TWI702426B

TWI702426B - 偏光板及包含其之顯示裝置的製造方法

Info

Publication number: TWI702426B
Application number: TW107141134A
Authority: TW
Inventors: 徐維廷
Original assignee: 住華科技股份有限公司
Priority date: 2018-11-20
Filing date: 2018-11-20
Publication date: 2020-08-21
Also published as: TW202020487A; CN110764181B; CN110764181A

Abstract

本揭露內容的實施例提供一種偏光板及包含其之顯示裝置的製造方法。偏光板的製造方法包含以下步驟：提供第一保護膜，其中第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面；對第一保護膜的第一表面進行鹼化製程；對第一保護膜的第一表面進行電暈(corona)製程；以及將偏光膜貼合至第一保護膜的第二表面上。

Description

偏光板及包含其之顯示裝置的製造方法

本揭露內容是有關於一種偏光板及包含其之顯示裝置的製造方法。

為了使觸控顯示裝置能夠具有更輕薄的尺寸，並且降低顯示面板與觸控元件之間的光折射所產生的疊影情況，業界目前普遍將顯示面板與觸控元件進行完全密合的貼合，這使得顯示面板的背光可以更順利穿透觸控元件的表面，降低光折射，呈現出高輝度的高品質，同時還可以縮減觸控顯示裝置的整體厚度。

為了達到上述的目的，業界均致力於發展觸控元件與顯示面板之結構設計與貼合製程的改良。

本揭露內容是有關於一種保護膜、偏光板及包含其之顯示裝置的製造方法。實施例中，偏光板的製造方法中，對第一保護膜的第一表面進行鹼化製程以及電暈製程，其中鹼化製程使第一保護膜的第一表面產生實質上的結構型態改變，而電暈製程則改善第一表面的水接觸角，使得經過鹼化製程以及電暈製程的第一保護膜的第一表面具有較佳的親水性及貼合性，有利於在後續製程中藉由親水性膠層貼合至玻璃保護層，可增進貼合結構的可靠性並維持良好的光學特性。

根據本揭露內容之一實施例，提出一種偏光板的製造方法。偏光板的製造方法包含以下步驟：提供第一保護膜，其中第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面；對第一保護膜的第一表面進行鹼化製程；對第一保護膜的第一表面進行電暈(corona)製程；以及將偏光膜貼合至第一保護膜的第二表面上。

根據本揭露內容之另一實施例，提出一種顯示裝置的製造方法。顯示裝置的製造方法包含以下步驟：形成偏光板以及設置偏光板於顯示面板上。形成偏光板包含以下步驟：提供第一保護膜，其中第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面；對第一保護膜的第一表面進行鹼化製程；對第一保護膜的第一表面進行電暈製程；以及將偏光膜貼合至第一保護膜的第二表面上。

根據本揭露內容之再一實施例，提出一種保護膜。保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面，其中第一表面上的鹼性離子濃度係為等於或大於5ppm，且第一表面具有親水性官能基。

本揭露內容之實施例中，偏光板的製造方法中，對第一保護膜的第一表面進行鹼化製程以及電暈製程，其中鹼化製程使第一保護膜的第一表面產生實質上的結構型態改變，而電暈製程則改善第一表面的水接觸角，使得經過鹼化製程以及電暈製程的第一保護膜的第一表面具有較佳的親水性及貼合性，有利於在後續製程中藉由親水性膠層貼合至玻璃保護層，可增進貼合結構的可靠性並維持良好的光學特性。

以下提出各種實施方法或是範例來實行本揭露內容之不同特徵，其中描述具體的元件及其排列方式以闡述本揭露內容，當然這些僅是範例，且不該以此限定本揭露內容的範圍。例如，在描述中提及第一個元件形成在第二個元件上時，其可以包含第一個元件與第二個元件直接接觸的實施例，也可以包含有其他元件形成於第一個元件與第二個元件之間的實施例，其中第一個元件與第二個元件並未直接接觸。在不同實施例與圖式之中，相同或類似的元件符號用以表示相同或類似的元件，但這些相同或類似的元件符號標示僅為了簡單清楚地敘述本揭露內容，不代表所討論的不同實施例及/或結構之間有特定的關係。值得注意的是，實施例的提出，僅用以例示本揭露內容的技術特徵，並非用以限定本揭露內容的申請專利範圍。所屬技術領域中具有通常知識者，將可根據以下的描述，在不脫離本揭露內容的精神範圍內，作均等的修飾與變化。一些實施例中之圖式省略部份元件，以清楚顯示本揭露內容之技術特點。

此外，其中可能用到與空間相關的用詞，像是「在…之下」、「下方」、「在…之上」、「在…之間」及類似的用詞，這些關係詞係為了便於描述圖式中一個(些)元件或特徵與另一個(些)元件或特徵之間的關係，這些空間關係詞包含使用中或操作中的裝置之不同方位，以及圖式中所描述的方位。裝置可能被轉向不同方位(旋轉90度或其他方位)，則其中使用的空間相關形容詞也可相同地照著解釋。應理解的是，在一些製程步驟進行之前、當中或之後可能包含進行額外的製程步驟，且一些實施例中所敘述的某些製程步驟可能在另一些實施例之方法中被其他製程步驟所取代或刪除。

第1圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板10的製造方法示意圖。如第1圖所示，本揭露內容之實施例的偏光板10的製造方法例如可採用卷對卷製程進行，但本揭露內容不以此為限。

如第1圖所示，提供第一保護膜100，其中第一保護膜100具有第一表面100a和第二表面100b，第一表面100a相對於第二表面100b。

一些實施例中，第一保護膜100可具有單層或多層之結構。一些實施例中，第一保護膜100可包含具有良好透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等之熱固化型樹脂或紫外線固化型樹脂。舉例而言，一些實施例中，第一保護膜100可包含三醋酸纖維素(TAC)、二醋酸纖維素(DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂(PC)、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴聚合物(COP)、環烯烴共聚合物(COC)、胺基甲酸酯(PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、或上述之任意組合。

一些實施例中，第一保護膜100的第一表面100a例如可具有表面處理材料，例如是平坦劑材料、防污材料、抗眩材料、抗反射材料、或上述的任意組合。一些實施例中，具有表面處理材料的第一表面100a具有相對高的水接觸角，例如是大於100°。

接著，如第1圖所示，對第一保護膜100的第一表面100a進行鹼化製程。一些實施例中，如第1圖所示，第一保護膜100例如可沿輸送方向D1移動。一些實施例中，如第1圖所示，對第一保護膜100進行鹼化製程的步驟例如可包含將第一保護膜100浸入鹼液槽920。一些實施例中，對第一保護膜100進行鹼化製程的步驟例如可包含使第一保護膜100的第一表面100a接觸鹼液。

一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液例如包含鹼金屬(alkali metal)離子、鹼土金屬(alkaline earth metal)離子、或其組合。一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液可包含鉀離子、鈉離子、或其組合。舉例而言，一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液例如可包含氫氧化鉀(KOH)水溶液及/或氫氧化鈉(NaOH)水溶液。

一些實施例中，對第一保護膜100的第一表面100a進行鹼化製程之後，第一表面100a上的鹼性離子濃度例如是約5ppm至約100ppm。

根據本揭露內容之實施例，當鹼性離子濃度相對較大時，例如是等於或大於5ppm，則鹼化後的第一表面100a的濕潤性較佳、水接觸角較小，而當第一保護膜100的第一表面100a上的鹼性離子濃度過大時，例如大於100ppm，則過多的鹼性物質可能會對第一保護膜100的第一表面100a的外觀型態與結構產生不良的影響，例如可能會因為過多的鹼性物質造成第一表面100a的過度腐蝕，而對第一保護膜100的光學性質造成不良的影響，例如霧度上升、光穿透率下降、…等。

一些實施例中，對第一保護膜100的第一表面100a進行鹼化製程時，可選擇性地也同時鹼化第一保護膜100的第二表面100b，然後再在後續的製程中以其他方式減低第二表面100b上的鹼性離子濃度，使得第二表面100b上的鹼性離子濃度低於第一表面100a上的鹼性離子濃度。

一些其他實施例中，對第一保護膜100的第一表面100a進行鹼化製程時，可不鹼化第一保護膜100的第二表面100b，而達到使得第二表面100b上的鹼性離子濃度低於第一表面100a上的鹼性離子濃度。

一些實施例中，如第1圖所示，偏光板的製造方法可更包含對第一保護膜100進行水洗步驟及乾燥步驟。一些實施例中，水洗步驟及乾燥步驟可以是在進行鹼化製程之後以及進行電暈製程之前進行。一些實施例中，如第1圖所示，第一保護膜100例如可沿輸送方向D1輸送進入水洗槽930而進行水洗步驟，接著沿輸送方向D1經過乾燥室950而進行乾燥步驟。

一些實施例中，如第1圖所示，對第一保護膜100的第一表面100a進行電暈(corona)製程。

一些實施例中，如第1圖所示，此電暈製程例如包含設置導電輥910於第一保護膜100的第一表面100a的上方，透過導電輥910放電而讓空氣中的氣體被激發進而與第一表面100a反應。

一些實施例中，可透過調整膜的輸送速度來調整膜的單位面積被放電激發的時間、並搭配調整導電輥910的放電能量，以調整膜的單位面積的電暈程度(處理功率)。

根據本揭露內容之實施例，對第一保護膜100的第一表面100a進行鹼化製程以及電暈製程，其中鹼化製程使第一保護膜100的第一表面100a產生實質上的結構型態改變，例如鹼液的腐蝕特性可能會改變第一表面100a的微結構，而電暈製程則改善第一表面100a的水接觸角，使得經過鹼化製程以及電暈製程的第一表面100a具有較佳的親水性及貼合性，有利於在後續製程中藉由親水性膠層貼合至玻璃保護層，可增進貼合結構的可靠性並維持良好的光學特性。

一些實施例中，可在進行鹼化製程之後進行電暈製程。一些實施例中，如第1圖所示，可在依序進行鹼化製程、水洗步驟及乾燥步驟之後，對第一保護膜100的鹼化的第一表面100a進行電暈製程。

一般而言，經過電暈製程之後所產生的表面狀態是經由放電激發而形成的暫時的表面狀態，並未對表面造成實質上的結構改變，暫時的表面狀態經過很短時間(例如是幾個小時)後便會逐漸回復原狀，例如經由電暈製程而降低的表面水接觸角通常經過幾個小時後會升高，因此通常在電暈製程後、且暫時的表面狀態尚未消失前，必須盡快進行後續的貼合加工製程。

相對而言，根據本揭露內容之實施例，第一保護膜100的第一表面100a先經過鹼化製程之後，殘留在第一保護膜100的第一表面100a上的鹼液中的鹼性離子，例如氫氧化鉀(KOH)和/或氫氧化鈉(NaOH)中的OH^- 離子，接收到電暈製程施加的能量而產生自由基，例如是OH^- 自由基，這些自由基會進一步與第一保護膜100在第一表面100a的結構上的表面官能基發生化學反應而形成親水性官能基，使得第一表面100a的結構包含親水性官能基。這些形成的親水性官能基例如是-OH官能基和/或-COOH官能基，而這些形成的親水性官能基鍵結至第一保護膜100的既有結構上，因此使得在鹼化的表面上進行電暈製程之後所產生的親水性提高的表面特性不會快速地回復原狀，親水性官能基已經成為第一表面100a的結構的一部份，因此對第一保護膜100的鹼化的第一表面100a進行電暈製程所形成的表面狀態不僅具有低水接觸角、高親水性與良好的貼合性，且此表面型態具有良好的穩定性與持久性。

根據本揭露內容之實施例，經過鹼化製程及電暈製程後的第一保護膜100的第一表面100a上鹼性離子濃度係為等於或大於5ppm，且第一保護膜100的第一表面100a具有親水性官能基。一些實施例中，第一保護膜100具有複數個鹼性離子吸附於第一表面100a上，這些鹼性離子包含鉀離子、鈉離子、或其組合。

一些實施例中，施加在鹼化的表面上的電暈製程的處理功率例如是約20瓦*分/平方公尺(W*min/m² )至約30瓦/平方公尺。

根據本揭露內容的實施例，和一般施加在用於貼合UV膠的表面上的電暈製程相比，施加在鹼化的表面上的電暈製程的處理功率(例如是40-60瓦*分/平方公尺(W*min/m² ))相對較低，便能夠達到形成穩定的具有低水接觸角、高親水性與良好的貼合性的表面狀態，且低處理功率更具有節能的有益效果。

一些實施例中，進行鹼化製程的製程溫度為低於70°C。一些實施例中，進行鹼化製程的製程溫度為等於或低於60°C。一些實施例中，進行鹼化製程的製程溫度例如是約50°C至約60°C。

當鹼化製程的製程溫度越高，則產生的表面結構會提供越好的貼合效果，但也會導致表面結構被破壞得越嚴重，例如表面因過度腐蝕可能會發生粗糙度過大、白化和/或霧化導致的光穿透率過低，因而造成光學性質嚴重劣化。根據本揭露內容之實施例，以例如是低於70°C的製程溫度進行鹼化製程，將第一保護膜100的第一表面100a進行初步的表面處理，以提高貼合性但又不至於使光學性質劣化，接著再在鹼化的第一表面100a上以具有較低處理功率的電暈製程對第一表面100a進行進一步的表面處理，則電暈製程可以不破壞表面結構而進一步提高第一表面100a的親水性與貼合性、不提高粗糙度、不造成光學性質的劣化、且能形成穩定的表面狀態，此表面狀態可以維持較長時間，有利於處理完成的第一保護膜100的儲存與備料，因此可以提高偏光板的製程步驟與時間上的彈性。

一些實施例中，第一保護膜100在進行前述的鹼化製程和電暈製程之後，亦可選擇性地先進行收卷步驟，以先作為儲備材料，待需要時再進行後續與偏光膜200的貼合步驟。

接著，一些實施例中，如第1圖所示，將偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上。

一些實施例中，偏光膜200係聚乙烯醇系樹脂所構成的偏光膜。聚乙烯醇系樹脂通常係藉由聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為約85莫耳%以上。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除乙酸乙烯酯的均聚物外，可列舉乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體之共聚物。作為可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，可列舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。作為上述乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體之共聚物的具體例，可列舉乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為約1000至10000左右，較理想為約1500至5000左右。聚乙烯醇系樹脂可為改質者，例如可使用以醛類改質之聚乙烯甲縮醛、聚乙烯乙縮醛、聚乙烯丁縮醛等。通常在偏光膜的製造之使用厚度約20μm至100μm，較理想為約30μm至80μm的未延伸聚乙烯醇系樹脂膜作為起始材料。將該未延伸膜依序進行膨脹處理、染色處理、硼酸處理、水洗處理，在硼酸處理或其前的步驟實施單軸延伸，最後乾燥得到之聚乙烯醇系偏光膜的厚度，例如為約1μm至40μm左右。

一些實施例中，將偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上時，第二表面100b上的鹼性離子濃度低於第一表面100a上的鹼性離子濃度。一些實施例中，將偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上時，第一保護膜100的第二表面100b上的鹼性離子濃度例如是實質上為0ppm。

一些實施例中，如第1圖所示，將第二保護膜300貼合至偏光膜200上，其中第一保護膜100和第二保護膜300貼合至偏光膜200的相對兩個表面上。

一些實施例中，如第1圖所示，第二保護膜300的貼合步驟之前，第二保護膜300例如可沿輸送方向D1輸送進入水洗槽960而進行水洗步驟，接著沿輸送方向D1經過乾燥室970而進行乾燥步驟。一些實施例中，如第1圖所示，可對第二保護膜300的表面300a以40-60瓦*分/平方公尺(W*min/m² )的處理功率進行電暈製程，此電暈製程例如包含設置導電輥980於第二保護膜300的表面300a的上方，透過導電輥980放電而讓空氣中的氣體被激發進而與表面300a反應，之後第二保護膜300則以表面300a與偏光膜200進行貼合。

一些實施例中，偏光板的製造方法可更包含藉由紫外線固化型膠層將第一保護膜100和第二保護膜300分別貼合至偏光膜200的相對兩個表面上。詳細而言，偏光板的製造方法可更包含將紫外線固化型膠層400塗佈在第一保護膜100的低鹼化或未鹼化的第二表面100b上、以及將紫外線固化型膠層500塗佈在第二保護膜300上之後，再將偏光膜200黏合至第一保護膜100的第二表面100b及第二保護膜300上的紫外線固化型膠層400和紫外線固化型膠層500。需注意的是，為了更簡化與清楚的目的，如第1圖所示的製程中省略了紫外線固化型膠層400和500的塗佈步驟及塗佈設備。

一些實施例中，在進行保護膜與偏光膜200的貼合步驟之前，偏光板的製造方法可更包含對第一保護膜100的低鹼化或未鹼化的第二表面100b進行另外的電暈製程，此電暈製程例如包含設置導電輥940於第一保護膜100的未鹼化的第二表面100b的上方，透過導電輥940放電而讓空氣中的氣體被激發進而與第二表面100b反應。第二表面100b的電暈製程的處理功率大於第一表面100a的電暈製程的處理功率，舉例而言，第二表面100b的電暈製程的處理功率例如是40-60瓦*分/平方公尺(W*min/m² )。根據本揭露的一些實施例，施加在低鹼化或未鹼化的第二表面100b的電暈製程，有利於增進第二表面100b相對於紫外線固化型膠層的貼合特性。由於電暈製程的處理後的第二表面100b的表面狀態經過一段時間後會自行恢復，一些實施例中，進行第二表面100b的電暈製程之後，必須盡快進行後續的貼合步驟。

本揭露內容的一些實施例中，在進行完如第1圖所示的製程之後，可進一步貼合一外表面保護層(圖未示)於第一保護膜的第一表面100a之上，以及貼合一離型層(圖未示)於第二保護膜300之上後，再進行收卷。

本揭露內容的一些實施例中，在進行完如第1圖所示的製程之後，可將貼合的第一保護膜100、紫外線固化型膠層400、偏光膜200、紫外線固化型膠層500和第二保護膜300之偏光板10的結構進行裁切，以形成裁切完成的偏光板10。

第2圖～第3圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置1的製造方法示意圖。本實施例中與前述實施例相同或相似的元件係沿用同樣或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參考前述，在此不再贅述。

本揭露內容之實施例中，顯示裝置1的製造方法包含前述的形成偏光板10的步驟以及設置偏光板10於顯示面板20上。

一些實施例中，設置偏光板10於顯示面板20之前可撕除前述離型層。

一些實施例中，如第2圖～第3圖所示，顯示裝置1的製造方法可更包含將偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上之後，將玻璃保護層30貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。

一些實施例中，進行第一保護膜100的第一表面100a的電暈製程與將玻璃保護層30貼合至第一保護膜100上的步驟之間相隔的時間為約24小時以上。一些實施例中，此相隔的時間例如是約48小時以上。根據本揭露內容之實施例，由於對第一保護膜100的鹼化的第一表面100a進行電暈製程所形成的親水性表面狀態具有良好的穩定性與持久性，因此相對於傳統的電暈製程而言，在鹼化的第一表面100a上進行電暈製程之後，可以間隔較久時間再進行貼合製程，第一表面100a仍具有低水接觸角、高親水性與良好的貼合性。

一些實施例中，如第2圖～第3圖所示，顯示裝置1的製造方法可更包含施加親水性膠層40於第一保護膜100的第一表面100a上。一些實施例中，施加親水性膠層40例如是在將玻璃保護層30貼合至第一保護膜100的第一表面100a上之前進行，玻璃保護層30經由親水性膠層40貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。

一些實施例中，施加膠層40於第一保護膜(保護膜100)的第一表面100a之前可撕除前述外表面保護層。

一些實施例中，親水性膠層40例如可包含親水性官能基，例如-OH基及/或-COOH基。一些實施例中，親水性膠層40可包含感壓膠(PSA)、固態透明光學膠(OCA)、液態透明光學膠 (OCR)、或上述的任意組合。

一些實施例中，如第3圖所示，顯示裝置1的製造方法可更包含設置外掛式觸控元件50在顯示面板20上，玻璃保護層30位於外掛式觸控元件50與偏光板10之間。一些實施例中，玻璃保護層30例如是外掛式觸控元件50的保護層，玻璃保護層30與外掛式觸控元件50組裝在一起，再設置於顯示面板20上。

一些實施例中，如第3圖所示，顯示裝置1的製造方法可更包含設置偏光板60在顯示面板20上，顯示面板20位於偏光板10和偏光板60之間。一些實施例中，偏光板60可包含保護層610和630、偏光膜620、以及膠層640和膠層650，偏光膜620設置於保護層610和保護層630之間，保護層610和保護層630分別經由膠層640和膠層650貼合至偏光膜620。一些實施例中，保護層610和保護層630例如可包含類似於前述之第一保護膜100所包含的材料。一些實施例中，保護層610和保護層630例如均具有未鹼化的表面。一些實施例中，膠層640和650例如可包含類似於前述之紫外線固化型膠層400所包含的材料或水性接著劑。一些實施例中，水性接著劑可使用例如聚乙烯醇系樹脂、胺甲酸乙酯樹脂等作為其主成分，為了提高接合性，可使用調配有異氰酸酯系化合物、環氧化合物等之組成物。一些實施例中，偏光膜620例如可包含類似於前述之偏光膜200所包含的材料。相關細節如前所述，在此不再贅述。

以下就實施例作進一步說明。以下列出數個實施例與比較例之偏光板的第一保護膜的第一表面的製程條件與特性量測結果，以說明應用本揭露內容所製得之偏光板的第一保護膜的特性。然而以下之實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本揭露內容實施之限制。

表1中列出實施例1～4(E1～E4)與比較例1～6(C1～C6)的製程條件，表2中列出第一表面的特性量測結果。以下的實施例1～4(E1～E4)與比較例1～6(C1～C6)中，均採用三醋酸纖維素(TAC)作為第一保護膜，鹼化製程使用的鹼液均為濃度為4N的氫氧化鉀(KOH)鹼性水溶液。表2中，「貼合性」表示將固態透明光學膠(OCA)貼合至處理完成的第一保護膜的第一表面上之後，觀察貼合面是否產生氣泡，「○」表示沒有明顯產生氣泡，「X」表示明顯產生氣泡。表2中，「耐候測試」表示將處理完成的第一保護膜在90°C的溫度加熱1000小時後，觀察其外觀是否發生剝離或霧化，「○」表示通過測試，「X」表示其外觀發生明顯的剝離或霧化。表2中，「前」表示進行鹼化製程前(C3～C6)或電暈製程前(C1～C2)以及進行鹼化製程與電暈製程前(E1～E4)的第一表面的量測結果，「後」表示進行鹼化製程後(C3～C6) 或電暈製程後(C1～C2)以及進行鹼化製程與電暈製程後(E1～E4)的第一表面的立即的量測結果，「48小時後」表示進行電暈製程後(C1～C2)以及進行鹼化製程與電暈製程後(E1～E4)又靜置經過48小時後的第一表面的量測的結果。

表1

表2

由表2的結果可看出，實施例1～4中，依序經過鹼化製程接著電暈製程處理的第一表面均具有相對較為優異的水接觸角、霧度及粗糙度表現，且貼合性與耐候特性均較為優異。比較例1～4的貼合面則會產生氣泡會導致貼合性不佳，且耐候測試結果也不佳。

並且，由表2的結果可看出，實施例1～4的第一表面經過電暈處理搭配鹼化處理之後，不僅表面特性良好，且經過48小時後，第一表面的水接觸角幾乎不太改變，仍可以維持與剛完成電暈製程時的水接觸角幾乎相同。但比較例1～2的第一表面僅經過電暈處理、而在電暈處理之前並未進行鹼化處理，因此在經過48小時後，其水接觸角幾乎已經回復到初始未經電暈處理時的角度。

再者，由表2的結果可看出，以70°C對比較例5～6的第一表面進行鹼化後，第一表面雖可以具有良好的貼合性，但過高的鹼化溫度使得第一表面的粗糙度與霧度都大幅上升，光學性質嚴重劣化。

雖然本揭露內容以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露內容。本揭露內容所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露內容之精神和範圍內，當可做些許之更動與潤飾。因此本揭露內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

1:顯示裝置10、60:偏光板20:顯示面板30:玻璃保護層40:親水性膠層50:外掛式觸控元件100:第一保護膜100a:第一表面100b:第二表面200、620:偏光膜300:第二保護膜300a:表面400、500、640、650:紫外線固化型膠層610、630:保護層910、940、980:導電輥920:鹼液槽930、960:水洗槽950、970:乾燥室D1:輸送方向

為讓本揭露內容之特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉不同實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下：第1圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板的製造方法示意圖。第2圖～第3圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的製造方法示意圖。

10:偏光板

100:第一保護膜

100a:第一表面

100b:第二表面

200:偏光膜

300:第二保護膜

300a:表面

910、940、980:導電輥

920:鹼液槽

930、960:水洗槽

950、970:乾燥室

D1:輸送方向

Claims

一種偏光板的製造方法，包括：提供一第一保護膜，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面；對該第一保護膜的該第一表面進行一鹼化製程；對該第一保護膜的該第一表面進行一第一電暈(corona)製程，其中對該第一保護膜的該第一表面進行該鹼化製程和該第一電暈製程之後，該第一表面上的鹼性離子濃度係為大於5ppm至100ppm；以及將一偏光膜貼合至該第一保護膜的該第二表面上。
如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，其中在進行該鹼化製程之後進行該第一電暈製程。
如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，其中該第一電暈製程的處理功率為20瓦*分/平方公尺(W*min/m²)至30瓦/平方公尺。
如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，其中對該第一保護膜的該第一表面進行該第一電暈製程之後，該第一表面具有一親水性官能基。
如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，其中該第一保護膜包括三醋酸纖維素(TAC)、二醋酸纖維素(DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂(PC)、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴聚合物(COP)、環烯烴共聚合物(COC)、胺基甲酸酯(PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、或上述之任意組合。
如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，更包括：將一第二保護膜貼合至該偏光膜上，其中該第一保護膜和該第二保護膜貼合至該偏光膜的相對兩個表面上。
如申請專利範圍第6項所述之偏光板的製造方法，更包括藉由一紫外線固化型膠層將該第一保護膜和該第二保護膜分別貼合至該偏光膜的相對兩個表面上。
如申請專利範圍第6項所述之偏光板的製造方法，更包含對該第一保護膜的該第二表面，及/或該第二保護膜進行一第二電暈(corona)製程。
如申請專利範圍第8項所述之偏光板的製造方法，其中該第一電暈製程的處理功率小於該第二電暈製程的處理功率。
一種顯示裝置的製造方法，包括：形成一偏光板，包括：提供一第一保護膜，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面；對該第一保護膜的該第一表面進行一鹼化製程；對該第一保護膜的該第一表面進行一電暈製程，其中對該第一保護膜的該第一表面進行該鹼化製程和該第一電暈製程之後，該第一表面上的鹼性離子濃度係為大於5ppm至100ppm；及將一偏光膜貼合至該第一保護膜的該第二表面上；以及設置該偏光板於一顯示面板上。
如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置的製造方法，更包括：將該偏光膜貼合至該第一保護膜的該第二表面上之後，將一玻璃保護層貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
如申請專利範圍第11項所述之顯示裝置的製造方法，其中進行該電暈製程與將該玻璃保護層貼合至該第一保護膜上之間相隔的時間為24小時以上。
如申請專利範圍第11項所述之顯示裝置的製造方法，更包括：將該玻璃保護層貼合至該第一保護膜的該第一表面上之前，施加一親水性膠層於該第一保護膜的該第一表面上，其中該玻璃保護層經由該親水性膠層貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，其中該親水性膠層包括感壓膠(PSA)、固態透明光學膠(OCA)、液態透明光學膠(OCR)、或上述的任意組合。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，其中該第一表面具有一親水性官能基。