TWI702243B - 聚碳酸酯共聚物，塗佈液，電子照相感光體及電氣機器 - Google Patents

聚碳酸酯共聚物，塗佈液，電子照相感光體及電氣機器 Download PDF

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Abstract

本發明係一種聚碳酸酯共聚物，其特徵係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基封閉。
Figure 104115773-A0202-11-0001-1
 (前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~40之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時(L≧2)，R1彼此相同或相異)。

Description

聚碳酸酯共聚物，塗佈液，電子照相感光體及電氣機器
本發明係有關聚碳酸酯共聚物、塗佈液、電子照相感光體及電氣機器。
聚碳酸酯樹脂之機械性質或熱性質、及電性質優異。因此，聚碳酸酯樹脂於各種產業領域中，被使用於成形品等之素材。近年來，配合聚碳酸酯樹脂之前述特性，進一步利用光學性質等，因此，聚碳酸酯樹脂也許多被使用在機能性製品領域中。隨著這種用途及領域的擴大，對於聚碳酸酯樹脂要求的性能也為多樣化。
聚碳酸酯樹脂為了因應這種要求，因此提案具有各種化學結構的聚碳酸酯共聚物配合該用途及要求特性。
例如文獻1(日本特開2011-026574號公報)中記載使由聯苯二酚化合物或雙酚化合物等之二元酚化合物所衍生之雙氯甲酸酯(chloroformate)寡聚物與二元酚化合物聚縮合所成的聚碳酸酯共聚物。文獻2(日本特開2012-051983號公報)記載由4,4’-二羥基-3,3’-二甲基聯苯與1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環己烷、或2,2-雙(3- 甲基-4-羥基苯基)丙烷(雙酚C)所構成之聚碳酸酯共聚物。文獻3(日本專利第3402936號公報)記載二元酚成分與含有3-tert-丁基異酞酸之芳香族二羧酸成分所構成之聚芳香酯(Polyarylate)樹脂。
利用聚碳酸酯樹脂之電性質及光學性質之製品之一例，例如有將聚碳酸酯樹脂作為電荷產生材料及電荷輸送材料等之機能性材料之黏結劑樹脂使用的電子照相感光體。
電子照相感光體係配合電子照相(electrophotography)程序，被要求具備所定之感度、電氣特性及光學特性。
又，電子照相感光體係於其感光層之表面重複進行各種操作(例如電暈帶電、碳粉顯影、轉印於紙及清潔處理等)，因此，進行此等操作時，施加電氣外力及機械性之外力之至少任一。因此，為了長久維持電子照相的畫質時，設置於電子照相感光體表面之感光層，被要求對於此等外力之耐久性。
提高感光層之機械強度用之效果的技術，例如聚碳酸酯共聚物為人所知。
例如將溶解性良好之雙酚Z骨架與耐摩耗性良好之聯苯二酚進行共聚合，製造聚碳酸酯共聚物的技術為人所知。文獻1揭示由減低寡聚物之單體數之原料製造的聚合物。該聚合物係將耐摩耗性良好之聯苯二酚等之骨架之共聚合比提高至25~47莫耳%，因此機械強度變佳。但是要求進一步提高機械強度之聚碳酸酯樹脂。
又，近年，對於聚碳酸酯共聚物，除了機械強度外，也要求更提高電氣強度。
文獻2所記載之聚碳酸酯共聚物雖耐摩耗性優異，但是電氣強度不足，應用於機能性製品時，性能不足。
又，文獻3所記載之聚芳香酯樹脂雖電氣強度優異，但是機械強度不足，對於近年之高耐久化需求，性能不足。
發明概要
本發明之目的係提供機械強度及電氣強度優異之聚碳酸酯共聚物、使用該聚碳酸酯共聚物之塗佈液、及機械強度及電氣強度優異之電子照相感光體及使用該電子照相感光體之電氣機器。
本發明人精心研究結果，發現將PPE(聚苯醚，Polyphenylene ether)骨架共聚合之聚碳酸酯共聚物為機械強度及電氣強度優異，遂完成本發明。
本發明之一態樣之聚碳酸酯共聚物係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基封閉。
Figure 104115773-A0305-02-0005-1
 (前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~40之數，L為1~4之整數，芳香環上 有2個以上的R1取代時(L≧2)，R1彼此相同或相異)。
本發明之一態樣之塗佈液係含有本發明之一態樣之聚碳酸酯共聚物及有機溶劑。
本發明之一態樣之電子照相感光體係含有本發明之一態樣之聚碳酸酯共聚物。
本發明之一態樣之電子照相感光體係含有基板與被設置於前述基板上的感光層，且前述感光層含有本發明之一態樣之聚碳酸酯共聚物。
本發明之一態樣之電氣機器係具有本發明之一態樣之電子照相感光體。
依據本發明時，可提供耐摩耗性等之機械強度極佳，對於接觸帶電等之放電之電氣強度也優異的聚碳酸酯共聚物、使用該聚碳酸酯共聚物之塗佈液、及機械強度及電氣強度優異的電子照相感光體及使用該電子照相感光體的電氣機器。
發明之實施形態
以下詳細說明本發明之一實施形態的聚碳酸酯共聚物(以下聚碳酸酯共聚物有時僅稱為「PC共聚物」)、使用該PC共聚物之塗佈液、使用該PC共聚物之電子照相感光體、及使用該電子照相感光體之電氣機器。
[PC共聚物之結構]
本實施形態之PC共聚物係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基所封閉。
Figure 104115773-A0305-02-0007-2
前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~40之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時，複數之R1彼此相同或相異。前述一般式(1)中，芳香環上有2個以上的R1取代時係指L≧2的情形。
前述一般式(1)中，平均重複數n較佳為6~30之數、更佳為6~25。
本實施形態之PC共聚物係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基所封閉更佳。
Figure 104115773-A0305-02-0007-3
前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~15之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時，複數之R1彼此相同或相異。前述一般式(1)中，芳香環上有2個以上的R1取代時係指L≧2的情形。
平均重複數n又更佳為8~13之數。
在此，本發明中，氫原子係指包含中性子數不同之同位體、亦即氕(protium)、氘(deuterium)、及氚(tritium)。
前述一般式(1)中，構成R1之碳數1~2之烷基，例如有甲基及乙基，較佳為、甲基。
本實施形態之PC共聚物之鏈末端係被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基所封閉。
一價之芳香族基也可為含有烷基等之脂肪族基之基。
一價之含氟之脂肪族基也可為含有芳香族基之基。
又，對於一價之芳香族基及一價之含氟之脂肪族基，可加成例如烷基、鹵素原子、及芳基等之取代基。此等之取代基也可在加成例如烷基、鹵素原子、及芳基等之取代基。又，取代基為複數時，此等取代基彼此互相鍵結可形成環。
構成鏈末端之一價之芳香族基，較佳為含有碳數6~12之芳基。這種芳基，例如有苯基及聯苯基等。
加成於芳香族基之取代基、及加成於芳香族基之烷基進行加成的取代基，例如有氟原子、氯原子、及溴原子等之鹵素原子。又，加成於芳香族基之取代基，例如有碳數1~20之烷基等。此烷基係如上述，可為加成有鹵素原子之基，或加成有芳基之基。
構成鏈末端之一價之含氟之脂肪族基，例如有由含氟之醇所衍生之一價基等。
含氟之醇較佳為碳數2~6之複數之氟烷基鏈彼此經由 醚鍵結連結，全氟原子數為13~19之含氟之醇。全氟原子數為13以上時，可展現充分之撥水性及撥油性。此外，全氟原子數為19以下時，抑制聚合時之反應性降低，可提高所得之PC共聚物之機械強度、表面硬度、及耐熱性等。
此外，一價之含氟之脂肪族基較佳為由具有2個以上之醚鍵結之含氟之醇所衍生之一價基。藉由使用這種含氟之醇，塗佈液中之PC共聚物之分散性變佳，提高成形體及電子照相感光體之耐摩耗性，可保持摩耗後之表面潤滑性、撥水性及撥油性。
或含氟之醇較佳為以下述一般式(30)或(31)表示之含氟之醇、1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇等之含氟之醇、或以下述一般式(32)、(33)、或(34)表示之夾雜醚鍵結的含氟之醇。
H(CF2)n1CH2OH‧‧‧(30)
F(CF2)m1CH2OH‧‧‧(31)
前述一般式(30)中，n1為1~12之整數，前述一般式(31)中，m1為1~12之整數。
F-(CF2)n 31-OCF2CH2-OH‧‧‧(32)
F-(CF2CF2)n 32-(CF2CF2O)n 33-CF2CH2OH‧‧‧(33)
C(R)3-(CF2)n 35-O-(CF2CF2O)n 34-CF2CH2OH‧‧‧(34)
前述一般式(32)中，n31為1~10之整數，較佳為5~8之整數。
前述一般式(33)中，n32為0~5之整數，較佳為0~3之整數。n33為1~5之整數，較佳為1~3之整數。
前述一般式(34)中，n34為1~5之整數，較佳為1~3之整數。n35為0~5之整數，較佳為0~3之整數。R為CF3或F。
本實施形態中，從電特性及耐摩耗性之改善的觀點，PC共聚物之鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基或下述一般式(10)表示之含氟之醇所衍生之一價基封閉較佳。
Figure 104115773-A0305-02-0010-4
Figure 104115773-A0305-02-0010-5
前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數。
前述一般式(10)中，Rf表示碳數為5以上、且氟原子數為11以上的全氟烷基、或下述一般式(11)表示之全氟烷氧基。
Figure 104115773-A0305-02-0010-6
前述一般式(11)中，Rf2為碳數1~6之直鏈或分支之全氟烷基。m為1~3之整數。
本實施形態之PC共聚物具有下述一般式(2)表示之重複單位為佳。
Figure 104115773-A0305-02-0010-7
前述一般式(2)中，Ar為下述一般式(3)表示之 基。
Figure 104115773-A0305-02-0011-8
前述一般式(3)中，R11及R12各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基。
X為單鍵、-O-、-CO-、-CR13R14-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基。
R13及R14各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基。
s及t各自獨立為1~4之整數。芳香環上有2個以上的R11取代時，亦即s≧2時，複數之R11彼此相同或相異。芳香環上有2個以上的R12取代時，亦即t≧2時，複數之R12彼此相同或相異。
本實施形態之PC共聚物也可具有作為前述一般式(2)表示之重複單位之Ar不同之複數的重複單位。
其中，作為前述一般式(2)表示之重複單位，較佳為具有下述一般式(4)表示之重複單位B及下述一般式(6)表示之重複單位C者。
Figure 104115773-A0305-02-0011-9
前述一般式(4)中，Ar1為下述一般式(5)表示之 基。
Figure 104115773-A0305-02-0012-10
前述一般式(5)中，R2及R3各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基。
X1為-CR4R5-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基。
R4及R5各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基。但是R4及R5無同時為氫原子的情形。
q及r各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R2取代時，亦即q≧2時，複數之R2彼此相同或相異。芳香環上有2個以上的R3取代時，亦即r≧2時，複數之R3彼此相同或相異。
Figure 104115773-A0305-02-0012-11
前述一般式(6)中，Ar2為下述一般式(7)表示之基。但是Ar2係與Ar1不同的骨架。
Figure 104115773-A0305-02-0012-12
前述一般式(7)中，R6及R7各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧 基。
X2為單鍵、-O-、-CO-、或-CR8R9-。
R8及R9各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基。
本實施形態之PC共聚物具有前述一般式(4)表示之重複單位B、及前述一般式(6)表示之重複單位C時，Ar1與Ar2互相不同。
構成R11、R12、R2、R3、R6、及R7之碳數1~3之烷基，例如有直鏈烷基或分支烷基。例如有甲基、乙基、及各種丙基。
構成R11、R12、R2、R3、R6、及R7之碳數1~3之氟烷基，例如有對於上述碳數1~3之烷基，有1或2以上之氟原子進行取代的基。較佳為全氟烷基，例如有三氟甲基等。
構成R11、R12、R2、R3、R6、及R7之碳數1~3之烷氧基，例如有甲氧基、乙氧基、及各種丙氧基。
具有前述一般式(1)表示之重複單位A、前述一般式(4)表示之重複單位B、及前述一般式(6)表示之重複單位C之PC共聚物中，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位B之莫耳數為MB、前述重複單位C之莫耳數為MC、前述重複單位A、B、及C合計之重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，PC共聚物中之重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MB+MC)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下為佳， 更佳為2莫耳%以上6莫耳%以下、又更佳為2莫耳%以上5莫耳%以下。
重複單位A之莫耳百分比為1莫耳%以上時，可抑制電氣強度之降低，故不易產生帶電劣化。又，前述重複單位A之莫耳百分比為7莫耳%以下時，可抑制機械強度之降低。因此，可兼具更佳的機械強度與電氣強度。機械強度係指耐摩耗性等之特性。電氣強度係指不易產生電氣劣化的特性。
又，上述莫耳%係莫耳共聚合組成以百分比表示之值。莫耳共聚合組成可由核磁共振光譜測量，具體而言，可以實施例所記載的方法求得。
PC共聚物中之前述重複單位B之莫耳百分比：{MB/(MA+MB+MC)}×100較佳為15莫耳%以上89莫耳%以下、更佳為30莫耳%以上79莫耳%以下、又更佳為50莫耳%以上69莫耳%以下、再更佳為54莫耳%以上62莫耳%以下。
重複單位B之莫耳百分比為89莫耳%以下時，溶解性不會變得過高，因此，耐溶劑性變佳，可防止龜裂之發生。重複單位B之莫耳百分比為15莫耳%以上時，可適度保持溶解性，溶解於有機溶劑時，聚合物溶液不會白濁。
PC共聚物之前述重複單位C之莫耳百分比：{MC/(MA+MB+MC)}×100較佳為10莫耳%以上80莫耳%以下、更佳為20莫耳%以 上70莫耳%以下、又更佳為30莫耳%以上49莫耳%以下、再更佳為35莫耳%以上43莫耳%以下。
重複單位C之莫耳百分比為80莫耳%以下時，重複單位A及重複單位B之比例不會減少，可充分平衡重複單位A所產生的效果及重複單位B與重複單位C所產生的效果。因此，除了電氣強度外，也有適度的溶解性，溶解於有機溶劑時，聚合物溶液不會有白濁的不良情形，兼具耐溶劑性，故也可抑制龜裂之發生。重複單位C之莫耳百分比為10莫耳%以上時，可充分得到重複單位C之耐摩耗性改善的效果，PC共聚物中，耐摩耗性變得充分。
又，PC共聚物中之前述重複單位A之重量%，較佳為3重量%以上60重量%以下、更佳為4重量%以上40重量%以下、又更佳為5重量%以上30重量%以下、再更佳為5%重量以上20重量%以下。
重複單位A之重量%為60重量%以下時，可充分平衡重複單位A所產生的效果及重複單位B與重複單位C所產生的效果。因此，除了電氣強度外，也有適度的溶解性，溶解於有機溶劑時，聚合物溶液不會有白濁的不良情形。重複單位A之重量%為3重量%以上時，可充分得到重複單位A之耐摩耗性、及電氣強度之效果，PC共聚物中，耐久性變得充分。
又，由Ar2所構成之嵌段成分之溶解性低，因此，本實施形態之PC共聚物較佳為不含有前述重複單位C彼此鍵結的嵌段。不含有前述重複單位C彼此鍵結的嵌段的 PC共聚物時，溶解於有機溶劑時，可抑制聚合物溶液產生白濁，可適用於塗佈液。
本實施形態之PC共聚物中，前述重複單位A係對於能夠抵抗放電劣化，藉由導入聚碳酸酯骨架，提高對電氣劣化之耐性(電氣強度)。又，在主骨架的聚碳酸酯骨架中再導入重複單位B及重複單位C，且將此等重複單位A，B，C之含有比例限定在特定組成，可得到耐摩耗性等之機械強度、及對於接觸帶電等之放電的電氣強度更優異之PPE-PC共聚物。
含有前述重複單位A、前述重複單位B、及前述重複單位C之PC共聚物，較佳為下述一般式(8)表示者。
Figure 104115773-A0305-02-0016-13
前述一般式(8)中，a表示前述重複單位A之莫耳共聚合比，b表示前述重複單位B之莫耳共聚合比，c表示前述重複單位C之莫耳共聚合比。
a係重複單位A、重複單位B、及重複單位C合計之全重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，相當於重複單位A之莫耳百分比[{MA/(MA+MB+MC)}×100]的值，如前述說明，較佳為1莫耳%以上7莫耳%以下。b係相當於重複單位B之莫耳百分比[{MB/(MA+MB+MC)}×100]的值，較佳為15莫耳%以上89莫耳%以下。c係相當於重複單位C之莫耳百分比[{MC/(MA+MB+MC)}×100]的值，較佳為10莫耳%以上 80莫耳%以下。
又，上述一般式(8)中，各重複單位不一定為連續。
上述一般式(8)表示之PC共聚物可為嵌段共聚物、交互共聚物、及無規共聚物等之任一者，如上述使用於塗佈液時，在溶解性方面而言，更佳為不含有重複單位C彼此鍵結的嵌段。
又，本實施形態中，PC共聚物之比濃黏度(reduced viscosity)[ηSP/C]係濃度0.5g/dL之PC共聚物在二氯甲烷溶液之20℃下的值。本實施形態之PC共聚物之比濃黏度[ηSP/C]較佳為0.60dL/g以上4.0dL/g以下、更佳為0.80dL/g以上3.0dL/g以下、又更佳為0.80dL/g以上2.5dL/g以下。使用於電子照相感光體之PC共聚物之比濃黏度[ηSP/C]為0.60dL/g以上時，電子照相感光體可得到充分的耐摩耗性。又，比濃黏度[ηSP/C]為4.0dL/g以下時，由塗佈液製造電子照相感光體等之成形體時，可適度保持適當的塗佈黏度，提高電子照相感光體等之成形體之生產性。
又，比濃黏度之測量係使用自動黏度測量裝置，以自動黏度用Ubbelohde改良型黏度計(RM型)測量的值。
[PC共聚物之製造方法]
以下以前述一般式(8)表示之PC共聚物為例，揭示PC共聚物之製造方法。
本實施形態之PC共聚物可藉由例如使下述一般式(100)表示之雙氯甲酸酯寡聚物與下述一般式(14)所示之二元酚性化合物及下述一般式(12)所示之聚苯醚，在酸結合劑存在下進行界面聚縮合，可良好形成碳酸酯鍵結而得。又，本實施形態之PC共聚物係藉由使下述一般式(100)表示之雙氯甲酸酯寡聚物與下述一般式(13)所示之二元酚性化合物、下述一般式(14)所示之二元酚性化合物及下述一般式(12)所示之聚苯醚，在酸結合劑存在下進行界面聚縮合，可良好形成碳酸酯鍵結而得。PC共聚物之此等之合成反應，例如可在前述一般式(9)表示之末端封閉劑及下述一般式(10)表示之末端封閉劑之至少任一者存在下進行。又，PC共聚物之此等之合成反應中，必要時，也可使用分支劑。
Figure 104115773-A0305-02-0018-14
Figure 104115773-A0305-02-0018-15
HO-Ar1-OH (13)
HO-Ar2-OH (14)
前述一般式(13)及(100)中，Ar1為前述一般式(5)表示之基。前述一般式(14)中，Ar2為前述一般式(7)表示之基。又，前述一般式(12)中，R1、n及L各自與前述一般式(1)中之R1、n及L同義。
前述一般式(12)表示之聚苯醚可藉由公知方法製 造。例如依據日本特公昭60-34571號公報，實施聚苯醚之聚合反應，將聚合隨後之溶液與大量過剩之甲醇混合，所得之沉澱物與純粹的甲醇混合及攪拌後，實施過濾的操作而得。
此處，前述一般式(100)中之n11係表示雙氯甲酸酯寡聚物之平均單體數(average number of monomers)。前述一般式(100)之雙氯甲酸酯寡聚物中，其平均單體數n11係在1.0以上且1.3以下之範圍為佳。藉由使用平均單體數為1.0以上且1.3以下之範圍的雙氯甲酸酯寡聚物，即使併用前述一般式(13)所示之二元酚性化合物、及前述通式(14)所示之二元酚性化合物時，仍可抑制超過前述一般式(100)所示之雙氯甲酸酯寡聚物之單體數之高單體數嵌段之生成，使PC共聚物之製造變得容易。
又，即使前述一般式(100)所示之平均單體數1.0之雙氯甲酸酯寡聚物與共聚單體(comonomer)、例如前述一般式(14)所示之二元酚性化合物以莫耳比1：1反應，大多情況為Ar1之莫耳百分比超過50莫耳%。此係因形成前述一般式(100)所示之雙氯甲酸酯寡聚物後，與前述一般式(14)所示之共聚單體反應時，有時雙氯甲酸酯寡聚物末端之氯甲酸酯基與存在於反應系內之鹼反應成為羥基，此羥基與末端氯之Ar1寡聚物(前述一般式(100)所示之雙氯甲酸酯寡聚物)進行聚縮合的情形的緣故。
平均單體數n11之計算方法列舉後述實施例中說明的 方法。
又，前述一般式(13)所示單體(二元酚性化合物)，可舉出雙酚化合物。具體例有1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、1,2-雙(4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-1,1-二苯基甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-1-苯基乙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-1-苯基甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環戊烷、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環戊烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-3,3,5三甲基環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環癸烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(3-乙基-4-羥基苯基)環己烷、2,2-雙(3-三氟甲基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(3-五氟乙基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(3-七氟丙基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(2-甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-三氟甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-五氟乙基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-七氟丙基-4-羥基苯基)丙烷、1,1-雙(3-三氟甲基-4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(3-五氟乙基-4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(3-七氟丙基-4-羥基苯基)環己烷、9,9-雙(4-羥基苯基)茀、及9,9-雙(3-甲基-4-羥基苯基)茀等。
此等之雙酚化合物之中，較佳為1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥基苯 基)丙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(3-乙基-4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-3,3,5-三甲基環己烷、及1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環戊烷。使用此雙酚化合物之PC共聚物，作為電子照相感光體用之PC共聚物使用時，可得到良好的塗佈液。
又，前述一般式(14)表示之單體(二元酚性化合物)，例如有聯苯二酚化合物及雙酚化合物。具體而言，例如有4,4’-聯苯二酚、3,3’-二甲基-4,4’-聯苯二酚、3,3’-二乙基-4,4’-聯苯二酚、3,3’-二丙基-4,4’-聯苯二酚、3,3’-雙(三氟甲基)-4,4’-聯苯二酚、3,3’-雙(五氟乙基)-4,4’-聯苯二酚、3,3’-雙(七氟丙基)-4,4’-聯苯二酚、3,3’,5-三甲基-4,4’-聯苯二酚、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-聯苯二酚、1,1-雙(4-羥基苯基)甲烷、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基苯基)醚、雙(3-甲基-4-羥基苯基)醚、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、1,2-雙(4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-三氟甲基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(3-五氟乙基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(3-七氟丙基-4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(2-甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-三氟甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3- 五氟乙基-4-羥基苯基)丙烷、及2,2-雙(3-七氟丙基-4-羥基苯基)丙烷等。
此等之聯苯二酚化合物及雙酚化合物之中，較佳為4,4’-聯苯二酚、3,3’-二甲基-4,4’-聯苯二酚、3,3’-二乙基-4,4’-聯苯二酚、3,3’-雙(三氟甲基)-4,4’-聯苯二酚、3,3’-雙(五氟乙基)-4,4’-聯苯二酚、1,1-雙(4-羥基苯基)甲烷、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基苯基)醚、雙(3-甲基-4-羥基苯基)醚、1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷。使用此化合物製造PC共聚物，將該PC共聚物用於電子照相感光體時，可進一步提高該電子照相感光體之耐摩耗性。
前述一般式(12)表示之聚苯醚化合物，可適合使用例如下述式(15)~(17)表示之化合物。n12為平均重複數。
Figure 104115773-A0305-02-0022-16
本實施形態之PC共聚物之製造方法中，使生成鏈末端之末端封閉劑，可使用例如一價羧酸及其衍生物、或一元酚。
例如可使用p-tert-丁基酚、對-苯基酚、對-異丙苯基酚、對-全氟壬基酚、對-(全氟壬基苯基)酚、對-(全氟己基)酚、p-tert-全氟丁基酚、對-全氟辛基酚、1-(對- 羥基苄基)全氟癸烷、對-[2-(1H,1H-全氟三(十二烷基)氧基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙基]酚、3,5-雙(全氟己氧基羰基)酚、對-羥基苯甲酸全氟十二烷酯、對-(1H,1H-全氟辛氧基)酚及2H,2H,9H-全氟壬酸等。
或使生成鏈末端之末端封閉劑((terminal blocking agent))，也可使用例如前述一般式(30)或(31)表示之含氟之醇、或1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇等之一價之含氟之醇。又，較佳為使用前述一般式(32)、(33)、或(34)表示之介於醚鍵結之含氟之醇。
使生成鏈末端之末端封閉劑，其中由電氣特性及耐摩耗性之改善的觀點，較佳為使用前述一般式(9)表示之一元酚或前述一般式(10)表示之一價之含氟之醇。
前述一般式(9)表示之一元酚，可使用例如p-tert-丁基-酚、p-全氟壬基酚、p-全氟己基酚、p-tert-全氟丁基酚及p-全氟辛基酚等。亦即，本實施形態係鏈末端使用選自由p-tert-丁基-酚、p-全氟壬基酚、p-全氟己基酚、p-tert-全氟丁基酚及p-全氟辛基酚所成群之末端封閉劑封閉較佳。
前述一般式(10)表示之介於醚鍵結之含氟之醇，例如有以下之化合物。亦即，本實施形態之鏈末端，較佳為使用選自下述含氟之醇之任一者的末端封閉劑封閉。
Figure 104115773-A0305-02-0024-17
末端封閉劑之添加比例係以重複單位A、重複單位B、重複單位C、及鏈末端之共聚合組成之莫耳百分比表示，較佳為0.05莫耳%以上30莫耳%以下、又更佳為0.1莫耳%以上10莫耳%以下。末端封閉劑之添加比例為30莫耳%以下時，可抑制機械強度之降低，0.05莫耳%以上時，可抑制成形性之降低。
又，本實施形態之PC共聚物之製造方法中可使用之分支劑，無特別限定。分支劑之具體例，例如有間苯三酚(phloroglucin)、連苯三酚(pyrogallol)、4,6-二甲基-2,4,6-參(4-羥基苯基)-2-庚烯、2,6-二甲基-2,4,6-參(4-羥基苯基)-3-庚烯、2,4-二甲基-2,4,6-參(4-羥基苯基)庚烷、1,3,5-參(2-羥基苯基)苯、1,3,5-參(4-羥基苯基)苯、1,1,1-參(4-羥基苯基)乙烷、參(4-羥基苯基)苯基甲烷、2,2-雙[4,4-雙(4-羥基苯基)環己基]丙烷、2,4-雙[2-雙(4-羥基苯基)-2-丙基]酚、2,6-雙(2-羥 基-5-甲基苄基)-4-甲基酚、2-(4-羥基苯基)-2-(2,4-二羥基苯基)丙烷、肆(4-羥基苯基)甲烷、肆[4-(4-羥基苯基異丙基)苯氧基]甲烷、2,4-二羥基苯甲酸、均苯三酸(trimesic acid)、氰尿酸、3,3-雙(3-甲基-4-羥基苯基)-2-氧代-2,3-二氫吲哚、3,3-雙(4-羥基芳基)氧基吲哚、5-氯靛紅、5,7-二氯靛紅及5-溴靛紅等。
此等分支劑之添加比例以共聚合組合比表示，較佳為30莫耳%以下，更佳為5莫耳%以下。分支劑之添加比例為30莫耳%以下時，能抑制成形性之降低。
進行界面聚縮合時，酸結合劑例如有鹼金屬氫氧化物(例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰及氫氧化銫等)、鹼土金屬氫氧化物(例如氫氧化鎂及氫氧化鈣等)、鹼金屬弱酸鹽(例如碳酸鈉、碳酸鉀、及乙酸鈣等)、鹼土金屬弱酸鹽及有機鹼(例如吡啶等)等。進行界面聚縮合時之較佳的酸結合劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀及氫氧化鈣等鹼金屬氫氧化物及鹼土金屬氫氧化物。又，此等酸結合劑亦可以混合物形態使用。酸結合劑之使用比例亦考慮反應之化學計量比(當量)適當調製即可。具體而言，原料之二元酚之羥基之合計每1莫耳，使用1當量或1當量以上之過剩量之酸結合劑即可，較佳為使用1~10當量之酸結合劑即可。
本實施形態之PC共聚物之製造方法所使用的溶劑，只要是對所得共聚物顯示一定以上之溶解性即無問題。溶劑列舉較佳者為例如芳香族烴(例如甲苯、二甲苯等)、 鹵化烴(例如二氯甲烷、氯仿、1,1-二氯乙烷、1,2-二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1,2-四氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、五氯乙烷、及氯苯等)、酮類(例如環己酮、丙酮、及苯乙酮等)、醚類(例如四氫呋喃及1,4-二噁烷等)等。此等溶劑可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。另外，亦可使用彼此不混合之2種溶劑進行界面聚縮合反應。
又，本實施形態之PC共聚物之製造方法所使用的觸媒無特別限定。較佳者例如有三級胺(例如三甲胺、三乙胺、三丁基胺、N,N-二甲基環己基胺、吡啶、N,N-二乙基苯胺及N,N-二甲基苯胺等)、四級銨鹽(例如氯化三甲基苄基銨、氯化三乙基苄基銨、氯化三丁基苄基銨、氯化三辛基甲基銨、氯化四丁基銨、溴化四丁基銨等)、四級鏻鹽等(例如氯化四丁基鏻及溴化四丁基鏻等)。
另外，必要時於PC共聚物之反應系中少量添加亞硫酸鈉或亞硫酸氫鹽等之抗氧化劑。
本實施形態之PC共聚物之製造方法除前述PC共聚物之製造方法外，具體而言可以各種樣態實施。例如使前述一般式(13)之二元酚性化合物與光氣等反應，製造前述一般式(100)之雙氯甲酸酯寡聚物。接著，可採用使用前述一般式(12)之聚苯醚、及前述一般式(14)之二元酚性化合物、或前述一般式(13)及前述一般式(14)之二元酚性化合物，在前述溶劑及酸結合劑之鹼水溶液之混合液存在下，使與於此雙氯甲酸酯寡聚物反應的方法。 此方法可容易將以全重複單位之莫耳百分比為100莫耳%時之Ar1骨架單位(前述一般式(4))表示之重複單位B)之莫耳百分比調整成較佳範圍的觀點而言較佳。
製造前述一般式(100)之n11值為1.0以上1.3以下之範圍的低單體數之雙氯甲酸酯寡聚物的方法，詳細有後述製造例所示的方法，其概略如下述。
首先，使前述一般式(13)之二元酚性化合物懸浮於二氯甲烷等之疏水性溶劑中，再添加光氣，形成第一溶液。另外，使三乙胺等三級胺溶解於二氯甲烷等疏水性溶劑中形成第二溶液，將此第二溶液滴下於前述第一溶液中進行反應。將鹽酸及純水添加於含所得反應混合物之第三溶液中進行洗淨，獲得含有低單體數之聚碳酸酯寡聚物之有機層。
滴下溫度與反應時間通常為-10℃以上40℃以下，較佳為0℃以上30℃以下。滴下時間及反應時間均一般為15分鐘以上4小時以下，較佳為30分鐘以上3小時以下左右。如此所得之聚碳酸酯寡聚物之平均單體數(n11)較佳為1.0以上1.3以下，更佳為1.0以上1.2以下。
使用藉由該製造方法所製造之聚碳酸酯寡聚物時，可使PC共聚物製造時之洗凈步驟簡略化等的觀點而言較佳。
將前述一般式(14)表示之二元酚性化合物(單體)、及前述一般式(12)表示之聚苯醚添加於含有上述所得之低單體數之雙氯甲酸酯寡聚物之有機層中，並使反 應。反應溫度為0℃以上150℃以下、較佳為5℃以上40℃以下、又更佳為7℃以上20℃以下。
反應壓力可為減壓、常壓、或加壓之任一種，但通常可在常壓或反應系本身壓力左右下適當地進行。反應時間受反應溫度而左右，但通常為0.5分鐘以上10小時以下，較佳為較1分鐘以上3小時以下左右。
此反應時，前述通式(14)所示之二元酚性化合物及前述一般式(12)所示之聚苯醚，以水溶液或有機溶劑溶液形態來添加為佳。其添加順序並無特別限制。又，觸媒、末端封閉劑及分支劑等，在上述製造法中，必要時，可在雙氯甲酸酯寡聚物之製造時及其後之高分子量化之反應時之任一者，或者於其二者中添加來使用。
如前述所得之PC共聚物係由前述一般式(1)表示之重複單位A、前述一般式(4)表示之重複單位B、及前述一般式(6)表示之重複單位C所構成之共聚物。
又，此PC共聚物在不妨礙本發明之目的達成的範圍內，也可含有具有重複單位A、重複單位B及重複單位C以外之結構單位之聚碳酸酯單位或具有聚酯結構之單位、具有聚醚結構之單位。
又，所得PC共聚物之比濃黏度[ηsp/C]可藉由例如選擇前述反應條件、調節分支劑及末端封閉劑之使用量等各種方法而調整成前述範圍中。另外，視情況，亦可藉由對所得PC共聚物施以適當之物理處理(例如混合及劃分等)及化學處理(例如聚合物反應、交聯處理、部分分解 處理等)之至少一種，可獲得特定比濃黏度[ηsp/C]之PC共聚物。
又，所得之反應產物(粗產物)施以習知之分離純化法等各種後處理，可回收期望純度(純化度)之PC共聚物。
[塗佈液之構成]
本實施形態之塗佈液至少包含本實施形態之PC共聚物、及可溶解或分散該PC共聚物之有機溶劑。另外，除上述PC共聚物及有機溶劑以外，在塗佈液中亦可包含低分子化合物、著色劑(例如染料、顏料等)、功能性化合物(例如電荷輸送材、電子輸送材、電洞輸送材及電荷產生材料等)、填充材(例如無機或有機填料、纖維及微粒子等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑及酸捕捉劑等的添加劑。PC共聚物以外亦可包含的物質之例，列舉例如後述之電子照相感光體之構成成分中所含的物質。另外，只要在不損及本發明效果之範圍內，塗佈液中亦可包含其他樹脂，其例，例如有下述電子照相感光體之構成成分之例。另外，本實施形態中使用之有機溶劑考慮到本實施形態之PC共聚物、其他材料之溶解性、分散性、黏度、蒸發速度、化學安定性及對物理變化之安定性等，可單獨、或混合複數種溶劑來使用。其例，例如有後述之電子照相感光體之構成成分之例。
本實施形態之塗佈液中之PC共聚物成分之濃度，只 要符合同塗佈液之使用法之適當黏度即可，但較佳為0.1質量%以上40質量%以下，更佳為1質量%以上35質量%以下，又更佳為5質量%以上30質量%以下。塗佈液中之PC共聚物成分之濃度為40質量%以下時，由於黏度不會過高，故塗佈性良好。0.1質量%以上時，由於可保持適度的黏度，故可得到均質膜。又，為了塗佈後之乾燥時間之短縮及容易形成目標的膜厚，成為適當的濃度。
本實施形態之PC共聚物由於與前述電荷輸送材之相溶性良好，且即使溶解於前述有機溶劑中亦不會引起白化或凝膠化。因此，含有上述PC共聚物及有機溶劑之本實施形態之塗佈液，即使再含有電荷輸送材時，也可長期不會引起PC聚合物成分之白化或凝膠化可安定地保存。又，使用此塗佈液(含有電荷輸送材的塗佈液)形成電子照相感光體之感光層時，感光層不會發生結晶化，可製作不會產生畫質狀缺陷之優異電子照相感光體。
另外，該塗佈液中之PC共聚物與電荷輸送物質之比例，通常以質量比計為20：80~80：20，較佳為30：70~70：30。
本實施形態之塗佈液中，本實施形態之PC共聚物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
本實施形態之塗佈液，通常較適用於感光層至少包含電荷產生層與電荷輸送層之層合型電子照相感光體之該電荷輸送層之形成。另外，上述塗佈液中，藉由進一步含有上述電荷產生物質，亦可使用於形成單層型之電子照相感 光體之感光層。
[成形體之構成]
使用本實施形態之PC共聚物及本實施形態之塗佈液之至少一種，可形成成形體。
成形體列舉有光學構件，光學構件可列舉例如電子照相感光體及光學鏡片等。此外，基材為薄膜狀時，作為成形體一樣態之層合薄膜，例如可作為模內成型用薄膜或加飾薄膜使用。其他，該層合薄膜亦可作為液晶及有機EL顯示器等所使用之觸控面板用薄膜、光學補償薄膜或抗反射薄膜等光學薄膜及導電性薄膜等使用。
含有本實施形態之PC共聚物的成形體，不會白化、透明性優異，且耐磨耗性等之機械強度及電氣強度優異。
[電子照相感光體之構成]
本發明之電子照相感光體係含有本實施形態之PC共聚物。
本發明之一實施形態的電子照相感光體係具有基板與被設置於前述基板上之感光層，而前述感光層含有本實施形態之PC共聚物。
電子照相感光體係配合使用之電子照相程序，被要求具備所定之感度、電氣特性及光學特性。此電子照相感光體係於其感光層之表面重複進行電暈帶電、碳粉顯影、轉印於紙、清潔處理等之操作，因此，進行此等操作時，施 加電氣外力及機械性之外力。因此，為了維持長時間之電子照相的畫質時，設置於電子照相感光體表面之感光層，被要求對於此等外力之耐久性。又，電子照相感光體通常將機能性材料與黏結劑樹脂溶解於有機溶劑中，於導電性基板等以鑄膜(cast)製膜的方法來製造，因此要求對有機溶劑之溶解性、安定性。
又，使電子照相感光體表面帶電的方式，大多採用使帶電輥直接接觸感光滾筒(drum)表面的方式(接觸式帶電方式)。對上述帶電輥之帶電方式，可考慮DC電壓外加方式。但是這種DC接觸帶電方式係依據Paschen法則之帶電，因此，具有帶電安定性非常差的缺點，帶電時，發生微小的放電不均，結果產生帶電電位之不均。此對策為提案使AC電壓與DC電壓重疊之AC/DC重疊帶電方式。藉由此帶電方式，帶電時之安定性有極大的改善，但是為了重疊AC電壓，電子照相感光體表面之放電量大幅增大，因此產生電子照相感光體之切削量增加之新的問題，因而不僅要求機械強度亦要求電氣強度。
上述文獻2所記載的聚碳酸酯共聚物係藉由電子照相感光體與帶電輥之間之接觸夾輥(Nip)之放電，在分子間產生結合斷裂，引起帶電劣化。結果聚碳酸酯共聚物之耐摩耗性極度降低。又，文獻3所記載之聚芳酯樹脂，關於電子照相程序中之感度、電氣特性，比聚碳酸酯樹脂差，因此製作機械強度、電氣強度優異且電子照相程序中之感度、電氣特性也無問題之電子照相感光體之為困難。
又，本實施形態之電子照相感光體係將本實施形態之PC共聚物用於感光層，因此耐摩耗性等之機械強度、及電氣強度優異。故可得到電子照相程序中之感度、或電氣特性也無問題之電子照相感光體。
本實施形態之電子照相感光體，只要將本實施形態之PC共聚物使用於感光層時，可為公知之各種形式之電子照相感光體當然可為任何形式的電子照相感光體，但是感光層為具有至少1層之電荷產生層與至少1層之電荷輸送層的層合型電子照相感光體，或一層上具有電荷產生物質與電荷輸送物質之單層型電子照相感光體為佳。
PC共聚物可使用於感光層中任何部份，為了充分發揮本發明之效果時，於電荷輸送層中作為電荷移動物質之黏結劑樹脂使用，或作為單一之感光層的黏結劑樹脂使用為佳。又，不僅作為感光層，作為表面保護層使用者為佳。具有2層電荷輸送層之多層型電子照相感光體時，使用於其任一之電荷輸送層為佳。
本實施形態之電子照相感光體中，本實施形態之PC共聚物，可單獨使用1種，或將2種以上組合使用。又，配合期待，在不妨礙本發明之目的之範圍內，可含有其他聚碳酸酯等之黏結劑樹脂成份。此外，亦可再含有抗氧化劑等之添加物。
本實施形態之電子照相感光體係在導電性基板上具有感光層。感光層具有電荷產生層與電荷輸送層時，電荷產生層上可層合電荷輸送，相反地，可於電荷輸送層上層合 電荷產生層。又，也可為一層中同時含有電荷產生物質與電荷輸送物質的感光層。此外，必要時，可於表面層上形成導電性或絕緣性之保護膜。藉由在表面層使用本實施形態之PC共聚物，可得到機械強度及電氣強度優異，電子照相程序中之感度、或電氣特性也無問題之電子照相感光體。
此外，亦可為形成提高各層間之接著性用之接著層或或達成阻擋(blocking)電荷之功用之阻擋層等中間層等。
本實施形態之電子照相感光體所使用之導電性基板材料，可使用公知之材料等各種材料，具體而言，可使用鋁、鎳、鉻、鈀、鈦、鉬、銦、金、鉑、銀、銅、鋅、黃銅、不銹鋼、氧化鉛、氧化錫、氧化銦、ITO(銦錫氧化物：摻雜錫之氧化銦)或石墨所形成之板、圓筒及薄片，藉由蒸鍍、濺鍍或塗佈等進行塗覆等的導電處理之玻璃、布、紙及塑膠之薄膜、薄片與無接縫輸送帶(seamless belt)及藉由電極氧化等進行金屬氧化處理的金屬圓筒等。
前述電荷產生層為至少具有電荷產生材料。此電荷產生層可於成為底層之基板上藉由真空蒸鍍或濺鍍法等形成電荷產生材料之層，或於成為其底層之基板上，形成使用黏結劑樹脂黏著電荷產生材料所成之層而得。使用黏結劑樹脂之電荷產生層之形成方法，可使用公知之方法等各種方法。通常，例如將電荷產生材料與黏結劑樹脂一同使用 適當之溶劑分散或溶解所得之塗佈液，塗佈於特定之成為底層的基板上，經由乾燥以濕式成形體得到的方法為佳。
前述電荷產生層中之電荷產生材料，可使用公知之各種材料。具體之化合物，例如硒單體(例如非晶質硒及三方晶硒等)、硒合金(例如硒-碲等)、硒化合物或含有硒之組成物(例如As2Se3等)、周期表第12族與第16族元素所形成之無機材料(例如氧化鋅及CdS-Se等)、氧化物系半導體(例如氧化鈦等)、矽系材料(例如非晶質矽等)、無金屬酞菁顏料(例如τ型無金屬酞菁(phthalocyanine)及χ型無金屬酞菁等)、金屬酞菁顏料(例如α型銅酞菁、β型銅酞菁、γ型銅酞菁、ε型銅酞菁、X型銅酞菁、A型鈦酞菁、B型鈦酞菁、C型鈦酞菁、D型鈦酞菁、E型鈦酞菁、F型鈦酞菁、G型鈦酞菁、H型鈦酞菁、K型鈦酞菁、L型鈦酞菁、M型鈦酞菁、N型鈦酞菁、Y型鈦酞菁、含氧鈦酞菁、X射線繞射圖中之布拉格角2θ顯示於27.3±0.2度之強繞射波峰之鈦酞菁、鎵酞菁等)、菁染料、蒽顏料、雙偶氮顏料、芘顏料、多環醌顏料、喹吖酮(quinacridone)顏料、靛青(indigo)顏料、苝(perylene)顏料、吡喃鎓鹽(pyrylium)染料、方酸鎓顏料、蒽嵌蒽醌(anthanthrone)顏料、苯并咪唑顏料、偶氮顏料、硫代靛青顏料、喹啉顏料、色澱顏料、噁嗪(oxazine)顏料、二噁嗪顏料、三苯基甲烷顏料、薁鎓染料、三芳基甲烷染料、黃嘌呤(xanthine)染料、噻嗪(thiazines)染料、 噻喃鎓染料、聚乙烯基咔唑、雙苯并咪唑顏料等。該等化合物可為單獨1種或混合2種以上之化合物，且可使用作為電荷產生物質。該等電荷產生物質中，較佳之電荷產生物質列舉為日本特開平11-172003號公報中具體記載之電荷產生物質。
前述電荷輸送層可於成為底層之基板上，形成以黏結劑樹脂黏著電荷輸送物質所成之層，得到濕式成形體。
前述電荷產生層或電荷輸送層之黏結劑樹脂，並未有特別限制，可使用公知之各種樹脂。具體而言，例如有聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基縮醛、醇酸樹脂、丙烯酸樹脂、聚丙烯腈、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯、環氧樹脂、酚樹脂、聚醯胺、聚酮、聚丙烯醯胺、丁內酯樹脂、聚酯樹脂、偏二氯乙烯-氯乙烯共聚物、甲基丙烯酸樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-順丁烯二酸酐共聚物、聚矽氧樹脂、聚矽氧醇酸樹脂、酚-甲醛樹脂、苯乙烯-醇酸樹脂、三聚氰胺樹脂、聚醚樹脂、苯併胍樹脂、環氧基丙烯酸酯樹脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基縮丁醛、聚乙烯基縮甲醛、聚碸、酪素(casein)、明膠、聚乙烯醇、乙基纖維素、硝基纖維素、羧基-甲基纖維素、偏二氯乙烯系聚合物乳膠、丙烯腈-丁二烯共聚物、乙烯基甲苯-苯乙烯共聚物、大豆油改質醇酸樹脂、硝基化聚苯乙烯、聚甲基苯乙烯、聚異戊二烯、聚硫代碳酸酯、聚芳香酯、聚鹵 化聚芳香酯、聚烯丙基醚、聚乙烯基丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等。
此等可單獨使用1種，或將2種以上混合使用。又，電荷產生層及/或電荷輸送層中之黏結劑樹脂，例如使用前述本實施形態之PC共聚物為佳。
電荷輸送層之形成方法，可使用公知之各種方式，但是將電荷輸送物質與本實施形態之PC共聚物一同分散或溶解於適當之溶劑的塗佈液，塗佈於特定之成為底層的基板上，經乾燥以濕式成形體得到的方法為佳。電荷輸送層形成所使用之電荷輸送物質與PC共聚物之調配比例，較佳為質量比為20：80~80：20，更佳為30：70~70：30。
此電荷輸送層中，可單獨使用1種本實施形態之PC共聚物，或2種以上混合使用。又，於未阻礙本發明之目的之範圍內，亦可將其他之黏結劑樹脂與本實施形態之PC共聚物併用。
如此形成之電荷輸送層之厚度，通常為5μm以上、100μm以下左右，較佳為10μm以上、30μm以下。此厚度未達5μm時，初期電位不會變低，100μm以下時，可防止電子照相特性降低。
可與本實施形態之PC共聚物一同使用之電荷輸送物質，可使用公知之各種化合物。此種化合物例如有卡唑化合物、吲哚化合物、咪唑化合物、噁唑化合物、吡唑化合物、噁二唑化合物、吡唑啉化合物、噻二唑化合物、苯胺化合物、腙化合物、芳香族胺化合物、脂肪族胺化合物、 二苯乙烯化合物、茀酮化合物、丁二烯化合物、醌化合物、醌二甲烷化合物、噻唑化合物、三唑化合物、咪唑酮化合物、咪唑啶化合物、雙咪唑啶化合物、噁唑酮化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、喹唑啉化合物、苯并呋喃化合物、吖啶化合物、菲啶化合物、聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基芘、聚乙烯基蒽、聚乙烯基吖啶、聚-9-乙烯基苯基蒽、芘-甲醛樹脂、乙基咔唑樹脂、或主鏈或側鏈上具有此等結構之聚合物等。此等化合物可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。
此等電荷輸送物質中，特佳為使用日本特開平11-172003號公報中具體例示之化合物及以下述結構表示之電荷輸送物質。
Figure 104115773-A0305-02-0039-18
Figure 104115773-A0305-02-0040-19
Figure 104115773-A0305-02-0041-20
Figure 104115773-A0305-02-0042-21
Figure 104115773-A0305-02-0043-22
Figure 104115773-A0305-02-0044-23
Figure 104115773-A0305-02-0045-24
又，本實施形態之電子照相感光體係在電荷產生層及電荷輸送層之至少任一層中使用本實施形態之PC共聚物作為黏結劑樹脂為佳。
本實施形態之電子照相感光體係在前述導電性基板與感光層之間可設置如通常使用之底塗層。此底塗層可使用例如微粒子(例如氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、鈦酸、鋯酸、鑭鉛、鈦黑、二氧化矽、鈦酸鉛、鈦酸鋇、氧化錫、氧化銦及氧化矽等)、聚醯胺樹脂、酚樹脂、酪蛋白、三聚氰胺樹脂、苯胍樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、纖維素、硝基纖維素、聚乙烯醇及聚乙烯基縮丁醛樹脂等的成分。又，此底塗層所用之樹脂可使用前述黏結劑樹脂，亦可使用本實施形態之PC共聚物。此等微粒子及樹 脂可單獨或混合各種使用。作為此等之混合物使用時，併用無機質微粒子與樹脂時，由於形成平滑性良好之皮膜，故較佳。
此底塗層之厚度為0.01μm以上10μm以下，較佳為0.1μm以上7μm以下。此厚度為0.01μm以上時，可均勻地形成底塗層，又，10μm以下時可抑制電子照相特性之降低。
此外，前述導電性基體與前述感光層之間可設置通常使用之習知阻斷層。此阻斷層可使用與前述之黏結劑樹脂相同種類之樹脂。亦可使用本實施形態之PC共聚物。此阻斷層之厚度為0.01μm以上20μm以下，較佳為0.1μm以上10μm以下。此阻斷層之厚度為0.01μm以上時，可均一地形成阻斷層，20μm以下時可抑制電子照相特性之降低。
此外，本實施形態之電子照相感光體，亦可在感光層上層合保護層。此保護層可使用與前述黏結劑樹脂相同種類之樹脂。又，特佳為使用本實施形態之PC共聚物。此保護層之厚度為0.01μm以上20μm以下，較佳為0.1μm以上10μm以下。此保護層亦可含有前述電荷產生物質、電荷輸送物質、添加劑、金屬及其氧化物、氮化物、或鹽、合金、碳黑、有機導電性化合物等導電性材料。
再者，為了提高此電子照相感光體之性能，前述電荷產生層及前述電荷輸送層中亦可添加結合劑、可塑劑、硬化觸媒、流動性賦予劑、針孔控制劑及分光感度增感劑 (增感染料)等。又，為了防止對於重複使用之殘留電位增加、靜電電位降低、感度降低之目的，可添加各種化學物質、抗氧化劑、界面活性劑、捲曲防止劑及平坦劑等之添加劑。
前述結合劑例如有聚矽氧樹脂、聚醯胺樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、聚酮樹脂、聚碳酸酯共聚物、聚苯乙烯樹脂、聚甲基丙烯酸酯樹脂、聚丙烯醯胺樹脂、聚丁二烯樹脂、聚異戊二烯樹脂、三聚氰胺樹脂、苯胍樹脂、聚氯丁二烯樹脂、聚丙烯腈樹脂、乙基纖維素樹脂、硝基纖維素樹脂、脲樹脂、酚樹脂、苯氧樹脂、聚乙烯縮丁醛樹脂、縮甲醛樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚合樹脂及聚酯碳酸酯樹脂等。另外，亦可使用熱硬化性樹脂及光硬化性樹脂之至少一種。任一種均為電絕緣性且在通常狀態下能夠形成皮膜之樹脂，只要在不損及本發明效果之範圍內則無特別限制。
前述可塑劑之具體例，例如有聯苯、氯化聯苯、鄰-三聯苯、鹵化鏈烷、二甲基萘、鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二辛酯、二乙二醇鄰苯二甲酸酯、磷酸三苯酯、己二酸二異丁酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、月桂酸丁酯、甲基鄰苯二甲醯基乙基乙醇酸酯、二甲基二醇鄰苯二甲酸酯、甲基萘、二苯甲酮、聚丙烯、聚苯乙烯及氟烴等。
前述硬化觸媒之具體例，例如有甲烷磺酸、十二烷基苯磺酸及二壬基萘二磺酸等，而流動性賦予劑，例如有 MODAFLOW及ACRONAL 4F等，至於針孔控制劑，例如有苯偶因及鄰苯二甲酸二甲酯。此等可塑劑、硬化觸媒、流動賦予劑及針孔控制劑相對於前述電荷輸送物質，使用5質量%以下為佳。
又，分光感度增感劑使用增感染料時，例如三苯基甲烷系染料(例如甲基紫、水晶紫、星空藍(night blue)及維多利亞藍等)、吖啶染料(例如赤蘚紅、羅丹明(rhodamine)B、羅丹明3R、吖啶橙及flapeosine等)、噻嗪染料(例如亞甲基藍及亞甲基綠等)、噁嗪染料(例如卡布里藍(capri blue)及麥爾多藍(Meldola’s blue)等)、花菁染料、部花菁(merocyanine)染料、苯乙烯基染料、吡喃鎓鹽染料及噻喃鎓鹽染料等為佳。
為了提高感度、減少殘留電位、降低反覆使用時之疲勞等為目的，可在感光層添加電子接受性物質。其具體例，較佳為琥珀酸酐、馬來酸酐、二溴馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐、3-硝基鄰苯二甲酸酐、4-硝基鄰苯二甲酸酐、聯苯四酸酐、均苯三酸酐、四氰基乙烯、四氰基醌二甲烷、鄰-二硝基苯、間-二硝基苯、1,3,5-三硝基苯、對-硝基苄腈、氯化間三硝基苯(picryl chloride)、醌氯醯亞胺(quinonechloroimide)、四氯對苯醌(chloranil)、四溴對苯醌(bromanil)、苯醌、2,3-二氯苯醌、二氯二氰對苯醌、萘醌、聯苯醌(diphenoquinone)、環庚二烯三酮(tropoquinone)、蒽醌、1-氯蒽醌、二硝基蒽醌、4-硝 基二苯甲酮、4,4’-二硝基二苯甲酮、4-硝基苯并丙二腈、α-氰基-β-(對-氰苯基)丙烯酸乙酯、9-蒽基甲基丙二腈、1-氰基-(對-硝基苯基)-2-(對-氯苯基)乙烯、2,7-二硝基茀酮、2,4,7-三硝基茀酮、2,4,5,7-四硝基茀酮、9-亞茀基-(二氰亞甲基丙二腈)、聚硝基-9-亞茀基-(二氰亞甲基丙二腈)、苦味酸(picric acid)、鄰-硝基苯甲酸、對-硝基苯甲酸、3,5-二硝基苯甲酸、五氟苯甲酸、5-硝基水楊酸、3,5-二硝基水楊酸、鄰苯二甲酸及均苯三酸等電子親和力大之化合物。此等化合物可添加於電荷產生層及電荷輸送層之任一層中，其調配比例以電荷產生物質或電荷輸送物質之量為100質量份時，為0.01質量份以上200質量份以下，較佳為0.1質量份以上50質量份以下。
又，為了改良表面性，亦可使用四氟化乙烯樹脂、三氟化氯化乙烯樹脂、四氟化乙烯六氟化丙烯樹脂、氟化乙烯基樹脂、偏二氟乙烯樹脂、二氟化二氯化乙烯樹脂及彼等之共聚物、及氟系接枝聚合物等。此等表面改質劑之調配比例係相對於前述黏結劑樹脂為0.1質量%以上60質量%以下，較佳為5質量%以上40質量%以下。此調配比例為0.1質量%以上時，表面耐久性及表面能量降低等之表面改質變得充分，60質量%以下時，不會導致電子照相特性之降低。
前述抗氧化劑例如有受阻酚系抗氧化劑、芳香族胺系抗氧化劑、受阻胺系抗氧化劑、硫(sulfide)系抗氧化劑 及有機磷酸系抗氧化劑等為佳。此等抗氧化劑之調配比例係相對於前述電荷輸送物質，通常為0.01質量%以上10質量%以下，較佳為0.1質量%以上2質量%以下。
此種抗氧化劑之具體例，較佳為日本特開平11-172003號公報之說明書中記載之化學式[化94]~[化101]之化合物。
此等抗氧化劑可單獨使用一種，亦可混合2種以上使用，又，除前述感光層以外，此等亦可添加於表面保護層或底塗層、阻斷層中。
前述電荷產生層及/或前述電荷輸送層形成時所使用之前述溶劑之具體例，例如芳香族系溶劑(例如苯、甲苯、二甲苯及氯苯等)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、及環己酮等)、醇(例如甲醇、乙醇、及異丙醇等)、酯(例如乙酸乙酯及乙基溶纖素等)、鹵化烴(例如四氯化碳、四溴化碳、氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷等)、醚(例如四氫呋喃、二氧雜環戊烷、及二噁烷等)、亞碸(例如、二甲基亞碸等)、及醯胺例如二甲基甲醯胺、二乙基甲醯胺等)等。此等溶劑可單獨使用1種，或者亦可以混合溶劑使用2種以上。
單層型電子照相感光體之感光層，使用前述電荷產生物質、電荷輸送物質及添加劑，且藉由將本實施形態之PC共聚物作為黏結劑樹脂使用，可容易地形成。另外，添加前述之電洞輸送性物質及電子輸送性物質之至少一方作為電荷輸送物質為佳。電子輸送物質較佳為使用日本特 開2005-139339號公報所例示之電子輸送物質。
各層之塗佈可使用習知之裝置等各種塗佈裝置進行，具體而言，可使用例如塗佈器、噴霧塗佈器、棒塗佈器、薄膜式塗佈器(chip coater)、輥塗佈器、浸漬塗佈器及刮刀等進行。
電子照相感光體中之感光層的厚度為5μm以上100μm以下，較佳為8μm以上50μm以下，感光層之厚度為5μm以上時，可防止初期電位降低，感光層之厚度為100μm以下時，可抑制電子照相特性降低。電子照相感光體之製造中所用之電荷產生物質：黏結劑樹脂之比率，以質量比計為1：99~30：70，較佳為3：97~15：85。又，電荷輸送物質：黏結劑樹脂之比率，以質量比計為10：90~80：20，較佳為30：70~70：30。
如此所得之電子照相感光體由於使用本實施形態之PC共聚物，故在製作感光層時，塗佈液不會產生白濁，亦不會凝膠化。另外，由於感光層中具有將本實施形態之PC共聚物作為黏結劑樹脂，故為耐久性(耐磨耗性)優異，同時具有優異之電氣特性(帶電特性)，長期間維持優異之電子照相特性的感光體，適合使用於影印機(單色、多色、全彩；類比、數位)、印表機(雷射、LED、液晶快門)、傳真機、製版機、及具有此等複數種功能之機器等之各種電子照相領域。
又，本實施形態之PC共聚物(共聚合聚碳酸酯樹脂)係因表面物性等也優異，故該PC共聚物用於電子照 相感光體時，可提供清潔特性優異的電子照相感光體。清潔特性高時，可抑制附著於感光體表面之碳粉閃過清潔刀。又，感光體上也不易產生碳粉附著(filming)。
清潔特性可使用光學顯微鏡觀察附著於感光體表面之碳粉來確認。
在此，關於電子照相感光體之清潔特性之本實施形態之PC共聚物的構成要素，例如有PPE(聚苯醚)骨架。PPE骨架包含於PC共聚物中，可展現良好的清潔特性。
又，使用本實施形態之電子照相感光體時，帶電係使用電暈放電(電暈管(corotron)、電暈梳(scorotron))、接觸帶電(帶電輥、帶電刷)等。帶電輥列舉為DC帶電方式或重疊AC電壓之AC/DC重疊帶電方式。另外，曝光亦可採用鹵素燈或螢光燈、雷射(半導體、He-Ne)、LED、感光體內部曝光方式之任一種。顯像係使用串聯顯像、二成分磁刷顯像、單成分絕緣碳粉顯像、單成分導電碳粉顯像等之乾式顯像方式或濕式顯像方式。轉印係使用例如靜電轉印法(例如電暈轉印、輥轉印、及色帶轉印等)、壓力轉印法及黏著轉印法等。定影係使用例如熱輥定影、輻射快速(radiant flash)定影、開放式定影及壓力定影等。另外，清潔及除電係使用毛刷清潔機、磁刷清潔機、帶電刷清潔機、磁輥清潔機及刮刀清潔機等。另外，亦可採用無清潔機方式。又，碳粉用之樹脂可使用苯乙烯系樹脂、苯乙烯-丙烯酸系共聚合樹脂、聚酯、環氧樹脂、及環狀烴之聚合物等。碳粉之形狀可為球形亦可為不 定形。亦可使用控制成一定形狀(例如旋轉橢圓體狀及馬鈴薯狀)之碳粉。碳粉可為粉碎型、懸浮聚合碳粉、乳化聚合碳粉、化學造粒碳粉、或酯伸長碳粉之任一種。
[電氣機器之構成]
本實施形態之電氣機器具有本實施形態之電子照相感光體(例如使用本實施形態之電子照相感光體的感光體滾筒等)。這種電氣機器例如有複印機、及雷射印表機等之印表機等。
本實施形態之電氣機器係因具有耐摩耗性優異之本實施形態之電子照相感光體，因此，感光體滾筒等之交換頻率減少，有成本上之極大的優點。
[實施形態之變形]
本發明不限於上述實施形態，可達成本發明之目的之範圍內之變更、改良等也包含於本發明中。
例如可為具有作為前述一般式(2)表示之重複單位之下述一般式(18)表示之重複單位D及下述一般式(20)表示之重複單位E的聚碳酸酯共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0053-25
前述一般式(18)中，Ar3係以下述一般式(19)表示之基。
Figure 104115773-A0305-02-0054-26
前述一般式(19)中，R15及R16各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基。
X3為-CR17R18-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基。
R17及R18各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基。
u及v各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R15取代時(u≧2)，R15彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R16取代時，(v≧2)、R16彼此相同或相異)。
Figure 104115773-A0305-02-0054-27
前述一般式(20)中，Ar4係以下述一般式(21)表示之基。但是Ar4係與Ar3不同的骨架。
Figure 104115773-A0305-02-0054-28
前述一般式(21)中，R19及R20各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之 烷氧基。
X4為單鍵、或-O-。
w及y各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R19取代時(w≧2)，R19彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R20取代時(y≧2)，R20彼此相同或相異。z為0或1。
此時，前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位D之莫耳數為MD、前述重複單位E之莫耳數為ME、前述重複單位A、D、及E合計之重複單位之莫耳數(MA+MD+ME)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MD+ME)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
又，前述重複單位D之莫耳百分比：{MD/(MA+MD+ME)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位E之莫耳百分比：{ME/(MA+MD+ME)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
又，此時，PC共聚物中之前述重複單位A之重量%，較佳為3重量%以上60重量%以下、更佳為4重量%以上40重量%以下、又更佳為5重量%以上30重量%以下、再更佳為5%重量以上20重量%以下。
重複單位A之重量%為60重量%以下時，可平衡良好得到由重複單位A造成之效果與由重複單位D與重複單位E造成之效果。因此，除了電氣強度也有適度的溶解性，溶解於有機溶劑時，聚合物溶液不會有白濁的不理想 情形。重複單位A之重量%為3重量%以上時，可充分得到重複單位A之耐摩耗性及電氣強度的效果，PC共聚物中，耐久性充分。
如上述所得之PC共聚物係由前述一般式(1)表示之重複單位A、前述一般式(18)表示之重複單位D、及前述一般式(20)表示之重複單位E所構成之共聚物，在不阻礙本發明之目的之範圍內，也可含有具有重複單位A、重複單位D及重複單位E以外之結構單位的聚碳酸酯單位、具有聚酯結構之單位及具有聚醚結構之單位等。
實施例
接著，以實施例及比較例更詳細說明本發明，但本發明並不受限於此等實施例，在不脫離本發明思想之範圍內可進行各種之變形及應用。
[製造例：寡聚物之調製]
<製造例1：BisZ寡聚物(雙氯甲酸酯)之合成>
將1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷(雙酚Z)56.6kg(224莫耳)在二氯甲烷1080L中懸浮，於其中添加光氣(Phosgene)66.0kg(667莫耳)使溶解。在2.2℃~17.8℃下以2小時50分鐘內將使三乙胺44.0kg(435莫耳)溶解於二氯甲烷120L中的液體滴加於其中。在17.9℃~19.6℃下攪拌30分鐘後，以14℃~20℃餾除二氯甲烷 900L。於殘留液中添加純水210L、濃鹽酸1.2kg及亞硫酸氫鹽450g進行洗淨。然後，以純水210L重複洗淨5次，得到分子末端具有氯甲酸酯基之雙酚Z寡聚物之二氯甲烷溶液。
所得之溶液之氯甲酸酯濃度為1.14莫耳/L，固體成分濃度為0.22kg/L，平均單體數為1.02。以下，製造例1所得之原料稱為Z-CF。
又，平均單體數(n11)係使用下數式求得。
平均單體數(n11)=1+(Mav-M1)/M2‧‧‧(數1)(式(數1)中，Mav為(2×1000/(CF價))，M2為(M1-98.92)，M1為前述一般式(100)中，n11=1時之雙氯甲酸酯化合物之分子量，CF價(N/kg)為(CF值/濃度)，CF值(N)為反應溶液1L中所含之前述一般式(100)表示之雙氯甲酸酯化合物中之氯原子數，濃度(kg/L)係將反應溶液1L濃縮所得之固體成分的量。在此，98.92係雙氯甲酸酯化合物彼此之聚縮合進行脫離之2個氯原子、1個氧原子及1個碳原子之合計的原子量)。
<製造例2：雙酚B寡聚物(雙氯甲酸酯)之合成>
在14℃~18.5℃下以2小時50分鐘內將三乙胺200.8g(1.98mol)以二氯甲烷460ml稀釋而成的溶液滴加於2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷(雙酚B)210g(0.867mol)、二氯甲烷1058ml及光氣183g(1.85mol) 的混合液中。反應混合物在18.5℃~19℃下攪拌1小時後，以10℃~22℃餾除二氯甲烷600ml。於反應混合物中添加濃鹽酸15.0ml、純水150ml及硫酸氫鹽0.100g進行洗淨。然後，重複水洗直至水層成為中性，得到分子末端具有氯甲酸酯基之雙酚B寡聚物之二氯甲烷溶液。
所得之溶液的氯甲酸酯濃度為1.16莫耳/L，固體成分濃度為0.24kg/L，平均單體數為1.08。以下，製造例2所得之原料稱為B-CF。
<製造例3：雙酚C寡聚物(雙氯甲酸酯)之合成>
在13℃~16℃下以3小時6分鐘內將三乙胺199.4g(1.97mol)以二氯甲烷460ml稀釋之溶液滴加於2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷(雙酚C)152g(0.595mol)、二氯甲烷1020ml、光氣187g(1.89mol)之混合液中。反應混合物在14℃~16℃下攪拌1小時38分鐘。反應混合物中添加濃鹽酸5.0ml與純水200ml進行洗淨。然後重複水洗直至水層成為中性，得到分子末端具有氯甲酸酯基之雙酚C寡聚物之二氯甲烷溶液。
所得之溶液的氯甲酸酯濃度為1.04莫耳/L，固體成分濃度為0.23kg/L，平均單體數為1.05。以下，製造例3所得之原料稱為C-CF。
<製造例4：[雙酚CZ寡聚物(雙氯甲酸酯)之合成>
在13℃~16℃下以3小時6分鐘內將三乙胺199.4g (1.97mol)以二氯甲烷460ml稀釋之溶液滴加於1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)環己烷(雙酚CZ)243g(0.821mol)、二氯甲烷1058mL、及光氣187g(1.89mol)之混合液中。反應混合物在14℃~16℃下攪拌1小時38分鐘。反應混合物中添加濃鹽酸5.0ml與純水200ml進行洗淨。然後重複水洗直至水層成為中性，得到分子末端具有氯甲酸酯基之雙酚CZ寡聚物之二氯甲烷溶液。
所得之溶液的氯甲酸酯濃度為1.10莫耳/L，固體成分濃度為0.24kg/L，平均單體數為1.01。以下，製造例4所得之原料稱為CZ-CF。
<製造例5：DHPE寡聚物(雙氯甲酸酯)之合成>
將4,4-二羥基二苯基醚(DHPE)45.2kg(224莫耳)在二氯甲烷1080L懸浮，於其中添加光氣66.0kg(667莫耳)使溶解。在2.2℃~17.8℃下以2小時50分鐘內將三乙胺44.0kg(435莫耳)溶解於二氯甲烷120L中的液體滴加於其中。在17.9℃~19.6℃下攪拌30分鐘後，以14℃~20℃餾除二氯甲烷900L。於殘留液中添加純水210L、濃鹽酸1.2kg及亞硫酸氫鹽450g進行洗淨。然後，以純水210L重複洗淨5次，得到分子末端具有氯甲酸酯基之雙酚DHPE寡聚物之二氯甲烷溶液。
所得之溶液之氯甲酸酯濃度為1.14莫耳/L，固體成分濃度為0.19kg/L，平均單體數為1.03。以下，製造例5 所得之原料稱為DHPE-CF。
[實施例1]
(PC共聚物之製造)
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例1所得之Z-CF(160mL)與二氯甲烷(324mL)。於其中添加前述一般式(12)表示之聚苯醚(2.28g)、及作為末端封閉劑之p-tert-丁基酚(以下以PTBP表示)(0.235g)，使充分混合進行攪拌。將反應器內之溫度冷卻至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之4,4’-聯苯二酚溶液(4,4’-聯苯二酚溶液調製法：調製1.5N之氫氧化鈉水溶液160mL(氫氧化鈉10.3g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.25g，再添加4,4’-聯苯二酚15.1g，使完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液1.5mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
以二氯甲烷0.2L及水0.1L稀釋所得之反應混合物，進行洗淨。分離下層，再依序以水0.1L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.1L洗淨1次、以水0.1L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得之二氯甲烷溶液在攪拌下滴加投入甲醇中，所得之再沉澱物，藉由過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-1)。
(PC共聚物之特定)
將如此所得之PC共聚物(PC-1)溶解於二氯甲烷中，調製濃度0.5g/dL之溶液，測量20℃下之比濃黏度[ηsp/C]，測得1.23dL/g。又，所得之PC共聚物(PC-1)之結構及組成藉由1H-NMR光譜及13C-NMR光譜分析，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
又，比濃黏度之測量係使用離合公司製、自動黏度測量裝置VMR-042，以自動黏度用Ubbelohde改良型黏度計(RM型)測量。
Figure 104115773-A0305-02-0061-29
Figure 104115773-A0305-02-0061-37
,
Figure 104115773-A0305-02-0061-38
,
Figure 104115773-A0305-02-0061-39
a=1.3
b=56.6
c=42.2
又，PC共聚物(PC-1)中之重複單位A之重量%為5.4重量%。
前述一般式(PC-1)之結構係如以下步驟確認。首先，使用1H-NMR光譜，進行歸納解析，由積分強度算出各重複單位之莫耳共聚合比a、b、c。
(塗佈液及電子照相感光體之製造)
使用蒸鍍有鋁金屬之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(PET)作為導電性基體，於其表面依序層合電荷產生層 與電荷輸送層，製造形成有層合型感光層的電子照相感光體。
使用作為電荷產生物質之含氧鈦酞菁0.5g，使用作為黏結劑樹脂之縮丁醛樹脂0.5g。將此等添加於溶劑的二氯甲烷19g中，以球磨機分散，藉由棒塗佈器將此分散液塗佈於前述導電性基體膜表面上，經乾燥，形成膜厚約0.5μm之電荷產生層。
接著，將作為電荷輸送物質之下述式(23)之化合物(CTM-1)0.5g、及前述實施例所得之PC共聚物(PC-1)0.5g分散於10mL之四氫呋喃中，調製塗佈液。以塗佈器將此塗佈液塗佈於前述電荷產生層上，經乾燥，形成膜厚約20μm之電荷輸送層。
Figure 104115773-A0305-02-0062-31
(PC共聚物及電子照相感光體之評價)
PC共聚物之溶解性係在調製前述塗佈液時，以目視觀察所調製之塗佈液之白濁度進行評價。PC共聚物溶解且未見到白濁時，以「溶解」表示，有不溶解部分時，以「不溶」表示，有白濁時，以「白濁」表示。
又，如下述(下述[製作1]、[製作2]、及[評價3-1])實施PC共聚物、及電子照相感光體之耐摩耗性之評價。同時，如下述(下述[製作1]、[製作2]、及[評價3-2])實施PC共聚物、及電子照相感光體之成為電氣強度 之指標的耐電漿性之評價。
[製作1]共聚物之評價樣品製作
將PC共聚物(PC-1)(2g)溶解於二氯甲烷(12mL)中，使用塗佈器在市售之PET薄膜上進行鑄膜製膜。此薄膜在減壓下加熱除去溶劑，得到厚度約30μm之薄膜樣品。
[製作2]感光體之評價樣品製作
PC共聚物(PC-1)(1g)、及上述CTM-1(0.67g)溶解於二氯甲烷(10mL)中，使用塗佈器在市售之PET薄膜上進行鑄膜製膜。此薄膜在減壓下加熱除去溶劑，得到厚度約30μm之薄膜樣品。
[評價]
[評價3-1]耐摩耗性之評價
使用TABER磨耗試驗機(東洋精機製作所公司製)評價前述[製作1]及[製作2]製作之薄膜之鑄膜面之耐摩耗性。試驗條件為使施加有500g之荷重之磨耗輪(型號：CS-10)接觸薄膜表面，[製作1]之情況為1,000轉後，[製作2]之情況為500轉後，測定質量減少量。
[評價3-2]耐電漿性之評價
針對前述[製作1]及[製作2]製作之鑄膜樣品，使用電 暈表面處理機AGI-020S(春日電氣公司製)處理表面後，測定水之接觸角。求出放電處理前與處理後之接觸角之差作為變化量△，作為耐電漿性之評價指標。試驗條件係放電量為58W.min/m2下實施。
[評價3-3]電子照相感光體之帶電特性評價
接著，針對前述製造之電子照相感光體，使用靜電帶電試驗裝置EPA-8100(川口電機製作所公司製)測定電子照相特性。進行靜電模式-6kV之電暈放電，測定初期表面電位(V0)、光照射(10Lux)5秒後之殘留電位(初期殘留電位(VR))及半衰曝光量(E1/2)。又，將市售之印表機(FS-600，KYOCERA製)改裝成可測定感光體之表面電位，將前述感光體安裝成滾筒狀且可評價，在高溫及高濕條件下(35℃、85%)，在未使碳粉及紙通過之條件下進行重複運轉24小時前後之帶電特性(重複殘留電位(VR))之評價。
[評價3-4]電子照相感光體之清潔特性評價
由市售之FS-600取出使用滾筒(drum)，以溶劑除去感光層後，所得之鋁素管(成形前的鋁管)中，將作為電荷產生物質(CGM)之Y型鈦酞菁顏料以使用二氧化鋯珠粒之球磨機分散調製塗液(黏結劑樹脂：聚乙烯基縮丁醛、CGM：樹脂=3：2之比率，使固體成分濃度成為4重量%，溶解及分散於THF中來調製)，將所得之塗液以 浸漬進行塗佈。
將所得之滾筒在減壓條件、70℃乾燥30分鐘後，以浸漬塗佈作為電荷輸送層之塗液(PC共聚物(PC-1)60g、作為電荷輸送物質(CTM)之茋系化合物(23)40g溶解於THF500g的溶液)，將所得之滾筒在減壓條件、110℃下乾燥2小時，得到層合型電子照相感光體。將所得之滾筒再設置在FS600上。
在室溫條件下(25℃)重複印2000張後，以光學顯微鏡觀察運轉前後之感光體表面之碳粉附著的程度，以下述基準評價。
[評價基準]
A：感光體表面之附著碳粉極少
B：感光體表面之附著碳粉少
C：感光體表面之附著碳粉稍微多
D：感光體表面之附著碳粉非常多(不良)
此等之評價結果如表1所示。後述之實施例2~7及比較例1，也使用各實施例所得之PC共聚物取代PC共聚物(PC-1)，製作共聚物及感光體之評價樣品，進行與[評價3-1]~[評價3-3]同樣之評價。該等之結果如表1所示。又，比較例1係使用PC共聚物(PC-8)取代PC共聚物(PC-1)，進行與[評價3-4]同樣之評價。
[實施例2]
實施例1中，除了將前述一般式(12)表示之聚苯醚的量變更為7.04g外，與實施例1同樣的操作得到由下述結構所構成之PC共聚物(PC-2)。
PC共聚物(PC-2)之比濃黏度[ηsp/C]為1.17dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0066-32
Figure 104115773-A0305-02-0066-34
,
Figure 104115773-A0305-02-0066-35
,
Figure 104115773-A0305-02-0066-36
a=4.0
b=55.6
c=40.4
又，PC共聚物(PC-2)中之重複單位A之重量%為15.3重量%。
[實施例3]
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例4所得之原料CZ-CF(152mL)及二氯甲烷(340mL)。於其中添加前述一般式(12)表示之聚苯醚(2.28g)及作為末端封閉劑之對-第三丁基酚(PTBP)(0.235g)，以充分混合進行攪拌。反應器內之溫度冷卻至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之4,4’-聯苯二酚溶液(4,4’-聯苯二酚溶液調製法：調製1.5N之氫氧化鈉 水溶液160mL(氫氧化鈉10.3g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.25g，再添加4,4’-聯苯二酚15.1g，完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液1.5mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
將所得反應混合物以二氯甲烷0.2L及水0.1L稀釋後，進行洗淨。分離下層，再依序以水0.1L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.1L洗淨1次、以水0.1L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得二氯甲烷溶液攪拌下滴加投入於甲醇中，將所得再沉澱物過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-3)。
PC共聚物(PC-3)之比濃黏度[ηsp/C]為1.15dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0067-40
Figure 104115773-A0305-02-0067-41
,
Figure 104115773-A0305-02-0067-42
,
Figure 104115773-A0305-02-0067-43
a=1.4
b=57.6
c=41.0
又，PC共聚物(PC-3)中之重複單位A之重量%為5.5重量%。
[實施例4]
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例3所得之原料C-CF(160mL)及二氯甲烷(324mL)。於其中添加前述一般式(12)表示之聚苯醚(2.28g)及作為末端封閉劑之PTBP(0.245g)，以充分混合進行攪拌。反應器內之溫度冷卻至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之4,4’-雙酚溶液(4,4’-雙酚溶液調製法：調製1.5N之氫氧化鈉水溶液160mL(氫氧化鈉10.3g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.25g，再添加4,4’-雙酚15.1g，完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液1.5mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
將所得反應混合物以二氯甲烷0.2L及水0.1L稀釋後，進行洗淨。分離下層，再依序以水0.1L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.1L洗淨1次、以水0.1L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得二氯甲烷溶液攪拌下滴加投入於甲醇中，將所得再沉澱物過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-4)。
PC共聚物(PC-4)之比濃黏度[ηsp/C]為1.18dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0068-44
Figure 104115773-A0305-02-0068-45
,
Figure 104115773-A0305-02-0068-46
,
Figure 104115773-A0305-02-0068-94
a=4.2
b=55.5
c=40.3
又，PC共聚物(PC-4)中之重複單位A之重量%為16.3重量%。
[實施例5]
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例2所得之原料B-CF(144mL)及二氯甲烷(324mL)。於其中添加前述一般式(12)表示之聚苯醚(4.76g)及作為末端封閉劑之PTBP(0.238g)，以充分混合進行攪拌。反應器內之溫度冷卻至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之雙(4-羥基苯基)醚溶液(雙(4-羥基苯基)醚溶液調製法：調製1.5N之氫氧化鈉水溶液160mL(氫氧化鈉10.3g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.25g，再添加雙(4-羥基苯基)醚16.0g，完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液1.5mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
將所得反應混合物以二氯甲烷0.2L及水0.1L稀釋後，進行洗淨。分離下層，再依序以水0.1L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.1L洗淨1次、以水0.1L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得二氯甲烷溶液攪拌下滴加投入於甲醇中，將所得再沉澱物過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-5)。
PC共聚物(PC-5)之比濃黏度[ηsp/C]為1.15dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0070-48
Figure 104115773-A0305-02-0070-49
,
Figure 104115773-A0305-02-0070-50
,
Figure 104115773-A0305-02-0070-51
a=4.3
b=55.6
c=40.1
又，PC共聚物(PC-5)中之重複單位A之重量%為16.7重量%。
[實施例6]
實施例1中，除了將前述一般式(12)表示之聚苯醚之量變更為22.20g，將4,4’-聯苯二酚之量變更為11.70g外，與實施例1同樣之操作，得到由下述結構所構成之PC共聚物(PC-6)。
PC共聚物(PC-6)之比濃黏度[ηsp/C]為1.16dL/g，構造係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0071-52
Figure 104115773-A0305-02-0071-53
,
Figure 104115773-A0305-02-0071-57
,
Figure 104115773-A0305-02-0071-55
a=10.2
b=54.4
c=35.4
又，PC共聚物(PC-6)中之重複單位A之重量%為32.8重量%。
[實施例7]
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例2之B-CF(59.6mL)、製造例5之DHPE-CF(143.7mL)及二氯甲烷(400mL)。於其中添加前述一般式(12)表示之聚苯醚(4.76g)及作為末端封閉劑之PTBP(0.189g)，以充分混合進行攪拌。反應器內之溫度冷卻至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之4,4-二羥基二苯基醚溶液(4,4-二羥基二苯基醚溶液調製法：調製2.0N之氫氧化鉀水溶液200mL(氫氧化鉀26.6g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.1g，再添加4,4-二羥基二苯基醚24.25g，完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液2.0mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
將所得反應混合物以二氯甲烷0.3L稀釋後，進行洗 淨。分離下層，再依序以水0.2L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.2L洗淨1次、以水0.2L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得二氯甲烷溶液在攪拌下滴加投入於甲醇中，將所得再沉澱物過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-7)。
PC共聚物(PC-7)之比濃黏度[ηsp/C]為1.21dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0072-58
Figure 104115773-A0305-02-0072-59
,
Figure 104115773-A0305-02-0072-60
,
Figure 104115773-A0305-02-0072-61
a=4.3
b=27.6
c=68.1
又，PC共聚物(PC-7)中之重複單位A之重量%為17.4重量%。
[比較例1]
於裝設有機械攪拌器、攪拌葉片及擋板之反應容器中注入製造例1所得之原料Z-CF(160mL)與二氯甲烷(324mL)。於其中添加作為末端封閉劑之PTBP(0.235g)，以充分混合進行攪拌。反應器內之溫度冷卻 至15℃後，於此溶液中全量添加所調製之4,4’-聯苯二酚溶液(4,4’-聯苯二酚溶液調製法：調製2.0N之氫氧化鉀水溶液162mL(氫氧化鉀10.3g)，冷卻至室溫以下後，添加作為抗氧化劑之亞硫酸氫鹽0.25g、4,4’-聯苯二酚15.80g，完全溶解所調製者)，邊攪拌邊添加三乙胺水溶液2.0mL(7vol%)，繼續攪拌1小時。
將所得反應混合物以二氯甲烷0.2L、及水0.1L稀釋後，進行洗淨。分離下層，再依序以水0.1L洗淨1次、以0.03N鹽酸0.1L洗淨1次、以水0.1L洗淨3次之順序進行洗淨。將所得二氯甲烷溶液在攪拌下滴加投入於甲醇中，將所得再沉澱物過濾及乾燥，得到下述結構之PC共聚物(PC-8)。
PC共聚物(PC-8)之比濃黏度[ηsp/C]為1.17dL/g，結構係在NMR中，確認由下述重複單位及組成所構成之PC共聚物。
Figure 104115773-A0305-02-0073-62
Figure 104115773-A0305-02-0073-63
,
Figure 104115773-A0305-02-0073-64
,
Figure 104115773-A0305-02-0073-65
a=59.9
b=40.1
Figure 104115773-A0305-02-0074-66
[評價結果]
表1表示由實施例1~7及比較例1之評價結果。由實施例1~7與比較例1進行比較時，確認實施例1~7之PC共聚物顯示良好的耐摩耗性，放電處理所致之接觸角變化量△小，不易引起帶電劣化。
由實施例1~5，7之PC共聚物係重複單位A之莫耳百分比為1莫耳%以上7莫耳%以下，確認顯示更良好的耐摩耗性。
特別是實施例1~5之PC共聚物係滿足重複單位A之莫耳百分比為1莫耳%以上7莫耳%以下、重複單位B之莫耳百分比為50莫耳%以上69莫耳%以下、重複單位C之莫耳百分比為30莫耳%以上49莫耳%以下之關係，確認顯示極良好的耐摩耗性。
又，由實施例1~7之電子照相感光體也顯示良好的耐 摩耗性，放電處理所致之接觸角變化量△小，確認不易發生帶電劣化。
此外，上述[評價3-4]之清潔特性之評價中，使用實施例1之PC共聚物的電子照相感光體之評價結果為A，顯示良好的清潔特性。
然而，比較例1之共聚物之耐摩耗性雖良好，但是放電處理所致之接觸角變化量△大，確認容易帶電劣化，且電氣強度不足。
又，比較例1之電子照相感光體之耐摩耗性雖良好，但是放電處理所致之接觸角變化量△大，確認容易帶電劣化。又，清潔特性之評價結果為C，且確認感光體表面之碳粉附著稍微多。

Claims (41)

  1. 一種聚碳酸酯共聚物，其特徵係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A、以下述一般式(4)表示之重複單位B及以下述一般式(6)表示之重複單位C，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0076-67
     (前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~40之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時(L≧2)，R1彼此相同或相異)
    Figure 104115773-A0305-02-0076-68
     [前述一般式(4)中，Ar1為以下述一般式(5)表示之基，
    Figure 104115773-A0305-02-0076-69
     (前述一般式(5)中，R2及R3各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X1為-CR4R5-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基，R4及R5各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基，但是R4及R5無同時為氫原子的情形， q及r各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R2取代時(q≧2)、R2彼此相同或相異、芳香環上有2個以上的R3取代時(r≧2)，R3彼此相同或相異)]
    Figure 104115773-A0305-02-0077-70
     [前述一般式(6)中，Ar2為下述一般式(7)表示之基，但是Ar2係與Ar1不同的骨架，
    Figure 104115773-A0305-02-0077-71
     (前述一般式(7)中，R6及R7各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X2為單鍵、-O-、-CO-、或-CR8R9-，R8及R9各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基)]。
  2. 如申請專利範圍第1項之聚碳酸酯共聚物，其中前述一般式(1)中之平均重複數n為6~15之數。
  3. 如申請專利範圍第1項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位B之莫耳數為MB、前述重複單位C之莫耳數為MC、前述重複單位A、B、及C合計之重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MB+MC)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  4. 如申請專利範圍第2項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位B之莫耳數為MB、前述重複單位C之莫耳數為MC、前述重複單位A、B、及C合計的重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MB+MC)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  5. 如申請專利範圍第3項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位B之莫耳百分比：{MB/(MA+MB+MC)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位C之莫耳百分比：{MC/(MA+MB+MC)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  6. 如申請專利範圍第4項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位B之莫耳百分比：{MB/(MA+MB+MC)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位C之莫耳百分比：{MC/(MA+MB+MC)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  7. 如申請專利範圍第3項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之重量%以前述聚碳酸酯共聚物全量基準為3重量%以上60重量%以下。
  8. 如申請專利範圍第4項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之重量%以前述聚碳酸酯共聚物全量基準為3重量%以上60重量%以下。
  9. 如申請專利範圍第5項之聚碳酸酯共聚物，其中 前述重複單位A之重量%以前述聚碳酸酯共聚物全量基準為3重量%以上60重量%以下。
  10. 如申請專利範圍第6項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之重量%以前述聚碳酸酯共聚物全量基準為3重量%以上60重量%以下。
  11. 如申請專利範圍第1項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位B之莫耳數為MB、前述重複單位C之莫耳數為MC、前述重複單位A、B、及C合計之重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MB+MC)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下，前述重複單位B之莫耳百分比：{MB/(MA+MB+MC)}×100為50莫耳%以上69莫耳%以下，前述重複單位C之莫耳百分比：{MC/(MA+MB+MC)}×100為30莫耳%以上49莫耳%以下。
  12. 如申請專利範圍第2項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位B之莫耳數為MB、前述重複單位C之莫耳數為MC、前述重複單位A、B、及C合計之重複單位之莫耳數(MA+MB+MC)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MB+MC)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下，前述重複單位B之莫耳百分比：{MB/(MA+MB+MC) }×100為50莫耳%以上69莫耳%以下，前述重複單位C之莫耳百分比：{MC/(MA+MB+MC)}×100為30莫耳%以上49莫耳%以下。
  13. 一種聚碳酸酯共聚物，其特徵係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A、以下述一般式(18)表示之重複單位D及以下述一般式(20)表示之重複單位E，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0080-72
     (前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~40之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時(L≧2)，R1彼此相同或相異)
    Figure 104115773-A0305-02-0080-73
     [前述一般式(18)中，Ar3係以下述一般式(19)表示之基，
    Figure 104115773-A0305-02-0080-74
     (前述一般式(19)中，R15及R16各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X3為-CR17R18-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷 基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基，R17及R18各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基，但是R17及R18無同時為氫原子的情形，u及v各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R15取代時(u≧2)，R15彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R16取代時(v≧2)，R16彼此相同或相異)]
    Figure 104115773-A0305-02-0081-75
     [前述一般式(20)中，Ar4係以下述一般式(21)表示之基，但是Ar4係與Ar3不同的骨架，
    Figure 104115773-A0305-02-0081-76
     (前述一般式(21)中，R19及R20各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X4為單鍵、或-O-，w及y各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R19取代時(w≧2)，R19彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R20取代時(y≧2)，R20彼此相同或相異，z為0或1)]。
  14. 如申請專利範圍第13項之聚碳酸酯共聚物，其中於前述一般式(21)中，z為1。
  15. 一種聚碳酸酯共聚物，其特徵係具有以下述一般式(1)表示之重複單位A、以下述一般式(18)表示之重複單位D及以下述一般式(20)表示之重複單位E，且鏈末端被一價之芳香族基或一價之含氟之脂肪族基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0082-77
     (前述一般式(1)中，R1為氫原子或碳數1~2之烷基，平均重複數n為6~15之數，L為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R1取代時(L≧2)，R1彼此相同或相異)
    Figure 104115773-A0305-02-0082-78
     [前述一般式(18)中，Ar3係以下述一般式(19)表示之基，
    Figure 104115773-A0305-02-0082-79
     (前述一般式(19)中，R15及R16各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X3為-CR17R18-、取代或無取代之碳數5~10之環亞烷基、或取代或無取代之碳數6~13之伸芳基，R17及R18各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之全氟烷基、或取代或無取代之碳數6~12之芳基，但是R17及R18無同時為氫原子的情形， u及v各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R15取代時(u≧2)，R15彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R16取代時(v≧2)，R16彼此相同或相異)]
    Figure 104115773-A0305-02-0083-80
     [前述一般式(20)中，Ar4係以下述一般式(21)表示之基，但是Ar4係與Ar3不同的骨架，
    Figure 104115773-A0305-02-0083-81
     (前述一般式(21)中，R19及R20各自獨立為氫原子、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟烷基、或碳數1~3之烷氧基，X4為單鍵、或-O-，w及y各自獨立為1~4之整數，芳香環上有2個以上的R19取代時(w≧2)，R19彼此相同或相異，芳香環上有2個以上的R20取代時(y≧2)，R20彼此相同或相異，z為0或1)]。
  16. 如申請專利範圍第15項之聚碳酸酯共聚物，其中於前述一般式(21)中，z為1。
  17. 如申請專利範圍第13項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位D之莫耳數為MD、前述重複單位E之莫耳數為ME、前述重複單位A、D、及E合計之重複單位之莫耳數(MA+MD+ME) 之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MD+ME)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  18. 如申請專利範圍第14項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位D之莫耳數為MD、前述重複單位E之莫耳數為ME、前述重複單位A、D、及E合計之重複單位之莫耳數(MA+MD+ME)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MD+ME)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  19. 如申請專利範圍第15項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位D之莫耳數為MD、前述重複單位E之莫耳數為ME、前述重複單位A、D、及E合計之重複單位之莫耳數(MA+MD+ME)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MD+ME)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  20. 如申請專利範圍第16項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位A之莫耳數為MA、前述重複單位D之莫耳數為MD、前述重複單位E之莫耳數為ME、前述重複單位A、D、及E合計之重複單位之莫耳數(MA+MD+ME)之莫耳百分比為100莫耳%時，前述重複單位A之莫耳百分比：{MA/(MA+MD+ME)}×100為1莫耳%以上7莫耳%以下。
  21. 如申請專利範圍第17項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位D之莫耳百分比：{MD/(MA+MD+ME)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位E之莫耳百分比：{ME/(MA+MD+ME)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  22. 如申請專利範圍第18項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位D之莫耳百分比：{MD/(MA+MD+ME)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位E之莫耳百分比：{ME/(MA+MD+ME)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  23. 如申請專利範圍第19項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位D之莫耳百分比：{MD/(MA+MD+ME)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位E之莫耳百分比：{ME/(MA+MD+ME)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  24. 如申請專利範圍第20項之聚碳酸酯共聚物，其中前述重複單位D之莫耳百分比：{MD/(MA+MD+ME)}×100為15莫耳%以上89莫耳%以下，前述重複單位E之莫耳百分比：{ME/(MA+MD+ME)}×100為10莫耳%以上80莫耳%以下。
  25. 如申請專利範圍第1項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基或下述一般式(10)表示之含氟之醇所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0086-82
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]
    Figure 104115773-A0305-02-0086-83
     [前述一般式(10)中，Rf表示碳數為5以上、且氟原子數為11以上的全氟烷基、或下述一般式(11)表示之全氟烷氧基，
    Figure 104115773-A0305-02-0086-84
     (前述一般式(11)中，Rf2為碳數1~6之直鏈或分支之全氟烷基，m為1~3之整數)]。
  26. 如申請專利範圍第13項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基或下述一般式(10)表示之含氟之醇所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0086-85
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]
    Figure 104115773-A0305-02-0086-86
     [前述一般式(10)中，Rf表示碳數為5以上、且氟原子數為11以上的全氟烷基、或下述一般式(11)表示之全氟烷氧基，
    Figure 104115773-A0305-02-0087-87
     (前述一般式(11)中，Rf2為碳數1~6之直鏈或分支之全氟烷基，m為1~3之整數)]。
  27. 如申請專利範圍第15項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基或下述一般式(10)表示之含氟之醇所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0087-88
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]
    Figure 104115773-A0305-02-0087-89
     [前述一般式(10)中，Rf表示碳數為5以上、且氟原子數為11以上的全氟烷基、或下述一般式(11)表示之全氟烷氧基，
    Figure 104115773-A0305-02-0087-90
     (前述一般式(11)中，Rf2為碳數1~6之直鏈或分支之全氟烷基，m為1~3之整數)]。
  28. 如申請專利範圍第1項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0087-91
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]。
  29. 如申請專利範圍第13項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0088-92
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]。
  30. 如申請專利範圍第15項之聚碳酸酯共聚物，其中前述鏈末端係被由下述一般式(9)表示之酚所衍生之一價基封閉，
    Figure 104115773-A0305-02-0088-93
     [前述一般式(9)中，R10表示碳數1~10之烷基、或碳數1~10之氟烷基，p為1~3之整數]。
  31. 如申請專利範圍第1~30項中任一項之聚碳酸酯共聚物，其中前述聚碳酸酯共聚物之比濃黏度[ηsp/C]為0.60dL/g以上4.0dL/g以下。
  32. 一種塗佈液，其特徵係含有如申請專利範圍第1~30項中任一項之聚碳酸酯共聚物及有機溶劑。
  33. 一種塗佈液，其特徵係含有如申請專利範圍第31項之聚碳酸酯共聚物及有機溶劑。
  34. 一種電子照相感光體，其特徵係含有如申請專利範圍第1~30項中任一項之聚碳酸酯共聚物。
  35. 一種電子照相感光體，其特徵係含有如申請專利範圍第31項之聚碳酸酯共聚物。
  36. 一種電子照相感光體，其係含有基板與被設置於前述基板上的感光層，前述感光層含有如申請專利範圍第1~30項中任一項之聚碳酸酯共聚物。
  37. 一種電子照相感光體，其係含有基板與被設置於前述基板上的感光層，前述感光層含有如申請專利範圍第31項之聚碳酸酯共聚物。
  38. 一種電氣機器，其特徵係具有如申請專利範圍第34項之電子照相感光體。
  39. 一種電氣機器，其特徵係具有如申請專利範圍第35項之電子照相感光體。
  40. 一種電氣機器，其特徵係具有如申請專利範圍第36項之電子照相感光體。
  41. 一種電氣機器，其特徵係具有如申請專利範圍第37項之電子照相感光體。
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