TWI699513B - 檢測治具及檢測系統 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種檢測治具,包括:光源模塊,包括至少一個發光源,所述發光源用於發射光源光;收容結構,與所述光源模塊連接,設置於所述光源光之出射路徑上,用於收容待檢測物件,所述待檢測物件收容於所述收容結構時,所述光源光從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射;及光源面積調節結構,與所述收容結構連接,設置於所述收容結構遠離所述光源模塊一側,用於根據所述待檢測物件之尺寸調節從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射之所述光源光之面積,根據所述光源光可獲取所述待檢測物件之光學數據。本發明還提供一種檢測系統。
Description
本發明涉及一種光學性質檢測領域,尤其涉及一種檢測治具及包括該檢測治具之檢測系統。
大多數電子產品(包括顯示設備、照明設備等)均包括背光模塊用以提供光源,背光模塊中,常採用各類光學薄膜等光學結構以改變光傳播方式,例如採用導光板導光。採用上述各類光學薄膜等光學結構以改變光傳播方式情況下,為避免差之批次於整機組裝過程造成較大之損失,於背光模塊投入使用前,通常需要對上述光學結構進行光學性質檢測,以保證背光模塊運作效果。
目前常用之檢測方法包括機械檢測方法,如檢測光學結構端面粗糙度以衡量其光學性質優劣,但該檢測方式測耗時較長。另外,目前檢測方法還包括於光學結構組裝完成後,例如組裝成背光模塊成品再進行檢測,該檢測方式依舊耗時較久,且需要額外增加導線等用於檢測之結構,浪費人力物力。
有鑑於此,有必要提供一種操作方便且精確度較高之檢測治具及檢測系統。
本發明一方面提供一種檢測治具,包括:
光源模塊,包括至少一個發光源,所述發光源用於發射光源光;
收容結構,與所述光源模塊連接,設置於所述光源光之出射路徑上,用於收容待檢測物件,所述待檢測物件收容於所述收容結構時,所述光源光從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射;及
光源面積調節結構,與所述收容結構連接,設置於所述收容結構遠離所述光源模塊一側,用於根據所述待檢測物件之尺寸調節從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射之所述光源光之面積,根據所述光源光可獲取所述待檢測物件之光學數據。
本發明另一方面提供一種檢測系統,包括:
檢測治具,所述檢測治具為上述之檢測治具;及
分析裝置,設置於所述檢測治具之光源光出射路徑上,用於根據所述光源光獲取所述待檢測物件之光學數據。
實施例提供之檢測治具,包括光源模塊、收容結構及光源面積調節結構,藉由將待檢測物件(例如導光板)收容於收容結構中,利用光源模塊提供之光源光,使光源光從待檢測物件遠離光源模塊一側出射,根據該從待檢測物件遠離光源模塊一側出射之光源光即可獲取待檢測物件之光學數據,該光學數據用於反映該待檢測物件之光學性質,上述之檢測治具可實現方便地更換待檢測物件,於待檢測物件被組裝至產品前即可檢測其光學性質,有利於提高產品良率。且檢測治具可藉由光源面積調節結構根據待檢測物件之尺寸,調節從待檢測物件遠離光源模塊一側出射之光源光之面積,有利於削減從待檢測物件遠離光源模塊一側出射之光源光被其他區域出射之光源光影響之程度,進而有利於提高檢測之光學數據之精確度。
實施例一
本實施例提供之檢測治具,主要用於檢測各類光學薄膜等光學結構之光學性質,例如檢測導光板之導光性質、增透膜之透光性質、減反膜之光反射性質等等。
請同時參閱圖1,本實施例提供之檢測治具10,包括光源模塊11、與光源模塊11連接之收容結構12及與收容結構12連接之設置於收容結構12遠離光源模塊11一側之光源面積調節結構13。
請參閱圖2,光源模塊11包括至少一個發光源111,發光源111用於發射光源光。本實施例中,光源模塊11包括複數發光源111,發光源111為發光二極管,於另一實施例中,發光源111也可以為燈條。請同時參閱圖2及圖3,本實施例中,光源模塊11為側入式光源模塊,還包括底板112、設置於底板112邊緣與底板112垂直設置之側板113及反射片114,各個發光源111設置於側板113上,反射片114設置於底板112上。發光源111發射光源光時,光源光入射至底板112方向之部分會被反射片114反射至收容結構12,有利於減少光損耗,提高光利用率。
請同時參閱圖2及圖4A,收容結構12設置於光源光之出射路徑上,其用於收容待檢測物件(上述之光學結構),本實施例中以待檢測物件為導光板40進行舉例說明。具體之,收容結構12包括固定部121及活動部122,固定部121固定連接(例如膠黏)於光源模塊11之光源光出射路徑上,活動部122以抽拉方式活動連接於固定部121。活動部122包括底板1221及設置於底板1221邊緣與底板1221垂直設置之側板1222,底板1221與側板1222圍合形成一收容空間1223,收容空間1223用於收容導光板40,應當理解,為利於光源光入射至導光板40,底板1221採用光透過率良好之材料。
請同時參閱圖4A~圖4B,沿圖4A中X方向即可抽出活動部122,以放置導光板40至收容空間1223或從收容空間1223取出導光板40。沿圖4B中Y方向即可將活動部122收容於固定部121,導光板40被收容於收容空間1223,且活動部122收容於固定部121時,發光源111發射之光源光從導光板40遠離光源模塊11一側出射。
請再參閱圖2,光源面積調節結構13與收容結構12連接,設置於收容結構12遠離光源模塊11之一側,其用於根據導光板40之尺寸調節從導光板40遠離光源模塊11一側出射之光源光之面積。
請同時參閱圖2及圖5,本實施例中,光源面積調節結構13包括可沿第一方向M位移之第一調節部131及可沿第二方向N位移之第二調節部132。第一調節部131沿第一方向M位移,且第二調節部132沿第二方向N位移時,第一調節部131及第二調節部132圍合形成一開口133,開口133對應導光板40所於位置。第一調節部131與第二調節部132皆為不透光材料,使得從導光板40遠離光源模塊11一側出射之光源光僅可從開口133出射。可以理解之,藉由沿第一方向M位移第一調節部131並沿第二方向N位移第二調節部132,可調節開口133面積。
請繼續參閱圖2及圖5,實際之檢測過程中,只需要獲取從導光板40遠離光源模塊11一側出射之光源光,於導光板40面積小於底板1221時,導光板40僅覆蓋底板1221之部分區域,由於底板1221光透過率良好,底板1221未被導光板40覆蓋之區域同樣出射光源光,為一定程度避免底板1221未被導光板40覆蓋之區域出射之光源光對導光板40遠離光源模塊11一側出射之光源光產生影響,可調節開口133面積至與導光板40面積相同,因為第一調節部131與第二調節部132皆為不透光材料,則僅導光板40遠離光源模塊11一側出射之光源光可從開口133出射。
本實施例中,導光板40遠離光源模塊11一側為矩形,則開口133面積也為矩形,第一方向M與第二方向N相互垂直,第一調節部131與第二調節部132即可形成矩形開口133。
請同時參閱圖5及圖6,具體之,本實施例中第一調節部131包括複數相互連接之可折疊之第一調節單元1311,第一調節部131沿第一方向M發生位移時,各個第一調節單元1311沿第一方向折疊起來或展開。第一調節部131還包括固定框1312,本實施例中固定框1312為矩形,其相對之兩邊分別設置有卡槽1312a及卡槽1312b,各個第一調節單元1311卡設於卡槽1312a及卡槽1312b中,於卡槽1312a及卡槽1312b中位移以與第二調節部132配合圍合形成開口133。
類似之,第二調節部132包括複數緊密連接之可折疊之第二調節單元1321,第二調節部132沿第二方向N發生位移時,各個第二調節單元1321沿第二方向折疊起來或展開。第二調節部132還包括固定框1322,本實施例中固定框1322為矩形,其相對之兩邊分別設置有卡槽1322a及卡槽1322b,各個第二調節單元1321卡設於卡槽1322a及卡槽1322b中,於卡槽1322a及卡槽1322b中位移以與第一調節部131配合圍合形成開口133。
第一調節部131與第二調節部132層迭設置,具體為,固定框1312與固定框1322層迭固定連接,其中,第一調節部131與第二調節部132之層迭順序無特別要求。
請再參閱圖2,本實施例中,檢測治具10還包括光學膜組14,光學膜組14中可包括一個或複數光學膜,上述之一個或複數光學膜可以為例如增透膜、減反膜等其中一種或任意組合,有利於提高光透過率進而有利於提高光利用率。且一般於使用導光板之顯示或照明器件中,皆會使用上述之光學膜,則於檢測治具10中增設光學膜組14,可更近似模擬實際產品中之環境,有利於提高檢測精度。
本實施例提供之檢測治具10,包括光源模塊11、收容結構12及光源面積調節結構13,藉由將待檢測物件(例如導光板)收容於收容結構12中,利用光源模塊11提供之光源光,使光源光從待檢測物件遠離光源模塊11一側出射,根據該從待檢測物件遠離光源模塊11一側出射之光源光即可獲取待檢測物件之光學數據,該光學數據用於反映該待檢測物件之光學性質,上述之檢測治具10可實現方便地更換待檢測物件,於待檢測物件被組裝至產品前即可檢測其光學性質,有利於提高產品良率。且檢測治具10可藉由光源面積調節結構13根據待檢測物件之尺寸,調節從待檢測物件遠離光源模塊11一側出射之光源光之面積,有利於削減從待檢測物件遠離光源模塊11一側出射之光源光被其他區域出射之光源光影響之程度,進而有利於提高檢測之光學數據之精確度。
實施例二
請參閱圖7,本實施例提供之檢測治具20,與實施例一之主要區別在於,光源模塊11及光源面積調節結構13之具體結構不同。以下將只對上述區別部分進行詳細說明。
請參閱圖8,本實施例中,光源模塊11為直下式光源模塊,包括複數發光源111,還包括底板112、設置於底板112邊緣與底板112垂直設置之側板113及反射片114,與實施例一之區別在於,各個發光源111設置於底板112上,於底板112與側板113圍合形成之空間中呈陣列式排布,反射片114設置於側板113上。從各個發光源111出射之光源光從光源模塊11入射至收容結構12,於靠近底板112區域之發光源111出射之光源光易入射至側板113方向,則由於側板113設置有反射片114,該部分光源光會被反射片114反射至收容結構12,以利於減少光損耗,提高光利用率。相較於實施例一中之側入式光源模塊,直下式光源模塊出射之光源光更加均勻。
請參閱圖9,本實施例中,與實施例一類似之,光源面積調節結構13包括可沿第一方向M位移之第一調節部131與可沿第二方向N位移之第二調節部132,第一調節部131沿第一方向M位移。
與實施例一之區別在於,本實施例中第一調節部131包括複數相互分離設置之第三調節單元1313及固定框1314,本實施例中固定框1314為矩形,其相對之兩邊分別設置有卡槽1314a及卡槽1314b,各個第三調節單元1313卡設於卡槽1314a及卡槽1314b中,於卡槽1314a及卡槽1314b中沿第一方向M位移,且可於卡槽1314a及卡槽1314b中以第一方向N為軸旋轉。定義圖9中第三調節單元1313之初始狀態為各個第三調節單元1313緊密排列之狀態,請參閱圖10,當第一調節部131沿第一方向M位移時,一方面旋轉第三調節單元1313以與初始位置形成一夾角θ,使得各個第三調節單元1313相互形成一間隔,再以第一方向M滑動各個第三調節單元1313即可,則同時移動第一調節部131與第二調節部132即可圍合形成開口133。第二調節部132之結構與移動方式與上述第一調節部131類似,此處便不再贅述。
應當理解,本實施例提供之檢測治具20,可實現如實施例一中所述之所有有益效果。
實施例三
請參閱圖11,本實施例提供之檢測系統30,包括檢測治具31及分析裝置32,其中,檢測治具31如實施例一~二中任意一項所述(本實施例圖11中檢測治具為如實施例一中所述結構),此處便不再贅述。
分析裝置32設置於檢測治具31之光源光出射路徑上(圖10中虛線箭頭),用於獲取光源光並根據光源光獲取待檢測物件(本實施例中為導光板40)之光學數據。本實施例中,分析裝置32包括光獲取模塊321及分析模塊322,光獲取模塊321為一鏡頭,檢測治具31之開口133出射之光源光從鏡頭入射,分析模塊322用於分析該光源光以獲取導光板40之光學數據,該光學數據即反映導光板40之光學性質,光學數據可以為光輝度、光均勻度等,以反映導光板40之光透過率高低或導光性質優劣等。
應當理解,本實施例提供之檢測系統30,可實現如實施例一~二中所述之所有有益效果。
本技術領域之普通技術人員應當認識到,以上之實施方式僅是用來說明本發明,而並非用作為對本發明之限定,只要於本發明之實質精神範圍之內,對以上實施例所作之適當改變及變化均落於本發明要求保護之範圍之內。
10、20、31:檢測治具
11:光源模塊
111:發光源
112、1221:底板
113、1222:側板
114:反射片
12:收容結構
121:固定部
122:活動部
1223:收容空間
13:光源面積調節結構
131:第一調節部
1311:第一調節單元
1312、1322、1314:固定框
1312a、1312b、1322a、1322b、1314a、1314b:卡槽
132:第二調節部
1321:第二調節單元
133:開口
X、Y、M、N:方向
14:光學膜組
1313:第三調節單元
30:檢測系統
32:分析裝置
321:光獲取模塊
322:分析模塊
40:導光板
圖1為實施例一提供之檢測治具之立體結構示意圖。
圖2為圖1中檢測治具沿Ⅱ-Ⅱ之剖面結構示意圖。
圖3為圖2中光源模塊之立體結構示意圖。
圖4A為圖2中收容結構一種狀態之結構示意圖。
圖4B為圖2中收容結構另一種狀態之結構示意圖。
圖5為圖2中光源面積調節結構之平面結構示意圖。
圖6為圖5中光源面積調節結構之拆分結構示意圖。
圖7為實施例二提供之檢測治具之剖面結構示意圖。
圖8為圖7中光源模塊之立體結構示意圖。
圖9為圖7中光源面積調節結構之一種狀態之結構示意圖。
圖10為圖7中光源面積調節結構之另一種狀態之結構示意圖。
圖11為實施例三提供之檢測系統之結構示意圖。
10:檢測治具
11:光源模塊
12:收容結構
13:光源面積調節結構
131:第一調節部
132:第二調節部
14:光學膜組
Claims (10)
- 一種檢測治具,其改良在於,包括: 光源模塊,包括至少一個發光源,所述發光源用於發射光源光; 收容結構,與所述光源模塊連接,設置於所述光源光之出射路徑上,用於收容待檢測物件,所述待檢測物件收容於所述收容結構時,所述光源光從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射;及 光源面積調節結構,與所述收容結構連接,設置於所述收容結構遠離所述光源模塊一側,用於根據所述待檢測物件之尺寸調節從所述待檢測物件遠離所述光源模塊一側出射之所述光源光之面積,根據所述光源光可獲取所述待檢測物件之光學數據。
- 如請求項1所述之檢測治具,其中,所述收容結構包括: 固定部,固定連接於所述光源模塊;及 活動部,以抽拉方式活動連接於所述固定部,用於收容所述待檢測物件。
- 如請求項1所述之檢測治具,其中,所述光源面積調節結構包括可沿第一方向位移之第一調節部及可沿第二方向位移之第二調節部; 所述第一調節部與所述第二調節部藉由分別沿所述第一方向及所述第二方向位移,圍合形成一開口,所述光源光從所述開口出射。
- 如請求項3所述之檢測治具,其中,所述開口形狀與所述待檢測物形狀相同,所述開口面積等於所述待檢測物件面積。
- 如請求項3所述之檢測治具,其中,所述第一調節部包括複數相互連接之可折疊之第一調節單元,所述第一調節部沿所述第一方向發生位移時,各個所述第一調節單元沿所述第一方向折疊或展開; 所述第二調節部包括複數相互連接之可折疊之第二調節單元,所述第二調節部沿所述第二方向發生位移時,各個所述第二調節單元沿所述第二方向折疊或展開。
- 如請求項3所述之檢測治具,其中,所述第一調節部包括複數相互分離之第三調節單元,所述第一調節部沿所述第一方向發生位移時,各個所述第三調節單元沿所述第一方向位移且可以第一方向為軸旋轉; 所述第二調節部包括複數相互分離之第四調節單元,所述第二調節部沿所述第二方向發生位移時,各個所述第四調節單元沿所述第二方向位移且可以第一方向為軸旋轉。
- 如請求項5或6所述之檢測治具,其中,所述第一方向與所述第二方向垂直。
- 如請求項5或6所述之檢測治具,其中,所述第一調節部與所述第二調節部層迭設置。
- 如請求項1~6任一項所述之檢測治具,其中,所述光源模塊為直下式光源模塊或側入式光源模塊。
- 一種檢測系統,其改良在於,包括: 檢測治具,所述檢測治具為如請求項1~9任一項所述之檢測治具;及 分析裝置,設置於所述檢測治具之光源光出射路徑上,用於根據所述光源光獲取所述待檢測物件之光學數據。
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