TWI699272B

TWI699272B - 混煉裝置

Info

Publication number: TWI699272B
Application number: TW108110881A
Authority: TW
Inventors: 松浪亮; 岡本浩二; 阿部純己
Original assignee: 日商日本紡錘製造股份有限公司
Priority date: 2018-03-28
Filing date: 2019-03-28
Publication date: 2020-07-21
Also published as: TW201941893A; JPWO2019189352A1; WO2019189352A1; CN112055639B; JP7165722B2; CN112055639A

Abstract

本發明提供一種能夠將混煉材料更均勻地進行混煉之機構。混煉槽(1)的周壁(6)具有第3壁(30)，該第3壁(30)位於第1壁(10)與第2壁(20)之間，並連接於第1壁(10)和第2壁(20)。第3壁(30)具有：第1部位(31)；及第2部位(35)，其係位於第1部位(31)與側壁(5)之間，高度方向上之高度比第1部位(31)高。

Description

混煉裝置

本申請主張基於2018年3月28日申請之日本專利申請第2018-061138號的優先權。該日本申請的全部內容參照援用於本說明書中。本發明係有關一種混煉裝置。

作為將塑料、橡膠等黏性高的材料進行混煉之裝置，已知有一種混煉機。例如在專利文獻1中記載有一種混煉機，其具備：腔室，其容納混煉材料；及一對轉子，安裝於腔室內之轉子軸上具有轉子翼。在該混煉機中，形成於腔室的內周面與轉子翼的前端部之間之葉尖間隙的大小，其設為兩端部比轉子的軸向中央部小。 [先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特開2007-130952號公報

[所欲解決的技術問題]

在面向一方轉子之腔室的內周面，與面向另一方轉子之腔室的內周面之間形成脊狀連接面。以下，將該部位記載為「脊部」。在混煉中，混煉材料通過脊部上方的空間，從一方轉子的周圍向另一方轉子的周圍移動。

發明人等為了進一步改善混煉機，而進行了確認混煉中的混煉材料的狀態之實驗。在混煉的中途停止混煉機，經確認混煉材料的分散狀態之結果可知，若脊部係平坦，則根據情況，將導致混煉材料堆積於脊部的兩端附近。藉此，因脊部兩端附近的混煉材料而混煉變得不充份，或者添加劑等凝聚，從而，有可能降低混煉的品質。

本發明係鑑於前述情況而完成者，其目的在於使混煉的品質提高。 [解決技術問題的手段]

本發明之混煉裝置，其具有混煉槽，該混煉槽具備：內部空間，其係能夠配置第1轉子及第2轉子；周壁，其係位於前述內部空間的周面；及側壁，其係與前述周壁連接，並向高度方向延伸。前述周壁具有：第1壁，其係配置於：用以配置前述第1轉子之內部空間的周圍；第2壁，其係配置於：用以配置前述第2轉子之內部空間的周圍；及第3壁，其係位於前述第1壁與前述第2壁之間，並連接於前述第1壁和前述第2壁，前述第3壁具有：第1部位；及第2部位，其係位於前述第1部位與前述側壁之間，前述高度方向上之高度比前述第1部位高。

依上述構成，在第3壁上存在高度方向上之高度比第1部位高的第2部位。從而，第2部位上方的空間變得比第1部位上方的空間窄。其結果，能夠抑制混煉材料滯留於第2部位的附近。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。 [發明之效果]

依本發明，能夠使混煉的品質提高。

以下，適當參照圖式對本發明的較佳實施形態進行說明。另外，本實施形態僅為本發明的一態樣，在不變更本發明要旨之範圍內可以變更實施態樣是理所當然的。

1. 第1實施形態在本實施形態中，對圖1所示之混煉裝置100進行說明。混煉裝置100，其具有：混煉槽1，其係收容混煉材料；加壓蓋2，其係封閉混煉槽1的上部；第1轉子3及第2轉子4，其係配置於混煉槽1的內部空間S。亦即，混煉槽1具備能夠配置第1轉子3及第2轉子4之內部空間S。另外，在本實施形態中，為了說明進行密閉和加壓以進行混煉之混煉裝置而具備加壓蓋2，但可以未必一定具備加壓蓋2。換言之，即使是開放式且不進行加壓而進行混煉之混煉裝置，亦能夠應用本發明。

在以下說明中，圖1中之左右方向係混煉裝置100的左右方向9。圖1中之上下方向係混煉裝置100的上下方向7。圖2中之左右方向係混煉裝置100的前後方向8。混煉裝置100，作為整體，關於與前後方向8垂直且從第1轉子3和第2轉子4位於等距離之面對稱的形狀。上下方向7係申請專利範圍中所記載之高度方向的一例。左右方向9係申請專利範圍中所記載之第1轉子的中心軸向的一例。

圖1及圖3所示之第1轉子3，具備圓柱狀轉子軸81和從轉子軸81的外周面突出之轉子翼82。第1轉子3以作為轉子軸81的中心軸之第1軸線83成為與左右方向9平行之姿勢、且以能夠圍繞第1軸線83旋轉之狀態，配置於混煉槽1的內部空間S。以下，在第1轉子3中，有時將與第1軸線83平行之方向記載在為軸向，將與第1軸線83正交之方向記載為徑向，將與正交於第1軸線83之平面內之徑向正交之方向記載為周向。轉子翼82，係申請專利範圍中所記載之第3部位的一例。第1軸線83，係申請專利範圍中所記載之第1轉子的中心軸的一例。

轉子翼82係以螺旋狀配置於轉子軸81的外周面，為板狀構件。在本實施形態中，2個轉子翼82以螺旋方向相反之姿勢，配置於轉子軸81的右方和左方。當轉子軸81向圖3所示方向進行旋轉時，右方轉子翼82向左方傳送混煉材料，左方轉子翼82向右方傳送混煉材料。換言之，當轉子軸81向圖3所示方向進行旋轉時，2個轉子翼82，分別從轉子軸81的軸向端部，向轉子軸81的軸向中央傳送混煉材料。

圖3所示之第2轉子4，具備圓柱狀轉子軸91、和從轉子軸91的外周面突出之轉子翼92。關於前後方向8，是與第1轉子3對稱的形狀。另外，在本實施形態中，對第2轉子4和第1轉子3在前後方向8上對稱之例子進行說明，但可以未必一定完全對稱。第2轉子4，以作為轉子軸91的中心軸之第2軸線93與左右方向9平行之姿勢、且以能夠圍繞第2軸線93進行旋轉之狀態，配置於混煉槽1的內部空間S。以下，在第2轉子4中，將與第2軸線93平行之方向記載為軸向，將與第2軸線93正交之方向記載為徑向，將與正交於第2軸線93之平面內之徑向正交之方向記載為周向。轉子翼92係申請專利範圍中所記載之第3部位的一例。

轉子翼92，係以螺旋狀配置於轉子軸91的外周面，為板狀構件。在本實施形態中，2個轉子翼92以螺旋方向相反之姿勢配置於轉子軸91的右方和左方。當轉子軸91向圖3所示方向進行旋轉時，右方轉子翼92向左方傳送混煉材料，左方轉子翼92向右方傳送混煉材料。換言之，當轉子軸91向圖3所示方向進行旋轉時，2個轉子翼92分別從轉子軸91的軸向端部向轉子軸91的軸向中央傳送混煉材料。

第1軸線83與第2軸線93平行。亦即，第1轉子3與第2轉子4平行。如圖3所示，第1轉子3及第2轉子4藉由未圖示之馬達向彼此相反之方向被驅動旋轉。

第1轉子3的轉子軸81的直徑和第2轉子4的轉子軸91的直徑相等。將第1轉子3中之轉子翼82的徑向端部與第1軸線83的距離，稱作第1轉子3的轉子半徑。將第2轉子4中之轉子翼92的徑向端部與第2軸線93的距離，稱作第2轉子4的轉子半徑。第1轉子3的轉子半徑和第2轉子4的轉子半徑相等。

如圖1所示，向轉子軸81的左右方向觀察時，右方轉子翼82的右方端部84和左方轉子翼82的左方端部85形成為R形狀。雖未圖示，但向轉子軸81的左右方向觀察時，右方轉子翼92的右方端部和左方轉子翼92的左方端部形成為R形狀。

圖1及圖2所示之混煉槽1具有將混煉槽1的內部空間S進行劃分之一對側壁5和周壁6。側壁5設置成：與周壁6連接，並在上下方向(高度方向)7上延伸。周壁6位於內部空間S的周面。

如圖1所示，一對側壁5，以與左右方向9正交之姿勢配置。亦即，一對側壁5以與第1軸線83及第2軸線93交叉(正交)之姿勢配置。在側壁5的下方形成有在左右方向9上凹陷之凹部5a。凹部5a中之與周壁6的連接部5b形成為與轉子翼82的端部84、端部85及轉子翼92的端部相同曲率半徑的R狀。另外，該等曲率半徑可以彼此不同。

如圖2所示，周壁6具有第1壁10、第2壁20、第3壁30及一對上壁40。

第1壁10，係以與側壁5正交之姿勢，配置於第1轉子3的周圍。第1壁10中之面向內部空間S之第1面11，係以第1軸線83作為中心軸之圓筒面。

第2壁20，係以與側壁5正交之姿勢，配置於第2轉子4的周圍。第2壁20中之面向內部空間S之第2面21，係以第2軸線93作為中心軸之圓筒面。

一對上壁40，係以與側壁5正交且與前後方向8垂直之姿勢，配置於第1壁10及第2壁20的上方。一方上壁40與第1壁10連接，另一方上壁40與第2壁20連接。

如圖2及圖4所示，第3壁30位於第1壁10與第2壁20之間，並連接於第1壁10和第2壁20。第3壁30的面向內部空間S之面與第1壁10的第1面11平滑地連續。第3壁30的面向內部空間S之面與第2壁20的第2面21平滑地連續。第3壁30的面向內部空間S之面，成為連接第1壁10的第1面11和第2壁20的第2面21之脊狀面。

如圖2及圖4所示，第3壁30具有：位於左右方向9的中央之第1部位31、及相對於第1部位31位於左右方向9的右方和左方之一對第2部位35。右方的第2部位35與右方側壁5接觸。左方的第2部位35與左方的側壁5接觸。另外，以下說明中記載為第1部位31和第2部位35由不同構件構成，但亦可由相同構件一體構成。

如圖2所示，第1部位31的上表面32係圓筒面，其中心軸與第1軸線83及第2軸線93平行。第1部位31的前表面33與第1壁10的第1面11平滑地連續。第1部位的後表面34(參照圖4)與第2壁20的第2面21平滑地連續。另外，第1部位31的上表面32可以未必一定係圓筒面。

如圖1所示，一對第2部位35具有相對於與左右方向9垂直之平面對稱之形狀。以下，對右側的第2部位35進行說明。如圖4所示，第2部位35具有作為上表面之第3面36、作為前表面之第4面37、作為後表面之第5面38。

如圖2及圖4所示，第4面37(前表面)與第1壁10的第1面11平滑地連續。如圖2所示，第4面37係在與側壁5的連接部的附近，與第1壁10的第1面11同樣地以第1軸線83作為中心軸之圓筒面。

如圖2及圖4所示，第5面38(後表面)與第2壁20的第2面21平滑地連續。如圖2所示，第5面38係在與側壁5的連接部的附近，與第2壁20的第2面21同樣地以第2軸線93作為中心軸之圓筒面。

如圖4所示，第3面36(上表面)與第4面37和第5面38平滑地連續，且隨著趨向左右方向9的左方朝下方傾斜。第3面36的左端與第1部位31的上表面32平滑地連續。換言之，第2部位35係如下形狀：其表面與第1壁10的第1面11、第2壁20的第2面21及第1部位31的上表面32平滑地連續，隨著趨向左右方向9的右方朝上方隆起，在與右方側壁5的連接點上成為頂點。

如圖2所示，將包括第1軸線83和第2軸線93之平面設為假想平面P。假想平面P係與上下方向7垂直。如圖1所示，在前後方向8上觀察時，第2部位35與假想平面P的距離D2，小於第1部位31與假想平面P的距離D1。在本實施形態中，作為第2部位35的上表面之第3面36沿著左右方向9從第1轉子3的端部隨著朝向中央朝下方傾斜。從而，第2部位35與假想平面P的距離D2沿著左右方向9從第1轉子3的端部隨著朝向中央而增加。在第2部位35的任意的位置，距離D2皆是小於距離D1。亦即，第2部位35的上下方向7(高度方向)的高度比第1部位31高。在此，第2部位35的上下方向7(高度方向)的高度係指上下方向7(高度方向)上之位置，係距離成為基準之位置(例如混煉槽1的內部空間的下方端部或第1面11的最低點)的距離。而且，第2部位35的第3面36，係沿著左右方向9從第1轉子3的端部隨著趨向中央部，上下方向7(高度方向)上之高度變低。

以下，對第1轉子3與側壁5的各部位之間的距離進行說明。另外，若無特別的記載，則設為當比較距離D3、距離D4、距離D5時，在左右方向9(旋轉軸向)上於同一位置進行比較。例如圖2所示之距離D3、距離D4、距離D5皆是表示相當於圖1中之II-II剖面圖之左右方向9的位置上之距離。

如圖2所示，第1壁10的第1面11係以第1軸線83作為中心軸之圓筒面。從而，第1壁10的第1面11與第1軸線83的距離D3，其係從第1面11的右端至左端恆定。

第3壁30的第1部位31的前表面33與第1壁10的第1面11平滑地連續。詳細而言，第3壁30的第1部位31的前表面33與第1軸線83的距離D4，在第1部位31的前表面33與第1壁10的第1面11連接之部位，與距離D3相等。又，雖未面向第1轉子3，但在除了第1部位31的前表面33以外的部位，距離D4大於距離D3。換言之，距離D4係距離D3以上。

第3壁30的第2部位35的第4面37(前表面)與第1壁10的第1面11平滑地連續。詳細而言，第3壁30的第2部位35的第4面37與第1軸線83的距離D5，在任意的位置，皆是與距離D3相等。

若總結以上觀點，則由於距離D3、距離D4及距離D5相等，因此由面向第1轉子3之、第1壁10的第1面11、第3壁30的第1部位31的前表面33、第3壁30的第2部位35的第4面37(前表面)構成之周面成為以第1軸線83作為中心之圓筒面，成為與正圓的周面大致相同之形狀。因此容易進行製造時的加工。

圖3中之二點鏈線Q表示當第1轉子3進行了旋轉時轉子翼82的徑向端部所通過之圓筒狀假想面。假想面Q的中心軸與第1軸線83一致。假想面Q與第1軸線83的距離D6，亦即，轉子翼82的徑向端部與第1軸線83的距離D6，其係從第1面11的右端至左端恆定、且小於距離D3。另外，在以下說明中，有時將與假想面Q的距離記載為與轉子翼82的徑向端部的距離。

轉子翼82的徑向端部與第1壁10的第1面11的距離D7，係從第1壁10的第1面11與第1軸線83的距離D3減去假想面Q與第1軸線83的距離D6之距離。距離D7係從第1面11的右端至左端恆定。

轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第1部位31的前表面33的距離D8，係從前表面33與第1軸線83的距離D4減去假想面Q與第1軸線83的距離D6之距離。從而，轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第1部位31的前表面33之距離D8，在第1部位31的前表面33與第1壁10的第1面11連接之部位，與距離D7相等，在其餘的部位大於距離D7。第1部位31的前表面33與第1壁10的第1面11連接之部位之距離D8，係轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第1部位31的前表面33的最短距離。在本實施形態中，該最短距離和距離D7相等。

轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第2部位35的第4面37的距離D9，係從第4面37與第1軸線83的距離D5減去假想面Q與第1軸線83的距離D6之距離。從而，轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第2部位35的第4面37的距離D9，在第2部位35的第4面37與第1壁10的第1面11連接之部位，與距離D7相等，在其餘的部位大於距離D7。第2部位35的第4面37與第1壁10的第1面11連接之部位上之距離D9，係轉子翼82的徑向端部與第3壁30的第2部位35的第4面37的最短距離。在本實施形態中，該最短距離和距離D7相等。亦即，在本實施形態中，第2部位35與轉子翼82的最短距離和第1壁10的第1面11與轉子翼82的距離D7相等。另外，可以以第2部位35與轉子翼82的最短距離成為大於第1壁10的第1面11與轉子翼82的距離D7之方式確定第2部位35的形狀。

如圖4所示，在本實施形態中，第3壁30具有第1部位31和第2部位35。如圖1所示，第2部位35與假想平面P的距離D2小於第1部位31與假想平面P的距離D1。亦即，第2部位35的上下方向7(第2部位35的側壁5的延伸方向)上之高度比第1部位31的上下方向7上之高度高。換言之，第2部位35與假想平面P之間的空間變得比第1部位31與假想平面P之間的空間窄。詳細而言，高度變低。其結果，能夠抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，在本實施形態中，第2部位35具有第3面36，該第3面36，其係沿著左右方向9從第1轉子3的端部隨著趨向中央部，與假想平面P的距離變大(參照圖4)。換言之，第3面36，其係沿著左右方向9(第1轉子3的軸向)隨著朝向端部，上下方向7(高度方向)上之高度變低。亦即，第3面36沿著左右方向9從第1轉子3的端部隨著趨向中央部朝下方傾斜。若傳送到轉子之混煉材料從上方接觸到第2部位35，則混煉材料被引導到第3面36，並沿著左右方向9朝向轉子的中央部進行移動。其結果，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，如圖4及圖2所示，在本實施形態中，第2部位35具有與前述第1壁10的前述第1面11連續之第4面37、及與前述第2壁20的前述第2面21連續之第5面38。從而，若傳送到轉子之混煉材料從上方接觸到第2部位35，則混煉材料被引導到第4面37而傳送到第1壁10的第1面11與第1轉子3之間，並被引導第5面38而傳送到第2壁20的第2面21與第2轉子4之間。其結果，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，在本實施形態中，第2部位35與側壁5接觸。其結果，在側壁5的附近，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。由此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，在本實施形態中，第3壁30具有一對第2部位35，一方的第2部位35與一方的側壁5接觸，另一方的第2部位35與另一方的側壁5接觸。其結果，在一對側壁5兩者的附近，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，在本實施形態中，第2部位35的第4面37與第1軸線83的距離D5和第1壁10的第1面11與第1軸線83的距離D3相等。從而，左右方向上相同位置上之剖面的周面成為與正圓的周面大致相同，容易製造本裝置。

又，在本實施形態中，第2部位35的第4面37與轉子翼82的徑向端部的最短距離，和第1壁10的第1面11與轉子翼82徑向端部的距離D7相等。另外，可以以該最短距離成為大於距離D7的方式確定第2部位35的形狀。亦即，第2部位35的第4面37與轉子翼82的徑向端部的最短距離係第1壁10的第1面11與轉子翼82徑向端部的距離D7以上。從而，與該最短距離小於距離D7之情況相比，能夠將混煉材料從第2部位35的附近順利地送入到第1壁10與轉子翼82徑向端部之間。其結果，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，在本實施形態中，當向左右方向觀察時，轉子翼的端部形成為R形狀。側壁5的凹部5a中之與周壁6的連接部5b形成為與轉子翼的端部相同曲率半徑的R狀。藉此，能夠抑制混煉材料滯留於側壁5與周壁6的連接部。

[變形例1] 在上述實施形態中，對第3壁30的第2部位35具有作為傾斜之上表面之第3面36之例子進行了說明。第2部位35的上表面(亦即，第3面36)可以係水平面。該第3面36與第1部位31的上表面之間可以有段差。

[變形例2] 在上述實施形態中，對第2部位35的第4面37(前表面)與第1壁10的第1面11平滑地連續，且第5面38(後表面)與第2壁20的第2面21平滑地連續的例子進行了說明。該等面與面的接合部上可以存在段差或稜線、槽等。其他面上之接合部亦相同。當然，若面與面的接合部係平滑之連續面，則可抑制混煉材料的滯留，因此較佳。

[變形例3] 在上述實施形態中，對第3壁30具有一對第2部位35之例子進行了說明。亦可以係第3壁30具有1個第2部位35之形態。

[變形例4] 在上述實施形態中，對於在第1轉子的內部空間露出之周面成為與正圓的周面大致相同之形狀之(D3=D5)例子進行了說明。但可以未必一定成為與正圓的周面相同之形狀，例如可以成為D5＞D3。

[變形例5] 在上述實施形態中，對於距離D3從第1面11的右端至左端恆定之例子進行了說明。但D3可以未必一定在左右方向上始終恆定。例如D3可以在位於左右方向上之一端之第1位置和位於左右方向上之中央之第2位置相等，在其他位置D3可以成為稍微不同之值。但在於左右方向上D3始終恆定(進而，D5亦恆定)之情況下，製造本裝置的混煉槽變得容易。

[變形例6] 另外，可以以第2部位35的第4面37與第1軸線83的距離D5成為第1壁10的第1面11與第1軸線83的距離D3以上之方式形成混煉槽1。該情況下，將第2部位35與第1軸線83的最短距離設為與距離D3相等。第2部位35的第4面37與第1轉子3的距離成為第1面11與第1轉子3的距離以上。從而，與該最短距離小於距離D3之情況相比，能夠將混煉材料從第2部位35的附近順利地送入到第1壁10與第1轉子3之間。其結果，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

又，可以以第2部位35的第4面37與轉子翼82的徑向端部的最短距離，成為與第1壁10的第1面11與轉子翼82徑向端部的距離D7相等之方式形成混煉槽1。可以以該最短距離成為大於距離D7之方式確定第2部位35的形狀。該情況下，第2部位35的第4面37與轉子翼82的徑向端部的最短距離，係第1壁10的第1面11與轉子翼82徑向端部的距離D7以上。從而，與該最短距離小於距離D7之情況相比，能夠將混煉材料從第2部位35的附近順利地送入到第1壁10與轉子翼82徑向端部之間。其結果，能夠進一步抑制混煉材料滯留於第2部位35與假想平面P之間的空間。藉此，能夠更均勻地混合混合材料。

2. 第2實施形態圖5係本發明的第2實施形態之混煉裝置的混煉槽101的主要部分剖面立體圖。圖5表示混煉槽101的側壁5及周壁106的形狀。

本實施形態之混煉槽101與上述第1實施形態之混煉槽1的不同點係：在上述第1實施形態中，第2部位35構成為第3壁30的一部分，相對於此，在本實施形態中，第2部位102突出設置於側壁5；及在上述第1實施形態中，第1部位31的上表面32形成為曲面，相對於此，在本實施家形態中，上表面103形成為平面。另外，關於其他構成，與第1實施形態之混煉槽1相同。

如圖5所示，第1部位31的上表面103呈沿著左右方向9延伸之細長矩形形狀。該上表面103的右端部上設置有缺口部104，如圖5所示，形成有朝上下方向7的下方凹陷尺寸T之段部。另一方面，第2部位102設置於側壁5上，並向左右方向9的左側突出。亦即，藉由設置於側壁5上之凸部而構成上述第2部位102。與上述第1實施形態同樣地，該第2部位102具備第3面36、第4面37及第5面38。第2部位102的左端的壁厚尺寸對應於上述尺寸T。因此上述第2部位35不與上述第1部位31產生段差而連續。

然而，第2部位102的左端的壁厚尺寸可不對應於上述尺寸T，亦可在第1部位31與第2部位35之間產生有段差。該情況下，在第1部位31上不設置上述缺口部104，上述上表面103可以係在左右方向9上延伸之完整之平面。

如此，由於第2部位102設置於側壁5，因此具有混煉槽101的製造過程簡化、製造成本降低之優點。又，由於上述第1部位31的上表面103形成為平面，因此第1部位31的形狀簡化，混煉槽101的製造成本進一步降低。另外，在本實施形態中，上述上表面103係平面，但如上述第1實施形態般，第1部位31的上表面32可形成為曲面。

3. 第3實施形態圖6係本發明的第3實施形態之混煉裝置的混煉槽110的主要部分放大立體圖。圖6表示包括混煉槽110的第3壁111之周壁112的形狀。

本實施形態之混煉槽110與第1實施形態之混煉槽1不同點係：在上述第1實施形態中，第3壁30的第1部位31的上表面32形成為曲面，相對於此，在本實施家形態中，第1部位117的第3壁111的上表面118形成為平面；及在上述第1實施形態中，第3壁30的第2部位35係第3面36、第4面37及第5面38連續之曲面，相對於此，在本實施形態中，第2部位113是藉由複數個平板114～116構成的這點。另外，關於其他構成，與第1實施形態之混煉槽1相同。

圖7係第2部位113的放大圖。

在本實施形態中，第2部位113，係由3張平板114～116構成。各平板114～116立設於第3壁111的上表面118上並配置成懸臂狀。各平板114～116在左右方向9的右側端部，間離間隔B依次排列。各平板114～116可以與第3壁111一體地形成，亦可藉由已知的固定機構而固定於上述上表面118。

在本實施形態中，如圖7所示，平板114～116係矩形。平板115的厚度尺寸A並不受特別限定，但當啟動該混煉裝置時需要確保充份之剛性。平板114、116的厚度亦可設定為與平板115的厚度尺寸A相同，但可以與該尺寸A不同。如圖6所示，各平板114～116的寬度尺寸B與上述上表面118的寬度尺寸一致。然而，該尺寸B可以與上述上表面118的寬度尺寸不同。

平板114的高度尺寸H設定為對應於上述第1實施形態之第2部位35的高度。亦即，該高度尺寸H沿著第1軸線83(參照圖3)從第1轉子3的端部朝向中央部逐漸變低。換言之，平板115及平板116的高度分別設定為比平板114的高度尺寸H更靠左右方向9的左側依次變低。在本實施形態中，平板114～116的上端沿著點線119排列。該點線119係直線，但無需限定於此，可以以平板114～116的上端沿著作為曲線之二點鏈線120排列之方式設定該平板114～116的高度。該情況下，二點鏈線120可以與上述第1實施形態之第3面36(第2部位35的上表面)的稜線一致。

在本實施形態中，3張平板114～116設置於上述上表面118，進而，可以並列設置有複數個平板。然而，該情況下，各平板的上端沿著上述點線119或二點鏈線120排列為較佳。又，可以採用圓棒或角棒等其他棒狀構件來代替各平板114～116。亦即，該棒狀構件的剖面形狀可以係矩形，可以係圓形，亦可以係多邊形，但該等高度尺寸設定為與上述高度尺寸H相同為較佳。

在本實施形態中，上述平板114～116並列設置於左右方向9上，各平板114～116的上端沿著上述點線119或二點鏈線120排列，因此等價於上述第1實施形態中之第2部位35的第3面36、第4面37及第5面38的形成，並發揮相同的作用效果。然而，在本實施形態中，由於第3壁111的構造變得極其簡單，因此具有混煉槽110的製造成本進一步降低之優點。

1‧‧‧混煉槽 3‧‧‧第1轉子 4‧‧‧第2轉子 5‧‧‧側壁 6‧‧‧周壁 10‧‧‧第1壁 11‧‧‧第1面 20‧‧‧第2壁 21‧‧‧第2面 30‧‧‧第3壁 31‧‧‧第1部位 35‧‧‧第2部位 36‧‧‧第3面 37‧‧‧第4面 38‧‧‧第5面 81‧‧‧轉子軸 82‧‧‧轉子翼 83‧‧‧第1軸線 91‧‧‧轉子軸 92‧‧‧轉子翼 93‧‧‧第2軸線 100‧‧‧混煉裝置 101‧‧‧混煉槽 102‧‧‧第2部位 103‧‧‧上表面 106‧‧‧周壁 110‧‧‧混煉槽 111‧‧‧第3壁 112‧‧‧周壁 113‧‧‧第2部位 114‧‧‧平板 115‧‧‧平板 116‧‧‧平板 117‧‧‧第1部位 118‧‧‧上表面 S‧‧‧內部空間 P‧‧‧假想平面

[圖1] 本發明的第1實施形態之混煉裝置1的正面剖面圖。 [圖2] 圖1中之混煉裝置1的II-II剖面圖，係省略了第1轉子3及第2轉子4的記載之圖。 [圖3] 圖1中之混煉裝置1的II-II剖面圖。 [圖4] 表示混煉槽1的側壁5及周壁6的形狀之剖面立體圖。 [圖5] 本發明的第2實施形態之混煉裝置的混煉槽101的主要部分剖面立體圖。 [圖6] 本發明的第3實施形態之混煉裝置的混煉槽110的主要部分放大立體圖。 [圖7] 本發明的第3實施形態之混煉裝置的第2部位113的放大圖。

1‧‧‧混煉槽

2‧‧‧加壓蓋

3‧‧‧第1轉子

5‧‧‧側壁

5a‧‧‧凹部

5b‧‧‧連接部

6‧‧‧周壁

7‧‧‧上下方向

9‧‧‧左右方向

31(30)‧‧‧第1部位(第3壁)

35(30)‧‧‧第2部位(第3壁)

81‧‧‧轉子軸

82‧‧‧轉子翼

83‧‧‧第1軸線

84‧‧‧右方端部

85‧‧‧左方端部

100‧‧‧混煉裝置

P‧‧‧假想平面

D1‧‧‧距離

D2‧‧‧距離

Claims

一種混煉裝置，其具有混煉槽，該混煉槽具備：內部空間，其係能夠配置第1轉子及第2轉子；周壁，其係位於前述內部空間的周面；及側壁，其係與前述周壁連接，並向高度方向延伸，其特徵在於：前述周壁具有：第1壁，其係配置於：用以配置前述第1轉子之內部空間的周圍；第2壁，其係配置於：用以配置前述第2轉子之內部空間的周圍；及第3壁，其係位於前述第1壁與前述第2壁之間，並連接於前述第1壁和前述第2壁，前述第3壁具有：第1部位；及第2部位，其係位於前述第1部位與前述側壁之間，前述高度方向上之高度比前述第1部位高；前述第2部位，從前述第1轉子的端部隨著趨向中央部，其高度變低。
如申請專利範圍第1項所述之混煉裝置，其中，前述第2部位具有第3面，該第3面係沿著前述第1轉子的中心軸方向，從前述第1轉子的端部隨著趨向中央部，前述高度方向上之高度變低。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第1壁具有面向前述內部空間之第1面，前述第2壁具有面向前述內部空間之第2面，前述第2部位具有：與前述第1壁的前述第1面連續之第4面、和與前述第2壁的前述第2面連續之第5面。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第1壁具有面向前述內部空間之第1面，前述第2壁具有面向前述內部空間之第2面，前述第2部位與前述第1轉子的中心軸的距離和前述第1壁的前述第1面與前述中心軸的距離大致相等。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第1壁具有面向前述內部空間之第1面，前述第2壁具有面向前述內部空間之第2面，前述第2部位與前述第1轉子的中心軸的距離，係前述第1壁的前述第1面與前述中心軸的距離以上。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述混煉裝置更具備前述第1轉子，前述第1壁具有面向前述內部空間之第1面，前述第2壁具有面向前述內部空間之第2面，前述第1轉子具有轉子軸和從前述轉子軸的外周面突出之第3部位，前述第2部位與前述第3部位的距離和前述第1壁的前述第1面與前述第3部位的距離大致相等。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第2部位與前述側壁接觸。
如申請專利範圍第7項所述之混煉裝置，前述混煉裝置具有一對前述第2部位，一方的前述第2部位與一方的前述側壁接觸，另一方的前述第2部位與另一方的前述側壁接觸。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第2部位藉由設置於前述側壁上之凸部而構成。
如申請專利範圍第1項所述之混煉裝置，其中，前述第2部位是由：沿著前述第1轉子的中心軸方向並列設置於前述第1部位之複數個棒狀構件所構成，各棒狀構件係從前述第1轉子的端部隨著趨向中央部，前述高度方向上之高度變低。
如申請專利範圍第1或2項所述之混煉裝置，其中，前述第1壁具有面向前述內部空間之第1面，前述第2壁具有面向前述內部空間之第2面，前述第1轉子的中心軸向之第1位置上的前述第1壁的前述第1面與前述第1轉子的中心軸的距離，和前述第1轉子的中心軸向之與前述第1位置不同之第2位置上的前述第1壁的前述第1面與前述中心軸的距離大致相等。