CN110764181A - 偏光板的制造方法及包含其的显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

本揭露内容的实施例提供一种偏光板的制造方法及包含其的显示装置的制造方法。偏光板的制造方法包含以下步骤：提供第一保护膜，其中第一保护膜具有第一表面和第二表面，第一表面相对于第二表面；对第一保护膜的第一表面进行碱化制程；对第一保护膜的第一表面进行电晕(corona)制程；以及将偏光膜贴合至第一保护膜的第二表面上。

Description

偏光板的制造方法及包含其的显示装置的制造方法

技术领域

本揭露内容是有关于一种保护膜、偏光板及包含其的显示装置的制造方法。

背景技术

为了使触控显示装置能够具有更轻薄的尺寸，并且降低显示面板与触控元件之间的光折射所产生的叠影情况，业界目前普遍将显示面板与触控元件进行完全密合的贴合，这使得显示面板的背光可以更顺利穿透触控元件的表面，降低光折射，呈现出高辉度的高品质，同时还可以缩减触控显示装置的整体厚度。

为了达到上述的目的，业界均致力于发展触控元件与显示面板的结构设计与贴合制程的改良。

发明内容

本揭露内容是有关于一种保护膜、偏光板及包含其的显示装置的制造方法。实施例中，偏光板的制造方法中，对第一保护膜的第一表面进行碱化制程以及电晕制程，其中碱化制程使第一保护膜的第一表面产生实质上的结构型态改变，而电晕制程则改善第一表面的水接触角，使得经过碱化制程以及电晕制程的第一保护膜的第一表面具有较佳的亲水性及贴合性，有利于在后续制程中通过亲水性胶层贴合至玻璃保护层，可增进贴合结构的可靠性并维持良好的光学特性。

根据本揭露内容的一实施例，提出一种偏光板的制造方法。偏光板的制造方法包含以下步骤：提供第一保护膜，其中第一保护膜具有第一表面和第二表面，第一表面相对于第二表面；对第一保护膜的第一表面进行碱化制程；对第一保护膜的第一表面进行电晕(corona)制程；以及将偏光膜贴合至第一保护膜的第二表面上。

根据本揭露内容的另一实施例，提出一种显示装置的制造方法。显示装置的制造方法包含以下步骤：形成偏光板以及设置偏光板于显示面板上。形成偏光板包含以下步骤：提供第一保护膜，其中第一保护膜具有第一表面和第二表面，第一表面相对于第二表面；对第一保护膜的第一表面进行碱化制程；对第一保护膜的第一表面进行电晕制程；以及将偏光膜贴合至第一保护膜的第二表面上。

根据本揭露内容的再一实施例，提出一种保护膜。保护膜具有第一表面和第二表面，第一表面相对于第二表面，其中第一表面上的碱性离子浓度是等于或大于5ppm，且第一表面具有亲水性官能基。

附图说明

为让本揭露内容的特征和优点能更明显易懂，下文特举不同实施例，并配合所附附图作详细说明如下：

图1绘示根据本揭露内容的实施例的一种偏光板的制造方法示意图。

图2～图3绘示根据本揭露内容的实施例的一种显示装置的制造方法示意图。

【符号说明】

1～显示装置；

10、60～偏光板；

20～显示面板；

30～玻璃保护层；

40～亲水性胶层；

50～外挂式触控元件；

100～第一保护膜；

100a～第一表面；

100b～第二表面；

200、620～偏光膜；

300～第二保护膜；

300a～表面；

400、500、640、650～紫外线固化型胶层；

610、630～保护层；

910、940、980～导电辊；

920～碱液槽；

930、960～水洗槽；

950、970～干燥室；

D1～输送方向。

具体实施方式

本揭露内容的实施例中，偏光板的制造方法中，对第一保护膜的第一表面进行碱化制程以及电晕制程，其中碱化制程使第一保护膜的第一表面产生实质上的结构型态改变，而电晕制程则改善第一表面的水接触角，使得经过碱化制程以及电晕制程的第一保护膜的第一表面具有较佳的亲水性及贴合性，有利于在后续制程中通过亲水性胶层贴合至玻璃保护层，可增进贴合结构的可靠性并维持良好的光学特性。

以下提出各种实施方法或是范例来实行本揭露内容的不同特征，其中描述具体的元件及其排列方式以阐述本揭露内容，当然这些仅是范例，且不该以此限定本揭露内容的范围。例如，在描述中提及第一个元件形成在第二个元件上时，其可以包含第一个元件与第二个元件直接接触的实施例，也可以包含有其他元件形成于第一个元件与第二个元件之间的实施例，其中第一个元件与第二个元件并未直接接触。在不同实施例与附图之中，相同或类似的元件符号用以表示相同或类似的元件，但这些相同或类似的元件符号标示仅为了简单清楚地叙述本揭露内容，不代表所讨论的不同实施例及/或结构之间有特定的关系。值得注意的是，实施例的提出，仅用以例示本揭露内容的技术特征，并非用以限定本揭露内容的申请专利范围。所属技术领域中具有通常知识者，将可根据以下的描述，在不脱离本揭露内容的精神范围内，作均等的修饰与变化。一些实施例中的附图省略部份元件，以清楚显示本揭露内容的技术特点。

此外，其中可能用到与空间相关的用词，像是“在…之下”、“下方”、“在…之上”、“在…之间”及类似的用词，这些关系词是为了便于描述附图中一个(些)元件或特征与另一个(些)元件或特征之间的关系，这些空间关系词包含使用中或操作中的装置的不同方位，以及附图中所描述的方位。装置可能被转向不同方位(旋转90度或其他方位)，则其中使用的空间相关形容词也可相同地照着解释。应理解的是，在一些制程步骤进行之前、当中或之后可能包含进行额外的制程步骤，且一些实施例中所叙述的某些制程步骤可能在另一些实施例的方法中被其他制程步骤所取代或删除。

图1绘示根据本揭露内容的实施例的一种偏光板10的制造方法示意图。如图1所示，本揭露内容的实施例的偏光板10的制造方法例如可采用卷对卷制程进行，但本揭露内容不以此为限。

如图1所示，提供第一保护膜100，其中第一保护膜100具有第一表面100a和第二表面100b，第一表面100a相对于第二表面100b。

一些实施例中，第一保护膜100可具有单层或多层的结构。一些实施例中，第一保护膜100可包含具有良好透明性、机械强度、热稳定性、水分阻隔性等的热固化型树脂或紫外线固化型树脂。举例而言，一些实施例中，第一保护膜100可包含三醋酸纤维素(TAC)、二醋酸纤维素(DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烃树脂、聚碳酸酯树脂(PC)、环烯烃树脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚合物(COC)、胺基甲酸酯(PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、环氧树脂、聚硅氧树脂、或上述的任意组合。

一些实施例中，第一保护膜100的第一表面100a例如可具有表面处理材料，例如是平坦剂材料、防污材料、抗眩材料、抗反射材料、或上述的任意组合。一些实施例中，具有表面处理材料的第一表面100a具有相对高的水接触角，例如是大于100°。

接着，如图1所示，对第一保护膜100的第一表面100a进行碱化制程。一些实施例中，如图1所示，第一保护膜100例如可沿输送方向D1移动。一些实施例中，如图1所示，对第一保护膜100进行碱化制程的步骤例如可包含将第一保护膜100浸入碱液槽920。一些实施例中，对第一保护膜100进行碱化制程的步骤例如可包含使第一保护膜100的第一表面100a接触碱液。

一些实施例中，用于碱化制程的碱液例如包含碱金属(alkali metal)离子、碱土金属(alkaline earth metal)离子、或其组合。一些实施例中，用于碱化制程的碱液可包含钾离子、钠离子、或其组合。举例而言，一些实施例中，用于碱化制程的碱液例如可包含氢氧化钾(KOH)水溶液及/或氢氧化钠(NaOH)水溶液。

一些实施例中，对第一保护膜100的第一表面100a进行碱化制程之后，第一表面100a上的碱性离子浓度例如是约5ppm至约100ppm。

根据本揭露内容的实施例，当碱性离子浓度相对较大时，例如是等于或大于5ppm，则碱化后的第一表面100a的湿润性较佳、水接触角较小，而当第一保护膜100的第一表面100a上的碱性离子浓度过大时，例如大于100ppm，则过多的碱性物质可能会对第一保护膜100的第一表面100a的外观型态与结构产生不良的影响，例如可能会因为过多的碱性物质造成第一表面100a的过度腐蚀，而对第一保护膜100的光学性质造成不良的影响，例如雾度上升、光穿透率下降、…等。

一些实施例中，对第一保护膜100的第一表面100a进行碱化制程时，可选择性地也同时碱化第一保护膜100的第二表面100b，然后再在后续的制程中以其他方式减低第二表面100b上的碱性离子浓度，使得第二表面100b上的碱性离子浓度低于第一表面100a上的碱性离子浓度。

一些其他实施例中，对第一保护膜100的第一表面100a进行碱化制程时，可不碱化第一保护膜100的第二表面100b，而达到使得第二表面100b上的碱性离子浓度低于第一表面100a上的碱性离子浓度。

一些实施例中，如图1所示，偏光板的制造方法还可包含对第一保护膜100进行水洗步骤及干燥步骤。一些实施例中，水洗步骤及干燥步骤可以是在进行碱化制程之后以及进行电晕制程之前进行。一些实施例中，如图1所示，第一保护膜100例如可沿输送方向D1输送进入水洗槽930而进行水洗步骤，接着沿输送方向D1经过干燥室950而进行干燥步骤。

一些实施例中，如图1所示，对第一保护膜100的第一表面100a进行电晕(corona)制程。

一些实施例中，如图1所示，此电晕制程例如包含设置导电辊910于第一保护膜100的第一表面100a的上方，透过导电辊910放电而让空气中的气体被激发进而与第一表面100a反应。

一些实施例中，可透过调整膜的输送速度来调整膜的单位面积被放电激发的时间、并搭配调整导电辊910的放电能量，以调整膜的单位面积的电晕程度(处理功率)。

根据本揭露内容的实施例，对第一保护膜100的第一表面100a进行碱化制程以及电晕制程，其中碱化制程使第一保护膜100的第一表面100a产生实质上的结构型态改变，例如碱液的腐蚀特性可能会改变第一表面100a的微结构，而电晕制程则改善第一表面100a的水接触角，使得经过碱化制程以及电晕制程的第一表面100a具有较佳的亲水性及贴合性，有利于在后续制程中通过亲水性胶层贴合至玻璃保护层，可增进贴合结构的可靠性并维持良好的光学特性。

一些实施例中，可在进行碱化制程之后进行电晕制程。一些实施例中，如图1所示，可在依序进行碱化制程、水洗步骤及干燥步骤之后，对第一保护膜100的碱化的第一表面100a进行电晕制程。

一般而言，经过电晕制程之后所产生的表面状态是经由放电激发而形成的暂时的表面状态，并未对表面造成实质上的结构改变，暂时的表面状态经过很短时间(例如是几个小时)后便会逐渐回复原状，例如经由电晕制程而降低的表面水接触角通常经过几个小时后会升高，因此通常在电晕制程后、且暂时的表面状态尚未消失前，必须尽快进行后续的贴合加工制程。

相对而言，根据本揭露内容的实施例，第一保护膜100的第一表面100a先经过碱化制程之后，残留在第一保护膜100的第一表面100a上的碱液中的碱性离子，例如氢氧化钾(KOH)和/或氢氧化钠(NaOH)中的OH^-离子，接收到电晕制程施加的能量而产生自由基，例如是OH^-自由基，这些自由基会进一步与第一保护膜100在第一表面100a的结构上的表面官能基发生化学反应而形成亲水性官能基，使得第一表面100a的结构包含亲水性官能基。这些形成的亲水性官能基例如是-OH官能基和/或-COOH官能基，而这些形成的亲水性官能基键结至第一保护膜100的既有结构上，因此使得在碱化的表面上进行电晕制程之后所产生的亲水性提高的表面特性不会快速地回复原状，亲水性官能基已经成为第一表面100a的结构的一部份，因此对第一保护膜100的碱化的第一表面100a进行电晕制程所形成的表面状态不仅具有低水接触角、高亲水性与良好的贴合性，且此表面型态具有良好的稳定性与持久性。

根据本揭露内容的实施例，经过碱化制程及电晕制程后的第一保护膜100的第一表面100a上碱性离子浓度是等于或大于5ppm，且第一保护膜100的第一表面100a具有亲水性官能基。一些实施例中，第一保护膜100具有多个碱性离子吸附于第一表面100a上，这些碱性离子包含钾离子、钠离子、或其组合。

一些实施例中，施加在碱化的表面上的电晕制程的处理功率例如是约20瓦*分/平方米(W*min/m²)至约30瓦/平方米。

根据本揭露内容的实施例，和一般施加在用于贴合UV胶的表面上的电晕制程相比，施加在碱化的表面上的电晕制程的处理功率(例如是40-60瓦*分/平方米(W*min/m²))相对较低，便能够达到形成稳定的具有低水接触角、高亲水性与良好的贴合性的表面状态，且低处理功率更具有节能的有益效果。

一些实施例中，进行碱化制程的制程温度为低于70℃。一些实施例中，进行碱化制程的制程温度为等于或低于60℃。一些实施例中，进行碱化制程的制程温度例如是约50℃至约60℃。

当碱化制程的制程温度越高，则产生的表面结构会提供越好的贴合效果，但也会导致表面结构被破坏得越严重，例如表面因过度腐蚀可能会发生粗糙度过大、白化和/或雾化导致的光穿透率过低，因而造成光学性质严重劣化。根据本揭露内容的实施例，以例如是低于70℃的制程温度进行碱化制程，将第一保护膜100的第一表面100a进行初步的表面处理，以提高贴合性但又不至于使光学性质劣化，接着再在碱化的第一表面100a上以具有较低处理功率的电晕制程对第一表面100a进行进一步的表面处理，则电晕制程可以不破坏表面结构而进一步提高第一表面100a的亲水性与贴合性、不提高粗糙度、不造成光学性质的劣化、且能形成稳定的表面状态，此表面状态可以维持较长时间，有利于处理完成的第一保护膜100的储存与备料，因此可以提高偏光板的制程步骤与时间上的弹性。

一些实施例中，第一保护膜100在进行前述的碱化制程和电晕制程之后，亦可选择性地先进行收卷步骤，以先作为储备材料，待需要时再进行后续与偏光膜200的贴合步骤。

接着，一些实施例中，如图1所示，将偏光膜200贴合至第一保护膜100的第二表面100b上。

一些实施例中，偏光膜200是聚乙烯醇系树脂所构成的偏光膜。聚乙烯醇系树脂通常是通过聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得。聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为约85莫耳％以上。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除乙酸乙烯酯的均聚物外，可列举乙酸乙烯酯及可与其共聚合的其他单体的共聚物。作为可与乙酸乙烯酯共聚合的其他单体，可列举不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯醚类、不饱和磺酸类等。作为上述乙酸乙烯酯及可与其共聚合的其他单体的共聚物的具体例，可列举乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。聚乙烯醇系树脂的聚合度，通常为约1000至10000左右，较理想为约1500至5000左右。聚乙烯醇系树脂可为改质者，例如可使用以醛类改质的聚乙烯甲缩醛、聚乙烯乙缩醛、聚乙烯丁缩醛等。通常在偏光膜的制造的使用厚度约20μm至100μm，较理想为约30μm至80μm的未延伸聚乙烯醇系树脂膜作为起始材料。将该未延伸膜依序进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理，在硼酸处理或其前的步骤实施单轴延伸，最后干燥得到的聚乙烯醇系偏光膜的厚度，例如为约1μm至40μm左右。

一些实施例中，将偏光膜200贴合至第一保护膜100的第二表面100b上时，第二表面100b上的碱性离子浓度低于第一表面100a上的碱性离子浓度。一些实施例中，将偏光膜200贴合至第一保护膜100的第二表面100b上时，第一保护膜100的第二表面100b上的碱性离子浓度例如是实质上为0ppm。

一些实施例中，如图1所示，将第二保护膜300贴合至偏光膜200上，其中第一保护膜100和第二保护膜300贴合至偏光膜200的相对两个表面上。

一些实施例中，如图1所示，第二保护膜300的贴合步骤之前，第二保护膜300例如可沿输送方向D1输送进入水洗槽960而进行水洗步骤，接着沿输送方向D1经过干燥室970而进行干燥步骤。一些实施例中，如图1所示，可对第二保护膜300的表面300a以40-60瓦*分/平方米(W*min/m²)的处理功率进行电晕制程，此电晕制程例如包含设置导电辊980于第二保护膜300的表面300a的上方，透过导电辊980放电而让空气中的气体被激发进而与表面300a反应，之后第二保护膜300则以表面300a与偏光膜200进行贴合。

一些实施例中，偏光板的制造方法还可包含通过紫外线固化型胶层将第一保护膜100和第二保护膜300分别贴合至偏光膜200的相对两个表面上。详细而言，偏光板的制造方法还可包含将紫外线固化型胶层400涂布在第一保护膜100的低碱化或未碱化的第二表面100b上、以及将紫外线固化型胶层500涂布在第二保护膜300上之后，再将偏光膜200黏合至第一保护膜100的第二表面100b及第二保护膜300上的紫外线固化型胶层400和紫外线固化型胶层500。需注意的是，为了更简化与清楚的目的，如图1所示的制程中省略了紫外线固化型胶层400和500的涂布步骤及涂布设备。

一些实施例中，在进行保护膜与偏光膜200的贴合步骤之前，偏光板的制造方法还可包含对第一保护膜100的低碱化或未碱化的第二表面100b进行另外的电晕制程，此电晕制程例如包含设置导电辊940于第一保护膜100的未碱化的第二表面100b的上方，透过导电辊940放电而让空气中的气体被激发进而与第二表面100b反应。第二表面100b的电晕制程的处理功率大于第一表面100a的电晕制程的处理功率，举例而言，第二表面100b的电晕制程的处理功率例如是40-60瓦*分/平方米(W*min/m²)。根据本揭露的一些实施例，施加在低碱化或未碱化的第二表面100b的电晕制程，有利于增进第二表面100b相对于紫外线固化型胶层的贴合特性。由于电晕制程的处理后的第二表面100b的表面状态经过一段时间后会自行恢复，一些实施例中，进行第二表面100b的电晕制程之后，必须尽快进行后续的贴合步骤。

本揭露内容的一些实施例中，在进行完如图1所示的制程之后，可进一步贴合一外表面保护层(图未示)于第一保护膜的第一表面100a之上，以及贴合一离型层(图未示)于第二保护膜300之上后，再进行收卷。

本揭露内容的一些实施例中，在进行完如图1所示的制程之后，可将贴合的第一保护膜100、紫外线固化型胶层400、偏光膜200、紫外线固化型胶层500和第二保护膜300的偏光板10的结构进行裁切，以形成裁切完成的偏光板10。

图2～图3绘示根据本揭露内容的实施例的一种显示装置1的制造方法示意图。本实施例中与前述实施例相同或相似的元件是沿用同样或相似的元件标号，且相同或相似元件的相关说明请参考前述，在此不再赘述。

本揭露内容的实施例中，显示装置1的制造方法包含前述的形成偏光板10的步骤以及设置偏光板10于显示面板20上。

一些实施例中，设置偏光板10于显示面板20之前可撕除前述离型层。

一些实施例中，如图2～图3所示，显示装置1的制造方法还可包含将偏光膜200贴合至第一保护膜100的第二表面100b上之后，将玻璃保护层30贴合至第一保护膜100的第一表面100a上。

一些实施例中，进行第一保护膜100的第一表面100a的电晕制程与将玻璃保护层30贴合至第一保护膜100上的步骤之间相隔的时间为约24小时以上。一些实施例中，此相隔的时间例如是约48小时以上。根据本揭露内容的实施例，由于对第一保护膜100的碱化的第一表面100a进行电晕制程所形成的亲水性表面状态具有良好的稳定性与持久性，因此相对于传统的电晕制程而言，在碱化的第一表面100a上进行电晕制程之后，可以间隔较久时间再进行贴合制程，第一表面100a仍具有低水接触角、高亲水性与良好的贴合性。

一些实施例中，如图2～图3所示，显示装置1的制造方法还可包含施加亲水性胶层40于第一保护膜100的第一表面100a上。一些实施例中，施加亲水性胶层40例如是在将玻璃保护层30贴合至第一保护膜100的第一表面100a上之前进行，玻璃保护层30经由亲水性胶层40贴合至第一保护膜100的第一表面100a上。

一些实施例中，施加胶层40于第一保护膜(保护膜100)的第一表面100a之前可撕除前述外表面保护层。

一些实施例中，亲水性胶层40例如可包含亲水性官能基，例如-OH基及/或-COOH基。一些实施例中，亲水性胶层40可包含感压胶(PSA)、固态透明光学胶(OCA)、液态透明光学胶(OCR)、或上述的任意组合。

一些实施例中，如图3所示，显示装置1的制造方法还可包含设置外挂式触控元件50在显示面板20上，玻璃保护层30位于外挂式触控元件50与偏光板10之间。一些实施例中，玻璃保护层30例如是外挂式触控元件50的保护层，玻璃保护层30与外挂式触控元件50组装在一起，再设置于显示面板20上。

一些实施例中，如图3所示，显示装置1的制造方法还可包含设置偏光板60在显示面板20上，显示面板20位于偏光板10和偏光板60之间。一些实施例中，偏光板60可包含保护层610和630、偏光膜620、以及胶层640和胶层650，偏光膜620设置于保护层610和保护层630之间，保护层610和保护层630分别经由胶层640和胶层650贴合至偏光膜620。一些实施例中，保护层610和保护层630例如可包含类似于前述的第一保护膜100所包含的材料。一些实施例中，保护层610和保护层630例如均具有未碱化的表面。一些实施例中，胶层640和650例如可包含类似于前述的紫外线固化型胶层400所包含的材料或水性接着剂。一些实施例中，水性接着剂可使用例如聚乙烯醇系树脂、胺甲酸乙酯树脂等作为其主成分，为了提高接合性，可使用调配有异氰酸酯系化合物、环氧化合物等的组成物。一些实施例中，偏光膜620例如可包含类似于前述的偏光膜200所包含的材料。相关细节如前所述，在此不再赘述。

以下就实施例作进一步说明。以下列出数个实施例与比较例的偏光板的第一保护膜的第一表面的制程条件与特性量测结果，以说明应用本揭露内容所制得的偏光板的第一保护膜的特性。然而以下的实施例仅为例示说明之用，而不应被解释为本揭露内容实施的限制。

表1中列出实施例1～4(E1～E4)与比较例1～6(C1～C6)的制程条件，表2中列出第一表面的特性量测结果。以下的实施例1～4(E1～E4)与比较例1～6(C1～C6)中，均采用三醋酸纤维素(TAC)作为第一保护膜，碱化制程使用的碱液均为浓度为4N的氢氧化钾(KOH)碱性水溶液。表2中，“贴合性”表示将固态透明光学胶(OCA)贴合至处理完成的第一保护膜的第一表面上之后，观察贴合面是否产生气泡，“○”表示没有明显产生气泡，“X”表示明显产生气泡。表2中，“耐候测试”表示将处理完成的第一保护膜在90℃的温度加热1000小时后，观察其外观是否发生剥离或雾化，“○”表示通过测试，“X”表示其外观发生明显的剥离或雾化。表2中，“前”表示进行碱化制程前(C3～C6)或电晕制程前(C1～C2)以及进行碱化制程与电晕制程前(E1～E4)的第一表面的量测结果，“后”表示进行碱化制程后(C3～C6)或电晕制程后(C1～C2)以及进行碱化制程与电晕制程后(E1～E4)的第一表面的立即的量测结果，“48小时后”表示进行电晕制程后(C1～C2)以及进行碱化制程与电晕制程后(E1～E4)又静置经过48小时后的第一表面的量测的结果。

表1

表2

由表2的结果可看出，实施例1～4中，依序经过碱化制程接着电晕制程处理的第一表面均具有相对较为优异的水接触角、雾度及粗糙度表现，且贴合性与耐候特性均较为优异。比较例1～4的贴合面则会产生气泡会导致贴合性不佳，且耐候测试结果也不佳。

并且，由表2的结果可看出，实施例1～4的第一表面经过电晕处理搭配碱化处理之后，不仅表面特性良好，且经过48小时后，第一表面的水接触角几乎不太改变，仍可以维持与刚完成电晕制程时的水接触角几乎相同。但比较例1～2的第一表面仅经过电晕处理、而在电晕处理之前并未进行碱化处理，因此在经过48小时后，其水接触角几乎已经回复到初始未经电晕处理时的角度。

再者，由表2的结果可看出，以70℃对比较例5～6的第一表面进行碱化后，第一表面虽可以具有良好的贴合性，但过高的碱化温度使得第一表面的粗糙度与雾度都大幅上升，光学性质严重劣化。

虽然本揭露内容以前述的实施例揭露如上，然其并非用以限定本揭露内容。本揭露内容所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本揭露内容的精神和范围内，当可做些许的更动与润饰。因此本揭露内容的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (15)

1.一种偏光板的制造方法，其特征在于，包括：

提供一第一保护膜，其中该第一保护膜具有一第一表面和一第二表面，该第一表面相对于该第二表面；

对该第一保护膜的该第一表面进行一碱化制程；

对该第一保护膜的该第一表面进行一第一电晕(corona)制程，其中对该第一保护膜的该第一表面进行该碱化制程和该第一电晕制程之后，该第一表面上的碱性离子浓度是为大于5ppm至100ppm；以及

将一偏光膜贴合至该第一保护膜的该第二表面上。

2.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，在进行该碱化制程之后进行该第一电晕制程。

3.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该第一电晕制程的处理功率为20瓦*分/平方米(W*min/m²)至30瓦/平方米。

4.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，对该第一保护膜的该第一表面进行该第一电晕制程之后，该第一表面具有一亲水性官能基。

5.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该第一保护膜包括三醋酸纤维素(TAC)、二醋酸纤维素(DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烃树脂、聚碳酸酯树脂(PC)、环烯烃树脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚合物(COC)、胺基甲酸酯(PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、环氧树脂、聚硅氧树脂、或上述的任意组合。

6.根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，还包括：

将一第二保护膜贴合至该偏光膜上，其中该第一保护膜和该第二保护膜贴合至该偏光膜的相对两个表面上。

7.根据权利要求6所述的偏光板的制造方法，其特征在于，还包括通过一紫外线固化型胶层将该第一保护膜和该第二保护膜分别贴合至该偏光膜的相对两个表面上。

8.根据权利要求6所述的偏光板的制造方法，其特征在于，还包含对该第一保护膜的该第二表面，及/或该第二保护膜进行一第二电晕(corona)制程。

9.根据权利要求8所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该第一电晕制程的处理功率小于该第二电晕制程的处理功率。

10.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括：

形成一偏光板，包括：

提供一第一保护膜，其中该第一保护膜具有一第一表面和一第二表面，该第一表面相对于该第二表面；

对该第一保护膜的该第一表面进行一碱化制程；

对该第一保护膜的该第一表面进行一电晕制程，其中对该第一保护膜的该第一表面进行该碱化制程和该第一电晕制程之后，该第一表面上的碱性离子浓度是为大于5ppm至100ppm；及

将一偏光膜贴合至该第一保护膜的该第二表面上；以及

设置该偏光板于一显示面板上。

11.根据权利要求10所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还包括：

将该偏光膜贴合至该第一保护膜的该第二表面上之后，将一玻璃保护层贴合至该第一保护膜的该第一表面上。

12.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其特征在于，进行该电晕制程与将该玻璃保护层贴合至该第一保护膜上之间相隔的时间为24小时以上。

13.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其特征在于，还包括：

将该玻璃保护层贴合至该第一保护膜的该第一表面上之前，施加一亲水性胶层于该第一保护膜的该第一表面上，其中该玻璃保护层经由该亲水性胶层贴合至该第一保护膜的该第一表面上。

14.根据权利要求13所述的显示装置的制造方法，其特征在于，该亲水性胶层包括感压胶(PSA)、固态透明光学胶(OCA)、液态透明光学胶(OCR)、或上述的任意组合。

15.根据权利要求13所述的显示装置的制造方法，其特征在于，该第一表面具有一亲水性官能基。

Images