、一邊以前述受光部接收前述光束。
  19. 如申請專利範圍第16項之造形裝置，其中，前述受光部，配置於前述可動構件。
  20. 如申請專利範圍第16項之造形裝置，其中，前述光束照射部具有射出前述光束之聚光光學系；前述感測器之受光部能接收從前述聚光光學系射出之光束。
  21. 如申請專利範圍第20項之造形裝置，其中，前述受光部配置成在前述聚光光學系之後側焦點面或其附近的面接收前述光束。
  22. 如申請專利範圍第20項之造形裝置，其中，前述受光部，能一邊往與前述聚光光學系之射出面側之光軸平行之方向與垂直於前述光軸之方向之至少一方移動、一邊接收來自前述聚光光學系之光束。
  23. 如申請專利範圍第20項之造形裝置，其中，前述感測器能測量在前述聚光光學系之射出面側之與光軸垂直之第1面內之前述光束之強度分布。
  24. 如申請專利範圍第23項之造形裝置，其中，前述第1面係前述聚光光學系之後側焦點面或其附近之面。
  25. 如申請專利範圍第23項之造形裝置，其中，前述控制裝置，係根據使用前述感測器之測量之結果，控制在前述第1面之前述光束之強度分布。
  26. 如申請專利範圍第20項之造形裝置，其中，前述控制裝置，係根據使用前述感測器之測量之結果，控制射入前述聚光光學系之入射面側之與光軸垂直之第2面內之至少一個入射光束之角度。
  27. 如申請專利範圍第26項之造形裝置，其中，前述第2面包含前述聚光光學系之前側焦點面或其附近之面。
  28. 如申請專利範圍第26項之造形裝置，其中，前述至少一個入射光束包含對前述第2面之入射角度不同之複數個光束。
  29. 如申請專利範圍第16項之造形裝置，其中，前述控制裝置，係根據使用前述感測器進行之測量結果，進行前述光束造形系統與前述移動系統之至少一方之控制。
  30. 如申請專利範圍第29項之造形裝置，其中，基於使用前述感測器 進行之測量結果之前述光束造形系統之控制，包含前述材料處理部之控制。
  31. 如申請專利範圍第30項之造形裝置，其中，前述材料處理部之控制，包含控制由前述材料處理部進行之前述造形材料之供給之動作。
  32. 如申請專利範圍第31項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有供給前述造形材料之至少一個供給口；根據使用前述感測器進行之測量結果，控制來自前述至少一個供給口之前述造形材料之供給。
  33. 如申請專利範圍第32項之造形裝置，其中，前述至少一個供給口為可動；前述造形材料之供給之控制，包含前述至少一個供給口之移動。
  34. 如申請專利範圍第32項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有供給前述造形材料之複數個供給口；前述造形材料之供給之控制，包含從前述複數個供給口選擇至少一個供給口，且從前述選擇之至少一個供給口供給前述造形材料之動作。
  35. 如申請專利範圍第32項之造形裝置，其中，前述造形材料之供給之控制，包含控制來自前述至少一個供給口之前述造形材料之每單位時間之供給量之動作。
  36. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述光束照射部具有射出前述光束之聚光光學系；前述控制裝置，根據前述測量系統之測量結果，控制在前述聚光光學系之射出面側之與光軸垂直之第1面內之前述光束之強度分布。
  37. 如申請專利範圍第36項之造形裝置，其中，前述第1面係前述聚 光光學系之後側焦點面或其附近之面。
  38. 如申請專利範圍第36項之造形裝置，其中，前述控制裝置，藉由控制射入前述聚光光學系之入射面側之與光軸垂直之第2面內之至少一個入射光束之角度，來控制在前述第1面內之前述光束之強度分布。
  39. 如申請專利範圍第38項之造形裝置，其中，前述第2面包含前述聚光光學系之前側焦點面或其附近之面。
  40. 如申請專利範圍第38項之造形裝置，其中，前述至少一個入射光束包含對前述第2面之入射角度不同之複數個光束。
  41. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述控制裝置，根據前述測量系統之測量結果進行前述光束照射部之控制。
  42. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述控制裝置，根據前述測量系統之測量結果控制前述材料處理部。
  43. 如申請專利範圍第42項之造形裝置，其中，前述材料處理部之控制，包含控制由前述材料處理部進行之前述造形材料之供給之動作。
  44. 如申請專利範圍第42項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有供給前述造形材料之至少一個供給口；前述材料處理部之控制，包含來自前述至少一個供給口之前述造形材料之供給之控制。
  45. 如申請專利範圍第42項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有供給前述造形材料之至少一個供給口，且前述至少一個供給口為可動；前述材料處理部之控制，包含前述至少一個供給口之位置之控制。
  46. 如申請專利範圍第42項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有 供給前述造形材料之複數個供給口；前述材料處理部之控制，包含從前述複數個供給口選擇至少一個供給口，且從前述選擇之至少一個供給口供給前述造形材料之動作。
  47. 如申請專利範圍第42項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有供給前述造形材料之至少一個之供給口，前述材料處理部之控制，包含來自前述至少一個供給口之前述造形材料之每單位時間之供給量之控制。
  48. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述控制裝置在基準座標系下控制前述可動構件之動作；藉由取得前述位置資訊，對前述基準座標系建立前述對象面之關聯。
  49. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，對前述目標部位照射來自前述光束照射部之光束，並且藉由對前述目標部位供給前述造形材料而在前述目標部位形成熔融池；一邊形成前述熔融池，一邊使前述對象面與來自前述光束照射部之光束相對移動，以對前述目標部位施加造形。
  50. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述三維造形物積層有複數個層；前述控制裝置係根據從前述三維造形物之3D資料取得之前述複數個層之資料，控制前述移動系統與前述光束造形系統。
  51. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述對象面為非平坦。
  52. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述材 料係使用粉末狀之材料。
  53. 如申請專利範圍第52項之造形裝置，其中，前述材料處理部能將彼此相異的複數個材料從至少一個供給口進行供給。
  54. 如申請專利範圍第52項之造形裝置，其中，前述材料處理部具有收容第1材料之第1收容匣、以及收容與前述第1材料相異之第2材料之第2收容匣。
  55. 如申請專利範圍第1至15項中任一項之造形裝置，其中，前述材料係使用線狀材料。
  56. 一種DED方式之造形方法，形成三維造形物，其包含：準備工件的動作；以及使用申請專利範圍第1至55項中任一項之造形裝置形成前述三維造形物的動作。
  57. 一種DED方式之造形方法，形成三維造形物，其包含：將工件載置於可動構件上的動作；取得前述可動構件上之前述工件之對象面之位置資訊的動作；以及根據前述三維造形物之3D資料與前述測量之前述對象面之位置資訊，一邊使前述對象面與光束相對移動、一邊供給被前述光束照射之造形材料據以對前述對象面上之目標部位施加造形的動作；在前述工件載置於前述可動構件後，且往前述工件之前述對象面施加前述造形前，取得前述工件之表面之至少一部分之位置資訊以作為前述對象面之位置資訊。
  58. 如申請專利範圍第57項之造形方法，其中，前述位置資訊之取得， 包含前述對象面之三維形狀之測量。
  59. 如申請專利範圍第57項之造形方法，其中，前述可動構件之動作在基準座標系下被控制；前述位置資訊之取得，包含將前述對象面與前述基準座標系建立關聯的動作。
  60. 如申請專利範圍第58項之造形方法，其中，前述可動構件之動作在基準座標系下被控制；前述三維形狀之測量，包含將前述對象面與前述基準座標系建立關聯的動作。
  61. 如申請專利範圍第57至60項中任一項之造形方法，其中，前述對象面為非平坦。
  62. 如申請專利範圍第57至60項中任一項之造形方法，其中，前述三維造形物積層有複數個層；根據從前述三維造形物之3D資料取得之前述複數個層之資料來進行各層之造形。
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